KR920016495A - 좁은 분자량 분포를 갖는 개선된 에폭시 수지의 제조방법 - Google Patents

좁은 분자량 분포를 갖는 개선된 에폭시 수지의 제조방법 Download PDF

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KR920016495A
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이렌느 마리 베르나디뜨 데코코 프랑소와즈
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앤소니 스타초위크 스티이븐
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알베르투스 빌헬무스 요아네스 쩨스트 라텐
셀 인터나쵸나아레 레사아치 마아츠 샤피 비이부이
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Abstract

내용 없음

Description

좁은 분자량 분포를 갖는 개선된 에폭시 수지의 제조방법.
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (7)

  1. 할로겐화 제일주석 및 카르복실산 제일 주석으로부터 선택되는 에테르화 촉매 존재하에 하기 일반식의 디히드록시 화합물의 5내지 170%몰 이상과 분자당 1.5 내지 2.2에폭시기 및 적어도 250mmo1/㎏의 에폭시기 함량을 갖는 방향족 에폭시 수지를, 135내지 215℃에서 반응시킴으로써 200mmo1/㎏ 이하의 에폭시기 함량 및, 1.9내지 4.5의 분자량 분포를 갖는 개선된 에폭시 수지를 제조하는 방법;
    상기 식에서 R은 수소 또는 C1-C4알킬이고 n은 1내지 4의 수이다.
  2. 제1항에 있어서, 제조된 개선된 에폭시 수지의 에폭시기 함량은 20내지 100mmo1/㎏ 의 범위인 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 에폭시 수지는 방향족 디히드록시 화합물의 디글리시딜 에테르인 방법.
  4. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에서 분자량 분포는 3.2 이하인 방법.
  5. 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에서, 몰 초과량이 50내지120%인 방법.
  6. 제1항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서, 반응 온도는 150내지 190℃인 방법.
  7. 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서 디히드록시 화합물에서 n이 1이고 R이 수소인 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920001527A 1991-02-05 1992-01-31 좁은 분자량 분포를 갖는 개선된 에폭시 수지의 제조방법 KR100208406B1 (ko)

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