KR900008541B1 - Bios circuit for generating precise current in ic circuit - Google Patents
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- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims 2
- 206010004966 Bite Diseases 0.000 claims 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000287530 Psittaciformes Species 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
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- G05—CONTROLLING; REGULATING
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- H03L7/085—Details of the phase-locked loop concerning mainly the frequency- or phase-detection arrangement including the filtering or amplification of its output signal
- H03L7/089—Details of the phase-locked loop concerning mainly the frequency- or phase-detection arrangement including the filtering or amplification of its output signal the phase or frequency detector generating up-down pulses
- H03L7/0891—Details of the phase-locked loop concerning mainly the frequency- or phase-detection arrangement including the filtering or amplification of its output signal the phase or frequency detector generating up-down pulses the up-down pulses controlling source and sink current generators, e.g. a charge pump
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- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F1/00—Automatic systems in which deviations of an electric quantity from one or more predetermined values are detected at the output of the system and fed back to a device within the system to restore the detected quantity to its predetermined value or values, i.e. retroactive systems
- G05F1/10—Regulating voltage or current
- G05F1/46—Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc
- G05F1/462—Regulating voltage or current wherein the variable actually regulated by the final control device is dc as a function of the requirements of the load, e.g. delay, temperature, specific voltage/current characteristic
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
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Abstract
내용 없음.No content.
Description
제1도는 상위층부가 들춰내진 집적회로부의 사시도.1 is a perspective view of an integrated circuit unit with an upper layer portion lifted out.
제2도는 능동소자의 출력전류와 그와 같은 소자의 적용된 바이어스 전압 및 출력전압사이의 전형적 관계를 도시한 그래프.FIG. 2 is a graph showing the typical relationship between the output current of an active device and the applied bias voltage and output voltage of such a device.
제3도는 여러 능동소자를 나타내도록 사용된 개략적 기호를 도시한 도면.3 shows a schematic symbol used to represent several active elements.
제4도는 전형적 타이밍 회로의 개략도면.4 is a schematic diagram of a typical timing circuit.
제5도는 본 발명의 적용될 위상 잠금시스템의 개략도면.5 is a schematic diagram of a phase locking system to which the present invention is applied.
제6도는 본 발명에 따른 제1 바이어스 회로를 도시한 도면.6 shows a first bias circuit according to the invention;
제7도는 본 발명의 제2실시예가 일원으로 사용된 집적 회로 칩의 개략도면.7 is a schematic diagram of an integrated circuit chip in which a second embodiment of the present invention is used as a member.
제8도는 제3실시예의 개략도면.8 is a schematic diagram of a third embodiment.
제9도는 제4실시예의 개략도면.9 is a schematic diagram of a fourth embodiment.
제10도는 자기반사 증폭기의 도면.10 is a diagram of a magnetic reflection amplifier.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
500 : 위상고정시스템 530 : p채널 FET500: phase locked system 530: p-channel FET
540 : n채널 FET 600 : 제1 바이어스 회로540: n-channel FET 600: first bias circuit
602 : 공통의 반도체 기질 605 : 전압전원장치패드(pad)602: common semiconductor substrate 605: voltage power supply pad
610 : 전류기준 엘리먼트(element)610: current reference element
615 : 기질접촉패드 618 : 정정입력보호패드615: substrate contact pad 618: correction input protection pad
650 : 전압전원 700 : 집적회로 칩650: voltage power supply 700: integrated circuit chip
707 : 오른쪽 n채널 소자707: right n-channel device
본 발명은 한 제조배치(batch)에서 다른 한 제조배치로 운반되어도 변치 않는 동작특성을 갖는 집적회로를 제조하는 문제에 관한 것이다. 특히 본 발명은 대다수 대략생산된 집적회로 개별의 것이 정확한 전류를 발생시키는 문제에 관한 것이다.The present invention relates to the problem of manufacturing an integrated circuit having an operating characteristic that does not change even when carried from one batch to another batch. In particular, the present invention relates to the problem of the majority of roughly produced integrated circuit discretes generating an accurate current.
복잡한 전자회로는 종래의 제조기술을 사용하여 낮은 단가로 대량생산될 수 있다. 이들 기술에서 n타입과 p타입 전도영역이 제1도에 도시된 기질(100)과 같은 반도체 기질에서도 인접하여 형성된다. 세개 또는 그 이상의 이같은 영역(PNP 또는 NPN)의 교대배치는 다양한 트랜지스터 소자를 만들도록 사용된다. P 및 N영역은 전술한 기질의 상측 표면을 통하여 다양한 불순물을 확산시키므로써 발생된다. 이들 영역의 상측표면크기(너비와 길이)는 종래의 사진 평탄방법을 사용하여 정확한 오차로 조정될 수 있다.Complex electronic circuits can be mass produced at low cost using conventional manufacturing techniques. In these techniques, n-type and p-type conductive regions are also formed adjacent to semiconductor substrates such as
비용이 효과적인 제조 기술에서는 처리공정의 변동(즉, 노의 온도 및 불순물 농도수준의 변동)때문에 영역의 깊이를 정확한 오차내로 유지시킴이 어렵다. 이는 한 처리공정 배치로부터 트랜지스터가 또다른 배치의 트랜지스터와 동일하도록 보장될 수 없음을 의미한다.In cost-effective manufacturing techniques, it is difficult to keep the depth of the region within the correct error because of variations in the process (ie fluctuations in furnace temperature and impurity concentration levels). This means that a transistor from one processing batch cannot be guaranteed to be the same as a transistor in another batch.
그러나, 단일 배치, 단일 웨이퍼 또는 IC(직접회로)칩내에서 유사한 영역의 깊이는 일체로 형성된 영역이 거의 동일한 처리공정 조건하에서 제조되기 때문에 대체로 일정하게 남아 있는다. 동일하거나 또는 거의 동일한 트랜지스터 저항기 등등이 개별의 IC칩에 형성될 수 있으며, 이들 소자의 동일한 성질은 정밀한 전압 디바이더 및 전류 스플리터(splitter)를 형성하도록 이용될 수 있다. 이같이 정밀한 디바이더(또는 스플리터)에 의해 발생된 전압 및 전류크기는 상대적인 의미에서만 정확한 것이며, 칩 외부에서 발전될 절대크기가 아닌 IC 칩 내부에서 발전된 다른 전압 및 전류수준에 관계하여 제조배치에 따라 일정하게 결정되어 진다. 각기 다른 제조배치로부터 IC에 의해 발생된 전압 및 전류의 불일치는 바람직하지 않은 상황을 발생시키며 대량생산 IC 시스템으로부터 일관되는 동작특성을 획득함을 어렵게 한다.However, the depth of similar regions in a single batch, single wafer, or IC (integrated circuit) chip remains largely constant since the integrally formed regions are manufactured under almost the same processing conditions. The same or nearly identical transistor resistors and the like can be formed on separate IC chips, and the same properties of these devices can be used to form precise voltage dividers and current splitters. The voltage and current magnitudes generated by these precise dividers (or splitters) are accurate only in a relative sense and are consistent with the manufacturing arrangement in relation to other voltage and current levels developed inside the IC chip, not the absolute size that will be generated outside the chip. It is decided. Inconsistencies in voltage and current generated by ICs from different manufacturing arrangements create undesirable situations and make it difficult to obtain consistent operating characteristics from high-volume IC systems.
