KR960014293B1 - Lcd device and its fabrication method - Google Patents

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Abstract

The liquid crystal display(LCD) device comprises a compensating layer(20) to make a cell gap uniform. The cell gap is formed between a part where a transparent electrode film(12) is overlapped by upper/lower glass plates(10,10') and a sealant(16) line. The device removes discoloration appearing at the boundary zone of display and corners.

Description

액정표시소자 및 제조방법LCD and Manufacturing Method

제1도는 종래의 액정표시소자의 단면도.1 is a cross-sectional view of a conventional liquid crystal display device.

제2도는 종래의 액정표시소자의 개략평면도.2 is a schematic plan view of a conventional liquid crystal display device.

제3도는 본 발명의 액정표시소자를 제조하기 위한 투명코팅막의 코팅상태 단면도.Figure 3 is a cross-sectional view of the coating state of the transparent coating film for producing a liquid crystal display device of the present invention.

제4도는 본 발명의 액정표시소자를 제조하는 보상층 형성상태 단면도.4 is a cross-sectional view of a compensation layer forming state for manufacturing a liquid crystal display of the present invention.

제5도는 본 발명의 단면도.5 is a cross-sectional view of the present invention.

제6도 (a), (b)는 본 발명의 다른 예를 설명하기 위한 상, 하부기판 평면도.Figure 6 (a), (b) is a plan view of the upper, lower substrate for explaining another example of the present invention.

제7도 (a)~(c)는 본 발명의 다른예를 설명하기 위한 제조공정도.7 (a) to 7 (c) are manufacturing process diagrams for explaining another example of the present invention.

제8도는 본 발명 다른예를 보인 액정표시소자의 개략평면도.8 is a schematic plan view of a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.

제9도는 본 발명 다른예를 보인 액정표시소자의 부분절결 요부단면도이다.9 is a partial cross-sectional view of a main portion of a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

10,10':상·하 유리판 2:투명전극막10,10 ': Upper / lower glass plate 2: Transparent electrode film

13:탑코팅막 4:배향막13: Top coating film 4: Orientation film

16:밀봉재 20:보상층16: Sealing material 20: Compensation layer

20-1:공전극막.20-1: co-electrode membrane.

본 발명은 액정표시소자 및 제조방법에 관한 것으로, 특히 액정표시소자의 투명전극막이 상·하유리판에 의해 교차되지 않는 투명전극막 패턴외부와 밀봉재 내부사이의 적층두께차를 보상하는 보상층이 패턴외부에 형성되어 표시품위를 향상토록한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method, and in particular, a compensation layer for compensating the difference in the thickness of the lamination between the transparent electrode film pattern outside and the inside of the sealing material, in which the transparent electrode film of the liquid crystal display device does not intersect by the upper and lower glass plates It is formed on the outside to improve the display quality.

일반적으로 액정(Liquid Crystal)이란 액체의 유동성과 결정의 광학적 성질을 겸비한 액체와 고체의 중간적 성질을 갖는 물질로써, 이러한 액정에 전계 또는 열을 가하면 그 광학적 이방성을 변화시킬 수 있으며, 이 성질을 이용한 것이 액정표시소자(LCD : Liquid Crystal Display)로써, 프라즈마 디스플레이나 발광장치와 더불어 평판표시 장치의 대표적인 것이다.Generally, liquid crystal is a material having an intermediate property between a liquid and a solid that combines the liquidity of the liquid and the optical property of the crystal, and when the electric field or heat is applied to the liquid crystal, its optical anisotropy can be changed. The liquid crystal display (LCD) used is a representative of flat panel displays in addition to plasma displays and light emitting devices.

액정은 1888년 오스트리아의 식물학자 레이니쳐(Reinitzer)에 의해 발견되었으며 그후에도 액정에 대한 물리화학적 연구가 계속되어, 1963년 페가슨(Fergason)이 콜레스테릭 액정을 사용한 더어모 그래피를 개발하면서 액정이 크게 활기를 되찾았으며, 1968년 EL 패널의 성능에 한계를 느껴 그것에 대신될 만한 것을 탐색하고 있던 ACA사의 헤일메이어(Heilmeier)에 의해 네마틱 액정의 투명한 박층이 전계속에서 백탁해지는 현상을 발견하면서 오늘날의 액정표시소자에 근접하는 수준으로 발전하였다.Liquid crystals were discovered in 1888 by the Austrian botanist Reinitzer, and afterwards physicochemical studies of liquid crystals continued. In 1963, when Fergason developed thermography using cholesteric liquid crystals, Liquid crystals were revived, and ACA's Heilmeier, who was limited to the performance of the EL panel in 1968 and searched for a substitute, found that the transparent thin layer of nematic liquid crystals became cloudy. As a result, it has developed to a level close to today's liquid crystal display.

