NL1029645C2 - Inrichting en werkwijze voor het uitvoeren van röntgenanalyse. - Google Patents

Inrichting en werkwijze voor het uitvoeren van röntgenanalyse. Download PDF

Info

Publication number
NL1029645C2
NL1029645C2 NL1029645A NL1029645A NL1029645C2 NL 1029645 C2 NL1029645 C2 NL 1029645C2 NL 1029645 A NL1029645 A NL 1029645A NL 1029645 A NL1029645 A NL 1029645A NL 1029645 C2 NL1029645 C2 NL 1029645C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
energy
filter
ray
equal
rays
Prior art date
Application number
NL1029645A
Other languages
English (en)
Inventor
Gustaaf Christian Simon Brons
Petronella Emerentiana Hegeman
Original Assignee
Panalytical Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=35708551&utm_source=***_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=NL1029645(C2) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Panalytical Bv filed Critical Panalytical Bv
Priority to NL1029645A priority Critical patent/NL1029645C2/nl
Priority to EP20060014823 priority patent/EP1750118B1/en
Priority to JP2006203481A priority patent/JP5102987B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of NL1029645C2 publication Critical patent/NL1029645C2/nl

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/223Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/07Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
    • G01N2223/076X-ray fluorescence
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/10Different kinds of radiation or particles
    • G01N2223/101Different kinds of radiation or particles electromagnetic radiation
    • G01N2223/1016X-ray
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/20Sources of radiation
    • G01N2223/204Sources of radiation source created from radiated target
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/313Accessories, mechanical or electrical features filters, rotating filter disc
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2223/00Investigating materials by wave or particle radiation
    • G01N2223/30Accessories, mechanical or electrical features
    • G01N2223/316Accessories, mechanical or electrical features collimators
    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K2201/00Arrangements for handling radiation or particles
    • G21K2201/06Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

