Claims (26)
인장된 박막 칼라 음극선관내의 박막 섀도우 마스크에 있어서, 니켈의 약 30 및 85 무게-퍼센트 사이, 몰리브덴의 약 0 및 5 무게-퍼센트 사이와, 하나 이상의 바나듐, 티타늄, 하프늄 및 니오브의 0 및 2무게-퍼센트 사이에서 이루어진 합금으로부터 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 섀도우 마스크.A thin-film shadow mask in a tensioned thin-film color cathode ray tube, comprising: between about 30 and 85 weight-percent of nickel, between about 0 and 5 weight-percent of molybdenum, and zero and two weights of one or more vanadium, titanium, hafnium, and niobium A thin-film shadow mask, characterized in that it is formed from an alloy consisting of between percents.
제1항에 있어서, 상기 합금은 80ksi 이상의 항복 강도, 약 6000 이상의 투과율, 약 2.5 에르스텟 이하의 보자도와, 상기 면판 이상의 팽창 열 계수를 갖는 것을 특징으로 하는 박막 섀도우 마스크.The thin film shadow mask of claim 1, wherein the alloy has a yield strength of at least 80 ksi, a transmittance of at least about 6000, a coercivity of at most about 2.5 Hersted, and an expansion coefficient of thermal expansion of at least the face plate.
제1항 또는 2항에 있어서, 상기 마스크는 상기 관이 주변 온도로 제공될 시에 적어도 약 25 뉴톤/센티미터의 인장력하에 있는 것을 특징으로 하는 박막 섀도우 마스크.3. The thin film shadow mask of claim 1 or 2, wherein the mask is under a tensile force of at least about 25 Newtons / cm when the tube is provided at ambient temperature.
제1항 또는 2항에 있어서, 상기 마스크의 합금은 약 150ksi 이상의 항복 강도, 약 10,000 이상의 투과율과 약 1.0 이하의 보자도를 갖는 것을 특징으로 하는 박막 섀도우 마스크.The thin film shadow mask of claim 1, wherein the alloy of the mask has a yield strength of at least about 150 ksi, a transmittance of at least about 10,000, and a coercivity of at most about 1.0.
제1항에 있어서, 상기 마스크의 합금은 균형 철 및 입사 불순물을 가지고, 니켈의 약 75 및 85 무게-퍼센트 사이와, 몰리브덴의 약 3 및 5 무게-퍼센트 사이에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막 섀도우 마스크.The thin film shadow mask of claim 1, wherein the alloy of the mask has balanced iron and incident impurities and is comprised between about 75 and 85 weight-percent of nickel and between about 3 and 5 weight-percent of molybdenum. .
제1 또는 2항에 있어서, 상기 마스크의 합금은 균형 철 및 입사 불순물을 가지고, 약 80 무게-퍼센트의 니켈, 약 4 무게-퍼센트의 몰리브덴으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막 섀도우 마스크.3. The thin film shadow mask of claim 1 or 2, wherein the alloy of the mask has balanced iron and incident impurities and consists of about 80 weight-percent nickel and about 4 weight-percent molybdenum.
플랫면판과, 그에 인접 설치된 인장 플랫 박막 섀도우 마스크를 구비하는데, 상기 마스크는 균형 철 및 입사 불순물을 가지고, 약 30 및 85 사이의 무게-퍼센트 니켈, 약 0 및 5 사이의 무게-퍼센트 몰리브덴, 0 및 2 사이의 무게-퍼센트의 하나 이상의 바나늄, 티타늄, 하프튬 및 니오브로 이루어진 합금으로부터 형성되는 것을 특징으로 하는 음극선관 전방 어셈블리.And a flat faceplate and a tensile flat thin film shadow mask installed adjacent thereto, the mask having balanced iron and incident impurities, weight-percent nickel between about 30 and 85, weight-percent molybdenum between about 0 and 5, 0 And an alloy consisting of one or more vanadium, titanium, hafnium and niobium in weight-percent between two.
제7항에 있어서, 상기 합금은 80ksi 이상의 항복 강도, 약 6000 이상의 투과율, 약 2.5 에르스텟 이하의 보자도와, 상기 면판 이상의 팽창 열 계수를 갖는 것을 특징으로 하는 음극선관 전방 어셈블리.8. The cathode ray tube front assembly of claim 7, wherein the alloy has a yield strength of at least 80 ksi, a transmittance of at least about 6000, a coercivity of at most about 2.5 Erstets, and an expansion coefficient of heat above the faceplate.
제7항 또는 8항에 있어서, 상기 마스크는 상기 관이 주변 온도로 제공될시에 적어도 약 25 뉴톤/센터미터의 인장력하에 있는 것을 특징으로 하는 음극선관 전방 어셈블리.9. The cathode ray tube front assembly of claim 7 or 8, wherein the mask is under tension of at least about 25 Newtons / center meter when the tube is provided at ambient temperature.
