KR950024549A - Manufacturing method of optical path control device - Google Patents

Abstract

본 발명은 광로조절장치(500)의 제조방법에 관한 것으로, 전기적으로 연결된 접속단자(150)를 갖는 구동기판(130)상에 제1희생층(200)을 형성하는 공정과, 질화물 또는 산화물로 지지부(120)를 형성하는 공정과, 상기 지지부(120)의 홈에 텅스텐 또는 티다늄 재질로 이루어져 플러그 (115)를 형성하는 공정과, 구동기판(130) 상의 접속단자(150)와 전기적으로 이루어져 선호전극(160)을 형성하는 공정과, 세라믹 재질로 변형부(170)를 형성하는 공정과, 구동기판 상의 접속단자(150)와 전기적으로 접속되어 바이어스 전극(l90)을 형성하는 공정과, 제1희생층(200)과 동일한 재질로 제2희생층(300)을 형성하는 공정과, 질화물 또는 산화물을 도포하여 탄성부(180)를 형성하는 공정과, 반사특성이 양호한 금속으로 거울(110)을 형성하는 공정과, 상기 거울(110)의 픽셀 패턴을 위해 포토레지스트 및 에칭을 수행 하여 소정의 홈을 형성하는 공정과, 지지부(120)사이의 공간(airgap)을 위해 상기 희생층(200,300)을 제거하는 공정을 수행하여, 안정된 구조의 광로조절장치를 제공하고 구동시 응답속도가 빠른 광로조절장치를 제공한다.The present invention relates to a method for manufacturing the optical path control device (500), comprising the steps of forming a first sacrificial layer (200) on a drive substrate 130 having an electrically connected connection terminal 150, and a nitride or oxide A process of forming the support part 120, a process of forming a plug 115 made of tungsten or titanium material in a groove of the support part 120, and an electrical connection with the connection terminal 150 on the driving substrate 130. Forming a preferred electrode 160, forming a deformable portion 170 of a ceramic material, electrically connecting the connection terminal 150 on a driving substrate to form a bias electrode l90, and The process of forming the second sacrificial layer 300 of the same material as the first sacrificial layer 200, the process of forming the elastic portion 180 by applying a nitride or oxide, and the mirror 110 with a metal having good reflection characteristics And forming a pixel for the pixel pattern of the mirror 110. A process of forming a predetermined groove by performing toresist and etching, and removing the sacrificial layers 200 and 300 for the air gap between the support parts 120 are provided to provide an optical path control apparatus having a stable structure. And it provides an optical path control device with a fast response speed when driving.

Description

광로조절장치의 제조방법Manufacturing method of optical path control device

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음Since this is an open matter, no full text was included.

제3도는 본 발명의 실시예에 따른 광로조절장치의 평면도,3 is a plan view of an optical path adjusting apparatus according to an embodiment of the present invention;

제4도는 제3도의 실시예에 따른 광로조절장치의 사시도,4 is a perspective view of an optical path control apparatus according to the embodiment of FIG.

제5도는 본 발명의 실시예에 따른 광로조절장치의 제조공정의 호름도.5 is a hormonal view of the manufacturing process of the optical path control apparatus according to the embodiment of the present invention.

Claims (10)

트랜지스터들이 내장되고 전기적으로 연결된 접속 단자를 갖는 구동기판상에 산학규소 몰리브덴, 저온 산화물, 구리, 철, 크롬 니켈중 어느 하나의 재질을 사용하여 제1희생층(200)을 형성하는 제1공정과;상기 전기적으로 연결된 접속단자를 갖는 구동기판상에 질화물 또는 산화물로 지지부(120)를 형성하는 제2공정과;상기 구동기판상의 접속단자와 전기적으로 접속되며, 상기 지지부(120)의 홈에 텅스텐 또는 티타늄 재질로 이루어져 플러그(115)형성하는 제3공정과;상기 제1희생층 (200)과 상기 지지부(120)상에 스퍼터링(sputtering)또는 화학기상침적접(Chemical VaporDeposion:이하 “CVD” 라 칭한)에 의해 금속을 도포하여 상기 구동기판상의 접속단자와 전기적으로 이루어져 신호전극(160)을 형성하는 제4공정과;상기 신호전극(160)상에 세라믹 제질을 도포하여 변형부(170)를 형성하는 제5공정과;상기 플러그(115)를 통해 상기 구동기판상의 접속단자와 전기적으로 접속되며, 전도성의 박막의 금속으로 바이어스 전극(190)을 형성하는 제6공정과;포토레지스트(photoresis t)공정을 수행한 다음 상기 바이어스 전극 (190)에서 상기 제1희생층(200)의 상부 표면까지 에칭(etching)을 수행하여 제2희생층(300)을 형성하는 제7공정과;상기 바이어스 전극(l90)및 상기 제2희생층(300)상부표면에 질화물 또는 산화물을 도포하여 탄성부(180)를 형성하는 제8공정과;상기 탄성부(180)상부 표면에 반사특성이 양호만 금속을 상기 스퍼터링 또는 CVD에 의해 거울(110)을 형성하는 제9공정과;상기 거울(110)의 픽셀 패턴을 위해 상기 제2희생층(300)의 상부면까지 프토레지스트 및 에칭을 수행하는 제10공정과;상기 지지부(120)사이의 공간(air gap)을 위해 용제를 사용하여 상기 희생층(200,300)을 제거하는 제11공정을 수행하는 광로조절장치의 제조방법.A first step of forming the first sacrificial layer 200 by using any one material of alumina silicon molybdenum, low temperature oxide, copper, iron, and chromium nickel on a driving substrate having transistors and connecting terminals electrically connected thereto; A second step of forming a support part 120 from nitride or oxide on a driving substrate having the connection terminal electrically connected thereto; and electrically connected to the connection terminal on the driving substrate, the tungsten or titanium being formed in the groove of the support part 120. A third process of forming a plug 115 made of a material; sputtering or chemical vapor deposition on the first sacrificial layer 200 and the support part 120 (hereinafter referred to as “CVD”); A fourth step of forming a signal electrode 160 by applying a metal to the connection terminal on the driving substrate to form a signal electrode 160; applying a ceramic material on the signal electrode 160 to deform it A fifth process of forming a 170; a sixth process of electrically connecting the connection terminal on the driving substrate through the plug 115 to form a bias electrode 190 made of a conductive thin film of metal; A seventh process of forming a second sacrificial layer 300 by performing a photoresist process followed by etching from the bias electrode 190 to an upper surface of the first sacrificial layer 200; An eighth process of forming an elastic part 180 by applying nitride or an oxide to upper surfaces of the bias electrode l90 and the second sacrificial layer 300; and a reflective characteristic on an upper surface of the elastic part 180; Forming a mirror 110 by sputtering or CVD of a fine metal; performing a photoresist and etching to the upper surface of the second sacrificial layer 300 for the pixel pattern of the mirror 110; And a tenth step of forming a solvent for an air gap between the support part 120. Method of manufacturing an optical path control device to perform an eleventh step of removing the sacrificial layer (200,300) using. 제1항에 있어서, 상기 제2공정은, 스퍼터링(sputtering) 또는 CVD 방법에 의해 상기 지지부(120)를 형성하는 광로조절장지의 제조방법.The method of claim 1, wherein the second step is to form the support part (120) by sputtering or CVD. 제1항에 있어서, 상기 제3공정은, 에지백(etch back) 또는 SOG (spin on glass)방법을 더욱 수행하여 상기 플러그(115)를 형성하는 광로조절장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the third process further comprises performing an etch back or spin on glass (SOG) method to form the plug 115. 제1항에 있어서, 상기 제4공정은, 백금 또는 티타늄의 금속의 재질로 이루어진 상기 신호전극(160)을 형성하는 광로조절장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the fourth process comprises forming the signal electrode (160) made of a metal of platinum or titanium. 제4항에 있어 서, 상기 제4공정은, 리프트오프(liftoff)및 포토레지스트(pho toresist)방법을 더욱 수행하여 상기 신호전극(160)을 형성하는 광로조절장치의 제조방법.The method of claim 4, wherein the fourth process further comprises performing a liftoff and a photoresist method to form the signal electrode. 제1항에 있어서, 상기 제5공정은, 솔젤법(So1-Gel), 스퍼터링(sputtering) 또는 CVD방법에 의해 압전 세라믹 또는 전왜 세라믹의 재질을 도포하여 상기 변형부(170)를 형성하는 광로조절장치의 제조방법.The optical path control according to claim 1, wherein the fifth process comprises coating the piezoelectric ceramic or the electrostrictive ceramic material by a sol-gel method, a sputtering method, or a CVD method to form the deformation part 170. Method of manufacturing the device. 제1항에 있어서, 상기 제6공정은, 스퍼터링 또는 CVD에 의해 금, 백금, 은 또는 알루미늄중 어느 하나의 재질을 도포하여 상기 바이어스 전극(190)을 형성하는 광로조절장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the sixth step comprises applying the material of gold, platinum, silver, or aluminum by sputtering or CVD to form the bias electrode (190). 제1항에 있어서, 상기 제7공정은, 상기 제1희생층(200)과 동일한 재질로 제2희생층(300)을 형성하는 광로조절장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the seventh step is to form a second sacrificial layer (300) made of the same material as the first sacrificial layer (200). 제1항에 있어서, 상기 제8공정은, 스퍼터링 또는 CVD(Chemical Vapor Deposion)방법에 의해 상기 탄성부(180)를 형성하는 광로조절장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the eighth step is to form the elastic portion (180) by sputtering or chemical vapor deposition (CVD). 제1항에 있어서, 상기 제9공정은, 은 또는 알루미늄 재질로 상기 거울 (110)을 형성하는 광로조절장치의 제조방법.The method of claim 1, wherein the ninth step is to form the mirror (110) made of silver or aluminum. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.