KR930008829B1 - 음극선관용 멀티 비임 전자총 - Google Patents

음극선관용 멀티 비임 전자총 Download PDF

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KR930008829B1
KR930008829B1 KR1019860007024A KR860007024A KR930008829B1 KR 930008829 B1 KR930008829 B1 KR 930008829B1 KR 1019860007024 A KR1019860007024 A KR 1019860007024A KR 860007024 A KR860007024 A KR 860007024A KR 930008829 B1 KR930008829 B1 KR 930008829B1
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Abstract

내용 없음.

Description

음극선관용 멀티 비임 전자총
제 1 도는 본 발명의 전자총에 대한 양호한 실시예의 부분 절취 단면도.
제 2 도는 제 1 도의 선 2-2에 따른 취해진 전자총의 BFR 어셈블리에 대한 확대 평면도.
제 3 도는 제 2 도의 선 3-3에 따른 취해진 BFR 어셈블리의 단면도.
제 4 도는 천이 부재의 평면도.
제 5 도는 또다른 하나의 BFR 어셈블리의 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
10 : 전자총 12,112 : 모듈러 BFR 어셈블리
14,114 : 유지 지지봉(비이드) 15,115 : 비이드 지지부재
16 : 캐소우드 어셈블리 18,118 : 제어 그리드(G1)전극
20,120 : 차폐 그리드(G2)전극 20a,20b,20c : 판형차폐 그리드 전극부
22,122 : 제 1 집속(G3)전극 24 : 제 2 집속(G4)전극
28 : 하측 제 1 부재 30 : 상측 제 1 부재
32 : 컵형부재 34 : 개구판부재
38 : 캐소우드 슬리이브 40 : 캐소우드 아이릿
42 : 히이터 코일 46 : 히이터 스트랩
48 : 지지 스터드 50,150 : 세라믹 부재
52 : 제 1 주표면 54 : 제 2 주표면
56a,56b,56c : 금속화패턴 58 : 플랜지
60,62 : 비임 형성 개구 64 : 리세스
66,166 : 제 1 천이부재 68 : 제 1 부분
70 : 제 2 부분 72 : 제 2 천이부재
74 : 평평부 76,176 : 직립부
78 : 프레임부 80 : V홈 브리지 영역
82 : 계단형 지지부재 84,184 : 차폐 그리드 전극 접촉부
86 : 비이드지지 접촉부 88 : 중앙 상승부
90 : 제 1 금속층 92 : 제 2 금속층
94 : 니켈-철층 96 : 구리층
174 : 평평면 182 : L자형 지지부재
188 : 천이 직립 접촉부
본 발명은 개선된 음극선관용 멀티 비임 전자총에 관한 것으로서, 특히 모듈러 비임 형성 영역 어셈블리를 갖는 전자총에 관한 것이다.
상기 어셈블리는 다수의 캐소우드 어셈블리, 제어 그리드 전극 및 차폐 그리드 전극을 구비한다. 이 전극들은 정렬된 개구를 가지고 공통세라믹 지지부재에 부착된다. 상기 차폐 그리드 전극은 지지 수단에 의해 제어 그리드 전극에 대해 위치가 설정되며, 또한 이 지지 수단에 의해 BFR 어셈블리가 전자총의 주집속 렌즈에 대해 정확히 위치가 설정된다.
1981년 11월 3일자 맥칸드레스에게 허여된 미합중국 특허 제 4,298,818 호에는 본 발명과 유사한 모듈러 비임 형성 영역(Beam-Forming Region : BFR) 어셈블리를 갖는 전자총이 기재되어 있는데, 이것도 역시 다수의 캐소우드 어셈블리와, 제어 그리드(G1) 전극 및 차폐 그리드(G2) 전극을 포함하는 적어도 2개의 연속 전극들을 구비한다. 본 발명과는 달리, 이 비임 형성 영역의 연속 전극들은 각기 공통세라믹 지지부재 표면의 금속화 패턴에 직접 부착된다. G1 전극과 G2 전극 사이의 길이방향 간격은 전극들의 플랜지 높이에 의해 정해진다. 지지 브래킷은 주집속 렌즈와 이격되어 전자총의 유리 지지봉안에 고착된다. 상기 차폐 그리드 전극은 모듈러 BFR 어셈블리가 주집속 렌즈와 간격져 고착되도록 상기 지지 브래킷에 용접된다. 이러한 전자총의 결점은 지지 세라믹 표면상의 불균형 및 제어 그리드 전극 또는 차폐 그리드 전극의 플랜지부의 높이의 변동으로 인해 연속 전극들 사이의 길이방향 간격에 변동이 발생된다는 점이다. 이러한 전자총을 이용한 멀티 비임 음극선관이 적절히 동작하려면 BFR 어셈블리의 연속 전극들 사이의 간격 및 정렬이 정확히 유지되는 것이 요구된다. 개구가 0.0127mm(0.5mil) 정도로 적게 오 정렬된 것에 의해서도 비임 형태가 일그러질 수 있고 음극선관의 성능이 저하될 수 있다.
