KR920002875A - 폴리아미드 섬유재료의 광화학적 및 열적 안정화 방법 - Google Patents

폴리아미드 섬유재료의 광화학적 및 열적 안정화 방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

폴리아미드 섬유재료의 광화학적 및 열적 안정화 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (22)

  1. 염색되거나 비염색된 폴리아미드 섬유재료를 다음 일반식(1)의 수용성 트리아진 유도체로 처리함을 포함하는, 폴리아미드 섬유재료의 광화학적 및 열적 안정화 방법.
    상기 식에서, R₁은 일반식
    〔여기에서, R₃은 수소 또는 옥사이도, 하이드록실, 저급 알킬, 저급 알케닐, 저급 알콕시, 아실 또는 벤질이고, Z는 -O-또는-(NR₄)-이며, R₄는 수소 또는 저급 알킬이다 〕의 라디칼이고, R₂는 수소, 할로겐, 저급 알킬, 저급 알콕시, 아실아미노, 카복실, 비치환되거나 할로겐-또는 (저급알킬)-치환된 페닐설포, 페녹시, 페닐티오 또는 스티릴 라디칼 또는-SO₃M이며, Q는-O-또는 (NR4)-이고, R은 할로겐, 저급 알킬, 저급 알콕시, 페닐 (저급 알콕시), 사이클로알콕시, (저급 알킬)티오, 사이클로알킬티오, 모노(저급 알킬)아미노, 디(저급 알킬)아미노, 페닐(저급 알킬)아미노, 사이클로알킬아미노, 페녹시, 페닐아미노, 페닐티오, 페닐, 1-아자사이클로알킬, 모폴리노, R₁또는 일반식
    〔여기에서, M은 수소, 알칼리금속, 알칼리토금속, 암모늄 또는 유기 암모늄 라디칼이고, Q는 일반식(1)에 대한 정의한 바와 같다〕의 라디칼이며, 일반식 (Ⅰ)의 화합물은 2개이하의 -SO₃M치환제를 갖는다.
  2. 제1항에 있어서, R이 할로겐이고, R₁이 다음 일반식(4)의 라디칼인 방법.
    상기 식에서, R5는 수소 또는 저급 알킬이고, Z는 일반식(2)에 대해 정의한 바와 같다.
  3. 제1항에 있어서, R 및 R₁이 각각 일반식(4)의 라디칼인 방법.
  4. 제1항이 있어서, R이 일반식(3)의 라디칼이고, R₁이 일반식(4)의 라디칼인 방법.
  5. 제1항에 있어서, R이 저급 알콕시, 사이클로알콕시, 페녹시(저급 알킬)티오, 사이클로알킬티오 또는 페닐티오이고, R₁이 일반식(4)의 라디칼인 방법.
  6. 제1항에 있어서, R이 일반식(여기서, R6및 R7은 각각 독립적으로 C₁-C₄알킬, 사이클로알킬 또는 비치환되거나(저급알킬)-치환된 페닐이다)의 라디칼이거나, 또는 R이 1-아자사이클로알킬 또는 모폴리노이고, R₁이 일반식(4)의 라디칼이며, R₂가 제1항에서 정의한 바와 같은 방법.
  7. 다음 일반식(5)의 수용성 트리아진 유도체.
