KR930005047B1 - Electron gun for color cathode-ray tube - Google Patents

Abstract

An in-line electron gun has a main focus lens with apertured electrodes to correct the spherical aberration. The dimension of the depression in the plane of the beam passing hole of focusing electrode locating on the cathod side of two electrodes is lower than the dimension of the depression (L') of accelerating electrode. The value of L/L has the range of 0.05-0.6, where L is L'-L. The main focus lens for focusing the each electron beam is formed by the isolated two electrodes among the plurality of electrodes.

Description

칼라 음극선관용 전자총Electron gun for colored cathode ray tube

제1도는 음극선관에서 전자 비임의 결상도.1 is an image of an electron beam in a cathode ray tube.

제2도는 전자총 상에서의 전자비임 통과공 간의 관계도.2 is a relationship diagram between electron beam passing holes on an electron gun.

제3도는 종래의 전계 확장형 렌즈를 구성하는 두 전극의 일부 단면도.3 is a partial cross-sectional view of two electrodes constituting a conventional field extension lens.

제4도는 제3도의 최종 가속 전극의 정면도 및 측단면도.4 is a front and side cross-sectional view of the final accelerating electrode of FIG.

제5도는 제3도의 전계 분포도.5 is an electric field distribution diagram of FIG.

제6, 7도는 제3도의 최종 가속 전극과 집속 전극의 발산 및 집속 작용을 설명하는 도면.6 and 7 illustrate divergence and focusing actions of the final accelerating electrode and the focusing electrode of FIG.

제8도는 종래의 전자총에 의한 화면에서의 결상 상태도.8 is a state diagram of the image formation on the screen by a conventional electron gun.

제9도는 본 발명의 제3도에 대응하는 도면이다.9 is a view corresponding to FIG. 3 of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

21,22 : 공통 대구경 30,40,50 : 전자 비임 통과공21,22: Common large diameter 30,40,50: Electron beam through hole

61,62 : 각 전극의 주변부 63,64,64' : 비임 통과공 형성면61,62: Periphery of each electrode 63,64,64 ': Beam through hole forming surface

본 발명은 칼라 음극선관용 전자총에 관한 것으로, 특히 전계 확장형 집속 렌즈에 의해 형성되는 비점 수차를 보정할 수 있도록 개량된 전계 확장형 집속 렌즈를 갖는 인라인형 전자총에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electron gun for color cathode ray tubes, and more particularly, to an inline electron gun having an improved field expansion focusing lens for correcting astigmatism formed by a field expansion focusing lens.

인라인형 전자총을 갖는 칼라 음극선관에 있어서, 그 화질을 개선하는 한 방도로서 전자총의 주집속 렌지를 대구경화하는 방법이 제시되었다. 그 한 예로 미국 RCA 코포레이션의 미국 특허 제 4,370,592호 “확장된 집속 렌즈를 채용하여 개선된 인라인형 전자총을 가진 CPT ”가 있다. 이 발명은 집속 전극의 최종 가속 전극 대향면의 주변부만 울타리처럼 공통 대구경으로 남기고, 세개의 전자 비임 통과공을 전극의 안쪽으로 후퇴시켜 형성하였다.In a color cathode ray tube having an inline electron gun, as a way to improve the image quality, a method of large-sizing the main focusing range of the electron gun has been proposed. An example is US Patent 4,370,592 to the US RCA Corporation “CPT with an improved inline electron gun employing an extended focusing lens”. This invention was formed by retreating three electron beam through-holes into the electrode, leaving only the periphery of the final acceleration electrode facing surface of the focusing electrode as a common large diameter like a fence.

이렇게 집속 전극을 형성하면 바깥쪽의 공통 대구경의 비 대칭 현상때문에 중앙의 소구경의 통과공을 통과하는 전자 비임과 두개의 바깥쪽의 소구경의 통과공을 통과하는 전자 비임의 수직, 수평 집속 전압 성분이 상이하여 형광면에서의 전자 비임의 랜딩 형상이 균일하지 못하여 바람직한 칼라 음극선과의 화질 개선을 기대하기 어렵다.When the focusing electrode is formed, the vertical and horizontal focusing voltages of the electron beam passing through the through hole of the center small diameter and the electron beam passing through the through hole of two outer small diameters are caused by the asymmetry of the common large diameter on the outside. Since the components are different, the landing shape of the electron beam on the fluorescent surface is not uniform, and thus it is difficult to expect an improvement in image quality with a preferable color cathode ray.