1985년 2월 19일 맥칸드레스에게 허여된 미합중국 특허 제 4,500,808 호에는, 모듈러 비임 형성 영역 어셈블리의 차폐 그리드 전극이 금속지지판 및 개개의 3개구판을 포함하는 복합구조로 이뤄진다는 점을 제외하고는, 미합중국 특허 제 4,298,818 호와 유사한 전자총이 기재되어 있다. 상기 금속 지지판은 제어 그리드 전극과 간격제 세라믹 지지부재의 한 표면의 금속화 패턴에 곧바로 브레이징 용접되며, 제어 그리드 전극 역시 세라믹 지지부재의 동일 표면의 분리된 금속화 패턴에 곧바로 브레이징 용접된다. 이러한 금속 지지판은 제어 그리드 전극내의 각 개구에 대응하는 윈도우를 가진다. 각 개구판이 금속 지지판에 브레이징 용접되어 윈도우를 폐쇄한다. 각 개구판은 G1 전극내의 개구들중 하나와 별도로 정렬되는 단일 전자 비임 형성 개구를 가진다. 이러한 구조는 종래의 구조보다 G1 및 G2 전극 개구의 더 정확한 정렬을 구성한다. 그러나, G1 및 G2 전극 사이의 길이방향 간격은 여전히 세라믹 부재 표면의 평평도 및 G1, G2 전극의 플랜지 높이에 계속 좌우된다. 또한, G2 전극과 주집속렌즈 사이의 길이방향 간격도 G2 전극의 금속 지지판에 브레이징 용접된 각 개구판의 두께 및 평평도에 좌우된다.
1985년 8월 27일 라이트에 의해 출원된 미합중국 특허 출원 제 769,978 호에는 전자총용의 개선된 모듈러 BFR 어셈블리가 기재되어 있다. 상기 출원의 전자총은 모듈러 BFR 어셈블리 및 주집속렌즈를 포함하며, 이들은 모두 한쌍의 절연 지지봉에 고착된다. 상기 BFR 어셈블리는 다수의 캐소우드 어셈블리, 제어 그리드 전극 및 차폐 그리드 전극을 포함한다. 상기 주집속 렌즈는 제 1 집속(G3) 전극 및 제 2 집속(G4) 전극을 포함한다. 상기 캐소우드 어셈블리 및 G1, G2 전극은 각각 공통 세라믹 부재로부터 적소에 유지된다. 평평한 제 1 부분 및 이와 전기적으로 분리된 제 2 부분을 가지는 천이부재가 세라믹 부재의 한 표면에 형성된 금속화 패턴에 부착된다. 이 천이부재의 제 2 부분은 금속화 패턴에 브레이징 용접된 평평부와, 실질상 이 평평부에 수직이며 서로 평행한 2개의 직립부를 가진다. G1 전극은 천이부재의 제 1 부분에 부착되고, G2 전극은 다수의 L자형 지지부재에 의해 천이부재의 제 2 부분의 직립부들 사이에 위치하여 거기에 부착된다. G1 및 G2 전극 사이의 길이 방향 간격은 가동 스페이서에 의해 정해진다. 각 L자형 지지부재는 G3 전극에 인접한 G2 전극의 표면에 용접된 한단부 및, 천이부재의 직립지지부에 용접된 또 하나의 단부를 가진다. 상기 천이부재의 직립지지부는 G2 전극이 G1 전극과 간격진 관계로 길이 방향으로 위치를 정하는데 있어서, 종래에 각 전극이 정밀 형성부분이었을때 얻을 수 있었던 것보다 더 큰 범위를 허여한다.