INRICHTING EN WERKWIJZE VOOR HET UITVOEREN VAN RÖNTGENANALYSE
De uitvinding betreft een inrichting voor het uitvoeren van röntgenanalyse, meer in het bijzonder analyse van röntgenfluorescentie afkomstig van een relatief klein 5 aangestraald gebied van een monster.
Röntgenfluorescentie (XRF)-spectrometrie wordt algemeen toegepast ter identificatie en bepaling van concentraties van elementen in specimen van materialen, zij het in vaste, vloeibare of poedervorm.
Op verschillende technische gebieden bestaat de wens om slechts een relatief 10 klein gebied (“microgebied”) van een te analyseren monster aan te stralen. De gewenste afmetingen van het aan te stralen microgebied liggen ter indicatie in de orde van grootte van enkele tientallen tot enkele duizenden vierkante micrometers. Met name in de halfgeleiderindustrie, waar veelal halffabrikaten worden geanalyseerd, blijft omliggende elektronica op deze wijze vrijwel onbestraald en kan het risico op 15 mogelijke beschadigingen onder invloed van röntgenstraling worden vermeden.
De uitvinding heeft tot doel om een inrichting van de in de aanhef genoemde soort te verschaffen, die aan deze wens tegemoet komt.
De inrichting volgens de uitvinding omvat daartoe een röntgenbuis en ten minste één capillaire lens voor het focusseren van de röntgenstraling in een 20 microgebied op een locatie voor een te analyseren monster, alsmede een detector voor het detecteren van röntgenfluorescentie afkomstig van het monster, waarin de inrichting verder ten minste één energie-afhankelijk filter omvat, dat in het optische pad tussen de röntgenbuis en de monsterlocatie is geplaatst, waarin het filter is ingericht voor het in aanzienlijke mate blokkeren van röntgenstraling met een energie, 25 die gelijk is aan of lager is dan een voorafbepaalde energiewaarde, een en ander zodanig dat de afmetingen van het microgebied in hoofdzaak zijn begrensd binnen voorafbepaalde toegestane waarden.
De röntgenbuis en de capillaire lens genereren tesamen een bundel röntgenstraling in een microgebied op de monsterlocatie. De uitvinding berust op het 30 inzicht dat de afmetingen van het aangestraalde gebied op de monsterlocatie energie-afhankelijk zijn: bij lagere energieën is het aangestraalde gebied groter. Door toepassing van een energie-afhankelijk filter, dat in het optische pad tussen de röntgenbuis en de monsterlocatie is geplaatst, kunnen de afmetingen van het aangestraalde gebied worden begrensd binnen voorafbepaalde toegestane waarden.
1029645 2
De instelling van de drempelwaarde van het filter bepaalt de gerealiseerde afmetingen van het aangestraalde gebied. De inrichting volgens de uitvinding heeft als verder voordeel dat diffractiepieken optredende bij een energie, die gelijk is aan of lager is dan de voorafbepaalde energiewaarde van het filter, geëlimineerd worden. Dit 5 betekent een belangrijke verbetering in de betrouwbaarheid van de uitkomst van de röntgenanalyse.
In een eerste voorkeursuitvoeringsvorm omvat het filter aluminium. De dikte van het filter is bij voorkeur kleiner dan of gelijk aan 300 micrometer. De dikte van het filter dient een optimum te bieden tussen de gewenste transmissiekarakteristieken van 10 het filter en de benodigde intensiteit per energiewaarde ter plaatse van de monsterlocatie.
In een verdere voorkeursuitvoeringsvorm is de röntgenbuis ingericht voor het genereren van een bundel röntgenstraling met een microfocus. Geschikte microfocusbuizen met laag vermogen zijn verkrijgbaar op het vakgebied.
15 In een praktische voorkeursuitvoeringsvorm is het filter in het optische pad tussen de röntgenbuis en de capillaire lens geplaatst.
Volgens weer een andere voorkeursuitvoeringsvorm is de capillaire lens een polycapillaire lens. Een polycapillaire lens is bij uitstek geschikt om de gefilterde röntgenstralingsbundel van de microfocusbuis te focusseren op de monsterlocatie.
20 De uitvinding heeft tevens betrekking op een werkwijze voor het uitvoeren van röntgenanalyse met behulp van een inrichting volgens de uitvinding, omvattende de stappen van: a) het bepalen van de gewenste maximale afmetingen voor het microgebied; b) het bepalen van de energie van de röntgenstraling behorende bij de 25 gewenste maximale afmetingen voor het microgebied; c) het selecteren van een filter, dat is ingericht voor het in aanzienlijke mate blokkeren van röntgenstraling met een energie, die gelijk is aan of lager is dan een voorafbepaalde energiewaarde, waarbij de energiewaarde in hoofdzaak gelijk wordt gekozen aan de in stap b) bepaalde energie.
30 Met behulp van de werkwijze volgens de uitvinding kan voor elke toepassing een geschikt filter worden geselecteerd.