본 발명은 상기한 미국 특허 제 4,370,592호(이하 592 특허로 약칭)의 발명처럼 주집속 렌즈의 비임 통과공 사이의 간격을 확장하기 위하여 집속 전극과 이 집속 전극의 앞쪽, 페이스 쪽에 위치하는 가속 전극의 대향면을 주변부만 울타리처럼 공통 대구경으로 남기고, 전자 비임 통과공의 형성면을 안쪽으로 후퇴시켜 주집속 렌즈의 구면 수차를 개선하고자 하는데 있어서, 집속 전극의 비임 통과공의 형성면의 후퇴 깊이보다, 그 앞쪽의 가속 전극의 통과공 형성면의 후퇴 깊이를 깊게하여 상기 특허와 같이 단순히 공통 대구경을 채용할 때 발생하는 비점 수차를 최소화하고자 하는 것이다.The present invention relates to an acceleration electrode positioned in front of the focusing electrode and the front of the focusing electrode and the face in order to extend the gap between the beam passing holes of the main focusing lens as described in the above-mentioned US Patent No. 4,370,592 (abbreviated as 592 patent). In order to improve spherical aberration of the main focusing lens by reversing the forming surface of the electron beam passing hole inward, leaving the opposite surface as a common large diameter like a fence only, rather than the retreating depth of the forming surface of the beam passing hole of the focusing electrode. It is intended to minimize the astigmatism that occurs when simply adopting a common large diameter as in the above patent by deepening the retreat depth of the pass hole forming surface of the acceleration electrode in front of it.

곧 집속 전극과 그 앞의 가속 전극 사이에 공통 대구경을 형성함에 있어서, 집속 전극측과 상기 가속 전극측의 비임 통과공 형성면의 후퇴 깊이를 조절하여 공통 대구경의 비점 수차를 상쇄하도록 함으로써, 전계확장형 집속 렌즈의 장점인 구면 수차 개선 효과를 유지하면서 단점인 비점 수차의 발생을 억제할 수 있다.In the formation of the common large diameter between the focusing electrode and the acceleration electrode in front thereof, the field extension type is compensated by adjusting the retreat depth of the beam passing hole forming surface on the focusing electrode side and the acceleration electrode side to offset the astigmatism of the common large diameter. It is possible to suppress the occurrence of astigmatism, which is a disadvantage, while maintaining the spherical aberration improvement effect, which is an advantage of the focusing lens.

이하, 도면을 참조하여 본 발명을 기술한다.Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.

칼라 음극선관은 페이스부, 펜넬부, 네크부로 구성되고, 네크부에는 내부에 다수의 전극으로 구성되는 전자총이 위치하고, 네크부와 펜넬부의 접경부의 외부에는 편향 요크가 고정되어, 전자총에서 방사된 전자 비임이 편향 요크에 의해 편향 중심이 보정되어 페이스부 안쪽의 형광면에 부딪쳐 상을 이루게 된다.The color cathode ray tube consists of a face portion, a pennel portion, and a neck portion, and an electron gun composed of a plurality of electrodes is located inside the neck portion, and a deflection yoke is fixed to the outside of the neck portion and the border portion of the pennel portion, and the electrons radiated from the electron gun The beam is corrected by the deflection yoke and hits the fluorescent surface inside the face to form an image.

전자총은 적, 녹, 청에 대응하는 세 개의 전자 비임을 방출하는 3개의 음극과 전자의 방출량을 제어하고, 전자 비임을 집속하며, 또 가속시키는 등의 역할을 다수의 전극군으로 구성되다.The electron gun is composed of three cathode groups that emit three electron beams corresponding to red, green, and blue, and a plurality of electrode groups that control the amount of electron emission, focus the electron beam, and accelerate it.