제7항 또는 8항에 있어서, 상기 합금은 균형 철 및 입사 불순물을 가지고, 니켈의 약 75 및 85 무게-퍼센트 사이와, 몰리브덴의 약 3 및 5무게-퍼센트 사이에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 음극선관 전방 어셈블리.9. A cathode ray tube according to claim 7 or 8, wherein the alloy has balanced iron and incident impurities and is comprised between about 75 and 85 weight-percent of nickel and between about 3 and 5 weight-percent of molybdenum. Front assembly.
제10항에 있어서, 상기 마스크의 합금은 균형 철 및 입사 불순물을 가지고, 약 80 무게-퍼센트의 니켈, 약 4 무게-퍼센트의 몰리브덴으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 음극선관 전방 어셈블리.11. The cathode ray tube front assembly of claim 10, wherein the alloy of the mask has balanced iron and incident impurities and is comprised of about 80 weight-percent nickel and about 4 weight-percent molybdenum.
내부 표면상의 인광 스크린과, 상기 스크린의 대향 측면상의 상기 마스크에 대한 지지구조를 가진 면판을 포함하는 인장된 마스크 칼라 음극선관 제조 공정에 있어서, 니켈-철 합금으로 구성된 개구 박막 섀도우 마스크를 제공하는 단계, 상기 인광 스크린과 일치한 인장력하에 상기 지지 구조에 대한 상기 마스크를 안전하게 하는 단계 및 상기 마스크가 양호한 자기 및 기계 성질을 가진 상태로 상기 마스크를 부분 가열하도록 상기 마스크를 안전하게 하는 단계 및, 상기 마스크가 양호한 자기 및 기계 성질을 가진 상태로 상기 마스크를 부분 가열하도록 상기 마스크를 열 싸이클로 제공하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.A process for producing a tensioned mask collar cathode ray tube comprising a phosphor screen on an inner surface and a face plate having a support structure for the mask on opposite sides of the screen, the method comprising: providing an apertured thin film shadow mask comprised of a nickel-iron alloy; Securing the mask to the support structure under tensile force consistent with the phosphor screen and securing the mask to partially heat the mask with the mask having good magnetic and mechanical properties; Providing the mask in a thermal cycle to partially heat the mask with good magnetic and mechanical properties.
제12항에 있어서, 상기 부분 가열은 상기지지 구조상에 상기 마스크를 설치하기 전에 불연속 단계로서 성취되는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.13. A process as claimed in claim 12 wherein said partial heating is accomplished as a discontinuous step prior to installing said mask on said support structure.
제12항에 있어서, 상기 부분 가열은 상기 관을 시일링하는 공정에서 열 싸이클 동안에 성취되는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.13. A process as claimed in claim 12 wherein said partial heating is accomplished during a heat cycle in the process of sealing said tube.
제12, 13 또는 14항에 있어서, 상기 마스크는 균형 철 및 입사 불순물을 가지고, 니켈의 약 75 및 85 무게-퍼센트 사이와, 몰리브덴의 약 3 및 5 무게-퍼센트 사이에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.15. The tension according to claim 12, 13 or 14, wherein the mask has balanced iron and incident impurities and is comprised between about 75 and 85 weight-percent of nickel and between about 3 and 5 weight-percent of molybdenum. Mask color cathode ray tube manufacturing process.
제12, 13 또는 14항에 있어서, 상기 마스크 합금은 균형 철 및 입사 불순물을 가지고, 니켈의 약 30 및 85 무게-퍼센트 사이, 몰리브덴의 약 0 및 5 무게-퍼센트 사이와, 하나 이상의 바나듐, 티타늄, 하프늄 및 니오브의 0 및 2 무게-퍼센트 사이에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.15. The method of claim 12, 13 or 14, wherein the mask alloy has balanced iron and incident impurities, between about 30 and 85 weight-percent of nickel, between about 0 and 5 weight-percent of molybdenum, and at least one vanadium, titanium A process for producing a tensile mask collar cathode ray tube, comprising between 0 and 2 weight-percent of hafnium and niobium.