제1도에는 Q1, Q2및 Q3의 3개 능동소자(트랜지스터)가 능동소자 Q1, Q2및 Q3를 형성시키는 다수의 P 및 N영역을 드러내도록 기질(100)의 상측표면으로부터 드러내어져 금속접촉과 절연게이트로 구성된 상위층(110)을 갖는 단면 사시도에 도시되어 있다. 제1 및 제2소자 Q1및 Q2는 연속된 거의 동일한 NPN 영역을 포함한다. 제3소자 Q3는 유사하지 않은 PNP 영역으로 만들어진다. NPN 쌍극형 트랜지스터, n채널 FET(전체효과 트랜지스터) 및 이와 유사한 능동소자는 NPN 연속의 Q1과 Q2를 사용하여 제조될 수 있다. PNP 쌍극형 트랜지스터, p채널 FET 및 이와 유사한 상보(相補)의 유사하지 않은 능동소자는 Q3를 형성하는 PNP 연속영역으로부터 제조될 수 있다. 제1도에서 제1 및 제2능동소자 Q1및 Q2는 소스, 게이트 및 드레인 단자 S1, G1, D1, S2, G2및 D2를 갖는 금속 산화막 반도체 전계효과 트랜지스터로 형성되는 것으로 도시되어 있다. 이같은 단자는 드러내어진 상위층부(110)내에 포함되어 있으며, 유사하지 않은 소자 Q3는 PNP영역에 관계한 제1도에 도시되지 않은 소스단자 S3, 게이트단자 G3및 드레이 단자 D3를 갖는다.FIG. 1 is Q 1, the upper surface of Q 2 and Q 3 of the three active components (transistors) are active elements Q 1, Q 2 and Q 3 substrate 100 to reveal a number of P and N regions to form It is shown in a cross-sectional perspective view with a
거의 동일한 제1 및 제2쌍동이 소자 Q1및 Q2의 n타입 영역은 동일한 확산깊이 Df1으로 형성된다. 쌍동이 소스 각각은 채널깊이 L(소스영역과 드레인 영역사이의 거리)와 채널너비 W와 관련을 갖는다. 이같은 너비/길이 크기는 공지된 사진 석판기술을 사용하여 앞서 설명한 바와 같이 정확한 허용오차내로 형성된다.Nearly identical first and second twin n-type regions of the elements Q 1 and Q 2 are formed with the same diffusion depth D f1 . Each twin source has a channel depth L (the distance between the source and drain regions) and the channel width W. This width / length size is formed within the correct tolerances as described above using known photolithographic techniques.
Q1과 Q2와 같은 두 쌍동이 소자의 각각의 너비 W1, W2및 각각의 길이 L1및 L2가 동일한 때 쌍동이 소자는 동일한 것으로 간주될 것이다. 동일한 쌍동이 소자는 동일한 전기적 특성을 갖는다. 즉, 만약 동일한 출력전압 VDS1과 VDS2가 두 동일한 쌍동이 소자와 드레인 소스에서 발생된다면, 동일한 게이트 전압 VGS1, VSG2가 이들의 게이트 단자에서 적용되며, 실질적으로 동일한 전류 IDS1과 IDS2가 이들 소자의 출력단자(드레인 또는 소스단자)를 통하여 흐르게 될 것이다. 이는 동 칩에서 그와 같은 두 소자의 동작 특성에 영향을 미치는 동작온도 및 제조처리변수가 사실상 동일하기 때문에 기인된다. 만약 두 쌍동이 소자의 채널 너비와 채널 길이를 제외한 모든 인수가 동일하다면 두 쌍동이 소자의 출력전류는 비례인수가 각 소자의 평면도 크기에 의해 결정되는 비례값을 갖는다.When two twins, such as Q 1 and Q 2 , each have the same width W 1 , W 2 and the respective length L 1 and L 2 , the twin will be considered identical. Identical twin devices have identical electrical properties. That is, if the same output voltages V DS1 and V DS2 occur at the same source and drain source, the same gate voltages V GS1 , V SG2 are applied at their gate terminals, and substantially the same currents I DS1 and I DS2 are applied. It will flow through the output terminals (drain or source terminals) of these devices. This is due to the fact that the operating temperature and fabrication process variables affecting the operating characteristics of such two devices in the chip are virtually the same. If the two twins are all the same except for the channel width and the channel length of the device, the output current of the two twin devices has a proportional factor determined by the planar size of each device.
세번째 소자 Q3(PNP)의 p타입 영역은 NPN 영역의 Df1과는 달리 기질표면 아래 깊이 Df3까지로 확산되며, Q3의 동작특성과 쌍동이 소자 Q1및 Q2의 특성 사이의 어떤 관계가 있는지 확인하기는 어렵다.The p-type region of the third device Q 3 (PNP) diffuses to a depth D f3 below the substrate surface, unlike D f1 in the NPN region, and the relationship between the operating characteristics of Q 3 and the characteristics of the dipole devices Q 1 and Q 2 It is difficult to see if there is.
이같은 사실은 n채널 FET Q2와 p채널 FET Q와 같은 상보소자가 정확한 구동전류 요구하는 출력요소를 구동하기 위해 결합되어(예를 들어 CMOS회로)사용되려는 때 문제를 제공한다.This fact presents a problem when complementary devices such as n-channel FET Q 2 and p-channel FET Q are intended to be used in combination (e.g. CMOS circuits) to drive output elements that require accurate drive current.
제2도는 일반적인 능동소자 Q(제4도)의 출력전류 ID및 출력 및 바이어스전압 VD및 VB사이의 관계를 도시한 정형적 소자 동작 특성의 그래프이다. 출력전류 ID의 크기는 적용된 전압 VD및 VB뿐아니라 동작온도, 제조처리과정변수 및 다양한 p타입 및 n타입 영역의 크기와 같은 인수의 함수이다. 제3도는 유사하지 않은 능동소자를 나타내도록 사용되는 다수의 개략적 기호를 도시한 것이다. n채널 FET 및 NPN 쌍극형 트랜지스터와 같은 소자는 NPN 배열을 갖는 영역으로부터 형성된다. p채널 FET 및 PNP 쌍극형 트랜지스터와 같은 소자는 PNP 연속영역을 갖는 기질영역에서 제조될 수 있다. 이같은 능동소자는 제4도에서 도시된 일반적인 원형의 기호에 의해 대표된다. 제4도는 능동소자 Q로부터의 출력전류 ID의 절대크기가 중요할 수 있는 여러 가능한 적용중 하나를 도시한 개략도이다. 능동소자 Q는 전류제어게이트단자 G, 제1출력단자 O1및 제2출력단자 O2를 갖는 것으로 도시되어 있다. 바이어스 전압 VB는 스위치 SW를 통하여 지속시간 t동안 게이트 단자 G에 적용된다. 출력단자 Q1및 Q2는 전압소 Vcc와 전하축적(가산)콘덴서 C사이에서 직렬로 놓여진다. 스위치 SW가 시간 지속시간 t동안 폐쇄되는 때 특정크기를 갖는 출력전류 ID는 능동소자 Q로부터 가산콘덴서 C내로 펌프된다. 가산 콘덴서내에 저장된 총 전하량은 결과로 가산된 전압 VC가 콘덴서 C에 발생된다. 콘덴서내로 펌프된 전하로부터 기인하는 전압변경 VC는 출력 전류 크기 ID의 절대크기 및 적용시간 지속시간 t의 곱에 비례한다. 이는 다음과 같이 공식으로 표시한다.2 is a graph of typical device operating characteristics showing the relationship between the output current I D and the output and bias voltages V D and V B of a typical active element Q (FIG. 4). The magnitude of the output current I D is a function of factors such as the applied voltages V D and V B as well as the operating temperature, manufacturing process variables and the size of the various p-type and n-type regions. 3 shows a number of schematic symbols used to represent dissimilar active elements. Devices such as n-channel FETs and NPN bipolar transistors are formed from regions with NPN arrays. Devices such as p-channel FETs and PNP bipolar transistors can be fabricated in substrate regions with PNP contiguous regions. Such active elements are represented by the general circular symbol shown in FIG. 4 is a schematic showing one of several possible applications in which the absolute magnitude of the output current I D from the active element Q may be important. The active element Q is shown to have a current control gate terminal G, a first output terminal O 1 and a second output terminal O 2 . The bias voltage V B is applied to the gate terminal G for a duration t through the switch SW. The output terminals Q 1 and Q 2 are placed in series between the voltage element V cc and the charge accumulation capacitor C. When the switch SW is closed for a time duration t, the output current I D of a certain magnitude is pumped from the active element Q into the addition capacitor C. The total amount of charge stored in the addition capacitor results in the added voltage V C being generated in the capacitor C. The voltage change V C resulting from the charge pumped into the capacitor is proportional to the product of the absolute magnitude of the output current magnitude I D and the application time duration t. This is expressed as a formula as follows.
