KR970006241B1 - N-벤조일-c-(벤조트리아졸)이미도일 클로라이드 유도체 및 제조방법 - Google Patents

Abstract

내용없음.

Description

N-벤조일-C-(벤조트리아졸)이미도일 클로라이드 유도체 및 제조방법

본 발명은 일반식(Ⅰ)의 신규 화합물인 N-벤조일-C-(벤조트리아졸)이미도일 클로라이드 유도체와 그 제조방법에 관한 것이다.

식중 X는 수소, 할로겐, 알킬기, 알콕시기 또는 니티로기를 나타낸다.

전술한 일반식(Ⅰ)의 화합물은 신규화합물로서 의약 및 농약 중간체로서 유용하게 이용된다.

본 발명의 화합물에 유사한 화합물은 저날오브케미칼 소사이어티, 퍼킨2 1046-51, 1975 및 김천석 등의 대한민국 특허출원 제91-4337호에 알려져 있으나 이 화합물은 일반식(Ⅰ)의 화합물과 골격이 전혀 다른 화합물이다.

일반식(Ⅰ)에 있어서, X로 표시되는 알킬기로는 메틸, 에틸, 프로필, 브틸기와 같은 C₁-C₄저급 알킬기들이 있는 바, 그 중에서도 메틸기가 좋다. 그리고 알콕시기로는 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 부톡시기와 같은 C₁-C₄저급 알킬시기가 있으나 그 중에서도 메톡시가 좋다. 할로겐으로는 염소와 취소가 있으나 그 중에서도 염소가 바람직하다.

전술한 치환기들은 벤젠링의 4-위치에 치환되는 것이 좋다.

본 발명에 의한 일반식(Ⅰ)의 화합물은 일반식(Ⅱ)의 벤조일이소치오시안네이트로부터 제조한 일반식(Ⅲ)의 벤조일이미도일 디클로라이드를 벤조트리아졸과 유기용매중에서 반응시켜 제조한다.

식중 X는 전술한 의미를 갖는다.

전술한 일반식(Ⅰ)의 제조방법은 유기 용매중에서 실시되는바, 이 경우 유기 용매로는 디옥산, 디에틸에텔, 테트라하이드로푸란등이 사용된다.

전술한 일반식(Ⅰ)의 제조에 사용되는 일반식(Ⅱ)의 화합물과 일반식(Ⅲ)의 화합물에 있어서 X=Cl인 화합물을 제외한 화합물들은 신규 화합물들이다.

일반식(Ⅱ)의 벤조일이소치오시아네이트는 벤조일클로라이드나 또는 치환된 벤조일클로라이드와 무수 포타슘 이소치오시안네이트를 디옥산, 디에틸에테르 또는 테트라하이드로푸란 같은 유기용매에 용해시키고 산소 유입이 차단된 상태에서 8시간 정도 환류 가열하여 제조한다. 이 방법에 사용되는 무수 포타슘 이소치오시안네이트는 열풍 순환식 오븐에서 110℃로 10시간 동안 건조시켜 수분을 완전히 제거한 것을 사용한다.

반응계가 산소와 접촉하지 않도록하기 위하여는 반응장치를 밀봉하고 수분유입 방지장치를 한 콘덴서를 부착하거나 또는 질소를 반응기 내부로 유입시켜 반응이 질소 압력하에서 진행되도록 한다. 유기 용매로는 반응에 영향주지 않는 유기용매들이 사용될 수 있으나 벤젠을 사용하는 것이 좋다.

일반식(Ⅲ)의 벤조일이미도일 디클로라이드는 앞에서 제조한 일반식(Ⅱ)의 벤조일 이소치오시안네이트 또는 치환된 벤조일 이소치오시안네이트를 유기 용매, 특히 사염화탄소에 용해시키고 건조 염소가스와 6시간 내지 3일 정도 반응시켜 제조한다. 이 방법에서는 벤조일 이소치오시안네이트가 용해되어 있는 사염화탄소 용액속으로 건조 염소 가스를 6시간 정도에 걸쳐 주입하고 반응액이 염소가스로 포화된 상태를 만든다음 약 3일정도 방치하여 반응이 완결되도록 한다. 건조 염소가스는 염소가스를 황산속으로 통과시켜 수분을 제거하고 글래스울을 통과시킨다음 염소가스와 함께 나오는 황산을 제거하여 얻어지는 염소가스를 사용한다.

일반식(Ⅰ)의 화합물은 일반식(Ⅲ)의 화합물을 유기 용매에 용해시키고 동일한 용매에 용해시킨 벤조트리아졸을 한방울씩 가하여 반응시켜 제조한다. 이때 사용하는 용매로는 디옥산, 디에틸에텔 또는 테트라하이드로푸란을 사용하며, 필요에 따라서는 반응촉진제인 트리에틸아민을 동일한 용매에 용해시켜 소량씩 첨가한다.

이하 본 발명을 실시예에 의하여 구체적으로 설명한다.