Volgens een voorkeursuitvoeringsvorm omvat stap c) van de werkwijze de volgende stappen: 1029645 3 1) het selecteren van filtermateriaal dat geschikt is voor het in aanzienlijke mate blokkeren van röntgenstraling met een energie, die gelijk is aan of lager is dan de in stap b) bepaalde energie; 2) het bepalen van de transmissiekarakteristiek bij een aantal filters met 5 verschillende dikte van het geselecteerde filtermateriaal; en 3) het selecteren van een dikte voor het filtermateriaal behorende bij een voorafbepaalde waarde voor de toegestane transmissie voor röntgenstraling met een energie, die gelijk is aan de in stap b) bepaalde energie.
10 De uitvinding zal nader worden beschreven aan de hand van de tekeningen, waarin:
Figuur 1 een schema toont van een voorkeursuitvoeringsvorm van de inrichting volgens de uitvinding;
Figuren 2A in een grafiek de relatie toont tussen de spotgrootte (curve A) cq.
15 de transmissie van een voor de uitvinding geschikt filter (curve B) en de energie van de röntgenstraling; en
Figuur 2B in een grafiek de relatie illustreert tussen de transmissie en de spotgrootte.
20 Figuur 1 toont schematisch de belangrijkste componenten van inrichting 1 volgens de uitvinding in hun onderlinge samenhang. Inrichting 1 is in het algemeen bestemd voor het analyseren van materialen met behulp van XRF-spectrometrie.
Inrichting 1 omvat een röntgenbuis 2, een energie-afhankelijk filter 3, een capillaire lens 4, een monsterlocatie 5 en een röntgendetector 6.
25 Röntgenbuis 2 is bij voorkeur ingericht voor het genereren van een bundel röntgenstraling R vanuit een microfocus. Onder een microfocus wordt in het kader van deze uitvinding verstaan een brandpunt op de anode met afmetingen in de orde van enkele tientallen tot circa honderd micrometer (L+W)/2, dat op het vakgebied ook wel wordt aangeduid als “focal spot size”. Een dergelijke röntgenbuis is in de handel 30 verkrijgbaar en wordt op het vakgebied aangeduid als “microfocusbuis”. Een voorbeeld van een geschikte microfocusbuis is “Series 5000 Packaged X-Ray tubes”, in de handel gebracht door Oxford Instruments, X-Ray Technology gevestigd in Scotts Valley, Califomië, Verenigde Staten van Amerika.
1029845 4
Filter 3 is geplaatst in het optische pad tussen de röntgenbuis 2 en de capillaire lens 4. Filter 3 is ingericht voor het in aanzienlijke mate blokkeren van röntgenstraling uit bundel R met een energie, die gelijk is aan of lager is dan een voorafbepaalde energiewaarde. De voorafbepaalde energiewaarde is afhankelijk van de gewenste 5 afmetingen voor het aan te stralen gebied in te stellen, hetgeen geïllustreerd is aan de hand van figuren 2A en 2B. Materiaal met een K-absorptie-edge, die kleiner dan of gelijk aan 2 keV is, leidt tot een gladde transmissiecurve voor het filter. Verschillende materialen voldoen aan deze eis, waaronder Aluminium, Silicium, Koolstof. De dikte van het filter ligt in het gebied tot 300 micrometer, bij voorkeur in het gebied van 50 tot 10 200 micrometer. De dikte van het filter dient gekozen te zijn als optimum tussen enerzijds de gewenste transmissiekarakteristieken en anderzijds de energie-efficiëntie van de röntgenbuis. De bundel röntgenstraling die het filter 3 doorlaat is aangeduid als Rf.
Figuur 2A toont twee curves in één grafiek: curve A illustreert de spotgrootte S 15 van de röntgenstraling bij verschillende energieën en curve B toont de transmissiekarakteristiek T van een voor de uitvinding geschikt filter. Ten behoeve van curve A is links op de verticale as de spotgrootte behorende bij het aangestraalde gebied ofwel microgebied op het monster uitgezet, uitgedrukt in micrometer Full Width Half Max (FWHM). Op de horizontale as staat de energie van de röntgenstraling, 20 uitgedrukt in kilo-elektronvolt. Uit curve A blijkt duidelijk de trend dat de spotgrootte bij toenemende energieën daalt. Ten behoeve van curve B staat op de verticale as het percentage transmissie van het filter.
De grafieken tonen metingen aan inrichting 1 volgens de uitvinding in de beschreven voorkeursuitvoeringsvorm. Filter 3 is hierin een aluminium filter met een 25 dikte van 200 micrometer.
Figuur 2B toont een grafiek met daarin curve C, die schematisch de resulterende spotgrootte illustreert van de microfocusbuis 2 op een te analyseren monster 5 na toepassing van het filter 3, zoals beschreven bij figuur 2A. Op de horizontale as staan de afmetingen van de spotgrootte S op het monster, uitgedrukt in 30 micrometer Full Width Half Max (FWHM). Langs de verticale as staat het percentage transmissie T van het filter 3.
Uit curve C is duidelijk de trend te zien dat bij een inrichting volgens de uitvinding een minimalisatie van de spotgrootte kan worden bereikt. In de 1029645 5 voorkeursuitvoeringsvorm van inrichting 1 is te zien dat het filter 3 de meeste röntgenstraling doorlaat in een spotgrootte tussen bij benadering 20 en 25 FWHM.
Middels de werkwijze volgens de uitvinding kan voor elke beoogde toepassing een geschikt filter worden geselecteerd voor een inrichting volgens de uitvinding.
