Claims (6)
배스내의 케미컬 성분비 및 레벨을 일정하게 유지하기 위해 일정량의 케미컬을 배스에 추가로 공급하는 것으로, 서로 다른 케미컬이 일정량 저장된 복수개의 정량공급탱크와, 상기 정량공급탱크로부터 배스로 케미컬을 공급하기 위한 정량공급라인으로 이루어진 반도체 습식식각설비의 케미컬 정량공급장치에 있어서, 상기 정량공급탱크가 적어도 배스보다 높은 위치에 설치되어 정량공급탱크에 저장된 케미컬이 자유낙하하여 정량공급라인으로 흐르도록 하고, 상기 정량공급라인상에 정량의케미컬을 일시저장하여 정량의 케미컬만 배스로 공급하는 정량공급수단을 설치하여 구성됨을 특징으로 하는 반도체 습식식각설비의 케미컬 정량공급장치.A predetermined amount of chemical is further supplied to the bath so as to keep the chemical component ratio and the level in the bath constant, and a plurality of fixed amount supply tanks in which different kinds of chemicals are stored in a predetermined amount, a fixed amount supply unit for supplying the chemical from the fixed amount supply tank to the bath A chemical quantitative supply apparatus for a semiconductor wet etching system comprising a supply line, wherein the quantitative supply tank is installed at a position higher than at least a bath so that a chemical stored in a quantitative supply tank flows freely down to a quantitative supply line, And a quantitative supply means for temporarily storing a predetermined amount of the chemical on the line and supplying only a predetermined amount of the chemical to the bath.
제1항에 있어서, 상기 정량공급수단은 정량공급라인상에 에어암으로 작동하는 상측에어밸브 및 하측에어밸브를 소정간격 이격설치하여 이들 사이에 일정량의 케미컬이 저장되는 정량저장라인이 형성되도록 하고, 상기 상측 에어밸브 및 하측에어밸브를 선택적으로 개폐조작하는 것에 의해 정량저장라인에 저장된 정량의 케미컬이 배스에 공급되도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 반도체 습식식각설비의 케미컬 정량공급장치.[2] The apparatus of claim 1, wherein the quantitative supply means comprises: an upper air valve and a lower air valve disposed on a fixed amount supply line at predetermined intervals to form a quantitative storage line in which a certain amount of chemical is stored therebetween And a chemical quantity of the chemical stored in the quantity storage line is supplied to the bath by selectively opening and closing the upper air valve and the lower air valve.
제2항에 있어서, 상기 정량저장라인에 불활성가스 공급라인을 연결하고, 상기 불활성가스 공급라인에 에어로 작동하는 에어밸브를 설치하여 선택적으로 불활성가스를 정량저장라인에 공급하는 것에 의해 정량저장라인내에 저장된 정량의 케미컬이 배스에 강제 공급되도록 구성됨을 특징으로 하는 상기 반도체 습식식각설비의 케미컬 정량공급장치.The method according to claim 2, wherein an inert gas supply line is connected to the quantitative storage line, an air valve is provided in the inert gas supply line to operate air, and an inert gas is selectively supplied to the quantitative storage line Wherein the chemical is supplied to the bath in a controlled quantity.
제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 정량저장라인을 투명체로 형성하고, 근접부외에 케미컬유무감지센서를 설치하여 구성됨을 특징으로 하는 상기 반도에 습식식각설비의 케미컬 정량공급장치.The apparatus of claim 2 or 3, wherein the quantitative storage line is formed as a transparent body, and a chemical presence / absence detection sensor is provided in proximity to the quantitative storage line.
제3항에 있어서, 상기 불활성가스 공급라인상에 케미컬의 역류를 막기 위한 체크벨브를 설치하여 됨을 특징으로 하는 상기 반도체 습식식각설비의 케미컬 정량공급장치.The apparatus of claim 3, wherein a check valve is provided on the inert gas supply line to prevent reverse flow of the chemical.
제3항에 있어서, 상기 정량공급탱크에 저장되는 케미컬이 일정한 레벨을 유지하도로 한 선을 감지하는 제1레벨감지센서, 상한선을 감지하는 제2레벨감지센서, 케미컬이 넘치지 않도록 감지하는 제3레벨감지센서가 설치되며, 상기 제1레벨감지센서의 끝단은 정량공급탱크의 바닥으로부터 120∼170mm 높이에 오도록 설치되고, 제2레벨 감지센서의 끝단은 상기 제1레벨감지센서의 끝단으로부터 40∼60mm 높이에 오도록 설치되며, 제3레벨 감지센서의 끝단은 제2레벨감지센서의 끝단보다 적어도 높은 위치에 오도록 설치됨을 특징으로 하는 상기 반도체 습식식각설비의 케미컬 정량공급장치.The apparatus of claim 3, further comprising: a first level sensor for sensing a line maintained at a constant level of the chemical stored in the fixed amount supply tank; a second level sensor for sensing an upper limit; Wherein the end of the first level sensing sensor is installed at a height of 120 to 170 mm from the bottom of the fixed amount supply tank and the end of the second level sensing sensor is installed at a distance of 40 to 60 mm from the end of the first level sensing sensor. And the end of the third level sensing sensor is installed at a position at least higher than the end of the second level sensing sensor.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: It is disclosed by the contents of the first application.