상기 L자형 지지부는 G2 전극을 천이부재의 직립부들 사이의 폭보다 더 좁게해서 G2 전극으로 하여금 G1 전극내의 개구와 대응해서 전자 비임 형성 개구를 정렬하도록 측방향으로 위치가 설정될 수 있게 한다. 상기 출원의 BFR 어셈블리는 G1 전극 및 세라믹 부재의 표면이 구배해야 할 정밀도를 완화시키는 바, 왜냐하면 지금까지 상술된 종래의 전자총에서는 얻을 수 없는 길이방향 허용 오차를 제공하기 때문이다. 그러나, 이 구조의 단점은 금속 비이드 지지부재가 한 단부에서는 유리 지지봉에 고착되고 또 하나의 단부에서는 천이부재의 제 2 부분의 평평부에 부착되는 것에 의해 BFR 어셈블리가 유리지지봉에 부착되므로써, G2 및 G3 전극 사이의 간격이 천이부재의 평평부에 관련하여 간접적으로 이루어진다는 점이다. 그래서, 만일 G1 전극의 높이 및 세라믹 지지부재 표면의 평평도가 최적 범위를 넘어서 변동한다면, G1 대 G2 길이방향 간격을 유지시키는 G2 전극 위치의 대응 변동에 의해 G2 대 G3 길이방향 간격의 역변동이 초래될 것이다. 상기 BFR 어셈블리의 천이 플랜지에 부착된 비이드 지지부재의 단부는 G2 대 G3 전극의 요구되는 간격을 유지하기 위해 휘어질 수 있다. 그러나, 이러한 경우에는 금속 비이드 지지부재의 회복력의 결과로서 유리지지봉의 균열 및 G2 대 G3 전극 간격의 뒤이은 변화가 초래된다. 이와 다른 방법은 유리 지지봉에 부착된 지지부재를 가지는 전자총에 비이드 지지부재의 단부와 G3 전극 사이의 간격 범위를 G2 전극 위치의 변동을 보상하도록 형성하는 것이다. 이것은 고용량 동작에는 실용적이 아니다.
본 발명에 따르면, 음극선관용 전자총이 모듈러 비임 형성 영역 어셈블리와, 적어도 2개의 절연 지지봉에 부착된 주집속 렌즈를 구비한다. 상기 모듈러 비임 형성 영역 어셈블리는 다수의 캐소우드 어셈블리, 제어 그리드 전극 및 차폐 그리드 전극을 포함한다. 이 전극들은 캐소우드 어셈블리로부터의 다수의 전자 비임이 통과하도록 정렬된 개구를 가진다. 상기 캐소우드 어셈블리 및 전극들은 각기 공통 세라믹 부재로부터 적소에 유지된다. 이 세라믹 부재는 제 1 주표면 및 이에 반대 방향으로 위치한 제 2 주표면을 가지며, 각 주표면의 적어도 일부는 금속화 패턴을 갖는다. 제어 그리드 전극 및 차폐 그리드 전극이 제 1 주표면에 부착되고, 캐소우드 어셈블리는 제 2 주표면에 부착된다. 천이부재는 세라믹 부재의 제 1 주표면의 금속화 패턴과 차폐 그리드 전극 사이에 위치된다. 이 천이부재는 실질상 금속화 패턴에 부착된 평평부 및 이 평평부에 실질상 수직이며 서로 평행한 2개의 직립부를 포함한다. 상기 차폐 그리드 전극은, 직립부들 사이에 위치가 정해지며 다수의 계단형 지지부재에 의해 접속되는 적어도 하나의 판형 부재를 구비한다. 각 계단형 지지부재는 차폐 그리드 전극 접촉부, 비이드 지지 접촉부 및 이 접촉부들 사이에서 연장되는 중앙 상승부를 포함한다. 각 계단형 지지부재의 차폐 그리드 전극 접촉부는 차폐 그리드 전극에 부착된다. 상기 차폐 그리드 전극은 길이 방향으로 제어 그리드 전극으로부터 이격되며, 각 계단형 지지부재의 중앙 상승부가 천이부재의 직립부에 부착된다. 각 계단형 지지부재의 비이드 지지접촉부는 절연 지지봉에 고착된 다수의 비이드 지지부재중 상이한 하나에 부착되며, 이에 의하여 차폐 그리드 전극이 길이 방향으로 주집속 렌즈로부터 이격된다.
이제 도면을 참조하여 본 발명을 설명한다.
제 1 도에 도시된 바와 같이, 개선된 전자총(10)은 다수의 금속 비이드 지지부재(15)에 의해 비이드라 일컫는 한쌍의 유리지지봉(14)에 고착된 모듈러 비임 형성 영역(BFR) 어셈블리(12)를 포함한다. 상기 모듈러 BFR 어셈블리(12)는 각각의 전자 비임을 위한 3개의 동등하게 간격인 인라인 캐소우드 어셈블리(16), (하나만이 제 1 도에 도시되어 있다) 제어그리드(G1) 전극(18) 및 차폐 그리드(G2) 전극(20)을 포함한다. 제 1 집속(G3) 전극(22) 및 제 2 집속(G4) 전극(24)을 구비한 주집속 렌즈는 BFR 어셈블리(12)로부터 길이방향으로 간격져 있다.
상기 제 1 집속 전극(22)은 실질상 장방형인 컵형상축 제 1 부재(30) 및 하측 제 1 부재(28)를 구비하며, 이들 상측 및 하측 제 1 부재는 개방 단부에서 함께 합쳐진다. 제 1 도에는 중간 개구만 도시되어 있지만, 이부재들(28, 30)의 폐쇄 단부는 3개의 개구를 갖는다. 제 1 집속 전극(22)의 개구는 제어 및 차폐 그리드 전극(18, 20)의 개구와 정렬되어 있다. 상기 제 2 집속 전극(24)은 장방향의 컵형부재(32) 및 개구판 부재(구멍뚫린 판형부재)(34)를 구비하며, 또한 3개의 인라인 개구가 부재들(32, 34)의 단부에 형성되어 있다.