제12, 13 또는 14항에 있어서, 상기 부분 가열은 마스크 합금이 약 30분 동안에 고체 용액을 형성하는 약 섭씨 400도 이상의 온도 및 그 이하로 상기 박막 마스크를 가열하는 단계, 상기 온도로부터, 상기 마스크가 형성되는 합금이 매분 약 섭씨 3 내지 5도 이하의 냉각율로 거의 재결정되는 온도로 마스크를 서서히 냉각시키는 단계와, 마스크가 인장하에 있고, 인광 스크린과 일치할 시에 상기 지지 구조에 대한 상기 마스크를 안전하게 하는 단계로 수행되는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.15. The method of claim 12, 13 or 14, wherein the partial heating comprises heating the thin film mask to a temperature of at least about 400 degrees Celsius and below at which the mask alloy forms a solid solution for about 30 minutes, from the mask Gradually cooling the mask to a temperature at which the alloy is formed is almost recrystallized at a cooling rate of about 3 to 5 degrees Celsius or less per minute, and the mask for the support structure when the mask is under tension and coincides with a phosphor screen; Tensile mask collar cathode ray tube manufacturing process characterized in that the step is carried out in a safe manner.
제12, 13 또는 14항에 있어서, 상기 면판은 그의 내부 표면상에서 퍼넬과 접합하기에 적합한 주변 시일링 영역에 의해 봉입되는 중심 배치된 인광 스크린 영역을 가지며, 섀도우 마스크는 상기 주변 시일링 영역과 상기 스크린 영역 사이의 상기 면판 내부 표면상의 프레임형 섀도우 마스크-지지 구조에 대해 확실히 인장되며, 상기 공정은 약 0.001인치 또는 그 이하의 두께를 가진 박막으로 상기 합금을 형성하는 단계, 칼라 선택을 위한 상기 스크린 영역에 따른 치수의 박막 마스크 자음을 형성하도록 상기 박막의 중심 영역을 개구하는 단게, 적어도 약 25 뉴톤/센티미터의 인장력으로 상기 박막을 인장하는 단계, 상기 스크린 영역상의 적색발광, 녹색 발광 및 청색 발광 인광 부착물의 패턴을 광 스크린하는 단계, 상기 면판과 상기 인장프레임을 일치시킴으로써 상기 인광 스크린 영역과 상기 박막을 연속적으로 일치시키는 단계, 상기 패턴의 인광 부착물과 일치한 상기 개구를 가진 상기 마스크-지지 구조에 대한 상기 박막 마스크를 안전하게 하는 단계, 페이스트형의 불투명한 프릿을 퍼넬 수납용 상기 주변 시일링 영역에 인가하는 단계, 면판 퍼넬 어셈블리를 형성하도록 상기 퍼텔과 상기 면판을 접합하는 단계, 상기 프릿을 불투명하게 하여, 상기 퍼넬을 상기 면판에 영구히 부착할 온도로 상기 어셈블리를 가열하는 단계 및, 매분 약 섬씨 3 내지 5도 이하의 냉각율로 상기 어셈블리를 냉각하는 단계를 포함하며, 상기 어셈블리 및 상기 박막의 가열과, 상기 어셈블리 및 박막의 느린 냉각율은 상기 박막 마스크를 부분 가열하여, 80ksi 이상의 항복 강도, 약 6000 이상의 투과율, 약 2.5 에르스텟 이하의 보자도 및 상기 면판 이상인 팽창 열 계수를 발생시키는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.15. The apparatus of claim 12, 13 or 14, wherein the faceplate has a centered phosphorescent screen area enclosed by a peripheral sealing area suitable for bonding with the funnel on its inner surface, and a shadow mask comprises the peripheral sealing area and the Securely tensioned against the framed shadow mask-supporting structure on the faceplate inner surface between screen regions, the process forming the alloy with a thin film having a thickness of about 0.001 inches or less, the screen for color selection Tensioning the thin film with a tensile force of at least about 25 Newtons / centimeter to open a central region of the thin film to form a thin film mask consonant with dimensions according to an area, red light emission on the screen area, green light emission and blue light emission phosphorescence Optically screening a pattern of deposits to align the faceplate with the tension frame Successively matching the phosphor screen area with the thin film, securing the thin film mask for the mask-supported structure with the opening coinciding with the phosphorescent deposit of the pattern, funneling a paste-shaped opaque frit Applying to the peripheral sealing area for receiving, bonding the puttel and the faceplate to form a faceplate funnel assembly, making the frit opaque, and heating the assembly to a temperature to permanently attach the funnel to the faceplate And cooling the assembly at a cooling rate of about 3 to 5 degrees Celsius or less per minute, wherein heating of the assembly and the thin film and slow cooling rate of the assembly and the thin film partially heat the thin film mask. Yield strength of 80 ksi or more, transmittance of about 6000 or more, and beams of about 2.5 Hersted or less And FIG tension mask color cathode ray tube manufacturing process, comprising a step of generating a thermal expansion coefficient greater than or equal to the face plate.
