KR900008074B1 - 초고주파 가열장치 - Google Patents

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KR900008074B1 KR1019870008619A KR870008619A KR900008074B1 KR 900008074 B1 KR900008074 B1 KR 900008074B1 KR 1019870008619 A KR1019870008619 A KR 1019870008619A KR 870008619 A KR870008619 A KR 870008619A KR 900008074 B1 KR900008074 B1 KR 900008074B1
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고지 이와부찌
데쯔오 구보따
유끼오 다나까
마사하루 다와다
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히다찌 네쯔 기구 가부시끼가이샤
오오쯔 마사오
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Abstract

내용 없음.

Description

초고주파 가열장치
제1도는 종래의 파형 밀폐구조의 설명도.
제2도는 본 발명에 따른 고주파 가열장치의 실시예내 도어의 금속부중 주부분만을 도시하는 투시도.
제3도는 상기 도어 주변의 파형 밀폐부의 주부분을 도시하는 횡단면도.
제4도는 파형 밀폐부내 전계 분배 도시도.
제5도는 상기 도어의 파형 밀폐부의 간단한 등가회로 다이어그램.
제6도는 쇼트된 단자를 갖는 병렬 판 라인내 전계 분배 도시도.
제7도는 본 발명의 고주파 가열장치의 개략적 횡단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 가열 챔버 2 : 플랜지
5 : 도어 11 : 연장표면
12 : 공동 공진기 15 : 내부카바
본 발명은 초고주파 오븐(가열장치) 도어 밀폐 장치 개선에 관한 것이다.
일본국 미심사 특허출원 제 25190/1985호는 초고주파 오븐도어의 주변 모서리내에 개구가 형성되는 방식을 발표한다. 상기 개구는 상기 도어의 깊이방향으로 각각 다른 특성 임피던스를 갖는다. 깊이방향의 상기 개구 특성 임피던스는, 상기 대체적인 깊이가 사용되는 파장의 사분의 일보다 작을 지라도 상기 개구입구의 임피던스가 최대가 되도록 불연속으로 된다. 따라서 개구를 비슷하게 막기 위해 상기 파형 누설을 감소시키는 것이 가능하다. 종래 기술의 이 예에서, 그 구성은 상당히 복잡한데 왜냐하면 개구가 그 깊이 방향으로 폭이 다르며 상기 개구 주변벽의 형태가 깊이방향으로 변화되기 때문이다. 또한, 특성 임피던스가 불연속인 위치에서 반사방지를 고려하는 것이 필요하다.
제1도에 도시된 바와같이, 일본국 미심사 실용신안 모델 출원 공개번호 제 795/1986은, 굴곡형태를 갖으며 방사누설을 방지하기 위해 사각형 단면을 갖는 공동 공진기(12)가 도어(5)의 외부주변에 구비되는 구조를 발표한다. 입구(25)는, 장출면(11)의 단부면(이것은 공동 공진기(12)의 주변벽중 하나이다)을 상기 공동공진기(12)의 또다른 벽면(제1벽면(8)에 대향시켜서 형성되는데 그와같이 하여 상기 입구(25)을 제한한다. 종래기술의 이 예에서, 도시된 y-z 평면으로 뿐 아니라 다른 방향으로도 나가는 높은 모드의 파는 상기 공동 공진기(12)로 들어간다. 그러한 경사진 파는 상기 공동 공진기(12)가 경사진 파에 대한 공진상태에 있지 않게 하여 방사 누설 방지 효과를 감소시킨다.
또한, 종래의 예에서, 공동 공진기(12)의 AB부의 규격은 크며, 따라서 상기 공동 공진기는 도어의 비용은 물론 규격 감소에 적합하지 않다.
제1도에, 상술된 일본국 미심사 실용신안 모델 출원공개 제 61-795호의 도면은 동일한 칫수비로 여러부분이 도시되며, 본 발명에서와 같은 구성요소의 명칭 및 참조번호가 사용된다.