5 De werkwijzestappen worden hieronder beschreven en toegelicht middels een getallenvoorbeeld.
In een eerste stap worden de gewenste maximale afmetingen Smax voor het microgebied bepaald. In het kader van het getallenvoorbeeld is de spotgrootte Smax bepaald op 35 micrometer FWHM.
10 In een tweede stap wordt de energie van de röntgenstraling behorende bij de gewenste maximale afmetingen Smax voor het microgebied bepaald. Deze Emax is rechtstreeks te herleiden uit curve A, die het verband tussen deze twee grootheden weergeeft. In het gekozen getallenvoorbeeld heeft E^* de waarde 6,7 keV.
In een derde stap wordt een filter geselecteerd, dat is ingericht voor het in 15 aanzienlijke mate blokkeren van röntgenstraling met een energie, die gelijk is aan of lager is dan EmaXt in dit getallenvoorbeeld 6,7 keV.
Het selecteren van een geschikt filter wordt volgens de uitvinding uitgevoerd aan de hand van de volgende stappen.
Allereerst dient er een keuze te worden gemaakt voor een filtermateriaal dat 20 geschikt is voor het in aanzienlijke mate blokkeren van röntgenstraling met een energie, die gelijk is aan of lager is dan Emax, in dit getailenvoorbeeld 6,7 keV. In dit voorbeeld is gekozen voor Aluminium.
Vervolgens wordt de transmissiekarakteristiek bepaald voor één of meer filters met verschillende diktes van het geselecteerde filtermateriaal. In dit voorbeeld is voor 25 een aluminium filter van 200 micrometer dikte curve B bepaald.
Om een geschikte dikte voor het filter te kiezen, dient de toegestane transmissie voor röntgenstraling met een energie Emax te worden bepaald. In dit getallenvoorbeeld is de toegestane transmissie voor 6,7 keV bij benadering 1%. Het aluminium filter van 200 micrometer dik blijkt aan dit criterium goed te voldoen.
30 Voor de volledigheid wordt opgemerkt dat de relatie tussen de spotgrootte S en de energie E tevens afhankelijk is van het capillair 4. Curve A en C dienen derhalve voor elke configuratie van inrichting 1 afzonderlijk te worden bepaald.
1029645 6
Capillaire lens 4 focusseert de bundel RF in een bundel Rf+l op de monsterlocatie 5. Lens 4 kan zowel een poly- als een monocapillaire lens zijn. Diverse geschikte capillaire lenzen zijn in de handel verkrijgbaar.
In bedrijf straalt inrichting 1 een relatief klein gebied (“microgebied”) aan van 5 een monster op de monsterlocatie 5. De afmetingen van het aangestraalde microgebied zijn rechtstreeks te herleiden uit afmetingen van de spotgrootte in micrometer FWHM. Hiervoor kan de volgende op het vakgebied bekende relatie worden gebruikt: FWHM/2,36 = sigma 10 waarin 6*sigma de zogenaamde “footprint” weergeeft, d.w.z. de afmetingen van het gebied op het monster waarbinnen 99,7 % van de röntgenstraling valt.
De spotgrootte tussen bij benadering 20 en 25 FWHM leidt tot een footprint tussen respectievelijk 50 en 60 micrometer. Afmetingen van het aangestraalde gebied 15 ofwel microgebied in de orde van grootte van 50 x 50 micrometer zijn derhalve haalbaar met de hierin beschreven uitvoeringsvorm. Dit maakt inrichting 1 bijzonder geschikt voor analyse van de samenstelling van zogenaamde wafels (“wafers”) in de halfgeleiderindustrie.
De inrichting volgens de uitvinding heeft als verder belangrijk voordeel dat in 20 het algemeen de diffractiepieken worden geëlimineerd, die optreden bij energiewaarden, welke in het energiegebied vallen dat door het filter grotendeels wordt geblokkeerd. In de getoonde en beschreven voorkeursuitvoeringsvorm van inrichting 1 wordt bijvoorbeeld de diffractiepiek geëlimineerd, die optreedt bij een monster Si(100), die normaliter zichtbaar is bij 5,5 keV.
25 De detector 6 is ingericht voor het detecteren van röntgenfluorescentie F
afkomstig van het aangestraalde gebied in het monster. Diverse geschikte röntgendetectoren zijn in de handel verkrijgbaar.
Opgemerkt wordt dat inrichting 1 is beschreven in het kader van Energy Dispersive (ED) XRF. Het zal voor een deskundige op het vakgebied echter duidelijk 30 zijn dat de uitvinding daar niet toe beperkt is, maar dat deze ook zeer goed toepasbaar is bij Wavelength Dispersive (WD) XRF. In figuur 1 dient dan bijvoorbeeld een analysatorkristal (niet getoond) in het optische pad tussen de monsterlocatie 5 en de detector 6 te worden geplaatst.
1029645 7
De uitvinding is tenslotte uitdrukkelijk niet beperkt tot de beschreven en getoonde uitvoeringsvorm. Met name is naast de beschreven combinatie van een microfocusbuis met een polycapillaire lens ook de combinatie van een standaard röntgenbuis met een capillaire lens denkbaar, hoewel deze energetisch minder 5 efficiënt is.
De uitvinding strekt zich derhalve in het algemeen uit tot elke uitvoeringsvorm die valt binnen de reikwijdte van de bijgevoegde conclusies bezien in het licht van de voorgaande beschrijving en tekeningen.
10 .(0 29 6 4 5