    상기 식에서, R´₁은 일반식
    〔여기에서, R´₃은 수소 또는 하이드록실, 저급 알킬, 저급 알케닐, 저급 알콕시, 아실 또는 벤질이고, Z´는-O-또는 -(NR´₄)-이며, R´₄는 수소 또는 저급 알킬이다〕의 라디칼이고, R´₂는 수소, 할로겐, 저급 알킬, 저급 알콕시, 아실아미노, 카복실, 비치환되거나 할로겐-또는 (저급알킬)-치환된 페닐설포, 페녹시, 페닐티오 또는 스티릴 라디칼 또는-SO₃M이며,Q´는-O-또는 (NR´₄)-이고, R´은 할로겐, 저급 알킬, 저급 알콕시, 페닐(저급 알콕시),사이클로알콕시, (저급 알킬)티오, 페닐(저급 알킬)티오, 사이클로알킬티오, 모노(저급 알킬)아미노, 디(저급 알킬)아미노, 사이클로알킬아미노, 페녹시, 페닐아미노, 페닐티오,페닐, 1-아자사이클로 알킬, 모폴리노, R´₁또는 일반식
    〔여기에서, R´₂는 Q´는 각각 일반식 (5)에 대해서 정의한 바와 같다〕의 라디칼이며, M´는 수소, 알칼리금속, 알칼리토금속,암모늄 또는 유기 암모늄 라디칼이며, R´가 염소이고, R´₂가 수소인 경우일지라도 R´₁은 구조식
    라디칼이 아니고, R´가 일반식(7)의 라디칼이고, Q´가-O-인 경우일지라도 R´₂는 수소가 아니며, 일반식 (5)의 화합물은 2개 이하의 SO₃M´치환체를 갖는다.
  8. 제7항에 있어서, R´가 할로겐이고 R´₁이 일반식(9)의 라디칼이며, R´가 염소이고, R´₂가 수소일지라도 R´₁은 일반식(8)의 라디칼이 아닌 수용성 트리아진 유도체.
    상기식에서, R'5는 수소 또는 저급 알킬이고, Z´는 일반식(6)에 대해서 정의한 바와 같다.
  9. 제7항에 있어서, R´가 일반식(7)의 라디칼이고, R´₁이 일반식(9)의 라디칼인 수용성 트리아진 유도체.
  10. 제7항에 있어서, R´및 R´₁이 각각 일반식(6)의 라디칼인 수용성 트리아진 유도체.
  11. 제7항에 있어서, R´가 저급 알콕시, 사이클로알콕시, 페녹시, 페닐알콕시, (저급 알킬)티오, 페닐티오 또는 페닐알킬티오인 수용성 트리아진 유도체.
  12. 제7항에 있어서, R´가 일반식(여기서, R'6및 R'7은 각각 독립적으로 C₁-C₄알킬, 사이클로알킬 또는 비치환되거나(저급알킬)-치환된 페닐이다)의 라디칼이거나, 또는 R´가 1-아자사이클로알킬 또는 모폴리노인 수용성 트리아진 유도체.
  13. 2,4,6 - 트리할로 - s - 트리아진 화합물1몰을 일반식(10)의 화합물 1몰, 다음 일반식(11)의 피페리딘 화합물 1몰 또는 2몰과 연속적으로 반응시키고, 일반식(11)의 피페리딘 화합물 1몰을 사용할 경우에는 저급 알카놀레이트, 사이클로알카놀레이트, 페놀레이트, (저급 알킬)티올레이트, 사이클로알킬티올레이트 또는 페닐티올레이트 화합물, 모노(저급 알킬)아민, 디(저급 알킬)아민, 사이클로알킬아민, 페닐아민, 1-아자사이클로알킬 또는 모폴리노 화합물 또는 일반식(10)의 화합물1몰과 반응시킴을 포함하는 (각각의 반응단계들의 순서는 자유롭게 선택할 수 있다)제7항에 따르는 트리아진 유도체의 제조방법.
    상기 식에서, M´는 수소 또는 알칼리 금속이고, Q´및 R´₂는 각각 일반식(5)에 대해 정의한 바와 같으며, R´₃및 Z´는 각각 일반식(6)에 대해 정의한 바와 같다.
  14. 2,4,6 -트리할로- s-트리아진 화합물 1몰을 일반식(10)의 화합물 1몰 및 일반식(11)의 피페리딘 화합물 1몰과 반응시킴을 포함하는, 제8항에 따르는 일반식(2)의 트리아진 유도체의 제조방법.
    상기 식에서, R´₂,R´₃,M´,Q´및 Z´는 각각 일반식(5) 및 (6)에 대해서 정의한 바와 같다.
