MXPA99008508A

MXPA99008508A - Bases que contienen nitrogeno fotoactivables, basadas en alfa-amino alkenos

Info

Publication number: MXPA99008508A
Application number: MXPA/A/1999/008508A
Authority: MX
Inventors: Colm Turner Sean; Baudin Gisele
Original assignee: Ciba Specialty Chemicals Holding Inc
Priority date: 1997-03-18
Filing date: 1999-09-17
Publication date: 2000-02-02

Abstract

La presente invención se refiere:a compuestos orgánicos que tienen un peso molecular inferior a 1000, que comprenden al menos una unidad estructural de la fórmula (I), en donde R, es un radical aromático o heteroaromático capaz de absorber luz en el rango de longitud de onda desde 200 a 650 nm y al hacerlo logra ruptura del enlace carbono-nitrógeno adyacente. Los compuestos representan fotoiniciadores para reacciones catalizables con base. Otros objetivos de la invención son composiciones entrelazables o polimerizables con base, que comprenden compuestos con una unidad estructural de la fórmula (I), un método para implementar reacciones catalizables con base, inducidas fotoquímicamente, y el uso de los compuestos como fotoiniciadores para reacciones catalizadas con base.

Description

BASES QUE CONTIENEN NITRÓGENO FOTOACTIVAB ES, BASADAS EN a-AMINO ALQUENOS La invención se refiere a a-amino alquenos que pueden convertirse fotoquimicamente en derivados amidina, a un procedimiento para su preparación y a un procedimiento para la preparación fotoquímica de los derivados amidina. Adicionales objetivos de la invención son composiciones entrelazables o polimerizables - base, que comprenden estos a-amino alquenos, a un método para implementar reacciones fotoquimicamente inducidas, catalizadas con base, y el uso de los a-amino alquenos como fotoiniciadores para reacciones catalizadas con base. La generación fotolitica de bases y reacciones de fotopolimerización con éstas bases, ya se han descrito, empleándose diversos tipos de compuestos fotolábiles, son ejemplos carbamatos (Cameron y colaboradores, Patente de los E.U.A. 5 545 509 y las referencias ahi citadas; Cameron y Frechet, J. Am. Chem. Soc. (1991)113,4303), o-ceto carbamatos (Cameron y colaboradores, J. Am. Chem. Soc. (1996), 118,12925), 0-aciloximas (Tsunooka y colaboradores, J. Polymer Sci.: Parte A: Polymer Chem. (1994), 32, 2177), formamidas (Nishi ubo y colaboradores, Polym. J. (1993)25,421; ídem, J. Polymer Sci . : Parte A: Polymer Chem. (1993), 31,3013), complejos co-amina (C. Kutal y colaboradores, J. Electroc em. Soc. (1987), 134, 2280).

Las reacciones de eliminación de ?-hidrógeno intramolecular fotoquímico en olefinas se conoce pero no está bien descritas como las correspondientes reacciones de compuestos carbonilo (ver V. Sreedhara Rao, A.K. Chandra, J. Photoc em. Photobiol . A Chem. 101(1996), 189 y las referencias ahí citadas) . Correspondientes reacciones térmicas de olefinas se describen mucho mejor por ejemplo por J.-L. Ripoll, Yvallée en Synthesis (1993) , 659 y las referencias ahí citadas . Sorprendentemente, ahora se ha encontrado que ciertas a-amino alquenos que comprenden una unidad estructural de la fórmula (I) libera un grupo amidina ante exposición a luz visible o luz UV. Este grupo amidina es suficientemente básico para iniciar una gran cantidad de reacciones catalizables con base, especialmente reacciones de polimerización. Los compuestos son de alta sensibilidad y a través de la selección del substituyente R el espectro de absorción puede variarse en un amplio rango.

Los compuestos hacen posible preparar los así denominados sistemas de un solo recipiente con oligómeros o monómeros catalizables por base, que tienen una vida útil de almacenamiento extremadamente prolongada . Una reacción de polimerización, por ejemplo se inicia solo después de exposición a la luz. Los sistemas pueden formularse con poco o ningún solvente, ya que los compuestos pueden disolverse en los monómeros u oligómeros, sin ser afectados. El catalizador activo se forma solo después de exposición a la luz. Estos sistemas con monómeros u oligómeros catalizables con base pueden emplearse para numerosos propósitos tales como para acabados, revestimientos, compuestos de moldeo o reproducciones fotolitográficas . La invención por lo tanto proporciona compuestos orgánicos que tienen un peso molecular inferior a 1000, que comprenden al menos una unidad estructural de la fórmula (I) (I) , en donde Rx es un radical aromático o heteroaromático capaz de absorber luz en el rango de longitud de onda desde 200 a 650 nm y al hacerlo logra ruptura del enlace carbono-nitrógeno adyacente. Por radicales aromáticos o heteroaromáticos Rx se entienden aquellos que se ajustan a la Regla de Hückel 4n+2. Los máximos de absorción pueden variarse dentro de un amplio rango a través de la selección del radical aromático o heteroaromático Rx y de esta manera la fotosensibilidad de los compuestos puede desplazarse desde la región UV a la de la luz del día. Se da preferencia a compuestos orgánicos en donde la unidad estructural de la fórmula (I) comprende compuestos de la fórmula (II) (ll), en donde x es un radical aromático o heteroaromático capaz de absorber luz en el rango de longitud de onda desde 200 a 650 nm y al hacerlo logra ruptura del enlace carbono-nitrógeno adyacente; R2 y R3 independientemente entre sí son hidrógeno, alquilo con 1 a 18 átomos de carbono, alquenilo con 3 a 18 átomos de carbono, alquinilo con 3 a 18 átomos de carbono, o fenilo y si R2 es hidrógeno o alquilo con 1 a 18 átomos de carbono, R3 es adicionalmente es un grupo -CO-R14 en donde R14 es alquilo con 1 a 18 átomos de carbono o fenilo; Rs es alquilo con 1 a 18 átomos de carbono o NR15R16; R4, R6í R7/ R15 y R16 independientemente entre sí son hidrógeno o alquilo con 1 a 18 átomos de carbono o R4 y R6, juntos forman un puente alquileno con 2 a 12 átomos de carbono o R5 y R7, independientemente de R4 y R6, juntos forman un puente alquileno con 2 a 12 átomos de carbono o si R5 es NRi5R16/ R16 y R7 juntos forman un puente alquileno con 2 a 12 átomos de carbono; R17 es hidrógeno o alquilo con 1 a 18 átomos de carbono; R18 es hidrógeno, alquilo con 1 a 18 átomos de carbono o fenilo substituido con alquilo con 1 a 18 átomos de carbono, vinilo, alquenilo con 3 a 18 átomos de carbono, alquinilo con 3 a 18 átomos de carbono, haloalquilo con 1 a 18 átomos de carbono, fenilo, N02, OH, CN, OR10, SR10, C(0)Rn, C(0)0R12 o halógeno; y R?o, Rn Y Ri2 son hidrógeno o alquilo con 1 a 18 átomos de carbono .

Alquilo en los diversos radicales que tiene hasta 18 átomos de carbono, es un radical ramificado o sin ramificar tal como metilo, etilo, propilo, isopropilo, n-butilo, sec-butilo, isobutilo, ter-butilo, 2-etil-butilo, n-pentilo, isopentilo, 1-metilpentilo, 1 , 3-dimetilbutilo, n-hexilo, 1-metilhexilo, n-heptilo, isoheptilo, 1,1,3,3-tetrametilbutilo, 1-metilheptilo, 3-metilheptilo, n-octilo, 2 - et ilhexilo , 1 , 1 , 3 - tr imet ilhexi lo , 1,1,3,3-tetrametilpentilo, nonilo, decilo, undecilo, 1-metilundecilo, dodecilo, 1, 1, 3 , 3 , 5 , 5 -hexametilhexilo, tridecilo, tetradecilo, pentadecilo, hexadecilo, heptadecilo, octadecilo. Se da preferencia a alquilo que tiene 1 a 12, especialmente 1 a 6 átomos de carbono. Alquenilo que tiene 3 a 18 átomos de carbono es un radical ramificado o sin ramificar, tal como propenilo, 2-butenilo, 3-butenilo, isobutenilo, n-2 , 4-pentadienilo, 3-metil-2-butenilo, n-2-octenilo, n-2-dodecenilo, iso-dodecenilo, oleilo, n-2-octadecenilo o n-4-octadecenilo. Se da preferencia -a alquenilo que tiene 3 a 12, especialmente 3 a 6 átomos de carbono. Alquinilo que tiene 3 a 18 átomos de carbono es un radical ramificado o sin ramificar tal como propinilo ( - CH2 - C = CH ) , 2-butinilo, 3-butinilo, n-2-octinilo, o n-2-octadecinilo . Se da preferencia a alquinilo que tiene 3 a 12, especialmente 3 a 6 átomos de carbono.

Ejemplos de puentes alquileno con 2 a 12 átomos de carbono son etileno, propileno, butileno, pentileno, hexileno, heptileno, octileno, nonileno, decileno, undecileno o dodecileno. Se da preferencia a aquellos compuestos de la fórmula II en donde Rx es fenilo, naftilo, fenantrilo, antracilo, pirenilo, 5,6,7, 8 -tetrahidro-2-naftilo, 5 , 6 , 1, 8-tetrahidro-l-naftilo, tienílo, benzo [b] tienilo, nafto [2 , 3 -b] tienilo, tiatrenilo, dibenzofurilo, cromenilo, xantenilo, tioxantilo, fenoxatiinilo, pirrolilo, imidazolilo, pirazolilo, pirazinilo, pirimidinilo, piridazinilo, indolizinilo, isoindolilo, indolilo, indazolilo, purinilo, quinolizinilo, isoquinolilo, quinolilo, ftalazinilo, naftiridinilo, quinoxalinilo, quinazolinilo, cinolinilo, pteridinilo, carbazolilo, ß-carbolinilo, fenantridinilo, acridinilo, perimidinilo, fenantrolinilo, fenazinilo, isotiazolilo, fenotiazinilo, isoxazolilo, furazanilo, terfenilo, estilbenilo, fluorenilo o fenoxazinilo, estos radicales están sin substituir o substituidos una o más veces por alquilo con 1 a 18 átomos de carbono, alquenilo con 3 a 18 átomos de carbono, alquinilo con 3 a 18 átomos de carbono, haloalquilo con 1 a 18 átomos de carbono, N02, NR8R9, N3, OH, CN, OR10, SR10, C(0)Ru, C(0)0R12 o halógeno; o R2 es un radical de las fórmulas A o B R8, R9, R10, Ru y R12 son hidrógeno, alquilo con 1 a 18 átomos de carbono; R13 es alquilo con 1 a 18 átomos de carbono, alquenilo con 2 a 18 átomos de carbono, alquinilo con 2 a 18 átomos de carbono, haloalquilo con 1 a 18 átomos de carbono, N02, NR8R9, OH, CN, OR10, SR10, C(0)R11, C (O) OR12 o halógeno; y n es 0 o un número 1,2 o 3. Ejemplos de alquilo con 1 a 18 átomos de carbono, alquenilo con 3 a 18 átomos de carbono y alquinilo con 3 a 18 átomos de carbono ya han indicados anteriormente . Halógeno es flúor, cloro, bromo o yodo. Ejemplos de haloalquilo con 1 a 18 átomos de carbono comprenden alquilo total o parcialmente halogenado. El halógeno (halo) aquí es F, Cl, Br o I . Ejemplos son los isómeros posicionales de mono- a deca-fluoropentilo, mono-a octafluorobutilo, mono- a hexafluoropropilo, mono- a tetrafluoroetilo y mono- y difluorometilo y también los compuestos cloro, bromo e yodo, correspondientes. Se da preferencia a los radicales alquilo perfluorados. Ejemplos de estos son perfluoropentilo, perfluorobutilo, perfluoropropilo, perfluoroetilo y en particular trifluorometilo. Ejemplos del grupo NR8R9 amino son los grupos monoalquilo o dialquilamino respectivos tales como metilamino, etilamino, propilamino, butilamino, pentilamino, hexilamino, octadecilamino, dimetilamino, dietilamino, dipropilamino, diisopropilamino, di-n-butilamino, di-isobutilamino, dipentilamino, dihexilamino o dioctadecilamino . Adicionales grupos dialquilamino son aquéllos en donde los dos radicales independientemente entre sí están ramificados o sin ramificar, por ejemplo metiletilamino, metil-n-propilamino, metilisopropilamino, metil-n-butilamino, metilisobutilamino, etilisopropilamino, etil-n-butilamino, etiliso-butilamino, etil-ter-butilamino, isopropil-n-butilamino o isopropilisobutilamino . El grupo alcoxi OR10 que tiene hasta 18 átomos de carbono es un radical ramificado o sin ramificar tal como metoxi, etoxi, propoxi, isopropoxi, n-butoxi, isobutoxi, pentoxi, isopentoxi, hexoxi, heptoxi, octoxi, deciloxi, tetradeciloxi, hexadeciloxi u octadeciloxi . Se da preferencia a alcoxi que tiene 1 a 12 , especialmente 1 a 8, por ejemplo 1 a 6 átomos de carbono. Ejemplos del grupo tioalquilo SR10 son tiometilo, tioetilo, tiopropilo, tiobutilo, tiopentilo, tiohexilo, tioheptilo, tiooctilo o tiooctadecilo, siendo posible que los radicales alquilo sean lineales o ramificados.

