KR930010268B1 - Method of making a shadow mask - Google Patents

Abstract

The fabrication method for shadow mask comprises forming a photoresist on both sides of a thin metal plate, exposing by placing the negative film plate close to the photo resist, developing and etching. The method features a circular serif which is formed on the corners of unexposed parts of the negative plate all in the same size.

Description

새도우 마스크(SHADOW MASK)제조방법How to manufacture shadow mask

제1도는 종래의 새도우 마스크 설계방법으로 형성된 네가필름 원판의 슬롯(Slot)형상도.1 is a slot shape of a negative film negative electrode formed by a conventional shadow mask design method.

제2도는 양 네가필름 원판을사용해서 새도우 마스크를 제조하는 일반적인 설명도.2 is a general explanatory diagram of manufacturing a shadow mask using a negative film negative film.

제3도는 네가필름 원판에 형성된 종래 및 본 발명의 세리프 형사에 따른 각 새도우 마스크 부분의 투과공형상도.3 is a transmission hole shape of each shadow mask portion according to the detective serif of the present invention and conventionally formed on the negative film negative plate.

제4도는 제1도의 ＂가＂부 확대도.4 is an enlarged view of the ear of FIG.

제5도는 제1도에 의해 형성된새도우 마스크 투과공 일부 절취 평면도로서,(a)는 대공경측에서 본 평면도.5 is a plan view of a part of the shadow mask through hole formed by FIG. 1, wherein (a) is a plan view seen from the large-diameter side.

제5b도는 소공경측에서 본 평면도.Figure 5b is a plan view seen from the small pore diameter side.

제6도는 종래의 방법에 의해 새도우 마스크투과공이 형성된 전지빔 통과 설명도.6 is an explanatory diagram of a battery beam passing through which a shadow mask through hole is formed by a conventional method.

제7도는 본 발명의 새도우 마스크 설계방법으로 형성된 네가필름 원판 세리프 형상도로서, (a)는 대공경측 네가필름 원판 평면도.Figure 7 is a negative film negative serif shape diagram formed by the shadow mask design method of the present invention, (a) is a large diameter negative film negative plan view.

제7b도는 소공경측 네가필름 원판 평면도.7B is a plan view of the negative hole negative film negative side.

제7c도는 대공경측 및 소공경측 네가필름 원판을 합하여 일부 절결상태로 도시한 평면도.FIG. 7C is a plan view of the large-diameter side and the small-diameter side negative film negatively in a partially cut state; FIG.

제8도는 본 발명에 의해 새도우 마스크 투과공이 형성된 전자빔 통과 설명도이다.8 is an explanatory diagram of electron beam passing through which shadow mask transmission holes are formed according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 금속 박판 소재 2, 8 : 소공경 슬롯1: thin metal sheet material 2, 8: micropore slot

3, 7 : 대공경 슬롯 4, 4' : 네가필름 원판3, 7: large-diameter slots 4, 4 ': negative film negative

5 : 대공경 6 : 소공경5: large diameter 6: small diameter

2', 3' : 감광팍 미 노광부 10, 11 : 원형세리프2 ', 3': unexposed part 10, 11: circular serif

12 : 삼각형세리프 13 : 대공경슬롯 모서리부12: triangle serif 13: large diameter slot corner

15, 16 : 감광막 24, 25 : 전자빔15, 16: photosensitive film 24, 25: electron beam

26 : 투과공 내벽26: through hole inner wall

본 발명의 새도우 마스크 제조방법에 관한 것으로, 특히 새도우 마스크 투과공 코너부의 라운드를 적게하여 칼라 수상관에서의 전자빔 투과율을 증가시키고 밝은 화상을 제공하기 위한 새도우 마스크 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a shadow mask manufacturing method of the present invention, and more particularly, to a shadow mask manufacturing method for increasing the electron beam transmittance in a color receiving tube and providing a bright image by reducing the roundness of the corner portion of the shadow mask transmission hole.

