MX2013001505A

MX2013001505A - Encristalado que tiene propiedades de control solar.

Info

Publication number: MX2013001505A
Application number: MX2013001505A
Authority: MX
Inventors: Bruno Mauvernay; Emilie Charlet; Laura Jane Singh; Charlotte Charlotte
Original assignee: Saint Gobain
Priority date: 2010-08-10
Filing date: 2011-07-22
Publication date: 2013-02-27
Also published as: CA2806251C; CN103025678B; EA023332B1; US9354368B2; EP2603469A1; FR2963788B1; WO2012020189A1; CA2806251A1; JP2013535403A; PT2603469T; BR112013001564A2; FR2963788A1; ES2701439T3; EP2603469B1; US20130155496A1; CN103025678A; BR112013001564B1; PL2603469T3; EA201390212A1; MX347558B

Abstract

La invención se refiere a un encristalado de control solar que comprende un sustrato de vidrio y un apilamiento de múltiples capas que tiene la función de control solar, el apilamiento de múltiples capas incorpora una película que absorbe selectivamente la radiación infrarroja, cuya longitud de onda es mayor de 800 nm, la película absorbente consiste de un óxido de titanio sustituido con un elemento X seleccionado entre Nb o Ta, el porcentaje atómico [X/Ti + X] se encuentra entre aproximadamente 4% y aproximadamente 9% y el espesor de la película absorbente se encuentra entre aproximadamente 20 y aproximadamente 200 nanómetros.

Description

ENCRISTALADO QUE TIENE PROPIEDADES DE CONTROL SOLAR CAMPO DE LA INVENCIÓN La invención se refiere al campo de los sustratos o artículos de vidrio, del tipo de encristalado arquitectónico o de automóvil, que comprende, en su superficie, recubrimientos de película delgada que les proporcionan propiedades de control solar. El término "encristalado" se entiende en la presente invención que significa cualquier producto de vidrio que consiste de uno o más sustratos de vidrio, en particular encristalado simple, encristalado doble, encristalado triple, etc. La expresión "control solar" se entiende en la presente invención que significa la capacidad del encristalado para limitar el flujo de energía, especialmente el flujo de radiación infrarroja (IR), que pasa a través de él desde el exterior hasta el interior de la habitación o el compartimento de pasajeros, preservando al mismo tiempo la transmisión de luz suficiente, es decir típicamente superior a 30, de hecho 40 o incluso 50%.

Tal encristalado, equipado con múltiples capas de película delgada, por lo tanto actúa en la radiación solar incidente y hace posible la protección solar y/o el aislamiento térmico del compartimento de pasajeros o la habitación. Además, estos recubrimientos deben ser estéticamente agradables, es decir, deben tener un color suficientemente neutro, tanto en transmisión como en reflexión, de manera que los usuarios no se incomoden, o alternativamente un tinte ligeramente azul o verde, especialmente en el campo arquitectónico. Los más simples de estos recubrimientos son convencionalmente depositados utilizando técnicas de deposición tipo CVD o más comúnmente, en la actualidad, utilizando técnicas de deposición por pulverización al vacio, a menudo llamada pulverización con magnetrón en el campo, especialmente cuando el recubrimiento consiste de un apilamiento de múltiples capas más complicado de películas sucesivas.

Más comúnmente, los apilamientos de múltiples capas de película delgada que tienen propiedades de control solar comprenden uno o de hecho más de una película activa o películas. La expresión "película activa" se entiende que significa una película que tiene un efecto sustancial en el flujo de radiación solar que pasa a través del encristalado. Tal película activa, como se sabe, puede funcionar tanto principalmente en el modo de reflexión, reflejando la radiación infrarroja, o principalmente, en el modo de absorción, absorbiendo la radiación infrarroja.

En particular, los apilamientos de múltiples capas más eficaces disponibles en el mercado en la actualidad incorporan al menos una película metálica de plata que funciona esencialmente en el modo de reflexión, reflejando la mayor parte de la radiación IR (infrarroja) incidente. Estos apilamientos de múltiples capas son los más comúnmente llamados apilamientos de múltiples capas de baja E (baja emisividad) . Estas películas sin embargo son muy sensibles a la humedad y por lo tanto sólo se utilizan en encristalados dobles, en la cara 2 ó 3 de estos últimos, para ser protegidos de la humedad. Los apilamientos de múltiples capas de acuerdo con la invención no comprenden tales películas del tipo de plata.