Ejemplos del radical R1 son fenilo, naftilo, fenantrilo, antracilo, bifenililo, pirenilo, 5,6,7,8-tetrahidro-2-naftilo, 5,6,7, 8 -tetrahidro-1 -naftilo , tienilo, benzo [b] tienilo, naf o [2 , 3-b] tienilo, tiatrenilo, dibenzofurilo, cromenilo, xantenilo, tioxantilo, fenoxatiinilo, pirrolilo, imidazolilo, pirazolilo, pirazinilo, pirimidinilo, piridazinilo, indolizinilo, isoindolilo, indolilo, indazolilo, purinilo, quinolizinilo, isoquinolilo, quinolilo, ftalazinilo, naftiridinilo, quinoxalinilo, quinazolinilo, cinolinilo, pteridinilo, carbazolilo, ß-carbolinilo, fenantridinilo, acridinilo, I perimidinilo, fenantrolinilo, fenazinilo, isotiazolilo, fenotiazinilo, isoxazolilo, furazanilo, bifenilo, estil-benilo, terfenilo, fluorenilo, fenoxazinilo, metoxifenilo, 2 , 4-dimetoxifenilo, 2 , 4 , 6 -trimetoxifenilo , 3,4,5-trimetoxifenilo, bromofenilo, tolilo, xililo, mesitilo, nitrofenilo, dimetilaminofenilo, dietilaminofenilo, aminofenilo, diaminofenilo, tiometilfenilo, l-naftilo, 2-naftilo, 1-fenilamino-4-naftilo, 1-metilnaftilo, 2-metilnaftilo, l-metoxi-2-naftilo, 2-metoxi-l-naftilo, 1-dimetilamino-2-naftilo, 1, 2-dimetil-4-naftilo, 1,2-dimetil- 6-naftilo, 1 , 2-dimetil-7-naftilo, 1, 3-dimetil-6-naftilo, 1, 4-dimetil-6-naftilo, 1 , 5-dimetil-2-naftilo, 1,6-dimetil- 2-naftilo, l-hidroxi-2-naftilo, 1-hidroxi-l-naftilo, 1,4- dihidroxi-2 -naftilo, 7-fenantrilo, 1-antrilo, 2-antrilo, 9-antrilo, 3 -benzo [b] tienilo, 5-benzo [b] tienilo, 2-benzo [b] tienilo, 4 -dibenzofurilo, 4, 7-dibenzofurilo, 4-metil-7-dibenzofurilo, 2-xantenilo, 8-metil-2-xantenilo, 3-xantenilo, 2-fenoxatiinilo, 2 , 7-fenoxatiinilo, 2-pirrolilo, 3-pirrolilo, 5-metil-3 -pirrolilo, 2-imidazolilo, 4-imidazolilo, 5-imidazolilo, 2-metil-4-imidazolilo, 2-etil-4-imidazolilo, 2-etil-5-imidazolilo, 3-pirazolilo, 1-metil-3-pirazolilo, l-propil-4-pirazolilo, 2-pirazinilo, 5,6-dimetil-2 -pirazinilo, 2 - indolizinilo , 2-metil-3-isoindolilo, 2-metil-l-isoindolilo, l-metil-2-indolilo, 1-metil-3 -indolilo, 1 , 5-dimetil-2-indolilo, l-metil-3-indazolilo, 2 , 7-dimetil-8-purinilo, 2-metoxi-7-metil-8-purinilo, 2-quinolizinilo, 3 -isoquinolilo, 6-isoquinolilo, 7-isoquinolilo, isoquinolilo, 3 -metoxi-6-isoquinolilo, 2-quinolilo, 6-quinolilo, 7-quinolilo, 2-metoxi-3-quinolilo, 2-metoxi-6-quinolilo, 6-ftalazinilo, 7-ftalazinilo, 1-metoxi-6-ftalazinilo, 1, 4-dimetoxi-6-ftalazinilo, 1,8-naftríridin-2-ilo, 2-quinoxalinilo, 6-quinoxalinilo, 2,3-dimetil-6-quinoxalinilo, 2 , 3 -dimetoxi-6-quinoxalinilo, 2-quinazolinilo, 7-quinazolinilo, 2 -dimetilamino-6-quinazolinilo, 3-cinolinilo, 6-cinolinilo, 7-cinolinilo, 3-metoxi-7-cinolinilo, 2-pteridinilo, 6-pteridinilo, 7-pteridinilo, 6, 7-dimetoxi-2-pteridinilo, 2-carbazolilo, 3-carbazolilo, 9-metil-2-carbazolilo, 9-metil-3-carbazolilo, ß-carbolin-3-ilo, l-metil-ß-carbolin-3-ilo, 1-metil-ß-carbolin-6-ilo, 3 -fenantridinilo, 2-acridinilo, 3-acridinilo, 2-perimidinilo, l-metil-5-perimidinilo, 5-fenantrolinilo, 6-fenantrolinilo, 1-fenanzinilo, 2-fenanzinilo, 3 -isotiazolilo, 4-isotiazolilo, 5-isotiazolilo, 2-fenotiazinilo, 3-fenotiazinilo, 10-metil-3-fenotiazinilo, 3-isoxazolilo, 4-isoxazolilo, 5-isoxazolilo, 4-metil-3-furazanilo, 2-fenoxazinilo o 10-metil-2-fenoxazinilo . Rx de preferencia particularmente es fenilo, naftilo, pirenilo, tioxantilo o fenotiazinilo, estos radicales están sin substituir o substituidos una o más veces por alquilo con 1 a 18 átomos de carbono, haloalquilo con 1 a 18 átomos de carbono, NR8R9, CN, N02, N3 SR10, o OR10, o Ri es un radical de las fórmulas anteriormente mencionadas A o B. Adicionales compuestos particularmente preferidos son aquellos en donde R± es fenilo, pirenilo o naftilo, sin substituir o substituidos una o más veces por CN, NR8R9, N02r CF3r SR10, o OR10, o Rx es un radical de las fórmulas anteriormente mencionadas A o B. Con particular preferencia, Rx es fenilo, 4-aminofenilo, 4-metiltiofenilo, 4-trifulorometilfenilo, 4-nitrofenilo, 2 , 4 , 6-trimetoxifenilo, 2, 4-dimetoxifenilo, naftilo, antracilo, pirenilo, o un radical de la fórmula A o anteriormente definidas.

R2' Y R3 independientemente entre sí son de preferencia hidrógeno o alquilo con 1 a 6 átomos de carbono. Igualmente se prefiere que R4 y R6 juntos sean un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono. De preferencia R5 y R7 son un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono o si R5 es NR15R16? R16 y R7 juntos son un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono. De preferencia, R17 es hidrógeno o alquilo con 1 a 4 átomos de carbono y R18 es hidrógeno, alquilo con 1 a 4 átomos de carbono o fenilo. Un grupo particularmente preferido de compuestos de la fórmula (II) son aquellos en donde Rx es fenilo, naftilo o pirenilo, estos radicales están sin substituir o están substituidos una o más veces por CN, NR8R9, N02, CF3, SR10 o 0R10, o Rx es un radical de las fórmulas A o B como se describió anteriormente; n es 0 y los radicales R8 , R9 , R10 y R13 son hidrógeno o alquilo con 1 a 6 átomos de carbono; R2 y R3 son hidrógeno o alquilo con 1 a 6 átomos de carbono; R4 , R6 y R7 independientemente entre sí son hidrógeno o alquilo con 1 a 6 átomos de carbono; R5 es alquilo con 1 a 4 átomos de carbono o NR15R16 , en donde Ris Y Ri6 sc>n hidrógeno o alquilo con 1 a 6 átomos de carbono; o K-4 Y R6 juntos forman un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono; o, independientemente de R4 y R6, R5 y R7 juntos forman un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono; o, si R5 es NR15R16, R16 y R7 juntos forman un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono; R17 es hidrógeno o alquilo con 1 a 4 átomos de carbono; y R18 es hidrógeno, alquilo con 1 a 4 átomos de carbono o fenilo. Preferencia particular se da a compuestos orgánicos de la fórmula (II) en donde Rx es fenilo o naftilo, los radicales fenilo y naftilo están sin substituir o substituidos una o más veces por CN, NR8R9, N02, CF3, SR10 o OR?0, o R-¡_ es tiantrenilo, fluorenilo o tioxantilo, o Rx es un radical de la fórmula A n es 0 y los radicales R8, R9 y R10 son hidrógeno o alquilo con 1 a 6 átomos de carbono; R2 y R3 son hidrógeno o alquilo con 1 a 6 átomos de carbono; R2 y R3 juntos forman un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono; R5 y R7 juntos forman un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono; R17 es hidrógeno; y R18 es hidrógeno o alquilo con 1 a 4 átomos de carbono.

La invención adicionalmente proporciona un procedimiento para preparar compuestos que tienen la unidad estructural de la formula (I) como se describió anteriormente, que comprende en un primer etapa, reaccionar un compuesto que comprende una unidad estructural de la fórmula (III) con un compuesto que comprende una unidad estructural de la fórmula IV en donde Halógeno es F, Cl, Br o I y Rx es como se definió en la reivindicación 1, y, en una segunda etapa, llevar a cabo una reacción de Wittig empleando una sal de fosfonio, con el producto de reacción así obtenido. Se da preferencia a un procedimiento para preparar compuestos de la fórmula (II) que comprende reaccionar un compuesto de la fórmula (V) (V)> en donde los radicales R4, R5, R6 y R7 son como se definieron anteriormente, incluyendo los significados preferidos, con un compuesto de la fórmula VI) en donde los radicales Rx , R2 y R3 son como se definieron anteriormente, incluyendo los significados preferidos, y Halógeno es F, Cl, Br o I, y en una segunda etapa, conducir una reacción de Wittig con el producto de reacción así obtenido, usando una sal fosfonio de la fórmula VII R17R18 CH-P (fenil) /X~ (VII), en donde R17 y R18 son como se definió anteriormente, incluyendo los significados preferidos, y X es F, Cl, Br, I o tetrafluoroborato . Reactivos Wittig adecuados (sales fosfonio) se obtienen comercialmente y son mencionados por ejemplo, en el Lancaster Chemical Catalogue (Catálogo Químico de Lancaster), Apéndice 1, páginas A2-A6. Ejemplos son: bromuro de metiltrifenilfosfonio, yoduro de metiltrifenilfosfonio, cloruro de etiltrifenilfosfonio, bromuro de etiltrifenilfosfonio , yoduro de etiltrifenilfosfonio, bromuro de n-propiltrifenilfosfonio, cloruro de n-butiltrifenilfosfonio, bromuro de n-butiltrif enilf os f onio , bromuro de isobutiltrif enilf osf onio , bromuro de n-amiltrif enilfosf onio, bromuro de isoamiltrif enilf osf onio, bromuro de n-hexiltrif enilf osf onio, bromuro de @n-heptiltrifenilfosfonio , bromuro de n- octiltrif enil f os f onio , bromuro de n-noniltrif enilf osf onio , bromuro de n- deciltrif enilf osf onio , bromuro de n - undec i 11 r i f eni 1 f os f onio , bromuro de n -dodeciltrif enilf osf onio , bromuro de n- tet radecil trif enilf osf onio , bromuro de n-hexadeciltrif enilfosfonio , yoduro de trimetilsililmetiltrifenilfosfonio, bromuro de 2 -dimet il aminoetil trif enilf osf onio , bromuro de 2-cloroetiltrifenilfosfonio, bromuro de 2 -hidroxietiltrifenilfosfonio , bromuro de 3 -bromopropiltrifenilfosfonio , bromuro de 4 -bromobutiltrif enilf osf onio, bromuro de 2- (l, 3 -dioxan- 2 - il ) etil rif enilf osf onio , bromuro de ciclopropilme til trif enilf osf onio , bromuro de 4 - carboxibu t i 11 r i f eni 1 f os f onio , bromuro de 4 - carboetoxibut il trif enilf osf onio , bromuro de 4 -pent enyl trif enil fosf onio , bromuro de 5-hexenil trdLf enilf os f onio , bromuro de 3-f enilpropiltrif enilf osf onio, bromuro de etilenbis ( t r i f e n i l f o s f o n i o ) , b r o m u r o d e t rime t ilenbi s ( tri fenil fos f onio ) , bromuro de tetrame ilenbis ( trif enilf osf onio) , bromuro de pent ame t i lenbi s ( tri feni 1 fos f onio ) , yoduro de isopropiltrifenilfosfonio, bromuro de 2-butiltrif enilf osf onio, bromuro de 2 -amiltrif enilf osf onio, bromuro de ciclopentiltrif enilf osf onio, bromuro de ciclohexiltrifenilfosfonio, bromuro de c i c 1 ohe t i 11 r i f e n i 1 f o s f on i o , cloruro de aliltrif enilf osf onio, bromuro de aliltrif enilf osfonio, cloruro de . aliltrif enilf osf onio, cloruro de 2-metilaliltrif enilfosfonio, cloruro de 3 -metilaliltxif enilf osf onio, bromuro de 3,3-dime t i lal il r i f eni 1 f os f onio , cloruro de 2 -bu en- 1 , 4 -bis ( trif enilf osf onio ) , cloruro de c inami ltri f enilf osf onio , bromuro de cinami ltrif enilf osf onio , bromuro de propargiltrif enilfosfonio , cloruro de benciltrif enilf osf onio, bromuro de benciltrif enilf osf onio, yoduro de benciltrif enilf osf onio, cloruro de 2-me t i 1 b en c i 11 r i f e n i 1 f o s f o i o , bromuro de 2-metilbenciltrif enilf osf onio, cloruro de 3-me t i 1 b e n c i 11 r i f e n i 1 f o s f o i o , cloruro de 4 - me t i lbenc i 11 r i f eni 1 f o s f oni o , bromuro de 4 -metilbenciltrif enilf osf onio , bromuro de 2- hidroxibenciltrif enilf osf onio, cloruro de 4-me toxibenc il trif eni 1 fos f onio , bromuro de 4 -etoxibenciltrif enilf osf onio, bromuro de 4-bu t oxi ben c i 11 r i f en i 1 f o s f on i o , cloruro de 4 -fluorobenciltrif enilf osf onio, cloruro de 4-c 1 o r ob e n c i 1 t r i f e i 1 f o s f o n i o , bromuro de 4-bromobenciltrif enilf osf onio, cloruro de 4-cianobencil trif enilf osf onio , bromuro de 4-carbometoxibenciltrif enilf osf onis, bromuro hidrato de 2 -nitrobencil trif enilf osf onio, bromuro de 4-n i t r ob e n c i 1 t r i f en i 1 f o s f on i o , bromuro de o-xililenbis (trif enilf osf onio) , cloruro de p-xililenbis ( trif enilf osf onio) , bromuro de p-xililenbis (trifenilfosfonio) , cloruro de 1 -naftilmetiltrifenilfosfonio cloruro benzhidriltrifenilfosfonio, cloruro de hidroximetiltrifenilfosfonio, cloruro de metoximetiltrifenilfosfonio, yoduro de clorometiltrifenilfosfonío, cloruro de metilthiometiltrifenilfosfonio, c 1 oruro de feniltiometiltrif enilfosfonio, cloruro de 1 ,3-ditian-2-iltrif enilsfonio, cloruro de formilmetiltrif enilf osf onio, cloruro de acetoniltrif enilfosfonio, bromuro de acetoniltrif enilfosfonio, bromuro de f enaciltrif enilf osfonio , bromuro de - me t i 1 f enac il t r i f eni 1 f os f onio , cloruro de carbomet oximet il trif enilf osf onio , bromuro de carbome toximet il trif enil fos f onio , cloruro de carboet oximet il tri fenil fos f onio , bromuro de carboetoximetiltrif enilf osf onio, bromuro de 1-carboetoxietiltrif enilf osf onio, bromuro de metil 4- (trif enilf osfonio) crotonato, tetraf luoroborato . de 1 carboetoxiciclopropiltrif enilf osf onio, cloruro de c ianomet i l t ri f enil f os f onio , anhídrido 2- (trif enilf osf oraniliden) succínico, bromuro de 9 - f 1 u o r e n i 11 r i f e n i 1 f o s f on i o , bromuro de viniltrif enilf osf onio , o bromuro de (1, 2-vinilenbis (trifenilfosfonio) . La reacción de compuestos que tienen la fórmula (V) con compuestos que tienen la fórmula VI) puede conducirse en una forma conocida per se. Ventajosamente, un solvente o mezcla de solventes se usa, ejemplos son hidrocarburos tales como benceno, tolueno, xileno, etc., hidrocarburos halogenados tales como cloruro de metileno, cloroformo, tetracloruro de carbono, clorobenceno, etc., alcanoles tales como metanol, etanol, etilen glicol monometil éter, etc., y éteres tales como dietil éter, dibutil éter, etilen glicol dimetil éter, etc., y mezclas de dichos solventes .

