KR910001448A - 광개시제로서 이온성 염료 반응성 반대이온 복합체 및 오늄염을 함유하는 양이온적으로 개시되는 조성물 및 이를 사용하는 감광성 물질 - Google Patents

광개시제로서 이온성 염료 반응성 반대이온 복합체 및 오늄염을 함유하는 양이온적으로 개시되는 조성물 및 이를 사용하는 감광성 물질 Download PDF

Info

Publication number
KR910001448A
KR910001448A KR1019900009696A KR900009696A KR910001448A KR 910001448 A KR910001448 A KR 910001448A KR 1019900009696 A KR1019900009696 A KR 1019900009696A KR 900009696 A KR900009696 A KR 900009696A KR 910001448 A KR910001448 A KR 910001448A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
composition
group
cationic
phase
dye
Prior art date
Application number
KR1019900009696A
Other languages
English (en)
Inventor
리앙 롱-창
데이비스 폴
사무엘 샨클린 마이클
챠이 이-구안
Original Assignee
로레인 제이. 프란시스
더 미드 코포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 로레인 제이. 프란시스, 더 미드 코포레이션 filed Critical 로레인 제이. 프란시스
Publication of KR910001448A publication Critical patent/KR910001448A/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/002—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor using materials containing microcapsules; Preparing or processing such materials, e.g. by pressure; Devices or apparatus specially designed therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

광개시제로서 이온성 염료 반응성 반대이온 복합체 및 오늄염을 함유하는 양이온적으로 개시되는 조성물 및 이를 사용하는 감광성 물질
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (26)

