KR970028876A - 위치검출장치 - Google Patents
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Abstract
시트형상의 레이저빔에 대해서 검출대상의 웨이퍼마크를 계측방향으로 주사하고 그것에 웨이퍼마크에서 발생하는 회절광을 광전변환하므로서 그것의 웨이퍼마크의 X좌표의 관련로서의 마크검출신호 f(X)를 얻는다. 마크검출신호 f(X)에 대해서 수치필타 c(X)를 콘보루션(convolution) 연산해서 구한 강조신호 g(X)에 의거해서 양쪽의 엣지부의 슬라이스레벨(S1,Sr)을 구하고 이를 슬라이스레벨(S1,Sr)과 마크검출신호 f(X) 또는 강조신호 g(X)와의 교점의 좌표 X1, Xr의 평균치를 그것의 웨이퍼마크의 검출위치로 한다.
이에 따라 凹凸의 층차량이 매우 작은 위치검출마크 또는 凹凸의 층차량이 적고 또한 계측방향으로 비대칭으로된 위치검출마크를 사용하는 경우라도 고정밀도로 그것의 위치를 검출한다.
또 예를 들면, 시트형상의 레이저빔에 대하여 검출대상의 웨이퍼마크를 계측방향으로 주사하고 그것의 웨이퍼마크에서 발생하는 회절광을 광전변환 하므로서 그것의 웨이퍼마크의 X좌표의 관수로서의 마크검출신호 f(X)를 얻는다. 미리 별도의 웨이퍼마크에 대해서 검출된 마크검출신호의 변화(엣지)를 강조해서 기준신호 g(X)를 구해두고 기준신호 g(X)와 마크검출신호 f(X)와의 상호상관관수 h(X)를 구하고, 이 상호관수 h(X)의 값이 최대치를 취할때의 X좌표 X1을 마크위치로 한다.
이로 인해, 凹凸의 층차량의 매우 작은 위치검출마크, 또는 凹凸의 층차량이 작고 또한 계측방향으로 비대칭으로 된 위치검출마크를 사용하는 경우라도 고정밀도로 그 위치를 검출한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의한 위치검출장치의 제1의 실시예로서의 얼라이멘트센서를 도시하는 구성도.
Claims (12)
- 처리대상의 기판(W)위의 위치검출마크(13X,15X)에 조명광을 조사하여 상기 위치검출마크로부터 되돌림광(BL,CL)을 수광해서 이 되돌림광의 강도에 대응하는 검출신호(SA,DSA)를 출력하는 검출광학계(11.11A)와, 이 검출광학계에서 출력되는 검출신호에 의거해서 상기 위치검출마크의 위치를 검출하는 신호처리계(31,62)를 갖춘 위치검출장치에 있어서, 상기 검출광학계에서 출력되는 검출신호의 변화를 강조하는 신호강조계(30,61.63)를 설치하고 상기 신호처리계(31,62)는 신호강조계(30,61)에 의해 변화가 강조된 신호를 사용해서 상기 위치검출마크의 위치를 검출하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
- 제1항에 있어서, 상기 신호처리계(31,62)는 상기 신호강조계(30,61,63)에 의해 변화가 강조된 신호에 의거해서 슬라이스레벨(S1,Sr)을 결정하고, 이 결정된 슬라이스레벨에서 상기 검출광학계(11,11A)에서 출력되는 검출신호를 슬라이스해서 상기 위치검출마크의 위치를 검출하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
- 제1항에 있어서, 상기 신호처리계(31,62)는 상기 신호강조계에 의해 변화가 강조된 신호 g(X)에 의거해서 슬라이스레벨(S1,Sr)을 결정하고, 이 결정된 슬라이스레벨에서 상기 신호강조계(30,61,63)에 의해 변화가 강조된 신호 g(X)를 슬라이스해서 상기 위치검출마크의 위치를 검출하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
- 제1항에 있어서, 상기 신호강조계(30,61,63)는 상기 검출광학계에서 출력되는 검출신호내의 소정의 제1의 위치(XO)에 대응하는 신호를 A배하고(A는 양의 실수), 상기 검출신호내의 상기 위치검출마크의 계측방향의 전후에 상기 제1의 위치에서 각각 소정 간격만큼 떨어진 제2 및 제3(Xm,Xp)의 위치에 대응하는 신호를 B배하고(B는 음의 실수), 상기한 A배된 1개의 신호와 B배된 2개의 신호를 가산하는 처리를 하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
- 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 신호강조계(30,61,63)는 상기 검출광학계에서 출력되는 검출신호내의 소정의 주파수성분 이상의 신호의 강도를 강화하는 처리를 하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
- 제1항에 있어서, 상기 검출광학계(27)는 상기 기판위의 위치검출마크(13X)의 근처에 조명광(AL)을 집광하도록 조사하고, 상기 위치검출마크(13X)와 조명광이 상대적으로 주사된 때에 상기 위치검출마크에서 발생하는 되돌림광(BL,CL)을 검출하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
- 제1항에 있어서, 상기 검출광학계(11A)는 상기 기판위의 위치검출마크(15X)의 상을 형성하는 결상광학계(48,50,53)을 갖추고, 상기 위치검출마크의 상의 촬상신호(DSA)를 상기 검출신호(DS)로서 출력하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
- 제7항에 있어서, 상기 결상광학계 중의 위치검출마크(15X)에 대한 퓨리에 변환면의 근처에 위상차필터를 설치하고, 상기 검출광학계를 위상차현미경형의 광학계로 한 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
- 처리대상의 기판위의 위치검출마크에 조명광을 조사하고 상기 위치검출마크로부터의 되돌림광을 수광하고, 이 돌림광의 강도에 대응하는 검출신호를 출력하는 검출광학계를 구비하고, 이 검출광학계에서 출력되는 검출신호에 의거해서 상기 위치검출마크의 위치를 검출하는 위치검출장치에 있어서, 상기 검출신호에 비해서 변화가 강조된 소정의 강조기준신호를 기억하는 기억계(33,64)와, 상기 검출신호와 상기 기억계에서 독출된 상기 강조기준신호를 상대적으로 가로로 어긋내면서 상관관수를 산출하고, 이 상관관수가 소정의 값을 취할 때의 상기 2개의 신호의 상대적인 가로로 어긋난량을 구하는 신호처리계(31,62)를 설치하고, 이 신호처리계에 의해 구해진 상기 상대적인 가로 어긋난량에 의거해서 상기 위치검출마크의 위치를 검출하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
- 제9항에 있어서, 상기 검출광학계를 거쳐서 복수의 위치검출마크에 대해서 차례로 얻어지는 검출신호의 평균신호를 구하고, 이 평균신호의 변화를 강조하는 신호강조계(32,63)을 설치하고, 상기 기준신호로서 상기 신호강조계에 의해 변화가 강조된 신호를 사용하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
- 제10항에 있어서, 상기 신호강조계(32,63)는 상기 평균신호의 변화를 강조함과 동시에 이 변화를 강조된 신호를 계측방향에 대해서 대칭인 형상으로 하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.
- 제10항에 있어서, 상기 신호강조계(32,63)는 상기 평균신호의 소정의 제1의 위치에 대응하는 신호를 A배하고(A는 양의 실수), 상기 평균신호의 상기 제1의 위치에 대해서 계측방향의 전후에 각각 소정간격만큼 떨어진 제2 및 제3의 위치에 대응하는 신호를 B배하고(B는 음의 실수), 상기 A배된 신호와 상기 B배된 2개의 신호를 가산하여 상기 평균신호의 변화를 강조하는 것을 특징으로 하는 위치검출장치.※ 참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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