제1도는 음극선관에서의 전자 비임의 결상도로서, 음극(K)으로부터 방출된 전자 비임(1)은 각각의 전극(G1-G4)의 전계에 의해 형성되는 렌즈들에 의해 광로가 조절되어 형광면(2)에 초점(B)을 맺게 된다. 도면에서 전자 비임(1)은 제1전극(G1)에 의해 형성된 음극 렌즈(11) 및 제2전극(G2)과 제3전극(G3) 사이의 예비 집속 렌즈(12)에 의해 예비 집속되어, 제3전극(G3)과 제4전극(G4) 사이의 주집속 렌즈(13)에 도달하고, 여기서 재집속되어 형광면(2)에 도달하여 초점(B)을 이룬다.1 is an image of an electron beam in a cathode ray tube, in which the electron beam 1 emitted from the cathode K is controlled by a lens formed by an electric field of each electrode G1-G4 to form a fluorescent surface. The focus (B) is set at (2). In the drawing, the electron beam 1 is preliminarily focused by the negative lens 11 formed by the first electrode G1 and the preliminary focusing lens 12 between the second electrode G2 and the third electrode G3. The main focusing lens 13 is reached between the third electrode G3 and the fourth electrode G4, where it is refocused to reach the fluorescent surface 2 to form the focal point B.

이 초점(B)이 음극선관의 화면의 화소를 이루는 것으로 선명한 화상을 얻기 위하여는 가능한 한 작고 고밀도이어야 한다.The focal point B forms pixels on the screen of the cathode ray tube so that a clear image can be obtained as small and dense as possible.

그런데 잘 알려진 바와같이 칼라 음극선관의 화질을 저하시키는 요인으로 상기 주집속 렌즈의 구면 수차가 있다. 이 구면 수차를 최소화하는 가장 확실한 수단은 주집속 렌즈(13) 전극의 비임 통과공의 내경(D)을 크게 하는 것이다. 그러나 제2도에서처럼 칼라 음극선관의 전자총은 적, 녹, 청에 대응하는 세개의 단위 전자 비임 통과공(30)(40)(50)이 동일면(10) 상에 이심 거리(S)를 유지하면서 일직선(日)상에, 상기 면(10)의 지름(ø)의 범위 안에 존재하여야 한다.However, as is well known, spherical aberration of the main focusing lens is a factor of degrading the image quality of the color cathode ray tube. The most obvious means of minimizing this spherical aberration is to enlarge the inner diameter D of the beam passing hole of the electrode of the main focusing lens 13. However, as shown in FIG. 2, the electron gun of the color cathode ray tube has three unit electron beam through holes 30, 40, and 50 corresponding to red, green, and blue maintaining the eccentric distance S on the same surface 10. On a straight line, it must be in the range of the diameter? Of the face 10.

곧, S≥D, ø≥(2×S)＋D로 이심 거리(S)보다 비임 통과공(30, 40, 50)의 내경(D)을 크게 하는 것은 불가능하며, 비임 통과공의 내경(D)을 크게 하기 위하여 이심 거리(S)를 크게 하면 화질 향상의 또다른 요구조건인 컨버젼스 품위가 저하되어 큰 개선 효과를 기대할 수 없다. 또 이 모두는 네크부의 내경에 의해 제한된다.In other words, it is impossible to increase the inner diameter D of the beam passing holes 30, 40, and 50 from the eccentric distance S at S≥D, ø≥ (2 x S) + D. If the eccentric distance (S) is increased in order to increase), the convergence quality, which is another requirement for improving image quality, is degraded, and a large improvement effect cannot be expected. All of these are limited by the inner diameter of the neck portion.

한편 집속 렌즈 전극의 비임 통과공의 지름을 확대하는 것 외에 또다른 구면 수차 조절의 수단은 서로 다른 전압이 인가되어 주집속 렌지를 형성하는 집속 전극의 비임 통과공 형성면 사이의 거리를 크게 하여 보다 완만한 전압 구배를 주는 것이다. 그러나 비임 통과공 형성면 사이가 클 경우 그 사이의 공간으로 네크부의 전하가 침투하여 균일하지 못한 집속 렌즈가 형성되거나, 전자 비임의 광로가 시간에 따라 변한다는 문제점이 있다.On the other hand, in addition to increasing the diameter of the beam passing hole of the focusing lens electrode, another means for adjusting the spherical aberration is to increase the distance between the beam passing hole forming surfaces of the focusing electrode forming a main focusing range by applying different voltages. It gives a gentle voltage gradient. However, there is a problem in that when the distance between the beam through hole formation surfaces is large, charge of the neck portion penetrates into the space therebetween to form a non-uniform focusing lens, or the light path of the electron beam changes with time.