La reacción puede conducirse juiciosamente dentro de un rango de temperaturas desde -10°C a 100°C. Se da preferencia a temperaturas de reacción desde 10°C a 50°C. La reacción de Wittig puede llevarse a cabo en una forma convencional. Es ventajoso emplear un solvente o mezcla de solventes, e.g. hidrocarburos tales como benceno, tolueno, xileno, etc., hidrocarburos halogenados tales como cloruro de metileno, cloroformo, tetracloruro de carbono, clorobenceno, etc., alcanoles tales como metanol, etanol, etilen glicol monometil éter, etc. y éteres tales como dietil éter, dibutil éter, etilen glicol dimetil éter, etc. y mezclas de esos solventes. La reacción puede conducirse dentro de un rango de temperaturas desde -10 °C a 100°C. Se da preferencia a temperaturas de reacción desde 10°C a 70°C. En el curso de la preparación de las bases fotolatentes de la invención es posible que se formen mezclas de isómeros. Estas pueden separarse por métodos usuales familiares a la persona con destreza. En forma alterna, es posible emplear las mezclas de isómeros resultantes particulares directamente como bases fotolatentes . La invención además proporciona un procedimiento para preparar un compuesto de la fórmula (VII) R7 N (Vil), Rr R< en donde R4, R5, R6 y R7 son como se definieron anteriormente, incluyendo sus significados preferidos, que comprende exponer un compuesto de la fórmula (II) en donde los radicales Rl r Rz , R3, R4, R5, R6, R7, R17 y R18 son como se definieron anteriormente, incluyendo sus significados preferidos, a luz que tiene una longitud de onda desde 200 nm a 650 nm. La reacción se lleva a cabo convenientemente en un solvente o mezcla de solventes. La concentración de los compuestos de la fórmula (II) ventajosamente se ajusta de modo que virtualmente toda la luz se absorba en el recipiente de reacción. La solución de reacción de preferencia se agita y si se desea se enfría en el curso de la exposición. Solventes convenientes son aquellos enlistados anteriormente.

De acuerdo con la invención, los compuestos orgánicos que comprenden una unidad estructural de la fórmula I pueden emplearse como bases fotolatentes . La invención por lo tanto proporciona adicionalmente una composición que comprende A) al menos un compuesto que ' >• .2 un.. I dad estruct i.al de la fórmula (I) y B) al menos un compuesto orgánico capaz de reacción de substitución o adición catalizada por base. Se da preferencia a los compuestos orgánicos de la fórmula 'II) descrita anteriormente. La reacción de substitución o adición catalizada por base puede llevarse a cabo con compuestos de baja masa molecular (monómeros) con oligómeros, con compuestos poliméricos o con una mezcla dt • .! os , ' -stos. Ejem^Los de reacciones que pueden 1. 1 se a cabo tanto con monómeros como con oligómeros/polímeros utilizando los fotoiniciadores novedosos son la reacción de Knoevenagel o la reacción de adición de Michael. D( importancia particular son composiciones en donde el componente B) es un material orgánico entrelazable o polimerizable aniónicamente. El material orgánico puede estar en la forma de monómeros, oligómeros o polímo : mono 1 li-funcionaü s.

Sistemas oligomérico,- ?.méricuu particularmente preferidos son usuales en la industria de revestimientos. Ejemplos de estos aglutinantes o sistemas de •revestimiento catalizables por base son: a) copolímeros acrilato que tienen grupos secundarios alcoxisilano o alcoxisiloxano, por ejemplos los polímeros descritos en US-A 4,772,672 o US-A 4,444,974; b) sistemas de dos componentes que comprenden poliacrilatos que contienen grupos hidrnxilo, poliésteres y/o poliéteres y poli isocianal í.ifáticos o aromáticos, c) sistemas de dos componentes que comprenden poliacrilatos funcionales y un poliepóxido, en donde el poliacrilato contiene grupos carboxilo o anhídrido; d) sistemas de dos componentes que comprenden poliacrilatos, poliésteres y/o poliéteres que contienen grupo hidroxilo modificados con silicona o modificados con flúor y poliisocianatos alifáticos o aromáticos ,- e) sistemas de dos componentes que comprenden (poli) cetiminas y poli isocian ílifáLicos o aromáticos; f) sistemas de dos componentes que comprenden (poli) cetiminas y resinas acrilato insaturadas o resinas acetoacetato o metil a-acrilamidometilglicolato; h) sistemas de dos componentes que comprenden (poli) oxazolidinas y poliacrilatos que contienen grupos anhídrido o resinas acrilato insaturadas o poliisocianatos; i) sistemas de dos componentes que comprenden poliacrilatos epoxi funcionales y poliacrilatos que contienen grupo amino; 1) polímeros basados en id 1 gli i M éter; m) sistemas de dos con1' lites que comprenden un (poli) alcohol y un (poli) isocianato; n) sistemas de dos componentes que comprenden un compuesto carbonilo a, ß-etilénicamente insaturado y un polímero qur contiene grupos CH2 activados, siendo posible que los grupos CH„> activados estén presentes ya sea en la cadena principal o en la cadena secundaria o en ambas, como se describe por ejemplo en EP-B-O 161 697 para grupos (poli) malonato . Otros compu ^t s que ' 'nen grupos Cll activados son (poli) acetoaceta' y (poli) cianoaceíatos . Entre estos aglutinantes catalizables por base, se da preferencia particular a los siguientes: b) sistemas de dos componentes que comprenden poliacrilatos, poliésteres y/o poliéteres que contienen grupos hidroxilo y poli-isocianatos alifáticos o aromáticos; c) sistemas de dos componentes que comprenden poliacrilatos funcionales y un µolie ' lo, en dond»- el poliacrilato contiene grupos c xilo, anhídrido; i) sistemas de dos componentes que comprenden poliacri atos que contienen epoxi y poliacrilatos que contienen grupo carboxilo; m) sistemas de dos componentes que comprenden un (poli) alcohol y un (poli) isocianato; y n) sistemas de dos componentes que comprenden un compuesto carbonilo a, ß-etilénicamente insaturado y un polímero que contiene grupos CFl idivados, siendo posible que los grupos CH2 activados estén presentes, ya sea en la cadena principal o en la cadena secundaria o en ambas. Sistemas de dos componentes que comprenden un compuesto carbonilo a, ß-etilénicamente insaturado y un (poli) malonato, y su preparación, se describen en EP-B-0 161 697. El grupo malonato aquí puede conectarse en un poliuretano, poliéster, poliacrilato, resina epoxi, poliamida o polivinil polímero, ya en la cadena principal o en una cadena secundaria. h: i.ompuesto carbonilo a, ß etilénicamente insaturado empleado puede ser cualquier doble enlace activado por un grupo carbonilo. Son ejemplos esteres o amidas de ácido acrílico- o ácido metacrílico. En los grupos éster, también es posible que estén presentes grupos hidroxilo adicionales. Diésteres y triésteres también son posibles. Ejemplos típicos son hexandiol diacrilato o trimetilol-propanato triacrilato. En vez de ácido acrílico, también es posible utilizar otros ácidos y sus esteres o amidas tales como ácido Protónico o ácido cinámico. Bajo catálisis de base, los componentes del sistema reaccionan entre sí a temperatura ambiente, para formar un sistema de revestimiento entrelazado que es adecuado para numerosas aplicaciones. Debido a su buena resistencia a la intemperie inherente, son adecuados por ejemplo para aplicaciones exteriores así como y puede, si se requiere estabilizarse adicionalmente por absorbentes de UV y otros estabilizantes de luz. Otros sistemas adec ?l. >s como componente B) em las composiciones novedosas son sistemas epoxi. Resinas epoxi que son adecuadas para preparar mezclas novedosas, curables comprenden resinas epoxi como componente B) son aquéllas que son usuales en la tecnología de resina epoxi, ejemplos de estas resinas epoxi son: I) Poliglicidil y poli (ß-metilglicidil) esteres, que se obtienen al reaccionar un compuesto que tiene al menos dos grupos carboxilo en la molécula con epiclorohidrina o ß-metilepicl. . ihidrina . La reacción se lleva a cabo juiciosamente en la presencia de bases. Ya que el compuesto tiene al menos dos grupos carboxilo en la molécula, es posible utilizar ácidos policarboxílicos alifáticos. Ejemplos de estos ácidos policarboxílicos son ácido oxálico, succínico, glutárico, adípico, pimélico, subérico, azeláico o linoléico dimerizado o trimerizado. También es posible sin embargo el emplear ácidos policarboxílicos cicloalifáticos tales como ácido t e t r ahidr o f t ál ic o , 4 - me t i 11 e t r ah i dr o f t á 1 i c o , hexahidroftálico o 4-metilhfj>' ihidroit?lico . Ácidos policarboxílicos aromáticos además, pueden emplearse tales como ácido ftálico, isoftálico o tereftálico. II) Poliglicidil o poli (ß-metilglicidil ) éteres, que se obtienen al reaccionar un compuesto que tiene al menos dos grupos hidroxilo alcohólicos libres y/o grupos hidroxilo fenólicos con epiclorohidrina o ß-metilepiclorohidrina, bajo condiciones alcalinas o en la presencia de un catalizador acídico con subsecuente tratamiento alcalino. Los glicidil éteres de este tipo se derivan por ejemplo a partir de alcoholes acíclicos tales como etilen glicol, dietilen glicol y poli (oxietilen) glicoles superiores, propan-1, 2-diol o poli (oxipropilen) glicoles, pr opan - 1 , 3 - diol , bu t an - 1 , 4 - d i o 1 , poli (oxi-tetrametilen) glicoles , pentan-1 , 5-diol , hexan-1 , 6-diol , hexan-2 , 4 , 6-triol , glicerol, 1, 1, 1-trimetilolpropano, pentaeritritol, sorbitol y de poliepiclorohidrinas . También se derivan por ejemplo d" alcoholes cicloalifáticos tales como 1 , 4 - ciclohexandimetanol , bis(4-hidroxiciclohexil) -met no o 2 , 2-bis (4-hidroxiciclohexil) ropano, o poseen núcleos aromáticos tales como N, N-bis (2-hidroxietil) anilina o p,p'-bis(2-Lidroxietilamino) -difenilmetano . Los glicidil éteres también pueden derivarse por ejemplo de fenoles mononucleares tales como resorcinol o hidroquinona, o se basan en fenoles polinucleares tales como bis (4-hidroxifenil) metano, 4 , 4 ' -dihidroxibifenilo, bis (4- idroxifeníl) sulfona, 1 ,1,2, ?- tetraquis (4-hidroxifenil) etano, 1 , 2-bis (4 hidroxifenil) ropano, 2,2-bis (3 , 5 -dibromo-4 -hidroxifenil) -propano y de novolacas que se obtienen al condensar aldehidos tales como formaldehído, ?oetaldehído, cloral o furfuraldehído, con fenoles tales como fenol o con fenoles cuyos núcleos están substituidos por átomos de cloro o grupos alquilo con 1 a 9 átomos de carbono, son ejemplos 4 -clorofenol, 2 -metilfenol o 4 -terbutilfenol o por condensación con bisfenoles, aquéllos del tipo especificado anteriormente. III) Compuestos poli (N-glicidilo) que se obtienen por deshidrocloración de los productos de reacción de epiclorohidrina con aminas que contienen al menos dos aromos de hidrógeno de amina. Estas aminas por ejemplo son anilina, n-butilamina, bis (4-aminofenil) -metano, m-xililendiamina o bis (4-metilaminofenil) metano .