상술된 바와같이, 종래의 초고주파 오븐에서, 문제점은 복잡한 모양의 개구를 형성하는 것이 필요하며, 특성 임피던스 불연속부에서 반사방지 장치가 다루기 힘들며, 상기 도어의 규격 감소가 불가능하다는 것이었다.
본 발명에 따라서, 사각 횡 단면을 갖는 방사누설방지 공동 공진기는 도어의 주변에 구비된다. 상기 공동 공진기를 형성하는 네개의 표면중 세개는, 상기 도어의 주변에 세로로 구비된 여러 U자 형태의 전도성 부품으로 형성된다. 네개의 표면중 나머지 하나는, U자 형태의 전도성 부품의 각 절단부에 서로 대향하게 배치되어 누설파를 공동 공진기로 유도하기 위해 입구를 형성한다. 상기 비
Figure kpo00002
/M/G는 1. 5 보다 크거나 같게 선택되는데 여기서
Figure kpo00003
M은 입구와 상기 공동 공진기의 단면부의 중심간의 거리를 나타내며 G는 상기 입구의 규격을 나타낸다.
또한, 유전체 카바 및 특별히 위치에서 상기 유전체 카바로부터 돌출된 소자를 조정하는 복수의 캐패시턴스가 구비된다.
본 발명에 따라서, 사각 횡 단면을 갖는 방사 누설 방지 공동 공진기가 도어의 주변에 구비된다. 상기 공동 공진기의 벽 표면부는 여러 U자 형태의 전도성 부품으로 형성된다. 누설과를 상기 공동 공진기로 유도하는 입구는, U자 형태의 전도성 부품부 및 또 다른 벽 표면부로 형성된다. 상기 비
Figure kpo00004
M/G는 1.5 보다 크거나 같도록 선택되는데 여기서
Figure kpo00005
M은 상기 공동 공진기의 입구와 단면부의 중심간의 거리를 나타내며 G는 상기 입구의 규격을 나타낸다. 또한, 두개의 캐패시턴스 조정소자는 상기 입구의 반대단부에 구비되며, 다른 벽 표면측에 구비된 캐패시턴스 조정소자는 상기 U자 형태의 전도성 부품측에 구비된 다른 캐패시턴스 조정소자보다 커지도록 선택된다.
또한, 각 U자 형태의 전도성 부품의 단부 표면은 제2벽 표면에 접촉하게 배치된다.
상술된 장치에서, 상기 U자 형태의 전도성 부품은, TEM 파로서 누설파를 횡단면이 사각형인 공동 공진기로 유도하도록 작용한다. 상기 공동 공진기는 대강 1회 감은 원통형 코일로서 공동의 단면적에 비례하는 등가 인덕턴스 L과 상기 공동 입구 근처의 왜곡된 전계로부터 상승하는 등가 캐패시턴스 C에 의해 구성되는 병렬 공진 소자를 형성한다. 상기 공동의 입구가 더작게 만들어지므로, C 값은 더 커지고 L 값은 그에 대응해서 더 작아질 수 있다. 말하자면, 상기 공동의 단면적은 작아질 수 있다. 상기 파 밀폐효과는, 상기 공동의 사각단면의 각 측면에 사용된 파장의 1/4 보다 칫수가 작을 때 최대가 된다.
도면을 참고로 하여, 본 발명에 따른 초고주파 가열장치의 실시예의 구조 및 작동이 설명된다.
제7도는 본 발명의 실시예중 초고주파 가열장치(31)의 개략적 횡 단면을 도시한다. 상기 초고주파 가열장치(31)는 외부 케이싱(3)을 갖는데 이 케이싱에는 가열되는 물체를 받아들이기 위한 가열 챔버(1)가 형성된다. 상기 가열 챔버(1)는 벽(1a)에 의해 에워 싸인다. 초고주파 에너지는 초고주파 발생기(마그네트론)(28)내에서 발생된다. 가열 챔버(1)에는 도파관(29)을 통해 상기 발생기(28)내에서 발생된 초고주파 에너지가 공급된다. 턴 테이블(20)은 상기 가열 챔버(1)내에서 회전하도록 설치된다. 가열되는 물체는 턴 테이블(30)상에 놓여져 상기 물체는 균일하게 가열된다. 개폐가 가능한 도어(5)는 경청(32)을 통해서 가열 챔버(1)의 구멍부를 향하도록 구비된다. 상기 도어(5)의 주변부는 상기 벽(1a)의 선단부로부터 연장된 플랜지(2)를 향한다. 상기 플랜지(2)를 접하는 도어(5)의 주변부 구조는 제3도에 더 상세히 도시된다.