각 캐소우드 어셈블리(16)는 전방단부가 폐쇄되고 그 표면에 전자방출 코팅(도시생략)을 갖는 실질상 원통형인 캐소우드 슬리이브(38)를 구비한다. 이 캐소우드 슬리이브(38)는 개방 단부에서 캐소우드 아이릿(40)내에서 지지된다. 히이터 코일(42)이 전자 방출 코팅을 간접적으로 가열하기 위해 슬리이브(38)내에 위치된다. 이 히이터 코일(42)은 히이터 스트랩(46)에 용접되는 한쌍의 다리(44)를 가지며, 상기 히이터 스트랩은 유리 지지봉(14)에 지지되어 있는 지지 스터드(48)에 용접된다.
제 2 도 및 제 3 도에 도시된 모듈러 BFR 어셈블리(12)는, 알루미나 함량이 약 99%인 세라믹 부재(50)를 포함하며, 이 부재(50)에는 캐소우드 어셈블리(16), 제어 그리드 및 차폐 그리드 전극(18, 20)이 부착된다. 상기 세라믹 부재(50)는 제 1 주표면(52) 및 이의 반대편에 실질상 평행하게 위치한 제 2 주표면(54)을 포함하며, 약 1.5mm(0.06inch)의 두께를 갖는다. 제 1 주표면(52)의 적어도 일부는 그 위에 금속화 패턴(56a, 56b)을 가지는데, 여기서 전극(18, 20)이 각각 부착되게 한다. 상기 금속화 패턴(56a, 56b)은 서로 전기적으로 분리된, 즉 절연된 불연속 영역을 구성한다. 전기적으로 분리된 다수의 금속화 패턴(56c 하나만이 도시되어 있다)이 제 2 주편면(54)에도 형성되며, 여기에는 캐소우드 어셈블리(16)가 부착된다. 세라믹 부재의 금속화는 방법상 잘 알려져 있으며, 더 이상의 설명은 불필요하겠다. 상기 주표면(52, 54)은, 제 3 도에 도시된 바와 같이, 전기적으로 분리된 금속화 패턴의 적용을 용이하게 하는 영역을 포함할 수도 있다. 제어 그리드 전극(18)은 본질상 평평한 판이며, 이 판은 세개의 정밀하게 간격진 인라인 비임 형성 개구(60)(하나만이 도시되어 있음)의 서로 마주보고 있는 측면에 2개의 평행한 플랜지(58)를 갖는다. 차폐 그리드 전극(20)은 각각 비임 형성 개구(62)를 갖는 3개의 분리된 판을 구비할 수도 있고, 또는 정밀하게 위치한 3개의 개구를 지닌 단일판을 이용할 수도 있다. 차폐 그리드 전극(20)의 외측부는 부호 20a, 20b로 표시되며, 중앙부는 부호 20c로 표시된다. 리세스(64)는 제 1 집속 전극(22)의 하측 제 1 부재(28)에 인접한 차폐 그리드 전극(20)의 표면에 형성된다. 상기 리세스(64)는 집속 전압의 변화를 보상하기 위해 외측 전자 비임에 대한 수평수렴보정을 제공한다. 이러한 구조는 1985년 5월 28일자 반헥켄 등에 허여된 미합중국 특허 제 4,520,292 호에 기재되어 있다.
이러한 차폐 그리드 전극(20)의 분리된 부분들(20a, 20b, 20c)은 차폐 그리드 전극(20)의 개구(62)가 제어그리드 전극(18)의 대응하는 개구(60)와 정렬되도록 각기 위치될 수 있다.
상기 인용된 미합중국 특허 제 4,298,818 호 및 제 4,500,808 호에서는 제어 및 차폐 그리드 전극이 세라믹표면의 금속화 패턴에 곧바로 브레이징 용접된다. 이러한 다수의 금속부를 형성하는 브레이징 용접은 적어도 일부의 금속을 일그러지게 할 수 있고 세라믹 부재내로 응력을 유발시킬 수 있다. 만일 응력이 세라믹부재가 파괴될 정도로 충분히 크다면 캐소우드-그리드 어셈블리는 사용될 수 없게 된다.
1985년 5월 17일 맥칸드레스에 의해 출원된 미합중국 특허 출원 제 735,261 호에는 세라믹 부재의 금속화패턴에 브레이징 용접되는 실질상 평평한 바이메탈 천이부재가 기재되어 있다. 제어 및 차폐 그리드 전극이 상기 천이부재에 용접된다. 천이부재의 두께는 브레이징 용접동안 최소의 응력이 세라믹 부재내로 유발되도록 세라믹부재 두께의 약 20%로 한정된다.