Los compuestos poli (N-glicidilo) también incluyen triglicidil isocianurato, derivados N, N1 -diglicidilo de cicloalquilen ureas tales como etilen urea o 1,3 -propilen urea y derivados diglicidilo de hidantoínas tales como 5,5-dimetilhidantoína. IV) Compuestos poli (S-glicidilo) , por ejemplo derivados di-S-glicidilo que se obtienen de ditioles tales como etan-1 , 2 -ditiol o bis (4-mercaptometilfenil) éter. V) Resinas epoxi cicloalifáticas por ejemplo bis (2 , 3 -epoxiciclopentil) éter, 2 , 3-epoxi-ciclopentil glicidil éter, 1 , 2 -bis (2 , 3 -epoxiciclopentiloxi) etano o 3,4-epoxiciclohexil-metil-3 ' ,4 ' -epoxiciclohexancarboxilato . Sin embargo, también es posible el utilizar resinas epoxi en donde los grupos 1,2-epóxido se conectan a diferentes heteroátomos y/o grupos funcionales; estos compuestos incluyen por ejemplo el derivado N,N,0-triglicidilo de 4-aminofenol , el glicidil éter, glicidil éster de ácido salicílico, N-glicidil -N ' - (2 -glicidiloxipropil) -5, 5 -dimetilhidantoína o 2 -glícidiloxi-1 , 3-bis (5 , 5-dimetil-l-glicidilhidantoin-3-il) propano . Mezclas de resinas epoxi también pueden emplearse como componente B) . También de acuerdo con la invención, por tanto, están composiciones que contiene como el componente B) , una resina epoxi o una mezcla de diferentes resinas epoxi.

Las composiciones comprenden el fotoiniciador, componente A) , de preferencia en una cantidad de 0.01 a 10% en peso, con base en el componente B) . Además del fotoiniciador, el componente A) , las 'mezclas fotopolimerizables pueden incluir diferentes aditivos. Ejemplos de estos son los inhibidores térmicos que se pretende eviten polimerización prematura, tales como hidroquinona, derivados hidroquinona, p-metoxifenol , ß- naftol o fenoles estéricamente impedidos, tales como 2,6- di (ter-butil) -p-cresol , por ejemplo. Para incrementar la estabilidad de almacenamiento en la oscuridad, es posible por ejemplo el utilizar compuestos de cobre, tales como naftenato, estearato u octoato de cobre, compuestos de fósforo tales como trifenilfosfina, tributilfosfina, trietil fosfito, trifenil fosfito o tribenzil fosfito, compuestos de amonio cuaternarios, tales como cloruro de tetrametilamonio o cloruro de trimetilbenzilamonio, o derivados hidroxilamina tales como N-dietilhidroxilamina . Para excluir oxígeno atmosférico durante la polimerización, es posible agregar parafina o substancias tipo cera similares que debido a su carencia de solubilidad en el polímero, migran a la superficie al inicio de la polimerización en donde forman una capa superficial transparente que evita el ingreso de aire. Es igualmente posible el aplicar una capa impermeable a oxígeno.

Estabilizantes a la luz, que pueden agregarse en una pequeña cantidad, son absorbentes de UV, tales como aquéllos por ejemplo del tipo hidroxifenilbenzotriazol , hidroxifenilbenzofenona, oxalamida o hidroxifenil-s-triazina. Compuestos individuales o mezclas de estos compuestos pueden utilizarse con o sin el uso de aminas estéricamente impedidas (HALS) . Ejemplos de estos absorbentes de UV y estabilizantes de luz, son lo siguientes: 1. 2- (2 ' -Hidroxifenil) benzotriazoles , por ejemplo 2-(2'-hidroxi-5 ' -metilfenil) benzotriazol , 2- (3 ' , 5 ' -di-ter-butil -2 ' -hidroxifenil ) benzotriazol, 2-51 -ter-butil-2 ' -hidroxifenil) benzotriazol, 2- (2 ' -hidroxi -5 ' - (1,1,3,3-tetrametilbutil) fenil) benzotriazol , 2- (3 ' , 5 ' -di-ter-butil-2 ' -hidroxifenil) -5-cloro-benzotriazol, 2- (3 ' -ter-butil-2 ' -hidroxi-5 ' -metilfenil) -5-cloro-benzotriazol , 2- (3 '-sec-butil-5 ' -ter-butil-2 ' -hidroxifenil) benzotriazol , 2- (2 ' -hidroxi -4 ' -octoxifenil) benzotriazol, 2- (3 ' , 5 ' -di-ter-amil -2' -hidroxifenil) -benzotriazol, 2- (31 ,5' -bis- ( , -dimetilbenzil) -2 ' -hidroxi-fenil) benzotriazol, una mezcla de 2 - ( 3 ' - t e r - b u t i l - 2 ' - h i d'r o x i - 5 ' - ( 2 -octiloxicarboniletil) fenil) -5-cloro-benzotriazol, 2- (3 ' -ter-butil-5 ' - [2- (2-etilhex.iloxi) carboniletil] - 2 -hidroxifenil) -5-cloro-benzotriazol , 2- (3 ' -ter-butil-2 ' -hidroxi-5 ' - (2-metoxicarboniletil) fenil) -5-cloro-benzotriazol, 2- (3 ' -ter-butil-2' -hidroxi-5' - (2 -metoxicarboniletil) fenil) benzotriazol , 2- (3 ' -ter-butil-2 ' -hidroxi-5 ' - (2-octiloxicarbonil-etil) fenil) benzotriazol , 2- (3 ' -ter-butil-5 ' - [2- (2 -et ilhexiloxi ) carboniletil] -2 ' -hidroxi -fenil) benzotriazol, 2- (3 ' -dodecil-2 ' -hidroxi-5 ' -metilfenil) -benzotriazol y 2- ( ' -ter-butil-2 ' -hidroxi-5 ' - (2-isooctiloxicarboniletil) fenilbenzotriazol, 2,2' -metilen-bis[4- (1,1,3,3 -tetrametilbutil) -6 -benzotriazol-2 -ilfenol] ; ei producto de transesterificación de 2 - [3 ' -ter-butil-5 ' - (2 -metoxicarboniletil) -2 ' -hidroxifenil] -benzotriazol con polietilen glicol 300; [R-CH2CH2-COO (CH2) 3] 2- en donde R = 3 ' -ter-butil-4 ' -hidroxi-5 ' -2H-benzotriazol-2-ilfenilo. 2. 2-Hidroxibenzofenonas , por ejemplo los derivados 4-hidroxi, 4 -metoxi, 4 -octoxi, 4-deciloxi, 4 -dodeciloxi , 4-benciloxi, 4 , 2 ', 4 ' -trihidroxi y 2 ' -hidroxi-4 , 4 ' -dimetoxi . 3. Esteres de ácidos benzoicos substituidos y sin substituir, tales como por ejemplo 4 -terbutil-fenil &alicilato, fenil salicilato, octilfenil salicilato, dibenzoil resorcinol, bis (4-ter-butilbenzoil) resorcinol, benzoil resorcinol, 2, 4-di-ter-butil-fenil 3,5-di-ter-butil-4-hidroxibenzoato, hexadecil 3 , 5-di-ter-butil-4-hidroxibenzoato, octadecil 3 , 5-di-ter-butil-4-hidroxi-benzoato y 2-metil-4 , 6-di-ter-butilfenil 3 , 5-di-ter-butil- m 4 -hidroxi -benzoato . 4. Acrilatos , por ejemplo etil o isooctil a-ciano-ß, ß-difenilacrilato, metil a-carbometpxi-cinamato, metil y butil a-ciano-ß-metil-p-metoxi-cinamato, metil a-carbometoxi-p-metoxi-cinamato y N- ( ß-carbometoxi- ß-cianovinil) -2-metilindolina . 5. Aminas estéricamente impedidas, por ejemplo bis (2 , 2 , 6 , 6 -tetrametil -piperidil) sebacato, bis (2 , 2,6,6-tetrametil -piperidil) succinato, bis(l,2,2,6, 6-pentametil-piperidil) -sebacato, bis (1, 2 , 2 , 6 , 6-pentametil-piperidil) n-but il - 3 , 5 -di - ter-but il -4 -hidroxibenzilmalonato , el condensado de 1- (hidroxietil) -2 , 2 , 6, 6-tetrametil-4-hidroxipiperidina y ácido succínico, el condensado de N,N'-bis (2 , 2 , 6 , 6 -tetrametil -4 -piperidil) hexa-metilendiamina y 4 -ter-octilamino-2 , 6 -dicloro- 1, 3 , 5 -triazina, tris (2,2,6,6-tetrametil -4 -piperidil) nitrilotriacetato , tetraquis- (2,2,6, 6 -tetrametil -4 -piperidil) -1,2,3, 4 -butan-tetraoato, 1, 1 ' - (1 , 2-etandil) -bis (3 , 3 , 5 , 5-tetrametilpiperazinona) , 4-benzoil -2,2,6,6 -tetrame ilpiperidina , 4 -esteariloxi - 2,2,6,6-tetrametil-piperidina, bis(l,2,2,6,6-pentametilpiperidil) -2 -n-butil -2 - (2 -hidroxi -3 , 5-di-ter-butilbenzil) malonato, 3-n-octil-7,7,9, 9- tetrametil-1 ,3,8-triazaespiro [4.5] decan-2 , 4 -diona, bis (1 -octiloxi -2 ,2,6,6-tetrametilpiperidil) sebacato, bis (l-octiloxi-2 ,2,6,6-tetrametilpiperidil) succinato, el condensado de N,N'-bis (2 , 2 , 6 , 6 -tetrametil - -piperidil) hexametilendiamina y 4-morfolin-2 , 6-dicloro-l, 3 , 5-triazina, el condensado de 2-cloro-4, 6-bis (4-n-butilamino-2 ,2,6, 6 -tetrametilpiperidil) -1 , 3 , 5-triazina y 1 , 2 -bis (3 -amino-propilamino) etano, el condensado de 2-cloro-4 , 6-di- (4-n-butilamino-l , 2 , 2 , 6 , -pentametilpiperidil) -1 , 3 , 5-triazina y 1 , 2-bis (3 -aminopropilamino) etano, 8 -acetil-3 -dodecil -7 ,7,9, 9 -tetrametil -1,3, 8-triazaespiro [4.5] decan-2 , 4 -diona, 3 -dodecil- 1- (2,2,6, 6 -tetrametil -4 -piperidil) pirrolidin--2 , 5 -diona, 3-dodecil-1- (1,2,2,6, 6 -pentametil -4 -piperidil) pirrolidin-2 , 5-diona. 6. Oxalamidas , por ejemplo 4 , 4 ' -dioctiloxoxanilida, 2,2'-dietoxi-oxanilida, 2, 2 ' -dioctiloxi-5, 5 ' -di-ter-butiloxanilida, 2, 2 ' -didodeciloxi-5, 5 ' -di-ter-butiloxanilida, 2 -etoxi-2 ' -etiloxanilida, N,N'-bis(3-dimetilaminopropil ) oxalamida , 2 -etoxi-5 -ter-butil-2 ' -etiloxanilida y su mezcla con 2-etoxi-2 ' -etil-5 , 4 ' -di-ter-butiloxanilida, mezclas de oxanilidas o- y p-metoxi disubstituídas y mezclas de oxanilidas de o- y p-etoxi disubstituídas . 7. 2- (2 -Hidroxifenil) -1,3, 5 -triazinas , por ejemplo 2,4,6-tris (2 -hidroxi -4 -octiloxifenil) -1,3, 5 -triazina, 2- (2-hidroxi-4 -octiloxifenil) -4, 6-bis (2, 4 -dimetilfenil) -1,3,5-triazina, 2- (2 , 4-dihidroxifenil) -4 , 6-bis (2 , 4-dimetilfenil) -1,3, 5 -triazina, 2 , 4-bis (2 -hidroxi -4 -propil -oxifenil) -6- (2 , 4 -dimetilfenil ) -1 , 3 , 5-triazina, 2 - ( 2 -hidroxi - 4 -octiloxifenil) -4 , 6-bis (4-metilfenil) -1,3, 5 -triazina, 2- (2-hidroxi-4-dodeciloxifenil) -4,6-bis(2,4 -dimetil - fenil ) -1,3, 5- triazina, 2 - [2 -hidroxi -4 - (2 -hidroxi -3 -butiloxi -propiloxi) fenil] -4, 6-bis (2, 4-dimetilfenil) -1,3, 5 -triazina, 2- [2 -hidroxi-4- (2 -hidroxi-3 -octiloxi -propiloxi) fenil] -4,6-bis (2, 4 -dimetilfenil) -1,3,5-triazina, 2- [ 4 -(dodecil/trideciloxi-2-hidroxipropiloxi) -2-hidroxi-fenil] -4 , 6-bis (2 , 4-dimetilfenil) -1,3, 5 -triazina. 8. Fosfitos y fosfonitos, por ejemplo trifenil fosfito, difenil alquil fosfitos, fenil dialquil fosfitos, tris (nonilfenil) fosfito, trilauril- fosfito, trioctadecil fosfito, diestearil pentaeritritol difosfito, tris (2, 4-di -ter-butilfenil) fosfito, diisodecil penta-eritritol difosfito, bis (2 , 4-di-ter-butilfenil) pentaeritritol difosfito, bis ( 2 , 6 - di - ter-butil - -me i 1 fenil ) -pentaeritritol difosfito, diisodeciloxipentaeritritol difosfito, bis (2 , 4-di-ter-butil-6-metilfenil) pentaeritritol difosfito, bis (2 , 4, 6-tris (ter-butil -fenil) pentaeritritol difosfito, triestearil sorbitol trifosfito, tetraquis (2 , 4 -di -ter-butilr fenil) - , 4 ' -bifenilen difosfonito, 6-isooctiloxi-2 ,4,8, 10- tetra- ter-butil - 12H-dibenz - [d, g] -1,3, 2-dioxafosfocino, 6-fluoro-2 ,4,8, 10 -tetra-ter-butil-12 -metil-dibenz- [d, g] -1,3,2 -dioxafosfocino, bis (2 , 4 -di -ter-butil-6 -metilfenil) metil fosfito, bis (2 , 4 -di-ter-butil-6-metilfenil) _e il fosfito.

