KR20240105255A - Optical laminate and image display device - Google Patents

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KR20240105255A
KR20240105255A KR1020230187068A KR20230187068A KR20240105255A KR 20240105255 A KR20240105255 A KR 20240105255A KR 1020230187068 A KR1020230187068 A KR 1020230187068A KR 20230187068 A KR20230187068 A KR 20230187068A KR 20240105255 A KR20240105255 A KR 20240105255A
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polarizer
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KR1020230187068A
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하루미 하야카와
히사토 야노
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수미토모 케미칼 컴퍼니 리미티드
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Abstract

(과제) 편광자와 위상자를 포함하는 광학 적층체로서, 고온하에 놓여졌을 때의 면내 위상차값의 변화량에 대한 면내 불균일이 억제된 광학 적층체 및 상기 광학 적층체를 포함하는 화상 표시 장치를 제공한다.
(해결 수단) 제1 보호층, 편광자, 제2 보호층 및 위상자를 이 순으로 구비하는 광학 적층체로서, 편광자는, 이색성 색소가 흡착 배향되어 있는 두께 15㎛ 이하의 폴리비닐알코올계 수지 필름이며, 제2 보호층의 온도 85℃에서의 인장 탄성률을 E2[㎫], 두께를 T2[㎛]로 할 때, 식(ⅰ): E2 × T2 ≤ 16000을 충족시키는 광학 적층체, 및 상기 광학 적층체를 포함하는 화상 표시 장치가 제공된다.(Project) An optical laminate including a polarizer and a retardator, wherein in-plane non-uniformity in the amount of change in the in-plane retardation value when placed under high temperature is suppressed, and an image display device including the optical laminate.
(Solution) An optical laminate comprising a first protective layer, a polarizer, a second protective layer, and a retardator in this order, wherein the polarizer is a polyvinyl alcohol-based resin film with a thickness of 15 μm or less in which a dichroic dye is adsorbed and oriented. When the tensile modulus of elasticity of the second protective layer at a temperature of 85°C is E2 [MPa] and the thickness is T2 [㎛], the optical laminate satisfies the equation (i): E2 × T2 ≤ 16000, and the optical An image display device including a laminate is provided.

Description

광학 적층체 및 화상 표시 장치{OPTICAL LAMINATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE}Optical laminate and image display device {OPTICAL LAMINATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE}

본 발명은, 광학 적층체 및 상기 광학 적층체를 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical laminate and an image display device including the optical laminate.

유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치에서는, 외광의 반사에 의한 시인성(視認性)의 저하를 억제하기 위해, 원 편광판을 이용하여 반사 방지 성능을 향상시키는 것이 알려져 있다(예를 들면 특허문헌 1). 원 편광판은, 편광자와 위상자를 포함하는 광학 적층체이다.In image display devices such as organic EL displays, it is known to use circular polarizers to improve anti-reflection performance in order to suppress deterioration of visibility due to reflection of external light (e.g., patent document 1). . A circular polarizer is an optical laminate containing a polarizer and a phase element.

일본 특허공개 2021-121862호 공보Japanese Patent Publication No. 2021-121862

종래의 광학 적층체는, 고온하에 놓여졌을 때의 면내 위상차값의 변화량에 관하여 면내 불균일이 크다는 과제가 있었다. 본 발명의 목적은, 편광자와 위상자를 포함하는 광학 적층체로서, 상기 면내 불균일이 억제된 광학 적층체, 및 상기 광학 적층체를 포함하는 화상 표시 장치를 제공하는 것에 있다.Conventional optical laminates have the problem of large in-plane non-uniformity in terms of the amount of change in the in-plane retardation value when placed under high temperature. An object of the present invention is to provide an optical laminate including a polarizer and a phase element, wherein the in-plane unevenness is suppressed, and an image display device including the optical laminate.

본 발명은, 이하를 제공한다.The present invention provides the following.

[1] 제1 보호층, 편광자, 제2 보호층 및 위상자를 이 순으로 구비하는 광학 적층체로서,[1] An optical laminate including a first protective layer, a polarizer, a second protective layer, and a phase element in this order,

상기 편광자는, 이색성 색소가 흡착 배향되어 있는 두께 15㎛ 이하의 폴리비닐알코올계 수지 필름이며,The polarizer is a polyvinyl alcohol-based resin film with a thickness of 15 μm or less in which a dichroic dye is adsorbed and oriented,

상기 제2 보호층의 온도 85℃에서의 인장 탄성률을 E2[㎫], 두께를 T2[㎛]로 할 때, 하기 식(ⅰ):When the tensile elastic modulus of the second protective layer at a temperature of 85°C is E2 [MPa] and the thickness is T2 [μm], the following equation (i):

E2 × T2 ≤ 16000 (i)E2 × T2 ≤ 16000 (i)

을 충족시키는, 광학 적층체.An optical laminate that satisfies the above.

[2] E2 × T2의 값은 1850 이하인, [1]에 기재된 광학 적층체.[2] The optical laminate according to [1], wherein the value of E2 x T2 is 1850 or less.

[3] 상기 위상자는 위상차막을 포함하는, [1] 또는 [2]에 기재된 광학 적층체.[3] The optical laminate according to [1] or [2], wherein the phase element includes a phase contrast film.

[4] 하기 식(ii):[4] Equation (ii) below:

T2 ≤ 7 (ii)T2≤7 (ii)

을 더 충족시키는, [1] 내지 [3] 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.The optical laminate according to any one of [1] to [3], which further satisfies the above.

[5] 상기 제2 보호층의 투습도는 1700g／㎡／24hr 이하인, [1] 내지 [4] 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[5] The optical laminate according to any one of [1] to [4], wherein the second protective layer has a moisture permeability of 1700 g/m2/24hr or less.

[6] 상기 제2 보호층은 환상(環狀) 폴리올레핀계 수지로 이루어지는, [1] 내지 [5] 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[6] The optical laminate according to any one of [1] to [5], wherein the second protective layer is made of a cyclic polyolefin resin.

[7] 상기 제2 보호층은, 파장 550㎚에서의 면내 위상차값이 10㎚ 이하인, [1] 내지 [6] 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[7] The optical laminate according to any one of [1] to [6], wherein the second protective layer has an in-plane retardation value of 10 nm or less at a wavelength of 550 nm.

[8] 상기 편광자와 상기 제2 보호층 사이에 점접착제층을 포함하는, [1] 내지 [7] 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[8] The optical laminate according to any one of [1] to [7], comprising an adhesive layer between the polarizer and the second protective layer.

[9] 상기 편광자는, 붕소 함유량이 0.5질량％ 이상 5.5질량％ 이하인, [1] 내지 [8] 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[9] The optical laminate according to any one of [1] to [8], wherein the polarizer has a boron content of 0.5 mass% or more and 5.5 mass% or less.

[10] 상기 제1 보호층의 온도 85℃에서의 인장 탄성률을 E1[㎫], 두께를 T1[㎛]로 할 때, 하기 식(ⅲ):[10] When the tensile elastic modulus of the first protective layer at a temperature of 85°C is E1 [MPa] and the thickness is T1 [μm], the following formula (iii):

17000 ≤ E1 × T1 ≤ 40000 (ⅲ)17000 ≤ E1 × T1 ≤ 40000 (iii)

을 충족시키는, [1] 내지 [9] 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.The optical laminate according to any one of [1] to [9], which satisfies the above.

[11] 상기 위상자에서의 상기 제2 보호층 측과는 반대 측에 적층되는 점착제층을 더 구비하는, [1] 내지 [10] 중 어느 것에 기재된 광학 적층체.[11] The optical laminate according to any one of [1] to [10], further comprising an adhesive layer laminated on a side of the phase element opposite to the side of the second protective layer.

[12] 상기 편광자에서의 상기 위상자 측의 면에 인접하는 층으로부터 상기 점착제층에서의 상기 위상자 측의 면에 인접하는 층까지의 적층체의 온도 23℃에서의 인장 탄성률을 E3[㎫], 두께를 T3[㎛]으로 할 때, 하기 식(ⅳ):[12] The tensile modulus of elasticity at a temperature of 23°C of the laminate from the layer adjacent to the surface on the phaser side of the polarizer to the layer adjacent to the surface on the phaser side of the adhesive layer is E3 [MPa] , when the thickness is T3 [㎛], the following equation (iv):

7000 ≤ E3 × T3 ≤ 22000 (ⅳ)7000 ≤ E3 × T3 ≤ 22000 (iv)

을 충족시키는, [11]에 기재된 광학 적층체.The optical laminate described in [11] that satisfies the above.

[13] [1] 내지 [12] 중 어느 것에 기재된 광학 적층체를 포함하는, 화상 표시 장치.[13] An image display device comprising the optical laminate according to any one of [1] to [12].

편광자와 위상자를 포함하는 광학 적층체로서, 상기 면내 불균일이 억제된 광학 적층체, 및 상기 광학 적층체를 포함하는 화상 표시 장치를 제공할 수 있다. An optical laminate including a polarizer and a retardator, wherein the in-plane non-uniformity is suppressed, and an image display device including the optical laminate can be provided.

도 1은 본 발명에 따른 광학 적층체의 층 구성의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 광학 적층체의 층 구성의 다른 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 3은 적층체 α의 인장 탄성률 E3을 측정하기 위한 측정 시료를 제작하는 방법을 나타내는 개략 상면도이다.1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of an optical laminate according to the present invention.
Figure 2 is a schematic cross-sectional view showing another example of the layer structure of an optical laminate according to the present invention.
Figure 3 is a schematic top view showing a method of producing a measurement sample for measuring the tensile modulus E3 of the laminate α.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 이하의 모든 도면은, 본 발명의 이해를 돕기 위해 나타내는 것이며, 도면에 나타나는 각 구성 요소의 사이즈나 형상은, 실제의 구성 요소의 사이즈나 형상과는 반드시 일치하지 않는다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments. All drawings below are shown to aid understanding of the present invention, and the size and shape of each component shown in the drawings do not necessarily match the size or shape of the actual component.

<광학 적층체><Optical laminate>

(1) 개요(1) Overview

도 1은, 본 발명에 따른 광학 적층체(이하, 단순히 「광학 적층체」라고도 함)의 층 구성의 일례를 나타내는 개략 단면도이다. 도 1에 나타나는 광학 적층체는, 제1 보호층(10), 편광자(5), 제2 보호층(20) 및 위상자(30)를 이 순으로 구비한다. 광학 적층체는, 원 편광판으로서 바람직하게 이용할 수 있다. 용어 「원 편광판」은, 타원 편광판을 포함한다. 광학 적층체는, 유기 일렉트로 루미네선스(유기 EL) 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 있어서의 반사 방지막 등으로서 이용할 수 있다.1 is a schematic cross-sectional view showing an example of the layer structure of an optical laminate (hereinafter simply referred to as “optical laminate”) according to the present invention. The optical laminate shown in FIG. 1 includes a first protective layer 10, a polarizer 5, a second protective layer 20, and a phase element 30 in this order. The optical laminate can be suitably used as a circularly polarizing plate. The term “circularly polarizer” includes an elliptically polarizer. The optical laminate can be used as an antireflection film in an image display device such as an organic electroluminescence (organic EL) display device.

도 1에 나타나는 광학 적층체는, 제1 보호층(10)과 편광자(5) 사이에 제1 점접착제층(41)을 포함한다. 제1 보호층(10)과 제1 점접착제층(41)은 직접 접해 있는 것이 바람직하고, 제1 점접착제층(41)과 편광자(5)는 직접 접해 있는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 광학 적층체는, 제1 점접착제층(41)을 갖고 있지 않아도 되고, 이 경우, 제1 보호층(10)과 편광자(5)는 직접 접해 있다.The optical laminate shown in FIG. 1 includes a first adhesive layer 41 between the first protective layer 10 and the polarizer 5. It is preferable that the first protective layer 10 and the first adhesive layer 41 are in direct contact, and the first adhesive layer 41 and the polarizer 5 are preferably in direct contact. The optical laminate according to the present invention does not need to have the first adhesive layer 41, and in this case, the first protective layer 10 and the polarizer 5 are in direct contact.

도 1에 나타나는 광학 적층체는, 편광자(5)와 제2 보호층(20) 사이에 제2 점접착제층(42)을 포함한다. 편광자(5)와 제2 점접착제층(42)은 직접 접해 있는 것이 바람직하고, 제2 점접착제층(42)과 제2 보호층(20)은 직접 접해 있는 것이 바람직하다. 본 발명에 따른 광학 적층체는, 제2 점접착제층(42)을 갖고 있지 않아도 되고, 이 경우, 편광자(5)와 제2 보호층(20)은 직접 접해 있다.The optical laminate shown in FIG. 1 includes a second adhesive layer 42 between the polarizer 5 and the second protective layer 20. The polarizer 5 and the second adhesive layer 42 are preferably in direct contact, and the second adhesive layer 42 and the second protective layer 20 are preferably in direct contact. The optical laminate according to the present invention does not need to have the second adhesive layer 42, and in this case, the polarizer 5 and the second protective layer 20 are in direct contact.

도 1에 나타나는 광학 적층체는, 제2 보호층(20)과 위상자(30) 사이에 제3 점접착제층(43)을 포함한다. 제2 보호층(20)과 제3 점접착제층(43)은 직접 접해 있는 것이 바람직하고, 제3 점접착제층(43)과 위상자(30)는 직접 접해 있는 것이 바람직하다.The optical laminate shown in FIG. 1 includes a third adhesive layer 43 between the second protective layer 20 and the phase element 30. It is preferable that the second protective layer 20 and the third adhesive layer 43 are in direct contact, and the third adhesive layer 43 and the phase shifter 30 are preferably in direct contact.

도 2는, 본 발명에 따른 광학 적층체의 층 구성의 다른 일례를 나타내는 개략 단면도이다. 도 2에 나타나는 광학 적층체는, 위상자(30)에서의 제2 보호층(20)과는 반대 측에 적층되는 점착제층(50)을 더 구비하는 것 이외에는 도 1에 나타나는 광학 적층체와 같은 층 구성을 갖는다.Figure 2 is a schematic cross-sectional view showing another example of the layer structure of the optical laminate according to the present invention. The optical laminate shown in FIG. 2 is the same as the optical laminate shown in FIG. 1 except that it further includes an adhesive layer 50 laminated on the opposite side of the phase element 30 from the second protective layer 20. It has a layered structure.