[실시예 1]

4-니트로 벤조일이소치로시아네이트 합성

4-니트로벤조일클로라이드 27.8g과 무수포타슘이소치오시안네이트(분자량=185.5) 17.5g을 100ml벤젠용액이 들어있는 수분 유입방지 장치를 한 콘덴서가 부착된 250ml 둥근 플라스크에 넣어서 6시간 동안 환류시키고 4-니트로벤조일클로라이드의 잔존이 없음을 확인한 후 반응을 종결시키고 염화칼륨을 여과 제거한다음 벤젠을 제거하고 고감합하에서 증류하여 4-니트로 벤조일 이소티오시아네이트(분자량=208.1)29.7g을 얻었다.

MP : 131℃ 수율 : 95%

NMR : d,8-8.5(4H)

[실시예 2]

4-니트로벤조일이미도일 디클로라이드의 합성

실시예 1에서 제조한 4-니트로벤조일이소치오시아네이트 20g(0.096몰)을 무수 사염화탄소 150ml에 충분히 용해시키고, 탈수 건조시킨 염소가스를 6시간 동안 포화시킨 후 3일간 방치시키고 침전물을 여과한 후 사염화탄소 증류하고 고진공하에서 증류하여 4-니트로벤조일이미도일 디클로라이드(분자량=247)20g을 합성하였다.

MP : 55℃(분해) 수율 : 85%

NMR : d,8-8.5(4H)

[실시예 3]

4-니트로벤조일이소치오시아네이트의 합성

4-메틸벤조일 클로라이드(분자량 : 155.45) 15.5g(0.1mol)과 무수 포타슘 이소티오시안네이트(0.15mol) 27.9g를 벤젠용액에서 6시간 동안 환류시키고 산염화물의 잔존이 없음을 확인한 후 반응을 종결시키고 염화칼륨을 여과한 후 벤젠을 제거하고 고감압하에서 증류하여 4-메틸벤조일이소치오시아네이트 15.23g을 얻었다.

분자량 : 177.06

상온에서 오일 상태

수율 : 86%

NMR : d,708(4H), 2.3(3H)

[실시예 4]

P-메틸벤조일이미도일 디클로라이드의 합성

4-메틸벤조일이소치오시아네이트 18g(0.1몰)을 무수 사염화탄소 150ml에 충분히 용해시키고, 건조 염소가스를 약 3-6시간동안 포화시킨 후 3일간 방치시키고 침전물을 여과한 후 사염화탄소를 증류하고 고진공하에서 증류하여 4-메틸벤조일이미도일 디클로라이드(분자량=215.9) 23g을 합성하였다.

MP : 55℃ 수율 : 85%

NMR : d,7-8(4H), 2.3(3H)

[실시예 5]

P-메틸-벤조일-C-벤조트리아졸이미도일 클로라이드의 합성

4-메틸벤조일이미도일 디클로라이드(분자량 214) 2.15g(0.01mol)을 태트라하이드로퓨란에 녹이고 벤조트리아졸 2.32g(0.02mol)을 같은 용매에 녹여 서서히 한방울씩 가하면서 강하게 저어준다. 여과하여 염을 제거하여 재결정, 증류 및 크로마토그라피법으로 정제하여 P-메틸-벤조일-C-벤조트리아졸이미도일 클로라이드(분자량 298g) 2.66g을 합성하였다.

MP : 56℃(분해) 수율 : 89%

NMR : d,7-8.2multi(8H), 2.3(3H)

[실시예 6]

벤조일-C-(벤조트리아졸)이미도일 클로라이드의 합성

벤조일이미도일다이크로라이드(분자량 201.9) 2.02g을 벤젠에 녹이고 벤조트리아졸 23.8g을 같은 용매에 녹여 서서히 한방울씩 가하면서 강하게 저어준다. 여과하여 염을 제고하고 재결정 증류 및 크로마토그라피법으로 정제하여 2.4g의 벤조일-C-(벤조트리아졸)이미도일 클로라이드를 얻었다.

MP : 155℃(분해) 수율 : 86%

NMR : d,7-8(9H)

[실시예 7]

p-클로로벤조일-C-벤조트리아졸 이미도일 클로라이드의 합성

4-클로로벤조일이미도일 디클로라이드(분자량 236.4) 2.36g(0.01mol)을 디옥산에 녹이고 벤조트리아졸(분자량 119.13) 23.8g (0.02mol)을 같은 용매에 녹여 서서히 한방울씩 가하면서 강하게 저어준다. 여과하여 염을 제거하고 재결정 증류 및 크로마토그라피법으로 정제하여 p-클로로벤조일-C-벤조트리아졸이미도일 클로라이드(분자량 317) 2.85g을 합성하였다.

MP : 135℃(분해) 수율 : 90%

NMR : d,7-8.2multi(8H)

Claims (2)

1. 일반식(Ⅰ)로 표시되는 N-벤조일-C(벤조트리아졸)이미도일 클로라이드와 그유도체.

   식중 X는 메틸, 클로로 및 니트로기중에서 선택한 기를 나타낸다.
2. 전술한 일반식(Ⅲ)의 벤조일이미도일 디클로라이드를 유기 용매중에서 벤조트리아졸과 반응시켜 전술한 일반식(Ⅰ)의 N-벤조일-C-(벤조트리아졸) 이미도일 클로라이드를 제조하는 방법.