Claims (8)

1. Inrichting (1) voor het uitvoeren van röntgenanalyse, omvattende een 5 röntgenbuis (2) en ten minste één capillaire lens (4) voor het focusseren van de röntgenstraling in een microgebied op een locatie (5) voor een te analyseren monster, alsmede een detector (6) voor het detecteren van röntgenfluorescentie afkomstig van het monster, waarin de inrichting verder ten minste één energie-afhankelijk filter (3) omvat, dat in het optische pad tussen 10 de röntgenbuis en de locatie (5) is geplaatst, waarin het filter is ingericht voor het in aanzienlijke mate blokkeren van röntgenstraling met een energie, die gelijk is aan of lager is dan een voorafbepaalde energiewaarde (Emax), een en ander zodanig dat de afmetingen van het microgebied (Smax) in hoofdzaak zijn begrensd binnen voorafbepaalde toegestane waarden. 15
2. Inrichting volgens conclusie 1, waarin het filter (3) aluminium omvat.
3. Inrichting volgens conclusie 1 of 2, waarin de dikte van het filter (3) kleiner dan of gelijk is aan 300 micrometer. 20
4. Inrichting volgens één der voorgaande conclusies, waarin het filter (3) in het optische pad tussen de röntgenbuis (2) en de capillaire lens (4) is geplaatst.
5. Inrichting volgens één der voorgaande conclusies, waarin de röntgenbuis (2) 25 een microfocusbuis is.
6. Inrichting volgens één der voorgaande conclusies, waarin de capillaire lens (4) een polycapillaire lens is.
7. Werkwijze voor het uitvoeren van röntgenanalyse met behulp van een inrichting (1) volgens een van de voorgaande conclusies, omvattende de stappen van: a) het bepalen van de gewenste maximale afmetingen (Smax) voor het microgebied; 1029645 b) het bepalen van de energie (Emax) van de röntgenstraling behorende bij de gewenste maximale afmetingen (Sm») voor het microgebied; c) het selecteren van een filter (3), dat is ingericht voor het in aanzienlijke mate blokkeren van röntgenstraling met een energie, die gelijk is aan of 5 lager is dan een voorafbepaalde energiewaarde, waarbij de energiewaarde in hoofdzaak gelijk wordt gekozen aan de in stap b) bepaalde energie (Emax).
8. Werkwijze volgens conclusie 7, waarbij stap c) omvat: 1. het selecteren van filtermateriaal dat geschikt is voor het in aanzienlijke mate blokkeren van röntgenstraling met een energie, die gelijk is aan of lager is dan de in stap b) bepaalde energie (Ε^); 2. het bepalen van de transmissiekarakteristiek (curve 5) bij een aantal filters met verschillende dikte van het geselecteerde filtermateriaal; en 15 3. het selecteren van een dikte voor het filtermateriaal behorende bij een voorafbepaalde waarde voor de toegestane transmissie voor röntgenstraling met een energie, die gelijk is aan de in stap b) bepaalde energie (Emax). i 1029845
NL1029645A 2005-07-29 2005-07-29 Inrichting en werkwijze voor het uitvoeren van röntgenanalyse. NL1029645C2 (nl)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1029645A NL1029645C2 (nl) 2005-07-29 2005-07-29 Inrichting en werkwijze voor het uitvoeren van röntgenanalyse.
EP20060014823 EP1750118B1 (en) 2005-07-29 2006-07-17 Method for performing x-ray analysis
JP2006203481A JP5102987B2 (ja) 2005-07-29 2006-07-26 X線分析を実施する装置および方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1029645A NL1029645C2 (nl) 2005-07-29 2005-07-29 Inrichting en werkwijze voor het uitvoeren van röntgenanalyse.
NL1029645 2005-07-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL1029645C2 true NL1029645C2 (nl) 2007-01-30

