Claims (16)
오물 제거를 촉진하기 위해서 및/또는 실질적으로 또는 완전히 불용성인 오염을 제거하기 위해서 표면 미세구조 및 오염 지역에 부착된 미분산 잔류 공기가 최소한 실질적으로 제거되도록 철저하게, 청정할 표면을 계면 활성제－함유 액상으로써 적어도 최종 초음파 처리 단계전에 습윤시킴을 특징으로 하는 수성 계면 활성제－함유 습윤 배쓰에서 초음파로써 처리함에 의한 경질 물질 표면의 청정 방법.Surfactant-containing surfaces to be cleaned thoroughly to at least substantially remove the surface microstructure and undispersed residual air attached to the contaminated area to promote dirt removal and / or to remove substantially or completely insoluble contamination. A method of cleaning a hard material surface by ultrasonication in an aqueous surfactant-containing wet bath characterized by wetting at least prior to the final sonication step as a liquid phase.
제 1 항에 있어서, 미분산 잔류 공기를 제거하는 습윤 단계를 적어도 부분적으로는 초음파 없이 수행함을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1, wherein the wetting step of removing undispersed residual air is performed at least partially without ultrasonic waves.
제 1 또는 제 2 항에 있어서, 습윤 및 뒤따르는 초음파 처리를, 특히 강고한 오물 유형을 제가하기 위해 1 회 또는 여러번 반복함을 특징으로 하는 벙법.3. Method according to claim 1 or 2, characterized in that the wetting and subsequent sonication is repeated once or several times in order to solve particularly strong soil types.
제 1 내지 3항중 어느 한 항에 있어서, 습윤 및 초음파 처리의 단계들을 같은 조건하에 또는 특별한 공정 목적으로 최적화된 다른 조건하에 수행함을 특징으로 하는 방법.The process according to claim 1, wherein the steps of wetting and sonication are carried out under the same conditions or under other conditions which are optimized for a particular process purpose.
제 1 내지 4 항중 어느 한 항에 있어서, 수성 계면 활성제－함유 용액을 또한 습윤 단계을 위해 사용함을 특징으로 하는 방법.5. Process according to any one of the preceding claims, characterized in that an aqueous surfactant-containing solution is also used for the wetting step.
제 1 내지 5 항중 어느 한 항에 있어서, 습윤 및 미분산 잔류 공기의 제거를 촉진하기 위해서 습윤 단계를 승온된 온도에서 최소한 수행함을 특징으로 하는 방법.The process according to claim 1, wherein the wetting step is carried out at least at elevated temperatures to promote the removal of wet and undispersed residual air.
제 1 내지 6항중 어느 한 항에 있어서, 습윤 단계시에 90℃까지, 바람직하게는 약 30∼70℃의 온도를 적용함을 특징으로 하는 방법.The process according to claim 1, wherein a temperature of up to 90 ° C., preferably about 30 to 70 ° C., is applied during the wetting step.
제 1 내지 7항중 어느 한 항에 있어서, 습윤 단계가 청정 배쓰에 관하여 액상에서 계면 활성제의 농도를 증가시켜 수행함을 특징으로 하는 방법.8. Process according to any of the preceding claims, characterized in that the wetting step is carried out by increasing the concentration of the surfactant in the liquid phase with respect to the clean bath.
제 1 내지 8항중 어느 한 항에 있어서, 층류 및/또는 바람직하게는 와류를 습윤 단계동안 습윤 액체막에 발생시킴을 특징으로 하는 방법.9. A method according to any one of the preceding claims, characterized in that laminar and / or preferably vortices occur in the wet liquid film during the wetting step.
제 1 내지 9항중 어느 한 항에 있어서, 산성, 중성 또는 알칼리성 처리 배쓰로써, 그리고 금속 표면을 청정하기 위해서는 약산성 내지 중성 처리 배쓰로써 수행함을 특징으로 하는 방법.10. Process according to any one of the preceding claims, characterized in that it is carried out with an acidic, neutral or alkaline treatment bath and with a weakly acidic to neutral treatment bath to clean the metal surface.
제 1 내지 10항중 어느 한 항에 있어서, 최소한 습윤 단계는 습윤 단계의 조건하에 바람직하게는 물에 용이하게 용해되는 양이온성, 비이온성 및/또는 양성 계면 활성제를 함유하는 약산성 내지 중성수성 배쓰에서 수행하고, 수용액의 습윤 효과는 특별하게는 금속의 청정 및/또는 직물의 세척에 공지되어 있는 계면 활성제 및/ 또는 청정 증강제를 공동 사용하거나, 및/또는 용해성 염들, 특히 상응하는 중성 염들을 공동 사용함을 특징으로 하는 방법.The process according to claim 1, wherein at least the wetting step is carried out in a weakly acidic to neutral aqueous bath containing cationic, nonionic and / or amphoteric surfactants which are readily soluble in water under the conditions of the wetting step. In addition, the wetting effect of the aqueous solution may be particularly co-use of surfactants and / or cleansing enhancers known for the cleaning of metals and / or washing of fabrics, and / or the use of soluble salts, in particular corresponding neutral salts. How to feature.
제 1 내지 11항중 어느 한 항에 있어서, 배쓰를 약 0.5g/1∼101g/1 바람직한 계면 활성제 함량(활성물질)에 대해서 약 3∼7의 pH 값으로 조절함을 특징으로 하는 방법.12. The process according to any one of claims 1 to 11, characterized in that the bath is adjusted to a pH value of about 3-7 with respect to the preferred surfactant content (active material).
제 1 내지 12항중 어느 한 항에 있어서, 초음파 처리 단계들을은 지속시간이 각각 약 10분까지, 바람직하게는 약 0.2∼5분이며, 필요한 경우 다른 초음파 청정 단계전에 초음파 없이 또다른 습윤 단계를 수행함을 특징으로 하는 방법.13. The ultrasonic treatment steps according to any one of claims 1 to 12, wherein the sonication steps each have a duration of up to about 10 minutes, preferably about 0.2 to 5 minutes, and, if necessary, perform another wetting step without ultrasound before other ultrasonic cleaning steps. Characterized by the above.
제 1 내지 13항중 어느 한 항에 있어서, 약 100KHz까지, 바람직하게는 20∼60KHz 의 초음파 주파수에서 수행함을 특징으로 하는 방법.14. A method according to any one of the preceding claims, characterized in that it is carried out at an ultrasonic frequency of up to about 100 KHz, preferably of 20 to 60 KHz.
특별하게는 부식 방지층을 갖는 연속된 자동이송 피복을 위한 양이온성 및/또는 비이온성 계면 활성제를 첨가한 약산성 내지 중성의 배쓰에서 초음파 청정에 의하여 불용성 잔류물, 특히 탄소 증착물을 제거하기 위한 제 1 내지 14항중 어느 한 항에 따른 방법의 용도.Specifically for the removal of insoluble residues, in particular carbon deposits, by ultrasonic cleaning in weakly acidic to neutral baths with cationic and / or nonionic surfactants for continuous autotransport coatings with corrosion protection layers. Use of the method according to any of claims 14 to 14.
제 15항에 있어서, 양이온성 계면 활성제 및 원하는 경우 비이온성 계면 활성제를 첨가한 약한 유기산,특히 시트르산 유형의 수용액으로써 표면을 습윤시킨 다음 같은 배쓰에서, 원하는 경우에는 심지어 계면 활성제가 실질적으로 제거된 배쓰에서 초음파 처리를 이행시킴을 특징으로 하는 용도.The bath according to claim 15, wherein the surface is wetted with an aqueous solution of weak organic acid, in particular citric acid type, with the addition of a cationic surfactant and, if desired, a nonionic surfactant, and then in the same bath, even if the bath is substantially free of surfactant. Using ultrasonic waves at
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.