제18항에 있어서, 상기 박막 마스크는 섭씨 400도 이상의 온도와, 박막이 적어도 약 30분의 주기 동안에 고체 용액을 형성하는 온도 이하의 온도로 상기 박막 마스크를 가열하여, 배분 약 섭씨 3 내지 5도 이하의 냉각율로 주변 온도로 상기 박막을 가열함으로써 인장되는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.The thin film mask of claim 18, wherein the thin film mask is heated to a temperature of at least 400 degrees Celsius and a temperature below the temperature at which the thin film forms a solid solution during a period of at least about 30 minutes. A tensile mask collar cathode ray tube manufacturing process, characterized in that said film is stretched by heating said thin film at ambient temperature with a cooling rate below.
제18 또는 19항에 있어서, 상기 박막 마스크는 균형 철 및 입사 불순물을 가지고, 약 75 및 85 사이의 무게-퍼센트 니켈, 약 3 및 5 사이의 무게-퍼센트 몰리브덴으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.20. The tensile mask collar according to claim 18 or 19, wherein the thin film mask has balanced iron and incident impurities and consists of weight-percent nickel between about 75 and 85, weight-percent molybdenum between about 3 and 5 Cathode ray tube manufacturing process.
제18 또는 19항에 있어서, 상기 박막 마스크는 약 150ksi 이상의 항복 세기, 약 10,000 이상의 투과율 및 약 1.0 이하의 보자도를 갖는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.20. The process as claimed in claim 18 or 19, wherein the thin film mask has a yield strength of at least about 150 ksi, a transmittance of at least about 10,000, and a magnetic field of about 1.0 or less.
물리적 및 자기 성질을 바람직하게 조합한 인장된 마스크 칼라 음극선관 내에 이용하기 위한 박막 섀도우 마스크 제조 공정에 있어서, 균형 철 및 입사 불순물을 가지고, 약 30 및 85 사이의 무게-퍼센트 니켈, 약 0 및 5 사이의 무게-퍼센트의 하나 이상의 바나듐, 티타늄, 하프늄 및 니오븀을 함유한 합금으로 구성된 박막 마스크를 제공하는 단계와, 약 섭씨 400도 이상의 온도, 섭씨 700도 이상의 온도 및, 합금의 적어도 약 30분 및 2시간 사이의 주기 동안에 고체 용액을 형성하는 온도 이하의 온도로 관내에 설치하기 전후에 상기 마스크를 가열하여, 상기 온도로부터 상기 합금이 매분 약 섭씨 3 내지 5도 이하의 냉각율로 재결정되는 온도로 상기 합금을 서서히 냉각하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 제조 공정.A thin film shadow mask fabrication process for use in a tensioned mask color cathode ray tube, which preferably combines physical and magnetic properties, comprising a balance iron and incident impurities, weight-percent nickel between about 30 and 85, about 0 and 5 Providing a thin film mask composed of an alloy containing one or more vanadium, titanium, hafnium, and niobium in weight-percent between, at least about 400 degrees Celsius, at least 700 degrees Celsius, and at least about 30 minutes of the alloy and The mask is heated before and after installation in a tube at a temperature below the temperature of forming a solid solution for a period between two hours, from which the alloy is recrystallized at a cooling rate of about 3 to 5 degrees Celsius or less per minute. Tensile mask manufacturing process comprising the step of gradually cooling the alloy.
제22항에 있어서, 상기 합금은 약 30분 및 2시간 사이의 주기 동안에 약 섭씨 400도 및 700도 사이의 온도로 가열되는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.23. The process of claim 22, wherein the alloy is heated to a temperature between about 400 degrees Celsius and 700 degrees Celsius for a period between about 30 minutes and 2 hours.
제21 또는 22항에 있어서, 상기 합금은 균형 철 및 입사 불순물을 가지고, 약 75 및 85 사이의 무게-퍼센트 니켈, 약 3 및 5 사이의 무게-퍼센트 몰리브덴으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.23. The tensile mask collar cathode of claim 21 or 22, wherein the alloy has balanced iron and incident impurities and consists of weight-percent nickel between about 75 and 85 and weight-percent molybdenum between about 3 and 5. Tube manufacturing process.
제22 또는 23항에 있어서, 상기 합금은 균형 철 및 입사 불순물을 가지고, 약 80 무게-퍼센트의 니켈, 약 4 무게-퍼센트의 몰리브덴으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.24. The process of claim 22 or 23 wherein the alloy has balanced iron and incident impurities and is comprised of about 80 weight-percent nickel and about 4 weight-percent molybdenum.
제22 또는 23항에 있어서, 상기 합금은 박막형이고, 열처리 동안에 적어도 25 뉴톤/센티미터의 인장력하에 유지되는 것을 특징으로 하는 인장 마스크 칼라 음극선관 제조 공정.24. The process of claim 22 or 23, wherein the alloy is thin-film and maintained under a tensile force of at least 25 Newtons / cm during the heat treatment.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.