KR890004258B1 - 수직자기기록 매체 및 그 제조방법 - Google Patents
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 17
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 claims 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 abstract description 5
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 abstract description 5
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 abstract description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 abstract description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 abstract description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910002514 Co–Co Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 abstract 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 abstract 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 48
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 39
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 6
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 6
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- PETRWTHZSKVLRE-UHFFFAOYSA-N 2-Methoxy-4-methylphenol Chemical class COC1=CC(C)=CC=C1O PETRWTHZSKVLRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 3
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010040844 Skin exfoliation Diseases 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N fluoromethane Chemical compound FC NBVXSUQYWXRMNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/739—Magnetic recording media substrates
- G11B5/73923—Organic polymer substrates
- G11B5/73937—Substrates having an organic polymer comprising a ring structure
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- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
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Abstract
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Description
제 1 도는 본 발명의 수직자기기록 매체 필름의 잔존 용매량과 주행회수의 관계를 나타낸 그래프.
제 2 도는 수직자기기록 매체의 단면도.
제 3 도는 가열시간과 Co-Cr막의 상대부착강도 유지율의 관계를 나타낸 그래프이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 기판 2 : 자성층
3 : 보호막 4 : 윤활층
본 발명은 고분자 필름기판상에 강자성합금층이 형성되어 이루어진 수직자기기록 매체 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다.
최근, 자기기록매체 표면의 수직잔류 자화를 이용하여 고밀도기록을 행하는 수직자기기록방식이 많이 연구되고 있는바, 상기 수직자기기록을 위한 수직자기기록매체의 대표적인 것으로는, 박막면에 수직방향으로 자화가 용이한 축을 갖는 Co-Cr계 합금층을 스퍼터링방법으로 형성시켜 자성층으로 사용하는 방법이 잘 알려져 있다.
수직자기기록 매체의 일예를 제 2 도에 의거하여 상세히 설명하면, 수직자기기록 매체는 폴리이미드(polyimide), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 방향족 폴리아미드등과 같은 내열성 고분자필름으로 구성된 기판(1)상에 적어도 1면에 Co-Cr계 합금층으로 구성된 자성층(2)이 형성되고, 상기 자성층(2)상에 보호막(3)과 윤활층(4)이 차례로 형성된 구조로 되어 있으며, 이러한 수직기록매체는 자기테이프와 플로피디스크에 응용되어지고 있다.
상기 구조에서 자성층으로 사용되는 Co-Cr합금층은 아르곤 분위기 내에서 통상의 스퍼터링법 또는 마그네트론 스퍼트링법으로 형성되고, 상기 스퍼터링법에 의해 형성된 Co-Cr계 합금층은 C축에 배향된 기둥형태로 구성된다. 그러므로 Co-Cr계 합금층에 수직인 자기이방성에너지(KU)가 커지게 되고, 박막면에 수직인 보자력(Hc) 또한 커지게 되는 자기특성을 갖게 되어 고밀도 기록이 가능하게 된다.
그런데 상기한 제조방법에 따라 희망하는 자기특성을 갖는 Co-Cr계 합금층으로 형성하고자 할 경우에는 기판인 고분자 필름을 진공중에서 80~200℃로 가열할 필요가 있기때문에 내열성이 강한 폴리이미드나 방향족 폴리아미드필름 계통이 폴리에스테르 필름보다 박막 형성상에 취급이 용이하고 올리고머의 표면석출등의 문제점도 발생되지 않으므로 널리 사용되고 있다.
그러나 폴리이미드 필름이나 방향족 폴리아미드 필름과 같이 유연법(流涎法)으로 박막을 형성하여야 하는 필름에 있어서는, 즉 가열처리에 의해 용매를 제거하여야 하는 공정이 필요한 필름에 있어서는 용매가 잔존하게 되는 문제점이 있었다.
그러므로 내열성이 우수한 폴리이미드 필름이나 방향족 폴리아미드 필름을 기판으로 이용하여 진공중에서 가열하여 강자성 합금층을 형성시킬 경우, 상기 필름내에 잔존하는 용매가 기판표면으로 확산되어 강자성 합금층의 부착강도를 저하시키게 되는 문제점이 발생되었다. 즉 상기부착강도의 저하는 자기헤드에 의한 동일 트랙상에서의 주행시험시 강자성합금층의 기판으로부터 막리되기 쉬운 현상이 수반될 수 있기 때문에 수직자기기록 매체의 수명과 신뢰성이란 관점에서 치명적인 문제점이 되게 된다.
상기 유기용매의 구체적인 예로서는 N,N'-디메틸아세트아미드, 디메틸슬폭사이드, 헥샤메틸포스포르아미드, N-메틸,-2-필로리이드, 테라메틸요소, 테라메틸페렌셀폰, 페놀, 모노헬로겐화페놀, 모노헬로겐화크레오솔, 크레오솔, 크실렌등이 사용되고 있다.
상기한 바와같은 문제점은 스퍼터링이나 증착 전공정으로 행해지는 가열 탈가스처리와같은 통상의 기판표면처리로서는 해결하기가 곤란한다.
예를들면 일본특허공개 소 59-129956호에는 광자기기록매체의 아크릴수지기판을 온도 70~85℃에서 진공도 10-4Torr로 하여 1시간 가열처리 함에 따라 아크릴수지기판표면의 탈가스화를 행하고, 기판상에 형성되는 자성층의 자기특성을 향상시킬 수 있는 방법이 게재되어 있다. 그러나 광자기기록매체로서는 헤드가 비접촉 상태로 사용되기 때문에 수직자기기록 매체와 같이 헤드와 접촉상태에서 사용하는 것과는 상이하고, 기판과 자성층과의 부착강도는 문제가 되지 않았다.
이에 비하여 폴리이미드필름과 방향족 폴리아미드 필름등의 박막에 남아있는 용매가 주로 N-N'-디메틸아세트아미드(비점 165℃[760mmhg]63℃[12mmhg]인 경우 100℃에서 진공도 10-4Torr 이상으로 1시간정도 탈가스처리를 행하는 경우에도 필름전체에 남아있는 용매량은 거의 변하지 않게 되므로 강자성 합금층의 부착강도도 개선되지 않고, 필름내의 잔존용매에 의해 자기헤드 주행경과에 따르는 기판필름과 자성층 사이의 원형부분이 박리되는 횟수도 줄어들 않게된다.그 까닭은 잔존용매와 폴리머 분자가 상호작용하고 있을뿐만 아니라 용매가 필름에서 증발되기 어렵기 때문이다. 실제로도 상기 용매의 경우 대기중에서의 열천평장치 평가결과로는 260℃이상이 아니면 시료필름의 중량변화가 나타나지 않았다.
또, 표면뿐만 아니라 필름전체의 잔존용매량의 감소는 상기 자기헤드 주행에 의한 원형부분, 막리에 추가하여, 강자성합금층이나 보호막형성시의 온도상승에 따르는 잔존용매가 필름내부로부터 필름과 강자성합금층과의 경계면에서의 열확산에 의해 부착강도의 저하등에 기인한다.
본 발명은 상기한 문제점을 개선하기 위해 발명된 것으로, 수명이 길고 신뢰성이 높은 수직자기기록매체를 얻을 수 있는 수직자기기록 매체와 그 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
본 발명은 수직자기기록매체의 제조방법중 고분자 필름기판중에 잔존하는 용매량을 0.7중량% 이하가 되도록 기판을 가열하는 공정과, 상기 공정후 기판상에 강자성합금층이 형성되게 하는 공정으로 되어있다.
이하 본 발명의 제조공정에 대하여 상세히 설명한다.
우선 잔존용매량이 다른 폴리이미드 필름의 기판상에 강자성 합금층으로 Co-Cr막을 아르곤분위기내 중에서 스퍼터링법으로 5000Å 두께로 형성하고, 상기 Co-Cr막 기판의 부착강도를 측정한다.
상기 필름내에 잔존용매량의 측정방법으로서는 가스색충분석법과 용매추축법 및 열천평법등이 있으나, 가장 일반적으로 사용되는 열천평법에 의해 잔존용매분의 증발에 따르는 중량변화방법으로 측정하였다. 여기에서 잔존용매량이란 고분자필름 기판의 총량에 대한 기판중에 잔존하고 있는 용매의 량을 말하는데, 이는 열천평장치에서 온도 상승속도 10℃/분의 조건으로 기판을 가열하여 분재온도전의 중량변화가 없어진 시점의 중량을 잔존용매량 0으로 산출하였다.
이 경우 Co-Cr막의 형성이 조건을 일정하게 하고, 폴리이미드필름은 두께나 표면성등이 동일한 것을 이용하여 잔존용매량만을 변화시킨것을 사용했다. 상기 조건에 의해 제작된 수직자기기록매체에 대해서는 우선 Co-Cr막과 폴리이미드필름 사이의 부착강도를 다음과 같은 방법으로 측정하였다. 즉 격자형태로 절단면을 넣은 Co-Cr막에 부착력이 6kg/㎠의 부착테이프를 Co-Cr막의 표면에 균일하게 부착하고, 일정속도, 일정방향으로 박리하여 폴리이미드필름상에 남아있는 Co-Cr막의 면적량을 구함으로서 상대부착 강도를 측정하였다.
그런결과 잔존용매량 0.7wt% 이하인 폴리이미드필름에서는 Co-Cr막의 박리가 발생되지 않았으며, 1.0중량% 이상인 폴리이미드 필름에서는 30~80%정도의 막리가 발생되었다. 상기 결과로서 Co-Cr막의 상대부착강도가 남아있는 용매량 0.7중량%을 초가하면 현저하게 저하된다는 것을 알 수 있었다.
다음에 Co-Cr막과 폴리이미드 필름과의 부착강도와 관련이 있다고 생각되는 내구성 수명의 변화를 조사하였는데, 이 평가로 Co-Cr막상에 Al2O2보호막을 200Å 정도형성시킨 다음 플로루카본을 윤활층으로 도포한 수직자기기록매체를 자기헤드로 이용하여 동일트랙위를 주행시켜 수평을 다할때 까지의 주행횟수를 측정함으로서 조사하였다. 제 1 도는 폴리이미드필름의 잔존용매량과 주행횟수의 결과 얻어진 곡선(11)을 나타낸 것인데, 상기 측정결과는 샘플수를 각각 10개로 했을때의 평균값으로서, 이로부터 상기곡선(11)은 부착강도시험과 잘 대응되고 있음을 알 수가 있다.
이 경우 잔존용매량이 많은 폴리이미드필름상에 형성된 Co-Cr막 쪽이 국부적인 박리가 일어나기 쉽기 때문에 드롭아우드(drop-out)의 증가속도가 매우 빨라지게 되는 경향이 있다.
또한 필름기판의 내부로부터 Co-Cr막과 경계면 용매의 열확산에 의한 부착강도의 저하를 조사하여 결과를 제 3 도에 나타냈는데, 이것은 보호막 형성시의 온도상승에 따르는 용매의 열확산에 의한 필름과 Co-Cr막의 부착강도의 영향을 조사하는데 있어서 중요하다. 또한 기판온도가 높은쪽의 보호막의 성질의 필름과 Co-Cr막의 부착강도의 개선에 바람직하다. 제 3 도는 0.3중량%와 1.26중량%의 잔존용매량의 폴리이미드필름에 Co-Cr막을 형성하여 각 온도에서 어느시간 가열한 두의 상대부착강도 유지율을 나타낸 것이다. 여기서 상대 부착강도의 저하율이란 가열처리하기 전의 상대부착강도를 100%로 했을 경우의 상대부착강도를 나타낸 것이다. 잔존용매량이 0.3중량%인 것은 200℃에서 2시간 가열처리후에도 상대부착강도에 변화는 나타나지 않는다. 그러나 1.26중량%인 것으로는 150℃의 온도에서 50분이상, 175℃에서는 10분이상, 200℃에서는 7분이상으로 상대부착강도의 현저한 저하가 발생되었다. 이것은 필름과 Co-Cr막의 경계면까지 확산되어진 용매가 두꺼운 층을 형성하고, 부착강도를 더욱 낮추게 되는 것으로 생각할 수 있다.
이상과 같은 결과로부터 Co-Cr등의 강자성합금층의 스퍼터링법등으로 고분자필름 기판상에 형성시켜 자기매체를 제조할 경우, 고분자필름기판중의 잔존용매량이 0.7중량% 이하인 것을 이용하는 것이 바람직하고 그렇게 함에 따라 수직자기기록매체의 내구성, 수명을 현저하게 개선시킬 수 있음을 알 수 있다.
또한 이상의 이유에 의해 사용되는 고분자필름기판중 잔존용매량을 0.7중량% 이하로 하여야 한다. 만약 처음부터 잔존용매가 적은 필름의 입수가 어려운 경우에는 대기중 또는 진공중에서의 가열전처리를 하여 0.7중량% 이하로 한 후 강자성합금층을 형성하지 않으면 안된다.
이하 고분자필름기판중의 잔존용매량을 감소시키는 가열처리조건의 예에 대해서 설명하면 가열처리조건의 결정에는 특히 대기중에서 처리할 경우에 열천평장치에 의한 용매증발에 따르는 중량변화측정이 가장좋다. 그러나 잔존하고 있는 용매의 종류에 의해 처리온도를 변화시킬 필요가 있다. 그러므로 처리온도는 열평행 측정결과의 중량변화가 시작되는 온도이상으로 설정하고, 처리시간에 따라서 남아있는 용매량을 조사하여 처리시간을 결정하면 좋다. 한편 진공장치에서 행할 경우 온도는 상기 온도보다 낮아도 괜찮다. 예컨데, N,N'-디메틸아세이트아미드가 주로 폴리이미드내에 잔존할 경우, 열천평의 측정경과에 의하면 매분 150℃의 온도상승속도에서 260℃정도부터 중량변화가 시작되고, 360℃에서 완료된다. 상기 결과를 기초로하여 여러가지 실험을 행하여 처리법을 결정하게 된다.
따라서, 폴리이미드필름을 예로들면, 대기중에서는 260℃이상으로 가열하는 것이 바람직하고, 진공도 10-5Torr에서는 220℃이상으로 가열하는 것이 바람직하다. 또 가열온도의 상승은 고분자 필름의 분해온도에 의해서 제한 받게된다. 일반적으로 고분자필름 기판중에 잔존하는 용매량을 감소시키기 위한 가열처리는 대기중에서 행하는 것이 처리설비를 용이하게 구성할 수 있다.
[실시예 1]
잔존용매량이 1.3중량%이고 두께가 75㎛인 폴리이미드 필름을 대기중에서 온도 320℃로 1시간 가열처리한 결과 남아있는 용매량은 0.3중량%이였다. 제 2 도에 나타낸 바와같이 상기 폴리이미드필름을 기팜(1)으로 하여 기판(1)양면에 자성층(2)으로 Co-Cr금속층을 직류마그네트론 스퍼텅링에 의해 두께 0.5㎛이 되게 성장시킨후, 보호층(3)으로 Al2O3를 스퍼터링에 의해 두께 200Å으로 성장시키고, 윤활층(4)으로 플로루카본을 200Å이하인 두께로 스핀도포하여 수직자기기록매체를 제작하였을 경우, 상기 수직자기기록매체는 수명시험을 행한 결가 1000만펄스이상의 수명특성을 유지하고 있었다.
[실시예 2]
잔존용매량 1.3중량%이고 두께가 75㎛인 폴리이미드 필름을 진공도 10-5Torr, 온도 250℃에서 30분간 가열처리를한 결과 잔유용매량은 상기한 실시예와 마찬가지로 0.3중량% 이였다.
이하 상기한 실시예와 동일한 수직자기기록 매체를 제작하였을 경우 상기 수직자기기록 매체는 1000만 펄스이상의 수명특성을 유지할 수 있었다.
[실시예 3]
잔존용매량이 2중량, 두께 50㎛의 방향족 폴리이미드필름을 대기중에서 온도 300℃로 20분간 가열처리를 실시하여 잔존용매량이 0.5중량%가 되었을때, 이하 상기한 실시예와 동일한 방법으로 수직자기기록매체를 제조하게되면, 상기 수직자기기록매체도 1000만 펄스이상의 수명특성을 유지할 수 있었다.
또한 실시예로는 강자성 합금층이 Co-Cr단막등의 경우에 대해 설명하였으나 이에 한정되는 것이아니며 Co-Cr막 아래에 Fe-Ni합금을 기초로 하는 퍼멀로이등의 연자성층을 적층하는 경우에도 본 발명이 역시 적용될 수 있다. 또한 Co-Cr합금만이 아니라 Co를 기초로하는 다른 강자성 합금층 일예로 Co-Cr Rh, Co-Ru,Co-Co0을 스퍼터링 혹은 증착법에의해 자성층을 형성할 경우에도 본 발명이 적용될 수 있다.
상기한 바와같이 본 발명에 의하면 고분자필름의 잔존용매량을 0.7중량% 이하로 하므로 자성층의 부착강도를 높힘으로 고수명, 고신뢰성의 수직자기기록매체를 제공할 수 있다.
Claims (4)
- 고분자필름상에 강자성합금층이 형성되어진 수직자기기록매체에 있어서, 고분자필름의 기판내에 함유되어 있는 잔존용매량이 0.7중량% 이하인 상기 고분자필름 기판(1)상에 강자성 합금층(2)이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 수직자기기록매체.
- 제 1 항에 있어서, 고분자필름층이 폴리이미드필름으로, 강자성 합금층이 Co-Cr막으로 이루어진것을 특징으로 하는 수직자기기록매체.
- 고분자 필름상에 강자성체가 형성되어 이루어진 수직자기기록매체의 제조방법에 있어서, 잔존요애가 포함된 고분자필름으로 이루어진 기판을 가열하여 상기 기판내에 잔존하는 상기 용매를 0.7중량% 이하로 하는 제 1 공정과, 상기 공정 전후의 기판상에 강자성합금으로 이루어진 자성층을 형성하는 제 2의 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 수직자기기록매체의 제조방법.
- 제 3 항에 있어서, 고분자필름이 폴리이미드필름으로 만들어지고, 제 1 공정은 대기중에서 기판을 260℃이상으로 가열하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 수직자기기록매체의 제조방법.
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59238517A JPS61117726A (ja) | 1984-11-14 | 1984-11-14 | 垂直磁気記録媒体 |
JP238517 | 1984-11-14 | ||
JP59-238517 | 1984-11-14 | ||
JP16117485A JPH0648521B2 (ja) | 1985-07-23 | 1985-07-23 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
JP60-161174 | 1985-07-23 | ||
JP161174 | 1985-07-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR860004392A KR860004392A (ko) | 1986-06-20 |
KR890004258B1 true KR890004258B1 (ko) | 1989-10-28 |
Family
ID=26487405
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019850008243A KR890004258B1 (ko) | 1984-11-14 | 1985-11-05 | 수직자기기록 매체 및 그 제조방법 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4923763A (ko) |
EP (1) | EP0182287B1 (ko) |
KR (1) | KR890004258B1 (ko) |
DE (1) | DE3573852D1 (ko) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2616711B2 (ja) * | 1994-09-14 | 1997-06-04 | 東レ株式会社 | 磁気記録媒体 |
US6088471A (en) * | 1997-05-16 | 2000-07-11 | Authentec, Inc. | Fingerprint sensor including an anisotropic dielectric coating and associated methods |
JP6900844B2 (ja) * | 2017-09-01 | 2021-07-07 | 富士フイルムビジネスイノベーション株式会社 | 無端ベルト、画像形成装置、無端ベルトユニット、及びポリイミド樹脂成形体 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4489124A (en) * | 1981-04-06 | 1984-12-18 | Olympus Optical Co | Process for forming thin film, heat treatment process of thin film sheet, and heat treatment apparatus therefor |
JPS5845623A (ja) * | 1981-09-09 | 1983-03-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 金属溥膜型磁気テープの製造方法 |
JPS5884411A (ja) * | 1981-11-16 | 1983-05-20 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPS5913071A (ja) * | 1982-07-09 | 1984-01-23 | Tokuda Seisakusho Ltd | スパツタリング装置 |
JPS5979507A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-08 | Seiko Epson Corp | 垂直磁気記録媒体 |
JPS5979508A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-08 | Seiko Epson Corp | 垂直磁気記録媒体 |
JPS59127233A (ja) * | 1983-01-12 | 1984-07-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPS59129956A (ja) * | 1983-01-17 | 1984-07-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光磁気記録媒体の製造方法 |
US4575475A (en) * | 1983-07-12 | 1986-03-11 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
US4508782A (en) * | 1983-12-19 | 1985-04-02 | Toray Industries, Inc. | Base film for magnetic recording tape with F-5 values of 9-15 Kg/mm2 |
JPS60242513A (ja) * | 1984-05-16 | 1985-12-02 | Toshiba Corp | 垂直磁気記録媒体 |
US4568598A (en) * | 1984-10-30 | 1986-02-04 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Article with reduced friction polymer sheet support |
-
1985
- 1985-11-05 KR KR1019850008243A patent/KR890004258B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1985-11-14 EP EP19850114473 patent/EP0182287B1/en not_active Expired
- 1985-11-14 DE DE8585114473T patent/DE3573852D1/de not_active Expired
-
1988
- 1988-09-19 US US07/245,945 patent/US4923763A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4923763A (en) | 1990-05-08 |
DE3573852D1 (en) | 1989-11-23 |
EP0182287B1 (en) | 1989-10-18 |
EP0182287A2 (en) | 1986-05-28 |
EP0182287A3 (en) | 1987-10-07 |
KR860004392A (ko) | 1986-06-20 |
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A201 | Request for examination | ||
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