이러한 액정표시소자는 제1도와 같이 예시할 수 있는바, 상·하 유리판(10,10')에 알카리 이온의 방지막으로 SiO2 층을 이룬 산화막(11), 일정한 패턴을 이루며 전압이 인가되도록 인듐틴옥사이드(ITO)층을 이룬 투명전극막(12), 투명 전극막(12)의 쇼트(Short)를 방지하는 탑코팅(Top Coating)막(13), 액정(15)을 배열하기 위한 배향막(14)이 차례로 각각 적층되고, 각 배향막(14) 사이에는 액정(15)과 스페이서(17)가 배열되며, 상·하 유리판(10,10')과 액정(15)은 밀봉재(16)에 의해 밀봉되고, 상하 유리판(10,10') 표면에는 편광판(18)이 일체로 형성된다.Such a liquid crystal display device can be exemplified as shown in FIG. 1, in which the indium tin is applied to the upper and lower glass plates 10 and 10 ′ to form an SiO 2 layer with an SiO 2 layer as an alkali ion prevention film, and to apply a voltage in a predetermined pattern. A transparent electrode film 12 having an oxide (ITO) layer, a top coating film 13 for preventing short of the transparent electrode film 12, and an alignment film 14 for arranging the liquid crystals 15. ) Are stacked in turn, and the liquid crystal 15 and the spacer 17 are arranged between the alignment layers 14, and the upper and lower glass plates 10 and 10 ′ and the liquid crystal 15 are sealed by the sealing material 16. The polarizing plate 18 is integrally formed on the upper and lower glass plates 10 and 10 '.

이를 평면상태로 도시하여 보면, 제2도와 같이 상·하 유리판(10,10')에 투명전극막(12)을 각각 직각으로 형성하고, 상·하부 유리판(10,10')은 밀봉선(16')을 따라 밀봉재(16)로 밀봉된다. 이경우 상·하 유리판(10,10')에 의한 투명전극막(12)중 사선이 겹쳐있는 영역(A)은 디스플레이 영역인바, (A)부분밖의 한쪽으로만 사선이 있는 부분(B)은 상·하 유리판(10,10')의 적어도 일개소에만 투명전극막(12)이 있는 것이어서, 좀더 정확한 셀갭(Cell gap)의 균일도가 요구되는 슈퍼 트위스티드 네마틱 액정표시소자(STN LCD)등에서는 한층의 투명전극막만큼의 셀내의 전체 적층두께가 차이가 나서 액정표시소자의 컬러(Color)가 다르게 된다. 즉, 투명 전극막(12)으로 수 Ω/?의 인듐틴옥사이드 저항을 요구하는 STN 소자에서는, 수백~수천 Å의 인듐틴옥사이드로써 투명전극막(12)을 이루고 있으므로, 제2도에서와 같이 투명전극막(12)이 상하에서 겹쳐지는 부분(A)(상·하 전극 사이에서 액정의 트위스트가 변하는 디스플레이 부분(Display area))과, 그밖의 부분(B)즉, 투명전극막(12)이 겹쳐지지 않는 부분 사이에서 한층의 투명전극막(12) 두께만큼 차이가 나는 부분이 있게 된다.In a plan view, the transparent electrode films 12 are formed at right angles on the upper and lower glass plates 10 and 10 'as shown in FIG. 2, and the upper and lower glass plates 10 and 10' are sealed lines ( Along the 16 '). In this case, the area A of which the oblique lines overlap in the transparent electrode film 12 by the upper and lower glass plates 10 and 10 'is a display area, and the part B having only one line outside the part (A) is the upper part. At least one portion of the lower glass plates 10 and 10 'includes the transparent electrode film 12, which is further required in a super twisted nematic liquid crystal display (STN LCD) or the like, which requires more accurate cell gap uniformity. The total lamination thickness in the cell is as different as that of the transparent electrode film, so that the color of the liquid crystal display device is different. That is, in the STN device which requires indium tin oxide resistance of several Ω /? As the transparent electrode film 12, since the transparent electrode film 12 is formed of indium tin oxide of several hundred to several thousand kW, as shown in FIG. The portion A (the display area in which the twist of the liquid crystal changes between the upper and lower electrodes) and the other portion (B), that is, the transparent electrode film 12 overlapping the transparent electrode film 12 up and down There exists a part which differs by the thickness of one transparent electrode film 12 between these non-overlapping parts.