  1. 양이온적으로 중합가능하거나 해중합가능한 화합물, 및 이온성 염료 반응성 반대이온 복합체 및 오늄염을 포함하며 화학방사선에 노출시 상기의 중합가능하거나 해중합가능한 화합물의 양이온성 중합화 또는 해중합화를 개시할 수 있는 광개시제를 함유함을 특징으로 하는, 양이온적으로 중합가능한 광경화성(photohardenable) 또는 광연화성(photosoftenable)조성물.
  2. 제 1항에 있어서, 음이온성 염료가 크산텐 및 옥소놀 염료로 이루어진 그룹중에서 선택되는 조성물.
  3. 제 2항에 있어서, 반응성 반대이온이 요오도늄, 포스포늄, 피릴륨 및 설포늄 이온으로 이루어진 그룹중에서 선택되는 조성물.
  4. 제 3항에 있어서, 염료가 로즈 벤갈(Rose Bengal)인 조성물.
  5. 제 1항에 있어서, 양이온성 염료-붕산염 음이온 복합체가 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 조성물.
    상기식에서, D는 양이온성 염료 잔기이고, R1,R2,R3및R4는 동일하거나 상이하며, 치환되거나 비치환된 알킬, 아릴, 아르알킬, 알크아릴, 알케닐, 알키닐, 알리사이클릭, 헤테로사이클릭 및 알릴 그룹으로 이루어진 그룹 중에서 선택된다.
  6. 제 5항에 있어서, 양이온성 염료가 양이온성 시아니, 카보시아닌, 헤이시아닌, 디카보시아닌 및 트라카보시아닌 염료로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 조성물.
  7. 제 6항에 있어서, 양이온 염료가 하기 일반식(Ⅱ)으로 표시되는 조성물.
    상기식에서, X및X′는 각각 독립적으로 H, 전자 공여 그룹 또는 전자 회수 그룹을 나타내며, N은 0,1,2 또는 3이고, R,R′은 독립적으로 알킬 그룹 또는 아릴 그룹이며, Y는 CH=CH, N-CR3- (이때, R은 알킬이다), C(CH3)2, O, S 또는 Se이다.
  8. 제 6항에 있어서, 붕산염 음이온이 하기 일반식(Ⅲ)으로 표시되는 조성물.
    Ar3BR″- (Ⅲ)
    상기식에서, Ar은 치환되거나 비치환된 아릴 그룹이며, R″은 벤질, 메틸벤질, 1-메틸-1-페닐에테르, 디페닐 메틸, 1,1-디페닐에틸, 9-플루오레닐, 3급-부틸, 2급-부틸, 비치환되거나 치환된 아릴, 메톡시 메틸, 1-에톡시에틸, 2-이소프로폭시-2-프로필, 2-테트라하이드로푸라닐, 1,4-디옥솔란-2-일, 1,3-디옥솔란-2-일, 1,3-디옥솔란-2-일, 1,3-디옥솔란-4-일, 1,3,5-트리옥산-2-일 또는
    (이때, Q는 S 또는 O이며 RⅡ은 H, 알킬(C1-C20), 아릴, 아르알킬, -Si, -Su 또는 -Ge이다)이다.
  9. 제 8항에 있어서, 붕산염 음이온이 트리-4-플루오로페닐 n-부틸-붕산염인 조성물.
  10. 제 1내지 9항 중 어느 한 항에 있어서, 오늄염이 이온성 염료 반응성 반대이온 복합체의 광분해에 의해 생성된 라디칼의 산화 전위보다 덜 마이너스(-)인 환원 전위를 갖는 조성물.
  11. 제10항에 있어서, 오늄염의 환원 전위가 -0.7Ⅴ보다 덜 마이너스인 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 오늄염이 요오도늄염, 설포늄염, 포스포늄염, 디아조늄염 및 페로세늄염으로 이루어진 그룹중에서 선택되는 조성물.
  13. 제 1내지 9항 중 어느 한 항에 있어서, 조성물은 광경화성 화합물이며, 이는 에폭시 화합물, 비닐 또는 아릴 단량체, 비닐 또는 아릴성 예비중합체, 비닐 에테르, 비닐 에테르 작용화된 예비중합체, 사이클릭 에테르, 사이클릭 에스테르, 사이클릭 설파이드, 멜라민 포름알데히드, 페놀성 포름알데히드, 사이클릭 유기실록산, 락탐 및 락톤, 사이클락아세탈 및 에폭시 작용성 실리콘 올리고머로 이루어진 그룹중에서 선택되는 조성물.
  14. 제13항에 있어서, 광경화성 조성물은 추가로 에틸렌계 불포화 유리 라디칼 중합가능한 단량체를 함유하며, 광경화성 조성물은 양이온성 및 유리 라디칼 광중합화에 의해 중합화될 수 있는 조성물.
  15. 제14항에 있어서, 조성물은 광경화성 화합물이며, 이는 글리시딜(메트)아클릴레이트, 에폭시 아클릴레이트, 아크릴화된 멜라민 포름알데히드 및 에폭시화된 실록산으로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 조성물.
  16. 제13항에 있어서, 조성물이 추가로 상-형성제를 함유하는 조성물.
  17. 제16항에 있어서, 조성물이 마이크로캡슐화되는 조성물.
  18. 제1내지 9항 중 어느 한 항에 있어서, 조성물은 광연화성 화합물이며, 이는 폴리포르말을 포함하는 산분해가능한 폴리알데히드, 폴리(포트알데히드), 알릴성이며 장애된 폴리에스테르, 장애되고 알릴성인 폴리카보네이트를 포함하는 폴리카보네이트, 폴리실록산 및 폴리에테르로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 조성물.
  19. 제18항에 있어서, 조성물이 미세입자형태인 조성물.
  20. 제19항에 있어서, 조성물이 추가로 상-형성제를 함유하는 조성물.
  21. 제1내지 20항 중 어느 한 항에 따른 광경화성 또는 광연화성 조성물의 층을 피복시킨 지지체를 함유함을 특징으로 하는 조성물.
  22. 제21항에 있어서, 물질은 전색(full color)상을 형성하는데 유용하며, 마이크로캡슐은 이와 관련된 시안색상-형성체를 갖는 제1마이크로캡슐 세트, 이와 관련된 자홍색 상-형성제를 갖는 제2마이크로캡슐 세트 및 이와 관련된 황색 상-형성제를 갖는 제3마이크로캡슐 세트를 포함하고, 이때 제1,2및3마이크로캡슐 세트 중 하나 이상이 음이온성 염료 반응성 반대이온 복합체 및 오늄염을 포함하는 광개시제를 함유하는 물질.
  23. 제22항에 있어서, 제1,2 및 3마이크로캡슐 세트가 각각 적색, 녹색 및 청색광에 민감한 물질.
  24. 제21항에 있어서, 물질은 전색(full color)상을 형성하는데 유용하며, 미세입자는 이와 관련된 시안색 상-형성제를 갖는 제1미세입자 세트, 이와 관련된 자홍색 상-형성제를 갖는 제2미세입자 세트 및 이와 관련된 황색 상-형성제를 갖는 제3미세입자 세트를 포함하고, 이때 제1,2 및 3미세입자세트 중 하나 이상이 음이온성 염료 반응성 반대이온 복합체 및 오늄염을 포함하는 광개시제를 함유하는 물질.
  25. 제24항에 있어서, 제1,2 및 3미세입자 세트가 각각 적색, 녹색 및 청색광에 민감한 물질.
  26. 제6 내지 9항 중 어느 한 항에 있어서, 조성물이 양이온을 방출하기 위해 오늄염과 반응할 수 있는 유리라디칼을 생성하는 양이온성 염료-붕산염 음이온 복합체와 혼합되는 쇄 전이제를 추가로 함유하는 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900009696A 1989-06-30 1990-06-29 광개시제로서 이온성 염료 반응성 반대이온 복합체 및 오늄염을 함유하는 양이온적으로 개시되는 조성물 및 이를 사용하는 감광성 물질 KR910001448A (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US37450589A 1989-06-30 1989-06-30
US07374505 1989-06-30
US41688389A 1989-10-04 1989-10-04
US416883 1989-10-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR910001448A true KR910001448A (ko) 1991-01-30