제2도에 도시된 바와같이, 가열 챔버벽(1a)의 선단부로부터 연장된 플랜지(2)는 상기 가열 챔버(1)의 구멍부를 에워싸며 상기 외부 케이싱(3)으로 에워싸인다. 작은 개구(4)는, 상기 가열 챔버(1)의 내부를 보여주기 위해 가능한 넓은 지역내 중심부의 도어(5)에 구비된다. 단부(段部)(6)는 작은 개구(4) 구역 주변을 에워싼다. 상기 단부(6)는 작은 개구(4)의 내부표면에 고정된 도어(5)의 광 전송 내부 카바(15)의 단부의 위치를 정하며 세척등과 같은때 벗겨지지 않도록 한다. 그것은 또한 밀폐 표면(7)의 편평도를 개선하는데 상기 밀폐 표면(7)은 도어(5)가 닫힐때 플랜지(2)와 접하게 되는 평면으로 장치된다. 제1벽 표면(8)은 대체로, 밀폐 표면(7) 단부의 플랜지(2)에 수직으로 굴곡된다. 제2벽 표면(9)은 대체로, 제1벽 표면(8)의 단부로 부터 플랜지(2)와 병렬로 연장된다.
U자 형태의 여러 전도성 부품은 제2벽표면(9)에 용접된다. U자 형태의 각 전도성 부품(10)은 세 개의 표면, 즉, 제2벽 표면(9)에 용접된 부착표면(19), 대체로 제1벽 표면(8)에 병렬로 마주보는 수직 표면(23) 및 절단부에서 제1벽 표면(8)의 반대편의 연장표면(11)으로 구성된다. 도어(5)의 주변에서 길이방향 으로(제1도 및 제3도의 X 방향) U자 형태의 각 전도성 부품(10)의 폭은 사용되는 파장의
Figure kpo00006
보다 작게된다. 제1벽 표면(8)으로 에워싸인 사각단면 및 U자 형태의 전도성 부품(10)은 같은 입구(25)를 갖는 공동 공진기(12)를 형성한다. 불투과 유전체 카바(13)는 상기 공동 공진기(12)의 입구(25)를 막는다. 상기 유전체 카바(13)로부터 돌출하는 돌출부(14)는, U자 형태의 하나이상의 전도성 부품(10)의 수직표면(23)에 구비된 부착홀(18)에 의해 지지되게 배치된다. 유전체 물질로 구성된 외부 도어 프레임(24)은 상기 도어(5)의 선표면을 카바하는 도어(5)의 광투과 외부 카바(16)를 유지한다. 외부 도어 프레임(24)으로부터 도출하는 돌출부(17)는 제2벽 표면(9)의 외부 주변단부(20)에 걸기위해 배치된다.
제4도에 더 상세히 도시된 바와같이, 하나 이상의(예시된 실시예중 둘) 캐패시턴스 조정 소자부(26 및 27)는 유전체 카바(13)로부터 상기 공동 공진기(12)로 돌출하여 적어도 그중 하나가 연장된 표면(11)중 절단부 근처에 배치된다. 그결과, U자 형태의 전도성 부품(10)은 외부에 층격이 가해질때 구부러짐이 방지된다(입구(25)가 감소되는 방향으로). 제4도의 유전체 카바(13)는 돌출부(14)가 없는 부분의 절단부를 도시한다.
또한, 연장표면(11)의 근처 및 제1벽 표면(8)의 근처의 유전체 카바(13)로부터 돌출하는 캐패시턴스 조정소자(26 및 27)에서, 제1벽 표면(8)근처의 우측 캐패시턴스 조정소자(27)는 다른 캐패시턴스 조정소자(26)보다 돌출길이가 더 크게 제작된다.
상술된 바와같이 배치된 실시예에서 작동 및 효과는 이제부터 설명된다. 먼저, 열 챔버(1)의 구멍부 및 밀폐표면(7)을 에워싸는 플랜지(2)의 평면접촉부로 들어가는 입사파에 대한 파 밀폐효과는 제5도에 도시된 간단한 등가회로를 참조하여 설명된다. 플랜지(2) 및 밀폐표면(7)사이의 평면 접촉부에 대응하는 캐패시턴스(21)는 일종의 바이패스 캐패시터로서 작용한다. 평면 접속부는 평행 판 라인으로 고려된다. 상기 라인의 캐패시턴스는 평행판 사이의 간격에 반비례하여 상기 캐패시턴스(21)는, 평면 접촉부의 간격이 더 작아질때 파 밀폐효과를 증가시키도록 더 커진다.
U자 형태의 각 전도성 부품(10)의 폭 D(제3도에서 X 방향으로)는 사용되는 파장의
Figure kpo00007
보다 작게 되어, 제1벽 표면(8) 및 U자 형태의 전도성 부품(10)에 의해 규정된 사각단면을 갖는 공동 공진기(12)의 내부로 들어가는 파의 전파방향은 제3도의 y-z 평면내로 제한된다. 상기 연장표면(11)이 구비되지 않으면, 전계는 제6도에 도시된 바와같이 왜곡되는데, 여기서 평행판 라인의 길이
Figure kpo00008
는 임피던스를 최대화하여 파가 누설되지 않도록 방지하기 위해 자유 공간 파장 λ의 약
Figure kpo00009
이 되는 경우에 병렬 공진이 발생된다. 그러나, 상기 길이
Figure kpo00010
는 2450MHz에서 작동하는 초고주파 가열장치에서 30.6mm이다. 따라서, 도어에서 길이
Figure kpo00011
을 갖는 그러한 평행판 라인을 실제로 구비하려고 하면, 상기 도어는 비용도 비쌀뿐 아니라 설계시 두꺼워서 불리하게 된다.
상기 전계는 이 경우에 제4도에 도시된 바와같이 분배되는데 여기에 사각 단면을 갖는 공동 공진기(12)가 구비되며 상기 좁은 입구(25)가 연장 표면(11)을 유사하게 본 발명에 제공하므로 형성된다. 그 경우, 전속라인의 상당부분이 상기 연장표면(11)절단부의 근처와 제1벽 표면(8) 사이에 집중된다. 제5도에서, 상기 공동 공진기(12)는 등가 인덕턴스 L과 등가 캐패시턴스 C로 구성되는 병렬 공진 소자로서 도시된다. 상기 등가 인덕턴스 L은 대강 상기 공동 공진기(12)와 같은 횡단면을 갖는 1회 감긴 원통형 코일로서 기능을 하며 상기 공동 공진기(12)는 코일 상수로서 등가 인덕턴스를 공급한다. 상기 원통 축방향(X 방향)의 단위 길이당 등가 인덕턴스 L의 값은 다음식(1)으로 표시된다. 상기 등가 캐패시턴스 C는 공동 공진기(12) 입구(25)근처의 방해된 전계로부터 발생하며 대강 다음식(2)으로 표시된다.
Figure kpo00012
여기서 AB는 공동(12)의 사각 횡단면 영역을 나타내며, μo는 공동 공진기(12)내 매질의 투자율을 나타내며, e는 2.72,
Figure kpo00013
M은 입구(25)와 공동 공진기(12)의 공동 횡 단면의 면적 중심 0 사이의 거리릍 나타내며, εo는 공동 공진기(12)내 매질의 유전상수를 나타내며, K는 입구(25) 근처의 모양과 관련된 교정용어를 나타내며, G는 입구(25)(입구(25)의 규격) 간격상의 거리를 나타낸다.
공동 공진기(12)의 공진 주파수 fo는 다음식(3)으로 표시된다.