본 발명에 따른 광학 적층체에 있어서, 편광자(5)는 이색성 색소가 흡착 배향되어 있는 두께 15㎛ 이하의 폴리비닐알코올계 수지 필름이며, 제2 보호층(20)의 온도 85℃에서의 인장 탄성률을 E2[㎫], 두께를 T2[㎛]로 할 때, 하기 식(ⅰ):In the optical laminate according to the present invention, the polarizer 5 is a polyvinyl alcohol-based resin film with a thickness of 15 μm or less in which the dichroic dye is adsorbed and oriented, and the tension of the second protective layer 20 at a temperature of 85° C. When the elastic modulus is E2 [㎫] and the thickness is T2 [㎛], the following equation (i):

E2 × T2 ≤ 16000 (ⅰ)E2 × T2 ≤ 16000 (i)

을 충족시킨다. 본 발명에 의하면, 고온하에 놓여졌을 때의 면내 위상차값의 변화량에 관하여 면내 불균일(이하, 「위상차 변화량의 면내 불균일」이라고도 함)이 억제된 광학 적층체를 제공할 수 있다. 이는, 열에 의해 편광자가 수축하면 제2 보호층, 나아가서는 위상자(30)에 인장 응력이 걸리는 바, 제2 보호층이 식(ⅰ)을 충족시킴으로써, 상기 인장 응력이 제2 보호층의 단부(端部), 나아가서는 위상자(30)의 단부에 집중하기 어려워지기 때문이라고 생각된다.satisfies. According to the present invention, it is possible to provide an optical laminate in which in-plane non-uniformity (hereinafter also referred to as “in-plane non-uniformity in retardation change amount”) regarding the amount of change in the in-plane retardation value when placed under high temperature is suppressed. This means that when the polarizer shrinks due to heat, tensile stress is applied to the second protective layer and, by extension, to the phase element 30. As the second protective layer satisfies equation (i), the tensile stress is applied to the end of the second protective layer. It is thought that this is because it becomes difficult to concentrate on the end of the phase member 30.

이하, 광학 적층체를 구성하거나 또는 구성할 수 있는 요소에 대해서 상세히 설명한다.Hereinafter, elements that constitute or can constitute an optical laminate will be described in detail.

(2) 편광자(2) Polarizer

편광자(5)는, 무편광의 광을 입사시켰을 때, 흡수축에 직교하는 진동면을 가지는 직선 편광을 투과시키는 성질을 갖는 광학 필름(직선 편광자)이다. 편광자(5)는, 구체적으로는, 이색성 색소가 흡착 배향되어 있는 폴리비닐알코올계 수지 필름(이하, 「PVA계 필름」이라고도 함)이다.The polarizer 5 is an optical film (linear polarizer) that has the property of transmitting linearly polarized light having a vibration plane orthogonal to the absorption axis when unpolarized light is incident thereon. The polarizer 5 is specifically, a polyvinyl alcohol-based resin film (hereinafter also referred to as a “PVA-based film”) in which a dichroic dye is oriented for adsorption.

PVA계 필름을 구성하는 폴리비닐알코올계 수지(이하, 「PVA계 수지」라고도 함)는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 제조할 수 있다. 폴리아세트산비닐계 수지는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외, 아세트산비닐과 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체일 수도 있다. 아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예를 들면, 불포화 카르복시산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 설폰산류, 암모늄기를 갖는 (메타)아크릴아미드류 등을 들 수 있다.The polyvinyl alcohol-based resin (hereinafter also referred to as “PVA-based resin”) constituting the PVA-based film can be manufactured by saponifying polyvinyl acetate-based resin. The polyvinyl acetate-based resin may be a copolymer of vinyl acetate and another monomer copolymerizable with vinyl acetate, in addition to polyvinyl acetate, which is a homopolymer of vinyl acetate. Other monomers that can be copolymerized with vinyl acetate include, for example, unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and (meth)acrylamides having an ammonium group.

또, 본 명세서에서 「(메타)아크릴」이란, 아크릴 또는 메타크릴 중 어느 것이어도 좋은 것을 의미한다. (메타)아크릴레이트 등의 「(메타)」도 마찬가지의 의미이다.In addition, in this specification, “(meth)acrylic” means either acrylic or methacrylic. “(Meta)” such as (meth)acrylate also has the same meaning.

PVA계 수지의 비누화도는, 통상 85 ∼ 100몰％ 정도이며, 바람직하게는 98몰％ 이상이다. PVA계 수지는 변성되어 있어도 되고, 예를 들면, 알데히드류로 변성된 폴리비닐포르말이나 폴리비닐아세탈 등도 사용 가능하다. PVA계 수지의 평균 중합도는, 통상 1000 ∼ 10000 정도이며, 바람직하게는 1500 ∼ 5000 정도이다. PVA계 수지의 평균 중합도는, JIS K 6726(1994)에 준거하여 구할 수 있다. 평균 중합도가 1000 미만에서는 바람직한 편광 성능을 얻는 것이 곤란하며, 10000 초과에서는 필름 가공성이 떨어지는 경우가 있다.The saponification degree of PVA-based resin is usually about 85 to 100 mol%, and is preferably 98 mol% or more. The PVA-based resin may be modified, and for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes can also be used. The average degree of polymerization of PVA-based resin is usually about 1,000 to 10,000, and preferably about 1,500 to 5,000. The average degree of polymerization of PVA-based resin can be determined based on JIS K 6726 (1994). If the average degree of polymerization is less than 1000, it is difficult to obtain desirable polarization performance, and if it exceeds 10000, film processability may be poor.

편광자는, 통상, PVA계 필름을 일축 연신하는 공정, PVA계 필름을 이색성 색소로 염색함으로써 이색성 색소를 흡착시키는 공정, 이색성 색소가 흡착된 PVA계 필름을 붕산 수용액으로 처리하여 가교시키는 공정, 및 붕산 수용액에 의한 가교 처리 후에 수세하는 공정(이하, 붕산 처리라고도 함)을 거쳐, 제조된다.The polarizer usually involves a process of uniaxially stretching a PVA-based film, a process of adsorbing a dichroic dye by dyeing the PVA-based film with a dichroic dye, and a process of crosslinking the PVA-based film with the dichroic dye adsorbed by treating it with an aqueous boric acid solution. , and crosslinking with an aqueous solution of boric acid followed by washing with water (hereinafter also referred to as boric acid treatment).

PVA계 필름의 일축 연신은, 이색성 색소에 의한 염색 전, 염색과 동시, 또는 염색 후에 행할 수 있다. 일축 연신을 염색 후에 행하는 경우, 이 일축 연신은, 붕산 처리 전에 행해도 좋고, 붕산 처리 중에 행해도 좋다. 물론, 여기에 나타낸 복수의 단계에서 일축 연신을 행할 수도 있다. 일축 연신에는, 주속(周速)이 서로 다른 롤간에서 필름 운반 방향으로 일축으로 연신하는 방법이나, 열 롤을 이용하여 필름 운반 방향으로 일축으로 연신하는 방법, 텐터를 사용하여 폭 방향으로 연신하는 방법 등을 채용할 수 있다. 또한 일축 연신은, 대기 중에서 연신을 행하는 건식 연신에 의해 행해도 좋고, 물 등의 용매를 이용하여, PVA계 필름을 팽윤시킨 상태에서 연신을 행하는 습식 연신에 의해 행해도 좋다. 연신 배율은, 통상 3 ∼ 8배 정도이다.Uniaxial stretching of the PVA-based film can be performed before, simultaneously with, or after dyeing with a dichroic dye. When uniaxial stretching is performed after dyeing, this uniaxial stretching may be performed before boric acid treatment or may be performed during boric acid treatment. Of course, uniaxial stretching can also be performed in multiple steps as shown here. Uniaxial stretching includes a method of stretching uniaxially in the film transport direction between rolls with different peripheral speeds, a method of stretching uniaxially in the film transport direction using heat rolls, or a method of stretching in the width direction using a tenter. etc. can be employed. In addition, uniaxial stretching may be performed by dry stretching in which stretching is performed in the air, or may be performed by wet stretching in which stretching is performed in a state in which the PVA-based film is swollen using a solvent such as water. The stretch ratio is usually about 3 to 8 times.

PVA계 필름의 이색성 색소에 의한 염색은, 예를 들면, 이색성 색소를 함유하는 수용액에 PVA계 필름을 침지하는 방법에 의해 행할 수 있다. 이색성 색소로서, 구체적으로는 요오드나 이색성 유기 염료가 이용된다. 또, PVA계 필름은, 염색 처리 전에 물에 침지하여 팽윤시키는 처리를 실시해 두는 것이 바람직하다.Staining of the PVA-based film with a dichroic dye can be performed, for example, by immersing the PVA-based film in an aqueous solution containing the dichroic dye. As a dichroic dye, iodine and a dichroic organic dye are specifically used. In addition, it is preferable to perform a treatment for swelling the PVA-based film by immersing it in water before dyeing treatment.

이색성 색소로서 요오드를 이용하는 경우에는, 통상, 요오드 및 요오드화칼륨을 함유하는 수용액에, PVA계 필름을 침지하여 염색하는 방법이 채용된다. 이 수용액에 있어서의 요오드의 함유량은, 물 100질량부당, 통상 0.01 ∼ 1질량부 정도이며, 요오드화칼륨의 함유량은, 물 100질량부당, 통상 0.5 ∼ 20질량부 정도이다. 염색에 이용하는 수용액의 온도는, 통상 20 ∼ 40℃ 정도이다. 또한, 이 수용액에의 침지 시간(염색 시간)은, 통상 20 ∼ 1,800초간 정도이다.When using iodine as a dichroic dye, a method of dyeing a PVA-based film by immersing it in an aqueous solution containing iodine and potassium iodide is usually adopted. The iodine content in this aqueous solution is usually about 0.01 to 1 part by mass per 100 parts by mass of water, and the content of potassium iodide is usually about 0.5 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of water. The temperature of the aqueous solution used for dyeing is usually about 20 to 40°C. Additionally, the immersion time (dyeing time) in this aqueous solution is usually about 20 to 1,800 seconds.

한편, 이색성 색소로서 이색성 유기 염료를 이용하는 경우에는, 통상, 수용성의 이색성 유기 염료를 포함하는 수용액에, PVA계 필름을 침지하여 염색하는 방법이 채용된다. 이 수용액에 있어서의 이색성 유기 염료의 함유량은, 물 100질량부당, 통상 0.0001 ∼ 10질량부 정도이며, 바람직하게는 0.001 ∼ 1질량부이다. 이 염료 수용액은, 황산나트륨과 같은 무기염을 염색 조제로서 함유하고 있어도 된다. 염색에 이용하는 이색성 유기 염료 수용액의 온도는, 통상 20 ∼ 80℃ 정도이다. 또한, 이 수용액에의 침지 시간(염색 시간)은, 통상 10 ∼ 1,800초간 정도이다.On the other hand, when using a dichroic organic dye as a dichroic dye, a method of dyeing the PVA-based film by immersing it in an aqueous solution containing a water-soluble dichroic organic dye is usually adopted. The content of the dichroic organic dye in this aqueous solution is usually about 0.0001 to 10 parts by mass, and preferably 0.001 to 1 part by mass, per 100 parts by mass of water. This aqueous dye solution may contain an inorganic salt such as sodium sulfate as a dyeing aid. The temperature of the dichroic organic dye aqueous solution used for dyeing is usually about 20 to 80°C. Additionally, the immersion time (dyeing time) in this aqueous solution is usually about 10 to 1,800 seconds.

이색성 색소에 의한 염색 후의 붕산 처리는, 염색된 PVA계 필름을 붕산 함유 수용액에 침지하는 방법에 의해, 행할 수 있다. 붕산 함유 수용액에 있어서의 붕산의 함유량은, 물 100질량부당, 통상 2 ∼ 15질량부 정도이며, 바람직하게는 5 ∼ 12질량부이다. 이색성 색소로서 요오드를 이용하는 경우, 이 붕산 함유 수용액은 요오드화칼륨을 함유하는 것이 바람직하다. 붕산 함유 수용액에 있어서의 요오드화칼륨의 함유량은, 물 100질량부당, 통상 0.1 ∼ 15질량부 정도이며, 바람직하게는 5 ∼ 12질량부이다. 붕산 함유 수용액에의 침지 시간은, 통상 60 ∼ 1,200초간 정도이며, 바람직하게는 150 ∼ 600초간, 더 바람직하게는 200 ∼ 400초간이다. 붕산 함유 수용액의 온도는, 통상 50℃ 이상이며, 바람직하게는 50 ∼ 85℃, 더 바람직하게는 60 ∼ 80℃이다.Boric acid treatment after dyeing with a dichroic dye can be performed by immersing the dyed PVA-based film in an aqueous solution containing boric acid. The content of boric acid in the aqueous solution containing boric acid is usually about 2 to 15 parts by mass, and preferably 5 to 12 parts by mass, per 100 parts by mass of water. When using iodine as a dichroic dye, it is preferable that the boric acid-containing aqueous solution contains potassium iodide. The content of potassium iodide in the boric acid-containing aqueous solution is usually about 0.1 to 15 parts by mass, and preferably 5 to 12 parts by mass, per 100 parts by mass of water. The immersion time in the boric acid-containing aqueous solution is usually about 60 to 1,200 seconds, preferably 150 to 600 seconds, and more preferably 200 to 400 seconds. The temperature of the boric acid-containing aqueous solution is usually 50°C or higher, preferably 50 to 85°C, and more preferably 60 to 80°C.

붕산 처리 후의 PVA계 필름은, 통상, 수세 처리된다. 수세 처리는, 예를 들면, 붕산 처리된 PVA계 필름을 물에 침지하는 방법에 의해, 행할 수 있다. 수세 처리에 있어서의 물의 온도는, 통상 5 ∼ 40℃ 정도이다. 또한 침지 시간은, 통상 1 ∼ 120초간 정도이다.The PVA-based film after boric acid treatment is usually washed with water. The water washing treatment can be performed, for example, by immersing the boric acid-treated PVA-based film in water. The temperature of the water in the water washing process is usually about 5 to 40°C. Additionally, the immersion time is usually about 1 to 120 seconds.

수세 후에는 건조 처리가 실시되어, 편광자가 얻어진다. 건조 처리는, 열풍 건조기나 원적외선 히터를 이용하여 행할 수 있다. 건조 처리의 온도는, 통상 30 ∼ 100℃ 정도이며, 바람직하게는 50 ∼ 80℃이다. 건조 처리의 시간은, 통상 60 ∼ 600초간 정도이며, 바람직하게는 120 ∼ 600초간이다. 건조 처리에 의해, 편광자 중의 수분율은 실용 정도로까지 저감된다. 그 수분율은, 편광자의 총 질량에 대하여 통상 5 ∼ 20질량％ 정도이며, 바람직하게는 8 ∼ 15질량％이다. 수분율이 5질량％ 이상이면, 편광자는 충분한 가요성(可撓性)을 갖기 때문에, 건조 후에 손상되거나, 파단되는 것을 억제할 수 있다. 또한 수분율이 20질량％ 이하이면, 편광자는, 충분한 열안정성을 갖는다.After washing with water, a drying process is performed and a polarizer is obtained. Drying treatment can be performed using a hot air dryer or far-infrared heater. The temperature of the drying treatment is usually about 30 to 100°C, and is preferably 50 to 80°C. The drying treatment time is usually about 60 to 600 seconds, and is preferably 120 to 600 seconds. By drying treatment, the moisture content in the polarizer is reduced to a practical level. The moisture content is usually about 5 to 20 mass% with respect to the total mass of the polarizer, and is preferably 8 to 15 mass%. If the moisture content is 5% by mass or more, the polarizer has sufficient flexibility and can be prevented from being damaged or broken after drying. Moreover, if the moisture content is 20% by mass or less, the polarizer has sufficient thermal stability.

이상과 같이 하여, PVA계 필름에 이색성 색소가 흡착 배향한 편광자를 제조할 수 있다.As described above, a polarizer in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a PVA-based film can be manufactured.