제 3 도 및 제 4 도에 도시된 바와 같이, 실질상 평평한 제 1 부분(68) 및 L자형 횡단면을 지닌 제 2 부분(70)을 갖는 제 1 천이부재(66)는 제 1 주표면(52)의 금속화 패턴(56a, 56b)에 브레이징 용접됨과 동시에 제 2 천이부재(72)는 제 2 주표면(54)의 금속화 패턴(56c)에 브레이징 용접된다. 상기 제 1 천이부재의 제 2 부분(70)은 실질상 평평한 제 1 부분(74)을 가지며, 이 제 1 평평부(74)는 거기에 수직인 직립부(76) 및 금속화 패턴(56b)과 접촉한다. 상기 제 1 천이부재(66)의 제 1 부분(68) 및 제 2 부분(70)과 제 2 천이부재(72)는 상기 인용된 미합중국 특허 출원 제 735,261 호에 기재된 것과 유사한 격리 프레임을 각기 포함한다. 제 4 도에 도시된 바와 같이, 제 1 천이부재(66)는 브이 홈 브리지 영역(80)에 의해 제 1 및 제 2 부분(68, 70)에 연결되는 프레임부(78)를 포함한다. 제 1 천이부재(66)의 프레임부들(78)이 격리됨으로 인해 제 1 부분(68)과 제 2 부분(70)이 전기적으로 격리된다. 제 3 도에 도시된 바와 같이, 제어 그리드 전극(20)이 실질상 평형한 직립부들(76) 사이에 위치할 수 있도록 제 1 천이부재(66)의 제 2 부분(70)은 세라믹 부재(50)의 제 1 주표면(52)의 양측면을 따라서 연장된다. 상기 제어 그리드 전극(18)은 제 1 천이부재(66)의 제 1 부분(68)에 용접된다. 상기 제 1 천이부재의 직립부(76)의 높이는 제어 그리드(18) 높이의 변동 및 세라믹 부재(50) 평평도의 불균형을 수용하도록 차폐 그리드 전극부들(20a, 20b, 20c)의 위치의 길이방향 변동을 허여하기에 충분하다.
달리 말하면, 세라믹 부재(50)의 제 1 주표면(52)과 제어 그리드 전극(18)이 정밀할 것이 요구되지 않는데, 왜냐하면 판형 차폐 그리드 전극부들(20a, 20b, 20c)이 적당한 가동 스페이서(도시생략)에 의해 길이방향으로 위치가 정해질 수 있고, 연속 전극들 사이의 요구되는 간격 및 정렬을 형성하도록 측방향으로 위치가 설정될 수 있기 때문이다. 적어도 2개의 계단형 지지부재(82)가 각 차폐 그리드 전극부들(20a, 20b, 20c)에 고착된다. 각 계단형 지지부재(82)는 차폐 그리드 전극 접촉부(84), 비이드 지지 접촉부(86) 및 약 2.0mm 정도의 정밀한 길이 11인 중앙 상승부(88)를 포함한다. 상기 차폐 그리드 전극 접촉부(84)가 차폐 그리드 전극(20)의 판형부들(20a, 20b, 20c)에 부착된다. 상기 판형부들(20a, 20b, 20c)은 제 1 천이부재(66)의 직립부들(76) 사이에 위치한다. 이 판형부들(20a, 20b, 20c)은 이들내의 개구(62)가 제어 그리드 전극(18)내의 개구(60)와 함께 정렬될 수 있도록 이 판형부들이 측방향으로 직립부들(76) 사이에 위치가 설정될 수 있을 만큼의 폭을 지닌다. 제어 그리드 전극(18) 및 차폐 그리드 전극(20) 사이의 길이방향 간격 l2가 상기 전극들 사이에 위치한 가동 스페이서(도시생략)에 의해 형성된다. 상기 중앙 상승부(88)는 직립부(76)에 용접되어 차폐 그리드 전극부들(20a, 20b, 20c)을 제어 그리드 전극(18)과 정렬되게 또한 이와 간격진 관계로 고착시킨다.
본 발명의 구조에서, 제 1 및 제 2 천이부재(66, 72)는 서로 마주보게 적층된 바이메탈층을 구비한다. 상기 제 1 천이부재(66)는 니켈 42%, 철 58%인 니켈-철 합금으로 형성된 제 1 금속층(90)을 구비한다. 이 제 1 금속층(90)은 약 0.2mm(0.008inch) 정도의 두께를 지닌다. 제 2 금속층(92)은 바람직하게 구리고 형성되며, 약 0.025mm(0.001inch)의 두께를 갖는다. 이 구리층(92)의 녹는점은 약 1033℃이고, 니켈-철층(90)의 녹는점은 약 1427℃이다. 상기 구리층(92)은 제 1 주표면(52)의 금속화층(56a, 56b)과 접촉한다. 상기 제 2 천이부재(72) 역시 0.2mm 두께의 니켈-철층(94) 및 0.025mm 두께의 구리층(96)으로 형성되어 서로 마주보게 적층된 바이메탈을 구비한다. 여기서 구리층(96)은 제 2 주표면(54)의 금속화층(56c)에 곧바로 브레이징 용접된다. 비이드 지지부재(15)를 비이드 지지 접촉부(86)에 용접함으로서 전자총에 BFR 어셈블리(12)가 부착된다.
