KR960005808A - 반도체 소자의 미세 축적용량 패턴 형성방법 - Google Patents

반도체 소자의 미세 축적용량 패턴 형성방법 Download PDF

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KR960005808A
KR960005808A KR1019940017308A KR19940017308A KR960005808A KR 960005808 A KR960005808 A KR 960005808A KR 1019940017308 A KR1019940017308 A KR 1019940017308A KR 19940017308 A KR19940017308 A KR 19940017308A KR 960005808 A KR960005808 A KR 960005808A
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KR
South Korea
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forming
semiconductor device
pattern
forming fine
accumulation capacity
Prior art date
Application number
KR1019940017308A
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Inventor
이용석
김홍일
Original Assignee
김주용
현대전자산업 주식회사
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

본 발명은 일정한 간격을 유지하는 측정용량 패턴 형성방법에 관한 것으로, 레티클 상에 상호간에 인접하지않고 원하는 측적용량 패턴 수의 절반만 크롬 패턴(20)을 형성하는 단계; 1차 노광작업을 실시하는 단계; 웨이퍼를 상기 일정한 간격(x)만큼 이동시키는 단계; 2차 노광작업을 실시하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.

Description

반도체 소자의 미세 축적용량 패턴 형성방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2A도 내지 제2D도는 본 발명의 일실시예에 따른 미세 축적용량 패턴 형성 공정 순서도이다.

Claims (1)

  1. 일정한 간격을 유지하는 측정용량 패턴 형성방법에 있어서, 레티클 상에 상호간에 인접하지 않고 원하는 측적용량 패턴 수의 절반만 크롬 패턴(20)을 형성하는 단계; 일차 노광작업을 실시하는 단계; 웨이퍼를 상기 일정한 간격(x)만큼 이동시키는 단계; 이차 노광작업을 실시하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 소자의 축적용량 패턴 형성방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940017308A 1994-07-18 1994-07-18 반도체 소자의 미세 축적용량 패턴 형성방법 KR960005808A (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8304173B2 (en) 2009-08-25 2012-11-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Photomasks, methods of exposing a substrate to light, methods of forming a pattern, and methods of manufacturing a semiconductor device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8304173B2 (en) 2009-08-25 2012-11-06 Samsung Electronics Co., Ltd. Photomasks, methods of exposing a substrate to light, methods of forming a pattern, and methods of manufacturing a semiconductor device

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