일반적으로 통상의 새도우 마스크는 칼라 수상관의 전면부를 구성하는판낼 내부에 내장되는데, 이러한 새도우 마스크 전자총에서 나온 전자빔이 새도우 마스크를 통과하여 형광면에 정확하게 도달하도록 하는 역할을 한다.In general, a typical shadow mask is embedded inside a panel constituting the front part of the color receiving tube, and serves to ensure that the electron beam from the shadow mask electron gun passes through the shadow mask and reaches the fluorescent surface accurately.

상기의 새도우 마스크는 다수의 전자빔 투고공이 형성되어 있는데, 형광면측 투과공(이하 ＂대공경＂이라함)은 전자총측 투과공(이하＂소공경＂이라 함)보다 크게 형성되어 있다. 이렇게 다수의 투과공을 형성하기 위한 새도우 마스크 제조방법은 통상 0.15mm정도의 얇은금속박판의 가판을 소재로 하고 있으며, 상기 얇은 금속박판에 사진 식각법(Photo Etching)을 사용하여 다수의 투과광을 형성하여 칼라 수상관에 내장된다. 여기서, 금속박판의 소재로는 알루미늄 킬드(Aluminium Killed)저 탄소강이나 인바(Invar)재 등이 사용되고 있다.The shadow mask has a plurality of electron beam through holes, and the fluorescent surface side through holes (hereinafter referred to as "large pore diameter") are formed larger than the electron gun side through holes (hereinafter referred to as "pore pore diameter"). The shadow mask manufacturing method for forming a plurality of transmission holes is made of a thin metal plate of about 0.15mm, and a plurality of transmitted light is formed on the thin metal plate by using photo etching. Your collar is built in the water tube. Here, as the material of the metal thin plate, an aluminum killed low carbon steel, an Invar material, or the like is used.

이와 같은 새도우 마스크의 일반적인 제조방법에 대해서 간단히 살펴보면, 먼저 금속박판으로된 피가공재 표면을 전처리하고 난후, 상기 금속박판소재 양면에 감광액을 도포하고, 슬릿이 형성되어 있는 네가티브형 감광 원판(이하＂네가필름원판＂이라고 함)을 상기 감광액 도포막상에 말착 노강, 현상을 하며 금속박판상 공경형상과 일치하는 감광막을 제거시킨 다음 부식을 행하여 다수의 새도우 마스크 투과공을 형성시키게 되는 것이다.The general manufacturing method of such a shadow mask is briefly described. First, after pretreating the surface of a workpiece made of a metal foil, a photosensitive liquid is applied to both surfaces of the metal foil material, and a negative photosensitive disc having a slit is formed. Film original film) is applied on the photoresist coating film to develop a hardened and developed film, and removes the photoresist film that matches the metal foil-shaped pore shape, and then corrodes to form a plurality of shadow mask transmission holes.

종래의 새도우 마스크 제조방법으로는 일본국 특공소 63-49336호 및 일본국 특개소 53-105963호 등에 상세히 소개되고 있기도 하다.As a conventional shadow mask manufacturing method, Japanese Patent Application No. 63-49336 and Japanese Patent Application No. 53-105963 may be introduced in detail.