△VC=ID·t/cΔV C = I D t / c
이때 C는 패럿으로 표시된 용량의 크기이다. 전하 가산 콘덴서의 전압은 전자시스템내에서 타이밍 회로를 트리거하도록 사용된다. 타이밍이 매우 정확해야 하는 적용에 있어서, 소자 출력 전류 ID의 크기가 정확한 허용오차 내로 예측될 수 있는 것이라야 바람직하다. 그러나 많은 숫자의 집적회로 칩(IC) 개개마다 각각 전류 제어소자 Q를 갖는 출력전류 I가 바람직한 허용오차내에 있도록 함은 곤란하다. 각 개별 IC의 동작온도 및 한칩에서 각 능동소자의 동작특성에 영향을 주는 제조처리과정 변수와 같은 크기 결정인수는 설명되어야 한다.Where C is the size of the dose expressed in parrots. The voltage of the charge adding capacitor is used to trigger the timing circuit in the electronic system. In applications where timing must be very accurate, it is desirable that the magnitude of the device output current ID can be predicted within the correct tolerance. However, it is difficult to ensure that the output current I with the current control element Q for each of a large number of integrated circuit chips ICs is within the desired tolerances. Sizing factors, such as manufacturing process variables that affect the operating temperature of each individual IC and the operating characteristics of each active device on a chip, should be accounted for.
본 발명의 목적은 집적회로에서의 능동소자 출력전류를 정확한 세트오차내에서 유지되도록 함이다. 본 발명의 또 다른 목적은 소자가 대량생산으로 제조된 집적회로(IC)의 일부인 때 능동소자에 의해 발생된 출력 전류의 정확을 보장하기 위한 제조단가가 저렴한 장치에 관한 것이다.It is an object of the present invention to maintain the active device output current in an integrated circuit within the correct set error. Yet another object of the present invention is to provide an inexpensive manufacturing device for ensuring the accuracy of the output current generated by an active device when the device is part of an integrated circuit (IC) manufactured in mass production.
상기의 목적을 전류기준 엘리먼트(element)와 직렬로 연결된 집적회로상의 한 본보기 능동소자를 포함하는 바이어스 회로를 제공하므로써 실현된다. 본보기 소자는 전류제어 바이어스가 적용되는 게이트 단자와 게이트 제어 출력 전류가 흘러들어오는 한쌍의 출력단자를 갖는다. 본보기 소자와 거의 동일한 적어도 하나의 동작소자는 동작온도 및 제조처리과정 변수에 관계없이 두 소자의 동작특성이 거의 동일하도록 집적회로 상에 제공된다. 본보기 소자 및 전류 기준 엘리먼트는 본보기 소자를 통한 출력전류 흐름의 크기를 전류기준 엘리먼트를 통한 전류흐름으로부터 정확히 결정함이 가능하도록 배치된다. 본보기 소자에서의 출력전압은 게이트 제어기에 의해 요구되는 전압으로 강요된다. 게이트 제어기는 본보기 소자의 출력전압을 감지하며, 감지된 출력전압은 요구되는 전압과 비교하며, 바이어스 전압을 본보기 소자의 게이트에 적용시키어 출력전압이 요구되는 전압을 향해 본보기 소자의 출력전압을 구동시키도록 한다. 본 보기 소자의 게이트에 적용된 바이어스 전압수준은 거의 동일한 동작소자의 게이트에서 두배로 된다. 동작소자의 출력전류는 동작소자에서의 출력전압이 본보기 소자의 출력전압과 동일한 때(따라서 요구되는 전압은 같거나 거의 같아지는 때) 전류기준 엘리먼트를 통한 전류흐름으로부터 정확히 결정가능할 것이다.The above object is achieved by providing a bias circuit comprising an exemplary active element on an integrated circuit connected in series with a current reference element. The example element has a gate terminal to which a current control bias is applied and a pair of output terminals through which the gate control output current flows. At least one operating element, which is almost identical to the example element, is provided on the integrated circuit such that the operating characteristics of the two elements are almost the same regardless of the operating temperature and manufacturing process variables. The example element and the current reference element are arranged to enable accurate determination of the magnitude of the output current flow through the example element from the current flow through the current reference element. The output voltage at the example element is forced to the voltage required by the gate controller. The gate controller senses the output voltage of the example element, compares the sensed output voltage with the required voltage, and applies a bias voltage to the gate of the example element to drive the example element's output voltage toward the required voltage. To do that. The bias voltage level applied to the gate of the example element is doubled at the gate of the nearly identical operating element. The output current of the operating element will be precisely determinable from the current flow through the current reference element when the output voltage at the operating element is equal to the output voltage of the exemplary element (and therefore the required voltage is about or about the same).
제조비용이 저렴한 허용오차 제어는 IC 능동소자로부터 전류 기준 엘리먼트를 분리하여 제조함으로써 실현된다.Low-cost manufacturing tolerance control is achieved by separating the current reference element from the IC active element.
본 발명은 한 집적회로내에서 능동소자의 출력으로 발생된 출력전류의 크기를 제어하기 위한 제조비용이 효과적인 기술을 제공한다. 하나의 집적회로 칩에 있는 하나 또는 둘 이상의 능동소자 출력 전류의 크기를 정확히 제어하므로써 무수히 많은 유익한 점이 있게 된다. 제5도는 특성위상 고정장치(500)의 개략도면으로 본 발명은 이같은 위상고정장치를 위해 개발되었다. 위상고정장치(500)는 인입하는 비동기 DATA 신호와 위상이 부합되도록 된 CLOCK 신호를 발생시킨다. DATA 신호는 예를 들어 컴퓨터의 회전 프로피 디스크로부터 획득될 수 있다. 위상고정장치(500)에서, DATA신호는 제1 플립플롭(510)의 클록입력에 적용된다. 위상고정 시스템(500)은 예정된 주파수의 CLOCK 신호를 출력시키는 전압제어 발진기(VCC)(550)를 포함한다. CLOCK 신호는 제2플립플롭(520)에 가해진다. CLOCK 신호의 라이징 에지(rising edge)는 주파수 감소 출력, 즉 제2플립플롭(520)의 FDN이 시간 t3-t2의 짧은 기간동안 "고"로 가도록 한다. DATA 신호의 라이징 에지는 제2플립플롭(510)의 주파수 증가 출력 FUP가 짧은 지속기간 t3-t2동안 "고"로 가도록 한다. 주파수 증가/감소 신호 FUP 및 FDN는 한 세트의 시간지연 게이트(515), (525)를 통과하여 상호시간 t3에 플립플롭(510, 520)의 출력을 리세트하도록 한다. 만약 CLOCK 신호의 상응하는 에지가 제2플립플롭(520)에 도달하기 전에 DATA 신호의 라이징 에지가 제1 플립플롭(510)에 도달하면 FUP 신호의 지속시간 T3-t1는 FDN 신호의 지속시간 t3-t2보다 크게 될 것이다.The present invention provides a cost effective technique for controlling the magnitude of the output current generated at the output of an active element in an integrated circuit. There are countless benefits in accurately controlling the magnitude of one or more active device output currents in one integrated circuit chip. 5 is a schematic diagram of a characteristic
