KR960032586A - 기판 등의 정렬방법 및 그 장치 - Google Patents

기판 등의 정렬방법 및 그 장치 Download PDF

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KR960032586A
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겐지 니시
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오노 시게요
가부시끼가이샤 니콘
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Abstract

목적
웨이퍼 스테이지를 경량화하여 강성을 높이고, 회전광 검출형 정렬 센서의 광빔과 검출마크와의 회전오차에 의해 검출오차를 제거한다.
구성
웨이퍼 스테이지의 좌표계(X,Y)에 대한 정렬센서로부터의 광빔 회전각의 평균치(θLSAX+θLSAY)/2만큼 레티클을 회전한다(스텝101,102). 웨이퍼를 순차적으로 웨이퍼홀더상에 올려놓을 때에, 그때까지의 웨이퍼 회전 오차의 평균치인 평균회전 오차θT만큼 회전(스텝 121)하고, 남아 있는 근소한 회전오차△θ′는 레티클의 회전으로 대응한다(스텝115).

Description

기판 등의 정렬방법 및 그 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 정렬방법의 일실시예를 설명하기 위한 흐름도.

Claims (16)

  1. 소정의 방향으로 이동할 수 있는 기판 스테이지상에 기판을 정렬시키는 방법에 있어서, 상기 소정 방향에 있어서의 상기 기판의 위치를 검출하기 위하여 상기 기판상에 조사되는 띠형상 광속의 길이방향과 상기 소정 방향과의 관계를 계측하는 단계와, 상기 띠형상 광속의 길이방향과 상기 소정방향과의 관계를 기초로 하여 상기 기판을 상기 기판 스테이지에 정렬시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정렬방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기판을 상기 스테이지에 정렬시키는 단계는 상기 띠형상 광속의 길이 방향과 상기 소정 방향과의 관계를 기초로 하여, 상기 기판 스테이지에 대하여 상기 기판을 상대적으로 이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정렬방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 때형상 광속의 길이방향과 상기 소정 방향과의 관계를 계측하는 단계는 상기 기판 스테이지에 구비된 기준마크 부재에 정렬센서로부터 상기 띠형상 광속을 조사하여 상기 기준마크 부재상의 기준마크와 띠형상 광속과의 회전각 오차를 계측하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정렬방법.
  4. 제2항에 있어서, 상기 기판을 상기 기판 스테이지에 대하여 상대적으로 이동시키는 단계는 상기 기판을 기판 스테이지에 대하여 회전이동가능한 승강대에 지지하여 상기 승강대를 회전이동시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정렬방법.
  5. 소정의 2차원 좌표계를 기준으로하여 기판 홀더상에 기판을 정렬시키는 방법에 있어서, 상기 기판 홀더상에 올려진 상기 기판의 상기 2차원 좌표계에 대한 회전오차를 구하는 단계와, 상기 기판 홀더로부터 상기 기판을 이탈시키고, 상기 회전오차를 보정하도록 상기 기판을 회전시킨 후, 다시 상기 기판을 상기 기판 홀더상에 올려 놓는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정렬방법.
  6. 제4항에 있어서, 상기 기판을 상기 기판 홀더에 대하여 상대적으로 회전시키는 단계는 상기 기판을 기판홀더에 대하여 회전이동가능한 승강대에 지지하여 상기 승강대의 회전이동에 의하여 실행되는 것을 특징으로 하는 정렬방법.
  7. 소정 방향으로 이동할 수 있는 기판 스테이지상에 유지된 기판과 마스크의 마스크 패턴을 정렬시키는 방법에 있어서, 상기 소정 방향에 있어서의 상기 기판의 위치를 검출하기 위하여 상기 기판상에 조사되는 띠형상 광속의 길이방향과 상기 소정방향과의 관계를 계측하는 단계와, 상기 띠형상 광속의 길이방향과 상기 소정방향과의 관계를 기초로하여 상기 마스크와 기판을 정렬시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정렬방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 띠형상 광속의 길이방향과 상기 소정방향과의 관계를 계측하는 단계는 상기 기판 스테이지에 구비된 기준마크 부재에 정렬센서로부터 상기 띠형상 광속을 조사하여 상기 기준마크 부재상의 기준마크와 띠형상 광속과의 회전각도 오차를 계측하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정렬방법.