Ejemplos ilustrativos de adicionales aditivos son: Rellenos y agentes de refuerzo, por ejemplo carbonato de calcio, silicatos, fibras de vidrio, perlas de vidrio, asbestos, talco, caolín, mica, sulfato de bario, óxidos e hidróxidos metálicos, negro de carbón, grafito, serrín de madera y harinas o "fibras de otros productos naturales, fibras sintéticas. Otros aditivos, por ejemplo plastificantes, lubricantes, emulsificantes, pigmentos, aditivos de reología, catalizadores, asistentes de nivelación, abrillantadores ópticos, agentes a prueba de flama, agentes antiestáticos y agentes de soplado. Además de los aditivos indicados anteriormente, también es posible que estén presentes coiniciadores adicionales. En general, estos son colorantes que mejoran el rendimiento cuántico total por ejemplo mediante transferencia de energía o transferencia de electrones. Ejemplos de colorantes convenientes que pueden agregarse como coiniciadores son triarilmetanos , por ejemplo verde malaquita, indolinas, tiazinas, por ejemplo azul de metileno,- xantonas, tioxantonas, oxazinas, acridinas o fenazinas, por ejemplo saf anina y rodaminas de la fórmula en donde R es alquilo o ar?lo; y R' es hidrógeno, un radical alquilo o arilo, por ejemplo Rhodamine B, Rhodamine 6G o Violamine R, y también Sulforhodamine B o Sulforhoda ine G. Se da preferencia a tioxantonas, oxazina, acridinas, fenanzinas y rodaminas. También son convenientes en esta conexión combinaciones decolorantes con boratos, como se describe entre otros en US 4772530, GB 2307474, GB 2307473, GB 2307472 y EP 775706. Además de los aglutinantes catalizables por base (curables) anteriormente descritos, el componente B) , la composición también puede incluir otros aglutinantes por igual. Es posible el utilizar por ejemplo adicionales compuestos olefínicamente insaturados. Los compuestos insaturados pueden incluir uno o más dobles enlaces olefínicos. Pueden ser de baja masa molecular (monoméricos) o de alta masa molecular (oligoméricos) . Ejemplos de monómeros que tienen un doble enlace son alquil acrilatos o hidroxialquil acrilatos o alquil metacrilatos o hidroxialquil metacrilatos, tales como etilo, butilo, 2-etilhexilo o 2-hidroxietil acrilato, isobornil acrilato, metil metacrilato o etil metacrilatos. Acrilatos de silicona también son de interés. Adicionales ejemplos son acrilonitrilo, acrilamida, metacrilamida, (met) acrilamidas N-substituídas, vinil esteres tales como vinil acetato, vinil éteres tal como isobutil vinil éter, estireno, alquilo- y haloestirenos, N-vinilpirrolidona, cloruro de vinilo o cloruro de vinilideno. Ejemplos de monómeros que tienen dos o más dobles enlaces son _ los diacrilatos de etilen glicol, propilen glicol, neopentil glicol, hexametilen glicol o bisfenal A, 4, 4 ' -bis (2-acriloil-oxietoxi)difenilpropano, trimetilolpropano triacrilato, pentaeri-tritol triacrilato o pentaeritritol tetraacrilato, vinil acrilato, divinil benzeno, divinil succinato, dialil ftalato, triaril fosfato, triaril isocianurato o tris (2-acriloiletil) isocianurato. Ejemplos de compuestos poliinsaturados de superior masa molecular (oligómeros) son resinas epoxi acriladas, poliésteres acrilados o poliésteres que contienen grupos vinil éter o grupos epoxi, poliuretanos y poliéteres. Adicionales ejemplos de oligómeros insaturados son resinas poliéster insaturadas que primordialmente se preparan a partir de ácido maléico, ácido ftálico y uno o más dioles y que tienen pesos moleculares de aproximadamente 500 a 3000. Además, también es posible el emplear monómeros y oligómeros vinil éter y también oligómeros terminados con maleato con poliéster, poliuretano, poliéter, polivinil éter y cadenas principales epoxi. En particular, combinaciones de oligómeros y polímeros que transportan vinil éter funcionales, son como se describe en WO 90/01512 y son muy convenientes. También son convenientes copolímeros de vinil éter y monómeros funcionalizados con ácido maleico. Oligómeros insaturados de este tipo también pueden ser referidos como prepolímeros . Ejemplos particularmente convenientes son esteres de ácidos carboxílicos etilénicamente insaturados y polioles o poliepóxidos y polímeros que tienen grupos etilénicamente insaturados en la cadena o en grupos laterales o secundarios, tales como poliésteres, poliamidas y poliuretanos y sus copolímeros, insaturados, resinas alquídicas, copolímeros de butadieno y polibutadieno, copolímeros de isopreno y poliisopreno, copolímeros y polímeros que tienen grupos (met ) acrílicos en cadenas secundarias y mezclas de uno o más de estos polímeros. Si además, se emplean estos monómeros, oligómeros/polímeros curables por radicales libres, entonces es juicioso agregar un fotoiniciador adicional que se disocia en radicales. Estos fotoiniciadores se conocen y se producen industrialmente . Son ejemplos benzofenona, derivados benzofenona, acetofenona, derivados acetofenona, por ejemplo a-hidroxicicloalquil fenil cetonas, dialcoxiacetofenonas, a-hidroxi- o a-aminoacetofenonas, 4-aroil-l, 3 -dioxolanos , benzoil alquil éteres y benzil cetales, monoacil fosfina óxidos, bisacilfosfina óxidos, compuestos . de ferrocenio o titanocenos. Se especifican ejemplos en EP-A-284 561.

Sistemas poliméricos de este tipo, en donde el curado/entrelazamiento se lleva a cabo por diferentes mecanismos también se refieren como sistemas híbridos. También es posible el agregar aglutinantes no reactivos a las composiones novedosas, que es particularmente juicioso si los . compuestos fotopolimerizables son líquidos o substancias viscosas. La cantidad del aglutinante no reactivo por ejemplo puede ser 5-95%, de preferencia 10-90% y en particular 40-90% en peso con base en el contenido total- de sólidos. La selección del aglutinante no reactivo se realiza de acuerdo con el campo de uso y con las propiedades requeridas para este uso, tal como la posibilidad para desarrollo en sistemas de solvente acuosos y orgánicos, adhesión substratos y sensibilidad al oxígeno.

Ejemplos de aglutinantes convenientes son polímeros que tienen peso molecular de aproximadamente 5,000-2,000,000 de preferencia 10,000-1,000,000. Son ejemplos: acrilatos y metacrilatos homo- y copoliméricos, por ejemplo copolímeros de metil metacrilato/etil acrilato/ácido metacrílico, poli (alquil metacrilatos), poli (alquil a_crilatos) ; esteres y éteres de celulosa tales como acetato de celulosa, acetato de celulosa butirato, metilcelulosa, etil celulosa; polivinilbutiral , polivinilforraal , hule ciclizado, poliéteres tales como óxido de polietileno, óxido de polipropileno, politetrahidrofurano; poliestireno, policarbonato, poliuretano, poliolefinas cloradas, cloruro de polivinilo, copolímeros de cloruro de vinilo/cloruro de vinilideno, copolímeros de cloruro de vinilideno con acrilonitrilo, metil metacrilato y vinil acetato, polivinil acetato, copoli (etilenvinil acetato) , polímeros tales como policaprolactama y poli (hexametilen adipamida) y poliésteres tales como poli (etilen glicol texeftalato) y poli (hexametilen glicol succinato) . Adicionalmente, la invención proporciona un método para llevar a cabo reacciones catalizadas por base que comprende someter A) A) al menos un compuesto que tiene una unidad estructural de la fórmula (I) (I) , en donde Rx es un radical aromático o heteroaxomático capaz de absorbex luz en el rango de longitudes de onda desde 200 a 650 nm y al hacerlo logra ruptura del enlace carbono-nitrógeno adyacente; y B) al menos un compuesto orgánico que es capaz de una reacción catalizada con base, que es una composición como se describió anteriormente, a irradiación con luz de longitud de onda de 200 nm to 650 nm. El componente A) de preferencia es un compuesto orgánico como se describió anteriormente de la fórmula (III), incluyendo los significados preferidos indicados. Ejemplos y significados preferidos para reacciones catalizadas con base, ya se han dado con anterioridad. En algunos casos, puede ser ventajoso llevar a cabo calentamiento durante o después de exposición a la luz . De esta manera es posible en muchos casos el acelerar la reacción de entrelazamiento.

Además, el método descrito antexiormente paxa pxoducir revestimientos, composiciones de modelo o capas fotoestructuradas es de acuerdo con la invención. La sensibilidad a la luz de las composiciones novedosas, generalmente se extiende desde aproximadamente 200 nm a través de la región de UV y hacia la región infraroja (aproximadamente 20,000 nm, en particular 1200 nm) y por lo tanto se extiende por un muy amplio rango. Radiación conveniente comprende por ejemplo luz de sol o luz de fuentes artificiales. Por lo tanto, una gran cantidad de tipos muy diferentes de fuentes de luz puede ser utilizada. Tanto fuentes punto como radiadores planos (tapetes o bancos de lámparas) , son convenientes. Ejemplos son lámparas de arco de carbón, lámparas de arco de xenón, lámparas de mercurio de presión media, presión alta y presión baja, si se desea adulteradas con haluros de metales (lámparas de halógeno-metal) lámpaxas de vapor de metal excitadas por microondas, lámparas excimer, tubos fluorescentes superactínicos, lámparas fluorescentes, lámparas de argón incandescentes, lámparas de destelleo electrónico, lámparas de alta intensidad o proyectores fotográficos, haces de electrones y de xayos X, que se pxoducen mediante sincxotxones o plasma de láser. La distancia entre la lámpara y el substrato de acuerdo con la invención que va exponerse, puede variar dependiendo de la aplicación y el tipo y/o energía de lámpara, por ejemplo entre 2 y 150 cm. También son especialmente adecuadas fuentes de luz láser, por ejemplo láser excimer. Láser en la región visible o en la región IR también puede empleaxse . Es muy ventajosa aquí la alta sensibilidad de los matexiales novedosos y la posibilidad de adaptax un coloxante como coiniciadox a la línea láser. Por este método es posible producir circuitos impresos en la industria electrónica, placas de impresión offset litográficas o placas de impresión con relieve y también materiales de registro o grabación de imagen fotográfica. Las composiciones novedosas pueden emplearse para diversos propósitos, por ejemplo como tintas de impresión, como revestimientos transparentes, como pinturas blancas, por ejemplo para madera o metal, como materiales de revestimiento, entre otros para papel, madera, metal o plástico, como revestimientos en polvo, como revestimientos curables con la luz del día, para marcar edificios y carreteras, para procesos de reproducción fotográfica, para materiales de grabación holográfica, para procesos de grabación de imagen o para la producción de placas de impresión que pueden revelarse utilizando solventes orgánicos o medios alcalinos acuosas, para producción de máscaras para impresión con estarcido, como materiales de relleno dental, como adhesivos incluyendo adhesivos sensibles a presión, como resinas de laminación, como capas protectoras de mordentantes o capas protectoras permanentes y como máscaras de soldadura para circuitos electrónicos, para la producción de artículos tridimensionales por curado en masa (curado de UV en moldes transparentes) o por el proceso de estereolitografía, como se describe por ejemplo en la patente de los E.U.A. No. 4,575,330, para la preparación de materiales compuestos (por ejemplo poliésteres estirénicos que pueden contener fibras de vidrio y/u otras fibras y otros auxiliares (y otras composiciones de capa gruesa, para el revestimiento o encapsulación de componentes electrónicos, o como revestimientos para fibras ópticas) . En revestimientos de superficie, es común utilizar- mezclas de un prepolímero con monómeros poliinsaturados . que también contienen un monómero monoinsaturado . El prepolímero aquí primordialmente es responsable por las propiedades de la película de revestimiento y variarlo permite que el trabajador con destreza en la especialidad influencie las propiedades de la película curada. El monómero poliinsaturado funciona como un entrelazador que hace insoluble a la película de revestimiento. El monómero monoinsaturado funciona como un diluyente reactivo mediante el cual se reduce la viscosidad sin necesidad por utilizar un solvente.