반대로 만약 DATA 신호의 상응하는 에지 이전에 CLOCK 신호 에지가 도달하게 되면 FDN 신호의 지속기간 t3-t2가 보다 크게 될 것이다. FUP 신호는 제1 전류(소스전류) I1를 오류 가산 콘덴서 C1에 공급하는 p채널 FET(530)를 작동시킨다. FDN 신호를 오류가산 콘덴서 C1로 부터 제2 전류(싱크 전류)를 회수하는 n채널 FET(540)를 작동시킨다. 가산 콘덴서 C1는 VCO(550)의 입력에 연결되어 거기서 입력전압 Vin을 적용시키도록 한다. VCO(50)의 입력전압 Vin은 다음의 공식에 따라 변경된다.Conversely, if the CLOCK signal edge arrives before the corresponding edge of the DATA signal, the duration t 3- t 2 of the FDN signal will be greater. The FUP signal activates the p-
△Vin=I1·(t3-t2)-I2·(t3-t2)ΔV in = I 1 · (t 3 -t 2 ) -I 2 · (t 3 -t 2 )
CLOCK 신호가 DATA 신호와 정확히 동위상에 있는 때 VCO(550)의 입력전압 Vin은 일정하게 유지되는 것이 바람직하다. 만약 소스와 싱크전류 I1과 I2가 t1=t2일때 정확히 크기를 갖지 않는다면 위상고정장치(phase-locking system)(500)의 고정동작내로 측적오류가 안내될 것이다.The input voltage V in of the
앞서 논의된 바와 같이 p채널 FET(530)과 그 상보의 n채널 FET(540) 각각의 추력전류 절대크기는 각 소자의 게이트 단자에서 적용된 바이어스 전압, 이들 소자의 출력단자에 인가된 출력전압, 회로가 동작되는 온도, 그리고 제조처리과정 변수를 포함하는 여러 인수에 의해 영향을 받을 수 있다. 마지막 두개의 인수는 예견하기가 가장 어려우며 제어하기도 가장 어렵다. 다행스럽게도 단일 칩내에서는 온도 및 처리과정 변경 인수가 거의 동일한 능동소자에 대하여 일정하다. 이같은 개념이 본 발명에 의해 개발되어 동일하거나 일정한 비율 크기의 기준 전류 I0가 한 IC칩의 거의 동일한 능동소자의 기준 엘리먼트를 통하여 흐르도록 하여진다. 또한 정밀복사된 기준전류가 본 발명에 따라 IC칩의 유사하지 않는 소자에서 재발생될 수 있다.As discussed above, the absolute magnitude of the thrust current of each of the p-
제1도에서, NPN소자 Q1과 Q2는 평면상의 크기가 상기(W1/L1 W2/L2)한 것을 제외하고는 거의 동일하다. 만약 너비/길이 크기가 동일하다면 Q1및 Q2는 이들의 전기적 동작 특성이 동일한 것으로 간주될 수 있다. 즉, 동일한 출력전압이 이들 각각의 출력단자(VDS1=VDS2)에서 발생되며, 같은 바이어스 전압이 전압이 이들의 게이트 단자(VGS1=VGS2)에서 적용되고, 이들의 출력전류가 동일한 크기(IDS1=IDS2)을 갖게 될 것이다. 이들 쌍동이 소자 Q1및 Q2의 너비/길이 크기가 상이한 때에도 전류 비례관계 IDS2=(W2/L2)·(L1/W1)·IDS1는 이들 소자의 바이어스 및 출력전압이 동일한 때에 대체로 일정하게 유지된다.In FIG. 1, the NPN elements Q 1 and Q 2 are planar in size (W 1 / L 1). Almost the same except for W 2 / L 2 ). If the width / length sizes are the same, then Q 1 and Q 2 may be considered to have the same electrical operating characteristics. That is, the same output voltage is generated at their respective output terminals (V DS1 = V DS2 ), the same bias voltage is applied at their gate terminals (V GS1 = V GS2 ), and their output currents are the same magnitude. Will have (I DS1 = I DS2 ). Even when these twins have different widths / lengths of elements Q 1 and Q 2, the current proportionality I DS2 = (W 2 / L 2 ) · (L 1 / W 1 ) · I DS1 has the same bias and output voltage of these elements. It is usually kept constant at the time.
제6도는 본 발명에 따른 제1 바이어스 호로(600)의 개략도이다. Q1과 Q2는 공통의 반도체 기질(IC칩)(602)위에 형성된 쌍동이 능동소자이다. Q1은 그 동작 특성이 Q2와 같은 유사한 "쌍동이"소자로 집적호로 칩을 통하여 일정하게 반복되기 때문에 본보기 능동소자인 것으로 간주된다. 본보기 소자인 Q1의 출력단자는 잔류기준 엘리먼트(610)와 직렬로 놓여지며 본보기 소자(Q1)의 출력단자를 통하여 흐르는 출력전류 I1의 크기가 일단 기준 엘리먼트(610)을 통항 기준전류 I0가 알려지기만 하면 온도 및 처리 과정 변수에 관계없이 정확히 예측할 수 있도록 된다.6 is a schematic diagram of a first bias arc 600 according to the present invention. Q 1 and Q 2 are twin active elements formed on a common semiconductor substrate (IC chip) 602. Q 1 is considered to be an example active element because its operating characteristic is a constant "twin" element such as Q 2 , which is constantly repeated throughout the chip in an integrated arc. The output terminal of the exemplary element Q 1 is placed in series with the
설명을 위해 도시된 바이어스 전류(600)에서 본보기 소자 Q1의 출력전류 I1은 키트히오프 전류법칙에 의해 전류기준 엘리먼트(610)를 통하여 흐르는 기준전류 I0와 동일하다. 본보기 소자 Q1의 출력 단자중 하나에 연결된 차동 증폭기 U1의 입력단자로는 전류가 흐르지 않는다. 요구되는 전압 VDD는 전압소스(650)에 의해 발생된다. 전압소소(650)는 IC칩(602)에서 구성요소로 형성되고 접지와 칩의 전원전압 VCC사이에 연결된 정밀 전압 디바이더인 것이 좋다. 전압전원(650)은 제6도에서 점선으로 표시된 바와 같이 동작소자 Q2의 출력전압 VD2에 직접 연결될 수도 있다. 본보기 소자 Q1의 출력전압 VD1은 차동 증폭기 U1에 의해 요구되는 전압 VDD와 동일해지도록 강요될 수 있다. 차동 증폭기 U1는 한쌍의 전압감지입력을 가지며, 이중 한 입력(620)이 본보기 소자 Q1의 출력단자에 연결되고 다른 한 입력(640)이 전압전원에 의해 발생된 요구되는 전압 VDD에 연결된다. 차동증폭기 U1의 출력은 본보기 소자 Q1의 게이트 단자 G1의 게이트 단자 G1에 연결되며, 차동 증폭기 U1는 본보기 소자의 게이트 단자 G1에서 게이트 바이어스 전압수준 VB1을 발생시킨다. 본보기 소자 Q1과 차동 증폭기 U1은 함께 본보기 소자의 출력 전압 VD1이 실질적으로 요구되는 전압 VDD와 동일해지도록 강요하는 전압반사(Voltage-mirroring)귀환 루프를 형성시킨다.In the illustrated bias current 600, the output current I 1 of the example element Q 1 is equal to the reference current I 0 flowing through the
본보기 소자 Q1의 출력전류 I1은 기준전류 I0와 동일한 것으로 알려져 있는데 출력전압 VD1은 요구된 전압 VDD와 동일한 것으로 알려져 있기 때문에, 거의 동일한 소자 Q2에서의 전류 I1을 복사하기 위해 요구되는 게이트 바이어스 전압수준 VG2는 본보기 소자 Q1의 게이트 단자 G1에서 발전된 바이어스 전압수준 VB1과 동일해 질 것이다. 만약 쌍동이 소자 Q2에서의 출력전압 VD2이 요구전압 VDD와 같아지게 되는 때 동 바이어스 전압수준 VB1이 "쌍동이"능동소자 Q2의 제2게이트 단자 G2에서 두배가 된다면, 쌍동이 소자를 통한 출력전류 I2는 I2=(W2/L2)·(L1/W1)·I1이 될 것이다. 다시 말해서, 출력전류 I2는 본보기 소자전류 I1의 일정한 비율로 만들어 질 것이며, I1의 정확한 크기가 I2에서 두배가 될 것이다(I2의 크기가 정확히 결정할 수 있는 비례인수에 의해 일정한 비율로 만들어질 때에도 마찬가지이다). 앞서 설명한 바와 같이 요구되는 전압 VDD는 차동 증폭기 U1의 적당한 입력단자(640)를 쌍동이 소자 Q2(제6도에서는 점선으로 표시됨)의 출력단자(660)에 연결시키므로써 쌍동이 소자 Q2의 출력전압 VD2와 동일하므로 만들어진다.Exemplary output current of the device Q 1 I 1 is known to be equal to the reference current I 0 the output voltage V D1 is to copy, little current I 1 of the same element Q 2 because it is known to be equal to the required voltage V DD The required gate bias voltage level V G2 will be equal to the bias voltage level V B1 developed at the gate terminal G 1 of the exemplary element Q 1 . If the same bias voltage level V B1 is doubled at the second gate terminal G 2 of the " twin " active device Q 2 when the output voltage V D2 at element Q 2 becomes equal to the required voltage V DD , The output current I 2 through will be I 2 = (W 2 / L 2 ) · (L 1 / W 1 ) · I 1 . In other words, the output current I 2 will be made at a constant rate of an example device current I 1, the exact dimensions of the I 1 will be doubled in I 2 (a constant rate by a proportional factor in the size of I 2 can accurately determine The same is true when made with). Voltage required as described above V DD is of a differential amplifier U 1