Family

ID=35708551

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1029645A NL1029645C2 (nl) 2005-07-29 2005-07-29 Inrichting en werkwijze voor het uitvoeren van röntgenanalyse.

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP1750118B1 (nl)
JP (1) JP5102987B2 (nl)
NL (1) NL1029645C2 (nl)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108709898A (zh) * 2018-04-23 2018-10-26 浙江工业大学 基于组合x射线毛细管的微束x射线荧光分析***
CN115389538B (zh) * 2022-08-09 2023-12-29 深圳市埃芯半导体科技有限公司 X射线分析装置及方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0639766A1 (en) * 1993-08-20 1995-02-22 Oxford Analytical Instruments Limited X-ray fluorescence inspection apparatus
EP1170755A1 (en) * 1999-10-18 2002-01-09 Muradin Abubekirovich Kumakhov Integral lens for high energy particle flow, method for producing such lenses and use thereof in analysis devices and devices for radiation therapy and lithography
US20030142781A1 (en) * 2002-01-31 2003-07-31 Naoki Kawahara X-ray fluorescence spectrometer for semiconductors
JP2003329621A (ja) * 2002-05-15 2003-11-19 Shimadzu Corp 微小部蛍光x線分析装置
WO2004008128A1 (de) * 2002-07-10 2004-01-22 Elisabeth Katz Röntgenfluoreszenzanalyse mittels einem an die quelle und an den detektor angeschlossenen hohlleiter

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4133923B2 (ja) * 2004-05-07 2008-08-13 株式会社島津製作所 ポリキャピラリレンズ

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0639766A1 (en) * 1993-08-20 1995-02-22 Oxford Analytical Instruments Limited X-ray fluorescence inspection apparatus
EP1170755A1 (en) * 1999-10-18 2002-01-09 Muradin Abubekirovich Kumakhov Integral lens for high energy particle flow, method for producing such lenses and use thereof in analysis devices and devices for radiation therapy and lithography
US20030142781A1 (en) * 2002-01-31 2003-07-31 Naoki Kawahara X-ray fluorescence spectrometer for semiconductors
JP2003329621A (ja) * 2002-05-15 2003-11-19 Shimadzu Corp 微小部蛍光x線分析装置
WO2004008128A1 (de) * 2002-07-10 2004-01-22 Elisabeth Katz Röntgenfluoreszenzanalyse mittels einem an die quelle und an den detektor angeschlossenen hohlleiter

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
NIKITINA S V ET AL: "X-ray fluorescence analysis on the base of polycapillary Kumakhov optics", REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, AMERICAN INSTITUTE OF PHYSICS, US, vol. 70, no. 7, July 1999 (1999-07-01), pages 2950 - 2956, XP012037536, ISSN: 0034-6748 *
PATENT ABSTRACTS OF JAPAN vol. 2003, no. 12 5 December 2003 (2003-12-05) *

Also Published As

Publication number Publication date
JP5102987B2 (ja) 2012-12-19
JP2007040992A (ja) 2007-02-15
EP1750118A1 (en) 2007-02-07
EP1750118B1 (en) 2013-03-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7949092B2 (en) Device and method for performing X-ray analysis
US9746433B2 (en) X-ray fluorescence spectrometer and X-ray fluorescence analyzing method
RU2339974C2 (ru) Волновая дисперсивная рентгенофлуоресцентная система с использованием фокусирующей оптики для возбуждения и фокусирующий монохроматор для собирания
EP3239701B1 (en) Grazing incidence x-ray fluorescence spectrometer and grazing incidence x-ray fluorescence analyzing method
JP5100063B2 (ja) X線分析装置
Nasdala et al. Irradiation damage in monazite-(Ce): an example to establish the limits of Raman confocality and depth resolution
NL1029645C2 (nl) Inrichting en werkwijze voor het uitvoeren van röntgenanalyse.
US10705036B2 (en) Method and system for analysis of objects
Sanyal et al. Drastic improvement in detection limits in energy dispersive X-ray fluorescence geometry utilizing micro-focused bremsstrahlung excitation in thin-film sample specimen
US6479818B1 (en) Application of x-ray optics to energy dispersive spectroscopy
CN114424054A (zh) 用于确定多晶产品的材料特性的设备和方法
Ide-Ektessabi et al. Chemical state imaging of iron in nerve cells from a patient with Parkinsonism-dementia complex
TWI827060B (zh) 全反射螢光x射線分析裝置
WO2022118585A1 (ja) 全反射蛍光x線分析装置
JP4630978B2 (ja) 多層薄膜の分析方法ならびに装置
Jonnard X-ray spectroscopy of lithium
KR20150118228A (ko) 엑스선용 평행빔 광학소자
Lau et al. Innovative Nondestructive Compositional Mapping of Trace-Elements and Contaminants at Micron-Scale in Wafers and Packaging
KR20160116249A (ko) X-선 형광분석법을 이용한 토양 내 불소 농도 분석방법
Kotnala et al. High throughput optical tweezers system for multiparametric analysis of nanoparticles
Vis A comparison between the use of MeV ion beams and synchrotron radiation for element analysis

Legal Events

Date Code Title Description
PD2B A search report has been drawn up