Resinas poliéster insaturadas, primordialmente se emplean en sistemas de dos componentes en conjunto con un monómero monoinsaturado, de preferencia estireno. Para fotocapas protectoras, sistemas específicos de un componente se emplean frecuentemente, por ejemplo polimaleinimidas, polichalconas o polimidas como se describe en DE-A-2 308 830. Las composiciones fotocurables novedosas son adecuadas por ejemplo como materiales de revestimiento para substratos de todos tipos, son ejemplos madera, textiles, papel, cerámica, vidrio, plásticos tales como poliésteres, polietilen tereftalato, poliolefinas o celulosa acetato, especialmente en la forma de películas y también metales tales como Al, Cu, Ni, Fe, Zn, Mg o Co y GaAs , Si o SiO,, en los cuales es la intención aplicar un revestimiento protector o por exposición a manera de imagen, de una imagen . Los substratos pueden revestirse al aplicar una composición líquida, una solución o suspensión al substrato. Ea selección del solvente y la concentración dependen predominantemente del tipo de composición y el proceso de revestimiento. El solvente deberá ser inerte; en otras palabras no deberá someterse a reacción química alguna con los componentes y deberá ser capaz de retirarse de nuevo después de la operación de revestimiento en el proceso de secado. Ejemplos de solventes convenientes son cetonas, éteres y esteres, tales como metil etil cetona, isobutil metil cetona, ciclopentanona, ciclohexanona, N-metilpirrolidona, dioxano, tetrahidrofurano, 2-metoxietanol, 2 -etoxietanol, l-metoxi-2-propanol , 1,2-dimetoxietano, etil acetato, n-butil acetato y etil 3-etoxipropionato . Utilizando procesos de revestimiento conocidos, la solución se aplica uniformemente a un substrato, por ejemplo por revestimiento con centrifugado, revestimiento por inmersión, revestimiento con espátula, revestimiento cortina, cepillado o aplicación con cepillo, rociado especialmente por rociado electroestático y revestimiento con rodillo inverso, y por deposición electroforética. También es posible aplicar la capa fotosensible a un soporte flexible temporal y luego revestir el substrato final por ejemplo un tablero de circuito con revestimiento de cobre mediante transferencia de capa por laminación. La cantidad aplicada (espesor de capa) y la naturaleza del substrato (soporte de capa) son funciones del campo de aplicación deseado. El rango de espesores de capa generalmente comprende valores de aproximadamente 0.1 µm a más de 100 µm . Las novedosas composiciones sensibles a radiación también pueden someterse a exposición a manera de imagen.

En este caso, se emplean como capas protectoras negativas. Son adecuadas para componentes electrónicos (galvano capas protectoras, capas protectoras de mordentado y capas protectoras de soldadura) , para la producción de placas de impresión, tales como placas de impresión offset, placas de impresión flexográficas y de relieve o placas de impresión por estarcido, para la producción de sellos de marcado y puede emplearse para mordentado de artículos moldeados o como micro capas protectoras en la producción de circuitos integrados. Hay un amplio rango de variación de manera correspondiente en los posibles soportes de capa y en las condiciones de procesamiento de los substratos revestidos. El término exposición "a manera de imagen", se refiere tanto a exposición a través de una fotomáscara que contiene un patrón predeterminado, por ejemplo una diapositiva, exposición por un haz láser que se mueve bajo control de computadora, por ejemplo sobre la superficie del substrato revestido y de esta manera genera una imagen e irradiación con haces de electrones controlados por computadora. Siguiendo a la exposición a manera de imagen del material y antes de revelado, puede ser ventajoso llevar a cabo un breve tratamiento térmico, en donde solo las partes expuestas se curan térmicamente. Las temperaturas empleadas en general son 50-150°C y de preferencia 80-130°C; la duración del tratamiento térmico en general está entre 0.25 y 10 minutos. Un campo adicional de uso para fotocurado es aquél de revestimientos de metal, por ejemplo el revestimiento superficial de paneles de metal y tubos, latas o tapas de botellas y fotocurado en revestimientos de polímero, por ejemplo de cubiertas para pisos o paredes, con base en PVC. Ejemplos del fotocurado de revestimientos de papel son el barnizado incoloro de etiquetas, forros de grabaciones o cubiertas para libros. Es igualmente de interés el uso de los compuestos novedosos para curar artículos conformados elaborados a partir de composiciones compuestas. La composición compuesta está constituida de un material de matriz autosoportante, por ejemplo una tela de fibras de vidrio, o también por ejemplo fibras vegetales [ver K.-P. Miec , T. Reussmann en Kunststoffe 85 (1995) , 366-370] , que se impregna con la formulación de fotocurado. Los artículos moldeados elaborados a partir de materiales producidos con los compuestos novedosos alcanzan un alto nivel de estabilidad mecánica y resistencia. Los compuestos de la invención también pueden emplearse como agentes de fotocurado en composiciones de moldeo, impregnación y revestimiento, tal como se describe en EP-A-7086. Estas composiciones por ejemplo son resinas de revestimiento fino, que se someten a requerimientos estrictos respecto a su activida de curado y resistencia a amarillamiento y a artículos moldeados reforzados con fibras tales como paneles de difusión de luz que son planares o que tienen corrugación longitudinal o transversal. La_ invención adicionalmente proporciona el uso de un compuesto como se describió anteriormente que comprende una unida estructural de la fórmula (I) , como un fotoiniciador para reacciones de adición o substitución catalizadas con base, fotoquímicamente inducidas. Ejemplos de compuestos preferidos que comprenden un elemento estructural de la fórmula (I) , así como substratos adecuados para reacciones de substitución o adición catalizadas por base, se establecieron anteriormente . La invención proporciona además un substrato revestido que se ha cubierto al menos en una superficie con una composición como se describió anteriormente y a un procedimiento para la producción fotográfica de imágenes en relieve, en donde un substrato revestido se somete a exposición a manera de imagen y luego las áreas no expuestas se retiran con un solvente. De interés particular en este contexto es la exposición anteriormente mencionada mediante un haz láser. La invención además proporciona una composición entrelazada o polímerizada como se describió anteriormente. Los siguientes ejemplos ilustran la invención. Ejemplos A: Preparación de los fotoiniciadores Método General de Preparación a) Una solución de la correspondiente a-bromocetona en tolueno, se agrega con agitación a una solución de 1,5-diazabiciclo [4.3.0] nonano en tolueno y se agita más durante la noche a temperatura ambiente. La mezcla de reacción se filtra, lava con agua desmineralizada y seca sobre MgS04. Subsecuentemente se seca más al vacío para dar rendimientos de aproximadamente 85% de la correspondiente a-aminocetona correspondiente . B) Bromuro de metiltrifenilfosfonio y amida de sodio se agitan en diclorometano por 15 minutos, luego se agrega una solución de la a-aminoce ona preparada de acuerdo con a) , en diclorometano, y la mezcla se agita a temperatura ambiente por 18 horas. La solución se filtra y el filtrado se concentra al vacío. El rendimiento crudo de la a-aminocetona es 65-85%.

Los coeficientes de extinción molar e en los ejemplos tienen la dimensión 1/mol cm. Ejemplo Al Rx = bifenilil, R2 = R3 = H, R4/R6 = -(CH2)R3-, R5/R7 Análisis calculado para C22H26N2 : C 82.97; H 8.23; N 8.80.

Encontrado: C 82.83; H 8.26; N 8.59. U.V. (CHCl3) max. a 275 nm (e 21600) . I.R. (KBr) 1625 y 1600 cm"1 (C=C) . H RMN (CDC13) ; 7.68-7.28 (9H, m, ArH) , 5.51 (1H, s, =CH) , .29 (1H, 5, =CH) , 3.83 (1H, d, J 13.3 Hz , NCH2C (CH2) Ph) , 3.07 (3H, m, NCH2) , 2.89 (1H, d, J 13.3 Hz , NCH2C (CH2) Ph) , 2.38-1.12 (lOH, m, CH2) . 13C RMN (CDCI3) : 144.14, 141.02, 140.27, 139.31, 128.82, 127.25, 127.08, 126.99, 126.92, 115.43, 85.08, 58.92, 52.33, 51.92, 51.19, 29.52, 24.75 y 19.55. m/z (El) 318 (M+) Ejemplo A2 Rx = 2-naftil, R2 = R3 = H, R4/R6 = -(CH2)3-, R5/R7 = -(CH2)R3-, i / = ía = H Análisis calculado para C20H24N2 : C 82.15; H 8.27; N 9.58.

Encontrado: C 82.25; H 8.25; N 9.24. U.V. (CHC13) máx. a 247 nm (e 35600) y 287 nm (e 8600) . I.R. (KBr) 1625 y 1595 cm"1 (C=C) . X RMN (CDC13) : 7.95 (1H, S, ArH) , 7.85-7.65 (4H, m, ArH) , 7.45-7.35 (2H, m, ArH) , 5.58 (1H, s, =CH) , 5.39 (1H, s, = CH) , 3.88 (1H, d, J 13.6Hz , NCH2C (CH2) Ph) , 3.07 (3H, m, NCH2) , 2.97 (1H, d, J 13.7Hz, NCH2C (CH2) Ph) , 2.44-1.45 (lOH, m, CH2) . 13C RMN (CDCI3) : 144.57, 137.84, 133.41, 132.97, 128.37, 127.68, 127.53, 125.96, 125.78, 125.15, 124.94, 115.79, 84.94, 58.65, 52.21, 52.09, 51.12, 29.49, 24.58 y 19.58. m/z (El) 292 (M+) . Eiemplo A3 Rx = 4-dietilaminofenil, R2 = R3 = H, R4/R6 = -(CH2)R3-, R5/R- U.V. (CHCI3) máx. a 245 nm (e 3700) y 305 nm (e 16100) . l.R.

(KBr) 1610 cm"1 y 1520 cm"1 (C=C) . X RMN (CDCI3) : 7.48 (2H, d, ArH), 6.58 (2H, d, ArH), 5.32 (1H, s, =CH) , 5.05 (1H, s, =CH) , 3.74 (1H, d, J 13.1 Hz , NCH2C(CH2) Ph) , 3.32 (4H, q, J 7.1 Hz , NCH2CH3) , 3.06 (3H, M, NCH2) , 2.80 (1H, d, J 13.1 Hz, NCH2C (CH2) Ph) , 2.36 1.23 (10H, m, CH2) , y 1.13 (6H, t, J 7.1 Hz , CH3) , 13C RMN (CDCI3) : 147.21, 143.63, 131.43, 127.36, 111.34, 110.07, 84.21, 59.02, 52.30, 51.81, 51.24, 44.40, 29.42, 24.75, 19.53 y 12.71. m/z (El) 313 (M+) . Eiemplo A4 Rx = 4-tiometilfenil, R2 = R3 = H, R4/R6 = - (CH2)R3-, R5/R7 = - (CH2)R3-, R17 = R18 = H U.V. (CHDC13) máx. a 280 nm (e 13800) . I.R. (KBr) 1670, 1625 y 1595 cm"1 (C=C) . XH RMN (CDCI3) : 7.48 (2H, d, ArH) , 7.16 (2H, d, ArH) , 5.41 (1H, s, =CH) , 5.21 (1H, s, =CH) , 3.74 (1H, d, J 13.2Hz , NCH2C(CH2)Ph) , 3.05 (3H, m, NCH2) , 2.83 (1H, d, J 13.2Hz, NCH2C(CH2) Ph) , 2.44 (3H, s, SCH3) , 2.30-1.4 (lOH, m, CH2) . 13C RMN (CDCI3) : 143.83, 137.46, 137.16, 126.89, 126.49, 114.93, 84.99, 58.85, 52.25, 51.78, 51.12, 29.42, 24.67, 19.48 y 15.97. m/z (El) 288 (M) . Eiemplo A5 Rx = fenil, R2 = H, R3 CH, R4/R6 — (CH2)R3 R5/R7 = R17 = R18 = H Análisis calculado para C?7H24N2 : C 79.64; H 9.43; N 10.93. Encontrado: C 79.64; H 9.46; N 10.75. U.V. (CHCI3) máx. a 244 nm (e 6700) . I.R. (KBr) 1630, 1600 y 1575 cm"1 (C=C) . ? RMN (CDCI3) : 7.50-7.17 (5H, m, ArH) , 5.35 (0.75H, s,=CH) , 5.24 (0.25H, s,=CH) , 5.15 (0.75H, s,=CH) , 5.10 (0.25H, S, = CH) , 4.06 (1H, q, J 6.8Hz , NCHCH3, 2.94 (3H, m, NCH2) , 2.63 (1H, m, NCH2) , 2.2-1.2 (9H, m, CH2) , 1.36 (0.75H, d, J 7.0Hz, CH3) y 1.13 (2.25H, d, J 6.8Hz , CH3) . 13C RMN (CDCI3) : 150.38, 142.89, 128.16, 127.04, 126.93, 114.95 (diaesterómero secundario) , 114.48 (principal diaesterómero) , 82.18 (diaesterómero secundario) , 82.03 (principal diaesterómero) , 56.37, 52.24f, 51.60, 43.27, 28.99 (diaesterómero secundario) , 28.73 (principal diaesterómero) , 25.62 (principal diaesterómero) , 25.14 (principal diaesterómero) , 19.36 y 9.35. m/z (DCI) 256 (M+) .-Eiemplo A6 Rx = 4-bifenil, R2 = H, R3 = CH3, R4/R6 = -(CH2)R3-, R5/R7 = -(CH2)R3-, R17 = R18 = H.

