KR900004991Y1 - Equivalent heating apparatus of microwave oven - Google Patents
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Abstract
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Description
제1도는 본 고안에 따른 캐비티의 종단면도.1 is a longitudinal sectional view of a cavity according to the present invention.
제2도는 본 고안에 따른 캐비티의 상부판을 평면도.2 is a plan view of the upper plate of the cavity according to the present invention.
제3도는 본 고안에 따른 캐비티 상부판의 종단면도.Figure 3 is a longitudinal sectional view of the cavity top plate according to the present invention.
제4도는 제3도의 A부 상세도.4 is a detailed view of portion A of FIG.
제5도는 제3도의 B부 상세도.5 is a detailed view of portion B of FIG.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1 : 가열실 2 : 캐비티 상부판1: heating chamber 2: cavity top plate
3 : 도파관 4 : 사각홈3: waveguide 4: square groove
12 : 원형홈12: circular groove
본 고안은 고주파 가열장치에 관한 것으로 특히 캐비티의 상부판을 안정된 수치로 형성하여 안정된 마이크로 웨이브를 가열실로 진행시켜 내부의 음식물을 균일하게 가열하도록 함을 목적으로 하는 고주파 균일 가열장치에 관한 것이다.The present invention relates to a high frequency heating apparatus, and more particularly, to a high frequency uniform heating apparatus for the purpose of forming a top plate of a cavity at a stable value to advance a stable microwave to a heating chamber to uniformly heat food therein.
고주파 가열장치의 구동방식은 음식물을 얹어 놓는 테이블이 회전하는 턴테이블 구동방식과 가열실 상부에서 스터러팬을 송풍턱으로 회전시켜 고주파를 분사시키는 스터러팬 구동방식 및 모터의 구동력으로 로레이팅 회전자가 회전하여 고주파를 분산시키는 로레이팅 구동방식 등이 있다. 그로나 이러한 전자레인지의 구동방법은 진공 내에서의 마이크로웨이브 파장이 λg도파관내에서의 마이크로웨이브 파장이 λg의 개념이 충분히 정립되지 않은 체로 적용되어 마그네트론에서 나온 마이크로웨이브가 도파관을 통하여 가열선 내부로 들어갈 때 안정되지 않아 음식물을 균일하게 가열하지 못하는 결점이 있었다.The driving method of the high frequency heating device is a turntable driving method in which a table on which food is placed is rotated, and a rotating rotor is rotated by a stirrer fan driving method that rotates the stirrer fan with a blowing jaw at the upper part of the heating chamber and injects a high frequency wave and a driving force of the motor. There is a rotational driving method for distributing high frequency. Thereof, or such a driving method of a microwave oven is a microwave wavelength in the vacuum λ g waveguide the microwave wavelength in the applied body, the concept of λ g is not sufficiently established a microwave from the magnetron is heated through the pipe line There was a drawback that it was not stable when entering the interior, and the food could not be heated evenly.
따라서 본 고안은 상기한 결함을 개선시킬 목적으로 진공 내에서의 마이크로웨이브 파장(λg)과 도파관 내에서의 마이크로웨이브 파장(λg)의 개념을 응용하여 캐비티의 상부판을 박스형으로 하고 내부의 스터러팬을 이용하여 피가열물을 균일하게 가열하도록 한 것으로 이를 첨부 도면과 함께 상세히 설명하면 다음과 같다.Therefore, the present invention applies the concept of microwave wavelength (λ g ) in a vacuum and microwave wavelength (λ g ) in a waveguide in order to improve the above-mentioned defect, and the upper plate of the cavity is box-shaped By using a stirrer fan to be heated evenly to be described in detail with the accompanying drawings as follows.
제1도는 본 고안에 따른 캐비티의 종단면도로서 스터러팬 구동방식의 전자레인지에 있어서 스터러팬(5)을 부착하는 가열실(1)의 상부판(2)의 내면이 가열실(1)와 상단 끝에서 튀어나오게 가공형성하고, 마그네트론(6)이 부착되는 도파관(3)의 중간에 원형홈(12)이 튀어나오게 헝성하면서 상부판(2)의 상면에 마그네트론(6)이 부착된 도파관(4)을 부착하되 도파관(3)의 내로 원형홈(19) 튀어나오게 하고, 도파관(3)의 끝이 상부판(2)의 통공(11)과 연결되게 설치하여서 된 것이다.1 is a longitudinal sectional view of a cavity according to the present invention, the inner surface of the upper plate (2) of the heating chamber (1) to which the stirrer fan (5) is attached in the microwave oven of the stirrer fan driving method is the heating chamber (1) and the upper end. Waveguide 4 with a magnetron 6 attached to the upper surface of the upper plate 2 while forming a processing to protrude from the end, and the circular groove 12 protrudes in the middle of the waveguide 3 to which the magnetron 6 is attached. ) Is attached to the circular groove 19 protruding into the waveguide (3), the end of the waveguide (3) is to be installed to be connected to the through hole 11 of the upper plate (2).
상기의 캐비티 상부판(9) 구성을 제2도의 평면도와 제3도의 종단면도로 상세히 설명하면 상부판(9)의 튀어나온 형상은 사각형태로 하여 기계적 가공인 버핑 작업으로 가로의 길이가 l1/5λg이고 세로의 길이가 9/5λg인 제1사각홈(2a)과 가로의 길이가 3/2λg이고 세로의 길이가 7/5λg인 제2 사각홈(2b)을 형성하며, 제1, 제2 사각홈 높이를 1/4λg의 길이로 형성한다.The configuration of the cavity upper plate 9 is described in detail in the plan view of FIG. 2 and the longitudinal cross-sectional view of FIG. 3. The protruding shape of the upper plate 9 is a rectangular shape, and the horizontal length is l1 / 5λ by a buffing operation of mechanical processing. g, forming the vertical in a second rectangular groove (2b) a length of 9 / 5λ g of a first rectangular groove is (2a) and the length of the horizontal 3 / 2λ g and a length of 7 / 5λ g of the vertical of, and the first to form a second rectangular groove height to length of 1 / 4λ g.
여기서 주의해야 할 것은 제1, 제2사각홈(2a)(2b) 가로폭과 세로폭 사이에 가로 2/5λg, 세로 1/5λg의 차이를 유지 해야 한다.An important point to note here must maintain a difference between the first and second rectangular groove (2a) (2b) horizontally between two horizontal width and vertical width / 5λ g, vertically 1 / 5λ g.
그리고 캐비티 상부판(2)의 중앙에 뚫는 통공(11)을 제5도와 같이 직사각형태로 뚫되 가로를 1/8λg의 크기와, 세로를 3/4λg의 크기로 뚫어 형성한다.And it drilled to form the dimensions of the horizontal ttuldoe an aperture 11 drilled in the center of the cavity, a top plate (2) in a rectangular form as the fifth help 1 / 8λ g, a vertical to a size of 3 / 4λ g.
캐비티 상부관(9)의 상부에 부착되는 도파관(3)은 무선 높이를 1/4λg로 하고 폭을 3/4λg로하여 통공(11)의 중심과 마그네트론의 중심거리가 5/2λg의 길이를 갖도록 형성하되, 마그네트론의 중심에서 λg거리되는 곳에 도파관(3) 내부로 돌출되는 지름 1/3λg와 높이 1/12λg크기의 원형홈(12)을 형성하여 상부판(2)에 부착한다.The waveguide 3 attached to the upper part of the cavity upper tube 9 has a radio height of 1 / 4λ g and a width of 3 / 4λ g so that the center distance of the through hole 11 and the center of the magnetron are 5 / 2λ g . but formed to have a length, to form the places where λ g from the center of the magnetron waveguide 3 diameter which projects into the 1 / 3λ g and the height of 1 / 12λ g size of the circular groove 12 in the top plate (2) Attach.
도파관(3)을 부착한 상태에서 마그네트론(6)과 제1 사각홈(2a)의 거리는 3/2λg를 유지해야만 안정된 마이크로웨이브를 가열실(1)로 진입시켜 피가열물을 균일하게 가열시키도록 구성된 것이다.The distance between the magnetron 6 and the first square groove 2a in the state where the waveguide 3 is attached should be maintained at 3 / 2λ g so that the stable microwaves enter the heating chamber 1 to uniformly heat the heated object. It is configured to.
이러한 구성으로 이루어진 본 고안의 작용효과를 설명하면 제3도의 마그네트론(9)에서 발진파 마이크로웨이브는 이상적인 치수로 이루어진 도파관(3)을 통해 안정된 마이크로웨이브를 헝성하여 진행되며 캐비티 상부판(2)의 중앙부에 뚫린 사각홈(11)을 통해 유입된 마이크로웨이브는 스터러팬(5)에 의해 가열실(1) 내부로 진입되어 피가열물을 균일하게 가열시키는 것으로 이때이라는 관계식이 성립된다.Referring to the effect of the present invention made of this configuration, the oscillating wave microwave in the magnetron (9) of Figure 3 proceeds by forming a stable microwave through the waveguide (3) of the ideal dimensions and the cavity top plate (2) The microwaves introduced through the square grooves 11 drilled in the center portion enter the heating chamber 1 by the stirrer fan 5 to uniformly heat the heated object. Relation is established.
이상에서와 같이 본 고안의 균일 가열장치는 가열실 상부의 캐비티 상부판과 그 위에 장착되는 도파관을 이상적으로 형성함으로서 얻어지는 안정된 마이크로웨이브에 의해 가열실 내부의 피가열물을 스터러팬의 회전으로 균일하게 가열시킬 수 있는 구동상의 효과가 있다.As described above, the uniform heating device of the present invention uniformly heats the heated object inside the heating chamber by the rotation of the stirrer pan by a stable microwave obtained by ideally forming the cavity top plate and the waveguide mounted thereon. There is an effect on driving that can be heated.
이러한 구동상의 효과에 의해 전자레인지의 가열 기능 향상은 물론 제품의 신뢰도도 향상시킬 수 있는 것이다.Such driving effects can improve not only the heating function of the microwave oven but also the reliability of the product.
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR2019870012842U KR900004991Y1 (en) | 1987-07-31 | 1987-07-31 | Equivalent heating apparatus of microwave oven |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR2019870012842U KR900004991Y1 (en) | 1987-07-31 | 1987-07-31 | Equivalent heating apparatus of microwave oven |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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KR890004048U KR890004048U (en) | 1989-04-14 |
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Family Applications (1)
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KR2019870012842U KR900004991Y1 (en) | 1987-07-31 | 1987-07-31 | Equivalent heating apparatus of microwave oven |
Country Status (1)
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KR (1) | KR900004991Y1 (en) |
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1987
- 1987-07-31 KR KR2019870012842U patent/KR900004991Y1/en not_active IP Right Cessation
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KR890004048U (en) | 1989-04-14 |
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