이러한 종래의 방법은 먼저 제1도에서 보는 바와같이 새도우 마스크의 다수의 투과공을 형성시킴과 동시에, 새도우 마스크 투과공이 4개의 각 모서리부 라운드를 적게하여 칼라수상관에서 전자빔의 투과율을 향상시킬 수 있도록 네가필름 원판(4) 상에 새도우 마스크의 투과공 크기와 동일한 네가필름 대공경 슬롯(3)와 다른 네가필름 원판(4')상에 네가필름 소공경 슬롯(2)을 형성시킨후, 제2도에서 보는 바와 같이 2개의 네가필름 원판(4,4')을 금속박판 소재(1) 양면의 감광막(15)(16)상에 밀착시킨다. 그 다음 자외선 노강을 시키면 네가티브형 감광막의 특징에 의해서 네가티브필름 원판의 미노광부(새도우 마스크의 투과공의 크기와 동일하게 형성된 대광경슬롯(3)과 소공경슬롯(2)부분) 이외의 부분이 화학적으로 안정한 화합물로 변하여 특정 용매 이외에는 용해되지 않는다. 상기와 같이 적정 노광이 행해진 후 감광막의 종류별 특정 용액에서 현상이 되어지며 비로소 네가티브형 필름원판의 형상이 기판상에 재현된다.This conventional method first forms a plurality of through holes of the shadow mask as shown in FIG. 1, and at the same time, the shadow mask through holes can reduce the four corners of each corner to improve the transmittance of the electron beam in the color tube. Forming a negative film small pore slot (2) on the negative film large diameter slot (3) and the other negative film negative plate (4 ') that is the same as the transmission hole size of the shadow mask on the negative film original (4), As shown in FIG. 2, the two negative film original plates 4 and 4 'are brought into close contact with the photosensitive films 15 and 16 on both sides of the metal foil material 1. Then, when the ultraviolet light is hardened, the non-exposed part of the negative film disc (the large diameter slot 3 and the small diameter slot 2 formed in the same size as the size of the penetration hole of the shadow mask) is formed by the characteristics of the negative photosensitive film. It turns into a chemically stable compound and does not dissolve except in certain solvents. After the appropriate exposure is performed as described above, development is carried out in a specific solution for each type of photosensitive film, and the shape of the negative film master is finally reproduced on the substrate.

상기 감광막 현상 공정이 끝난 후 감광막 밑의 금속박판을 제거하는 에칭공정을 하여, 노출된 금속박판은 식각되어 없애고, 감광막에 덮혀 있는 부분은 식각작업중 보호를 받아 남아 있게 된다.After the photoresist developing process is completed, an etching process of removing the metal thin plate under the photoresist film is performed, so that the exposed metal thin plate is etched away and the portion covered by the photoresist film is protected during the etching operation.

상기와 같은 에칭공정 후 금속박판상에 남아있는 감광막을 제거하므로서 소정의 새도우 마스크를 얻게 된다.The predetermined shadow mask is obtained by removing the photoresist film remaining on the metal thin plate after the etching process as described above.

제3도에서는 새도우 마스크 투과공인 대공경(5)이 형성된 새도우 마스크 형상을 종래 형상과 다음에 기술될 본 발명의 형상으로 함게 도시 하였는바, 네가필름 원판(4,4')상에 종래의 삼각형 세리프형상으로 새도우 마스크를 제조했을때의 공경(32), 본 발명에 의한 원형 세리프형상으로 새도우 마스크를 제조했을때의 공경(33), 네가필름 원판(4,4')상에 세리프를 형성시키지 않고 새도우 마스크를 제조했을대의 공경(31)상태로 나타내고 있다.In FIG. 3, the shadow mask shape in which the large diameter 5, which is the shadow mask transmission hole, is formed is shown in the conventional shape and the shape of the present invention to be described later. When the shadow mask is manufactured in the serif shape, the pore 32 is formed, and when the shadow mask is manufactured in the circular serif shape according to the present invention, the serif is not formed on the negative film original plates 4 and 4 '. It is shown in the pore 31 state when the shadow mask was produced without.

즉, 종래에는 제4도에서 살펴보는 바와 같이 새도우 마스크 투과공인 대공경(5)과 동일한 크기로 네가필름 원판(4)상에 네가필름 대공경 슬롯(3) 형성시키고, 상기 네가필름 대공경 슬롯(3)의 4변 모서리 부분에 삼각형 형상의 세리프(12)를 형성하여, 상기 네가필름 원판(4)을 감광막(16)상에 밀착시킨후 노광, 현상, 수세공정을 실시한다.(새도우 마스크 투과공인 소공경(6) 형성시도 동일한 과정이 수행된다.)That is, in the related art, as shown in FIG. 4, the negative film large diameter slot 3 is formed on the negative film disc 4 with the same size as the large diameter 5 that is the shadow mask transmission hole, and the negative film large diameter slot A triangular serif 12 is formed at the corners of the four sides of (3), the negative film original plate 4 is brought into close contact with the photosensitive film 16, and then exposed, developed, and washed with water. The same process is performed when the small hole diameter 6 is formed.

여기서 세리프(13)를 삼각형 형상으로 구성시킨 네가필름 대공경슬롯(3) 및 네가필름(2)과 동일한 크기로 형성되는 감광막 미노광부(2',3')는 현상, 수세공정에서 금속박판 소재(1)로 부터 제거 되는데, 이때 감광막 미노광부(2',3')의 세리프형상이 뾰족한 삼각형 세리프로 구성되어 있기 때문에 뾰족한 부분의 감광막(15,16)이 현상 공정이전에 떨어져 나가거나 파손됨으로 감광막 미노광부(2',3')의 삼각형세리프의 일부분이 완전하게 에칭이 되지 않음으로 새도우 마스크 투과공이 이상한 형상으로 나타남으로서 치명적인 불량을 초래하여 제6도에서 보는 바와 같이칼라 수상관에서의 전자빔(22)(23)들이 새도우 마스크의 소공경(6)에서 대공경(5)으로 완전히 통과하지 못하고 금속박판 소재(1)의 투과공 내벽(26)에 부딪힘으로 칼라 수상관 형광면에 적절한 밝기의 색순도를 재현하지 못하는 문제점이 발생되고 있다.Here, the negative film large-diameter slot 3 and the photoresist unexposed portions 2 'and 3' having the same size as the negative film 2 having the serif 13 formed in a triangular shape are formed of a thin metal material in the development and washing process. It is removed from (1). At this time, since the serif shape of the photoresist unexposed part (2 ', 3') is composed of a pointed triangular serif, the photoresist film (15,16) of the pointed part is dropped or broken before the development process. A portion of the triangular serif of the photoresist unexposed portions 2 ', 3' is not completely etched, so the shadow mask penetration hole appears in a strange shape, which causes a fatal defect, as shown in FIG. (22) (23) do not pass completely from the small pore size (6) of the shadow mask to the large pore size (5) and hit the inner wall (26) of the through hole of the metal sheet material (1), so that the brightness of the fluorescent tube is suitable for the surface of the fluorescent tube. There is a problem caused not reproduce the color purity.

본 발명은 상기의 문제점들을 해결하기위한 것으로, 새도우 마스크 투과공 4개의 모서리 부분에 라운드를 직각형상으로 구성하기 위해 네가필름 원판의 미노광부 세리프형상을 원형으로 구성한 것을 특징으로 한다.The present invention is to solve the above problems, it characterized in that the unexposed portion serif shape of the negative film negative electrode to form a round in a rectangular shape at the four corners of the shadow mask through-holes in a circular shape.

이하 본 발명을 첨부 도면에 의거하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 제7도에서 보는 바와 같이 네가필름 원판(4,4')상에 미노광부인 대공경 슬롯(7)과 미노광부인 소공경 슬롯(8)를 각각 형성시킨다.In the present invention, as shown in FIG. 7, the large-diameter slot 7 as the unexposed portion and the small-diameter slot 8 as the unexposed portion are formed on the negative film original plates 4 and 4 ', respectively.

본 발명에서는 미노광부인 대공경 슬롯(7)과 미노광부인 소공경 슬롯(8)의 4개의 모서리 부분에 원형의 세리프(10)(11)를 형성시키게 되는데, 상기 원형 세리프(10)(11)의 반지름 크기 가운데 단변형 반지름의 크기를 a, 장변형 반지름의 크기를 b라 하고 네가필름 원판(4)의 대공경(7)의 단변측 크기를 P라 정의 할때 a=b=P/5 크기로 구성시킨다. 이렇게 네가필름 원판(4,4')의 미노광부인 대공경 슬롯(7) 및 소공경 슬롯(8)의 모서리 부분을 원형 세리프(10)(11)로 형성시키후 제2도에서 보는 바와 같이 금속박판 소재(1)에 도포된 감광막(15)(16)에 밀착노광을 시킨후 미노광부(2')(3')를 현상시키고 나서 에칭을 행한다.In the present invention, the circular serifs 10 and 11 are formed in four corner portions of the large-exposure slot 7 that is the unexposed portion and the small-diameter slot 8 that is the unexposed portion, wherein the circular serifs 10 and 11 are formed. ), Where the short side radius is a, the long side radius b is b, and the short side size of the large diameter 7 of the negative film disc 4 is defined as a = b = P /. It consists of 5 sizes. Thus, the corner portions of the large-diameter slots 7 and the small-diameter slots 8, which are unexposed portions of the negative film original plates 4 and 4 ', are formed of circular serifs 10 and 11, as shown in FIG. After exposing the photosensitive films 15 and 16 coated on the metal thin plate material 1 to close exposure, the unexposed portions 2 'and 3' are developed and then etched.

상기 현상공정에서 내가필름 원판(4,4')상의 대공경 슬롯, 소공경 슬롯(7)(8)의 모서리 부분을 원형세리프(10)(11)로 구성시킴으로 원형세리프(10)(11)의 파손을 방지할 수 있을 뿐만 아니라 현상할때 원형 세리프(10)(11)의 구석진 부분까지 현상됨으로 현상력이 증대되어 새도우 마스크투과공 4모서리 부분이 직각에 가까운 형상으로 투과공이 형성된다.In the developing process, the circular serifs 10 and 11 are formed by forming the corner portions of the large-diameter slots and the small-diameter slots 7 and 8 on the inner film discs 4 and 4 '. In addition to preventing the breakage of the circular serif (10, 11) when the development of the corner portion of the development by developing the development power is increased, the shadow mask penetrating hole is formed in the shape of the perforated hole close to the right angle.

따라서 제8도에서와 같이 칼라 수상관에 내장된 새도우 마스크의 소공경(6)에서 대공경(5)으로 전자빔(24)(25)들이 통과할때 새도우 마스크 투과공 재벽(26)에 부딪히지 않고 완전히 통과하여 형광면에 적절한 화상을 제공할 수 있게 되는 것이다.Therefore, as shown in FIG. 8, when the electron beams 24 and 25 pass from the small pore 6 to the large pore 5 of the shadow mask embedded in the color receiving tube, they do not hit the shadow mask penetrating wall 26. Through it, it is possible to provide an appropriate image on the fluorescent surface.

Claims (3)

금속박판의 소재 양면에 감광막을 형성시키고, 상기 감광막상에 네가필름원판을 밀착시킨후 노광, 현상, 에칭공정을 실시하는 새도우 마스크 제조공정에 있어서, 상기 네가필름원판의 미노광부에 원형의 세리프를 형성하는 것을 특징으로 하는 새도우 마스크 제조방법.In a shadow mask manufacturing process of forming a photoresist film on both sides of a metal thin plate, adhering a negative film disc to the photoresist film, and performing exposure, development, and etching processes, a circular serif is applied to an unexposed portion of the negative film disc. Shadow mask manufacturing method characterized in that it is formed. 제1항에 있어서, 원형의 세리프는 네가필름 원판상의 미노광부의 모서리에 각각 동일한 크기로 형성시키는 것을 특징으로 하는 새도우 마스크 제조방법.2. The method of claim 1, wherein the circular serifs are formed in the corners of the unexposed portion on the negative film disc in the same size, respectively. 제2항에 있어서, 원형의 세리프 크기는 그 반지름의 크기가 네가필름 원판상 미노광부 단변측 크기의 1/5이 되도록 구성함을 특징으로 하는 새도우 마스크 제조방법.The shadow mask manufacturing method according to claim 2, wherein the circular serif size is configured such that the radius thereof is 1/5 the size of the short side of the unexposed portion on the negative film disc.