  15. 일반식(12)의 화합물을 일반식(11)의 피페리딘 화합물 1몰과 반응시킴을 포함하는 다음 일반식(13)의 트리아진 유도체의 제조방법.
    상기 식에서, R´₂,R´₃,M´,Q´및 Z´는 각각 일반식(5) 및 (6)에 대해서 정의한 바와 같다.
  16. 제15항에 있어서, 2,4,6-트리할린-s-트리아진 화합물 1몰을 일반식(10)의 화합물 1몰 및 일반식(11)의 피페리딘 화합물 2몰과 연속적으로 반응시키는 방법.
  17. 2,4,6-트리알로-s-트리아진 화합물 1몰을 Q´가-(NR´₄)-이고R´₂가 할로겐, 저급 알킬, 저급 알콕시, 아실 아미노, 카복실 또는 -SO₃H인 일반식(10)의 화합물2몰과 반응시킨 다음, 일반식(11)의 피페리딘 화합물 1몰과 반응시킴을 포함하는 다음 일반식(14)의 트리아진 유도체의 제조방법.
    상기 식에서, Q´는 -(NR´₄)- 이고, R´₂는 할로겐, 저급 알킬, 저급 알콕시, 아실아미노, 카복실 또는 -SO₃H이며, R´₃,M 및 Z´는 각각 일반식(6)에 대해서 정의한 바와 같다.
  18. 2,4,6-트리할로-s-트리아진 화합물 1몰을 상응하는 저급 알카놀레이트, 사이클로알카놀레이트, 페닐알카티올레이트, 페놀레이트, (저급 알킬)티올레이트, 사이클로알킬티올레이트 또는 페닐티올레이트 또는 페닐알킬티올레이트 화합물 1몰, 일반식(10)의 화합물 1몰 및 일반식(11)의 피페리딘 화합물 1몰과 연속적으로 반응시킴을 포함하는 다음 일반식(15)의 트리아진 유도체의 제조방법.
    상기 식에서, R'9는 저급 알콕시, 사이클로알콕시, 페닐알콕시, 페녹시(저급 알킬)티오, 사이클로알킬티오, 페닐티오 또는 페닐알킬티오이고, R´₂,R´₃,M´,Q´및 Z´는 각각 일반식(5) 및(6)에 대해서 정의한 바와 같다.
  19. 제18항에 있어서, 일반식(12)의 화합물 1몰을 상응하는 저급 알카놀레이트, 사이클로알카놀레이트, 페닐알카놀레이트, 페놀레이트,(저급 알킬)티올레이트, 사이클로알킬티올레이트, 페닐티올레이트 또는 페닐알킬티올레이트 화합물 1몰과 반응시키는 방법.
  20. 2,4,6-트리할로-s-트리아진 화합물을 일반식(10)의 화합물, 일반식(11)의 피페리딘 화합물 및 N-알킬 화합물 또는 아미노페닐 화합물과 연속적으로 반응시킴을 포함하는 다음 일반식(16)의 트리아진 유도체의 제조방법.
    상기 식에서 R´는 일반식(여기서, R'7및 R'8은 각각 독립적으로 수소, C₁-C₄알킬, 사이클로알킬 비치환되거나(저급 알킬)치환된 페닐이다)의 라디칼이거나, 또는 R´는 1-아자사이클로알킬 또는 모폴리노이고, R´₂,R´₃,M´,Q´ 및 Z´는 각각 일반식(5) 및 (6)에 대해서 정의한 바와 같다.
  21. 폴리아미드 섬유 재료 및 염색물을 광화학적 및 열적 안정화 시키기 위한 제7항 내지 제20항 중의 어느 한 항에 따르는 트리아진 유도체의 용도.
  22. 제7항 내지 제20항 중의 어느 한 항에 따르는 화합물로 처리된 섬유재료,
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910011750A 1990-07-12 1991-07-11 폴리아미드 섬유재료의 광화학적 및 열적 안정화 방법 KR920002875A (ko)

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