KR920005986A - 혈소판 응집 억제용 약제학적 조성물 - Google Patents

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야스히코 사사키
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다나베세이야쿠 가부시키가이샤
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Abstract

내용 없음

Description

혈소판 응집 억제용 약제학적 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (9)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)의 1,5-벤조티아제핀 유도체 또는 이의 약제학적으로 허용가능한 염 및 아세틸살리실산 또는 이의 약제학적으로 허용가능한 염을 포함함을 특징으로 하는, 혈소판 응집 억제용 약제학적 조성물 :
    상기식에서, R1은 저급 알킬 그룹 또는 저급 알콕시 그룹이고 ; R2는 수소원자 또는 저급 알카노일 그룹이고; R3는 저급 알킬 그룹이고; R4는 수소원자 또는 저급 알킬 그룹이고; R5는 저급 알킬 그룹 또는 할로겐 원자이다.
  2. 제1항에 있어서, R1이 메틸 그룹이고, R2는 수소원자 또는 아세틸 그룹이고, R3는 메틸그룹이고, R4는 수소원자 또는 메틸 그룹이고, R5는 메틸 그룹인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, R1이 메틸 그룹이고, R2는 아세틸 그룹이고, R3는 메틸 그룹이고, R4는 메틸 그룹이고, R5는 메틸그룹인 조성물.
  4. 제1항에 있어서, R1이 메톡시 그룹이고 R2는 수소원자 또는 아세틸 그룹이고, R3및 R4는 각각 메틸 그룹이고, R5는 염소원자인 조성물.
  5. 제2항 또는 제3항에 있어서, 1,5-벤조티아제핀 유도체가 (-)-시스-이성체인 조성물.
  6. 제4항에 있어서, 1,5-벤조티아제핀 유도체가 (+)-시스-이성체인 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 1,5-벤조티아제핀 유도체 또는 이의 약제학적으로 허용가능한 염에 대한 아세틸 살리실산 또는 이의 약제학적으로 허용가능한 염의 중량비가 0.3 내지 40 : 1인 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 1,5-벤조티아제핀 유도체 또는 이의 약제학적으로 허용가능한 염에 대한 아세틸 살리실산 또는 이의 약제학적으로 허용가능한 염의 중량비가 1 내지 10 : 1인 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 아세틸살리실산 또는 이의 약제학적으로 허용가능한 염을 1일 20 내지 200mg의 투여수준으로 투여하고, 일반식(Ⅰ)의 1,5-벤조티아제핀 유도체 또는 이의 약제학적으로 허용가능한 염을 1일 5 내지 60mg의 투여 수준으로 투여하는 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
KR1019910016103A 1990-09-17 1991-09-16 혈소판 응집 억제용 약제학적 조성물 KR0145689B1 (ko)

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