그러나 설명된 바의 실시예(600)에서는 입력단자(640)가 요구되는 전압 VDD을 발생시키는 정확한 전압 디바이더에 대신하여 연결되어 있으며, 어떤 회로에서는 쌍동이 소자 Q2의 출력 전압 VD2이 미리 정해진(요구되는)전압 VDD와 같이 특별한 전압상태를 제외하고는 정확한 동작회로 출력 I2를 갖을 필요가 없다. 예를 들어 제5도에서 UCO(550) CLOCK과 DATA 위상의 룩-인(lock in)이후)의 정상상태 입력전압 Vin은 자주 전원전압 VCC의 절반과 동일하도록 세트된다. 이것은 p채널 FET(540)의 정상상태 출력전압이 또한 전원전압 VCC의 절반과 같아지게 됨을 의미한다. 결론적으로, 만약 제6도의 바이어스 전류(600)가 제5도에 도시된 FET(530), (540)에 대하여 게이트 바이어스 전압 VG1및 VG2중 적어도 하나를 발생시키도록 사용되면 차동증폭기 U1의 입력단자(640)와 FET(530), (540)의 드레인 단자(D1), (D2)사이에 직접 연결시킬 필요가 없이 정확한 전압 디바이더(650)에 의해 요구되는 전압 VDD가 전원전압 VCC의 절반과 같아지도록 세트될 수 있다. 입력단자(640)로부터 제6도에 도시된 쌍동이 동작소자 Q2의 동작 소자 Q2의 출력단자(660)로의 직접연결을 제거함 이외도 차동 증폭기 U1에 인접하여 전압 디바이더(650)를 위치시키므로 해서 입력단자(640)로의 바람직하지 않은 잡음연결 위험이 최소화하도록 하므로써 차동 증폭기 U1의 입력 리이드(640)가 매우 짧아지도록 만들어질 수 있다.However, in embodiment 600 as described, the
차동 증폭기 U1, 본보기소자 Q1및 정확한 전압소스(650)는 반도체 기질(602)의 주변 에지 가까이 집적회로 칩상에 함께 형성됨이 바람직하다. 전류기준 엘리먼트(610)는 기질 연결 패드(pad)(615)를 통하여 바이어스 회로(600)에 연결된 외부의 정밀 저항기인 것이 좋다. 외부의 정밀 저항기(610) 반대 끝단은 집적 회로의 전압 전원장치(VCC)패드(605)에 연결되며, 따라서 정밀 저항기(610)를 통과하는 기준전류 I0는 I0=(VCC-VDD)/Rex인 것으로 계산되고, 이때 Rex는 외부정밀저항(610)의 저항이다.The differential amplifier U 1 , example Q 1, and the
제6도의 개념이 이해되면 다수의 변화가 있을 수 있음을 알 수 있다. 만약 쌍동이 동작소자 Q2가 포화상태에서 동작하고 있다면(제2도) 출력전류 I2의 크기는 Q2의 출력단자 출력전압 VD2에서의 작은 변화에 민감하지 않을 것이다. 본보기 소자 Q1은 그 특성 곡선(제2도)의 상응하는 포화점(같은 일정한 바이어스 전압수준)에서 동작할 것이다. 본보기 소자의 출력전압 VD1과 동작소자의 출력전압 VD2사이의 작은 차이도 각 소자를 통하여 흐르는 정밀출력전류사이의 미소차이를 발생시킬 것이다. 만약 이들 미소차이가 특별한 회로에서 받아들여질 수 있다면 VD1과 VD2가 정확히 매치되도록 할 아무런 필요가 없는 것이다. 본보기 소자의 출력전류 I2는 본보기 소자를 통한 출력전류 I1과 대략 동일하거나 그 일정한 비율로 만들어진다.If the concept of FIG. 6 is understood, it can be seen that there are a number of changes. If the twin-operating element Q 2 is operating in saturation (Figure 2), the magnitude of the output current I 2 will not be sensitive to small changes in the output terminal output voltage V D2 of Q 2 . Example element Q 1 will operate at the corresponding saturation point (same constant bias voltage level) of its characteristic curve (Figure 2). Small difference between the output voltages of the output voltages V D1 and V D2 operating elements of the exemplary device would cause a minute gap between precision output current flowing through the respective elements. If these micro differences are acceptable in a particular circuit, there is no need to ensure that V D1 and V D2 match exactly. The output current I 2 of the example element is made approximately equal to or equal to the output current I 1 through the example element.
제7도는 본보기 n채널 FET Q1과 쌍동이 n채널 FET Q2가 이들 각각 특성곡선의 출력전압에 민감하지 않은 포화 영역에서 또는 이들 영역 가까이에서 동작되는 집적회로 칩(700)을 도시한 것이다. 정확히 알려진 저항 Rex를 갖는 외부전류 기준 엘리먼트(610)는 제1 기질접촉 패드(615)를 통하여 칩(700)의 내부 회로구성 소자에 연결된다. 본보기 소자 Q1을 통한 출력전류 I1은 키르히호프전류법칙에 의해 전류기준(610)을 통과하는 전류 I0와 동일할 것이다. Q1에서의 출력전류 VD1은 정전 입력보호 패드(618)을 통하여 차동증폭기 U1의 제1 입력(620)에 연결된다. 차동 증폭기 U1은 전압 VD1을 감지하여 이를 요구하는 전압 VDD(이 경우에는 1.7V)로 세트된다)와 비교하고 바이어스 전압수준 VB1을 본보기 소자 Q1의 게이트 단자 G1로 출력시키어 Q1의 출력전압 VD1을 요구되는 전압 VDD로 구동시키도록 한다. 집적회로 콘덴서 C1은 불필요한 발진을 막기 위해 Q1의 게이트 G1에 연결된다.FIG. 7 shows an
바이어스 전압수준 VB1은 쌍동 동작소자, Q2의 제2게이트 G2에 또한 연결된다. 쌍동이 소자 Q2는 본보기 소자 Q1에서와 같은 바이어스 곡선 VGS=VB1을 따라 동작할 것이다.The bias voltage level V B1 is also connected to the second gate G 2 of the twin operating element Q 2 . Twin device Q 2 will operate along the same bias curve V GS = V B1 as in example device Q 1 .
일반적으로 능동소자의 출력전류 ID(제2도)는 포화상태 또는 포화에 가까운 상태에서 출력전압 VD에 관계하여 거의 변화하지 않기 때문에 Q2를 통한 출력전류 I2는 특정 허용오차내에서 본보기 소자 Q1을 통하여 흐르는 출력전류 I1과 거의 같거나 일정한 비율의 크기인 것으로 결정가능한 것이다. 본보기 소자 Q1은 도시된 IC(700)에서 104/3의 너비/길이 크기를 갖는다. 쌍동이 n채널 소자 Q2는 16/3의 크기를 갖는다. 따라서 쌍동이 소자 Q2를 통한 전류는 대략 I2=I1/6.5가 될 것이다.In general, since the output current I D of the active element (FIG. 2) hardly changes in relation to the output voltage V D in the saturated state or near the saturation state, the output current I 2 through Q 2 is an example within a specific tolerance. It can be determined that the output current I 1 flowing through the element Q 1 is approximately equal to or constant in magnitude. Example element Q 1 has a width / length size of 104/3 in the illustrated
p채널 FET Q3는 제7도에서 n채널 쌍동이 소자 Q2에 직렬로 연결된다. 비록 Q3가 Q2및 Q1과 유사하지 않다 하더라도 출력전류 I3는 키르히호프 전류법칙에 의해 Q2의 출력전류 I2와 실제 갚아지도록 된다. Q3의 게이트 전압을 게이트 단자 G3를 드레인 단자 D3에 연결하므로써 그 출력전류 I3에 적합하도록 자동조절된다. 동 게이트 전압 VGS는 절반크기의 p채널 소자 Q4의 게이트에 적용된다.The p-channel FET Q 3 is connected in series with the n-channel twin to element Q 2 in FIG. Although Q 3 is not similar to Q 2 and Q 1 , the output current I 3 is actually returned by the Kirchhoff current law with the output current I 2 of Q 2 . The gate voltage of Q 3 is automatically adjusted to suit the output current I 3 by connecting the gate terminal G 3 to the drain terminal D 3 . The gate voltage V GS is applied to the gate of the half-size p-channel device Q 4 .