따라서 투명전극막(12)을 이루는 인듐틴옥사이드 두께차에 의하여 정확한 셀갭(Cell Gap)을 유지하기가 어렵고, 또한 디스플레이 부분과 그밖의 부분사이의 두께차이에 의한 셀갭의 차이로 인하여 액정표시소자의 컬러가 다르게 되어 표시품위를 떨어뜨리는 요인이 되었다.Therefore, it is difficult to maintain an accurate cell gap due to the indium tin oxide thickness difference constituting the transparent electrode film 12, and also due to the difference in the cell gap due to the difference in thickness between the display portion and the other portions of the liquid crystal display device. The different colors caused the display quality to deteriorate.

본 발명은 이를 해결코자 하는 것으로, 투명전극막이 교차되지 않는 부위에 보상층을 형성하여 셀갭을 일정케 한 새로운 방식의 액정표시소자 및 제조방법을 제공함을 특징으로 한다.The present invention is to solve this problem, it is characterized in that the liquid crystal display device and a manufacturing method of a novel method of forming a compensation layer in a portion where the transparent electrode film does not intersect to make the cell gap constant.

즉, 본 발명의 액정표시소자는 유리판의 투명전극막 패턴외부의 탑코팅막 전 또는 후부위에 보상층이 형성된 것이며, 본 발명의 제조방법은 유리판에 SiO2막, 투명전극인 인듐틴옥사이드막, 탑코팅막 및 배향막을 차례로 적층시키고 이어실링 및 액정주입하여 액정표시소자를 제조함에 있어서, 탑코팅막을 코팅후 인듐틴옥사이드 패턴이 상하유리판에 의해 겹쳐지지 않은 부위에다 SiO2계를 기본으로 하는 보상층을 옵셋롤코팅에 의해 인듐틴옥사이드막과 동일 두께로 코팅하고, 이에 배향막을 코팅하는 공정을 포함하거나, 탑코팅막 코팅전에 인듐틴옥사이드 패턴이 상·하유리판에 의해 겹쳐지지 않은 부위에도 공단자상태로 패턴을 제공하여 보상층을 이루도록 하는 패턴공정을 포함한 것이다.That is, in the liquid crystal display device of the present invention, a compensation layer is formed before or after the top coating film outside the transparent electrode film pattern of the glass plate, and the manufacturing method of the present invention is a SiO 2 film, a transparent electrode, an indium tin oxide film, and a top coating film. And stacking an alignment layer in turn, and then sealing and injecting liquid crystal into a liquid crystal display device, in which an indium tin oxide pattern is not overlapped by upper and lower glass plates after the top coating layer is coated, and a compensation layer based on SiO 2 is offset. Coating to the same thickness as the indium tin oxide film, and coating the alignment layer thereon, or before the top coating film is coated, the pattern is formed in a co-terminal state even at the portion where the indium tin oxide pattern is not overlapped by the upper and lower glass plates. It includes a pattern process to provide a compensation layer.

이하 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제3~5도는 본 발명의 일예를 나타낸 액정표시소자의 제조공정도로 유리판의 투명전극막(12) 패턴외부의 탑코팅막(13) 부위와 배향막(14) 사이에 투명 보상층(20)이 형성된 것이다. 이를 제조하기 위하여 제3도와 같이 상·하 유리판(10,10')에 알카리이온의 방지막인 SiO2막을 디핑(dipping) 또는 스퍼터링(Sputtering)방법으로 300~1000Å 두께로 증착하여 산화막(11)을 도포한다. 이어 인듐틴옥사이드를 스퍼터링 또는 전자빔 증발기를 사용 인듐틴옥사이드를 수백~수천 Å의 두께로 증착시키고, 이미지 프로세스(Image Process)에 의해 필요한 패턴을 이루어 투명전극막(12)을 형성한다. 물론 상기 공정에서 세척 공정이 포함됨을 알 수 있을 것이므로 그 설명은 생략하며, 상기 공정은 각 유리판(10,10')에 각각 실시된다.3 to 5 are diagrams illustrating manufacturing processes of the liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention, in which a transparent compensation layer 20 is formed between the top coating layer 13 and the alignment layer 14 outside the transparent electrode layer 12 pattern of the glass plate. . To manufacture this, as shown in FIG. 3, an oxide film 11 is applied by depositing an SiO 2 film, which is an alkali-preventive film, on the upper and lower glass plates 10 and 10 'to a thickness of 300 to 1000 kPa by a dipping or sputtering method. do. Subsequently, indium tin oxide is deposited using a sputtering or electron beam evaporator to a thickness of several hundreds to thousands of microseconds, and a transparent electrode film 12 is formed by forming a necessary pattern by an image process. Of course, since it will be understood that the washing step is included in the process, the description thereof is omitted, and the process is carried out on each glass plate 10, 10 ′, respectively.