따라서 제3도의 상기 592 특허처럼 집속 전극(G3)과 그 전방의 가속 전극(G4)의 마주보는 쪽의 바깥 주변부(61)(62)를 울타리처럼 형성하여 공통 대구경을 구성하고, 비임 통과공 형성면(63)(64)을 각각의 전극의 안쪽으로 일정 거리(L) 후퇴시켜 각각의 전자 비임 통과공(31, 41, 51, 32, 42, 52)을 형성하여 외부로부터의 바람직하지 않은 균일하지 못한 전계의 침투를 차단하면서, 동시에 통과공 형성면 사이의 거리(d)가 실질적으로 커지도록 하고 있다.Therefore, as shown in the 592 patent of FIG. 3, the outer peripheral portions 61 and 62 on the opposite side of the focusing electrode G3 and the accelerating electrode G4 in front thereof are formed like a fence to form a common large diameter, and a beam through hole is formed. The surfaces 63 and 64 are retracted inwardly by a distance L to form respective electron beam through holes 31, 41, 51, 32, 42, and 52, which are undesirable from outside. At the same time, the distance d between the through hole forming surfaces is substantially increased while preventing the penetration of the electric field.

제4a도는 제3도의 A-A에서 본 최종 가속 전극(G4)의 정면도로서 전자 비임 통과공(32, 42, 52)의 배열 방향으로 길고, 이들에 수직 방향으로 짧은 거의 장방형의 공통 대구경(22)이 형성되어 있다. b도는 a도의 B-B'선 단면도로서 전극의 바깥쪽 주변부(62)에서 L만큼 후퇴하여 비임 통과공(42)이 위치되어 있다.FIG. 4A is a front view of the final acceleration electrode G4 seen from AA in FIG. 3 and has a long rectangular common large diameter 22 which is long in the arrangement direction of the electron beam passing holes 32, 42 and 52 and short in the direction perpendicular thereto. Formed. FIG. b is a sectional view taken along the line BB 'of FIG. a, and the beam passage hole 42 is located at the outer peripheral portion 62 of the electrode by L. FIG.

제5도는 제3도의 구조에서 형성된 확장 집속 렌즈가 음극선관 내에서 동작할 때의 등전위 분포를 컴퓨터로 시뮬레이션한 것으로 최종 가속 전극(64)에는 통상 15-40KV의 고전압이 인가되고, 집속 전극에는 최종 가속 전극(G4)의 20-40%의 전압이 인가된다. 도면에서처럼 최종 가속 전극(G4)에 25KV, 집속 전극(G3) 7KV가 인가되어 동작할 때, 집속 전극의 비임 통과공(31, 41, 51)에 가까울수록 집속 전극 전압 7KV에 가깝고, 최종 가속 전극의 비임 통과공(32, 42, 52) 근방에서는 최종 가속 전극 전압에 가깝게 된다. 곧, 집속 전극쪽에서는 주변부(61)에 가까울수록 저전압 분포를 갖고, 최종 가속 전극 쪽에서는 주변부(62)에 가까울수록 고전압 분포를 갖는다.FIG. 5 is a computer simulation of an equipotential distribution when the expansion focusing lens formed in the structure of FIG. 3 operates in a cathode ray tube. A high voltage of 15-40 KV is normally applied to the final accelerating electrode 64, and a final voltage is applied to the focusing electrode. A voltage of 20-40% of the acceleration electrode G4 is applied. As shown in the drawing, when 25 KV and 7 KV of the focusing electrode G3 are applied to the final acceleration electrode G4, the closer to the beam passing holes 31, 41, and 51 of the focusing electrode, the closer to the focusing electrode voltage 7KV, and the final acceleration electrode. In the vicinity of the beam through holes 32, 42, and 52, the final accelerating electrode voltage is close. That is, the closer to the peripheral portion 61 on the focusing electrode side, the lower voltage distribution, and the closer to the peripheral portion 62 on the final acceleration electrode side, the higher voltage distribution.

제6도는 제3도의 집속 전극(G3)이 음극선관에서 동작할 때 세개의 전자 비임이 집속 작용을 받는 정도를 나타낸 그림으로, 위에서 기술한 바와같이 주변부 쪽에서는 상대적으로 저전압(－로 표시)이며, 주변부에서 멀어질수록 고전압으로 분포된다.FIG. 6 is a diagram showing the degree to which three electron beams are focused when the focusing electrode G3 of FIG. 3 operates in a cathode ray tube. As described above, FIG. The higher the distance from the periphery, the higher the voltage.

음극선관이 동작하게 되면 상술한 바와같은 전압 분포로 인해 비임 통과공들의 수평 방향으로 고려하면, 바깥쪽 통과공(31, 51)들을 통과하는 전자 비임은 저전압이 분포된 주변부에 가깝고, 중앙 전자 비임은 상대적으로 멀기 때문에 공통 대구경 영역(21)에서 바깥쪽 비임은 도면에서 화살표로 나타낸 것과같이 상대적으로 강하게 집속되고, 중앙의 비임은 상대적으로 약하게 집속되어 중앙 전자 비임의 수평 집속 전압(Vfhc)보다 바깥쪽 전자 비임의 수평 집속 전압(Vfhs)이 높다(Fhs＞＞Fhc, ∴ Vfhs＞＞Vfhc)When the cathode ray tube operates, considering the horizontal direction of the beam through holes due to the voltage distribution as described above, the electron beams passing through the outer through holes 31 and 51 are close to the periphery where the low voltage is distributed, and the center electron beam. Is relatively far away, so the outer beam in the common large-diameter region 21 is relatively strongly focused, as indicated by the arrows in the figure, and the center beam is relatively weakly focused, which is outside the horizontal focusing voltage Vfhc of the central electron beam. The horizontal focusing voltage (Vfhs) of the electron beam is high (Fhs >＞ Fhc, ∴ Vfhs >＞ Vfhc)

마찬가지로 수직 방향에 있어서도 바깥쪽 전자 비임의 수직 집속 전압(Vfvs)은 바깥쪽 전자 비임은 전극(G3)의 주변부 부근에 위치하므로 수평 집속 전압(Vfhs)와 거의 같은 집속 작용(FvsFhs)을 하게 되므로 VfvsVfhs로 되는 반면, 중앙 전자 비임은 수직 방향으로는 전극의 주변부에서 상대적으로 멀기 때문에 수평 접속 전압보다 수직 지속 전압이 매우 높게 된다.(Vfvc＞＞Vfhc)Similarly, even in the vertical direction, the vertical focusing voltage Vfvs of the outer electron beam is located near the periphery of the electrode G3, so that the focusing action Fvs almost equal to the horizontal focusing voltage Vfhs. Fhs), so Vfvs On the other hand, since the center electron beam is relatively far from the periphery of the electrode in the vertical direction, the vertical sustain voltage is much higher than the horizontal connection voltage (Vfvc >> Vfhc).

제7도는 제3도의 최종 가속 전극(G4)이 음극선관 안에서 동작할 때, 세개의 전자 비임이 발산 작용을 받는 정도를 나타낸 도면으로서, 제6도에서 설명한 것과 동일한 이치로 전극(G4)에 고전압(25KV 정도)이 인가되므로 전극의 주변부 쪽에는 비임 통과공 쪽보다 고전압(＋로 표시)을 띠며, 주변부에서 멀어질수록 저전압이 분포된다.FIG. 7 is a diagram showing the degree to which three electron beams diverge when the final accelerating electrode G4 of FIG. 3 operates in the cathode ray tube. FIG. 7 shows the same high voltage as that described in FIG. 25 KV) is applied, so that the peripheral portion of the electrode has a higher voltage (marked with +) than the beam passing hole side, and the lower the voltage is distributed the further away from the peripheral portion.

따라서, 제6도의 집속 전극에서와는 반대의 현상이 일어난다.Thus, the opposite phenomenon occurs in the focusing electrode of FIG.