U.V. (CHC13) máx. a 266 nm (e 19200) . I.R. (KBr) 1625, 1600, 1580 cm"1 (C=C) . ? RMN (CDCI3) : 7.49-7.14 (9h, ArH) , 5.29 (0.8H, s, =CH) , .18 (0.2H, S,=CH), 5.05 (0.8H, s =CH) , 5.00 (0.2H, s =CH) , 4.00 (1H, q, J 6.5Hz, NCHCH3) , 2.91 (2H, m, NCH2) , 2.75 (1H, m, NCH2) , 2.52 (1H, m, NCH) , 2.1-1.2 (9H, , CH2) y 1.04 (3H, d, J 6.8HzM CH3) . 13C RMN(CDC13) : 150.00, 141.80, 141.18, 139.88, 128.83, 128.74, 127.46, 127.33, 127.11, 127.02, 126.90, 126.85, 114..51, 82.18, 57.33 (diaesterómero secundario), 56.30 (principal diaesterómero) , 52.28 (principal diaesterómero) , 51.96 (diaesterómero secundario), 51.63 (principal diaesterómero), 51.34 (diaesterómero secundario), 46.18 (diaesterómero secundario) , 43.27 (principal diaesterómero), 29.10 (diaesterómero secundario), 28.76 (principal diaesterómero), 25.64 (diaesterómero secundario), 25.19 (principal diaesteróméro) , 19.36 (principal diaesterómero), 18.74 (diaesterómero secundario), 15.35 (diaesterómero secundario), 9.27 (principal diaesterómero) . m/z (El) 332 (M+) . Ejemplo A7 Rx = 1-naftil, R2 = H, R3 = CH3, R4/R6 = -(CH2)R3-, R5/R7 = - (CH2)R3-, R17 = R?8 = H.

U.V. (CHC13) máx. a 271 nm (e 26900) y 280 nm (6000) . I.R. (KBr) 1620, 1590, 1570 cm"1 (C=C) . X RMN (CDC13) : 7.77-7.52 (5H, m ArH) , 7.42-7.30 (2H, m ArH) , 5.54 (0.75H, s, =CH) , 5.40 (0.25H, s, =CH) , 5.31 (0.75H, S, =CH) , 5.29 (0.25H, S, =CH) , 4.14 (IH, q, J 6.8Hz, NCHCH3) , 2.87 (3H, m, NCH2) , 2.62 (1H, m, NCH) , 2.1-1.0 (12H, m, CH2 y CH3) . 13C RMN (CDCI3) : 150.84, 140.43, 133.48, 132.80, 128.11, 127.75, 127.65, 127.54, 127.49, 126.09, 125.80, 125.62, 125.60, 114.86, 82.18 (diaesterómero secundario) , 81.95 (principal diaesterómero), 57.22 (diaesterómero secundario), 56.33 (principal diaesterómero), 52.08 (principal diaesterómero), 51.89 (diaesterómero secundario), 51.46 (principal diaesterómero), 51.2í (diaesterómero secundario) , 46.00 (diaesterómero secundario) , 43.41 (principal diaesterómero) , 29.02 (diaesterómero secundario) , 28.78 (principal diaesterómero) , 25.60 (diaesterómero secundario) , 25.00 (principal diaesterómero) , 19.39 (principal diaesterómero) , 19.07 (diaesterómero secundario) , 9.43. m/z (El) 306 (M+) . Ejemplo A8 Rx = 2-naftil, R2= H, R3 = CH3, R4/R6= -(CH2)R3-, R5/R7 = - ( CH ) R3 - , R17 = R18 = H U.V. (CHC13) máx. a 245 (e 5660) . I.R. (KBr) 1625, 1600, 1570 cm"1 (C=C) . X RMN (CDCI3) : 7.83-7.72 (4H, m ArH) , 7.60 (1H, m ArH) , 7.47-7.24 (2H, m ArH) , 5.46 (0.75H, s, =CH) , 5.37 (0.25H, s, =CH) , 5.25 (075H, s, =CH) , 5.20 (0.25H, s, =CH) , 4.20 (1H, q, J 6.8Hz, NCHCH3) , 3.01-2.65 (4H, m) , 2.18-1.43 (9H, m) y 1.18 (3H, d, J 6.8Hz, CH3) . 13C RMN (CDC13) : 150.81, 140.45, 133.49, 132.81, 128.12, 127.53, 125.77, 125.62, 125.48, 82.18 (diaesterómero secundario) , 81.95 (diaesterómero secundario), 56.32, 52.07 (diaesterómero principal), 51.88 (diaesterómero secundario), 51.45 (principal diaesterómero), 51.28 (diaesterómero secundario), 43.40, 29.08 (diaesterómero secundario), 28.78 (principal diaesterómero), 25.41 (diaesterómero secundario), 25.00 (principal díaesterómero) , 19.39, 9.45. m/z (El) 306 (M+) . Eiemplo A9 Rx = 2-tiantrenil, R2 = H, R3 = CH3, R4/R6 = - (CH2)R3-, R5/R7 = - (CH2)R3-, R17 = R18 = H.

U.V. (CHCI3) máx. a 262 nm (e 29800) . I.R. (KBr) 1625, 1580 cm"1 (C=C) . :H RMN(CDC13) : 7.47-7.17 (7H, m ArH) , 5.32 (0.9H, s, =CH) , 5.24 (0.1 H, S, =CH) , 5.15 (0.9H, s, =CH) , 5.11 (0.1H, s, = CH) , 4.00 (1H, q, J 6.7Hz , NCHCH3) , 3.03-2.60 (4H, m) , 2.2-1.16 (9H, m) y 1.12 (3H, d, J 6.7Hz , CH3) . 13C RMN (CDCI3) : 149.46, 142.80, 135.82, 135.75, 135.07, 133.80, 128.73, 128.69, 128.37, 127.59, 127.54, 127.10, 126.43, 115.63 (diaesterómero secundario), 115.10 (principal diaesteróraero) , 82.00 (diaesterómero secundario), 81.80 (principal diaesterómero), 57.37 (diaesterómero secundario) , 56.25 (principal diaesterómero), 52.12 (principal diaesterómero), 51.83 (diaesterómero secundario) , 51.40 (principal diaesterómero), 51.21 (diaesterómero secundario), 46.65 (diaesterómero secundario) , 43.26 (principal diaesterómero), 29.75 (diaesterómero secundario), 28.81 (principal diaesterómero), 25.57 (diaesterómero secundario), 25.03 (principal diaesterómero), 19.38 (principal diaesterómero), 18.27 (diaesterómero secundario), 14.16 (diaesterómero secundario), 9.21 (principal diaesterómero) . m/z (El) 394 (M+) . Eiemplo A10 Rx = 2-tioxantil, R2 = H, R3 = CH3, R4/R6 = -(CH2)R3-, R5/R7 = - (CH2)R3-, R17 = R18 = H.

U.V. (CHC13) máx. a 391 nm (e 4000) y 266 nm (e 28700) . I.R. (KBr) 1640, 1592 cm"1 (C=C) . XH RMN (DMSO-d6) : 8.49 (1H, d, ArH), 8.47 (1H, d, ArH), 7.89 (1H, dd, ArH), 7.85 (1H, d, ArH), 7.79 (1H, d, ArH), 7.77 (IH, t, ArH), 7.59 (1H, t, ArH), 5.51 (0.9H, s, =CH) , 5.45 (0.1H, s, =CH) , 5.26 (0.9H, s, =CH) , 5.18 (0.1H, s, =CH) , 4.19 (1H, q, J 5Hz, NCHCH3) , 2.85-2.80 (4H, m) , 2.10-1.19 (9H, m) y 1.16 (3H, d, J 7Hz, CH3) . 13C RMN (CDCI3) : 178.8, 149.2, 140.6, 136.5, 135.75, 134.9, 132.9, 131.7, 129.1, 128.3, 128.0, 126.8, 126.6, 126.1, 115.3, 81.1, 55.1, 51.5, 50.5, 42.5, 28.0, 24.5, 19.0, 8.5. m/z (El) 390 (M+) . Eiemplo All Rx = 3,4-trimetoxifenil, R2 = H, R3 = CH3, R4/R6 = -(CH2)R3-, R5/R7 = ~ (CH2)R3-, Ru = R18 = H.

Análisis calculado para C20H30N203: C 69.33; H 8.73; N 8.09. Encontrado: C 69.14; H 8.71; N 8.06. U.V. (CHCI3) máx. a 319 nm (e 1000) y 250 nm (e 7100) . I.R. (KBr) 1681, 1578 cm"1 (C=C) .

JH RMN (CDCI3) : 6.65 (1.6H, s, ArH) , 6.51 (0.4H, s, ArH) , 5.29 (0.8H, s, =CH) , 5.24 (0.2H, S, =CH) , 5.10 (0.8H, S, = CH) , 5.06 (0.2H, s, =CH) , 4.04 (1H, q, J 6.8Hz , NCHCH3) , 3.81 (9H, s, OCH3) , 2.98-2.79 (3H, m) , 2.62 (1H, m) , 2.18-1.17 (9H, m) y 1.12 (3H, d, J 6.7Hz , CH3) . 13C RMN (CDCI3) : 152.8, 150.6, 138.7, 114.2, 104.3, 81.9, 60.7, 56.4, 56.2, 52.1, 51.5, 43.2, 28.8, 25.1, 19.4, 9.3. m/z (El) 346 (M +) . Eiemplo A12 Rx = 4-tiometilfenil, R2 = H, R3 = CH3, R4/R5 = - (CH2)R3-, R5/R7 = _ (CH2)R3-, R17 = R18 = H.

Análisis calculado para C?8H26N28 : C 71.48; H 8.66; N 9.26; S 10.60. Encontrado: C 71.48; H 8.60; N 8.44; S 10.47. U.V. (CHCI3) máx. a 275 nm (e 14100) . I.R. (KBr) 1620, 1593 cm"1 (C=C) . X RMN(CDC13) : 7.43-7.14 (4H, m, ArH) , 5.34 (0.75H, s, =CH) , 5.22 (0.25H, s, =CH) , 5.11 (075H, S, =CH) , 5.06 (0.25H, s, = CH) , 4.05 (1H, q, J 6.7Hz , NCHCH3) , 3.06-2:59 (4H, m) , 2.44 (3H, s, SCH3) , 2.17-1.34 (9H, m) y 1.12 (3H, d, J 6.7Hz, CH3) . XH RMN(CDC13) : 149.7, 139.7, 136.8, 127.5, 127.4, 126.6, 126.4, 114.1, 82.0, 56.2, 52.2, 51.6, 51.3, 43.2, 28.7, 25.2, 19.3, 9.2. m/z (El) 302 (M+) . Eiemplo Al 3 Rx = 2 -fluorenil, R2 = H, R3 = CH3, R4/R6 = -(CH2)R3-, R5/R7 = - ( CH2 ) R3 - , R17 = R18 = H .

U.V. (CHC13) máx. a 281 nm (e 19500) . I.R. (KBr) 1623, 1611 cm"1 (C=C) . XH RMN (CDCI3) : 7.78-7.23 (7H, m, ArH) , 5.42 (0.75H, s, = CH) , 5.32 (0.25H, s, =CH) . 5.19 (075H, s, =CH) , 5.14 (0.25H, s, =CH) , 4.14 (1H, q, J 6.5Hz . NCHCH3) , 3.88 (2H, m,' C9 fluorenil) , 3.16-2.87 (3H, m) , 2.68 (1H, q, J 5.6Hz) , 2.20-1.24 (9H, m) y 1.17 (3H, d, J 6.7Hz , CH3) . 13C RMN (CDCI3) : 150.8, 143.5, 143.1, 141.7, 140.7, 126.7, 126.4, 125.8, 1, 125.0, 123.5, 119.8, 119.5, 114.8 (diaesterómero secundario) , 114.2 (principal diaesterómero) , 82.2 (secundario^ diaesterómero) 82.0 (principal diaesterómero) , 57.3 (diaesterómero secundario) , 56.5 (principal diaesterómero), 52.1 (principal diaesterómero), 52.0 (diaesterómero secundario), 51.5 (diaesterómero secundario), 51.3 (diaesterómero secundario), 45.7 (diaesterómero secundario), 43.4 (principal diaesterómero), 37.0 (C9 fluorenil), 29.0 (diaesterómero secundario) , 28.8 (principal diaesterómero) , 25.7 (diaesterómero7 secundario), 25.1 (principal diaesterómero), 19.4, 9.5. m/z (El) - 344 (M+) . Eiemplo Al Rx = fenil, R2 = H, R3 = CH3, R4/R6 = -(CH2)R3-, R5/R7 = — Orí2 ) R-3 — 1 -R-l7 — -H. , -R-18 ~ C.H3 :H RMN (CDC13) : 7.31-7.10 (5H, m ArH), 5.70-5.50 (1H, m, --CH) , 3.80 (1H, m, NCHCH3) , 2.94 (3H, m, NCH2) , 2.61 (1H, m, NCH), 2.1-1.0 (15H, m, CH2 y CH3) . Ejemplos de uso B: Catálisis base con compuestos monome icos Ejemplos B1-B4 Adición de Michael iniciada por UV. 7.4 . 10~5 moles de fotoiniciador (base amidina latente) se disuelven en una mezcla de dimetil malonato y n-butil acrilato (1:1, 200 mg correspondientes a 7.4 .10"" moles) en un recipiente de cuarzo. La mezcla se irradia con una lámpara de mercurio con alta presión (200 W) desde una distancia de 30 cm. La conversión es verificada como una función del tiempo. Los resultados se establecen en la Tabla 1.