14=12/2인 Q4를 통하여 흐르는 전류는 차동 증폭기 U701를 통하여 n채널 FET Q5을 출력으로 반영된다. 차동 증폭기 U701가 균형이 맞추어진 때 즉 입력 패드(720)와 정전 보호 패드(718)를 통하여 그 입력(702)중 하나에 연결된 입력전압 Vin이 내부에 제공된 기준전압 VREF=2.5V와 같은 때 p채널 소자 Q4에 의해 공급되는 전류 I4는 U701의 반사영상 대칭절반을 통해 대칭하여 쪼개어진다. 전류 I4의 절반은 U701의 오른쪽에서 n채널 소자(707)을 통하여 흐르며, 다른 절반은 증폭기 U701의 왼쪽에서 제2 의 n채널 소자(705)를 통과하여 흐른다.1 4 = 1 2/2 of the current flowing through Q 4 are reflected in the n-channel FET Q 5 to the output via a differential amplifier U 701. When the differential amplifier U 701 is balanced, that is, the input voltage V in connected to one of its
오른쪽 n채널 소자(707)의 게이트는 그 자신의 드레인에 연결되어 거기에서의 전압 VG5자신이 전류 14/2에 순응되어지도록 된다. 자동조절된 게이트 전압 VG5는 맞은편 왼쪽 n채널 FET(705)의 게이트에 적용된다. n채널 출력 FET Q5의 게이트는 왼쪽 n채널 FET(705)의 드레인에 가로 질러 연결되어 거기에서 반사 게이트 전압 VG5를 발생시키도록 하며 Q5를 통한 출력전류 IADJR가 소자의 기하학적 구조(너비/길이 크기)에 기초하여 결정될 수 있도록 한다. 전류조절 패드(725)는 Q5의 드레인에 연결된다. 패드(725)는 예를들어 출력전류 IADJ와 크기에 따라 입력전압 Vin을 변경시키는 전류/전압 피이드백 시스템(730)에 연결될 수 있다(Vin은 IADJ의 함수 ; Vin=f(IADJ)이다). 이같은 전류/전압 변환 시스템(730)의 한 예가 앞서 설명된 제4도 및 5 도에 도시된 바의 전하가산 콘덴서이다. 패드(720)에서의 입력전압 Vin가 VREF=2.5V 이상으로 상승하는 때 보다 적은 전류가 증폭기 U701의 오른쪽 FET(707)을 통하여 흐를 것이며 ; 보다 많은 전류가 왼쪽 FET(705)내로 반영될 것이다. 결과적으로 오른쪽 n채널 FET(707)의 드레인 전압 VG5는 떨어질 것이다. 왼쪽 FET(705)를 가로지른 반사 전압 VG5는 결과적으로 상승하게 되어 Q5를 통과하는 전류 IADJ에서의 증가를 일으킬 것이다.The gate of the right n-
반대로 Vin이 2.5V이하로 떨어지는 때 Q5를 통과하는 전류 IADJ는 반대의 사건 연속으로 감소할 것이다. Vin=2.5V인때 Q5를 통과하는 출력전류는 VG5'=VG5이고 오른쪽 FET(707)을 통과하는 전류가 출력 FET Q5로 반사되기 때문에 IADJ=(40/10)·(3/16)·14/2이 될 것이다. 이같은 전류는 제4도 및 5도의 C1과 같은 전하축적 콘덴서의 전압을 정확히 조절하도록 사용될 수 있다.Conversely, when V in falls below 2.5 V, the current I ADJ through Q 5 will decrease in the opposite sequence of events. When V in = 2.5 V, the output current through Q 5 is V G5 ' = V G5 and the current through
두 실시예(800)가 제8도에 도시되어 있다. 유사하지 않은 능동소자 Q3는 본보기 소자 Q1의 쌍동이 소자 Q2와 직렬로 놓여진다. 개방된 원은 제3 능동소자 Q3의 게이트 G3에서 한쌍의 다른 두 능동소자 Q1및 Q2가 아님을 표시하는 것으로 되어 있다. Q3가 Q2와 직렬로 연결되어 있기 때문에 Q3의 출력전류 I3는 제2소자 Q2의 출력전류와 동일할 것이다.Two
차동증폭기 U3는 유사하지 않은 소자 Q3의 게이트 G3에 연결되어 요구되는 전압 VDD와 같아지도록 Q2의 출력전압 VD2을 구동하도록 한다. Q2의 출력전압 VD2는 본보기 소자 Q1의 출력전압 VD1과 같은 것으로 알고 있기 때문에 쌍동이 소자 Q2의 출력전류 I2는 Q1및 Q2가 포화상태에 있던지 아니면 출력전류가 출력전압변화에 민감한 불포화 수준에서 동작하고 있던지에 관계없이 Q1출력전류 I1의 일정한 비율크기(I2=W2/L2·L1/W1·I1)가 될 것이다. 유사하지 않은 소자 Q3의 출력전압 VD3는 전압 VCC및 VD2가 알려져 있기 때문에 알려지게 될 것이다. 유사하지 않은 소자 Q3의 게이트 G3에서 발전된 바이어스 전압 VB3는 정확히 Q3의 쌍응 구동시키기 위해 필요한 전압으로 Q3쌍의 각 출력전압이 VD3와 같아지는 때 전류 I3의 일정한 비율크기를 발생시키도록 한다. 요구되는 전압 VDD는 VD2-VD3이도록 정확히 VCC의 절반이도록 만들어지는 것이 좋다.Differential amplifier U 3 is connected to gate G 3 of dissimilar device Q 3 to drive output voltage V D2 of Q 2 to be equal to the required voltage V DD . The output voltage V D2 of the Q 2 is because we know that as an example the device output voltage V D1 of Q 1 is a twin element Q 2 of the output current I 2 or on the Q 1 and Q 2 is saturated or the output current, the output voltage change Irrespective of whether or not it is operating at a desaturation level that is sensitive to Q1, it will be a constant proportional size (I 2 = W 2 / L 2 · L 1 / W 1 · I 1 ) of Q 1 output current I 1 . The dissimilar device Q 3 output voltage V D3 will be known because the voltages V CC and V D2 are known. Developed bias voltage at the gate G 3 of the dissimilar elements Q 3 V B3 is a constant rate the magnitude of the current I 3 when exactly the voltage required for the Q 3 driving ssangeung that each output voltage of Q 3 pair is equal to the V D3 To be generated. It is recommended that the required voltage V DD be made exactly half of V CC such that V D2 -V D3 .