그러나 집속 전극보다 최종 가속 전극의 전압이 높으므로 각각의 전자 비임은 그 통과 속도가 최종 전극측에서 더 빠르며, 이 때문에 집속 전극의 집속 작용의 영향을 최종 가속 전극의 발산 작용의 영향보다 더 받게 된다.However, since the voltage of the final accelerating electrode is higher than that of the focusing electrode, each electron beam has a faster passing speed on the final electrode side, and thus the effect of the focusing action of the focusing electrode is more than that of the last accelerating electrode. .

따라서 집속 전극에서의 집속 작용을 식으로 나타내면,Therefore, when the focusing action at the focusing electrode is expressed by the formula,

Fvc＞＞FhsFvs＞＞Fhc의 관계로 되고,Fvc ＞＞ Fhs Fvs >＞ Fhc,

최종 가속 전극에서의 발산 작용은 －Fvc'＜＜－Fhs'Fvs'＜＜－Fhc'로 된다. 이때의 －부호는 서로 작용방향이 반대이기 때문이다.The divergence action at the final accelerating electrode is -Fvc '<<-Fhs' Fvs '<<-Fhc'. This is because the − signs at this time are opposite in direction of action.

그러나 서로 대응되는 부위에서의 절대값은 각 전극을 통과하는 전자 비임의 속도차에 의해 집속 작용 쪽이 발산 작용 쪽보다 크므로(｜Fvc｜＞｜－Fvc'｜)화면에서의 전자 비임의 결상 형태는 제8도와 같이 바깥쪽에서는 약간의 횡장형, 중앙에서는 강한 횡장형이 된다.However, the absolute value in the corresponding areas is larger than the divergence side due to the speed difference of the electron beam passing through each electrode (| Fvc |> | -Fvc '|). The shape becomes a little horizontal shape in the outer side and strong horizontal shape in the center like FIG.

곧 Hc＞Hs≥Vs＞Vc가 된다.In short, Hc> Hs≥Vs> Vc.

따라서 발산 작용의 영향을 보다 강하게 주어 화면에서의 결상이 가능한 한 정원에 가깝게 할 수 있는 것으로, 제9도는 본 발명의 전계 확장형 집속 렌즈 형성 부위의 단면도로서, 기본적인 구조는 상기 592호 특허와 동일하나, 최종 가속 전극의 비임 통과공 형성면(64')의 후퇴도가 종래의 그것에 비해 더 깊다.Therefore, the effect of the diverging effect can be stronger to make the imaging on the screen as close to the garden as possible. FIG. 9 is a cross-sectional view of the field expansion-type focusing lens forming part of the present invention. The basic structure is the same as that of the 592 patent. The retraction of the beam passing hole forming surface 64 'of the final accelerating electrode is deeper than that of the conventional one.

곧 최종 가속 전극(G4')의 비임 통과공 형성면(64')의 후퇴 깊이(L')는 집속 전극(G3)의 후퇴 깊이(L)보다 더 깊다. 이렇게 L'＞L인 경우 최종 가속 전극의 발산 작용을 하는 구간이 커지므로, 위에서 이야기한 집속 전극에서의 강한 집속 작용을 상쇄할 수 있게 된다.In other words, the retraction depth L 'of the beam passing hole forming surface 64' of the final acceleration electrode G4 'is deeper than the retraction depth L of the focusing electrode G3. In the case of L '> L, the interval in which the final accelerating electrode diverges is increased, so that the strong focusing action at the focusing electrode described above can be canceled out.

이 때 △L(=L'-L)은 독립 변수가 아니라 L 및 L'에 의존하는 것으로, 실험적으로는 △L/L의 값이 0.05-0.6 정도일 때가 전자 비임의 결상 상태가 가장 양호하였다. 이때 화면의 개선 효과는 상기 592호 발명의 경우에 비해 30% 정도를 얻을 수 있었다.At this time, ΔL (= L'-L) depends on L and L ', not independent variables, and experimentally, the imaging state of the electron beam was best when the value of ΔL / L was about 0.05-0.6. At this time, the improvement of the screen was about 30% compared to the case of the 592 invention.