제 3 도를 참조하면, 제어 그리드 전극(18)과 차폐 그리드 전극(20) 사이의 길이방향 간격 l2는 지지부재(82)의 중앙 상승부(88)가 제 1 천이부재(66)의 직립부(76)에 용접되는 동안 전극들(18, 20)사이에 위치하는 스페이서에 의해 형성된다. 각 지지부재(82)는 중앙 상승부(88)가 비이드 지지 접촉부(86)의 상부에서부터 차폐 그리드 전극 접촉부(84)의 상부까지 정밀한 길이 l1을 가지도록 형성되기 때문에, 역시 차폐 그리드 전극(20)의 상부에서부터 비이드 지지 접촉부(86) 상부까지의 기이 l3이 각 BFR 어셈블리(12)에 대해 정밀하게 고정된다. G3 및 G4 전극(22, 24)이 유리 지지봉(14)에 고착되는 비이딩 동작 동안에, 역시 비이드 지지부재(15)가 G3 전극(22)으로부터 정밀한 길이로 유리 지지봉(14)에 고착된다. 그래서 BFR 어셈블리(12)의 비이드지지 접촉부(86)가 비이드 지지부재(15)에 부착될 때, G2 전극(20)의 상부와 G3 전극(82)의 바닥 표면사이의 적당한 길이방향 간격 l4는 비이드 지지부재(15)를 구부리거나 변형시키지 않고 형성되게 된다.
제 5 도에는 상기 인용된 미합중국 특허 출원 제 769,978 호에 기재된 모듈러 BFR 어셈블리(112)가 도시되어 있다. 상기 BFR 어셈블리(112)는 제어 그리드(G2) 전극(120)을 제 1 천이부재(166)의 직립부(176)에 고착시키기 위해 다수의 L자형 지지부재(182)를 사용한다는 점에서 본 발명의 BFR 어셈블리(12)와 다르다. 각 L자형 부재는 차폐 그리드 전극 접촉부(184) 및 천이 직립 접촉부(188)를 포함한다. 상기 BFR 어셈블리(112)는 다수의 비이드 지지부재(115)에 의해 전자총에 연결되는데, 상기 비이드 지지부재(115)의 한쪽은 한쌍의 유리 지지봉에 고착되고, 다른 자유단부는 천이부재(166)의 평평면(174)에 용접된다. 본 발명의 구조와 같이, 이러한 구조에서도 제어 그리드(G1) 전극(118) 및 차폐 그리드 전극(120) 사이의 G1 대 G2 길이방향 간격 l5는 가동 스페이서(도시생략)에 의해 형성된다. 그러나 본 발명의 구조와는 달리, 차폐 그리드 전극(120)과 주집속 렌즈의 제 1 집속(G3) 전극(122) 사이의 G2 대 G3 길이 방향 간격 l6은, 비이드 지지부재(115)가 천이부재(166)의 표면(174)에 부착되기 때문에 G1 대 G2 간격이 정해질때 형성된다. 제 5 도에 도시된 바와 같이, G1 대 G2 간격 l5가 형성될때, 역시 표면(174)위부터 차폐 그리드 전극(120) 상부까지의 높이 l7이 형성된다. 상기 비이드 지지부재(115)가 유리 지지봉(114)에 부착됨과 동시에 주 전자 렌즈가 상기 지지봉(114)에 부착되기 때문에, 비이드 지지부재(115)의 부착표면 및 제 1 집속전극(122) 사이의 총 간격은 l6+l7이다.
만일, 세라믹 부재(150)의 표면 평평도의 변동 및 제어 그리드 전극(118)의 플랜지 높이의 변동때문에 G1 대 G2 간격 l5가 최적 범위로부터 변동된다면, 이에 따라 l7은 l5의 변화로 인해 직접적으로 변동되고, l6은 l7의 변화로 인해 역으로 변동된다. G2 대 G3 최적 길이방향 간격 l6을 유지하기 위해, 비이드 지지부재(115)가 천이부재(166)의 표면(174)에 용접될때 가동 쐐기(도시생략)가 차폐 그리드 전극(120)의 상부표면과 제 1 집속 전극(122)의 바닥표면 사이에 위치될 수도 있다. 상기 표면(174)에 접촉하는 비이드 지지부재(115)의 단부는 차폐 그리드 전극(120)의 마주보는 표면과 제 1 집속 전극(122) 사이에 쐐기를 유지하기 위해 충분히 휘어질 수도 있다. 그러나, 이러한 경우는 휘어지는 것 때문에 유리 지지 비이드(114)가 파괴될 수 있기 때문에 피해야 한다. G2 대 G3 최적 길이방향 간격 l6을 얻기 위한 다른 방법은 G1 대 G2 간격 l5의 변동을 보상하기 위하여 유리 지지 비이드(114)의 비이드 지지부재(115) 위치를 재설정하는 것이다. 그러나, 이러한 경우는 다수의 전자총의 상이한 간격이 요구되며 본 발명 보다는 실용성이 적다.