제5도 및 제8도에서, Q3가 한쌍의 p채널 FET(530)이고, Q2가 한쌍의 n채널 FET(540)인 경우 Q3및 Q2의 게이트에서 발전된 각각의 게이트 전압 VB3및 VB1이 제5도에서 VG1=VB3및 VG2=VB1로 세트시키므로써 상보의 FET(530) 및 FET(540)의 게이트를 바이어스 하도록 사용될 수 있음이 분명하다. 그와 같은 경우에, 위상고정(phase-locking) 시스템(500)에서 상보 FET(530 및 540)에 의해 제공되는 싱크 및 소스전류는 Vin=VDD인 때 동일한 것이다. 전하 가산 콘덴서 C1의 출력은 소스전류가 싱크전류와 동일한 것이기 때문에 일단 CLOCK 신호가 DATA 신호와 동위상으로 고정되기만 하면 전압이 Vin=VDD인 것으로 남아 있게 될 것이다.In the fifth degree and 8 degree, Q 3 has a pair of p-channel FET (530) and, Q 2 is a pair of n-channel FET (540) in case Q 3 and each gate voltage developed at the gate of Q 2 V B3 And V B1 can be used to bias the gates of the
제8도만을 다시 보게되면, 두 실시예(800)의 오른쪽 레그 L2는 왼쪽 레그 L1의 상하가 뒤바뀐 것에 불과한 것으로 쌍동이 능동소자 Q2가 전류기준 엘리먼트(610)를 대신하여 대체되었다. Q1및 Q3모두에 유사하지 않은 집적회로 칩에서의 추가 소자를 위한 바이어스 전압을 발생시키기 위해 이같은 배열이 반복될 수 있음은 이해가 될 것이다. 앞서 비록 간단히 언급하기는 하였으나 차동증폭기 U1및 U3는 비교적 높은 입력 임피던스를 갖도록 형성됨으로써 각 레그 L1및 L2에서의 일련의 전류관계 I1=I0및 I3=I2가 증폭기 U1및 U3의 입력 임피던스에 의해 영향을 받지 않도록 되어야 한다.Referring again to FIG. 8, the right leg L 2 of the two
제9도에서, 제2의 쌍동이 소자 Q4는 유사하지 않은 소자 Q3의 출력전류 I3를 증가시키기 위해 Q2와는 병렬로 조절할 수 있도록 연결된다. 이들 스위치가 패쇄된 차동증폭기 U3의 출력 VB3는 증가된 소자전류 I3를 수용하도록 변화된다. 이같은 증가는 제9도에 도시된 회로의 제3 레그 L3내에 반영된다. 새로운 바이어스 신호 VB6는 제3 차동증폭기 U6와 능동소자 Q6로 이루어진 피드백 루우프에 의해 발생된다.In FIG. 9, the second twin device Q 4 is connected so that it can be adjusted in parallel with Q 2 to increase the output current I 3 of the dissimilar device Q 3 . The output V B3 of the differential amplifier U 3 with these switches closed is changed to accommodate the increased device current I 3 . This increase is reflected in the third leg L 3 of the circuit shown in FIG. The new bias signal V B6 is generated by a feedback loop consisting of the third differential amplifier U 6 and the active element Q 6 .
VB6및 VB3는 각각 쌍동이 소자 Q8(n채널) 및 Q7(p채널)의 게이트내로 공급되어 매치된 싱크 및 소스전류 I6및 I5를 발생시키도록 한다. 시스템 이득은 소자 Q7및 Q8의 출력전류를 증가시키기 위해 단순히 이득 스위츠를 작동시키므로서 저이득 모드로부터 고이득 모드로 전환될 수 있다. I5'및 I6'는 이들 어느 모드에서도 정확히 매치된 상태로 남아 있을 것이다.V B6 and V B3 are respectively fed into the gates of devices Q 8 (n-channel) and Q 7 (p-channel) to generate matched sink and source currents I 6 and I 5 . The system gain can be switched from low gain mode to high gain mode by simply operating the gain switch to increase the output current of devices Q 7 and Q 8 . I 5 ' and I 6' will remain exactly matched in either of these modes.
제6, 8도 및 9도에서 차동증폭기 U1, U3및 U6의 목적은 출력전압 VD가 요구되는 전압 VDD와 같아지도록 능동소자의 출력전압 VD를 구동하는 것이다. 제10도는 이같은 목적으로 발명된 특수 증폭기 U*를 도시한 것이다. 이같은 특수 증폭기 U*는 본 명세서에서 자기 반사(Self-feflecting)증폭기로 언급된다. 자기 반사 증폭기 U*상기에서 설명된 바의 정밀 바이어스 회로의 개념을 사용하여 제1 전류 I10가 조절할 수 있도록 통과되는 하나의 전류기준 레그 L10를 포함한다. 즉, 바이어스 전압 VB1이 기준 레그 L10에서 n채널 소자 Q10에 가해져 제1 전류의 크기를 발생시키도록 한다.Sixth, Figure 8 and 9 The purpose of FIG differential amplifier U 1, U 3 and U 6 are in to be equal to the voltage V DD is required, the output voltage V D to drive the output voltage V D of the active device. 10 shows a special amplifier U * invented for this purpose. Such a special amplifier U * is referred to herein as a self-feflecting amplifier. The magnetic reflection amplifier U * includes one current reference leg L 10 which is passed through so that the first current I 10 can be adjusted using the concept of a precision bias circuit as described above. That is, the bias voltage V B1 is applied to the n-channel element Q 10 in the reference leg L 10 to generate the magnitude of the first current.
동 전류 I10는 기준 레그 L10에서의 두 p채널 소자 Q11및 Q12를 통하여 흐른다. Q12게이트는 요구되는 전압 VDD에 연결된다. Q12의 게이트는 Q10의 드레인에 연결되어 전류 I10이 Q12를 통과하도록 하기 위해 필요한 자동조절 게이트 전압 VBP를 발생시키도록 한다. 자동조절 게이트 전압 VBP는 차동증폭기 U*의 두 대칭 레그 L20및 L30에 의해 분배되는 또 다른 p채널 소자 Q22로 가져가진다. 설명을 간단히 하기 위한 목적으로 I10의 두배 크기에 해당하는 전류 I22가 맨 위 소자인 Q22를 통과하도록 Q22가 두배의 크기를 갖는 것이다. 가정한다. 전류 I22는 각각이 I10과 같은 두개의 스트립 I20및 I30로 갈라진다. 이들 두 스트립 I20및 I30은 증폭기 U8의 대칭 레그부 L20, L30를 통과한다. 왼쪽 레그 L20에서의 p채널 FET Q21은 오른쪽 쌍동이소자 Q31의 본보기이며 또한 좌측하단 n채널 FET Q20는 우측 하단 소자 Q30의 본보기인 것으로 대칭이 발생한다. 대칭 레그 L20및 L30(Q20는 두 레그에 의해 공유된다) 각각은 제1레그 L10의 거울상이다. 즉, Q22는 한쌍의 Q12이며, Q11은 한쌍의 Q21및 Q31이고, Q10은 한쌍의 Q20, Q30이다.The copper current I 10 flows through two p-channel elements Q 11 and Q 12 at the reference leg L 10 . The Q 12 gate is connected to the required voltage V DD . The gate of Q 12 is connected to the drain of Q 10 to generate the self-regulating gate voltage V BP required to allow current I 10 to pass through Q 12 . The self-regulating gate voltage V BP is taken to another p-channel device Q 22 which is divided by the two symmetrical legs L 20 and L 30 of the differential amplifier U * . For simplicity, Q 22 is doubled so that current I 22, which is twice the size of I 10 , passes through Q 22 , the top element. Assume The current I 22 is split into two strips I 20 and I 30 , each equal to I 10 . These two strips I 20 and I 30 pass through the symmetrical legs L 20 , L 30 of the amplifier U 8 . The p-channel FET Q 21 in the left leg L 20 is an example of the right dipole element Q 31 and the lower left n-channel FET Q 20 is an example of the lower right element Q 30 . Each of the symmetric legs L 20 and L 30 (Q 20 is shared by both legs) is a mirror image of the first leg L 10 . That is, Q 22 is a pair of Q 12 , Q 11 is a pair of Q 21 and Q 31 , and Q 10 is a pair of Q 20 , Q 30 .
