NL1018377A1 - Toestel voor meten van een brandpunt van een belichtingssysteem gebruikt voor vervaardiging van een halfgeleiderinrichting. - Google Patents

Toestel voor meten van een brandpunt van een belichtingssysteem gebruikt voor vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.

Info

Publication number
NL1018377A1
NL1018377A1 NL1018377A NL1018377A NL1018377A1 NL 1018377 A1 NL1018377 A1 NL 1018377A1 NL 1018377 A NL1018377 A NL 1018377A NL 1018377 A NL1018377 A NL 1018377A NL 1018377 A1 NL1018377 A1 NL 1018377A1
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
focus
measuring
manufacturing
semiconductor device
system used
Prior art date
Application number
NL1018377A
Other languages
English (en)
Other versions
NL1018377C2 (nl
Inventor
Young-Chang Kim
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of NL1018377A1 publication Critical patent/NL1018377A1/nl
Application granted granted Critical
Publication of NL1018377C2 publication Critical patent/NL1018377C2/nl

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
    • G03F9/7026—Focusing

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
NL1018377A 2000-07-27 2001-06-25 Toestel voor meten van een brandpunt van een belichtingssysteem gebruikt voor vervaardiging van een halfgeleiderinrichting. NL1018377C2 (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20000043304 2000-07-27
KR1020000043304A KR100341479B1 (ko) 2000-07-27 2000-07-27 반도체 노광 장비의 포커스 측정 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL1018377A1 true NL1018377A1 (nl) 2002-01-29
NL1018377C2 NL1018377C2 (nl) 2003-12-30

Family

ID=19680246

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1018377A NL1018377C2 (nl) 2000-07-27 2001-06-25 Toestel voor meten van een brandpunt van een belichtingssysteem gebruikt voor vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6549023B2 (nl)
KR (1) KR100341479B1 (nl)
NL (1) NL1018377C2 (nl)
TW (1) TW535246B (nl)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8089663B2 (en) * 2007-12-12 2012-01-03 Lexmark International, Inc. Detachable transparent plate for scan head assembly
CN114185248A (zh) * 2020-09-14 2022-03-15 刘大有 无光罩曝光机的晶片偏移校正方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56125831A (en) * 1980-03-07 1981-10-02 Hitachi Ltd Z-sensor in electron beam patterning device
US6088113A (en) * 1998-02-17 2000-07-11 Samsung Electronics Co., Ltd. Focus test mask for projection exposure system, focus monitoring system using the same, and focus monitoring method
JP2000227326A (ja) * 1998-12-02 2000-08-15 Nikon Corp 平坦度測定装置
JP3615412B2 (ja) * 1999-03-02 2005-02-02 株式会社ミツトヨ フォーカス検出ユニットおよびそれを備えた光学式測定機

Also Published As

Publication number Publication date
TW535246B (en) 2003-06-01
KR100341479B1 (ko) 2002-06-21
US20020030496A1 (en) 2002-03-14
US6549023B2 (en) 2003-04-15
KR20020009805A (ko) 2002-02-02
NL1018377C2 (nl) 2003-12-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL1019851A1 (nl) Werkwijze en inrichting voor het bepalen van optische maskerregels met gebruik van scatterometrie.
NL1021853A1 (nl) Werkwijze voor het inspecteren van een belichtingsinrichting, een belichtingswerkwijze voor het corrigeren van een brandpunt, en een werkwijze voor het vervaardigen van een halfgeleiderinrichting.
DE60030208T8 (de) Waferinspektionsvorrichtung
NL1011017A1 (nl) Inrichting voor het positioneren van een wafer.
NL1027187A1 (nl) Een masker voor inspectie van een belichtingsinrichting, een werkwijze voor inspectie van een belichtingsinrichting, en een belichtingsinrichting.
NL1027195A1 (nl) Belichtingsinrichting en werkwijze voor het meten van de Müller matrix van het optisch samenstel van belichtingsinrichtingen.
SG120052A1 (en) Optical element holding device for exposure apparatus
DK1253440T3 (da) Indretning til at bestemme positionen af en pattekop på et dyr
DE60142157D1 (de) Vorrichtung einer ultraschallbildgebung
DE60232568D1 (de) Belichtungsapparat
HK1113899A1 (en) In-situ adapter for an analyte testing device
DE60317088D1 (de) Optische Vorrichtung, Belichtungsapparat, und Herstellungsmethode für Halbleiterbauteile
DE60134908D1 (de) Kalibrierung für ein Bilderzeugungsgerät
NL1021335A1 (nl) Inrichting en werkwijze voor het verwerken van een uitvoer van een beeldsensor.
DE60128975D1 (de) Mikrolithographischer Projektionsapparat
DE60223128D1 (de) Messgerät fur vehikel
KR960035614U (ko) 반도체 소자테스트용 금속트레이 유니트
DE60108573D1 (de) Vorrichtung zur Planheitsmessung an Bändern
DE60138509D1 (de) Referenzplatte für einen Belichtungsapparat
DE60042380D1 (de) Entwicklungsgerät für Bilderzeugungsgerät
NL1024195A1 (nl) Inspectiewerkwijze voor een belichtingsinrichting en een belichtingsinrichting.
DE60000495D1 (de) Entwicklungsgerät für einen Bilderzeugungsapparat
NL1018377A1 (nl) Toestel voor meten van een brandpunt van een belichtingssysteem gebruikt voor vervaardiging van een halfgeleiderinrichting.
NL1022655A1 (nl) Werkwijze voor het meten van aberraties van een optisch projectiesysteem.
NL1022544A1 (nl) Lithografiewerkwijze met meervoudige belichting en systeem voor het verschaffen van een verbeterde overlappingsnauwkeurigheid.

Legal Events

Date Code Title Description
AD1A A request for search or an international type search has been filed
RD2N Patents in respect of which a decision has been taken or a report has been made (novelty report)

Effective date: 20031028

PD2B A search report has been drawn up
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee

Effective date: 20150101