Claims (3)

  1. 모듈러 비임 형성 영역 어셈블리 및 적어도 2개의 절연 지지봉에 고착된 주집속렌즈를 구비하는데, 상기 비임 형성 영역 어셈블리는 다수의 캐소우드 어셈블리, 제어 그리드 전극 및 차폐 그리드 전극을 포함하며, 상기 전극들은 상기 캐소우드 어셈블리로부터의 다수의 전자 비임을 통과시키기 위한 정렬된 개구를 가지며, 상기 캐소우드 어셈블리 및 상기 전극들은 적어도 일부에 금속화 패턴을 갖춘 제 1, 제 2 주표면을 갖는 공통세라믹 부재에 개별적으로 유지되며, 상기 전극들은 상기 제 1 주표면에 부착되며, 상기 캐소우드 어셈블리는 상기 제 2 주표면에 부착되도록 한 음극선관용 멀티 비임 전자총에 있어서, 상기 세라믹 부재(50)의 제 1 주표면(52)의 금속화 패턴(56a, 56b)과 상기 차폐 그리드 전극(20) 사이에 위치하며, 상기 금속화패턴(56b)에 부착되는 평평한 부분(74) 및 그에 수직하며 서로 평행한 2개의 직립부(76)를 갖고 있는 천이부재(66)를 구비하며 ; 상기 차폐 그리드 전극은 상기 천이부재의 상기 직립부 사이에 위치하는 적어도 하나의 판형부재(20a, 20b, 20c)를 갖고 있으며 ; 상기 차폐 그리드 전극과 상기 천이부재의 상기 직립부를 상호 접속하는 다수의 계단형 지지부재(82)를 구비하는데, 상기 각각의 계단형 지지부재는 차폐 그리드 전극접촉(84), 비이드지지 접촉부(86) 및 상기 접촉부들 사이에서 연장하는 중앙 상승부(88)를 갖고 있으며, 상기 각각의 계단형 지지부재의 차폐 그리드 전극 접촉부는 상기 차폐 그리드 전극에 부착되고, 상기 중앙 상승부는 상기 제어 그리드 전극(18)과 길이방향으로 이격된 관계로 상기 천이부재의 직립부에 부착되며, 상기 비이드지지 접촉부는 상기 절연 지지봉(14)에 고착된 다수의 비이드 지지부재(15)중 다른 하나에 부착되어, 상기 차폐 그리드 전극이 상기 주집속렌즈로부터 길이방향으로 이격되는 것을 특징으로 하는 음극선관용 멀티 비임 전자총.
  2. 모듈러 비임 형성 영역 어셈블리 및 적어도 2개의 절연 지지봉에 고착된 적어도 하나의 주집속렌즈를 구비하는데, 상기 비임 형성 영역 어셈블리는 다수의 캐소우드 어셈블리, 제어 그리드 전극 및 차폐 그리드 전극을 포함하며, 상기 각각의 전극들은 상기 캐소우드 어셈블리로부터의 전자 비임을 통과시키기 위한 다수의 정렬된 개구를 가지며, 상기 캐소우드 어셈블리 및 상기 전극들은 적어도 일부에 금속화 패턴을 갖춘 제 1 주표면 및 이와 대향하는 제 2 주표면을 갖는 공통세라믹 부재에 개별적으로 유지되며, 상기 제어 그리드 전극 및 상기 차폐 그리드 전극은 상기 제 1 주표면에 부착되며, 상기 캐소우드 어셈블리는 상기 제 2 주표면에 부착되도록 한 음극선관용 멀티 비임 전자총에 있어서, 상기 세라믹 부재(50)의 상기 제 1 주표면(52)의 상기 금속화 패턴(56a, 56b)에 부착되고, 평평한 제 1 부분(68) 및 그 제 1 부분과 전기적으로 분리된 제 2 부분(70)을 포함하며, 상기 제 2 부분은 평평부(74) 및 그에 수직하며 서로 평행한 2개의 직립부(76)를 갖고 있는 천이부재(66)를 구비하며 ; 상기 제어 그리드 전극(18)은 상기 천이부재의 상기 제 1 부분에 부착되고 ; 상기 차폐 그리드 전극(20)은 적어도 하나의 판형부재(20a, 20b, 20c)를 갖고 있으며 ; 상기 천이부재의 상기 제 2 부분의 상기 직립부와 상기 차폐 그리드 전극을 상호 접속하는 다수의 계단형 지지부재(82)를 구비하는데, 상기 각각의 계단형 지지부재는 차폐 그리드 