PL427186A1 - Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzących - Google Patents
Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzącychInfo
- Publication number
- PL427186A1 PL427186A1 PL427186A PL42718618A PL427186A1 PL 427186 A1 PL427186 A1 PL 427186A1 PL 427186 A PL427186 A PL 427186A PL 42718618 A PL42718618 A PL 42718618A PL 427186 A1 PL427186 A1 PL 427186A1
- Authority
- PL
- Poland
- Prior art keywords
- acid
- bath
- amount
- obtaining
- alloy
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Przedmiotem zgłoszenia jest kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P, stanowiąca wodny kwaśny roztwór siarczanu niklu II, kwasu NMTF i kwasu cytrynowego charakteryzuje się tym, że zawiera sól niklu w postaci siarczanu w przeliczeniu na metal 15 ÷ 18 g/dm3, fosfor w postaci kwasu NTMF o wzorze 1 w ilości 100 g/dm3 i kwasu cytrynowego w ilości 10 g/dm3. Przedmiotem zgłoszenia jest również sposób otrzymywania powłoki stopowej Ni-P na podłożach trudno spajalnych, polegający na jej galwanicznym osadzaniu z kąpieli stanowiących wodny roztwór soli niklu, kwasu NTMF i kwasu cytrynowego charakteryzujący się tym, że osadzanie galwaniczne prowadzi się z kąpieli stanowiącej sól niklu w postaci siarczanu niklu II w przeliczeniu na metal 65 ÷ 85 g/dm3, fosfor w postaci kwasu NTMF (N-tris-metylenofosfonowego) o wzorze 1, w ilości 80 ÷ 100 g/dm3 oraz kwas cytrynowy w ilości 1% wag. odpowiednią mieszaninę tych preparatów dla pH zawartego w granicach 1,5 - 7,5; przy gęstości prądu w zakresie 1,0 ÷ 5,5 A/dm2 przez okres minimum 5 minut.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL427186A PL239005B1 (pl) | 2018-09-26 | 2018-09-26 | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzących |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PL427186A PL239005B1 (pl) | 2018-09-26 | 2018-09-26 | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzących |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| PL427186A1 true PL427186A1 (pl) | 2019-07-29 |
| PL239005B1 PL239005B1 (pl) | 2021-10-25 |
Family
ID=67384437
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PL427186A PL239005B1 (pl) | 2018-09-26 | 2018-09-26 | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzących |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| PL (1) | PL239005B1 (pl) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104149412A (zh) * | 2014-08-14 | 2014-11-19 | 福州大学 | 表面含Ni-P-植酸非晶镀层的高耐蚀自洁钢芯铝绞线 |
| CN106637154A (zh) * | 2016-11-14 | 2017-05-10 | 中国石油天然气集团公司 | 一种利用机械研磨技术在小尺寸金属管内壁制备纳米Ni‑P镀层的装置和方法 |
-
2018
- 2018-09-26 PL PL427186A patent/PL239005B1/pl unknown
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104149412A (zh) * | 2014-08-14 | 2014-11-19 | 福州大学 | 表面含Ni-P-植酸非晶镀层的高耐蚀自洁钢芯铝绞线 |
| CN106637154A (zh) * | 2016-11-14 | 2017-05-10 | 中国石油天然气集团公司 | 一种利用机械研磨技术在小尺寸金属管内壁制备纳米Ni‑P镀层的装置和方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| PL239005B1 (pl) | 2021-10-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4945193B2 (ja) | 硬質金合金めっき液 | |
| JP6951465B2 (ja) | ３価クロムメッキ液およびこれを用いたクロムメッキ方法 | |
| US2842488A (en) | Process for the production of metal electrodeposits | |
| KR20110039460A (ko) | 구리 층의 갈바닉 침착을 위한 시안화물-무함유 전해질 조성물 | |
| EP0663460B1 (en) | Tin-zinc alloy electroplating bath and method for electroplating using the same | |
| CN105102689A (zh) | 锌镍合金镀液及镀敷方法 | |
| EP1930478B1 (en) | Electrolyte composition and method for the deposition of quaternary copper alloys | |
| US3264199A (en) | Electroless plating of metals | |
| US3878067A (en) | Electrolyte and method for electrodepositing of bright nickel-iron alloy deposits | |
| PL427186A1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Ni-P oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Ni-P na trudno spajalnych podłożach przewodzących | |
| ES475996A1 (es) | Un metodo de producir depositos electroliticos de zinc bri- llantes. | |
| US10767274B2 (en) | Compositionally modulated zinc-iron multilayered coatings | |
| US4416740A (en) | Method and bath for the electrodeposition of palladium/nickel alloys | |
| ES472577A1 (es) | Procedimiento para obtener depositos de galvanoplastia de cinc de lustrosos a brillantes | |
| US4430172A (en) | Method of increasing corrosion resistance in galvanically deposited palladium/nickel coatings | |
| PL427185A1 (pl) | Kąpiel do galwanicznego osadzania powłoki stopowej Cu-Cr oraz sposób otrzymywania powłok stopowych Cu-Cr na trudno spajalnych podłożach przewodzących | |
| WO2020184289A1 (ja) | マイクロポーラスめっき液およびこのめっき液を用いた被めっき物へのマイクロポーラスめっき方法 | |
| JPS6324092A (ja) | 亜鉛−鉄合金の電着用の酸性硫酸塩含有浴 | |
| US4411744A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
| JP2015021178A (ja) | 無電解Ｎｉ−Ｐ−Ｓｎめっき液 | |
| US3374156A (en) | Electro-depositing stainless steel coatings on metal surfaces | |
| JPS6112038B2 (pl) | ||
| US3901773A (en) | Method of making microcrack chromium coatings | |
| US3287236A (en) | Electrodeposition of copper and solutions therefor | |
| DE10035102A1 (de) | Verfahren zur Beschichtung von Bauteilen aus gehärtetem Stahl oder Eisenguss mit Zink-Nickel-Legierungen |