En el campo también se han descrito otras películas de metal con una función de control solar, que comprenden las películas funcionales del tipo Nb, Ta o W o nitruros de estos metales, como se describe por ejemplo en la solicitud WO 01/21540. Sin embargo, dentro de estas películas, la radiación solar esta vez se absorbe, pero no selectivamente, es decir, la radiación IR (es decir, radiación que tiene una longitud de onda comprendida entre aproximadamente 780 nm y 2500 nm) y la radiación visible se absorben no selectivamente. Tales unidades de encristalado por lo tanto tienen selectividades, como se describe por la relación TL/g, cercana a 1 (factor de transmisión de luz/factor solar g, como se define en la norma EN 410 (o NF EN410)). Como se sabe, el factor de transmisión de la luz o transmisión de la luz TL convencionalmente corresponde al porcentaje del flujo de la luz incidente, es decir, en el intervalo de longitud de onda de 380 a 780 nm, que pasa a través del encristalado, bajo iluminante D6s.

Como se sabe, el factor solar g es igual a la relación de la energía que pasa a través del encristalado (es decir, que entra en los sitios) a la energía solar incidente. Más particularmente, éste corresponde a la suma del flujo transmitido directamente a través del encristalado y el flujo absorbido por el encristalado (incluyendo en él los apilamientos de múltiples capas de película delgada opcionalmente presentes en una de sus superficies) y luego posiblemente reemitido hacia el interior (el ambiente) .

En general, todas las características luminosas presentadas en la presente descripción se obtienen de acuerdo con los principios y métodos descritos en la norma EN 410 europea (y francesa) , en relación con la determinación de las características luminosas y solares de encristalados utilizados como vidrio en edificios.

BREVE DESCRIPCIÓN DE LA INVENCIÓN Un objetivo de la presente invención es por lo tanto proporcionar encristalado que comprende un apilamiento de múltiples capas de película delgada que le da propiedades de control solar y que tiene una alta selectividad, en el sentido antes descrito, es decir, una relación TL/g mucho mayor que 1, el apilamiento de múltiples capas es durable sin requerir medidas especiales de precaución. Otro objetivo de la presente invención es proporcionar encristalado de control solar en el que el apilamiento de múltiples capas es capaz de preservar, especialmente después de un tratamiento térmico tal como un temple, especialmente en la transmisión o en reflexión, un color sustancialmente neutro o incluso un tinte azul-verde no muy fuerte, según lo solicitado en el sector de la construcción en particular. Las expresiones "color neutro" o "tinte azul-verde" se entienden en la presente invención que significan, en el sistema de color (L*, a*, b*), los valores a* y b* que son inferiores o cercanos a 10 y negativos .

En el encristalado de acuerdo con la invención, es asi ventajosamente posible seleccionar la radiación que pasa a través de él, mediante la promoción de la transmisión de las ondas de luz, es decir, las ondas de luz que tienen longitudes de onda situadas entre aproximadamente 380 y 780 nm, y absorben selectivamente la mayor parte de la radiación infrarroja, es decir, radiación que tiene una longitud de onda mayor que 780 nm, en particular cerca de la radiación infrarroja, es decir, radiación con longitudes de onda comprendidas entre aproximadamente 780 nm y aproximadamente 1400 nm.

De acuerdo con la invención, por lo tanto es posible para la habitación o compartimiento del pasajero prótegido por el encristalado permanecer iluminado mientras que la cantidad de calor que entra en el mismo se reduce al mínimo.

De acuerdo con otra ventaja de la presente invención, los encristalados equipados con múltiples capas de acuerdo con la invención son simples de producir y también reducen sustancialmente los costos de producción, en comparación con otros paneles de encristalados conocidos de control solar, especialmente aquellos que comprenden un apilamiento de múltiples capas a base de plata.

Más precisamente, la presente invención se refiere a un encristalado de control solar que comprende un sustrato de vidrio y un apilamiento de múltiples capas de película delgada de control solar, el apilamiento de múltiples capas de película delgada incorpora una película que absorbe selectivamente la radiación infrarroja que tiene una longitud de onda mayor de 800 nm, la película absorbente consiste de un óxido de titanio sustituido con un elemento X seleccionado entre Nb o Ta, el porcentaje atómico [X/Ti + X] se encuentra entre aproximadamente 4% y aproximadamente el 9% y el espesor de la película absorbente se encuentra entre 20 y 200 nanómetros.

De acuerdo con modalidades preferidas de la presente invención: - el porcentaje atómico [X/Ti + X] está entre aproximadamente 4% y aproximadamente el 7%, más preferentemente entre aproximadamente 5 y aproximadamente 1I9¾- · - el espesor de la película absorbente se sitúa entre 30 y 100 nanómetros; y - X es niobio.

Preferentemente, de acuerdo con la invención, el encristalado de control solar comprende un apilamiento de múltiples capas que consiste de las siguientes películas en sucesión, a partir de la superficie del sustrato de vidrio: - una o más películas inferiores para proteger la película absorbente de la migración de iones de metales alcalinos procedentes del sustrato de vidrio, que tienen un espesor geométrico en total comprendido entre 5 y 150 nm; - la película absorbente consiste de un óxido de titanio sustituido con un elemento X impurificador seleccionado entre Nb o Ta, preferentemente Nb; y - una o más películas superiores para proteger la película absorbente contra el oxígeno en el aire, especialmente durante un tratamiento térmico tal como un temple o un recocido, la película o películas en total tienen un espesor geométrico comprendido entre 5 y 150 nm.

Preferentemente, la película o películas protectoras inferiores y superiores se seleccionan a partir de: nitruro de silicio SÍ3N4 opcionalmente impurificado con Al, Zr o B; nitruro de aluminio A1N; óxido de estaño; un óxido mixto de estaño o zinc SnyZn-Ox; óxido de silicio S1O2; óxido de titanio T1O2 impurificado; y oxinitruros de silicio SiOxNy.

De acuerdo con una modalidad posible y preferida de la invención, especialmente si el encristalado debe someterse a un tratamiento térmico tal como un temple, el apilamiento de múltiples capas incorpora además, entre las películas protectoras y la película absorbente, una película de metal, opcionalmente parcial o completamente oxidada y/o nitrurada, que tiene un espesor menor que 5 nm, preferentemente que tiene un espesor menor que 3 nm, o incluso menor que 2 nm.

Esta película delgada será parcial o totalmente oxidada o nitrurada y por lo tanto protegerá la película absorbente, por ejemplo, cuando la película superior se deposite por pulverización reactiva en presencia de nitrógeno, como es el caso para la deposición de una película protectora superior de Si3N4, o incluso será oxidada durante un tratamiento térmico de tipo temple. La película delgada se basa preferentemente en un metal como el niobio Nb, tántalo Ta, titanio Ti, cromo Cr, níquel Ni o una aleación de al menos dos de estos metales tal como una aleación de NiCr. Si está ideada solamente para actuar como una película "de sacrificio", puede ser extremadamente delgada, especialmente de aproximadamente 0.2 a 1.5 y preferentemente de 0.5 a 1.5 nm de espesor, a fin de penalizar el apilamiento de múltiples capas tan poco como sea posible en términos de transmisión de luz. También es posible darle un espesor alcanzando posiblemente tanto como 5 nm si se usa también para ajustar, hasta el nivel deseado, la cantidad de luz transmitida, especialmente si está ideada para la fabricación de encristalado de control solar con un TL reducido.

Preferentemente, el metal se selecciona entre Ti o una aleación de NiCr.

De acuerdo con una modalidad de buen desempeño, el apilamiento de múltiples capas comprende las siguientes películas en sucesión, a partir de la superficie del sustrato de vidrio: - una película inferior que tiene un espesor que se encuentra entre 5 y 150 nm, elegida entre: nitruro de silicio SÍ3I opcionalmente impurificado con Al, Zr o B; nitruro de aluminio A1N; óxido de estaño; un óxido mixto de estaño o zinc SnyZn20x; óxido de silicio Si02; óxido de titanio Ti02 impurificado; y oxinitruros de silicio SiOxNy; - la película absorbente consiste de un óxido de titanio sustituido con Nb, el porcentaje atómico [Nb/Ti + Nb] en la película absorbente está comprendido entre aproximadamente 4% y aproximadamente 7%, y su espesor está comprendido entre 30 y 100 nm; - una película superior que tiene un espesor comprendido entre 5 y 150 nm, seleccionada entre: nitruro de silicio SÍ3N4 opcionalmente impurificado con Al, Zr o B; nitruro de aluminio A1N; óxido de estaño; un óxido mixto de estaño o zinc SnyZnzOx; óxido de silicio S1O2; óxido de titanio TÍO2 impurificado; y oxinitruros de. silicio SiOxNy; y preferentemente, una película de metal de titanio, opcionalmente, parcial o completamente oxidada y/o nitrurada, entre las películas protectoras y la película absorbente, que tiene un espesor menor que 3 nm.