한편 이상과 같이 최종 가속 전극의 후퇴 깊이를 집속 전극의 그것보다 깊게 할 경우, 집속 전압은 소망하는대로 조절하는 것이 가능하여지나 역작용으로 최종 가속 전극의 발산 작용이 강해져 화면상에 바깥쪽 전자 비임을 한 곳에 모으는 컨버젼스 작용에 떨어지게 된다.On the other hand, if the retreat depth of the final accelerating electrode is deeper than that of the focusing electrode as described above, the focusing voltage can be adjusted as desired, but the divergence of the final accelerating electrode becomes stronger as a result of the external electron beam on the screen. The convergence action is gathered in one place.

이러한 본 발명의 역작용을 보정하기 위해서는 프리 포커스에 컨버젼스 작용을 주는 방식을 고려할 수 있으나, 보다 간단하게는 집속 전극의 중앙 전자 비임 통과공(41)과 바깥쪽 비임 통과공(31, 51)의 이심 거리(S₃)와 최종 가속 전극의 중앙 통과공(42')과 바깥쪽 통과공(32', 52')의 이심 거리(S₄)의 크기를 조절하여 수행할 수 있다.In order to correct the adverse effects of the present invention, a method of giving a convergence action to the prefocus may be considered, but more simply, the eccentricity between the center electron beam through hole 41 and the outer beam through holes 31 and 51 of the focusing electrode. The distance S ₃ and the eccentric distance S ₄ between the center through hole 42 ′ and the outer through hole 32 ′ and 52 ′ of the final acceleration electrode may be adjusted.

곧 집속 전극의 통과공 간의 이심 거리(S₃)가 최종 가속 전극의 통과공 간의 이심 거리(S₄)보다 작게, 제9도에서 S₃＜S₄가 되도록 편심을 주어 컨버젼스 작용을 하게 하여 해결할 수 있다.In other words, the eccentric distance (S ₃ ) between the passing holes of the focusing electrode is smaller than the eccentric distance (S ₄ ) between the passing holes of the final accelerating electrode, so that S ₃ <S ₄ in FIG. Can be.

Claims (3)

다수의 전자 비임을 발생, 구동, 집속하기 위해 음극 및 다수의 전극으로 구성되고, 각 전자 비임을 집속하기 위한 주집속 렌즈를 상기 다수의 전극 중의 두개의 이격된 전극에 의해 형성하며, 상기 두 전극은 상기 다수의 전자 비임의 수와 동일한 수의 비임 통과공이 서로 대향하는 면으로부터 일정 거리 후퇴하여 형성된 전계 확장형 주집속 렌지를 갖는 인라인형 전자총에 있어서, 상기 두 전극 가운데 음극쪽에 위치하는 집속 전극의 비임 통과공 형성면의 후퇴 깊이(L)보다 페이스 쪽에 위치하는 최종 가속 전극의 비임 통과공의 후퇴 깊이(L')가 깊은 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관용 전자총.Comprising a cathode and a plurality of electrodes for generating, driving, and focusing a plurality of electron beams, a main focusing lens for focusing each electron beam is formed by two spaced apart electrodes of the plurality of electrodes, the two electrodes Is an in-line electron gun having an electric field expansion main focusing stove formed by retracting a predetermined number of beam passing holes equal to the number of electron beams facing each other, wherein the beams of the focusing electrodes positioned on the cathode side of the two electrodes An electron gun for a color cathode ray tube, characterized in that the retraction depth L 'of the beam passing hole of the final accelerating electrode located on the face side is deeper than the retreat depth L of the through hole forming surface. 제1항에 있어서, △L/L의 값이 0.05~0.6인 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관용 전자총.(단, △L=L'－L)The electron gun for a color cathode ray tube according to claim 1, wherein the value of? L / L is 0.05 to 0.6. (DELTA L = L'-L) 제1항 및 제2항에 있어서, 상기 집속 전극의 중앙 비임 통과공과 바깥쪽 비임 통과공 간의 이심 거리가 상기 최종 가속 전극의 중앙 비임 통과공과 바깥쪽 비임 통과공간의 이심 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관용 전자총.The eccentric distance between the center beam passage hole and the outer beam passage hole of the focusing electrode is smaller than the eccentric distance of the center beam passage hole and the outer beam passage space of the final acceleration electrode. Electron gun for colored cathode ray tubes.