KR970022521A - 위상반전 마스크 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
위상반전 마스크 및 그 제조방법에 대해 기재되어 있다. 이는, 입사광이 180° 위상반전하는 제1영역과 입사광이 위상반전 없이 그대로 통과하는 제2영역을 구비하는 레벤손형 위상반전 마스크에 있어서, 제2영역에 빛의 투과율을 조절하기 위한 투과율 조절층이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다. 따라서, 광 세기의 차이를 없앨수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 의한 위상반전 마스크를 도시한 단면도이다.
Claims (2)
- 입사광이 180° 위상반전하는 제1영역과 입사광이 위상반전 없이 그대로 통과하는 제2영역을 구비하는 레벤슨형 위상반전 마스크에 있어서, 상기 제2영역에 빛의 투과율을 조절하기 위한 투과율 조절층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
- 입사광이 180° 위상반전하는 제1영역과 입사광이 위상반전 없이 그대로 통과하는 제2영역을 구비하는 레벤슨형 위상반전 마스크를 제조하는 제1단계; 상기 제2영역을 노출시키는 감광막 패턴을 상기 위상반전 마스크상에 형성하는 제2단계; 및 노출된 상기 제2영역의 위상반전 마스크 상에 투과율 조절층을 형성하는 제3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950036471A KR970022521A (ko) | 1995-10-20 | 1995-10-20 | 위상반전 마스크 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950036471A KR970022521A (ko) | 1995-10-20 | 1995-10-20 | 위상반전 마스크 및 그 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970022521A true KR970022521A (ko) | 1997-05-30 |
Family
ID=66584454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950036471A KR970022521A (ko) | 1995-10-20 | 1995-10-20 | 위상반전 마스크 및 그 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970022521A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100844981B1 (ko) * | 2006-12-14 | 2008-07-09 | 삼성전자주식회사 | 위상반전 마스크 및 이의 형성방법 |
-
1995
- 1995-10-20 KR KR1019950036471A patent/KR970022521A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100844981B1 (ko) * | 2006-12-14 | 2008-07-09 | 삼성전자주식회사 | 위상반전 마스크 및 이의 형성방법 |
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