A modo de ejemplo, el encristalado de control solar de acuerdo con la invención comprende un apilamiento de múltiples capas que consiste de las siguientes películas en sucesión, a partir de la superficie del sustrato de vidrio : - una película de SÍ3N4 con un espesor comprendido entre 5 y 100 nm, especialmente entre 5 y 70 nm; - una película de metal de titanio, parcial o completamente oxidada y/o nitrurada, que tiene un espesor geométrico menor que 2 nm; la película absorbente de la radiación infrarroja, consiste de un óxido de titanio sustituido con Nb, el porcentaje atómico [Nb/Ti + Nb] en la película absorbente se encuentra entre aproximadamente 4% y aproximadamente 7%, y su espesor está comprendido entre 30 y 100 nm; - una película de metal de titanio, parcial o completamente oxidada y/o nitrurada, que tiene un espesor geométrico inferior a 2 nm; y - una película de Si3N4 con un espesor comprendido entre 5 y 100 nm, especialmente entre 5 y 70 nm.

La invención también se refiere a un método para la fabricación de encristalados de control solar, que comprende las etapas siguientes: - fabricar un sustrato de vidrio; y - depositar un apilamiento de múltiples capas de película delgada sobre el sustrato de vidrio usando una técnica de pulverización catódica al vacío con magnetrón, en donde la película absorbente que consiste de un óxido de titanio sustituido con un elemento X impurificador elegido de Nb o Ta se obtiene por pulverización de un objetivo que consiste en un óxido de titanio sustituido con un elemento X seleccionado entre Nb o Ta, el porcentaje atómico [X/Ti + X] se encuentra entre aproximadamente 4% y aproximadamente 9%, en una atmósfera residual de argón o una mezcla de argón y oxígeno.

Un método alternativo para la fabricación de encristalados de control solar de acuerdo con la invención comprende las siguientes etapas: - fabricación de un sustrato de vidrio; y - deposición de un apilamiento de múltiples capas de película delgada sobre el sustrato de vidrio usando una técnica de pulverización catódica al vacío con magnetrón, en donde la película absorbente consiste de un óxido de titanio sustituido con un elemento X impurificador elegido de Nb o Ta y se obtiene por pulverización de un objetivo compuesto de una mezcla de metal de titanio y un metal X elegido entre Nb o Ta, el porcentaje atómico [X/Ti + X] en el objetivo se encuentra entre aproximadamente 4% y aproximadamente 9%, en una atmósfera residual de oxígeno y argón .

Los siguientes ejemplos se dan únicamente a modo de ilustración y no limitan, en cualquiera de sus aspectos descritos, el alcance de la presente invención. Para fines de comparación, todos los apilamientos de múltiples capas de los ejemplos siguientes se sintetizaron sobre sustratos de vidrio montados como doble encristalado. Todas las películas de los apilamientos de múltiples capas se depositaron usando técnicas convencionales de deposición al vacío por pulverización de magnetrón. Para fines de comparar directamente su desempeño, todas las unidades de encristalado finalmente obtenidas en los ejemplos siguientes eran unidades de doble encristalado que consistían de dos sustratos de vidrio Planilux® que tenían 6 mm de espesor, separadas por una cavidad llena de argón que fue de 16 mm de espesor (6/16Ar/6).

Ejemplo 1: En este ejemplo de acuerdo con la invención, un apilamiento de múltiples capas que consiste de la siguiente secuencia de películas se depositó sobre un sustrato de vidrio Planilux® usando técnicas convencionales de magnetrón : Vidrio / Si3N / Ti / Ti02:Nb / Ti / Si3N4 (40 nm) (1 nm) (50 nm) (1 nm) (40 nm) La película de Ti02 se obtuvo utilizando pulverización por magnetrón de un objetivo de Ti02 que comprende 6% de niobio en ( [Nbat/ (Tiat+Nbat) = 0.06]). EPMA (microanálisis de sonda de electrones) y SIMS (espectrometría de masa iónica secundaria) se utilizaron para comprobar si el nivel de impurificación en la película finalmente obtenida era sustancialmente el mismo que en la composición del objetivo.

