KR890003873A - 경화제 조성물, 이를 함유한 적층 니스 및 이로부터 제조한 적층물 - Google Patents

경화제 조성물, 이를 함유한 적층 니스 및 이로부터 제조한 적층물 Download PDF

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KR890003873A
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리챠드 지. 워터맨
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Abstract

내용 없음

Description

경화제 조성물, 이를 함유한적층 니스 및 이로부터 제조한 적층물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. (1)분자당 2개의 페놀성 히드록실 그룹을 갖는 적어도 하나의 할로겐 치환된 유기 화합물과 (2)분자당 평균 2개 이상의 페놀성 히드록실 그룹을 갖는 적어도 하나의 화합물질의 혼합물로 이루어지며, 성분(1)및 (2)에 함유된 방향족 히드록실 그룹의 20내지 80%는 성분(1)로 부터 충당하고 성분(1) 및 (2)에 함유된 방향족 히드록실 그룹의 80 내지 20%는 성분(1)로부터 충당하는 에폭시수지용 경화제 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 성분(1)이 브롬 치환된 비스페놀이고, 성분(2) 는 페놀-포름알데히드 노볼락 수지인 경화제 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 성분(1)이 테트라브로모비스페놀 A인 경화제 조성물.
  4. (A)2가 페놀의 디글리시딜 에테르인 적어도 하나의 에폭시 수지. (B)제1항의 에폭시 수지 경화제 조성물 및 (C)인접한 에폭시그룹을 페놀성 히드록실 그룹과 반응시키기에 적합한 촉매량의 촉매로 이루어지며 성분(A)및 (B)가 에폭시그룹당 페놀성 히드록실 그룹의 비율이 0.8:1내지 1.1:1이 되는 양으로 존재하는 적층 니스 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 성분(A)가 다음 일반식(Ⅶ)또는 (Ⅷ)의 화합물 또는 이의 혼합물인 적층 니스 조성물.
    상기식에서, A는 각각 탄소수 1내지 12의 2가 하이드로카빌그룹, -O-,-S-,-S-S-,-SO-,-SO2-,또는 -CO-이고;R은 각각 수소 또는 탄소수 1내지 4의 하이드로카빌 그룹이고 : X는 각각 수소, 할로겐 또는 탄소수 1내지 10의 하이드로카빌 그룹이고: n은 0또는 1의 값을 가지며; m은 0내지 5의 값을 가진다.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서, (i)성분(A)가 비스페놀 A의 디글리시딜 이테르이고 ; (ii)성분(B-1)이 브롬 치환된 비스페놀이고 ; (iii)성분(B-2)가 페놀-포름알데히드 노볼락 수지이고 ; (iv)성분(C)가이미다졸이고 ; (V)성분(D)는, 존재할 경우에, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 톨루엔, 크실렌, 디메틸로픔아미드, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르 또는 이의 혼합물인 적층 니스 조성물.
  7. 제6항에 있어서, (i)성분(B-1)이 브롬 원자가 방향족 히드록실 그룹에 대하여 오르토 또는 메타 위치에 존재하는 테트라 브로모비스페놀 A이고;(ii)성분(C)가 2-메틸이미다졸인 적층 니스 조성물.
  8. 제4항, 제5항 또는 제6항의 적층 니스로 함침된 기질 물질을 포함하는 제품.
  9. 2개 이상의 제8항의 제품을 층을 포함하는 적층물.
  10. 적어도 하나의 전기 전도 물질의 외층과 함께 2개 이상의 제 8항의 제품의 층을 포함하는 적층물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019880010128A 1987-08-10 1988-08-09 경화제 조성물, 이를 함유한 적층 니스 및 이로부터 제조한 적층물 KR910008333B1 (ko)

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