Tabla 1 Ejemplos de uso C: Catálisis base con compuestos oligómero/po1ímero Eiemplo Cl Preparación de un uretano acrilato basado en isoforona diisocianato y 4-hidroxibutil acrilato. La reacción se lleva a cabo bajo una atmósfera de nitrógeno y todos los productos químicos comerciales empleados se usan sin mayor purificación. 1566.8 g (13.78 moles de NCO) de isoforona diisocianato, 2.3 g of dibutilestaño dilaurato, 2.3 g de 2 , 5-di-ter-butil-p-cresol y 802.8 g de butil acetato, se cargan a un matraz de tres cuellos equipado con condensador y dispositivo de adición. Se burbujea nitrógeno seco a través de la mezcla de reacción y la temperatura se eleva lentamente a 60°C. 1987 g (13.78 moles) de 4-hidroxibutil acrilato- se agregan, durante lo cual la solución de reacción se calienta lentamente a 80 °C. La temperatura se mantiene a 80 °C y el dispositivo de adición se inunda con butil acetato (86.6 g) . La reacción se verifica por titulación de la cantidad restante de isocianato, y termina cuando el contenido de isocianato es inferior a 0.2% con base en el contenido de sólidos . El producto de reacción obtenido tiene las siguientes propiedades físicas: 4-hidroxibutil acrilato residual: <0.002% con base en sólidos (análisis HPLC) , Color: «Gardner 1, Viscosidad: 43 cPa s (20°C) , Contenido de sólidos: 79,3% (1 hora a 140°C), Datos GPC(standard poliestireno) : Mn 778, MH 796, d=1.02. Preparación de un malonato poliéster La reacción se lleva a cabo bajo una atmósfera de nitrógeno y todos los productos químicos comerciales se emplearon sin mayor purificación. En un recipiente de reacción con agitador y condensador se reflujan cuidadosamente 1045 g de 1, 5-pentandiol, 1377.4 g de dietil malonato y 242.1 g de xileno. La temperatura máxima de la mezcla de reacción es 196 °C mientras que la temperatura en la cabeza del condensador se mantiene a 79°C. De esta manera 862 g de etanol, que corresponden a una conversión de 97.7%, se separan por destilación. Luego se extrae al vacío xileno a una temperatura de 200 °C. El polímero resultante tiene un contenido de sólidos de 98.6%, una viscosidad de 2710 mPa s y un número ácido de 0.3 mg de KOH/g con base en el contenido de sólidos. Mn es 1838, Mw es 3186, el color es 175 en la escala APHA( "número de color Hazen"- ISO 6271 de the American Health Association) . Curado con luz UV (6.4 x 10"5 moles) del fotoiniciador del Ejemplo A5 se disuelven en una mezcla 1.3:1 del uretano acrilato y el malonato poliéster (cantidad total 400 mg) anteriormente descritos. Una película con espesor de 50 µm se estira sobre una placa de vidrio y se expone usando ua lámpara de mercurio de alta presión (200 W) a una distancia de 30 cm. La película de polímero está libre de pegajosidad después de 120 minutos.

Claims

REIVINDICACIONES

1. Un compuesto orgánico que tiene un peso molecular inferior a 1000, caracterizado porque comprende al menos una unidad estructural de la fórmula (I) (I) , en donde Rx es un radical aromático o heteroaromático capaz de absorber luz en el rango de longitud de onda desde 200 a 650 nm y al hacerlo logra ruptura del enlace carbono-nitrógeno adyacente.

2. Un compuesto orgánico, en donde la unidad estructural de la fórmula (I) comprende compuestos de la fórmula (II) en donde R-x es un radical aromático o heteroaromático capaz de absorber luz en el rango de longitud de onda desde 200 a 650 nm y al hacerlo logra ruptura del enlace carbono-nitrdgeno adyacente; R2 y R3 independientemente entre sí son hidrógeno, alquilo con 1 a 18 átomos de carbono, alquenilo con 3 a 18 átomos de carbono, alquinilo con 3 a 18 átomos de carbono, o fenilo y si R2 es hidrógeno o alquilo con 1 a 18 átomos de carbono, R3 es adicionalmente un grupo -CO- Ri4 en donde R14 es alquilo con 1 a 18 átomos de carbono o fenilo; R5 es alquilo con 1 a 18 átomos de carbono o NR15R16; R4, R6/ R7_ Rls y R16 independientemente entre sí son hidrógeno o alquilo con 1 a 18 átomos de carbono o R4 y R6, juntos forman un puente alquileno con 2 a 12 átomos de carbono o R5 y R7, independientemente de R4 y R6, juntos forman un puente alquileno con 2 a 12 átomos de carbono o si R5 es NR15R16/ R16 y R7 juntos forman un puente alquileno con 2 a 12 átomos de carbono; R17 es hidrógeno o alquilo con 1 a 18 átomos de carbono; R18 es hidrógeno, alquilo con 1 a 18 átomos de carbono o fenilo substituido con alquilo con 1 a 18 átomos de carbono, vinilo, alquenilo con 3 a 18 átomos de carbono, alquinilo con 3 a 18 átomos de carbono, haloalquilo con 1 a 18 átomos de carbono, fenilo, N02, OH, CN, OR?0, SR10, C(0)R??, C (O) OR?2 o halógeno; y R10? R1X y R12 son hidrógeno o alquilo con 1 a 18 átomos de carbono.

3. Un compuesto orgánico de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque Rx es fenilo, naftilo, fenantrilo, antracilo, pirenilo, 5,6,7,8-tetrahidro-2 -naft lo, 5,6,7,8 - tetrahidro -l-naftilo , tienilo, benzo [b] tienilo, nafto [2 , 3-b] tienilo, tiatrenilo, dibenzofurilo, cromenilo, xantenilo, tioxantilo, fenaxatiinilo, pirrolilo, imidazolilo, pirazolilo, pirazinilo, pirimidinilo, piridazinilo, indolizinilo, isoindolilo, indolilo, indazolilo, purinilo, quinolizinilo, isoquinolilo, quinolilo, ftalazinilo, naftiridinilo, quinoxalinilo, quinazolinilo, cinolinilo, pteridinilo, carbazolilo, ß-carbolinilo, fenantridinilo, acridinilo, perimidinilo, fenantrolinilo, fenazinilo, isotiazolilo, fenotiazinilo, isoxazolilo, furazanilo, terfenilo, estilbenilo, fluorenilo o fenoxazinilo, estos radicales están sin substituir o substituidos una o más veces por alquilo con 1 a 18 átomos de carbono, alquenilo con 3 a 18 átomos de carbono, alquinilo con 3 a 18 átomos de carbono, haloalquilo con 1 a 18 átomos de carbono, N02, NR8R9, N3, OH, CN, OR?0, SR10, C(0)R??, C(0)OR12 o halógeno; o Rx es un radical de las fórmulas A o B (B), R8, R9, R10, R1;L y R12 son hidrógeno, alquilo con 1 a 18 átomos de carbono; R13 es alquilo con 1 a 18 átomos de carbono, alquenilo con 2 a 18 átomos de carbono, alquinilo con 2 a 18 átomos de carbono, haloalquilo con 1 a 18 átomos de carbono, N02, NR8R9, OH, CN, OR10, SR10, C(0)R , C (O) 0R12 o halógeno; 'y n es 0 o un número 1, 2 o 3.

4. Un compuesto orgánico de conformidad con la reivindicación 2, caracterizado porque y independientemente entre sí son hidrógeno o alquilo con 1 a 6 átomos de carbono, en particular alquilo con 1 a 4 átomos de carbono .

5. Un compuesto orgánico de conformidad con la reivindicación 2, caracterizado porque R4 y R6 juntos forman un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono.

6. Un compuesto orgánico de conformidad con la reivindicación 2", caracterizado porque Rs y R7 forman un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono o si R5 es NR15R16 R16 y R7 juntos forman un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono .

7. Un compuesto orgánico de la fórmula (II) de conformidad con la reivindicación 2, caracterizado porque Rx es fenilo o naftilo, estos radicales están sin substituir o están substituidos una o más veces por CN, NR8R9, N3, N02, CF3, SR10 o OR10, o Rx es tiantrenilo, fluorenilo o tioxantilo, o Rx es un radical de la fórmula A n es 0 y los radicales R8, R9 y ?0 son hidrógeno o alquilo con 1 a 6 átomos de carbono; R2 y R3 son hidrógeno o alquilo con 1 a 6 átomos de carbono; R4 y R6 juntos forman un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono; R5 y R7 juntos forman un puente alquileno con 2 a 6 átomos de carbono; R17 es hidrógeno; y R18 es hidrógeno o alquilo con 1 a 4 átomos de carbono .

8. Un procedimiento para preparar compuestos que tienen la unidad estructural de la formula (I) como se describió anteriormente, que comprende en un primer etapa, reaccionar un compuesto que comprende una unidad estructural de la fórmula (III) con un compuesto que comprende una unidad estructural de la fórmula IV Halógeno R1 (IV) , en donde Halógeno es F, Cl, Br o I y Rx es como se definió en la reivindicación 1, y en una segunda etapa, llevar a cabo una reacción de Wittig empleando una sal de fosfonio, con el producto de reacción así obtenido.

9. Un procedimiento para preparar compuestos de la fórmula (II) que comprende reaccionar un compuesto de la fórmula (V) en donde los radicales R4 , R5, R6 y R7 son como se definieron en la reivindicación 2, con un compuesto de la fórmula IV) Halógeno en donde los radicales Rl r R2 y R3 son como se definieron en la reivindicación 2 y Halógeno es F, Cl , Br o í, y en una segunda etapa, conducir una reacción de Wittig con el producto de reacción así obtenido, usando una sal fosfonio de la fórmula VII R?7R18 CH-P (fenil) 3+X" (VII), en donde R17 y R18 son como se definió en la reivindicación 2, y X es F, Cl , Br, I o tetrafluoroborato .

10. Un procedimiento para preparar un compuesto de la fórmula (VII) en donde los radicales R4 , R5, R6 y R7 tienen los significados dados en la reivindicación 2, que somprende exponer un compuesto de la fórmula (II) de acuerdo con la reivindicación 2, a luz que tiene una longitud de onda desde 200 nm a 650 nm.

11. Una composición caracterizada porque comprende A) al menos un compuesto que tiene una unidad estructural de la fórmula (I) de conformidad con la reivindicación 1 y B) al menos un compuesto orgánico capaz de reacción de substitución o adición catalizada por base.

12. Una composición de conformidad con la reivindicación 11, caracterizada porque el componente B) es un material orgánico entrelazable o polimerizable aniónicamente .

13. Una composición de conformidad con la reivindicación 11, caracterizada porque el componente B) es uno de los siguientes sistemas: a) copolímeros acrilato que tienen grupos secundarios alcoxisilano o alcoxisiloxano; b) sistemas de dos componentes que comprenden poliacrilatos que contienen grupos hidroxilo, poliésteres y/o poliéteres y poliisocianatos alifáticos o aromáticos; c) sistemas de dos componentes que comprenden poliacrilatos funcionales y un poliepóxido, en donde el poliacrilato contiene grupos carboxilo, anhídrido; d) sistemas de dos componentes que comprenden poliacrilatos, poliésteres y/o poliéteres que contienen grupo hidroxilo modificados con silicona o modificados con flúor y poliisocianatos alifáticos o aromáticos; e) sistemas de dos componentes que comprenden (poli) cetiminas y poliisocianatos alifáticos o aromáticos; f) sistemas de dos componentes que comprenden (poli) cetiminas y resinas acrilato insaturadas o resinas acetoacetato o metil a-acrilamidometilglicolato; h) sistemas de dos componentes que comprenden (poli) oxazolidinas y poliacrilatos que contienen grupos anhídrido o resinas acrilato insaturadas o poliisocianatos; i) sistemas de dos componentes que comprenden poliacrilatos epoxi funcionales y poliacrilatos que contienen grupo amino; 1) polímeros basados en alil glicidil éter; m) sistemas de dos componentes que comprenden un (poli) alcohol y un (poli) isocianato; n) sistemas de dos componentes que comprenden un compuesto carbonilo a, ß-etilénicamente insaturado y un polímero que contiene grupos CH2 activados.

14. Una composición de conformidad con la reivindicación 11, caracterizada porque el componente B) es una resina epoxi o una mezcla de resinas epoxi diferentes.

15. Una composición de conformidad con la reivindicación 11, caracterizada porque está presente en una cantidad desde 0.01 a 10% en peso, con base en el componente B) .

16. Una composición de conformidad con la reivindicación 11, caracterizada porque adicionalmente comprende tioxantonas, oxazinas, acridinas, fenazinas y rodaminas .

17. Un método para implementar reacciones catalizadas por base, caracterizado porque comprende someter una composición de conformidad con la reivindicación 11, a irradiación con luz que tiene una longitud de onda desde 200 nm a 650 nm.

18. Un método de conformidad con la reivindicación 17, caracterizado porque se lleva a cabo calentamiento durante o después de exposición a la luz.

19. El uso de un compuesto orgánico de conformidad con la reivindicación 1, caracterizado porque se emplea como fotoiniciador para reacciones de substitución o adición catalizadas con base, inducidas fotoquímicamente ,

20. El uso de un compuesto orgánico de conformidad con la reivindicación 19, caracterizado porque se emplea para producir revestimientos, composiciones de moldeo o capas fotoestructuradas .

21. Un substrato revestido que se ha cubierto al menos en una superficie con una composición de conformidad con la reivindicación 11.

22. Una composición polimerizada o entrelazada de conformidad con la reivindicación 11.

23. Un método de conformidad con la reivindicación 17, para producir revestimientos, composiciones de moldeo o capas fotoestructuradas .