El sustrato equipado con su apilamiento de múltiples capas se sometió a continuación a un tratamiento térmico que consistió en calentar a 650°C durante unos pocos minutos seguido de un temple. Este tratamiento es representativo de las condiciones experimentadas por el encristalado si este último tiene que ser templado o incluso curvado.

El sustrato se montó dentro de una unidad de doble encristalado con otro sustrato Planilux ® (6/16Ar/6), de tal manera que el apilamiento de múltiples capas de película delgada se situó en la cara 2 del apilamiento de múltiples capas.

Con el fin de determinar la selectividad de este doble encristalado, se midieron sus factores TL y g.

Ejemplo comparativo 1: En este ejemplo, se obtuvo un apilamiento de múltiples capas sustancialmente idéntico al ejemplo 1 de la misma manera, excepto que el objetivo utilizado para depositar la película de Ti02 esta vez no contenía niobio.

Para determinar la selectividad de este doble encristalado, se midieron sus factores TL y g en las mismas condiciones que anteriormente.

Ejemplo comparativo 2: En este ejemplo, se utilizó una unidad de doble encristalado (6/16Ar/6) comercializada por Saint-Gobain Glass Francia, bajo la referencia Cool Lite KN 164, cuya película activa, es decir la película que actúa sobre la radiación solar que pasa a través del encristalado, era una película de plata de aproximadamente 10 nanómetros de espesor, la película de plata se colocó en un apilamiento de múltiples capas depositado sobre la cara 2 del doble encristalado .

Con el fin de determinar la selectividad de este doble encristalado disponible comercialmente, se midieron sus factores TL y g en las mismas condiciones que anteriormente .

Ejemplo comparativo 3: En este ejemplo, se utilizó una unidad de doble encristalado (6/16Ar/6) comercializada por Saint-Gobain Glass Francia, bajo la referencia Cool Lite ST 167, cuya película activa, es decir la película que actúa sobre la radiación solar que pasa a través del encristalado, era una película de nitruro de niobio de aproximadamente 15 nanómetros de espesor, la película de nitruro de niobio se colocó en un apilamiento de múltiples capas depositado sobre la cara 2 del doble encristalado.

Para determinar la selectividad de este doble encristalado disponible comercialmente, se midieron sus factores TL y g en las mismas condiciones que anteriormente .

Ejemplo comparativo 4: Este ejemplo fue idéntico al ejemplo 1, pero con las siguientes modificaciones: la película de Ti02 se obtuvo mediante la técnica de pulverización con magnetrón utilizando un objetivo de T1O2 que comprendía aproximadamente 1.7% atómico de niobio; y la velocidad de recorrido del sustrato de vidrio a través de la cámara de magnetrón se ajustó de forma que la película de Ti02/Nb depositada tuviera un espesor igual a 300 nm.

Las propiedades de las diversas unidades de encristalado obtenidas, medidas de acuerdo con la norma EN 410, se dan en la tabla 1 a continuación: Tabla 1 La comparación de los datos dados en la tabla 1 muestra que una película de Ti02 impurificada, de 50 nm de espesor, (ejemplo comparativo 1) no es selectiva y parece relativamente transparente, tanto a la luz visible como al calor, en particular a infrarrojo térmico. La introducción del Nb impurificador en esta película, en altas concentraciones de aproximadamente 6% de acuerdo con la invención (ejemplo 1) , hace que sea posible, sin embargo, mediante la preservación de un espesor de película que es igualmente tan pequeño, aumentar sustancialmente la selectividad del encristalado. Por lo tanto, los niveles de selectividad así obtenidos están más cerca de los observados para los apilamientos de múltiples capas de baja E, basados en una película de plata (ejemplo comparativo 2), que sin embargo no funcionan en el modo de absorción en el infrarrojo cercano, sino en el modo de reflexión en el infrarrojo cercano. Tal resultado es, a este respecto, muy sorprendente .

La comparación del ejemplo 1 de acuerdo con la invención y el ejemplo comparativo 3 indica que las unidades de encristalado equipadas con películas activas que funcionan principalmente por la absorción de la radiación solar, de acuerdo con la invención, son mucho más selectivas que otras películas · conocidas de control solar que funcionan de acuerdo con el mismo principio, en particular las películas a base de niobio o a base de nitruro de niobio.

Finalmente, la comparación del Ejemplo 1 de acuerdo con la invención y el ejemplo comparativo 4 indica que la combinación de un nivel de impurificación de niobio cercano al 6% y un pequeño espesor de película (50 nm) hace posible, en última instancia, obtener apilamientos de múltiples capas cuya selectividad es mayor que la de apilamientos de múltiples capas que comprenden una película activa cuyo nivel de impurificación es menor, pero su grosor es seis veces más grande. Tal resultado es inesperado, ya que se sabe que las propiedades de reflexión de infrarrojos de una película de óxido transparente, tal como Ti02 aumentan en gran medida con su espesor.

Los valores colorimétricos de los encristalados, en el sistema (L*, b*, a*) también se midieron en transmisión, en reflexión interna (lado del compartimiento de pasajeros) y en reflexión externa (lado exterior) y se dan en la tabla 2 a continuación.

Tabla 2 Los datos recopilados en la tabla 2 muestran las propiedades ideales de colorimetria de encristalados equipados con apilamientos de múltiples capas de acuerdo con la invención: los parámetros a* y b* de acuerdo con el ejemplo 1 son siempre negativos y relativamente bajos, independientemente de la posición y el ángulo de visión del observador, en transmisión como en reflexión.

Tales propiedades colorimétricas dan por resultado que el encristalado tenga un ligero color azul-verde o neutro, como actualmente se desea en el campo arquitectónico .

De acuerdo con otra ventaja, los apilamientos de múltiples capas de control solar de acuerdo con la presente invención, cuya película activa se basa en un óxido de titanio impurificado con un espesor relativamente pequeño, es decir, unas pocas decenas de nanómetros, son extremadamente simples y baratos de fabricar, especialmente utilizando la técnica de deposición al vacío por pulverización catódica de magnetrón: El pequeño espesor de la película de óxido de titanio específicamente hace un aumento no insignificante de la productividad posible, ya que la velocidad de recorrido del sustrato a través de la cámara de deposición es directamente proporcional al espesor deseado de la película.

Además, las pruebas de durabilidad adicionales mostraron que tales películas podrían ser fácilmente depositadas en la cara 2 de una unidad de encristalado simple, sin correr el riesgo de degradación de este último, ya sea a través de acción química (humedad) o por medio de acción mecánica (abrasión del apilamiento de múltiples capas) .

Claims

REIVINDICACIONES

1. Encristalado de control solar automovilístico o arquitectónico que comprende un sustrato de vidrio y un apilamiento de múltiples capas de película delgada de control solar, que actúa sobre la radiación solar con el fin de habilitar la protección solar y/o el aislamiento térmico del compartimiento de pasajeros o de la habitación, el apilamiento de múltiples capas de película delgada que incorpora una película para absorber selectivamente la radiación infrarroja tiene una longitud de onda mayor de 800 nm, la película absorbente consiste de un óxido de titanio sustituido con un elemento X impurificador elegido de Nb o Ta, el porcentaje atómico [X/Ti + X] se encuentra entre aproximadamente 4% y aproximadamente 9% y el espesor de la película absorbente se encuentra entre aproximadamente 20 nanometros y aproximadamente 200 nanometros.

2. Encristalado de control solar según la reivindicación 1, en donde el porcentaje atómico [X/Ti + X] está entre aproximadamente 4% y aproximadamente 7%.

3. Encristalado de control solar según cualquiera de las reivindicaciones 1 y 2, en donde el espesor de la película absorbente se encuentra entre 30 y 100 nanometros.

4. Encristalado de control solar según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde X es niobio.

5. Encristalado de control solar según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el apilamiento de múltiples capas consiste de las siguientes películas en sucesión, a partir de la superficie del sustrato de vidrio: una o más películas inferiores para proteger la película absorbente de la migración de iones de metales alcalinos procedentes del sustrato de vidrio, que tienen un espesor geométrico en total comprendido entre 5 y 150 nm; la película absorbente consiste de un óxido de titanio sustituido con un elemento X impurificador seleccionado entre Nb o Ta, preferentemente Nb; y una o más películas superiores para proteger la película absorbente contra el oxígeno en el aire, especialmente durante un tratamiento térmico tal como un temple o un recocido, la película o películas en total tienen un espesor geométrico comprendido entre 5 y 150 nm.

6. Encristalado de control solar según la reivindicación precedente, en donde la película o películas protectoras inferiores y superiores se seleccionan a partir de: nitruro de silicio Si3N4 opcionalmente impurificado con Al, Zr o B; nitruro de aluminio A1N; óxido de estaño; un óxido mixto de estaño o zinc SnyZnzOx; óxido de silicio Si02; óxido de titanio Ti02 impurificado; y oxinitruros de silicio SiOxNy.