Figure kpo00014
식(2)로부터, 상기 입구(25)의 간격 G가 더 작게 되거나
Figure kpo00015
M/G가 더 커질때 등가 캐패시턴스 C가 더커짐을 알 수 있다. 식(3)으로부터, 등가 캐패시턴스 C가 상수로 고정된 공진 주파수 fo로 더 커질때 등가인덕턴스 L은 더 작아짐을 알 수 있다. 등가 인덕턴스 L을 작게 하기 위해, 상기 공동 공진기(12) 사각 횡단면의 영역 AB는 식(1)에 기초하여 작아 질 수 있다. 즉, 상기 공동 공진기(12)의 규격을 감소시키기 위해, 상기 입구(25)의 간격 G의 규격을 감소하여 등가 캐패시턴스 C를 크게 한다. 상기 공동 영역 AB를 작게하는 것은 등가 인턱턴스 L을 감소시킨다. 따라서, 이 상황에서, 선정된 공진 주파수 fo(초고주파 오븐의 가열 주파수)의 병렬 공진을 발생하여 파가 누설되지 않도록 입구(25)의 임피던스를 최대화한다.
2,450MHz의 가열 주파수 및 500 와트의 초고주파 에너지를 갖는 초고주파 오븐에서, 플랜지(2)와 밀페도면(7) 사이의 간격은 2mm가 되게 선택되었으며, 연장표면(11)과 밀폐표면(7) 사이의 층높이는 3mm가 되게 선택되었으며, U자 형태의 각 전도성 부품의 폭 D는 15mm가 되게 선택되었다. 그 상황애서, 방사누설의 양은 도어의 주변으로부터 5cm가 벗어나게 측정되었다. 그 결과, G=5mm, AB=15.4×15.9mm,
Figure kpo00016
M/G=2.1의 상황에서, 파 누설양은 0.1m W/cm2 보다 크지 않았다. 한편, G=8mm 상황이라면, 다른 상황을 상기 경우와 대체로 같은 정도로 방사누설양을 최소화 하기 위해 AB=20.4×18.4mm 및
Figure kpo00017
M/G=1.75로 고정시키는 것이 필요했다. 따라서, 이 후자의 경우에, 상기 공동 공진기(12)의 사각 횡단면 영역은 커진다. 실험에 의해, 입구(25)의 간격 G가 4에서 8mm의 범위의 값으로 좁히며
Figure kpo00018
M/G를 1.5 이상이 되게 하여, 공동 공진기(12)의 사각 횡단면의 칫수 A 및 B는 사용되는 파장 λ의
Figure kpo00019
인 30.6mm 보다 훨씬 작아질 수 있다.
유전체 카바(13)로부터 돌출된 부분(26 및 27)은 상기 공동 공진기(12)의 등가 캐패시턴스 C를 확실히 조정하여 병렬 공지를 얻기 위해 캐패시턴스 조정소자로서 형성된다. 연장표면(11)의 절단부 근처에 구비되어, 캐패시턴스 조정소자(26 및 27)는, U자 형태의 전도성 부품(10)의 변형을 방지하기 위하여 안정된 파 밀폐 효과가 장시간 유지될 수 있도록 사용된다.
상기 등가 캐패시턴스 C는 병렬 공진을 발생하여 파 밀폐효과를 개선하기 위해 캐패시턴스 조정소자(26 및 27)에 의해 조정될 수 있다. 또한, 제1벽 표면(8)의 부근에 구비된 캐패시턴스 조정소자(27)는, 연장표면(11)의 단부 부근에 구비된 캐패시턴스 조정소자(26)보다 돌출길이가 더 길어지도록 선택된다. 결국, 상기 유전체 카바(13)가 설치될때, 캐패시턴스 조정소자(27)는 먼저 제1벽 표면(8)을 따라 삽입되며 상기 캐패시턴스 조정소자(27)를 위치설정한 후, 상기 캐패시턴스 조정소자(26)는 입구(25)로 들어간다. 따라서, 상기 캐패시턴스 조정소자(26)가 y 방향으로 연장 표면(11)을 눌러서 연장 표면(11)을 변형할 가능성이 없다. 상기 캐패시턴스 조정소자(26)는, 유전체 카바가 고정되는 상황에서 Z 방향으로 외력에 대한 연장표면(11)의 변형을 최소화 시키기 위해 사용된다.
상술한 바와같이, 본 발명에 따라서, U자 형태의 전도성 부품 및 제1벽표면에 의해 에워싸인 사각 횡단면을 갖는 공동 공진기의 입구는 구조상 좁게 제작되는데 이 구조에서 U자 형태의 각 전도성 부품의 연장표면의 전단부 평면 및 제1벽 표면은 서로 반대로 구성된다. 그 칫수는 예를들어
Figure kpo00020
M/G
Figure kpo00021
1.5를 만족시키기 위해 선택된다. 따라서, 공동 공진기의 횡단면 칫수 A 및 B는 사용되는 λ의
Figure kpo00022
보다 작아질 수 있으며, 공동 공진기의 형태는 단순하게 될 수 있으며, 상기 도어는 작고 얇게 될 수 있다. 따라서, 소형이며 조립이 쉬워서 경제적인 면에서 상당히 효과적인 초고주파 가열장치를 구비하는 것이 가능하다.
또한, 병렬 공진은, 하나이상의 캐패시턴스 조정소자를 구비함으로 발생될 수 있다.
또한, 적어도 캐패시턴스 조정소자중 하나가 상기 연장표면의 절단부 근처에 구비되어, U자 형태의 전도성 부품은 외력에 대해 변형되는(Z 방향으로)것이 방지될 수 있으며 파 밀폐 효과의 안정성을 개선한다.
또한, U자 형태의 각 전도성 부품은 그 하나의 단부표면이 제2벽 표면에 접촉하도록 배치된다. 따라서, 상기 조립체는 쉽게 제작된다.

Claims (13)

  1. 초고주파 방사 챔를 에워싸는 벽을 갖으며, 상기 초고주파 챔의 구멍부와 상기 벽으로부터 연장되며 상기 구멍부를 에워싸는 플지부를 개폐하기 위한 도어를 갖는 초고주파 가열장치용 되어 밀페장치에있어서, 상기 도어의 주변에 배치되며, 상기 도어가 닫힐때 상기 플랜지와 판 접촉하는 밀폐 표면을 포함하며, 상기 밀페 표면의 단부로부터 격리된 상기 플랜지에 대체로 수직으로 연장되는 전도성 제1벽 표면을 포함하며, 상기 제1벽 표면에 대체로 수직으로 배치된 전도성 제2벽 표면을 포함하며, 상기 제2벽 표면에 부착된 부착표면을 갖는 U자 형태의 복수의 전도성 부품을 포함하며, 상기 U자 형태의 부품 및 상기 제1벽 표면은 길이가 G인 제1간격을 갖는 대체로 사각 횡 단면의 공진 공동을 형성하며,
    Figure kpo00023
    M/G비는 1.5이상이 되게 선택되며 여기서
    Figure kpo00024
    M은 상기 간격과 상기 공진 공동의 상기 사각 횡 단면의 면적 중심사이의 거리인 것을 특징으로 하는 도어 밀폐장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 U자 형태의 부품은 상기 제2벽 표면에 부착되는 상기 부착표면과, 상기 부착표면으로 부터 대체로 수직으로 연장되는 수직표면과 상기 수직표면으로부터 대체로 수직으로 연장되며 자유단부를 갖는 연장표면을 포함하며, 상기 U자 형태의 부품에는 상기 제2벽 표면에 부착되는 상기 부착표면이 배치되어 상기 수직표면은 상기 제1벽 표면에 대체로 평행하게 연장되며 상기 연장표면의 상기 단부는 상기 제1벽 표면을 향하며 여기서 상기 제1간격은 상기 연장표면의 상기 자유단부와 상기 제1벽 표면 사이에 형성되는 것을 특징으로 하는 도어 밀페장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 U자 형태의 부품폭은, 상기 초고주파 챔버내 초고주파 방사 파장의
    Figure kpo00025
    보다 작은 것을 특징으로 하는 도어 밀폐장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 제1간격을 덮으며 상기 공진 공동을 돌출하는 적어도 하나의 조정소자를 포함하는 유전체 카바를 포함하며, 상기 공진 돌출물중 적어도 하나가 상기 연장표면의 상기 자유단부 근처에 배치되는 것을 특징으로 하는 도어 밀폐장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 캐패시턴스 조정소자중 하나가 상기 제1벽에 인접하여 배치되며 상기 자유단부의 상기 근처에 배치된 상기 공진 돌출부보다 길이가 긴 것을 특징으로 하는 도어 밀폐장치.