  9. 소정의 2차원 좌표계를 기준으로하여 기판 홀더상에 유지되는 기판과 마스크의 마스크 패턴을 정렬시키는 방법에 있어서, 상기 기판 홀더상에 올려진 상기 기판의 상기 2차원 좌표계에 대한 회전오차를 구하는 단계와, 상기 기판 홀더로부터 상기 기판을 이탈시키고, 상기 회전오차를 보정하도록 상기 기판을 회전시킨 후, 다시 상기 기판 홀더상에 올려놓는 단계와, 상기 기판의 상기 회전오차 보정후에 상기 기판의 상기 2차원 좌표계에 대한 미세 회전오차를 계측하는 단계와, 상기 미세 회전오차를 보정하도록 상기 마스크를 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 정렬방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 기판을 상기 기판 홀더에 대하여 상대적으로 회전시키는 단계는 상기 기판을 기판 홀더에 대하여 회전이동가능한 승강대에 지지하고 상기 승강대의 회전이동에 의하여 실행되는 것을 특징으로 하는 정렬방법.
  11. 소정의 방향으로 이동할 수 있는 기판 스테이지상에 기판을 정렬시키는 정렬장치에 있어서, 상기 기판 스테이지에 고정되어 있고 상면에 기준마크가 찍힌 기준 마크 부재와, 상기 기준마크 부재 및 기판 스테이지상에 올려진 기판위에 띠형상 광속을 선택적으로 조사할 수 있는 정렬센서와, 상기 기판 스테이지의 상부에 상기 기판 스테이지와는 별도로 상하이동 및 회전이동 할 수 있도록 배치되어 있으며, 기판 스테이지의 상방에 반송된 기판을 받아서 기판 스테이지상에 올려놓는 승강대와, 상기 승강대를 상하 및 회전이동시키는 구동기구를 구비한 것을 특징으로 하는 기판의 정렬방식.
  12. 마스크의 패턴을 기판에 전사하는 노광장치에 있어서, 상기 마스크를 2차원 방향으로의 이동 및 회전이동이 가능하도록 유지하는 레티클 스테이지와, 상기 마스크를 조명하는 조명 광학계와, 상기 기판을 소정의 방향으로 이동할 수 있도록 유지하는 기판 스테이지와, 상기 기판 스테이지에 고정되어 있고 상면에 기준마크가 찍힌 기준마크 부재와, 상기 기준마크 부재 및 기판 스테이지상에 올려진 기판 위에 띠형상광속을 선택적으로 조사할 수 있는 정렬센서와, 상기 기판 스테이지의 상부에 상기 기판 스테이지와는 별도로 상하이동 및 회전이동 할 수 있도록 배치되어 있고 기판 스테이지의 상방에 반송된 기판을 받아 상기 기판 스테이지상에 올려놓는 승강대 및, 상기 승강대를 상하 및 회전이동시키는 구동기구를 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  13. 마스크의 패턴을 기판에 전사하는 노광장치에 있어서, 소정의 평면내에 있어서의 상기 기판의 위치를 검출하기 위하여 상기 소정의 평면을 향하여 조사되는 광 빔의 상기소정의 평면 내에서의 길이방향을 계측하는 제1단계와, 상기 방향을 기준으로 하여 상기 마스크와 상기 기판을 정렬시키는 제2단계 및, 상기 정렬 후, 상기 마스크의 패턴을 상기 기판상에 전사하는 제3단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 제2단계는 상기 마스크와 상기 기판과의 적어도 한쪽을 상대적으로 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
  15. 제13항에 있어서, 상기 제2단계는 상기 광 빔의 길이방향에 맞추어 상기 기판을 기판 스테이지상에 넘겨주는 단계와, 상기 기판 스테이지상에 올려진 상기 기판상에 상기 광빔을 조사하여 상기 길이방향을 기준으로 한 기판의 회전오차를 구비하는 단계 및, 상기 회전오차를 보정하도록 상기 마스크를 회전시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
  16. 소정의 평면내에서 기판을 정렬시키는 방법에 있어서, 상기 소정의 평면내에 있어서의 상기 기판의 위치를 검출하기 위하여 상기 소정 평면을 향해 조사시키는 광빔의 상기 소정의 평면 내에서의 길이방향을 기준으로하여, 상기 소정의 평면내에서 상기 기판을 정렬하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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