그리고 투명전극막(12)이 형성된 각 유리판(10,10') 상에서 이물, 미립자등에 의한 투명전극막(12) 패턴끼리의 쇼트(Short)를 방지하기 위하여 옵센 롤코팅법(Off-Set Roll Coating Method)에 의해 수백Å의 탑코팅을 실시하여 탑코팅막(13)을 이룬다. 이때 탑코팅재료는 투과도가 좋은 SiO2계를 이용한다. 탑코팅 공정은 탑코팅재의 전사인쇄, 건조, 좌외선조사, 소성 순에 의하여 이루어짐은 알 수 있을 것이다.In order to prevent shorts between the patterns of the transparent electrode film 12 due to foreign matter and fine particles on the glass plates 10 and 10 'on which the transparent electrode film 12 is formed, Off-Set Roll Coating Top coating of several hundreds of microseconds by the method) to form a top coating film (13). At this time, the top coating material uses a good transmittance of SiO2. It will be appreciated that the top coating process is performed by the transfer printing of the top coating material, drying, left ultraviolet irradiation, and firing order.

이어 각 유리판(10,10')의 투명전극막(12)이 겹쳐지지 않는 부위인 제4도의 빗금친 부위(제2도의 (B)부분)에 상기 투명전극막(12)과 같은 두께의 보상층(20)을 코팅한다. 이는 상기 탑코팅막(13) 형성시와 동일한 옵셋을 코팅 방법에 의해 SiO2계를 기본으로 하여 코팅한다. 구체적으로, 전사기로 투명전극막(12)의 ITO전극이 겹쳐지지 않는 부분에 SiO2계를 전사시키고 80~120℃ 사이에서 수분간 건조시킨다. 그리고 140℃±20℃가 되는 IR죤(Zone)을 거치고 UV 램프를 이용하여 UV에너지가 최소 500mJ/㎠가 되는 UV죤을 거친다. 이어서 수백도(200℃~400℃)가 되는 소성로를 거치게 되면 투명한 보상층(20)이 형성된다(제4도).Subsequently, compensation of the same thickness as that of the transparent electrode film 12 is performed on the hatched portion (part (B) of FIG. 2) of FIG. 4, which is a portion where the transparent electrode films 12 of the glass plates 10 and 10 'do not overlap. Layer 20 is coated. It is coated on the basis of the SiO 2 system by the coating method the same offset as when forming the top coating film (13). Specifically, the transfer of the SiO 2 system to the portion where the ITO electrode of the transparent electrode film 12 does not overlap with a transfer machine, and dried for several minutes between 80 ~ 120 ℃. After passing through the IR zone (Zone) becomes 140 ℃ ± 20 ℃ and the UV energy through the UV zone at least 500mJ / ㎠. Subsequently, a transparent compensation layer 20 is formed when passing through a kiln at several hundred degrees (200 ° C. to 400 ° C.) (FIG. 4).

이러한 보상층(20)은 상기와 같은 롤코팅 방식이 아닌 다른 방법을 이용할 수도 있으며, 재질은 SiO2계가 아닌 투과도가 좋은 물질을 사용할 수 있음은 물론이다. 이어서 보상층(20)탑코팅막(13)이 적층된 유리판(10,10')상에 일반적인 방법에 이해 배향막(14)을 형성하고, 액정이 일정한 방향으로 배열될 수 있도록 러빙(Rubbing)을 실시한다. 이때의 러빙천(Rubbing Cloth)의 파일(Pile) 길이는 전체적인 기판의 표면이 일정하기 때문에 파일의 길이에 의존하지 않는다. 그러나 1.5~2.0㎜의 파일 길이가 바람직하다.The compensation layer 20 may use a method other than the roll coating method as described above, and the material may be a material having a good transmittance other than SiO 2. Subsequently, the alignment layer 14 is formed on the glass plates 10 and 10 'on which the top coating layer 13 of the compensation layer 20 is laminated, and rubbing is performed so that the liquid crystals can be arranged in a predetermined direction. do. The length of the pile of the rubbing cloth at this time does not depend on the length of the pile because the surface of the entire substrate is constant. However, the pile length of 1.5-2.0 mm is preferable.

이어서 상 또는 하유리판(10,10')에 스페이서(17)를 산란시키고 셀을 유지하기 위한 밀봉재(16)를 스크린 프린팅 방법으로 형성시키고, 이어 그 사이에 액정(15)을 주입하고 상·하유리판(10,10')사이를 균일하게 유지하도록 한다(제5도). 다음 필요한 각도에 따라 편광판(18)을 부착시킨다.Subsequently, the sealing material 16 for scattering the spacers 17 and holding the cells on the upper or lower glass plates 10 and 10 'is formed by a screen printing method, and then the liquid crystal 15 is injected therebetween, The glass plates 10 and 10 'are held uniformly (FIG. 5). Next, the polarizing plate 18 is attached according to the required angle.

제6~9도는 본 발명의 다른예를 나타낸 도면으로 제6도(가)는 상유리판(10)의 기존 투명전극막(12) 외부와 밀봉재(16)부위 사이에 공단자(Redundancy Pattern)의 투명 전극막으로 이루어지는 보상층(20-1)이 형성되고, 제6도 (나)는 하유리 판(10')의 기존투명 전극막(12) 외부와 밀봉재(16) 부위사이에 공단자의 투명 전극막으로 이루어지는 보상층(20-1)을 형성한 것이다(설명의 편리상 액정(15)등은 도시하지 않음).6 to 9 are views showing another example of the present invention. FIG. 6 (a) is a view of the redundancy pattern between the outside of the existing transparent electrode film 12 of the upper glass plate 10 and the sealing material 16. Compensation layer 20-1 formed of a transparent electrode film is formed, and FIG. 6 (b) shows transparent electrodes of the comon between the outside of the existing transparent electrode film 12 of the lower glass plate 10 'and the portion of the sealing material 16. The compensation layer 20-1 formed of a film is formed (the liquid crystal 15 or the like is not shown for convenience of description).

제7도 (가)~(다)는 본 발명의 다른예에 의한 제조공정도로, 상유리판(10)에 알카리이온 방지막인 SiO2막을 디핑(dipping) 또는 스퍼터링(sputtering) 방법으로 300~1000Å 두께로 증착하여 산화막(11)을 도포한다. 이어 인듐티옥사이드를 전자빔 증발기를 사용하여 수백~수천Å 두께로 증착시키고, 이미지 프로세스에 의해 디스플레이 영역(A)내의 투명전극막(12)과 보상층 기능의 추가 공전극막(20-1)을 동시에 이루는 패턴을 형성한다. 물론 상기 공정에서 세척공정이 포함되며, 상기 공정은 하유리판(10')에도 함께 적용된다(제7도(가)).7 (a) to (c) is a manufacturing process according to another embodiment of the present invention, the SiO 2 film, which is an alkali prevention film, is deposited on the upper glass plate 10 by a dipping or sputtering method to a thickness of 300 to 1000 kPa. The oxide film 11 is applied. Subsequently, indium thioxide is deposited to a thickness of several hundred to several thousand micrometers using an electron beam evaporator, and the transparent electrode layer 12 and the additional electrode layer 20-1 having a compensation layer function in the display area A are formed by an image process. At the same time to form a pattern. Of course, the process includes a washing step, the process is also applied to the lower glass plate (10 ') (Fig. 7 (a)).

그리고 투명전극막(12)이 형성된 각 유리판(10,10')상에서 이물, 미립자 등에 의한 투명전극막(12) 패턴끼리의 쇼트를 방지하기 위하여 옵셋롤코팅법(Off-Set Roll Conting method)에 의하여 수백 Å의 탑코팅을 실시하여 탑코팅막(13)을 이룬다. 이때 탑코팅재료는 투과도가 좋은 SiO2계를 이용하고, 상기 탑코팅 과정은 탑코팅재의 전사인쇄, 건조, 자외선조사 및 소성순에 의하여 이루어짐을 알 수 있을 것이다(제7도(나)).In order to prevent shorting between the patterns of the transparent electrode film 12 due to foreign matter and fine particles on the glass plates 10 and 10 'on which the transparent electrode film 12 is formed, an Off-Set Roll Conting method is used. By the top coating of several hundred microseconds to form a top coating film (13). At this time, the top coating material using a good transmittance of SiO 2 system, and the top coating process will be seen that the transfer coating, drying, ultraviolet irradiation and the firing order of the top coating material (Fig. 7 (b)).

이어 상·하유리판(10,10')의 탑코팅막(13)위에 배향막(14)을 각각 형성하고, 액정이 일정한 방향으로 배열 될 수 있도록 러빙을 실시한다. 이때의 러빙천(Rubbing Cloth)의 파일길이는 전체적인 기판의 표면이 일정하기 때문에 파일의 길이에 의존하지 않는다. 그러나 1.5~2.0㎜의 파일 길이가 바람직하다.Subsequently, an alignment layer 14 is formed on the top coating layer 13 of the upper and lower glass plates 10 and 10 ', and rubbing is performed so that the liquid crystals can be arranged in a predetermined direction. The pile length of the rubbing cloth at this time does not depend on the pile length because the surface of the entire substrate is constant. However, the pile length of 1.5-2.0 mm is preferable.

이어 상 또는 하유리판(10,10')에 스페이서(17)를 산란시키고 셀을 유지하기 위한 밀봉재(16)를 스크린 프린팅방법으로 형성시키고, 이어 그 사이에 액정(15)을 주입하여, 상·하유리판(10,10') 사이를 균일하게 유지하도록 하고, 필요한 각도에 따라 편광판(18)을 부착킨다(제7도(c)). 이경우 보상층(20-1)은 외부단자로 노출되지 않아야 하며 밀봉재(16)와 접촉하지 않도록 함이 바람직하다.Subsequently, a sealing material 16 for scattering the spacers 17 and holding the cells on the upper or lower glass plates 10 and 10 'is formed by a screen printing method, and then the liquid crystal 15 is injected therebetween, The lower glass plates 10 and 10 'are kept uniform, and the polarizing plate 18 is attached according to the required angle (FIG. 7 (c)). In this case, the compensation layer 20-1 should not be exposed to the external terminal and preferably do not come into contact with the sealing material 16.

제8도는 제7도 (c)에 의한 본 발명의 다른 예를 보인 개략평면도이고, 제9도는 일분절결 요부 단면도로, 디스플레이영역 (A)내는 일반적인 액정소자와 같으나, 디스플레이 영역(A)과 밀봉재(16) 라인사이의 모서리 부위(B)에 투명도전막(12)과 동시에 마스크 패턴으로 공전극막(20-1)이 형성되므로, 전체적으로 같은 패턴이 형성되어 셀갭(Cell Gap)의 차이가 없게 되고 따라서 칼라의 이원화 현상을 제거할 수 있다.FIG. 8 is a schematic plan view showing another example of the present invention according to FIG. 7 (c), and FIG. 9 is a cross-sectional view of a single segment main portion, which is the same as a general liquid crystal element in the display area (A), but is different from the display area (A). Since the electrode electrode film 20-1 is formed at the same time as the transparent conductive film 12 in the corner portion B between the lines of the sealing material 16 in a mask pattern, the same pattern is formed as a whole so that there is no difference in the cell gap. Therefore, the phenomenon of color dualization can be eliminated.

상기 제6~9도에서는 투명전극막(12) 형성시 보상층으로 공전극막(20-1)을 함께 형성하였으나, 공전극막(20-1) 대신 제4,5도에 보인 보상층(20)을 기존의 디스플레이 영역(A) 외부의 모서리부위(B)에 투명전극막(12)과 같은 높이로 적층한 후에, 탑코팅막(13) 및 배향막(14)을 코팅하여 액정소자를 제조하여도 됨은 물론이다.In FIGS. 6 to 9, the co-electrode film 20-1 is formed together as a compensation layer when the transparent electrode film 12 is formed. However, instead of the co-electrode film 20-1, the compensation layer shown in FIGS. 4 and 5 ( 20) is laminated on the edge portion (B) outside the existing display area (A) at the same height as the transparent electrode film 12, and then the top coating film 13 and the alignment film 14 is coated to manufacture a liquid crystal device Of course.

본 발명은 단순 매트릭스 액정표시소자에 대하여 설명하였지만, 액티브 매트릭스 혹은 그밖의 액정표시소자에서도 디스플레이가 이루어지는 즉 투명전극막(12)이 겹쳐지는 부분과 겹쳐지지 않는 부분에서 나타나는 투명 전극막(12)의 두께 차이를 보상해 줄 수 있는 보상층(20)(20-1)을 만들어 주어, 밀봉재(16) 안쪽에 전체적으로 균등한 층을 갖도록 할 수 있으며, 특히 셀갭이 6μm 이하인 경우에는 본 발명이 더욱 효과를 발휘한다.Although the present invention has been described with respect to a simple matrix liquid crystal display device, the active matrix or other liquid crystal display devices may have a display, that is, a portion of the transparent electrode film 12 that appears at a portion where the transparent electrode film 12 overlaps with and does not overlap. Compensation layer 20 (20-1) can be made to compensate for the difference in thickness, it is possible to have a uniform layer as a whole inside the sealing material 16, in particular when the cell gap is less than 6μm the present invention is more effective Exert.

이상과 같이 본 발명은 셀내에 적층되어 있는 층들의 두께 차이를 보상해줄 수 있는 보상층을 형성하였으므로 균일한 셀갭을 제조할 수 있어 수율을 향상시키고, 또한 상하 유리판에 디스플레이 패턴과 같은 크기 및 두께를 갖는 공전극막을 형성시킨 경우, 밀봉재(16) 라인내에 투명 전극의 두께차이가 없어 같은 투명전극막이 같은 형태로 형성됨으로써 전체적으로 같은 패턴이 형성되어 셀갭의 차이가 없게 되고, 따라서 칼라의 이원화 현상을 제거할 수 있다.As described above, the present invention forms a compensation layer capable of compensating for the difference in the thickness of the layers stacked in the cell, so that a uniform cell gap can be manufactured to improve yield, and the same size and thickness as the display pattern on the upper and lower glass plates. In the case of forming the co-electrode film having the same thickness, there is no difference in the thickness of the transparent electrodes in the sealing material 16 line, so that the same transparent electrode film is formed in the same shape, thereby forming the same pattern as a whole, so that there is no difference in the cell gap, thus eliminating the dualization of color. can do.

또한 탑코팅막 또는 배향막 코팅시에도 밀봉재 라인내에는 균일한 투명전극 패턴이 형성됨으로써, 디스플레이영역과 모서리 영역의 경계지역에서 나타나는 얼룩(Discoloration)을 완전히 없앨 수 있어 표시품질의 향상을 가져올 수 있고, 셀내의 컬러차이에 의한 불량(색얼룩)을 제거하여 수율을 향상시킬 수 있다.In addition, even when the top coating layer or the alignment layer is coated, a uniform transparent electrode pattern is formed in the sealing material line, thereby completely eliminating discoloration appearing at the boundary area between the display area and the edge area, thereby improving display quality and improving cell quality. Yield can be improved by removing defects (color stains) due to color differences in the interior.

Claims (8)

액정표시소자에 있어서, 상·하유리판(10,10')의 투명전극막(12)이 겹쳐지는 부분과 밀봉재(16) 라인 사이에 셀갭을 균일하게 하는 보상층이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시소자.In the liquid crystal display device, a liquid crystal display comprising a compensating layer having a uniform cell gap between an overlapping portion of the transparent electrode film 12 of the upper and lower glass plates 10 and 10 'and a line of the sealing material 16. device. 제1항에 있어서, 보상층은 상·하유리판(10,10')에 의해 투명전극막(12)이 겹쳐지는 패턴외부와 밀봉재(16) 라인 사이에서 탑코팅막(13) 부위와 배향막(14) 중간에 형성된 투과성이 높은 보상층(20)임을 특징으로 하는 액정표시소자.The top layer of the coating layer 13 and the alignment layer 14 between the outer surface of the pattern where the transparent electrode layer 12 overlaps with the upper and lower glass plates 10 and 10 'and the line of sealing material 16. Liquid crystal display device, characterized in that the high permeability compensation layer 20 formed in the middle. 제2항에 있어서, 보상층(20)은 투명전극막(12)과 같은 두께를 이룸을 특징으로 하는 액정표시소자.The liquid crystal display device according to claim 2, wherein the compensation layer (20) has the same thickness as the transparent electrode film (12). 유리판에 SiO2막에 투명전극인 인듐틴옥사이드막, 탑코팅막 및 배향막을 차례로 적층시켜 실링 및 액정주입하여 액정표시소자를 제조함에 있어서, 탑코팅막을 코팅후 인듐틴옥사이막이 상하유리판에 의해 겹쳐지지 않은 부위에 SiO2계를 기본으로 하는 보상층을 옵셋 롤코팅에 의해 인듐틴옥사이드막과 동일 두께로 코팅하고, 이어 배향막을 코팅함을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.An indium tin oxide film a transparent electrode on SiO 2 film on a glass plate, by laminating the top coating film and the orientation film and then sealing and according as the liquid crystal injection to prepare a liquid crystal display element, a top coating film after the coating of indium tin oksayi film is overlapped by the upper and lower glass plates A method of manufacturing a liquid crystal display device comprising coating a compensation layer based on SiO 2 based on the same thickness as that of an indium tin oxide film by offset roll coating, and then coating an alignment film. 제4항에 있어서, 보상층은 옵셋 롤코팅으로 SiO2계를 전사한 후 80~120℃에서 수분간 건조시키고, 140±20℃가 되는 IR 죤(Zone)을 거쳐 UV 램프에 의한 500mJ/cm의 UV죤을 통과시키고, 이어 200~400℃가 되는 소성로에서 소성됨을 특징으로 하는 액정표시 조자의 제조방법.The method of claim 4, the compensation layer is transferred to the SiO 2 system by offset roll coating and dried for several minutes at 80 ~ 120 ℃, 500mJ / cm by the UV lamp through an IR zone (140 ± 20 ℃) The UV zone of the liquid crystal display, characterized in that the firing in a firing furnace 200 ~ 400 ℃. 제1항에 있어서, 보상층은 상·하유리판(10,10')에 의해 투명전극막(12)이 겹쳐지는 패턴외부와 밀봉재(16) 라인 사이에서 투명전극막(12)과 동시에 추가로 패턴형성되는 공전극막(20-1)임을 특징으로 하는 액정 표시소자.2. The compensation layer of claim 1, wherein the compensation layer is additionally formed at the same time as the transparent electrode film 12 between the outside of the pattern where the transparent electrode film 12 is overlapped by the upper and lower glass plates 10 and 10 'and the line of sealing material 16. Liquid crystal display device characterized in that the patterned electrode electrode film (20-1). 제1항에 있어서, 보상층은 상·하유리판(10,10')에 의해 투명전극막(12)이 겹쳐지는 패턴부위와 밀봉재(16) 라인 사이에서 투명전극막(12) 외부부위와 탑코팅막(13) 하부에 투명전극막과 같은 두께로 적층된 투과성이 높은 재질로 이루어짐을 특징으로 하는 액정표시소자.The outer and upper portions of the transparent electrode film 12 between the pattern portion where the transparent electrode film 12 is overlapped by the upper and lower glass plates 10 and 10 'and the line of the sealing material 16 are formed. Liquid crystal display device characterized in that made of a highly permeable material laminated to the same thickness as the transparent electrode film below the coating film (13). 유리판에 SiO2막, 투명전극인 인듐팀옥사이드막, 탑코팅막 및 배향막을 차례로 적층시켜 실링 및 액정주입하여 액정표시소자를 제조함에 있어서, 상기 인듐옥사이드막 형성은 이 상·하 유리판에 의해 겹쳐지지 않은 부위에는 공전극막을 이루고, 겹쳐지는 부위에는 투명전극막을 이루도록 동시에 패턴을 형성하도록 제조함을 특징으로 하는 액정표시소자의 제조방법.In manufacturing a liquid crystal display device by laminating a SiO 2 film, an indium team oxide film as a transparent electrode, a top coating film and an alignment film on a glass plate in order to seal and inject liquid crystal, the indium oxide film formation is not overlapped by the upper and lower glass plates. A method of manufacturing a liquid crystal display device, characterized in that to form a pattern at the same time to form a transparent electrode film in the non-overlapping region, the overlapping portion.
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