  6. 초고주파 가열장치에 있어서, 초고주파 방사 챔버를 포함하며, 상기 초고주파 챔버의 구멍부를 개폐시키기 위한 도어를 포함하며, 상기 도어의 주변 모서리에 배치되며 상기 초고주파 챔버의 상기 구멍부에 인접한 플랜지와 평면 접촉시키기 위해 배치되는 밀폐 표면을 포함하며, 상기 밀폐표면의 단부로부터 상기 플랜지로 대체로 수직으로 연장되는 전도성 제1벽 표면을 포함하며, 상기 제1벽 표면에 대체로 수직으로 배치된 전도성 제2벽 표면을 포함하며, 상기 제2벽 표면으로부터 대체로 수직으로 연장되는 전도성 수직표면을 포함하며, 상기 수직표면으로부터 대체로 수직으로 연장되며 길이가G인 제1간격만큼 상기 제1벽표면으로 부터 벌어진 자유단부를 갖는 전도성 연장표면을 포함하며, 상기 제1 및 제2벽 표면, 상기 수직표면 및 상기 연장표면은 대체로 사각 횡 단면의 공진 공동을 형성하며,
    Figure kpo00026
    M/G 비는 1.5 이상이 되게 선택되며 여기서
    Figure kpo00027
    M은 상기 간격과 상기 공진 공동의 상기 사각 횡 단면의 면적 중심 사이의 거리인 것을 특징으로 하는 초고주파 가열장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 제2벽 표면은 제1평면부와, 병렬배치되며 전기적으로 접속된 평면 표면을 갖는 제2평면부를 포함하며 여기서 상기 제2평면부, 상기 수직표면 및 상기 연장표면에는 적어도 하나의 U자 형태의 전도성 부품이 포함되는 것을 특징으로 하는 초고주파 가열장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 횡단면의 모든 사각칫수는 상기 초고주파 챔버내 초고주파 방사파장의
    Figure kpo00028
    보다 작은 것을 특징으로 하는 초고주파 가열장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 U자 형태의 전도성 부품은 상기 초고주파 챔버내 초고주파 방사 파장의
    Figure kpo00029
    보다 작은 것을 특징으로 하는 초고주파 가열장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 횡단면의 모든 사각칫수가 상기 파장의
    Figure kpo00030
    보다 작은 것을 특징으로 하는 초고주파 가열장치.
  11. 제7항에 있어서, 상기 제1벽 표면과 상기 제1평면부는 필수적인 부품이며 상기 표면 필수부품은 상기 수직 표면에 접촉하며 상기 수직표면을 따라 연장되는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 초고주파 가열장치.
  12. 제6항에 있어서, 상기 제1간격을 덮는 유전체 카바를 포함하며 상기 공진 공동으로 돌출되는 복수의 캐패시턴스 조정소자를 포함하며, 상기 공진 돌출부중 적어도 하나가 상기 연장표면의 상기 자유단부 근처에 배치되는 것을 특징으로 하는 초고주파 가열장치.
  13. 제12항에 있어서, 상기 캐패시턴스 조정소자중 하나가 상기 제1벽에 인접하여 배치되며, 상기 자유단부의 상기 근처에 배치된 상기 공진 돌출부보다 긴 것을 특징으로 하는 초고주파 가열장치.
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