KR850006927A - 4-아미노-테트라히드로-2-나프토산 유도체의 제조방법 - Google Patents

4-아미노-테트라히드로-2-나프토산 유도체의 제조방법 Download PDF

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KR850006927A
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데쓰야 다하라 (외 2)
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오꾸다 미쯔오
요시도 미세이아꾸 가부시끼 가이샤
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내용 없음

Description

4-아미노-테트라히드로-2-나프토산 유도체의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (16)

  1. (1) 다음식(Ⅱ)의 옥십 화학물을 환원 하거나, 또는 (2) 다음식(Ⅲ)의 화합물을 암모니아 반응 시키거나 또는 (3) 다음식(Ⅳ)의 화합물을 루카르트(Reukart) 반응시키거나, 또는 (4) R2가 수소인 다음식(Ⅰ)의 화합물과 반응성 저급 알카논산 유도테와 반은 시키거나, 또는 (5) R2가 수소인 다음식(Ⅰ)의 화합물과 시안화 칼륨 또는 시안화 나트륨과 반응 시키거나, 또는 (6) 다음식(Ⅰ)의 화합물을 저급 알코올로 에스테르 화시키거나, 또는 (7) R1이 히드록시기 또는 저급 알콕시인 다음식(Ⅰ)의 화합물과 암모니아를 반응시키거나, 또는 (8) R2가 저급 알카노일기인 다음식(Ⅰ)의 화합물을 가수분해 하거나, 또는 (9) R1이 저급 알콕시 또는 아미노기인 아음식(Ⅰ)의 화합물을 가수 분해 하거나, 또는 (10) 다음식(Ⅴ)의 화합물을 가수 분해함을 특징으로 하는 다음식(Ⅰ)의 4-아미노-1,2,3,4-테트라히드로-2-나프토산 유도체및 그 염의 제조방법.
  2. (Ⅰ)
  3. 상기식에서, X는 할로겐원자이고, n은 1또는 2이고, R1은 히드록시기, 저급 알콕시기 또는 아미노기이고, R2수소원자, 저급 알카노일기 또는 카르바모일기 이다.
  4. (Ⅱ)
  5. 상기식에서 X,n및 R1은 상기에 정의한 것과 같다.
  6. (Ⅲ)
  7. 상기식에서, X,n및 R1은 상기에 정의한 것과 같고, Y는 반응성 잔류기이다.
  8. (Ⅳ)
  9. 상기식에서, X,n및 R1은 상기에 정의한 것과 같다.
  10. 상기식에서, X및 n은 상기에 정의한 것과 같다.
  11. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019840001118A 1984-03-06 1984-03-06 4-아미노-테트라히드로-2-나프토산 유도체의 제조방법 KR850006927A (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101641836B1 (ko) 2015-06-25 2016-07-22 (주)유경 세균방지를 위한 복수형 우유냉각장치

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