Q21및 Q31의 게이트 전압사이의 불균형은 결국 전류 스트립 I20및 I30의 반 균형조절(counterbalancing adjustment)을 초래할 것이다. 전류 조절 능동소자 Q40은 Q31의 게이트와 Q20의 드레인에 가로질러 연결된다. Q40은 한 쌍의 Q10, Q20및 Q30인 것으로, Q40의 드레인은 Q31의 게이트에서 전압 Vin=f(I40)을 발생시키는 피이드백 시스템(730)을 통하여 Q31에 연결되거나, 도면에서 점선으로 표시된 것과 같이 Q31의 게이트에서의 전압 Vin이 전류제어 소자 Q40의 출력전압 VD40과 같아지게될 Q31의 게이트에서의 전압 Vin=f(I40)을 발생시키는 피이드백 시스템(730)을 통하여 Q31에 연결될 수도 있다. 만약 Q31의 게이트 전압 Vin이 Q21의 게이트 전압이하도록 변화되면 보다 많은 전류가 오른쪽 소자 Q31을 통하여 흐를 것이다.The imbalance between the gate voltages of Q 21 and Q 31 will eventually result in a counterbalancing adjustment of current strips I 20 and I 30 . The current regulating active element Q 40 is connected across the gate of Q 31 and the drain of Q 20 . Q 40 is a pair of Q 10, Q 20 and Q 30 in that, Q 31 through the
상보의 왼쪽 대칭 레그 L20을 통하여는 상응하는 전류흐름 I28의 감소가 발생될 것이다. I30의 오른쪽 전류흐름의 증가는 Q30의 드레인 전압을 상승시킬 것이며 Q20의 드레인 전압 VG40에서는 상응하는 하향이동이 발생될 것이다. VG40의 이같은 하향이동은 Q40의 게이트에 연결되어 결국 Q40에 보다 적은 전류가 흐르도록 할 것이다. Q40의 드레인은 Vin이 VDD에 매치되기 위해 상승하도록(Vin<VDD인 경우) Q3의 게이트에 연결된다. 만약 Vin인 VDD보다 크다면 반대의 경우가 발생할 것이다.Through the left symmetrical leg L 20 of the complement, a corresponding decrease in current flow I 28 will occur. Increasing the current flow to the right of I 30 will raise the drain voltage of Q 30 and a corresponding downshift will occur at the drain voltage V G40 of Q 20 . Such downward movement of the V G40 is coupled to the Q gate 40 will be to the end, less current flows to Q 40. The drain of Q 40 is allowed to increase to be matched to the V in the V DD (V in the case of <V DD) is connected to the gate of Q 3. If V in is greater than V DD , the opposite will occur.
Q40의 드레인이 Q31의 게이트에 직접 연결된 경우에는 전류제어 소자 Q40의 출력전압 VD40이 Q21의 게이트 전압 VDD와 같아지도록 될 것이며, Q40의 게이트 전압 VG40은 U*가 균형된 조건에서 Q30의 게이트 전압 VG30와 같아질 것이다. 오른쪽 대칭 레그 L30가 이같은 조건에서 기준 레그 L10의 거의 거울상이기 때문에 (VG30는 VB1과 거의 동일할 것이다) Q10을 통과하는 전류 I30는 기준 레그 L30을 통과하는 전류 I30와 거의 같아질 것이다. I30는 전류반사(current mirroring) 원리에 의해 Q40로 반영되므로 I40또한 I10과 거의 같아지게 된다.If the drain of Q 40 is directly connected to the gate of Q 31 , the output voltage V D40 of the current control element Q 40 will be equal to the gate voltage V DD of Q 21 , and the gate voltage V G40 of Q 40 is U * balanced. In this condition, it will be equal to the gate voltage V G30 of Q 30 . Right symmetrical legs because L 30 a is substantially a mirror image of the reference leg L 10 in such a condition (V G30 is V B1, and will be substantially the same), the current through Q 10 I 30 is the reference leg a current I 30 flowing through the L 30 and It will be about the same. Since I 30 is reflected as Q 40 by the current mirroring principle, I 40 is also approximately equal to I 10 .
제7도에서는 유사한 원리가 칩 700의 증폭기 U701에서 사용될 수 있음을 알 수 있다. U*는 V701이 Q1을 가로 질러 강제된 1.7V 기준전압으로 동작하는데 반해 요구되는 전압 VDD가 기준레그 L10에서 모사되는 사실에서 V701과는 다르다. U*증폭기(제10도)의 장점은 각 거울상 대칭 레그 L20, L30가 Vin을 VDD로 균형을 이루도록 할 뿐만아니라 레그 L10을 통과하는 정밀전류 I10가 Q40이 Q10, Q20및 Q30와 정확한 거울상 대칭이며 Q22는 Q12와 정확한 거울상 대칭이고 더구나 Q21-Q31이 Q11과 정확한 거울상 대칭을 이루기 때문에 Q40을 통과하여 보다 정확히 재현하도록 하는 것이다. 이는 오른쪽 레그 L30로 I10전류가 보다 정확하게 거울반사(current miroring)되도록 한다. 즉, 제10도의 전류는 Q22가 전류정밀(current precision)을 위해 포화상태일 것에 의존할 필요가 없으며, Q22가 Q12(Q12의 출력전압은 Q22을 가로질러 반사된다)에 정확한 거울상 대칭이어서 VBP가 I22이 I10의 일정한 비율 크기이도록 하는 사실에 의존할 수 있다.In figure 7, it can be seen that a similar principle can be used in the amplifier U 701 of the
VD40이 VDD와 균형을 이루는 때 VD40을 통하여 흐르는 부하전류 ILOAD=I40는 기준전류 I10의 일정한 비율 크기로 될 것이다. 제9도에서 자기반사 증폭기 U*는 증폭기 U3와 U6을 대신하여 대체될 수 있다. 통상의 차동 증폭기는 자기반사(self-reflecting) 증폭기 U*의 제1레그 L10에서 전류 I10을 제어하는 전압 VB1을 발생시키도록 U1을 위해 사용됨이 바람직하다.When V D40 is balanced with V DD , the load current I LOAD = I 40 flowing through V D40 will be a constant proportional to the reference current I 10 . In FIG. 9 the magnetic reflection amplifier U * can be replaced in place of the amplifiers U 3 and U 6 . A conventional differential amplifier is preferably used for U 1 to generate a voltage V B1 that controls the current I 10 in the first leg L 10 of the self-reflecting amplifier U * .
다수의 변화가 상기에서 설명된 바 있으나 본 기술분야에 숙련된 자라면 추가의 다른 실시예가 있을 수 있음을 알 것이다. 따라서, 본 발명의 범위는 상기 설명된 특정 실시예로만 제한되지 않으면 첨부된 청구범위 및 그와 동등한 것으로 한정될 것이다.While many variations have been described above, those skilled in the art will recognize that there may be further alternative embodiments. Accordingly, the scope of the present invention will be limited to the appended claims and equivalents thereof unless limited only to the specific embodiments described above.
Claims (12)
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US93798386A | 1986-12-04 | 1986-12-04 | |
US937983 | 1986-12-04 | ||
US937,983 | 1986-12-04 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR880008410A KR880008410A (en) | 1988-08-31 |
KR900008541B1 true KR900008541B1 (en) | 1990-11-24 |
Family
ID=25470670
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019870011291A KR900008541B1 (en) | 1986-12-04 | 1987-10-06 | Bios circuit for generating precise current in ic circuit |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63156209A (en) |
KR (1) | KR900008541B1 (en) |
DE (1) | DE3738310A1 (en) |
FR (1) | FR2607986A1 (en) |
GB (1) | GB2198562A (en) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2879763B2 (en) * | 1989-06-27 | 1999-04-05 | ソニー株式会社 | PLL charge pump circuit |
US5166641A (en) * | 1992-03-17 | 1992-11-24 | National Semiconductor Corporation | Phase-locked loop with automatic phase offset calibration |
US6107889A (en) * | 1997-11-07 | 2000-08-22 | Analog Devices, Inc. | Phase locked loop charge pump circuit |
US6512404B2 (en) * | 2001-05-25 | 2003-01-28 | Infineon Technologies Ag | Low voltage charge pump for use in a phase locked loop |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL8302458A (en) * | 1983-07-11 | 1985-02-01 | Philips Nv | CURRENT STABILIZATION CIRCUIT. |
US4602207A (en) * | 1984-03-26 | 1986-07-22 | At&T Bell Laboratories | Temperature and power supply stable current source |
US4647841A (en) * | 1985-10-21 | 1987-03-03 | Motorola, Inc. | Low voltage, high precision current source |
US4642551A (en) * | 1985-10-22 | 1987-02-10 | Motorola, Inc. | Current to voltage converter circuit |
-
1987
- 1987-10-06 KR KR1019870011291A patent/KR900008541B1/en not_active IP Right Cessation
- 1987-11-11 DE DE19873738310 patent/DE3738310A1/en not_active Withdrawn
- 1987-11-30 JP JP62303080A patent/JPS63156209A/en active Pending
- 1987-12-03 GB GB08728287A patent/GB2198562A/en active Pending
- 1987-12-04 FR FR8716887A patent/FR2607986A1/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3738310A1 (en) | 1988-06-09 |
JPS63156209A (en) | 1988-06-29 |
GB2198562A (en) | 1988-06-15 |
KR880008410A (en) | 1988-08-31 |
GB8728287D0 (en) | 1988-01-06 |
FR2607986A1 (en) | 1988-06-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |