PL205930B1 - Arkusz i kompozycja powlekająca - Google Patents

Arkusz i kompozycja powlekająca

Info

Publication number
PL205930B1
PL205930B1 PL372376A PL37237603A PL205930B1 PL 205930 B1 PL205930 B1 PL 205930B1 PL 372376 A PL372376 A PL 372376A PL 37237603 A PL37237603 A PL 37237603A PL 205930 B1 PL205930 B1 PL 205930B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
colloidal silica
solids
silica
alkali metal
ratio
Prior art date
Application number
PL372376A
Other languages
English (en)
Other versions
PL372376A1 (pl
Inventor
Daniel Ray Fruge
Demetrius Michos
Original Assignee
Grace W R & Co
W R Grace & Co Conn
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Grace W R & Co, W R Grace & Co Conn filed Critical Grace W R & Co
Publication of PL372376A1 publication Critical patent/PL372376A1/pl
Publication of PL205930B1 publication Critical patent/PL205930B1/pl

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
    • B41M5/52—Macromolecular coatings
    • B41M5/5218—Macromolecular coatings characterised by inorganic additives, e.g. pigments, clays
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/50—Recording sheets characterised by the coating used to improve ink, dye or pigment receptivity, e.g. for ink-jet or thermal dye transfer recording
    • B41M5/52—Macromolecular coatings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Ink Jet Recording Methods And Recording Media Thereof (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Ink Jet (AREA)
  • Paper (AREA)

Description

Opis wynalazku
Przedmiotem wynalazku jest arkusz służący do druku strumieniowego zawierający podłoże i co najmniej jedną warstwę powlekającą oraz kompozycja powlekająca. W szczególności, przedmiotem wynalazku są kompozycje powlekające odpowiednie do wytwarzania błyszczących arkuszy służących do druku strumieniowego, odznaczające się dobrą drukownością.
Procesy druku strumieniowego są dobrze znane. Takie układy doprowadzają krople tuszu na arkusz do zapisu, np. papier, ze zmiennymi gęstościami oraz szybkością. W przypadku stosowania wielobarwnych układów druku strumieniowego, w procesie doprowadzana jest, w bardzo bliskim sąsiedztwie, pewna ilość różnie zabarwionych kropelek tuszu o zmiennych właściwościach i tempie absorpcji. W rzeczywistości, te wielobarwne układy zaprojektowano w celu uzyskania obrazów, podobnych do obrazowania fotograficznego, a takie obrazy wymagają dużej rozdzielczości i szerokiej gamy barw. Zgodnie z tym, arkusze służące do druku strumieniowego muszą być zdolne do wchłonięcia tuszu o dużej gęstości, z taką wydajnością, aby osadzane kolory były jasne i czyste, w dawkach umożliwiających szybkie wyschnięcie, wchłaniając tusz tak, aby nie ciekł lub nie plamił i w taki sposób, aby w wyniku otrzymać gładkie obrazy.
Aby osiągnąć te cele, do powłok papierowych wprowadzono silnie porowate pigmenty, np. porowate krzemionki. Przykładowo zgłoszenie EP-A-0685344 ujawnia arkusz służący do druku strumieniowego zawierający na powłoce nadającej połysk monodyspersję cząsteczek koloidalnej krzemionki, przy czym cząsteczki krzemionki maja najwyżej 300 nm. Układy powlekające na bazie krzemionki pomyślnie spełniają cele drukowności. Jednakże, trudność sprawiło uzyskanie takich właściwości i wytworzenie nie matowego lub połyskującego efektu typowo obserwowanego w tradycyjnych układach fotograficznych. Wymienione wcześniej porowate pigmenty typowo charakteryzują się porowatością powyżej 1 cm3/g i średnimi wymiarami cząstek powyżej 1 μm [mikrona]. Takie wymiary cząstek i porowatość zwiększają chropowatą powierzchnię gotowej powłoki, odchylając padające światło tak, aby ulegało rozproszeniu, tworząc tym samym matową powłokę.
W celu zwiększenia połysku takich powłok, na górne chłonące tusz warstwy wytworzone z wymienionych wcześniej porowatych pigmentów nakłada się następne warstwy połyskujące. Te górne warstwy wytwarza się z naturalnie lśniących układów spoiw lub z warstw zawierających spoiwo oraz cząstki tlenku nieorganicznego o znacznie mniejszych rozmiarach, np. typową krzemionkę koloidalną. W ostatnim rozwiązaniu krzemionka koloidalna ma tendencję do zwiększania własności chłonnych górnej powłoki, jednak nie na tyle, aby spowodować zniekształcenia powierzchni. Istnieje jednak tendencja do gromadzenia się cząstek koloidalnych przy dużych stężeniach, co powoduje wady oraz chropowatość powierzchni górnej warstwy, tym samym zmniejszając połysk. Zgodnie z tym, w tym rozwiązaniu stosuje się mniejsze stężenia (np. mniejsze stosunki koloidalnych części stałych do części stałych spoiwa).
Pożądane byłoby zatem zwiększenie ilości stałych tlenków nieorganicznych w tych górnych warstwach w celu poprawienia drukowności. W rzeczywistości, pożądane byłoby zastosowanie warstw powlekających o stosunku koloidalnych części stałych do części stałych spoiwa wynoszącym co najmniej 1:1 i nawet bardziej korzystnie zastosowanie powłok o stosunku koloidalnej krzemionki do spoiwa 4:1, z jednoczesnym osiągnięciem dopuszczalnego połysku.
Ponadto, układy powlekające papier metodą druku strumieniowego często są zaprojektowane tak, aby przebiegały z ogólnym ładunkiem dodatnim. Wiele z tuszy stosowanych w procesach druku strumieniowego posiada ładunek ujemny; a zatem pożądane jest, aby składniki powłoki miały ładunek przeciwny w celu wiązania tuszu. Koloidalny glin ma ładunek dodatni i jest szeroko stosowany do tego celu jako pigment powlekający. Stosuje się także kationowy barwnik wiążący składniki i kationowe spoiwa. W rzeczywistości, obecność tych ostatnich, dodatnio naładowanych substancji, zazwyczaj wymaga, aby pigmenty w powłoce miały charakter kationowy lub co najmniej niejonowy. W przeciwnym razie substancje mają tendencję do aglomeracji, co tym samym powoduje wady powierzchni i zmniejsza połysk. Pożądane byłoby zatem i jest celem wynalazku, dostarczenie warstwy powlekającej o względnie dużej zawartości części stałych krzemionki, o charakterze kationowym.
Przedmiotem wynalazku jest arkusz służący do druku strumieniowego zawierający podłoże i co najmniej jedną warstwę powlekającą, charakteryzujący się tym, że co najmniej jedna warstwa powlekająca (a) ma powierzchnię, która wykazuje stopień połysku zwierciadlanego równy co najmniej 30 przy pomiarze pod kątem 60°,
PL 205 930 B1 (b) zawiera kationową krzemionkę koloidalną o wartości stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego równym co najmniej AW (-0,013SSA + 9) oraz (c) zawiera spoiwo, przy czym stosunek stałej krzemionki koloidalnej do części stałych spoiwa jest równy co najmniej 1:1 wagowo, gdzie AW oznacza masę atomową metalu alkalicznego i SSA oznacza powierzchnię właściwą krzemionki koloidalnej.
Korzystnie stosunek stałej krzemionki koloidalnej do części stałych spoiwa mieści się w zakresie 6:4 do 4:1.
Korzystnie koloidalna krzemionka wykazuje wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego równą co najmniej 150.
Korzystnie koloidalna krzemionka ma średni wymiar cząstek w zakresie od 1 do 300 nanometrów.
Korzystnie wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego jest równa co najmniej sumie 0,30SSA + 207.
Korzystnie jako metal alkaliczny występuje sód.
Przedmiotem wynalazku jest kompozycja powlekająca, charakteryzująca się tym, że zawiera:
(a) kationową krzemionkę koloidalną o wartości stosunku części stałych do metalu alkalicznego równym co najmniej AW (-0,013SSA + 9) i (b) spoiwo, w której części stałe krzemionki (a) i części stałe spoiwa (b) występują w stosunku równym co najmniej 1:1 wagowo, gdzie AW oznacza masę atomową metalu alkalicznego i SSA oznacza powierzchnię właściwą krzemionki koloidalnej.
Korzystnie stosunek części stałych krzemionki (a) do części stałych spoiwa (b) mieści się w zakresie 6:4 do 4:1.
Korzystnie koloidalna krzemionka wykazuje wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego równą co najmniej 150.
Korzystnie koloidalna krzemionka ma średni wymiar cząstek 1 do 300 nanometrów.
Korzystnie wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego jest równa co najmniej sumie 0,30SSA + 207.
Korzystnie jako metal alkaliczny występuje sód.
Korzystnie koloidalna krzemionka ma medianę wymiaru cząstek w zakresie 15 do 100 nm i ma rozkład wymiaru cząstek taki, aby co najmniej 80% cząstek mieściło się w zakresie od 30 do 70 nanometrów.
Stwierdzono, że kationowa krzemionka koloidalna, zawierająca względnie małe ilości metali alkalicznych, np. sodu, daje krzemionkę koloidalną, która nie ulega aglomeracji przy względnie dużej zawartości części stałych, a tym samym zmniejsza zniekształcenia i matowość powierzchni powłoki.
Figura 1 ilustruje rozkład wymiaru cząstek polizdyspergowanej krzemionki koloidalnej stosowanej w korzystnym rozwiązaniu według wynalazku.
Figura 2 ilustruje wartości stosunku części stałych koloidalnej krzemionki do metalu alkalicznego w odniesieniu do połysku osiąganego dla powłok zawierających takie cząstki.
Przez termin „koloidalna krzemionka” lub „roztwór koloidalnej krzemionki” rozumie się cząstki pochodzące z dyspersji lub roztworów koloidalnych, w których cząstki nie wydzielają się z dyspersji przez względnie długi okres czasu. Takie cząstki, typowo, występują w wymiarze poniżej jednego μm [mikrona]. Koloidalna krzemionka o średnich wymiarach cząstek w zakresie od około 1 do około 300 nanometrów i sposoby jej wytwarzania są dobrze znane w dziedzinie, patrz opisy patentowe Stanów Zjednoczonych Ameryki Płn. nr nr 2 244 325; 2 574 902; 2 577 484; 2 577 485; 2 631 134; 2 750 345; 2 892 797; 3 012 972; i 3 440 174, które załącza się tu na zasadzie odsyłacza. Według wynalazku bardziej korzystne są krzemionki koloidalne o średnim wymiarze cząstek w zakresie od 5 do 100 nanometrów. Mogą one mieć powierzchnię właściwą (zmierzoną metodą BET) w zakresie 9 do około 2700 m2/g.
Koloidalna krzemionka, szczególnie odpowiednia według wynalazku, znana jest jako polizdyspergowana krzemionka koloidalna. Termin „polizdyspergowana” definiuje tu dyspersję cząstek o rozkładzie wymiaru cząstek, w którym mediana wymiaru cząstek wynosi 15-100 nm i względnie szerokim zakresie rozkładu. Korzystne są rozkłady, w których 80% wymiarów cząstek mieści się w zakresie od 30 nanometrów i może sięgać aż do 70 nanometrów. Zakres 80% określa się odejmując udział cząstek o wymiarze d10 od udziału cząstek o wymiarze d90, otrzymanych na podstawie wymiarów cząstek, zmierzonych opisanymi później metodami TEM. Określa się to jako „zakres 80%”. W pewnym rozwiązaniu, polizdyspergowane cząstki charakteryzują rozkłady wymiaru przesunięte w kierunku wymiarów
PL 205 930 B1 mniejszych niż ich mediana. W efekcie, rozkład wykazuje pik w powierzchni opisującej ten rozkład i „ogon” wymiarów cząstek większych niż mediana, patrz fig. 1. Mniejszy lub wię kszy wymiar czą stek w zakresie okreś lonym jako 80% moż e wynosić odpowiednio -11% do -70% i 110% do 160% mediany. Szczególnie odpowiednia polizdyspergowana krzemionka ma medianę wymiaru cząstek w zakresie 20 do 30 nanometrów i 80% czą stek ma wymiar pomię dzy 10 i 50 nanometrów, np. wymiar 80% cząstek mieści się w zakresie 40 nanometrów.
Większość roztworów koloidalnej krzemionki zawiera ług. Jest to zazwyczaj wodorotlenek metalu alkalicznego z Grupy IA Układu Okresowego Pierwiastków (wodorotlenek litu, sodu, potasu itp.). Większość dostępnych na rynku roztworów koloidalnej krzemionki zawiera wodorotlenek sodu, który pochodzi, co najmniej częściowo, z krzemianu sodu stosowanego do wytworzenia koloidalnej krzemionki, chociaż wodorotlenek sodu można także dodawać w celu stabilizacji roztworu koloidalnego przeciw żelowaniu.
Ogólnie mówiąc, koloidalna krzemionka ma wypadkowy ładunek ujemny i dlatego w efekcie utraty protonów z grup silanolowych występujących na powierzchni krzemionki ma charakter anionowy. Dla celów wynalazku, koloidalną krzemionkę uważa się za kationową, jeśli anionowa krzemionka koloidalna została zmodyfikowana, np. poprzez fizyczne powleczenie lub traktowanie chemiczne tak, aby koloidalna krzemionka miała wypadkowy ładunek dodatni. Kationowa krzemionka obejmuje zatem te krzemionki koloidalne, na których powierzchni w wystarczającej ilości znajdują się kationowe grupy funkcyjne, jak np. jon metalu, takiego jak glin lub kation amoniowy takie, aby wypadkowy ładunek był dodatni.
Znanych jest kilka typów kationowej krzemionki koloidalnej. Takie kationowe krzemionki koloidalne wskazano w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki Płn. nr 3 007 878, który załącza się na zasadzie odsyłacza. Pokrótce, gęsty roztwór koloidalnej krzemionki jest stabilizowany i następnie powlekany przez skontaktowanie tego roztworu koloidalnego z zasadową solą trój- lub czterowartościowego metalu. Przykładem trójwartościowego metalu jest glin, chrom, gal, ind lub tal, a czterowartościowego metalu - tytan, german, cyrkon, cyna, cer, hafn i tor. Korzystny jest glin.
Aniony w wielowartościowej soli metalu, inne niż jony hydroksylowe, są wybrane tak, aby sól była rozpuszczalna w wodzie. Zrozumiałe jest, że powołanie się na fakt, iż sól ma jednowartościowy anion inny niż hydroksy, nie oznacza wyłączenia grupy hydroksylowej z tej soli, lecz wskazuje na występowanie w soli innego anionu oprócz hydroksylowego. Należą tu zatem wszystkie sole zasadowe, pod warunkiem, że są one rozpuszczalne w wodzie i mogą wytworzyć wymagane, przedstawione poniżej, zależności jonowe.
Korzystnie, roztwory koloidalne dodatnio naładowanej krzemionki przygotowuje się przez osadzenie tlenku glinu na powierzchni cząstek koloidalnej krzemionki. Można to osiągnąć działając na wodny roztwór koloidalny naładowanej ujemnie krzemionki zasadowymi solami glinu, takimi jak zasadowy octan glinu lub zasadowy glin.
Sposoby wytwarzania tych dodatnio naładowanych roztworów koloidalnej krzemionki ujawnił Moore, opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 620 978; Moore, opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 956 171; Moore, opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 719 607; Moore, opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 3 745 126; i Bergna, opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki nr 4 217 240, przy czym wszystkie te opisy załącza się tu na zasadzie odsyłacza. Obróbka glinem prowadzi do osiągnięcia stosunków glin:krzemionka na powierzchni cząstek koloidalnych w zakresie od około 1:19 do około 4:1. Na powierzchni wartości stosunku glin-krzemiona korzystne wynoszą od około 1:2 do około 2:1. Roztwór koloidalny jest stabilizowany przy słabo kwasowych wartościach pH, co można osiągnąć przez dodanie w małej ilości kwasu takiego jak np. kwas octowy lub przez przepuszczenie roztworu koloidalnego przez złoże silnie kwasowej żywicy jonowymiennej.
Jak wskazano powyżej, kationowe roztwory koloidalnej krzemionki według wynalazku mają znacznie mniejsze zawartości jonów metalu alkalicznego niż dostępne na rynku roztwory koloidalnej krzemionki. Może to ilustrować wynik obliczenia wagowego wartości stosunku części stałych krzemionki do sodu dla roztworu koloidalnej krzemionki, co pokazuje równanie 1. Fig. 2 wskazuje, że akceptowalny połysk można osiągnąć, stosując roztwory koloidalnej krzemionki opracowane na podstawie poniższego równania:
Równanie 1. SiO2 / metal alkaliczny > AW (-0,013 * SSA + 9)
PL 205 930 B1
Wartość SiO2/metal alkaliczny określa wagowy stosunek części stałych krzemionki i metalu alkalicznego w roztworze koloidalnej krzemionki. AW oznacza masę atomową metalu alkalicznego, np. 6,9 dla litu, 23 dla sodu i 39 dla potasu i SSA oznacza powierzchnię właściwą cząstek krzemionki koloidalnej wyrażoną w metrach kwadratowych na gram (m2/g). Jeśli metalem alkalicznym jest sód, wówczas wartość stosunku SiO2/metal alkaliczny jest równa co najmniej sumie -0,30SSA + 207.
Kationowe krzemionki koloidalne o małej zawartości części alkalicznych można wytworzyć przez zdejonizowanie ich w takim zakresie, aby wartości stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego w koloidalnej krzemionce były zgodnie z równaniem 1. Termin „zdejonizowane” oznacza, że jony dowolnego metalu, np. jony metalu alkalicznego takiego jak sód, zostały usunięte z roztworu koloidalnej krzemionki. Sposoby usuwania jonów metalu alkalicznego są dobrze znane i obejmują wymianę jonową z zastosowaniem odpowiedniej żywicy jonowymiennej (opisy patentowe Stanów Zjednoczonych Ameryki Płn. nr 2 577 484 i 2 577 485), dializę (opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki Płn. nr 2 773 028) i elektrodializę (opis patentowy Stanów Zjednoczonych Ameryki Płn. nr 3 969 266).
Jak wskazano poniżej, krzemionki koloidalne można wprowadzać do typowych spoiw powlekających. Spoiwo służy nie tylko do wiązania koloidalnej krzemionki i tworzenia warstwy, ale także zapewnia przyleganie na granicy powierzchni warstwy nadającej połysk i substratu lub warstwy jakiegokolwiek produktu pośredniego przyjmującego tusz pomiędzy warstwą nadającą połysk i substratem.
Kationowe i niejonowe spoiwa są szczególnie odpowiednie do użytku według wynalazku. Odpowiednie spoiwa obejmują między innymi kopolimery styren-butadien lub styren-akrylan z kationowymi grupami funkcyjnymi i/lub kationowe poli(octany winylu), kationowe poli(alkohole winylowe) lub ich kopolimery.
Ponadto, spoiwo można wybrać spośród takich jak rozłożone i natywne guary, skrobie, metylocelulozy, hydroksymetylocelulozy, karboksymetylocelulozy, alginiany, białka i poli(alkohole winylowe), występujące w formie kationowej. Odpowiednie są także białka z uwagi na ich amfoteryczny charakter.
Specyficzne przykłady kationowych rozpuszczalnych w wodzie spoiw obejmują takie jak np. dietyloaminoetylenowana skrobia, skrobia zmodyfikowana chlorkiem trimetyloetyloamoniowym i skrobia zmodyfikowana chlorkiem dietyloaminoetyloamoniowym; oraz kopolimery estru akrylowego ze zmodyfikowanym kationem.
Odpowiednie niejonowe, rozpuszczalne w wodzie spoiwa obejmują między innymi takie, jak poli(alkohol winylowy), hydroksyetyloceluloza, metyloceluloza, dekstryna, pluran, skrobia, guma arabska, dekstran, poli(glikol etylenowy), poliwinyloipirolidon, poliakryloamid, i poli(glikol propylenowy).
Nierozpuszczalne w wodzie lub słabo rozpuszczalne w wodzie kationowe lub niejonowe spoiwa w postaci wodnej emulsji obejmują, lecz nie ograniczając się do nich, ż ywice na bazie kopolimeru akrylowego i metakrylowego, np. żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-akrylan butylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-akrylan etylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-akrylan 2-etyloheksylu, żywice na bazie kopolimeru metyloakrylan metylu-akrylan metylu, żywice na bazie kopolimeru styren-akrylan butylu, żywice na bazie kopolimeru styren-akrylan 2-etyloheksylu, żywice na bazie kopolimeru styren-akrylan etylu, żywice na bazie kopolimeru styren-akrylan metylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-styren-akrylan butylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-styren-akrylan 2-etyloheksylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-styren-akrylan etylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-styren-akrylan etylu, żywice na bazie kopolimeru metakrylan metylu-styren-akrylan metylu, żywice na bazie kopolimeru styren-akrylan butylu-akrylonitryl i żywice na bazie kopolimeru styren-akrylan etylu-akrylonitryl.
Inne odpowiednie spoiwa obejmują takie, jak kazeina, żelatyna, żywica na bazie bezwodnika maleinowego, sprzężony kopolimer lateksowy typu dienowego, np. winylowy polimer lateksowy taki jak kopolimer etylen-octan winylu; spoiwo typu syntetycznej żywicy takie jak żywica poliuretanowa, nienasycona żywica poliesterowa, kopolimer chlorek winylu-octan winylu, poli(winylobutyral) lub żywica alkidowa.
Spoiwo można łączyć z koloidalną krzemionką stosując typowe mieszarki i mieszalniki. Składniki można łączyć i mieszać w warunkach otoczenia.
Pożądane jest, aby części stałe koloidalnej krzemionki i części stałe spoiwa występowały w powłoce w względnie dużych ilościach. W pewnych rozwiązaniach stwierdzono, że większe wartości stosunków krzemionki do spoiwa zapewniają dobrą drukowność, jak również korzystne właściwości mechaniczne gotowego arkusza przyjmującego tusz. Szczególnie korzystne jest, aby koloidalna krzemionka i części stałe spoiwa występowały w stosunku co najmniej 1:1, i korzystniej 6:4 do 4:1
PL 205 930 B1 wagowo. Wartość tego stosunku może wynosić aż 9,9:1. Stosunek koloidalnej krzemionki do części stałych spoiwa określa się tu również jako stosunek pigmentu do spoiwa.
Pożądane może być również wprowadzenie dodatkowych składników do kompozycji powlekającej według wynalazku. Powłoka według wynalazku może zawierać jeden lub więcej z następujących składników: dyspergator, środek zagęszczający, środek poprawiający płynność, środek odpieniający, środek przeciwpieniący, środek uwalniający, środek rozdmuchujący, środek wzmagający penetrację, barwnik, pigment, fluorescencyjny środek rozjaśniający, środek absorbujący ultrafiolet, przeciwutleniacz, środek konserwujący, środek zapobiegający spopielaniu, środek nadający wodoodporność i środek nadają cy wytrzymałość na mokro.
Korzystnym dodatkiem jest kationowy barwnik zaprawowy. Przykłady odpowiednich barwników zaprawowych obejmują między innymi takie jak polimeryczny czwartorzędowy związek amoniowy lub zasadowy polimer, taki jak metakrylan poli(dimetyloaminoetylu), polialkilenopoliaminy oraz produkty ich kondensacji z dicyjanodiamidem, polikondensaty amina-epichlorohydryna; lecytyna i fosfolipidy. Specyficzne przykłady takich barwników zaprawowych obejmują: chlorek winylobenzylotrimetyloamoniowy/dimetakrylan glikolu etylenowego; poli(chlorek diallilodimetyloamoniowy); metylosiarczan metakrylanu poli(2-N,N,N-trimetyloamoniowo)etylu; chlorek metakrylanu poli(3-N,N,N-trimetyloamoniowo)-propylu; kopolimer winylpirolidynonu i chlorku winylo(N-metyloimidazoliowego); i pochodne hydroksyetylocelulozy z chlorkiem 3-N,N,N-trimetyloamoniowo) propylu. W korzystnym rozwiązaniu, kationowy barwnik zaprawowy stanowi czwartorzędowy związek amoniowy.
Barwnik zaprawowy do użytku według wynalazku można stosować w dowolnej ilości skutecznej dla zamierzonego celu. Na ogół, dobre wyniki otrzymuje się gdy barwnik zaprawowy występuje w ilości od około 0,1-10% wagowych całej kompozycji powlekającej. Te barwniki zaprawowe są szczególnie korzystne gdy spoiwo jest niejonowe.
Część zawierającej względnie mało metalu alkalicznego kationowej krzemionki koloidalnej można także zastąpić jednym lub więcej innymi materiałami koloidalnymi, np. materiałami zawierającymi metale alkaliczne w większych ilościach, pod warunkiem, że sumaryczna ilość substancji alkalicznych występujących w kombinacji krzemionki koloidalnej i innego materiału będzie taka, aby wartości stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego była zgodna z równaniem 1, a ilość takiego materiału koloidalnego będzie taka, że nie pogorszy to ogólnych właściwości kationowych lub połysku pożądanego dla końcowej powłoki. Takie inne materiały koloidalne może stanowić krzemionka, jak również nieorganiczne tlenki inne niż krzemionka, np. tlenek tytanu, ditlenek cyrkonu, itp. Takie dodatkowe cząstki koloidalnego tlenku nieorganicznego można dodać jako wypełniacz i/lub jako dodatkowy pigment.
Powłoki według wynalazku wykazują połysk co najmniej trzydzieści (30) pod kątem 60° zmierzony z zastosowaniem urządzenia pomiarowego BYK Gardner. Korzystnie, powłoki według wynalazku wykazują połysk co najmniej 80 przy stosunku koloidalnej krzemionki do spoiwa wynoszącym 6:4 i co najmniej 50, a korzystnie co najmniej 70 przy stosunku koloidalnej krzemionki do spoiwa wynoszącym 4:1. Nawet bardziej korzystnie, powłoka wykazuje połysk co najmniej 90 przy stosunku koloidalnej krzemionki do spoiwa wynoszącym 4:1.
Odpowiednie podłoża do wytwarzania arkusza służącego do druku strumieniowego według wynalazku obejmują te typowo stosowane w dziedzinie. Odpowiednie podłoża charakteryzują się ciężarem właściwym w zakresie około 40 do około 300 g/m2. Podłożem może być arkusz papierowy wytwarzane różnymi sposobami i z zastosowaniem różnych maszyn, takich jak maszyna papiernicza Fourdrinier, cylindrowa maszyna papiernicza lub maszyna papiernicza z zakończeniem sitowym. Podłoża wytwarza się przez zmieszanie jego głównych składników, np. typowego pigmentu i pulpy drzewnej obejmującej np. ścier chemiczny, ścier drzewny i ścier makulaturowy, z co najmniej jednym z różnych dodatków obejmujących takie jak spoiwo, klejonka, utrwalacz, środek zwiększający wydajność, środek kationowy i środek zwiększający wytrzymałość papieru. Innymi podłożami są przezroczyste substraty, tkaniny itp.
Ponadto, podłożami mogą być także arkusze papierowe z prasy klejarskiej wytworzone z zastosowaniem skrobi lub poli(alkoholu winylowego). Podłoże może również stanowić warstwa przytrzymująca jak np. warstwa wstępnie powleczona na podłoże papierowe. Podłoże papierowe może także mieć warstwę przyjmującą tusz wprowadzoną przed nakładaniem powłoki według wynalazku.
Powłoki zawierające koloidalną krzemionkę, spoiwo i ewentualne dodatki można stosować w trakcie wytwarzania podłoż a, albo już po wytworzeniu podłoża. Powłokę można nakładać stosując typowe techniki powlekające, takie jak powlekanie z zastosowaniem układu „air knife”, powlekanie
PL 205 930 B1 walcowe, powlekanie nożowe, powlekanie prętowe, powlekanie przez polewanie, powlekanie w formie oraz procesy wykorzystujące prasy zaklejające. Uzyskane powłoki można suszyć w temperaturze pokojowej, stosując suszenie gorącym powietrzem, przez kontakt z ogrzewaną powierzchnią lub z wykorzystaniem promieniowania. Typowo, kompozycję powlekającą według wynalazku i dowolne warstwy z ewentualnym związkiem pośrednim, nakłada się w ilości w zakresie 1 do 50 g/m2, lecz bardziej typowo w zakresie 2 do 20 g/m2.
Poniższe przykłady pokazują, że błyszczący arkusz służący do druku strumieniowego, mający dobą drukowność można wytworzyć w istocie z podłoża i jednej warstwy według wynalazku. Jednakże, w pewnych przypadkach, w celu zwiększenia drukowności końcowego arkusza, może być pożądane umieszczenie innej warstwy przyjmującej tusz, pomiędzy warstwą zapewniającą połysk według wynalazku a podłożami. Np. w celu zwiększenia drukowności gotowego arkusza służącego do druku strumieniowego, arkusze pokryte pewną zdejonizowaną krzemionką koloidalną korzystnie zawierają oddzielną powłokę przyjmującą tusz pomiędzy warstwą połyskującą i substratem.
Odpowiednie warstwy przyjmujące tusz obejmują określone w opisie patentowym Stanów Zjednoczonych Ameryki Płn. nr 5 576 088, które załącza się tu na zasadzie odsyłacza. Pokrótce, odpowiednie warstwy przyjmujące tusz zawierają spoiwo takie jak wyszczególnione powyżej spoiwa rozpuszczalne w wodzie i pigment przyjmujący tusz. Takie pigmenty obejmują biały pigment nieorganiczny taki jak lekki węglan wapnia, ciężki węglan wapnia, węglan magnezu, kaolin, talk, siarczan wapnia, siarczan baru, ditlenek tytanu, tlenek cynku, siarczek cynku, węglan cynku, biel satynowa, krzemian glinu, ziemia okrzemkowa, krzemian wapnia, krzemian magnezu, bezpostaciowa krzemionka syntetyczna, krzemionka koloidalna, tlenek glinu, koloidalny tlenek glinu, pseudobemit, wodorotlenek glinu, litopon, zeolit, zhydrolizowany haloizyt lub wodorotlenek magnezu, lub pigment organiczny, taki jak pigment styrenowy, pigment akrylowy, polietylen, mikrokapsułki, żywica mocznikowa lub żywica maleminowa. Odpowiednie pigmenty dla warstwy przyjmującej tusz mają cząstki o średnim wymiarze w zakresie 0,5 do 3,0 μ m [mikronów] (lekkie rozproszenie) i obję toś ci porów w zakresie od 0,5 do 3,0 cm3/g, a korzystnie objętości porów od 1,0 do 2,0 cm3/g, co określono metodą porozymetryczną z zastosowaniem azotu. W celu wytworzenia arkusza sł u żącego do druku strumieniowego o duż ej absorpcyjności tuszu, korzystne jest, gdy pigment w warstwie przyjmującej tusz zawiera co najmniej
30% objętościowo cząstek o wymiarze co najmniej 1,0 μm.
Korzystne rozwiązania i rodzaje działań według wynalazku opisano w powyższym opisie. Wynalazek przeznaczony tu do ochrony, nie jest ograniczony do ujawnionych tu poszczególnych rozwiązań, które zamieszczono tu jedynie dla ilustracji. Fachowcy w dziedzinie mogą dokonywać zmian i modyfikacji bez odchodzenia od myśli przewodniej wynalazku.
Ponadto, jakiekolwiek zakresy wartości liczbowych przytoczone w opisie lub zastrzeżeniach patentowych, takich jak reprezentujące poszczególne właściwości, warunki, stany fizyczne lub udziały procentowe, są zgodnie z zamiarem wprowadzone tu dosłownie, wyrażając dowolną liczbę mieszczącą się w tym zakresie, który obejmuje dowolny zestaw wartości w ramach cytowanego zakresu.
Parametry wyszczególnione poniżej i/lub wskazane wcześniej zmierzono następującymi sposobami:
średni wymiar cząstek - jeśli nie wskazano inaczej, jest to średni liczbowo wymiar cząstek określony równaniem SSA = 3100/dn, w którym dn oznacza średni wymiar cząstek i SSA oznacza opisaną poniżej powierzchnię właściwą;
mediana wymiaru cząstek - liczbowo wagowa mediana zmierzona z zastosowaniem mikroskopu elektronowego (TEM);
połysk - zmierzono stosując urządzenie mikro-tri-gloss firmy BYK Gardner, które skalibrowano na przezroczystej błonie. Wartości połysku zmierzono pod kątem 60°;
zawartość metalu alkalicznego (np. Na) - zawartość procentowa wagowo zmierzono na podstawie zawartości jonu metalu alkalicznego, z zastosowaniem metody atomowej spektroskopii emisyjnej ze wzbudzeniem plazmowym (ICP-AES). Przed przeprowadzeniem tego pomiaru, próbkę rozpuszczono najpierw w warunkach otoczenia np. w temperaturze 25°C i wilgotności względnej 75%, w kwasie fluorowodorowym i w kwasie azotowym (w stosunku wagowym 30/70). Próbkę pozostawiono do rozpuszczenia na okres szesnastu godzin przed przeprowadzeniem pomiarów;
zawartość części stałych krzemionki - zmierzono w piecu Ohaus'a w temperaturze 205°C, przy czym moment końcowy pomiaru części stałych określała zmiana masy próbki mniejsza niż 0,01 g w ciągu sześćdziesięciu (60) sekund;
PL 205 930 B1 powierzchnia właściwa - określono metodą miareczkowania skorelowaną z powierzchnią właściwą określoną na podstawie adsorpcji azotu, jak podał G. W. Sears, Jr., Analitical Chemistry, tom 28, str. 1981, (1956).
P r z y k ł a d 1 (porównanie)
Martoxin® GL3 (SSA = 332 m2/g) tlenek glinu poddano peptyzacji sposobem według wytwórcy. Proszek Martoxin® GL3 dodano do zdejonizowanej wody (DI) przy 15% zawartości części stałych i mieszano przez 5 minut. Nastę pnie pH uregulowano do 4,5, stosują c kwas octowy i zawiesinę mieszano jeszcze przez 10 minut. Pod koniec pH ponownie uregulowano do 4,5, stosując kwas octowy. W zlewce umieszczono 21,015 g (15% wagowo) wytworzonej powyżej koloidalnej zawiesiny tlenku glinu. Dodano 4,85 g Airvol® 523 (roztwór 15,5% wagowo) poli(alkohol winylowy). Następnie, do mieszaniny dodano 0,19 g Agefloc® B50, barwnik zaprawowy (50% wagowo), rozcieńczony 0,768 g zdejonizowanej wody. Uzyskany preparat użyto do powleczenia z wytworzeniem wilgotnej warstwy o grubości 100 μm [mikronów] na poliestrowej folii Melinex (TM)-534, nie przezroczystej białej folii z firmy E. I. DuPont de Nemours & Co. Stosowano 8-prętową maszynę do powlekania TMI (maszyna do powlekania ze sterownikami uniwersalnymi typu K-control). Otrzymana powłoka miała połysk 93% przy 60 stopniach.
P r z y k ł a d 2 (Porównanie)
10,01 g Ludox® CL-P (40% części stałych; 140 SSA; 22 nm średni wymiar cząstek; % (wagowo) Na = 0,250; SiO2/Na = 160), koloidalną krzemionkę z firmy W. R. Grace & Co.-Conn. umieszczono w zlewce i rozcieńczono 10,31 g zdejonizowanej wody. Dodano 5,81 g Airvol® 523 (roztwór 15,5% wagowo) poli(alkohol winylowy), a następnie 0,22 g Agefloc® B50 (50% wagowo). Uzyskany preparat użyto do powleczenia poliestrowej folii jak opisano w przykładzie 1. Otrzymana powłoka miała połysk 4% przy 60 stopniach. Względnie mały połysk jest zgodny z równaniem 1, które wskazuje, że SiO2/Na musi wynosić 165 lub więcej w celu uzyskania akceptowalnego połysku.
P r z y k ł a d 3 (Porównanie)
12,06 g Ludox® CL (30% części stałych; 230 SSA; 12 nm średni wymiar cząstek; % Na = 0,260; SiO2/Na = 115), koloidalną krzemionkę z firmy W. R. Grace & Co.-Conn. umieszczono w zlewce i rozcieńczono 6,31 g zdejonizowanej wody. Dodano 5,26 g Airvol® 523 (roztwór 15,5% wagowo) poli(alkohol winylowy), a następnie 0,20 g Agefloc® B50 (50% wagowo). Uzyskany preparat użyto do powleczenia poliestrowej folii w warunkach opisanych w przykładzie 1. Otrzymana powłoka popękała. Można tego oczekiwać zgodnie z równaniem 1, które wskazuje, że wartość SiO2/Na powinna wynosić co najmniej 138 w celu osiągnięcia akceptowalnego połysku powłoki.
P r z y k ł a d 4 g zdejonizowanej wody dodano do 329 g Ludox® HS-40 (W. R. Grace), koloidalnej krzemionki zawierającej 40,0% SiO2 o średnim wymiarze cząstek = 22 nm i powierzchni właściwej = 220 m/g. Mieszaninę ogrzano do 40-50°C i mieszając dodawano w małych ilościach Amberlite® IR-120 Plus, kationowymienną żywicę w formie wodorkowej aż do obniżenia pH do 2,5. Mieszano jeszcze w tej temperaturze przez 1 godzinę, jednocześnie dodając żywicę w małych ilościach w celu utrzymania pH w zakresie 2,5-3,0. Mieszaninę przesączono przez gruboziarnistą bibułę filtracyjną w celu oddzielenia zdejonizowanego roztworu koloidalnej krzemionki od żywicy. Do zdejonizowanego roztworu koloidalnej krzemionki, mieszając, wkraplano 1% roztwór wodorotlenku amonu, aż do uzyskania pH koloidalnego roztworu 7,2-7,5.
Uzyskany roztwór koloidalnej krzemionki dodano kroplami do zlewki zawierającej 87,2 g 45% chlorowodorotlenku glinu (20,7% AI2O3 i stosunek atomowy Al:Cl 2:1), szybko mieszając. Po zakończeniu dodawania, mieszaninę pozostawiono w celu osiągnięcia stanu równowagi na okres około 12 godzin, następnie przesączono przez gęstą bibułę filtracyjną. Uzyskany roztwór koloidalny zawierał 30% części stałych, i wykazywał pH równe 3,5, miał zawartość sodu 0,06% wagowo i stosunek SiO2/Na 500.
14,51 g powyższego produktu (30% wagowo) umieszczono w zlewce i rozcieńczono 7,52 g zdejonizowanej wody. Dodano 6,27 g Airvol® 523 (roztwór 15,5% wagowo) poli(alkohol winylowy), a następnie 0,22 g Agefloc® B50 (50% wagowo). Uzyskany preparat użyto do powleczenia poliestrowej folii w warunkach opisanych w przykładzie 1. Otrzymana powłoka miała połysk 93% przy 60 stopniach. Połysk jest zgodny z równaniem 1, które wskazuje, że wartość stosunku SiO2/Na powinna wynosić co najmniej 141 w celu uzyskania akceptowalnego połysku.
P r z y k ł a d 5 g zdejonizowanej wody dodano do 367 g Ludox® TM-50 (W. R. Grace), koloidalnej krzemionki zawierającej 50,6% SiO2 o średnim wymiarze cząstek = 22 nm i powierzchni właściwej = 140 m2/g. MiePL 205 930 B1 szaninę ogrzano do 40-50°C i mieszając dodawano w małych ilościach Amberlite® IR-120 Plus, kationowymienną żywicę w formie wodorkowej aż do obniżenia pH do 2,5. Mieszano jeszcze w tej temperaturze przez 1 godzinę, jednocześnie dodając żywicę w małych ilościach w celu utrzymania pH w zakresie 2,5-3,0. Mieszaninę przesączono przez gruboziarnistą bibułę filtracyjną w celu oddzielenia zdejonizowanego roztworu koloidalnej krzemionki od żywicy. Do zdejonizowanego roztworu koloidalnej krzemionki, mieszając, wkraplano 1% roztwór wodorotlenku amonu, aż pH koloidalnego roztworu osiągnęło wartość 7,2-7,5. Uzyskany roztwór koloidalnej krzemionki dodano kroplami do zlewki zawierającej 70,8 g 45% chlorowodorotlenek glinu (20,7% AI2O3 i stosunek atomowy Al:Cl wynosi 2:1), szybko mieszając. Po zakończeniu dodawania, mieszaninę pozostawiono w celu osiągnięcia stanu równowagi na okres około 12 godzin, następnie przesączono przez gęstą bibułę filtracyjną. Uzyskany roztwór koloidalny zawierał 39% części stałych i wykazywał pH 3,5. Zawartość sodu w roztworze koloidalnym wynosiła 0,099% wagowo, a stosunek SiO2/Na był 394.
10,77 g powyższego produktu (39% wagowo) umieszczono w zlewce i rozcieńczono 10,56 g zdejonizowanej wody. Dodano 6,23 g Airvol® 523 (roztwór 15,5% wagowo), a następnie 0,24 g Agefloc® B50 (50% wagowo) Uzyskany preparat użyto do powleczenia poliestrowej folii. Otrzymana powłoka miała połysk 86% przy 60 stopniach. Połysk jest zgodny z równaniem 1, które wskazuje, że wartość stosunku Si02/Na powinna wynosić co najmniej 165 w celu uzyskania akceptowalnego połysku.
P r z y k ł a d 6 g zdejonizowanej wody dodano do 422 g polizdyspergowanej krzemionki koloidalnej (50% wagowo części stałych, mediana wymiaru cząstek 22 nanometrów i wymiar 80% cząstek mieści się w zakresie 40 nanometrów) o powierzchni właściwej 70 m2/g oraz stosunek części stałych krzemionki do sodu 179. Mieszaninę ogrzano do 40-50°C i mieszając dodawano w małych ilościach Amberlite® IR-120 Plus, kationowymienną żywicę w formie wodorkowej aż do obniżenia pH do 2,5. Mieszano jeszcze w tej temperaturze przez 1 godzinę, jednocześnie dodając żywicę w małych ilościach w celu utrzymania pH w zakresie 2,5-3,0. Mieszaninę przesączono przez gruboziarnistą bibułę filtracyjną w celu oddzielenia zdejonizowanego roztworu koloidalnej krzemionki od żywicy. Do zdejonizowanego roztworu koloidalnej krzemionki, mieszając, wkraplano 1% roztwór wodorotlenku amonu, aż pH koloidalnego roztworu osiągnęło wartość 7,2-7,5.
Uzyskany roztwór koloidalnej krzemionki dodano kroplami do zlewki zawierającej 43,6 g 45% chlorowodorotlenek glinu (20,7% Al2O2 i stosunek atomowy Al:Cl 2:1), szybko mieszając. Po zakończeniu dodawania, mieszaninę pozostawiono w celu osiągnięcia stanu równowagi na okres około 12 godzin, następnie przesączono przez gęstą bibułę filtracyjną. Uzyskany roztwór koloidalny zawierał 42% części stałych i wykazywał pH 3,5. Roztwór koloidalny zawierał sód w ilości 0,110% wagowo i wartość stosunku SiO2/Na wynosiła 382. 10,22 g powyższego produktu (41,9% wagowo) umieszczono w zlewce i rozcieńczono 11,53 g zdejonizowanej wody. Dodano 6,22 g Airvol© 523 (roztwór 15,5% wagowo), a następnie 0,20 g Agefloc® B50 (50% wagowo). Uzyskany preparat użyto do powleczenia poliestrowej folii. Otrzymana powłoka miała połysk 81% przy 60 stopniach. Połysk jest zgodny z równaniem 1, które wskazuje, że wartość stosunku Si02/Na powinna wynosić co najmniej 186 w celu uzyskania akceptowalnego połysku.
Materiał koloidalny Połysk pod kątem 60°
20% (wagowo) koloidalna 40% (wagowo) koloidalna 60% (wagowo) koloidalna 80% (wagowo) koloidalna
Przykład 1 - Koloidalny tlenek glinu (Porównanie) 92 86 95 93
Przykład krzemionki 2-Ludox® CL-P (Porównanie) 96 95 71 4
Przykład krzemionki 3-Ludox® CL (Porównanie) ~ 94 87 pęknięcia
Przykład 4 98 ~ ~ 93
Przykład 5 98 ~ ~ 86
Przykład 6 98 ~ ~ 81
~ dla tego produktu nie wykonano pomiaru

Claims (13)

1. Arkusz służący do druku strumieniowego zawierający podłoże i co najmniej jedną warstwę powlekającą, znamienny tym, że co najmniej jedna warstwa powlekająca (a) ma powierzchnię, która wykazuje stopień połysku zwierciadlanego równy co najmniej 30 przy pomiarze pod kątem 60°, (b) zawiera kationową krzemionkę koloidalną o wartości stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego równym co najmniej AW (-0,013SSA + 9) oraz (c) zawiera spoiwo, przy czym stosunek stałej krzemionki koloidalnej do części stałych spoiwa jest równy co najmniej 1 wagowo, gdzie AW oznacza masę atomową metalu alkalicznego SSA oznacza powierzchnię właściwą krzemionki koloidalnej.
2. Arkusz wedł ug zastrz. 1, znamienny tym, ż e stosunek stał ej krzemionki koloidalnej do czę ści stałych spoiwa mieści się w zakresie 6:4 do 4:1.
3. Arkusz według zastrz. 1, znamienny tym, że koloidalna krzemionka wykazuje wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego równą co najmniej 150.
4. Arkusz według zastrz. 1, znamienny tym, że koloidalna krzemionka ma średni wymiar cząstek w zakresie od 1 do 300 nanometrów.
5. Arkusz według zastrz. 1, znamienny tym, że wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego jest równa co najmniej sumie -0,30SSA + 207.
6. Arkusz według zastrz. 1, znamienny tym, że jako metal alkaliczny występuje sód.
7. Kompozycja powlekająca, znamienna tym, ż e zawiera:
(a) kationową krzemionkę koloidalną o wartoś ci stosunku części stał ych do metalu alkalicznego równym co najmniej AW (-0,013SSA + 9) i (b) spoiwo, w której części stałe krzemionki (a) i części stałe spoiwa (b) występują w stosunku równym co najmniej 1:1 wagowo, gdzie AW oznacza masę atomową metalu alkalicznego i SSA oznacza powierzchnię właściwą krzemionki koloidalnej.
8. Kompozycja według zastrz. 7, znamienna tym, że stosunek części stałych krzemionki (a) do części stałych spoiwa (b) mieści się w zakresie 6:4 do 4:1.
9. Kompozycja według zastrz. 7, znamienna tym, że koloidalna krzemionka wykazuje wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego równą co najmniej 150.
10. Kompozycja według zastrz. 7, znamienna tym, że koloidalna krzemionka ma średni wymiar cząstek 1 do 300 nanometrów.
11. Kompozycja według zastrz. 7, znamienna tym, że wartość stosunku części stałych krzemionki do metalu alkalicznego jest równa co najmniej sumie -0,30SSA + 207.
12. Kompozycja według zastrz. 11, znamienna tym, że jako metal alkaliczny występuje sód.
13. Kompozycja według zastrz. 7, znamienna tym, że koloidalna krzemionka ma medianę wymiaru cząstek w zakresie 15 do 100 nm i ma rozkład wymiaru cząstek taki, aby co najmniej 80% cząstek mieściło się w zakresie od 30 do 70 nanometrów.
PL372376A 2002-03-19 2003-03-19 Arkusz i kompozycja powlekająca PL205930B1 (pl)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US36561602P 2002-03-19 2002-03-19

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL372376A1 PL372376A1 (pl) 2005-07-25
PL205930B1 true PL205930B1 (pl) 2010-06-30

Family

ID=28454688

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL372376A PL205930B1 (pl) 2002-03-19 2003-03-19 Arkusz i kompozycja powlekająca

Country Status (20)

Country Link
US (1) US6902780B2 (pl)
EP (1) EP1490234B1 (pl)
JP (1) JP2005520720A (pl)
KR (1) KR101003264B1 (pl)
CN (1) CN100343074C (pl)
AR (1) AR039023A1 (pl)
AT (1) ATE368578T1 (pl)
AU (1) AU2003220419A1 (pl)
BR (1) BR0308558A (pl)
DE (1) DE60315273T2 (pl)
DK (1) DK1490234T3 (pl)
ES (1) ES2290446T3 (pl)
IL (1) IL164139A0 (pl)
NO (1) NO20044423L (pl)
PL (1) PL205930B1 (pl)
PT (1) PT1490234E (pl)
RU (1) RU2004130835A (pl)
TW (1) TWI339643B (pl)
WO (1) WO2003080358A1 (pl)
ZA (1) ZA200408091B (pl)

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200307022A (en) * 2002-03-19 2003-12-01 W R Grance & Co Conn Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom
TWI349024B (en) * 2002-03-19 2011-09-21 Grace W R & Co Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom
TWI339643B (en) * 2002-03-19 2011-04-01 Grace W R & Co Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom
US6887536B2 (en) * 2002-03-21 2005-05-03 Agfa Geveart Recording element for ink jet printing
GB0207179D0 (en) * 2002-03-27 2002-05-08 Ibm A numeric processor, a numeric processing method, and a data processing apparatus or computer program incorporating a numeric processing mechanism
US6896942B2 (en) * 2002-04-17 2005-05-24 W. R. Grace & Co. -Conn. Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom
US20060077243A1 (en) * 2004-10-08 2006-04-13 Edwards Paul A System and method for ink jet printing of solvent/oil based inks using ink-receptive coatings
US20060077244A1 (en) * 2004-10-08 2006-04-13 Edwards Paul A System and method for ink jet printing of water-based inks using ink-receptive coating
US20060075916A1 (en) * 2004-10-08 2006-04-13 Edwards Paul A System and method for ink jet printing of water-based inks using aesthetically pleasing ink-receptive coatings
US20130000214A1 (en) * 2006-01-11 2013-01-03 Jia-Ni Chu Abrasive Particles for Chemical Mechanical Polishing
CL2007000734A1 (es) * 2006-03-22 2008-05-02 Grace W R & Co Revestimiento de oxido inorganico transparente producido al preparar composicion de revestimiento que comprende particulas de oxido inorganico y polimero, aplicar composicion sobre sustrato, formar revestimiento y calentar el revestimiento para elimi
EP2008329B1 (en) * 2006-04-12 2017-09-06 Sampath Kumar Thothathri A nanosized electrochemical dispersion for rechargeable alkaline zinc batteries
US7828412B2 (en) 2006-09-08 2010-11-09 Electronics For Imaging, Inc. Ink jet printer
US7915334B2 (en) * 2006-11-13 2011-03-29 Kanzaki Specialty Papers, Inc. Dual purpose receiver sheet
ES2397244T3 (es) * 2007-12-04 2013-03-05 W. R. Grace & Co.-Conn Soportes receptores de tinta resistentes a la abrasión
JP5698748B2 (ja) 2009-08-12 2015-04-08 ニューページ コーポレーション インクジェット記録媒体
CA2772385C (en) * 2009-08-31 2017-03-14 Newpage Corporation Paper substrate with inkjet-receptive coating comprising cationic porous silica
KR101885543B1 (ko) 2010-12-15 2018-08-07 뉴페이지 코포레이션 잉크젯 인쇄를 위한 기록 매체
US8398233B2 (en) * 2011-01-31 2013-03-19 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Inkjet recording medium
US8727528B2 (en) 2011-02-18 2014-05-20 Newpage Corporation Glossy recording medium for inkjet printing
US8821998B2 (en) 2012-04-13 2014-09-02 Newpage Corporation Recording medium for inkjet printing
CN107587354A (zh) * 2017-09-29 2018-01-16 潍坊佳诚数码材料有限公司 一种坯布处理工艺

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2244325A (en) 1940-04-15 1941-06-03 Paul G Bird Colloidal solutions of inorganic oxides
US2574902A (en) 1948-12-15 1951-11-13 Du Pont Chemical processes and composition
US2577484A (en) 1950-09-08 1951-12-04 Du Pont Process for producing stable silica sols
US2577485A (en) 1950-09-08 1951-12-04 Du Pont Process of making stable silica sols and resulting composition
US2631134A (en) 1951-11-07 1953-03-10 Du Pont Silica sol process
US2773028A (en) 1952-04-29 1956-12-04 Du Pont Dialysis process
US2750345A (en) 1954-02-25 1956-06-12 Du Pont Process for producing sols of 5-8 millimicron silica particles, and product
US2892797A (en) 1956-02-17 1959-06-30 Du Pont Process for modifying the properties of a silica sol and product thereof
US3007878A (en) 1956-11-01 1961-11-07 Du Pont Aquasols of positively-charged coated silica particles and their production
US3012972A (en) 1959-02-20 1961-12-12 Du Pont Aqueous silica dispersions and their production
US3440174A (en) 1965-04-26 1969-04-22 Nalco Chemical Co Method of making silica sols containing large particle size silica
US3620978A (en) 1968-07-18 1971-11-16 Du Pont Process for preparing stable positively charged alumina-coated silica sols
US3719607A (en) 1971-01-29 1973-03-06 Du Pont Stable positively charged alumina coated silica sols and their preparation by postneutralization
US3745126A (en) 1971-04-22 1973-07-10 Du Pont Stable positively charged alumina coated silica sols
US3969266A (en) 1971-06-23 1976-07-13 E. I. Du Pont De Nemours And Company Microporous membrane process for making concentrated silica sols
US3956171A (en) 1973-07-30 1976-05-11 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for preparing stable positively charged alumina coated silica sols and product thereof
US4217240A (en) 1976-09-02 1980-08-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Stable aluminosilicate aquasols having uniform size particles and their preparation
JP3198164B2 (ja) 1992-09-09 2001-08-13 三菱製紙株式会社 インクジェット記録用シート
US5576088A (en) 1994-05-19 1996-11-19 Mitsubishi Paper Mills Limited Ink jet recording sheet and process for its production
CA2183723C (en) 1995-08-21 2006-11-21 Bo Liu Ink jet recording material and producing process thereof
US6086700A (en) * 1996-09-05 2000-07-11 Agfa-Gevaert N.V. Transparent media for phase change ink printing
US5756226A (en) * 1996-09-05 1998-05-26 Sterling Diagnostic Imaging, Inc. Transparent media for phase change ink printing
US5966150A (en) * 1996-11-27 1999-10-12 Tektronix, Inc. Method to improve solid ink output resolution
AU6281399A (en) 1998-10-02 2000-04-26 Cabot Corporation Silica dispersion, coating composition and recording medium
JP3300680B2 (ja) 1999-02-26 2002-07-08 日本製紙株式会社 インクジェット記録用紙
DE69909947T2 (de) 1998-12-02 2004-02-12 Nippon Paper Industries Co. Ltd. Tintenstrahlaufzeichnungsblatt mit einer Bildschutzschicht
EP1016546B1 (en) 1998-12-28 2004-05-19 Nippon Paper Industries Co., Ltd. Ink-jet recording paper containing silica layers and method for its' manufacture
JP2000263923A (ja) 1999-03-17 2000-09-26 Mitsubishi Paper Mills Ltd インクジェット記録シート
JP2001096911A (ja) 1999-10-04 2001-04-10 Konica Corp インクジェット記録用紙
TW200307022A (en) * 2002-03-19 2003-12-01 W R Grance & Co Conn Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom
TWI349024B (en) * 2002-03-19 2011-09-21 Grace W R & Co Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom
TWI339643B (en) * 2002-03-19 2011-04-01 Grace W R & Co Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom
US6896942B2 (en) * 2002-04-17 2005-05-24 W. R. Grace & Co. -Conn. Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom

Also Published As

Publication number Publication date
DK1490234T3 (da) 2007-12-03
KR20040094827A (ko) 2004-11-10
CN1655948A (zh) 2005-08-17
PL372376A1 (pl) 2005-07-25
JP2005520720A (ja) 2005-07-14
US20030180478A1 (en) 2003-09-25
ATE368578T1 (de) 2007-08-15
NO20044423L (no) 2004-12-17
US6902780B2 (en) 2005-06-07
DE60315273T2 (de) 2008-04-17
TW200304899A (en) 2003-10-16
TWI339643B (en) 2011-04-01
AR039023A1 (es) 2005-02-02
DE60315273D1 (de) 2007-09-13
EP1490234B1 (en) 2007-08-01
PT1490234E (pt) 2007-10-17
ZA200408091B (en) 2005-05-30
RU2004130835A (ru) 2005-05-10
KR101003264B1 (ko) 2010-12-21
ES2290446T3 (es) 2008-02-16
IL164139A0 (en) 2005-12-18
CN100343074C (zh) 2007-10-17
AU2003220419A1 (en) 2003-10-08
BR0308558A (pt) 2005-02-22
WO2003080358A1 (en) 2003-10-02
EP1490234A1 (en) 2004-12-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL205930B1 (pl) Arkusz i kompozycja powlekająca
EP1497137B1 (en) Coating composition containing colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom
JP5054777B2 (ja) 増強させた印刷性能のための多機能紙
US6893691B2 (en) Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom
EP1487642B2 (en) Coating composition comprising colloidal silica and glossy ink jet recording sheets prepared therefrom
KR20050016311A (ko) 콜로이드성 실리카를 포함하는 코팅 조성물 및 이로부터제조된 광택이 있는 잉크 제트 기록 시이트

Legal Events

Date Code Title Description
RECP Rectifications of patent specification
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 20130319