Family

ID=27006636

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019900009696A KR910001448A (ko) 1989-06-30 1990-06-29 광개시제로서 이온성 염료 반응성 반대이온 복합체 및 오늄염을 함유하는 양이온적으로 개시되는 조성물 및 이를 사용하는 감광성 물질

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0408227A1 (ko)
JP (1) JPH03163106A (ko)
KR (1) KR910001448A (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970028793A (ko) * 1995-11-24 1997-06-24 월터 클리웨인, 한스-피터 위트린 폴리보란으로부터 얻은 붕산염 광개시제
KR970028790A (ko) * 1995-11-24 1997-06-24 월터 클리웨인, 한스-피터 위트린 모노보란으로부터 얻은 붕산염 광개시제
KR100668995B1 (ko) * 1998-05-28 2007-01-16 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 비디오 메모리 시스템

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2677457B2 (ja) * 1991-01-22 1997-11-17 日本ペイント株式会社 光重合性組成物
CN1289415A (zh) * 1998-02-25 2001-03-28 希卡勒公司 采用包封的辐射敏感组合物的成象体系
US6174642B1 (en) 1999-02-25 2001-01-16 Cycolor, Inc. Imaging system employing encapsulated radiation sensitive composition
JP4253432B2 (ja) 2000-11-01 2009-04-15 富士フイルム株式会社 平版印刷版用原版
EP1510862A3 (en) * 2003-08-25 2006-08-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Hologram recording method and hologram recording material
KR102541648B1 (ko) * 2020-06-03 2023-06-08 삼성에스디아이 주식회사 유기발광소자 봉지용 조성물 및 이로부터 제조된 유기층을 포함하는 유기발광소자 표시장치
US20230393459A1 (en) * 2022-06-06 2023-12-07 Polaroid Ip B.V. Microcapsule imaging system including non-photopolymerizable reactive diluent

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4772530A (en) * 1986-05-06 1988-09-20 The Mead Corporation Photosensitive materials containing ionic dye compounds as initiators
US4772541A (en) * 1985-11-20 1988-09-20 The Mead Corporation Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same
US4895880A (en) * 1986-05-06 1990-01-23 The Mead Corporation Photocurable compositions containing photobleachable ionic dye complexes
US4816368A (en) * 1987-02-09 1989-03-28 The Mead Corporation Microencapsulated photosensitive compositions employing image forming initiators
US4876172A (en) * 1987-05-20 1989-10-24 The Mead Corporation Imaging method employing photoadhesive microparticles

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970028793A (ko) * 1995-11-24 1997-06-24 월터 클리웨인, 한스-피터 위트린 폴리보란으로부터 얻은 붕산염 광개시제
KR970028790A (ko) * 1995-11-24 1997-06-24 월터 클리웨인, 한스-피터 위트린 모노보란으로부터 얻은 붕산염 광개시제
KR100668995B1 (ko) * 1998-05-28 2007-01-16 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 비디오 메모리 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03163106A (ja) 1991-07-15
EP0408227A1 (en) 1991-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0308274B1 (en) Process for coating a substrate
US5151520A (en) Cationic dye-triarylmonoalkylorate anion complexes
US4977511A (en) Photosensitive materials containing ionic dye compound as initiators
KR970027090A (ko) 산에 안정한 광중합용 붕산염
BE1013014A3 (fr) Systeme photo-initiateur, composes qui le constituent, composition le comprenant et son utilisation.
US5057393A (en) Dye branched-alkyl borate photoinitiators
AT406775B (de) Borat-coinitiatoren für die photopolymerisation
CA1262651A (en) Photosensitive microcapsules useful in polychromatic imaging
AT406777B (de) Borat photoinitiatoren aus monoboranen
EP0223587B1 (en) Photosensitive materials containing ionic dye compounds as initiators
JP2711447B2 (ja) イオン性染料化合物を開始剤として含む感光性材料
EP0301769A2 (en) Radiation-curable compositions and their use for printing and coating
AU4765897A (en) Photogeneration of amines from alpha-aminoacetophenones
KR910001448A (ko) 광개시제로서 이온성 염료 반응성 반대이온 복합체 및 오늄염을 함유하는 양이온적으로 개시되는 조성물 및 이를 사용하는 감광성 물질
JPS60264279A (ja) 記録材料
DE2327513A1 (de) Lichtempfindliches gegebenenfalls auf einen schichttraeger aufgebrachtes gemisch
KR970028793A (ko) 폴리보란으로부터 얻은 붕산염 광개시제
US4937159A (en) Photosensitive materials and compositions containing ionic dye compounds as initiators and thiols as autooxidizers
US5100755A (en) Dye-benzyltriaryl borate photoinitiators and photohardenable composition containing these photoinitiators
JP2001527565A (ja) 光重合のためのポリボラート共開始剤
JP2000510884A (ja) 重合性組成物
US5035621A (en) Method of dental treatment
US4816368A (en) Microencapsulated photosensitive compositions employing image forming initiators
JP2775880B2 (ja) 転写記録媒体
KR890008605A (ko) 광환원성 염료 및 티올을 함유하는 광경화성 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid