KR900006540A - 저철손 입자 방향성 실리콘강시이트 및 그의 제조방법 - Google Patents

저철손 입자 방향성 실리콘강시이트 및 그의 제조방법 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

저철손 입자 방향성 실리콘강시이트 및 그의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1a도 및 1b도는 본 발명에 따른 자기 특성의 개선을 위한 메카니즘을 각각 나타내는 다이아그램이다.
제2도는 실리콘강시이트에 대한 여러가지 방법에 의한 깊이 방향에 의한 투과력 및 폭방향의 그의 크기를 나타내는 다이아그램이다.
제3a,4a 및 제5a도는 전자빔(EB) 조사트랙을 각각 나타내는 도식적 그림이다.
제3b,4b 및 5b도는 EB의 강도를 각각 나타내는 그림이다.

Claims (8)

  1. 기본 금속내로 밀어넣은 포오스테라이트층의 미세영역이 강시이트의 압연방향에 실질적으로 수직인 방향으로 강시이트의 표면내로 국부적으로 도입되는, 마무리 어니일링 후 포오스테라이트층을 갖춘 저철손 입자방향성 실리콘강시이트.
  2. 기본 금속내로 포오스테라이트층 및 절연층의 미세영역이 강시이트의 압연방향에 실질적으로 수직인 방향으로 강시이트의 표면내로 국부적으로 도입되는, 마무리 어니일링 후 시이트위에 형성된 포오스테라이트층을 갖춘 저철손 입자방향성 실리콘강시이트.
  3. 제1 또는 2항에 있어서, 상기 미세영역이 기본 금속을 통하여 상기 시이트의 뒷표면까지 확장되는 저철손 입자방향성 실리콘강시이트.
  4. 제1 또는 2항에 있어서, 상기 미세영역이 0.005∼0.3mm의 직경, 2∼20mm의 스캐닝 간격에서 0.005∼0.5mm의 스포트 중심간거리를 갖는 스포트형태로 배열되는 저철손 입자 방향성 실리콘강시이트.
  5. 시이트의 압연방향에 실질적으로 수직인 방향으로 마무리 어니일링 후 표면층에 제공되는 입자방향성 실리콘강시이트의 표면에 65∼500kV의 가속전압 및 0.001∼5mA의 가속전류에서 발생된 전자빔을 국부적으로 조사함으로써 상기 표면층의 미세영역이 전자빔이 조사된 위치에서 기본 금속내로 밀어넣어지는 것을 특징으로 하는 저철손 입자 방향성 실리콘강시이트의 제조방법.
  6. 65∼500kV의 가속전압 및 0.001∼5mA의 가속전류에서 발생한 전자빔을 시이트의 압연방향에 실질적으로 수직인 방향으로 마무리 어니일링 후 표면층에 제공되는 입자방향성 실리콘강시이트의 표면에 국부적으로 조사함으로써 상기 표면층의 미세영역이 전자빔이 조사된 위치에서 기본 금속내로 밀어 넣어지고 상기 기본금속이 그 위치에서 상기 시이트의 뒷표면내로 동시에 밀어넣어지는 것을 특징으로 하는 저철손 입자방향성 실리콘강시이트의 제조방법.
  7. 제5 또는 6항에 있어서, 상기 전자빔이 0.005∼0.3mm의 빔직경 및 5∼500㎲ec의 스포트당 조사시간에서 조사되어 상기 미세영역이 0.005∼0.3mm의 직경 및 2∼20mm의 전자빔의 스캐닝 간격에서 0.005∼0.5mm의 스포트 중심간 거리를 갖는 스포트의 형태로 배열되는 방법.
  8. 제5, 6 및 7항중 어느 한항에 있어서, 전자빔의 조사가 전자빔의 스캐닝동안 전자기 렌즈로부터 시이트 표면까지의 거리의 변화에 따라 시이트의 표면에 항상 위치시키기 위하여 촛점 거리를 정정함으로써 시행되는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019890015458A 1988-10-26 1989-10-26 저철손입자방향성실리콘강시이트및그의제조방법 KR0134088B1 (ko)

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