전극 접촉부(84), 비이드 지지 접촉부(86) 및 상기 접촉부들 사이에서 연장하는 정밀한 길이를 갖는 중앙 상승부(88)를 갖고 있으며, 상기 각각의 차폐 그리드 전극 접촉부는 상기 차폐 그리드 전극에 부착되고, 상기 차폐 그리드 전극은 상기 천이부재의 상기 직립부 사이에 위치하며, 상기 각 계단형 지지부재의 상기 중앙 상승부는 상기 천이부재의 상기 직립부에 인접하여 거기에 부착되므로써 상기 차폐 그리드 전극이 상기 제어 그리드 전극에 대해 가로방향 및 길이방향으로 위치 설정되어 그와 더불어 정렬되어 고착되며, 상기 각각의 비이드 지지 접촉부는 상기 절연지지봉(14)에 고착된 다수의 비이드 지지부재(15)중 다른 하나에 부착되므로써, 상기 모듈러 비임 형성 영역 어셈블리의 차폐 그리드 전극이 상기 주집속 렌즈와 길이방향으로 이격되어 위치설정 되는 것을 특징으로 하는 음극선관용 멀티 비임 전자총.
  3. 모듈러 비임 형성 영역 어셈블리 및 적어도 2개의 절연지지봉에 고착된 적어도 하나의 주집속 렌즈를 구비하는데, 상기 비임 형성 영역 어셈블리는 3개의 캐소우드 어셈블리, 제어 그리드 전극 및 차폐 그리드 전극을 가지며, 상기 각각의 전극들은 상기 캐소우드 어셈블리로부터의 전자 비임을 통과시키기 위한 3개의 정렬된 개구를 갖고 있으며, 상기 캐소우드 어셈블리 및 상기 전극들은 적어도 일부에 금속화 패턴을 갖춘 제 1 주표면 및 이와 대향하는 제 2 주표면을 갖고 있는 공통 세라믹 부재에 개별적으로 유지되며, 상기 제어 그리드 전극 및 상기 차페 그리드 전극은 상기 제 1 주표면에 부착되며, 상기 캐소우드 어셈블리는 상기 제 2 주표면에 부착되도록 한 음극선관용 인라인 전자총에 있어서, 상기 세라믹 부재(50)의 제 1 주표면(52)의 금속화패턴(56a, 56b)에 부착되고, 평평한 제 1 부분(68) 및 그 제 2 부분과 전기적으로 분리된 제 2 부분(70)을 포함하며, 상기 제 2 부분은 평평부(74) 및 그에 수직이며 서로 평행한 2개의 직립부(76)를 갖도록 한 바이메탈 천이부재(66)를 구비하며 ; 상기 제어 그리드 전극(18)은 상기 천이부재의 상기 제 1 부분에 부착되고, 상기 차폐 그리드 전극(20)은 상기 개구들(62)중 하나를 각각 가지고 있는 3개의 분리된 판형부(20a, 20b, 20c)를 구비하며, 상기 차폐 그리드 전극의 상기 각 판형부와 상기 천이부재의 제 2 부분의 직립부를 상호 접속하는 다수의 계단형 지지부재(82)를 구비하는데, 상기 각 계단형 지지부재는 차폐 그리드 전극 접촉부(84), 비이드 지지 접촉부(86) 및 상기 접촉부들 사이에서 연장하는 정밀한 길이를 갖는 중앙 상승부(88)를 갖고 있으며, 상기 차폐 그리드 전극 접촉부는 상기 차폐 그리드 전극의 상기 판형부에 부착되며, 상기 차폐 그리드 전극의 판형부는 상기 천이부재의 직립부 사이에 위치하고, 상기 각각의 지지부재의 중앙 상승부는 상기 천이부재의 상기 직립부에 인접하여 거기에 부착되므로서 상기 차폐 그리드 전극의 상기 판형부가 상기 제어 그리드 전극에 대해 가로방향 및 길이방향으로 위치 설정되어 그와 더불어 정렬되어 고착되며, 상기 각각의 비이드 지지 접촉부는 상기 절연 지지봉(14)에 고착된 다수의 비이드 지지부재(15)중 다른 하나에 부착되므로써 상기 모듈러 비임 형성 영역 어셈블리의 상기 차폐 그리드 전극이 상기 주집속 렌즈와 길이 방향으로 이격되어 부착되는 것을 특징으로 하는 음극선관용 인라인 전자총.
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