7. Encristalado de control solar según cualquiera de las reivindicaciones 5 y 6, en donde el apilamiento de múltiples capas incorpora además, entre las películas protectoras superiores e inferiores y la película absorbente, una película metálica, opcionalmente parcial o completamente oxidada y/o nitrurada, que tiene un espesor menor que 5 nm, preferentemente que tiene un espesor menor que 3 nm.

8. Encristalado de control solar según la reivindicación precedente, en donde el metal se selecciona entre Ti o una aleación de NiCr.

9. Encristalado de control solar según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el apilamiento de múltiples capas comprende las siguientes películas en sucesión, a partir de la superficie del sustrato de vidrio: una película inferior que tiene un espesor que se encuentra entre 5 y 150 nm, elegida entre: nitruro de silicio Si3N opcionalmente impurificado con Al, Zr o B; nitruro de aluminio A1N; óxido de estaño; un óxido mixto de estaño o zinc SnyZn2Ox; óxido de silicio Si02; óxido de titanio Ti02 impurificado; y oxinitruros de silicio SiOxNy; la película absorbente consiste de un óxido de titanio sustituido con Nb, el porcentaje atómico [Nb/Ti + Nb] en la película absorbente está comprendido entre aproximadamente 4% y aproximadamente 7% y su espesor está comprendido entre 30 y 100 nm; una película superior que tiene un espesor comprendido entre 5 y 150 nm, seleccionada entre: nitruro de silicio Si3N4 opcionalmente impurificado con Al, Zr o B; nitruro de aluminio A1N; óxido de estaño; un óxido mixto de estaño o zinc SnyZnzOx; óxido de silicio Si02; óxido de titanio Ti02 impurificado; y oxinitruros de silicio SiOxNy; y preferentemente, una película de metal de titanio, opcionalmente, parcial o completamente oxidada y/o nitrurada, entre las películas protectoras y la película absorbente, que tiene un espesor menor que 2 nm.

10. Encristalado de control solar según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, en donde el apilamiento de múltiples capas consiste de las siguientes películas en sucesión, a partir de la superficie del sustrato de vidrio: una película de Si3N4 con un espesor comprendido entre 5 y 100 nm; una película de metal de titanio, parcial o completamente oxidada y/o nitrurada, que tiene un espesor geométrico menor que 2 nm; la película absorbente de la radiación infrarroja, consiste de un óxido de titanio sustituido con Nb, el porcentaje atómico [Nb/Ti + Nb] en la película absorbente se encuentra entre aproximadamente 4% y aproximadamente 7%, y su espesor está comprendido entre 30 y 100 nm; una película de metal de titanio, parcial o completamente oxidada y/o nitrurada, que tiene un espesor geométrico inferior a 2 nm; y una película de SÍ3N4 con un espesor comprendido entre 5 y 100 nm.

11. Método para la fabricación de encristalados de control solar según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que comprende las etapas siguientes: fabricar un sustrato de vidrio; y depositar un apilamiento de múltiples capas de película delgada sobre el sustrato de vidrio usando una técnica de pulverización catódica al vacío con magnetrón, en donde la película absorbente que consiste de un óxido de titanio sustituido con un elemento X impurificador elegido de Nb o Ta se obtiene por pulverización de un objetivo que consiste de un óxido de titanio sustituido con un elemento X impurificador seleccionado entre Nb o Ta, el porcentaje atómico [X/Ti + X] se encuentra entre aproximadamente 4% y aproximadamente 9%, en una atmósfera residual de argón o una mezcla de argón y oxígeno.

12. Método para la fabricación de encristalados de control solar según cualquiera de las reivindicaciones anteriores, que comprende las etapas siguientes: fabricación de un sustrato de vidrio; y deposición de un apilamiento de múltiples capas de película delgada sobre el sustrato de vidrio usando una técnica de pulverización catódica al vacío con magnetrón, en donde la película absorbente consiste de un óxido de titanio sustituido con un elemento X impurificador elegido de Nb o Ta y se obtiene por pulverización de un objetivo compuesto de una mezcla de metal de titanio y un metal X elegido entre Nb o Ta, el porcentaje atómico [X/Ti + X] en el objetivo se encuentra entre aproximadamente 4% y aproximadamente 9%, en una atmósfera residual de oxigeno y argón.