KR970020965A - 물의 제조방법 및 이 방법에 의해 얻어진 물 - Google Patents

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Abstract

본 발명의 목적은 세정 공업재료의 표면처리, 생물의 성장조절(세포의 활성조절)에 사용되는 물을 제공하는 것이다.
본 발명은 산화, 환원성능을 갖는 물의 제조방법에 있어서, 제1격벽 및 제2격벽으로 차단하는 것에 의해 양극실, 중간실 및 음극실이 구성되고, 상기 제1격벽에 밀접되어 양극실내에 양극이 설치됨과 동시에 상기 제2격벽에 밀접되어 음극실내에 음걱이 설치되어 되는 전해조를 사용하여, 상기 양극실 및/또는 음극실에 물을 공급함과 동시에, 상기 중간실에는 전해질 수용액이 존재하는 조건하에서 전해처리를 행하는 것을 특징으로 하는 물의 제조방법에 관한 것이다.

Description

물의 제조방법 및 이 방법에 의해 얻어진 물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 전해조를 개략적으로 나타낸 단면도.

Claims (11)

  1. 산화, 환원성을을 갖는 물의 제조방법에 있어서, 제1격벽 및 제2격벽으로 차단하는 것에 의해 양극실, 중간실 및 음극실이 구성되고, 상기 제1격벽에 밀접되어 양극실내에 양극이 설치됨과 동시에 상기 제2격벽에 밀접되어 음극실내에 음극이 설치되어 되는 전해조를 사용하여, 상기 양극실 및/또는 음극실에 물을 공급함과 동시에, 상기 중간실에는 전해질 수용액이 존재하는 조건하에서 전해처리를 행하는 것을 특징으로 하는 물의제조방법.
  2. 저전해질 농도에서 산화,환원종을 포함하는 물의 제조방법에 있어서, 제1격벽 및 제2격벽으로 차단하는 것에 의해 양극실, 중간실 및 음극실이 구성되고, 상기 제1격벽에 밀접되어 양극실내에 양극이 설치됨과 동시에 상기 제2격벽에 밀접되어 음극실내에 음극이 설치되어 되는 전해조를 사용하여, 상기 양극실 및/또는 음극실에 물을 공급, 배출함과 동시에, 상기 중간실에는 전해질수용액이 존재하는 조건하에서 전해처리를 행하는 것을 특징으로 하는 물의 제조방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 양극 및/또는 음극의 물이 통과하는 면에 배플판이 설치된 전해조를 사용하여 전해처리를 행하는 것을 특징으로 하는 물의 제조방법.
  4. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 제1격벽에 양이온 교환막 및/또는 음이온 교환막을 구성한 전해조를 사용하여 전해처리를 행하는 것을 특징으로 하는 물의 제조방법.
  5. 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 제2격벽에 음이온 교환막 및/또는 양이온 교환막을 구성한 전해조를 사용하여 전해처리를 행하는 것을 특징으로 하는 물의 제조방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서, 양극실 및/또는 음극실에 공급되는 물은 전도율이 10μS/cm의 물인 것을 특징으로 하는 물의 제조방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 중간실에 양이온 교환수지 및/또는 음이온 교환수지를 충전한 전해조를 사용하여 전해처리를 행하는 것을 특징으로 하는 물의 제조방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서, 중간실의 전해질로서 할로겐염이 사용되는 것을 특징으로 하는 물의 제조방법.
  9. 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항의 물의 제조방법으로 얻어진 물에 있어서, 세정제로서 사용되는 것을 특징으로 하는 물.
  10. 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항의 물의 제조방법으로 얻어진 물에 있어서, 항균제로서 사용되는 것을 특징으로 하는 물.
  11. 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항의 물의 제조방법으로 얻어진 물에 있어서, 성장조절제로서 사용되는 것을 특징으로 하는 물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100522550B1 (ko) * 2001-09-14 2005-10-20 이재용 표면세정, 표면처리에 적합한 대전 에노드수의 제조용전해조.
KR100712389B1 (ko) * 2002-04-02 2007-05-02 페르메렉덴꾜꾸가부시끼가이샤 기능수를 사용하는 전자부품의 세정방법 및 세정장치

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KR100522550B1 (ko) * 2001-09-14 2005-10-20 이재용 표면세정, 표면처리에 적합한 대전 에노드수의 제조용전해조.
KR100712389B1 (ko) * 2002-04-02 2007-05-02 페르메렉덴꾜꾸가부시끼가이샤 기능수를 사용하는 전자부품의 세정방법 및 세정장치

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