편광자의 시감도 보정 편광도(Py)는, 통상 95％ 이상이며, 바람직하게는 97％ 이상, 보다 바람직하게는 98％ 이상, 더 바람직하게는 98.7％ 이상, 더욱 더 바람직하게는 99.0％ 이상, 특히 바람직하게는 99.4％ 이상이며, 99.9％ 이상이어도 좋다. 편광자의 시감도 보정 편광도(Py)는, 99.99％ 이하여도 좋다. 시감도 보정 편광도(Py)는, 적분구 부착 분광 광도계(JASCO Corporation 제조의 「V7100」)를 이용하여, 얻어진 편광도에 대하여 「JIS Z 8701」의 2도 시야(C 광원)에 의해 시감도 보정을 행함으로써 산출할 수 있다.The visibility correction polarization degree (Py) of the polarizer is usually 95% or more, preferably 97% or more, more preferably 98% or more, further preferably 98.7% or more, even more preferably 99.0% or more, especially Preferably it is 99.4% or more, and may be 99.9% or more. The visibility correction polarization degree (Py) of the polarizer may be 99.99% or less. The visibility correction polarization degree (Py) is calculated using a spectrophotometer with an integrating sphere (“V7100” manufactured by JASCO Corporation), and visibility correction is performed using a 2-degree field of view (C light source) of “JIS Z 8701” for the obtained polarization degree. It can be calculated by doing

편광자의 시감도 보정 편광도(Py)를 높게 하는 것은, 광학 적층체의 반사 방지막으로서의 기능 및 광학 적층체의 내구성을 높이는데 유리하다. 편광자의 시감도 보정 편광도(Py)가 95％ 미만이면, 반사 방지막으로서의 기능을 할 수 없는 경우가 있다.Increasing the visibility correction polarization degree (Py) of the polarizer is advantageous for improving the function as an antireflection film of the optical laminate and the durability of the optical laminate. If the visibility correction polarization degree (Py) of the polarizer is less than 95%, it may not be able to function as an anti-reflection film.

편광자는, 붕소 함유량이 바람직하게는 0.5질량％ 이상이며, 보다 바람직하게는 1.5질량％ 이상이며, 더 바람직하게는 2.5질량％ 이상이며, 특히 바람직하게는 2.7질량％ 이상이다. 붕소 함유량이 0.5질량％ 이상임으로써, 이색성 색소를 안정적으로 보지(保持)할 수 있고, 편광자의 편광도 저하 억제 효과, 나아가서는 광학 적층체의 내구성 향상 효과를 기대할 수 있다. 붕소 함유량이 높을수록, 이색성 색소를 보지하는 능력을 높일 수 있는 경향이 있다. 또한, 편광자의 붕소 함유량은, 바람직하게는 5.5질량％ 이하이며, 보다 바람직하게는 5.0질량％ 이하이며, 더 바람직하게는 4.5질량％ 이하이며, 더욱 더 바람직하게는 4.2질량％ 이하이며, 특히 바람직하게는 4.0질량％ 이하이다. 붕소 함유량이 상기 범위 내이면, 위상차 변화량의 면내 불균일을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 붕소 함유량이 낮을수록, 위상차 변화량의 면내 불균일이 억제되기 쉬운 경향이 있다.The boron content of the polarizer is preferably 0.5 mass% or more, more preferably 1.5 mass% or more, further preferably 2.5 mass% or more, and particularly preferably 2.7 mass% or more. When the boron content is 0.5% by mass or more, the dichroic dye can be stably maintained, and the effect of suppressing a decrease in the polarization degree of the polarizer and, by extension, the effect of improving the durability of the optical laminate can be expected. The higher the boron content, the higher the ability to retain dichroic dyes. Moreover, the boron content of the polarizer is preferably 5.5 mass% or less, more preferably 5.0 mass% or less, further preferably 4.5 mass% or less, even more preferably 4.2 mass% or less, and is particularly preferable. Typically, it is 4.0% by mass or less. If the boron content is within the above range, in-plane non-uniformity in the amount of phase difference change can be suppressed more effectively. The lower the boron content, the easier it is for the in-plane non-uniformity of the phase difference change to be suppressed.

편광자에서의 붕소 함유량은, 예를 들면, 소정 질량의 편광자를 예를 들면, 만니톨 수용액에 용해하고, NaOH 수용액으로 적정함으로써 구할 수 있다. 이러한 편광자의 붕소 함유량의 측정 수단은, [실시예]의 항에서 상세히 기술한다.The boron content in the polarizer can be determined, for example, by dissolving a polarizer of a predetermined mass in, for example, an aqueous mannitol solution and titrating it with an aqueous NaOH solution. The means for measuring the boron content of such a polarizer is described in detail in the [Examples] section.

편광자의 붕소 함유량은, 상기 붕산 처리에 이용하는 붕산 수용액의 붕산 농도를 조정하는 것이나, 상기 세정 공정에서의 붕산 수용액의 씻어냄의 정도 등에 따라 제어할 수 있다.The boron content of the polarizer can be controlled by adjusting the boric acid concentration of the boric acid aqueous solution used in the boric acid treatment, the degree of washing of the boric acid aqueous solution in the washing step, etc.

편광자의 두께는, 15㎛ 이하이며, 바람직하게는 13㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 10㎛ 이하이다. 편광자의 두께가 상기 범위 내이면, 광학 적층체의 박형화에 유리하며, 또한, 위상차 변화량의 면내 불균일을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 편광자의 두께는, 통상 2㎛ 이상이며, 3㎛ 이상인 것이 바람직하고, 예를 들면 5㎛ 이상이어도 좋다.The thickness of the polarizer is 15 μm or less, preferably 13 μm or less, and more preferably 10 μm or less. If the thickness of the polarizer is within the above range, it is advantageous for reducing the thickness of the optical laminated body, and in-plane non-uniformity in the amount of retardation change can be suppressed more effectively. The thickness of the polarizer is usually 2 μm or more, preferably 3 μm or more, and may be, for example, 5 μm or more.

(3) 제1 보호층(3) First protective layer

제1 보호층(10)은, 편광자(5)의 표면을 보호하는 기능을 갖는다. 제1 보호층(10)은, 편광자(5)의 표면에 직접 접하여 적층되어도 좋고, 제1 점접착제층(41)을 개재하여 적층되어도 좋다. 제1 보호층(10)은, 편광자(5)와의 밀착성을 향상시키기 위해, 표면 처리(예를 들면, 코로나 처리 등)가 실시되어 있어도 좋고, 프라이머층(이(易)접착층이라고도 함) 등의 박층이 형성되어 있어도 좋다.The first protective layer 10 has a function of protecting the surface of the polarizer 5. The first protective layer 10 may be laminated in direct contact with the surface of the polarizer 5, or may be laminated through the first adhesive layer 41. The first protective layer 10 may be subjected to surface treatment (e.g., corona treatment, etc.) to improve adhesion to the polarizer 5, and may include a primer layer (also referred to as an easily adhesive layer), etc. A thin layer may be formed.

제1 보호층(10)은, 온도 85℃에서의 인장 탄성률을 E1[㎫], 두께를 T1[μm]로 할 때, 하기 식(ⅲ):The first protective layer 10 has the following formula (iii) when the tensile elastic modulus at a temperature of 85°C is E1 [MPa] and the thickness is T1 [μm]:

17000 ≤ E1 × T1 ≤ 40000 (ⅲ)17000 ≤ E1 × T1 ≤ 40000 (ⅲ)

을 충족시키는 것이 바람직하다.It is desirable to satisfy.

제1 보호층(10)이 식(ⅲ)을 충족시킴으로써, 위상차 변화량의 면내 불균일을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 이는, 열에 의한 편광자의 수축에 기인하는 상기 인장 응력의 위상자(30)의 단부에의 집중이 보다 일어나기 어려워지기 때문이라고 생각된다. 위상차 변화량의 면내 불균일을 억제하는 관점에서, 식(ⅲ)에서의 좌변 E1 × T1의 값은, 보다 바람직하게는 18000 이상, 더 바람직하게는 20000 이상이다. 내구 환경하에서의 편광판 전체의 컬 억제의 관점에서, E1 × T1의 값은, 보다 바람직하게는 35000 이하이며, 더 바람직하게는 30000 이하, 특히 바람직하게는 25000 이하이다.Since the first protective layer 10 satisfies equation (iii), in-plane non-uniformity in the amount of phase difference change can be more effectively suppressed. This is believed to be because it becomes more difficult for the tensile stress due to contraction of the polarizer due to heat to be concentrated at the end of the phase element 30. From the viewpoint of suppressing in-plane non-uniformity of the phase difference change, the value of the left side E1 From the viewpoint of suppressing curl of the entire polarizing plate in a durable environment, the value of E1

제1 보호층의 두께 T1은, 통상 60㎛ 이하, 내구 환경하에서의 편광판 전체의 컬 억제의 관점에서, 바람직하게는 50㎛ 이하, 보다 바람직하게는 40㎛ 이하이며, 바람직하게는 10㎛ 이상, 보다 바람직하게는 15㎛ 이상, 더 바람직하게는 20㎛ 이상이다.The thickness T1 of the first protective layer is usually 60 μm or less, and from the viewpoint of suppressing curl of the entire polarizing plate in a durable environment, is preferably 50 μm or less, more preferably 40 μm or less, and preferably 10 μm or more. Preferably it is 15㎛ or more, more preferably 20㎛ or more.

제1 보호층의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E1은, 통상 2000㎫ 이하, 바람직하게는 1500㎫ 이하, 보다 바람직하게는 1000㎫ 이하이며, 통상 100㎫ 이상이며, 바람직하게는 200㎫ 이상, 보다 바람직하게는 300㎫ 이상이다. 인장 탄성률 E1은, [실시예]의 항의 기재에 따라서 측정할 수 있다.The tensile modulus E1 of the first protective layer at a temperature of 85°C is usually 2000 MPa or less, preferably 1500 MPa or less, more preferably 1000 MPa or less, and usually 100 MPa or more, preferably 200 MPa or more. Preferably it is 300 MPa or more. The tensile elastic modulus E1 can be measured according to the description in the [Examples] section.

제1 보호층으로서는, 예를 들면, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성, 연신성 등이 우수한 수지 필름을 이용할 수 있다. 수지 필름은 열가소성 수지 필름이어도 된다. 이러한 열가소성 수지의 구체예로서는,As the first protective layer, for example, a resin film excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property, isotropy, stretchability, etc. can be used. The resin film may be a thermoplastic resin film. Specific examples of such thermoplastic resins include:

트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스에스테르계 수지; Cellulose ester-based resins such as triacetylcellulose;

폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지; Polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate;

폴리에테르설폰계 수지; polyethersulfone-based resin;

폴리설폰계 수지; polysulfone-based resin;

폴리카보네이트계 수지; polycarbonate-based resin;

나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 폴리아미드계 수지; Polyamide-based resins such as nylon and aromatic polyamide;

폴리이미드계 수지; polyimide resin;

폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 쇄상 폴리올레핀계 수지; Chain polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and ethylene/propylene copolymer;

시클로계 및 노르보르넨 구조를 갖는 환상 폴리올레핀계 수지(노르보르넨계 수지라고도 함); Cyclic polyolefin resins having cyclo-based and norbornene structures (also referred to as norbornene-based resins);

폴리메틸메타크릴레이트 등의 (메타)아크릴계 수지; (meth)acrylic resins such as polymethyl methacrylate;

폴리아릴레이트계 수지; polyarylate-based resin;

폴리스티렌계 수지; polystyrene-based resin;

폴리비닐알코올계 수지,polyvinyl alcohol-based resin,

그리고 이들 혼합물을 들 수 있다.and mixtures of these.

상기 열가소성 수지로 이루어지는 보호 필름은 시장으로부터 입수되어도 된다.The protective film made of the thermoplastic resin may be obtained from the market.

쇄상 폴리올레핀계 수지로서는, 폴리에틸렌 수지(에틸렌의 단독 중합체인 폴리에틸렌 수지나, 에틸렌을 주체로 하는 공중합체), 폴리프로필렌 수지(프로필렌의 단독 중합체인 폴리프로필렌 수지나, 프로필렌을 주체로 하는 공중합체)와 같은 쇄상 올레핀의 단독 중합체 외, 2종 이상의 쇄상 올레핀으로 이루어지는 공중합체를 들 수 있다.Examples of the linear polyolefin-based resin include polyethylene resin (polyethylene resin, which is a homopolymer of ethylene, or copolymer mainly made of ethylene), polypropylene resin (polypropylene resin, which is a homopolymer of propylene, or copolymer mainly made of propylene), and In addition to homopolymers of the same chain olefin, copolymers composed of two or more types of chain olefins can be mentioned.

환상 폴리올레핀계 수지는, 환상 올레핀을 중합 단위로 하여 중합되는 수지의 총칭이며, 예를 들면, 일본 특허공개 평 1-240517호 공보, 일본 특허공개 평 3-14882호 공보, 일본 특허공개 평 3-122137호 공보 등에 기재되어 있는 수지를 들 수 있다. 환상 폴리올레핀계 수지의 구체예를 들면, 환상 올레핀의 개환 (공)중합체, 환상 올레핀의 부가 중합체, 환상 올레핀과 에틸렌, 프로필렌과 같은 쇄상 올레핀과의 공중합체(대표적으로는 랜덤 공중합체), 및 이들을 불포화 카르복시산이나 그 유도체로 변성한 그래프트 중합체, 그리고 그들 수소화물이다. 그 중에서도, 환상 올레핀으로서 노르보르넨이나 다환 노르보르넨계 모노머와 같은 노르보르넨계 모노머를 이용한 노르보르넨계 수지가 바람직하게 이용된다.Cyclic polyolefin-based resin is a general term for resins polymerized using cyclic olefins as polymerization units, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-240517, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-14882, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 3- Resins described in Publication No. 122137 and the like can be mentioned. Specific examples of cyclic polyolefin resins include ring-opening (co)polymers of cyclic olefins, addition polymers of cyclic olefins, copolymers of cyclic olefins and chain olefins such as ethylene and propylene (typically random copolymers), and these. These are graft polymers modified with unsaturated carboxylic acids or their derivatives, and their hydrides. Among them, norbornene-based resins using norbornene-based monomers such as norbornene or polycyclic norbornene-based monomers as cyclic olefins are preferably used.

폴리에스테르계 수지는, 주쇄(主鎖)에 에스테르 결합을 갖는 수지이며, 다가 카르복시산 또는 그 유도체와 다가 알코올과의 중축합체가 일반적이다. 다가 카르복시산 또는 그 유도체로서는 2가의 디카르복시산 또는 그 유도체를 이용할 수 있고, 예를 들면 테레프탈산, 이소프탈산, 디메틸테레프탈레이트, 나프탈렌디카르복시산디메틸 등을 들 수 있다. 다가 알코올로서는 2가의 디올을 이용할 수 있고, 예를 들면 에틸렌글리콜, 프로판디올, 부탄디올, 네오펜틸글리콜, 시클로헥산디메탄올 등을 들 수 있다. 폴리에스테르계 수지의 대표예로서, 테레프탈산과 에틸렌글리콜의 중축합체인 폴리에틸렌테레프탈레이트를 들 수 있다.Polyester resin is a resin having an ester bond in the main chain, and is generally a polycondensate of polyhydric carboxylic acid or its derivative and polyhydric alcohol. As the polyvalent carboxylic acid or its derivative, a divalent dicarboxylic acid or a derivative thereof can be used, and examples include terephthalic acid, isophthalic acid, dimethyl terephthalate, and dimethyl naphthalenedicarboxylate. As the polyhydric alcohol, a dihydric diol can be used, and examples include ethylene glycol, propanediol, butanediol, neopentyl glycol, and cyclohexanedimethanol. Representative examples of polyester resins include polyethylene terephthalate, which is a polycondensate of terephthalic acid and ethylene glycol.

셀룰로오스에스테르계 수지는, 셀룰로오스와 지방산과의 에스테르이다. 셀룰로오스에스테르계 수지의 구체예는, 셀룰로오스트리아세테이트, 셀룰로오스디아세테이트, 셀룰로오스트리프로피오네이트, 셀룰로오스디프로피오네이트를 포함한다. 또한, 이들 셀룰로오스에스테르계 수지를 구성하는 중합 단위를 복수종 갖는 공중합물이나, 수산기의 일부가 다른 치환기로 수식된 것도 들 수 있다. 이들 중에서도, 셀룰로오스트리아세테이트(트리아세틸셀룰로오스)가 특히 바람직하다.Cellulose ester-based resin is an ester of cellulose and a fatty acid. Specific examples of cellulose ester resin include cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose tripropionate, and cellulose dipropionate. Furthermore, copolymers having multiple types of polymerized units constituting these cellulose ester resins and those in which part of the hydroxyl group has been modified with another substituent can also be mentioned. Among these, cellulose triacetate (triacetylcellulose) is particularly preferable.

(메타)아크릴계 수지는, (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 주된 구성 모노머로 하는 수지이다. (메타)아크릴계 수지의 구체예는, 예를 들면, 폴리메타크릴산메틸과 같은 폴리(메타)아크릴산에스테르; 메타크릴산메틸-(메타)아크릴산 공중합체; 메타크릴산메틸-(메타)아크릴산에스테르 공중합체; 메타크릴산메틸-아크릴산에스테르-(메타)아크릴산 공중합체; (메타)아크릴산메틸-스티렌 공중합체(MS 수지 등); 메타크릴산메틸과 지환족 탄화수소기를 갖는 화합물과의 공중합체(예를 들면, 메타크릴산메틸-메타크릴산시클로헥실 공중합체, 메타크릴산메틸-(메타)아크릴산노르보르닐 공중합체 등)를 포함한다. 바람직하게는, 폴리(메타)아크릴산메틸과 같은 폴리(메타)아크릴산 C1-C6 알킬에스테르를 주성분으로 하는 중합체가 이용되고, 보다 바람직하게는, 메타크릴산메틸을 주성분(50 ∼ 100질량％, 바람직하게는 70 ∼ 100질량％)으로 하는 메타크릴산메틸계 수지가 이용된다.(meth)acrylic resin is a resin whose main constituent monomer is a compound having a (meth)acryloyl group. Specific examples of (meth)acrylic resin include poly(meth)acrylic acid esters such as polymethyl methacrylate; Methyl methacrylate-(meth)acrylic acid copolymer; Methyl methacrylate-(meth)acrylic acid ester copolymer; Methyl methacrylate-acrylic acid ester-(meth)acrylic acid copolymer; (meth)methyl acrylate-styrene copolymer (MS resin, etc.); A copolymer of methyl methacrylate and a compound having an alicyclic hydrocarbon group (e.g., methyl methacrylate-cyclohexyl methacrylate copolymer, methyl methacrylate-norbornyl (meth)acrylate copolymer, etc.) Includes. Preferably, a polymer containing poly(meth)acrylic acid C1-C6 alkyl ester, such as poly(meth)acrylate methyl, as the main component is used, and more preferably, methyl methacrylate as the main component (50 to 100% by mass, preferably Specifically, a methyl methacrylate-based resin (70 to 100% by mass) is used.

폴리카보네이트계 수지는, 카르보나토기를 개재하여 모노머 단위가 결합된 중합체로 이루어진다. 폴리카보네이트계 수지는, 폴리머 골격을 수식한 것과 같은 변성 폴리카보네이트라고 불리는 수지나, 공중합 폴리카보네이트 등이어도 된다.Polycarbonate-based resin consists of a polymer in which monomer units are bonded through carbonato groups. The polycarbonate-based resin may be a resin called modified polycarbonate, which has a polymer skeleton modified, or a copolymerized polycarbonate.

제1 보호층은, 상기 열가소성 수지를 포함하는 필름을 연신한 것이어도 된다. 연신 처리로서는, 일축 연신이나 이축 연신 등을 들 수 있다. 연신 방향으로서는, 미연신 필름의 기계 흐름 방향(MD), 이에 직교하는 방향(TD), 기계 흐름 방향(MD)에 사교(斜交)하는 방향 등을 들 수 있다. 이축 연신은, 2개의 연신 방향으로 동시에 연신하는 동시 이축 연신이어도 좋고, 소정 방향으로 연신한 후에 다른 방향으로 연신하는 축차 이축 연신이어도 좋다. 연신 처리는, 예를 들면 출구 측의 주속을 크게 한 2쌍 이상의 니프 롤을 이용하여, 길이 방향(기계 흐름 방향: MD)으로 연신하거나, 미연신 필름의 양측단을 척으로 파지하여 기계 흐름 방향에 직교하는 방향(TD)으로 넓히거나 함으로써 행할 수 있다. 이때, 필름의 두께를 조정하거나, 연신 배율을 조정하거나 함으로써, 위상차값 및 파장 분산값을 제어하는 것이 가능하다. 또한, 수지에 파장 분산 조정제를 첨가하거나 함으로써, 파장 분산값을 제어하는 것이 가능하다.The first protective layer may be a stretched film containing the thermoplastic resin. Stretching treatments include uniaxial stretching and biaxial stretching. Examples of the stretching direction include the machine flow direction (MD) of the unstretched film, a direction perpendicular to it (TD), and a direction perpendicular to the machine flow direction (MD). The biaxial stretching may be simultaneous biaxial stretching in which the material is stretched simultaneously in two stretching directions, or may be sequential biaxial stretching in which the material is stretched in a predetermined direction and then stretched in another direction. The stretching process is, for example, stretching in the longitudinal direction (machine flow direction: MD) using two or more pairs of nip rolls with a large peripheral speed on the outlet side, or holding both ends of the unstretched film with a chuck to stretch it in the machine flow direction. This can be done by expanding in the direction (TD) orthogonal to . At this time, it is possible to control the retardation value and wavelength dispersion value by adjusting the thickness of the film or the stretching ratio. Additionally, it is possible to control the wavelength dispersion value by adding a wavelength dispersion regulator to the resin.

제1 보호층은, 목적에 따라 임의의 적절한 첨가제를 함유할 수 있다. 첨가제로서는, 예를 들면, 힌더드페놀계, 인계, 황계 등의 산화 방지제, 내광 안정제, 자외선 흡수제, 내후(耐候) 안정제, 열안정제 등의 안정제; 유리 섬유, 탄소 섬유 등의 보강재; 근적외선 흡수제; 트리스(디브로모프로필)포스페이트, 트리알릴포스페이트, 산화안티몬 등의 난연제; 음이온계, 양이온계, 비이온계의 계면활성제 등의 대전 방지제; 무기 안료, 유기 안료, 염료 등의 착색제; 유기 필러나 무기 필러; 수지 개질제; 가소제; 활제(滑劑); 위상차 저감제 등을 들 수 있다. 함유되는 첨가제의 종류, 조합, 함유량 등은, 목적이나 원하는 특성에 따라 적절히 설정될 수 있다.The first protective layer may contain any suitable additives depending on the purpose. As additives, for example, antioxidants such as hindered phenol-based, phosphorus-based, and sulfur-based, stabilizers such as light stabilizers, ultraviolet absorbers, weathering stabilizers, and heat stabilizers; Reinforcing materials such as glass fiber and carbon fiber; Near-infrared absorber; Flame retardants such as tris(dibromopropyl)phosphate, triallyl phosphate, and antimony oxide; Antistatic agents such as anionic, cationic, and nonionic surfactants; Colorants such as inorganic pigments, organic pigments, and dyes; Organic or inorganic fillers; Resin modifier; plasticizer; Activating agent (滑劑); Phase difference reducing agents, etc. can be mentioned. The type, combination, content, etc. of the additives contained can be appropriately set depending on the purpose or desired characteristics.

또한, 원하는 표면 광학 특성 또는 기타 특징을 부여하기 위해, 제1 보호층의 외면에 코팅층(표면 처리층)을 마련할 수 있다. 표면 처리층의 구체예는, 하드 코팅층, 방현층, 반사 방지층, 대전 방지층, 방오층을 포함한다. 표면 처리층을 형성하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 공지(公知)된 방법을 이용할 수 있다. 표면 처리층은, 제1 보호층의 한쪽 면에 형성되어 있어도 좋고, 양면에 형성되어 있어도 좋다.Additionally, in order to provide desired surface optical properties or other characteristics, a coating layer (surface treatment layer) may be provided on the outer surface of the first protective layer. Specific examples of the surface treatment layer include a hard coating layer, an anti-glare layer, an anti-reflection layer, an anti-static layer, and an anti-fouling layer. The method of forming the surface treatment layer is not particularly limited, and a known method can be used. The surface treatment layer may be formed on one side of the first protective layer, or may be formed on both sides.

하드 코팅층은, 제1 보호층의 표면 경도를 높이는 기능을 갖고, 표면의 찰과상 방지 등의 목적으로 마련된다. 하드 코팅층은, JIS K 5600-5-4:1999 「도료 일반 시험 방법 - 제5부: 도막의 기계적 성질 - 제4절: 긁힘 경도(연필법)」에 규정되는 연필 경도 시험(하드 코팅층을 갖는 보호 필름을 유리판 위에 놓고 측정함)에서 측정되는 연필 경도가 H 또는 그보다 딱딱한 값인 것이 바람직하다.The hard coating layer has a function of increasing the surface hardness of the first protective layer and is provided for purposes such as preventing surface abrasion. The hard coating layer is a pencil hardness test (with a hard coating layer) specified in JIS K 5600-5-4:1999 “General test methods for paints - Part 5: Mechanical properties of coating films - Section 4: Scratch hardness (pencil method)” It is preferable that the pencil hardness (measured by placing the protective film on a glass plate) is H or a value harder than that.

하드 코팅층을 형성하는 재료는, 일반적으로, 열이나 광에 의해 경화하는 것이다. 예를 들면, 유기 실리콘계, 멜라민계, 에폭시계, (메타)아크릴계, 우레탄(메타)아크릴레이트계와 같은 유기 하드 코팅 재료, 이산화규소와 같은 무기 하드 코팅 재료를 들 수 있다. 이들 중에서도, 보호 필름에 대한 밀착성이 양호하며, 생산성이 우수한 점에서, 우레탄(메타)아크릴레이트계 또는 다관능 (메타)아크릴레이트계 하드 코팅 재료가 바람직하게 이용된다.Materials that form the hard coating layer are generally hardened by heat or light. For example, organic hard coating materials such as organic silicon-based, melamine-based, epoxy-based, (meth)acrylic, and urethane (meth)acrylate-based, and inorganic hard coating materials such as silicon dioxide. Among these, urethane (meth)acrylate-based or multifunctional (meth)acrylate-based hard coating materials are preferably used because they have good adhesion to the protective film and are excellent in productivity.

하드 코팅층은, 원하는 바에 따라, 굴절률의 조정, 굽힘 탄성률의 향상, 체적 수축률의 안정화, 더욱이는 내열성, 대전 방지성, 방현성 등의 향상을 도모하는 목적으로, 각종 필러를 함유할 수 있다. 또한 하드 코팅층은, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 대전 방지제, 레벨링제, 소포제와 같은 첨가제를 함유할 수도 있다.The hard coating layer may contain various fillers, as desired, for the purpose of adjusting the refractive index, improving the bending elastic modulus, stabilizing the volumetric shrinkage rate, and further improving heat resistance, antistatic properties, anti-glare properties, etc. Additionally, the hard coating layer may contain additives such as antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, antistatic agents, leveling agents, and antifoaming agents.

하드 코팅층은, 강도를 보다 향상시키기 위해, 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 첨가제는 한정되지 않고, 무기계 미립자, 유기계 미립자, 또는 이들 혼합물을 들 수 있다. 또한, 하드 코팅층의 두께는, 딱딱함을 갖게 하려면 두꺼운 것이 좋지만, 지나치게 두꺼우면 컷팅 시에 깨지기 쉬워지기 때문에, 1㎛ ∼ 20㎛여도 좋고, 2㎛ ∼ 10㎛여도 좋다. 하드 코팅층의 두께는, 3㎛ ∼ 7㎛로 하는 것이 바람직하다.The hard coating layer may contain additives to further improve strength. The additive is not limited and includes inorganic fine particles, organic fine particles, or mixtures thereof. In addition, the thickness of the hard coating layer should be thick to provide hardness, but if it is too thick, it becomes brittle during cutting, so it may be 1 μm to 20 μm or 2 μm to 10 μm. The thickness of the hard coating layer is preferably 3 μm to 7 μm.

방현층은, 표면에 미세한 요철 형상을 갖는 층이며, 바람직하게는, 상술한 하드 코팅 재료를 이용하여 형성된다.The anti-glare layer is a layer having a fine uneven shape on the surface, and is preferably formed using the hard coating material described above.

표면에 미세한 요철 형상을 갖는 방현층은, 1) 보호 필름 상에 미립자를 함유하는 도막을 형성하고, 그 미립자에 기초하는 요철을 마련하는 방법, 2) 미립자를 함유하거나, 또는 함유하지 않는 도막을 보호 필름 상에 형성한 후, 표면에 요철 형상이 부여된 금형(롤 등)에 눌러대어 요철 형상을 전사(轉寫)하는 방법(엠보싱법이라고도 불림) 등에 의해 형성할 수 있다.The anti-glare layer having fine irregularities on the surface can be created by 1) forming a coating film containing fine particles on a protective film and providing unevenness based on the fine particles, 2) forming a coating film containing or not containing fine particles. After forming on the protective film, it can be formed by pressing it against a mold (roll, etc.) whose surface is given an uneven shape to transfer the uneven shape (also called an embossing method).

반사 방지층은, 보호 필름을 관찰하는 자에게 있어서, 보호 필름 표면의 외광 반사를 약하게 하기 위한 층이며, 통상은, 가시광에 대한 반사율이 1.5％ 이하가 된다. 이러한 반사율의 반사 방지층은 전형적으로는, 높은 굴절률을 갖는 고굴절률층과, 낮은 굴절률을 갖는 저굴절률층을 적층하는 것이나, 일본 특허공개 2021-6929호 공보에 기재된 방법이나 재료를 이용함으로써 이루어진다. 이들 굴절률과 각 층의 두께를 조정함으로써 각 층으로부터의 반사광이 서로 약해지도록 할 수 있어, 우수한 반사 방지 기능이 발휘된다.The anti-reflection layer is a layer for weakening the reflection of external light on the surface of the protective film for those observing the protective film, and usually has a reflectance of visible light of 1.5% or less. An anti-reflection layer with such a reflectance is typically formed by laminating a high refractive index layer with a high refractive index and a low refractive index layer with a low refractive index, or by using the method or material described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2021-6929. By adjusting these refractive indices and the thickness of each layer, the reflected light from each layer can be weakened, thereby demonstrating an excellent anti-reflection function.

고굴절률층과 저굴절률층으로 이루어지는 반사 방지층은, 나중에 상세를 기술하는 바와 같이, 고굴절률층 및 저굴절률층의 각각을 형성할 수 있는 도포형 조성물을 이용하여 반사 방지층을 제조하면, 조작이 극히 간편하기 때문에 바람직하다. 여기에서, 고굴절률층 및 저굴절률층의 각각을 형성할 수 있는 도포형 조성물의 일례를 들어 둔다. 이러한 도포형 조성물은 액상의 것이며, 적절한 경화성 수지와, 필요에 따라 첨가제를 포함한다. 고굴절률층을 형성할 수 있는 도포형 조성물(고굴절률층 형성용 조성물)은, 예를 들면, 우레탄아크릴레이트와 같은 경화성 수지와, 아세토페논계, 벤조페논계, 벤질디메틸케탈계, α-히드록시알킬페논계, α-아미노알킬페논계나 티오크산톤계와 같은 광중합을 위한 개시제(광중합개시제)를, 메틸에틸케톤이나 메틸이소부틸케톤과 같은 용제에 용해하여 이루어진다. 도포성을 보다 양호하게 하기 위해, 레벨링제, 바람직하게는 불소계 레벨링제를 포함시켜도 된다. 또한, 저굴절률층을 형성할 수 있는 도포형 조성물(저굴절률층 형성용 조성물)로서는, 경화성 수지로서, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트나 펜타에리스리톨(트리／테트라)아크릴레이트와 같은 바인더 수지에, 아세토페논계, 벤조페논계, 벤질디메틸케탈계, α-히드록시알킬페논계, α-아미노알킬페논계나 티오크산톤계와 같은 광중합을 위한 개시제(광중합개시제)를, 1-메톡시-2-프로필아세테이트나 메틸이소부틸과 같은 용제에 용해하여 이루어지는 용액에 실리카 입자를 분산시켜 이루어진다. 도포성을 보다 양호하게 하기 위해, 불소계 레벨링제를 포함시켜도 된다. 또, 여기에서 든 고굴절률층 및 저굴절률층의 각각을 형성할 수 있는 도포형 조성물은 어디까지나 일례이며, 형성하고자 하는 반사 방지층의 특성에 따라, 고굴절률층 형성용 조성물 및 저굴절률층 형성용 조성물을 각각 최적화하는 것이 바람직하다.As will be described in detail later, the anti-reflection layer consisting of a high refractive index layer and a low refractive index layer is extremely easy to operate if the anti-reflection layer is manufactured using a coating composition capable of forming each of the high refractive index layer and the low refractive index layer. It is desirable because it is simple. Here, an example of a coating composition capable of forming each of a high refractive index layer and a low refractive index layer is given. These applicable compositions are liquid and contain appropriate curable resins and, if necessary, additives. Applicable compositions capable of forming a high refractive index layer (composition for forming a high refractive index layer) include, for example, curable resins such as urethane acrylate, acetophenone-based, benzophenone-based, benzyldimethylketal-based, and α-hydride. It is made by dissolving an initiator for photopolymerization (photopolymerization initiator) such as roxyalkylphenone-based, α-aminoalkylphenone-based or thioxanthone-based in a solvent such as methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone. In order to improve applicability, a leveling agent, preferably a fluorine-based leveling agent, may be included. In addition, the coating composition (composition for forming a low refractive index layer) capable of forming a low refractive index layer includes a curable resin, a binder resin such as polyethylene glycol diacrylate or pentaerythritol (tri/tetra) acrylate, and acetope. Initiators for photopolymerization (photopolymerization initiators) such as rice field, benzophenone, benzyldimethylketal, α-hydroxyalkylphenone, α-aminoalkylphenone, or thioxanthone, 1-methoxy-2-propyl It is achieved by dispersing silica particles in a solution made by dissolving in a solvent such as acetate or methyl isobutyl. In order to improve applicability, a fluorine-based leveling agent may be included. In addition, the coating composition capable of forming each of the high refractive index layer and the low refractive index layer mentioned here is only an example, and depending on the characteristics of the antireflection layer to be formed, the composition for forming the high refractive index layer and the composition for forming the low refractive index layer may be used. It is desirable to optimize each composition.

반사 방지층은, 예를 들면 저굴절률층을 구비하는 것일 수 있다. 또한, 보호 필름과 저굴절률층 사이에, 고굴절률층 및／또는 중굴절률층을 더 구비하는 다층 구조여도 된다.The antireflection layer may include, for example, a low refractive index layer. Additionally, a multi-layer structure may be provided that further includes a high refractive index layer and/or a middle refractive index layer between the protective film and the low refractive index layer.

저굴절률층은, 상술한 경화성 수지의 경화물이나 금속 알콕시드계 폴리머 등의 투광성 수지 및 무기 입자를 함유하는 도공액을 도공한 후, 도공층을 필요에 따라 경화시키는 방법에 의해 형성할 수 있다. 무기 입자로서는, 예를 들면, LiF(굴절률 1.4), MgF(굴절률 1.4), 3NaF·AlF(굴절률 1.4), AlF(굴절률 1.4), Na3AlF6(굴절률 1.33) 등의 저굴절 입자나, 중공 실리카 입자 등을 들 수 있다.The low refractive index layer can be formed by applying a coating solution containing a cured product of the above-mentioned curable resin or a translucent resin such as a metal alkoxide polymer and inorganic particles, and then curing the coating layer as necessary. Examples of inorganic particles include low refractive index particles such as LiF (refractive index 1.4), MgF (refractive index 1.4), 3NaF·AlF (refractive index 1.4), AlF (refractive index 1.4), Na 3 AlF 6 (refractive index 1.33), and hollow particles. Silica particles, etc. can be mentioned.

대전 방지층은, 제1 보호층의 표면에 도전성을 부여하여, 정전기에 의한 영향을 억제하는 등의 목적으로 마련된다. 대전 방지층의 형성에는, 예를 들면, 도전성 물질(대전 방지제)을 함유하는 수지 조성물을 제1 보호층 상에 도포하는 방법을 채용할 수 있다. 예를 들면, 상술한 하드 코팅층의 형성에 이용하는 하드 코팅 재료에 대전 방지제를 공존시켜 둠으로써, 대전 방지성의 하드 코팅층을 형성할 수 있다.The antistatic layer is provided for the purpose of imparting conductivity to the surface of the first protective layer and suppressing the influence of static electricity. For forming the antistatic layer, for example, a method of applying a resin composition containing a conductive material (antistatic agent) onto the first protective layer can be adopted. For example, an antistatic hard coating layer can be formed by allowing an antistatic agent to coexist with the hard coating material used to form the hard coating layer described above.

방오층은, 발수성, 발유성, 내한성, 방오성 등을 부여하기 위해 마련된다. 방오층을 형성하기 위한 바람직한 재료는, 불소 함유 유기 화합물이다. 불소 함유 유기 화합물로서는, 플루오로카본, 퍼플루오로실란, 이들 고분자 화합물 등을 들 수 있다. 방오층의 형성 방법은, 형성하는 재료에 따라, 증착이나 스퍼터링을 대표예로 하는 물리적 기상 성장법, 화학적 기상 성장법, 습식 코팅법 등을 이용할 수 있다. 방오층의 평균 두께는, 통상 1 ∼ 50㎚ 정도, 바람직하게는 3 ∼ 35㎚이다.The antifouling layer is provided to provide water repellency, oil repellency, cold resistance, antifouling properties, etc. A preferred material for forming an antifouling layer is a fluorine-containing organic compound. Examples of fluorine-containing organic compounds include fluorocarbons, perfluorosilanes, and these polymer compounds. The method of forming the antifouling layer can use, depending on the material to be formed, a physical vapor deposition method, a chemical vapor growth method, a wet coating method, etc., with vapor deposition or sputtering as representative examples. The average thickness of the antifouling layer is usually about 1 to 50 nm, preferably 3 to 35 nm.

광학 적층체가 화상 표시 장치에 적용될 때, 편광자(5) 중의 요오드 등의 이색성 색소의 확산이, 화상 표시 장치에 있어서 광학 적층체의 근방에 존재하는 금속 부재(전극 등)의 부식을 초래하는 경우가 있다. 이는, 상기 확산에 의해 요오드 등의 이색성 색소가 금속 부재로 이행하는 것에 기인한다. 금속 부재의 부식을 억제하기 위해, 이색성 색소의 금속 부재로 이행량을 억제하는 것이 바람직하다. 제1 보호층의 외면에 코팅층(표면 처리층)을 마련하지 않음으로써, 상기 이행량을 억제할 수 있는 경향이 있다. 이는, 이색성 색소가 제1 보호층 측(시인 측)으로부터 확산·방출되기 쉬워지는 결과, 편광자(5)로부터 시인 측과는 반대 측으로 이행하는 이색성 색소의 양이 감소하기 때문이다.When the optical laminate is applied to an image display device, diffusion of a dichroic dye such as iodine in the polarizer 5 causes corrosion of metal members (electrodes, etc.) present in the vicinity of the optical laminate in the image display device. There is. This is due to the fact that dichroic dyes such as iodine migrate to the metal member due to the diffusion. In order to suppress corrosion of the metal member, it is desirable to suppress the amount of dichroic dye transferred to the metal member. By not providing a coating layer (surface treatment layer) on the outer surface of the first protective layer, the amount of migration tends to be suppressed. This is because the dichroic dye becomes easier to diffuse and release from the first protective layer side (viewer's side), and the amount of the dichroic dye moving from the polarizer 5 to the side opposite to the viewer's side decreases.

(4) 제2 보호층(4) Second protective layer

제2 보호층(20)은, 편광자(5)의 표면을 보호하는 기능을 갖는다. 제2 보호층(20)은, 편광자(5)의 표면에 직접 접하여 적층되어도 좋고, 제2 점접착제층(42)을 개재하여 적층되어도 좋다. 제2 보호층(20)은, 편광자(5)와의 밀착성을 향상시키기 위해, 표면 처리(예를 들면, 코로나 처리 등)가 실시되어 있어도 좋고, 프라이머층(이접착층이라고도 함) 등의 박층이 형성되어 있어도 좋다.The second protective layer 20 has a function of protecting the surface of the polarizer 5. The second protective layer 20 may be laminated in direct contact with the surface of the polarizer 5 or may be laminated with the second adhesive layer 42 interposed therebetween. The second protective layer 20 may be subjected to surface treatment (e.g., corona treatment, etc.) to improve adhesion to the polarizer 5, and a thin layer such as a primer layer (also referred to as an easily adhesive layer) may be formed. It's okay if it's done.

제2 보호층(20)은, 온도 85℃에서의 인장 탄성률을 E2[㎫], 두께를 T2[㎛]로 할 때, 하기 식(ⅰ):The second protective layer 20 has the following formula (i) when the tensile elastic modulus at a temperature of 85°C is E2 [MPa] and the thickness is T2 [μm]:

E2 × T2 ≤ 16000 (ⅰ)E2 × T2 ≤ 16000 (i)

을 충족시킨다.satisfies.

식(ⅰ)을 충족시키는 본 발명에 따른 광학 적층체에 의하면, 위상차 변화량의 면내 불균일을 억제할 수 있다. 이는, 열에 의한 편광자의 수축에 기인하는 상기 인장 응력의 위상자(30)의 단부에의 집중이 일어나기 어려워지기 때문이라고 생각된다. 식(ⅰ)을 충족시키는 것, 및 식(ⅲ)을 충족시키는 것은 모두 위상차 변화량의 면내 불균일의 억제에 기여하지만, 편광자(5)와 위상자(30) 사이에 배치되는 제2 보호층(20)이 식(ⅰ)을 충족시키는 것의 기여가 크다. 또한, 편광자(5)와 위상자(30) 사이에 제2 보호층(20)을 배치함으로써, 편광자(5) 중의 요오드 등의 이색성 색소가 상기 확산에 의해 요오드 등의 이색성 색소가 상기 금속 부재로 이행하는 것을 방지 또는 억제할 수 있다. 요오드 등의 이색성 색소의 확산을 방지 또는 억제함으로써, 화상 표시 장치에 있어서 광학 적층체의 근방에 존재하는 금속 부재(전극 등)의 부식을 방지 또는 억제할 수 있다.According to the optical laminate according to the present invention that satisfies equation (i), in-plane non-uniformity in the amount of phase difference change can be suppressed. This is believed to be because it becomes difficult for the tensile stress due to contraction of the polarizer due to heat to be concentrated at the end of the phase element 30. Satisfying equation (i) and satisfying equation (iii) all contribute to suppressing the in-plane non-uniformity of the phase difference change amount, but the second protective layer (20) disposed between the polarizer (5) and the phaser (30) ) The contribution of satisfying equation (i) is significant. In addition, by disposing the second protective layer 20 between the polarizer 5 and the retardator 30, the dichroic dye such as iodine in the polarizer 5 diffuses into the metal. Transition to absence can be prevented or suppressed. By preventing or suppressing the diffusion of a dichroic dye such as iodine, corrosion of metal members (electrodes, etc.) present in the vicinity of the optical laminate in an image display device can be prevented or suppressed.

위상차 변화량의 면내 불균일을 억제하는 관점에서, 식(ⅰ)에서의 좌변 E2 × T2의 값은, 바람직하게는 12000 이하, 보다 바람직하게는 8000 이하, 더 바람직하게는 4000 이하, 더욱 더 바람직하게는 3000 이하, 특히 바람직하게는 2000 이하이며, 1850 이하, 1800 이하 또는 1000 이하여도 좋다. E2 × T2의 값은, 통상 100 이상이며, 300 이상 또는 500 이상이어도 좋다.From the viewpoint of suppressing the in-plane non-uniformity of the phase difference change, the value of the left side E2 It is 3000 or less, especially preferably 2000 or less, and may be 1850 or less, 1800 or less, or 1000 or less. The value of E2 x T2 is usually 100 or more, and may be 300 or more or 500 or more.

제2 보호층의 두께 T2는, 예를 들면 0.1 ∼ 60㎛, 바람직하게는 0.2 ∼ 30㎛이다. 위상차 변화량의 면내 불균일을 억제하는 관점에서, 두께 T2는, 하기 식(ii):The thickness T2 of the second protective layer is, for example, 0.1 to 60 μm, and preferably 0.2 to 30 μm. From the viewpoint of suppressing the in-plane non-uniformity of the phase difference change, the thickness T2 is expressed by the following equation (ii):

T2 ≤ 7 (ii)T2≤7 (ii)

을 충족시키는 것이 바람직하다. 두께 T2는, 보다 바람직하게는 6㎛ 이하, 더 바람직하게는 5㎛ 이하, 더욱 더 바람직하게는 4㎛ 이하이다. 두께 T2는, 예를 들면 0.1㎛ 이상이며, 0.5㎛ 이상, 1㎛ 이상 또는 2㎛ 이상이어도 좋다. 금속 부재의 상기 부식을 억제하는 관점에서, 두께 T2는, 바람직하게는 2 ∼ 4㎛이며, 보다 바람직하게는 3 ∼ 4㎛이다.It is desirable to satisfy. The thickness T2 is more preferably 6 μm or less, further preferably 5 μm or less, and even more preferably 4 μm or less. The thickness T2 is, for example, 0.1 μm or more, and may be 0.5 μm or more, 1 μm or more, or 2 μm or more. From the viewpoint of suppressing the corrosion of the metal member, the thickness T2 is preferably 2 to 4 μm, and more preferably 3 to 4 μm.

위상차 변화량의 면내 불균일을 억제하는 관점에서, 제2 보호층의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E2는, 바람직하게는 1500㎫ 이하, 보다 바람직하게는 1200㎫ 이하, 더 바람직하게는 1100㎫ 이하, 더욱 더 바람직하게는 1000㎫ 이하, 특히 바람직하게는 800㎫ 이하, 가장 바람직하게는 500㎫ 이하이다. 인장 탄성률 E2는, 통상 100㎫ 이상이며, 200㎫ 이상이어도 좋다. 인장 탄성률 E2는, [실시예]의 항의 기재에 따라서 측정할 수 있다.From the viewpoint of suppressing the in-plane non-uniformity of the phase difference change, the tensile modulus E2 of the second protective layer at a temperature of 85° C. is preferably 1500 MPa or less, more preferably 1200 MPa or less, further preferably 1100 MPa or less, further More preferably, it is 1000 MPa or less, particularly preferably 800 MPa or less, and most preferably 500 MPa or less. The tensile elasticity modulus E2 is usually 100 MPa or more, and may be 200 MPa or more. The tensile elastic modulus E2 can be measured according to the description in the [Examples] section.

금속 부재의 상기 부식을 억제하는 관점에서, 제2 보호층은, 투습도가 예를 들면 1700g／㎡／24hr 이하, 바람직하게는 1500g／㎡／24hr 이하, 보다 바람직하게는 1000g／㎡／24hr 이하, 더 바람직하게는 100g／㎡／24hr 이하, 더욱 더 바람직하게는 50g／㎡／24hr 이하이며, 10g／㎡／24hr 이하여도 좋다. 상기 투습도는, 통상 1g／㎡／24hr 이상이며, 바람직하게는 3g／㎡／24hr 이상이다. 제2 보호층의 투습도는, [실시예]의 항의 기재에 따라서 측정할 수 있다.From the viewpoint of suppressing the above-described corrosion of the metal member, the second protective layer has a moisture permeability of, for example, 1700 g/m2/24hr or less, preferably 1500g/m2/24hr or less, more preferably 1000g/m2/24hr or less, More preferably, it is 100g/m2/24hr or less, even more preferably 50g/m2/24hr or less, and may be 10g/m2/24hr or less. The moisture permeability is usually 1 g/m 2 /24 hr or more, and preferably 3 g/m 2 /24 hr or more. The moisture permeability of the second protective layer can be measured according to the description in the [Examples] section.

제2 보호층의 광탄성률이 작은 것이, 열에 의한 편광자의 수축에 기인하는 상기 인장 응력에 의한 제2 보호층의 위상차 변화량이 작아지기 때문에, 위상차 변화량의 면내 불균일을 억제하는 관점에서 바람직하다. 따라서, 제2 보호층을 구성하는 수지가 같은 경우, 제2 보호층의 두께가 작을수록, 위상차 변화량의 면내 불균일을 억제하는 관점에서는 유리한 경향이 있다. 한편, 본 발명에 의하면, 위상차 변화량의 면내 불균일을 효과적으로 억제할 수 있는 점에서, 제2 보호층이 광탄성을 갖고 있는 것이, 본 발명의 효과가 나타나기 쉽다.A small photoelastic modulus of the second protective layer is preferable from the viewpoint of suppressing in-plane non-uniformity in the amount of retardation change because the amount of retardation change in the second protective layer due to the tensile stress resulting from contraction of the polarizer due to heat is reduced. Therefore, when the resin constituting the second protective layer is the same, the smaller the thickness of the second protective layer, the more advantageous it is from the viewpoint of suppressing in-plane non-uniformity in the amount of phase difference change. On the other hand, according to the present invention, the effect of the present invention is likely to be exhibited when the second protective layer has photoelasticity in that the in-plane non-uniformity of the amount of phase difference change can be effectively suppressed.

제2 보호층의 광탄성률은, 바람직하게는 0.1 × 10-12Pa-1 ∼ 10 × 10-12Pa-1, 보다 바람직하게는 1 × 10-12Pa-1 ∼ 5 × 10-12Pa-1이다. 제2 보호층의 광탄성률은, [실시예]의 항의 기재에 따라서 측정할 수 있다.The photoelastic modulus of the second protective layer is preferably 0.1 × 10 -12 Pa -1 to 10 × 10 -12 Pa -1 , more preferably 1 × 10 -12 Pa -1 to 5 × 10 -12 Pa - It is 1 . The photoelastic modulus of the second protective layer can be measured according to the description in the [Examples] section.

제2 보호층으로서는, 예를 들면, 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성, 연신성 등이 우수한 수지 필름을 이용할 수 있다. 수지 필름은 열가소성 수지 필름이어도 된다. 이러한 열가소성 수지의 구체예는, 제1 보호층에 대해서 기재한 것과 마찬가지이다. 열가소성 수지로 이루어지는 보호 필름은 시장으로부터 입수되어도 된다.As the second protective layer, for example, a resin film excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier property, isotropy, stretchability, etc. can be used. The resin film may be a thermoplastic resin film. Specific examples of such thermoplastic resins are the same as those described for the first protective layer. A protective film made of thermoplastic resin may be obtained from the market.

제2 보호층으로서 이용되는 열가소성 수지 필름 및 후술하는 열가소성 수지층을 구성하는 열가소성 수지는, 바람직하게는, 환상 폴리올레핀계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카보네이트계 수지, (메타)아크릴계 수지, 폴리스티렌계 수지이며, 보다 바람직하게는, 환상 폴리올레핀계 수지, (메타)아크릴계 수지, 폴리스티렌계 수지이며, 더 바람직하게는 환상 폴리올레핀계 수지, (메타)아크릴계 수지이며, 더욱 더 바람직하게는 환상 폴리올레핀계 수지이다.The thermoplastic resin constituting the thermoplastic resin film used as the second protective layer and the thermoplastic resin layer described later is preferably cyclic polyolefin resin, polyester resin, polycarbonate resin, (meth)acrylic resin, and polystyrene resin. It is a resin, more preferably a cyclic polyolefin-based resin, a (meth)acrylic-based resin, or a polystyrene-based resin, even more preferably a cyclic polyolefin-based resin, a (meth)acrylic-based resin, and even more preferably a cyclic polyolefin-based resin. .

제2 보호층으로서 이용되는 열가소성 수지 필름은, 단체로 존재하는 필름이어도 좋고, 이 경우, 상기 열가소성 수지 필름은, 필요에 따라 제2 점접착제층(42)을 개재하여 편광자(5) 상에 적층된다. 혹은, 제2 보호층은, 열가소성 수지층이어도 좋다. 예를 들면, 열가소성 수지를 포함하는 조성물을 지지 기재 상에 도포하고, 필요에 따라 건조시켜 얻어지는 지지 기재 부착 열가소성 수지층을, 필요에 따라 제2 점접착제층(42)을 개재하여 편광자(5)에 첩합하고, 그 후, 지지 기재를 박리 제거함으로써, 편광자(5) 상에 제2 보호층으로서의 열가소성 수지층을 적층할 수 있다(제1 방법). 예를 들면, 제2 보호층(20)이 열가소성 수지층, 또는 후술하는 경화 수지층과 같은 수지층인 경우에는, 제2 점접착제층(42)을 개재하는 일 없이, 편광자(5)와 제2 보호층(20)이 직접 접해 있어도 된다.The thermoplastic resin film used as the second protective layer may be a film that exists alone, and in this case, the thermoplastic resin film is laminated on the polarizer 5 through the second adhesive layer 42 as necessary. do. Alternatively, the second protective layer may be a thermoplastic resin layer. For example, a thermoplastic resin layer with a support base obtained by applying a composition containing a thermoplastic resin on a support base and drying it as needed is applied to the polarizer 5 via the second adhesive layer 42 as needed. The thermoplastic resin layer as a 2nd protective layer can be laminated|stacked on the polarizer 5 by bonding and then peeling and removing a support base material (1st method). For example, when the second protective layer 20 is a thermoplastic resin layer or a resin layer such as a cured resin layer described later, the polarizer 5 and the second protective layer are connected without the second adhesive layer 42 interposed therebetween. 2 The protective layer 20 may be in direct contact.

제2 보호층이 열가소성 수지층인 경우, 상기 조성물을 직접, 편광자(5)의 표면에 도포하고, 필요에 따라 건조시킴으로써 열가소성 수지층을 형성하는 것도 가능하다(제2 방법). 이 경우, 제2 점접착제층(42)을 개재하는 일 없이, 편광자(5)와 제2 보호층(20)은 직접 접해 있다. 단, 조성물이 용제를 함유하는 경우, 용제 함유량이 충분히 저감된 열가소성 수지층을 안정적으로 형성하기 쉬운 점에서, 제1 방법이 바람직하다.When the second protective layer is a thermoplastic resin layer, it is also possible to form a thermoplastic resin layer by applying the composition directly to the surface of the polarizer 5 and drying it as necessary (second method). In this case, the polarizer 5 and the second protective layer 20 are in direct contact with each other without the second adhesive layer 42 interposed therebetween. However, when the composition contains a solvent, the first method is preferable because it is easy to stably form a thermoplastic resin layer with a sufficiently reduced solvent content.

제2 보호층은, 경화형 수지의 경화물을 포함하는 경화 수지층이어도 된다. 경화형 수지로서는, 열경화형 수지, 활성 에너지 경화형 수지를 들 수 있고, 예를 들면, (메타)아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 옥세탄계 수지, 우레탄계 수지, (메타)아크릴우레탄계 수지, 멜라민계 수지 등을 들 수 있다. 경화형 수지의 경화물을 포함하는 경화 수지층은, 경화형 수지를 포함하는 조성물을 지지 기재 상에 도포하고, 필요에 따라 건조시킨 후, 열을 가하거나 또는 가시광, 자외선, 적외선, X선, α선, β선, γ선, 전자선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 형성할 수 있다. 얻어지는 지지 기재 부착 경화 수지층을, 필요에 따라 제2 점접착제층(42)을 개재하여 편광자(5)에 첩합하고, 그 후, 지지 기재를 박리 제거함으로써, 편광자(5) 상에 제2 보호층으로서의 경화 수지층을 적층할 수 있다.The second protective layer may be a cured resin layer containing a cured product of curable resin. Examples of the curable resin include thermosetting resin and active energy curing resin, for example, (meth)acrylic resin, epoxy resin, oxetane resin, urethane resin, (meth)acrylic urethane resin, melamine resin, etc. I can hear it. The cured resin layer containing the cured product of the curable resin is formed by applying a composition containing the curable resin on a support substrate, drying it as necessary, and then applying heat or exposing it to visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, or α-rays. , can be formed by irradiating active energy rays such as β-rays, γ-rays, and electron beams. The obtained cured resin layer with a support base material is bonded to the polarizer 5 through the second adhesive layer 42 as needed, and the support base material is then peeled off to provide second protection on the polarizer 5. A cured resin layer can be laminated as a layer.

제2 보호층은, 위상차 변화량의 면내 불균일을 억제하는 관점에서, 바람직하게는, 환상 폴리올레핀계 수지로 이루어지는 열가소성 수지 필름 또는 열가소성 수지층, (메타)아크릴계 수지로 이루어지는 열가소성 수지 필름 또는 열가소성 수지층, (메타)아크릴계 수지의 경화물을 포함하는 경화 수지층, 폴리스티렌계 수지로 이루어지는 열가소성 수지 필름 또는 열가소성 수지층이다. 편광자(5) 중의 이색성 색소가 상기 금속 부재로 이행하는 것을 억제하는 것을 더 고려하면, 제2 보호층은, 보다 바람직하게는, 환상 폴리올레핀계 수지로 이루어지는 열가소성 수지 필름 또는 열가소성 수지층, 폴리스티렌계 수지로 이루어지는 열가소성 수지 필름 또는 열가소성 수지층이다.From the viewpoint of suppressing in-plane non-uniformity in the amount of retardation change, the second protective layer is preferably a thermoplastic resin film or thermoplastic resin layer made of a cyclic polyolefin resin, a thermoplastic resin film or thermoplastic resin layer made of a (meth)acrylic resin, It is a cured resin layer containing a cured product of a (meth)acrylic resin, a thermoplastic resin film or a thermoplastic resin layer made of polystyrene-based resin. In further consideration of suppressing the transfer of the dichroic dye in the polarizer 5 to the metal member, the second protective layer is more preferably a thermoplastic resin film or thermoplastic resin layer made of cyclic polyolefin-based resin, or polystyrene-based. It is a thermoplastic resin film or thermoplastic resin layer made of resin.

제2 보호층은, 목적에 따라 임의의 적절한 첨가제를 함유할 수 있다. 첨가제의 구체예는, 제1 보호층에 대해서 기재한 것과 마찬가지이다.The second protective layer may contain any suitable additives depending on the purpose. Specific examples of additives are the same as those described for the first protective layer.

제2 보호층은, 위상차 특성을 갖지 않거나, 위상차값이 작은 필름인 것이 바람직하다. 구체적으로는, 제2 보호층의 파장 550㎚에서의 면내 위상차값은, 10㎚ 이하인 것이 바람직하다. 상기 면내 위상차값은 0㎚ 이상이다. 또한, 제2 보호층의 파장 550㎚에서의 두께 방향의 위상차값은, -10㎚ ∼ ＋10㎚인 것이 바람직하다.The second protective layer is preferably a film that does not have retardation characteristics or has a small retardation value. Specifically, it is preferable that the in-plane retardation value of the second protective layer at a wavelength of 550 nm is 10 nm or less. The in-plane retardation value is 0 nm or more. In addition, it is preferable that the phase difference value of the second protective layer in the thickness direction at a wavelength of 550 nm is -10 nm to +10 nm.

(5) 위상자(5) Phaser

위상자(30)는, 면내 또는 두께 방향으로 위상차를 나타내는 광학 소자이며, 바람직하게는 위상차막을 포함한다. 위상차막은, 면내 또는 두께 방향으로 위상차를 나타내는 막으로서, 중합성 액정 화합물의 중합체로 이루어지는 층(경화물층)이거나, 또는, 상기 층과 배향막과의 조합이다. 위상차막은, 예를 들면, 중합성 액정 화합물을 포함하는 위상차막 형성용 조성물의 경화물층을 포함한다.The retardator 30 is an optical element that exhibits a phase difference in-plane or in the thickness direction, and preferably includes a retardation film. The retardation film is a film that shows a retardation in the plane or in the thickness direction, and is a layer (cured material layer) made of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, or a combination of the above layer and an alignment film. The retardation film includes, for example, a cured layer of a composition for forming a retardation film containing a polymerizable liquid crystal compound.

위상자(30)가 위상차막을 포함하는 경우, 이색성 색소가 상기 금속 부재로 이행하여, 금속 부재의 상기 부식이 발생하기 쉬워지지만, 본 발명에 의하면, 위상자(30)가 위상차막을 포함하는 경우에도 상기 부식을 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 위상자(30)가 위상차막을 포함하면, 광학 적층체의 박형화에 유리하며, 위상자(30)가 위상차막을 포함하는 것은, 파장 분산 특성을 임의로 설계할 수 있는 점에서 바람직하다.When the phase element 30 includes a phase contrast film, the dichroic dye migrates to the metal member, and the corrosion of the metal member is likely to occur. However, according to the present invention, when the phase element 30 includes a phase contrast film. The corrosion can also be effectively suppressed. Additionally, if the retardator 30 includes a retardation film, it is advantageous for reducing the thickness of the optical laminate, and it is preferable that the retardator 30 includes a retardation film because the wavelength dispersion characteristics can be arbitrarily designed.

(5-1) 위상차막(5-1) Phase contrast film

위상차막은, 통상, 기재 상에 형성된 배향막 상에, 위상차막 형성용 조성물을 도포하고, 상기 위상차막 형성용 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물을 중합함으로써 형성된다. 위상차막은, 통상, 중합성 액정 화합물이 배향된 상태에서 경화한 막이며, 시인면내에서 위상차를 발생시키기 위해서는, 중합성 액정 화합물이 기재면에 대하여 수평 방향으로 배향된 상태에서 중합성기가 중합된 경화막일 필요가 있다. 이때, 중합성 액정 화합물이 봉상(棒狀)의 액정인 경우에는 포지티브 A 플레이트이면 좋고, 중합성 액정 화합물이 원반상의 액정이면 네거티브 A 플레이트이면 좋다.A retardation film is usually formed by applying a composition for forming a retardation film onto an alignment film formed on a substrate and polymerizing a polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for forming a retardation film. The retardation film is usually a film cured with the polymerizable liquid crystal compound in an oriented state. In order to generate a phase difference in the viewing area, the polymerizable liquid crystal compound is cured in a state in which the polymerizable liquid crystal compound is oriented horizontally with respect to the substrate surface and the polymerizable group is polymerized. It needs to be just that. At this time, if the polymerizable liquid crystal compound is a rod-shaped liquid crystal, a positive A plate may be sufficient. If the polymerizable liquid crystal compound is a disc-shaped liquid crystal, a negative A plate may be sufficient.

위상자는, 서로 다른 광학 이방성을 갖는 위상차막을 2층 이상 포함하고 있어도 된다. 반사 방지 기능을 고도로 달성하기 위해서는, 가시광 전역에서의 λ／4판 기능(즉 π／2의 위상차 기능)을 가지면 된다. 구체적으로는 역파장 분산성 λ／4층이 바람직하고, 혹은, 배향이 서로 다른 2종류 이상의 위상차막을 조합하는 것이 바람직하다. 예를 들면, λ／2판 기능을 갖는 위상차막(즉 π의 위상차 기능)과 λ／4판 기능을 갖는 위상차막(즉 π／2의 위상차 기능)을 조합한 것이어도 된다. 또한, 대각선 방향에서의 반사 방지 기능을 보상할 수 있는 관점에서, 두께 방향으로 이방성을 갖는 층(포지티브 C 플레이트)을 더 포함하고 있는 것이 바람직하다. 특히, 위상자가 역파장 분산성 λ／4층과 포지티브 C 플레이트를 포함하는 구성일 때, 본원 발명의 효과를 보다 현저하게 얻을 수 있다. 또한, 각각의 위상차막은 틸트 배향을 하고 있어도 좋고, 콜레스테릭 배향 상태를 형성하고 있어도 좋다.The retardator may include two or more layers of retardation films having different optical anisotropies. In order to achieve a high level of anti-reflection function, it is sufficient to have a λ/4 plate function (i.e. a π/2 phase difference function) in the entire visible light range. Specifically, a reverse wavelength dispersion λ/4 layer is preferable, or it is preferable to combine two or more types of retardation films with different orientations. For example, a phase contrast film with a λ/2 plate function (i.e., a π phase difference function) and a phase contrast film with a λ/4 plate function (i.e., a π/2 phase difference function) may be combined. Additionally, from the viewpoint of compensating for the anti-reflection function in the diagonal direction, it is preferable to further include a layer (positive C plate) having anisotropy in the thickness direction. In particular, when the phaser is configured to include an inverse wavelength dispersion λ/4 layer and a positive C plate, the effects of the present invention can be more significantly achieved. Additionally, each phase contrast film may have a tilt orientation or may form a cholesteric orientation state.

위상자가 1층의 위상차막으로 이루어지는 경우, 2층 이상으로 이루어지는 경우와 비교하여, 열에 의한 편광자의 수축에 기인하는 상기 인장 응력의 위상자(30)의 단부에의 집중이 일어나기 쉽지만, 본 발명에 의하면, 위상자가 1층의 위상차막으로 이루어지는 경우에도 위상차 변화량의 면내 불균일을 효과적으로 억제할 수 있다.When the retardator is made of one layer of retardation film, compared to the case where it is made of two or more layers, the tensile stress due to shrinkage of the polarizer due to heat is likely to be concentrated at the end of the retardator 30, but in the present invention, Accordingly, even when the retardator is made of a single layer of retardation film, in-plane non-uniformity in the amount of retardation change can be effectively suppressed.

가시광 전역에서의 λ／4 기능은, 파장 λ㎚의 광에 대한 면내 위상차값을 Re(λ)로 하면, 하기 식(1)에 나타나는 광학 특성을 충족시키는 것이 바람직하고, 하기 식(1), 하기 식(2) 및 하기 식(3)으로 나타나는 광학 특성을 충족시키는 것이 바람직하다.The λ/4 function in the entire visible light range preferably satisfies the optical properties shown in the following equation (1), assuming that the in-plane retardation value for light with a wavelength λ nm is Re(λ). It is desirable to satisfy the optical properties expressed by the following formula (2) and the following formula (3).

100㎚ ＜ Re(550) ＜ 160㎚ (1)100㎚ < Re(550) < 160㎚ (One)

(식 중, Re(550)는 파장 550㎚의 광에 대한 면내 위상차값(면내 리타데이션)을 나타낸다.)(In the formula, Re(550) represents the in-plane retardation value (in-plane retardation) for light with a wavelength of 550 nm.)

Re(450)／Re(550) ≤ 1.0 (2)Re(450)/Re(550) ≤ 1.0 (2)

1.00 ≤ Re(650)／Re(550) (3)1.00 ≤ Re(650)/Re(550) (3)

(식 중, Re(450)는 파장 450㎚의 광에 대한 면내 위상차값을, Re(550)는 파장 550㎚의 광에 대한 면내 위상차값을, Re(650)는 파장 650㎚의 광에 대한 면내 위상차값을 나타낸다.)(In the formula, Re(450) is the in-plane retardation value for light with a wavelength of 450 nm, Re(550) is the in-plane retardation value for light with a wavelength of 550 nm, and Re(650) is the in-plane retardation value for light with a wavelength of 650 nm. Indicates the in-plane phase difference value.)

위상차막의 「Re(450)／Re(550)」가 1.0을 초과하면, 상기 위상차막을 구비하는 광학 적층체에서의 단파장 측에서의 광 누설이 커진다. 「Re(450)／Re(550)」의 값은, 바람직하게는, 0.7 이상 1.0 이하, 보다 바람직하게는 0.80 이상 0.95 이하, 더 바람직하게는 0.80 이상 0.92 이하, 특히 바람직하게는 0.82 이상 0.88 이하이다. 「Re(450)／Re(550)」의 값은, 중합성 액정 화합물의 혼합 비율이나 복수의 위상차막의 적층 각도나 위상차값을 조정함으로써 임의로 조정하는 것이 가능하다.When “Re(450)/Re(550)” of the retardation film exceeds 1.0, light leakage on the short wavelength side in the optical laminate provided with the retardation film increases. The value of “Re(450)/Re(550)” is preferably 0.7 or more and 1.0 or less, more preferably 0.80 or more and 0.95 or less, further preferably 0.80 or more and 0.92 or less, particularly preferably 0.82 or more and 0.88 or less. am. The value of “Re(450)/Re(550)” can be arbitrarily adjusted by adjusting the mixing ratio of the polymerizable liquid crystal compound or the stacking angle or retardation value of a plurality of retardation films.

위상차막의 면내 위상차값은, 위상차막의 두께에 따라 조정할 수 있다. 면내 위상차값은 하기 식(4)에 의해 결정되는 점에서, 원하는 면내 위상차값(Re(λ))을 얻으려면, Δn(λ)과 두께 d를 조정하면 된다. 위상차막의 두께는, 0.5㎛ ∼ 5㎛가 바람직하고, 1㎛ ∼ 3㎛가 보다 바람직하다. 위상차막의 두께는, 간섭 막두께계, 레이저 현미경 또는 촉침식 막두께계에 의해 측정할 수 있다. 또, Δn(λ)은, 후술하는 중합성 액정 화합물의 분자 구조에 의존한다.The in-plane retardation value of the retardation film can be adjusted according to the thickness of the retardation film. Since the in-plane retardation value is determined by the following equation (4), to obtain the desired in-plane retardation value (Re(λ)), Δn(λ) and thickness d can be adjusted. The thickness of the retardation film is preferably 0.5 μm to 5 μm, and more preferably 1 μm to 3 μm. The thickness of the phase contrast film can be measured using an interference thickness meter, a laser microscope, or a stylus thickness meter. Additionally, Δn(λ) depends on the molecular structure of the polymerizable liquid crystal compound described later.

Re(λ) ＝ d × Δn(λ) (4)Re(λ) = d × Δn(λ) (4)

(식 중, Re(λ)는 파장 λ㎚에서의 면내 위상차값을 나타내고, d는 두께를 나타내고, Δn(λ)은 파장 λ㎚에서의 복굴절률을 나타낸다.)(In the formula, Re(λ) represents the in-plane retardation value at the wavelength λ nm, d represents the thickness, and Δn(λ) represents the birefringence at the wavelength λ nm.)

포지티브 C 플레이트는, 두께 방향으로 이방성을 갖는 것이면 특별히 한정은 없지만, 틸트 배향이나 콜레스테릭 배향을 하고 있지 않은 경우에는 식(5)으로 표시되는 광학 특성을 갖는다.The positive C plate is not particularly limited as long as it has anisotropy in the thickness direction, but if it does not have a tilt orientation or a cholesteric orientation, it has the optical properties expressed by equation (5).

nx ≒ ny ＜ nz (5)nx ≒ ny < nz (5)

포지티브 C 플레이트의 파장 550㎚에서의 면내 위상차값 Re(550)는, 통상 0 ∼ 10㎚의 범위이며, 바람직하게는 0 ∼ 5㎚의 범위이다. 또한, 파장 550㎚에서의 두께 방향의 위상차값 Rth(550)는, 통상 -170㎚ 이상 -10㎚ 이하의 범위이며, 바람직하게는 -150㎚ 이상 -20㎚ 이하, 보다 바람직하게는 -100㎚ 이상 -40㎚ 이하의 범위이다. 두께 방향의 위상차값이 이 범위이면, 대각선 방향에서의 반사 방지 특성을 한층 향상시킬 수 있다.The in-plane retardation value Re(550) of the positive C plate at a wavelength of 550 nm is usually in the range of 0 to 10 nm, and preferably in the range of 0 to 5 nm. In addition, the phase difference value Rth (550) in the thickness direction at a wavelength of 550 nm is usually in the range of -170 nm to -10 nm, preferably -150 nm to -20 nm, more preferably -100 nm. It is in the range of -40nm or less. If the phase difference value in the thickness direction is within this range, the anti-reflection characteristics in the diagonal direction can be further improved.

위상차막 형성용 조성물에 포함되는 중합성 액정 화합물은, 중합성기, 특히 광중합성기를 갖는 액정 화합물을 의미하고, 상기 중합성 액정 화합물로서는, 종래 공지된 중합성 액정 화합물을 이용할 수 있다. 광중합성기란, 광중합개시제로부터 발생한 반응 활성종, 예를 들면 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 광중합성기로서는, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. 액정성은 서모트로픽성 액정이어도 리오트로픽성 액정이어도 좋지만, 치밀한 막두께 제어가 가능한 점에서 서모트로픽성 액정이 바람직하다. 또한, 서모트로픽성 액정에 있어서의 상질서 구조로서는 네마틱 액정이어도 스멕틱 액정이어도 좋다. 또한, 봉상 액정이어도 좋고 원반상 액정이어도 좋다. 중합성 액정 화합물은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.The polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for forming a retardation film refers to a liquid crystal compound having a polymerizable group, especially a photopolymerizable group, and as the polymerizable liquid crystal compound, a conventionally known polymerizable liquid crystal compound can be used. A photopolymerizable group refers to a group that can participate in a polymerization reaction by reactive species generated from a photopolymerization initiator, such as active radicals or acids. Examples of the photopolymerizable group include vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, oxiranyl group, oxetanyl group, etc. Among them, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyloxy group, oxiranyl group and oxetanyl group are preferable, and acryloyloxy group is more preferable. The liquid crystallinity may be thermotropic liquid crystal or lyotropic liquid crystal, but thermotropic liquid crystal is preferable because it allows precise film thickness control. Additionally, the phase order structure in the thermotropic liquid crystal may be nematic liquid crystal or smectic liquid crystal. Additionally, the liquid crystal may be rod-shaped or may be disk-shaped. The polymerizable liquid crystal compound can be used alone or in combination of two or more types.

중합성 액정 화합물로서는, 역파장 분산성 발현의 관점에서 분자 장축 방향에 대하여 수직 방향으로 복굴절성을 더 갖는 T자형 혹은 H형에 메소겐 구조를 갖는 액정이 바람직하고, 보다 강한 분산이 얻어지는 관점에서 T자형 액정이 보다 바람직하고, T자형 액정의 구조로서는, 구체적으로는, 예를 들면, 하기 식(Ⅰ):As a polymerizable liquid crystal compound, a liquid crystal having a T-shaped or H-shaped mesogenic structure with more birefringence in the direction perpendicular to the long axis direction of the molecule is preferable from the viewpoint of developing reverse wavelength dispersion, and from the viewpoint of obtaining stronger dispersion. A T-shaped liquid crystal is more preferable, and the structure of the T-shaped liquid crystal is specifically, for example, the following formula (I):

[화 1][Tuesday 1]

으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.Compounds represented by are included.

식(Ⅰ) 중, Ar은 치환기를 갖고 있어도 되는 2가의 방향족기를 나타낸다. 상기 2가의 방향족기 중에는 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 중 적어도 1개 이상이 포함되는 것이 바람직하다. 2가의 기 Ar에 포함되는 방향족기가 2개 이상인 경우, 2개 이상의 방향족기는 서로 단결합, -CO-O-, -O- 등의 2가의 결합기로 결합해 있어도 된다.In formula (I), Ar represents a divalent aromatic group that may have a substituent. The divalent aromatic group preferably contains at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. When there are two or more aromatic groups contained in the divalent group Ar, the two or more aromatic groups may be bonded to each other by a single bond or by a divalent bonding group such as -CO-O- or -O-.

G1 및 G2는 각각 독립적으로, 2가의 방향족기 또는 2가의 지환식 탄화수소기를 나타낸다. 여기에서, 상기 2가의 방향족기 또는 2가의 지환식 탄화수기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 4의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 4의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 2가의 방향족기 또는 2가의 지환식 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자가, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 좋다.G 1 and G 2 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group. Here, the hydrogen atom contained in the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, an alkyl group with 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group with 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group with 1 to 4 carbon atoms, and cyanoacrylate. It may be substituted with a nitro group or a nitro group, and the carbon atom constituting the divalent aromatic group or divalent alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom.

L1, L2, B1 및 B2는 각각 독립적으로, 단결합 또는 2가의 연결기이다.L 1 , L 2 , B 1 and B 2 are each independently a single bond or a divalent linking group.

k, l은, 각각 독립적으로 0 ∼ 3의 정수를 나타내고, 1 ≤ k ＋ l의 관계를 충족시킨다. 여기에서, 2 ≤ k ＋ l인 경우, B1 및 B2, G1 및 G2는, 각각 서로 동일해도 좋고, 달라도 좋다.k and l each independently represent an integer of 0 to 3 and satisfy the relationship of 1 ≤ k + l. Here, when 2 ≤ k + l, B 1 and B 2 , G 1 and G 2 may be the same or different from each other.

E1 및 E2는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17의 알칸디일기를 나타내고, 여기에서, 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋고, 상기 알칸디일기에 포함되는 -CH2-는, -O-, -S-, -COO-로 치환되어 있어도 좋고, -O-, -S-, -COO-를 복수 가질 경우에는 서로 인접하지 않는다. P1 및 P2는 서로 독립적으로, 중합성기 또는 수소 원자를 나타내고, 적어도 1개는 중합성기이다.E 1 and E 2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, where the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a halogen atom, and -CH contained in the alkanediyl group 2- may be substituted with -O-, -S-, or -COO-, and when it has multiple -O-, -S-, and -COO-, they are not adjacent to each other. P 1 and P 2 each independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom, and at least one is a polymerizable group.

G1 및 G2는, 각각 독립적으로, 바람직하게는, 할로겐 원자 및 탄소수 1 ∼ 4의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개의 치환기로 치환되어 있어도 되는 1,4-페닐렌디일기, 할로겐 원자 및 탄소수 1 ∼ 4의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1개의 치환기로 치환되어 있어도 되는 1,4-시클로헥산디일기이며, 보다 바람직하게는 메틸기로 치환된 1,4-페닐렌디일기, 무치환의 1,4-페닐렌디일기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥산디일기이며, 특히 바람직하게는 무치환의 1,4-페닐렌디일기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥산디일기이다.G 1 and G 2 are each independently, preferably a 1,4-phenylenediyl group, a halogen atom, and It is a 1,4-cyclohexanediyl group which may be substituted with at least one substituent selected from the group consisting of alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a 1,4-phenylenediyl group substituted with a methyl group, or an unsubstituted group. 1,4-phenylenediyl group or unsubstituted 1,4-trans-cyclohexanediyl group, especially preferably unsubstituted 1,4-phenylenediyl group or unsubstituted 1,4-trans-cyclo It is a hexanediyl group.

또한, 복수 존재하는 G1 및 G2 중 적어도 1개는 2가의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하고, 또한, L1 또는 L2에 결합하는 G1 및 G2 중 적어도 1개는 2가의 지환식 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다.In addition, it is preferable that at least one of G 1 and G 2 present in plural is a divalent alicyclic hydrocarbon group, and at least one of G 1 and G 2 bonded to L 1 or L 2 is a divalent alicyclic hydrocarbon group. It is more preferable that it is

L1 및 L2은 각각 독립적으로, 바람직하게는, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4의 알킬렌기, -O-, -S-, -Ra1ORa2-, -Ra3COORa4-, -Ra5OCORa6-, Ra7OC＝OORa8-, -N＝N-, -CRc＝CRd-, 또는 -C≡C-이다. 여기에서, Ra1 ∼ Ra8은 각각 독립적으로 단결합, 또는 탄소수 1 ∼ 4의 알킬렌기를 나타내고, Rc 및 Rd은 탄소수 1 ∼ 4의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다. L1 및 L2은 각각 독립적으로, 보다 바람직하게는 단결합, -ORa2-1-, -CH2-, -CH2CH2-, -COORa4-1-, 또는 OCORa6-1-이다. 여기에서, Ra2-1, Ra4-1, Ra6-1은 각각 독립적으로 단결합, -CH2-, -CH2CH2- 중 어느 것을 나타낸다. L1 및 L2은 각각 독립적으로, 더 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2CH2-, -COO-, -COOCH2CH2-, 또는 OCO-이다.L 1 and L 2 are each independently, preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, -O-, -S-, -R a1 OR a2 -, -R a3 COOR a4 -, -R a5 OCOR a6 -, R a7 OC=OOR a8 -, -N=N-, -CR c =CR d -, or -C≡C-. Here, R a1 to R a8 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R c and R d represent an alkyl group or a hydrogen atom having 1 to 4 carbon atoms. L 1 and L 2 are each independently, more preferably a single bond, -OR a2-1 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -COOR a4-1 -, or OCOR a6-1 - . Here, R a2-1 , R a4-1 , and R a6-1 each independently represent a single bond, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -. L 1 and L 2 are each independently, more preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO-, -COOCH 2 CH 2 -, or OCO-.

B1 및 B2는 각각 독립적으로, 바람직하게는, 단결합, 탄소수 1 ∼ 4의 알킬렌기, -O-, -S-, -Ra9ORa10-, -Ra11COORa12-, -Ra13OCORa14-, 또는 Ra15OC＝OORa16-이다. 여기에서, Ra9 ∼ Ra16은 각각 독립적으로 단결합, 또는 탄소수 1 ∼ 4의 알킬렌기를 나타낸다. B1 및 B2는 각각 독립적으로, 보다 바람직하게는 단결합, -ORa10-1-, -CH2-, -CH2CH2-, -COORa12-1-, 또는 OCORa14-1-이다. 여기에서, Ra10-1, Ra12-1, Ra14-1은 각각 독립적으로 단결합, -CH2-, -CH2CH2- 중 어느 것을 나타낸다. B1 및 B2는 각각 독립적으로, 더 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2CH2-, -COO-, -COOCH2CH2-, -OCO-, 또는 OCOCH2CH2-이다.B 1 and B 2 are each independently, preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, -O-, -S-, -R a9 OR a10 -, -R a11 COOR a12 -, -R a13 OCOR a14 -, or R a15 OC＝OOR a16 -. Here, R a9 to R a16 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. B 1 and B 2 are each independently, more preferably a single bond, -OR a10-1 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -COOR a12-1 -, or OCOR a14-1 - . Here, R a10-1 , R a12-1 , and R a14-1 each independently represent a single bond, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -. B 1 and B 2 are each independently, more preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO-, -COOCH 2 CH 2 -, -OCO-, or OCOCH 2 CH 2 - .

k 및 l은, 역파장 분산성 발현의 관점에서 2 ≤ k ＋ l ≤ 6의 범위가 바람직하고, k ＋ l ＝ 4인 것이 바람직하고, k ＝ 2 또한 l ＝ 2인 것이 보다 바람직하다. k ＝ 2 또한 l ＝ 2이면 대칭 구조가 되기 때문에 바람직하다.From the viewpoint of developing reverse wavelength dispersion, k and l are preferably in the range of 2 ≤ k + l ≤ 6, preferably k + l = 4, and more preferably k = 2 and l = 2. k = 2 and l = 2 are also desirable because it provides a symmetrical structure.

E1 및 E2는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17의 알칸디일기가 바람직하고, 탄소수 4 ∼ 12의 알칸디일기가 보다 바람직하다.E 1 and E 2 are each independently preferably an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, and more preferably an alkanediyl group having 4 to 12 carbon atoms.

P1 또는 P2로 표시되는 중합성기로서는, 에폭시기, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥시라닐기, 및 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥시라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다.The polymerizable group represented by P 1 or P 2 includes epoxy group, vinyl group, vinyloxy group, 1-chlorovinyl group, isopropenyl group, 4-vinylphenyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, and oxiranyl group. , and oxetanyl group. Among them, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, vinyloxy group, oxiranyl group and oxetanyl group are preferable, and acryloyloxy group is more preferable.

Ar은 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 탄화수소환, 치환기를 갖고 있어도 되는 방향족 복소환, 및 전자 흡인성기에서 선택되는 적어도 하나를 갖는 것이 바람직하다. 상기 방향족 탄화수소환으로서는, 예를 들면, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 등을 들 수 있고, 벤젠환, 나프탈렌환이 바람직하다. 상기 방향족 복소환으로서는, 퓨란환, 벤조퓨란환, 피롤환, 인돌환, 티오펜환, 벤조티오펜환, 피리딘환, 피라진환, 피리미딘환, 트리아졸환, 트리아진환, 피롤린환, 이미다졸환, 피라졸환, 티아졸환, 벤조티아졸환, 티에노티아졸환, 옥사졸환, 벤조옥사졸환, 및 페난트롤린환 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 티아졸환, 벤조티아졸환, 또는 벤조퓨란환을 갖는 것이 바람직하고, 벤조티아졸기를 갖는 것이 더 바람직하다. 또한, Ar에 질소 원자가 포함되는 경우, 상기 질소 원자는 π 전자를 갖는 것이 바람직하다.Ar preferably has at least one selected from an aromatic hydrocarbon ring that may have a substituent, an aromatic heterocycle that may have a substituent, and an electron-withdrawing group. Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring, a naphthalene ring, and anthracene ring, with a benzene ring and a naphthalene ring being preferred. Examples of the aromatic heterocycle include furan ring, benzofuran ring, pyrrole ring, indole ring, thiophene ring, benzothiophene ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, triazole ring, triazine ring, pyrroline ring, and imidazole ring. , pyrazole ring, thiazole ring, benzothiazole ring, thienothiazole ring, oxazole ring, benzooxazole ring, and phenanthroline ring. Among them, those having a thiazole ring, a benzothiazole ring, or a benzofuran ring are preferable, and those having a benzothiazole group are more preferable. Additionally, when Ar contains a nitrogen atom, the nitrogen atom preferably has π electrons.

식(Ⅰ) 중, Ar로 표시되는 2가의 방향족기에 포함되는 π 전자의 합계수 Nπ은 8 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 이상이며, 더 바람직하게는 14 이상이며, 특히 바람직하게는 16 이상이다. 또한, 바람직하게는 30 이하이며, 보다 바람직하게는 26 이하이며, 더 바람직하게는 24 이하이다.In formula (I), the total number N π of π electrons contained in the divalent aromatic group represented by Ar is preferably 8 or more, more preferably 10 or more, further preferably 14 or more, and especially preferably It is 16 or more. Furthermore, it is preferably 30 or less, more preferably 26 or less, and still more preferably 24 or less.

Ar로 표시되는 방향족기로서는, 예를 들면 이하의 기를 바람직하게 들 수 있다.Preferred examples of the aromatic group represented by Ar include the following groups.

[화 2][Tuesday 2]

식(Ar-1) ∼ 식(Ar-23) 중, * 표시는 연결부를 나타내고, Z0, Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 12의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 12의 알킬술포닐기, 카르복시기, 탄소수 1 ∼ 12의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 12의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 12의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 12의 N-알킬설파모일기 또는 탄소수 2 ∼ 12의 N,N-디알킬설파모일기를 나타낸다.In formulas (Ar-1) to (Ar-23), * represents a connecting portion, and Z 0 , Z 1 and Z 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or No group, nitro group, alkylsulfinyl group with 1 to 12 carbon atoms, alkylsulfonyl group with 1 to 12 carbon atoms, carboxyl group, fluoroalkyl group with 1 to 12 carbon atoms, alkoxy group with 1 to 6 carbon atoms, alkylthio group with 1 to 12 carbon atoms , N-alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, N,N-dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, N-alkylsulfamoyl group having 1 to 12 carbon atoms, or N,N-dialkylsulfamoyl group having 2 to 12 carbon atoms. represents.

Q1, Q2 및 Q3는, 각각 독립적으로, -CR2'R3'-, -S-, -NH-, -NR2'-, -CO- 또는 O-를 나타내고, R2' 및 R3'은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4의 알킬기를 나타낸다.Q 1 , Q 2 and Q 3 each independently represent -CR 2' R 3' -, -S-, -NH-, -NR 2' -, -CO- or O-, and R 2' and R 3' each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

J1 및 J2는, 각각 독립적으로, 탄소 원자, 또는 질소 원자를 나타낸다.J 1 and J 2 each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom.

Y1, Y2 및 Y3는, 각각 독립적으로, 치환되어 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소환기를 나타낸다.Y 1 , Y 2 and Y 3 each independently represent an optionally substituted aromatic hydrocarbon group or aromatic heterocyclic group.

W1 및 W2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 시아노기, 메틸기 또는 할로겐 원자를 나타내고, m은 0 ∼ 6의 정수를 나타낸다.W 1 and W 2 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a methyl group, or a halogen atom, and m represents an integer of 0 to 6.

Y1, Y2 및 Y3에서의 방향족 탄화수소기로서는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 비페닐기 등의 탄소수 6 ∼ 20의 방향족 탄화수소기를 들 수 있고, 페닐기, 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다. 방향족 복소환기로서는, 퓨릴기, 피롤릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기 등의 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 적어도 1개 포함하는 탄소수 4 ∼ 20의 방향족 복소환기를 들 수 있고, 퓨릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기가 바람직하다.Examples of the aromatic hydrocarbon group in Y 1 , Y 2 and Y 3 include aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms such as phenyl group, naphthyl group, anthryl group, phenanthryl group and biphenyl group, with phenyl group and naphthyl group being preferred. And, a phenyl group is more preferable. The aromatic heterocyclic group includes at least one heteroatom such as a nitrogen atom such as a furyl group, pyrrolyl group, thienyl group, pyridinyl group, thiazolyl group, and benzothiazolyl group, an oxygen atom, and a sulfur atom, and has 4 to 20 carbon atoms. aromatic heterocyclic groups, and furyl group, thienyl group, pyridinyl group, thiazolyl group, and benzothiazolyl group are preferable.

Y1, Y2 및 Y3는, 각각 독립적으로, 치환되어 있어도 되는 다환계 방향족 탄화수소기 또는 다환계 방향족 복소환기여도 된다. 다환계 방향족 탄화수소기는, 축합 다환계 방향족 탄화수소기, 또는 방향환 집합에 유래하는 기를 말한다. 다환계 방향족 복소환기는, 축합 다환계 방향족 복소환기, 또는 방향환 집합에 유래하는 기를 말한다.Y 1 , Y 2 and Y 3 may each independently be an optionally substituted polycyclic aromatic hydrocarbon group or a polycyclic aromatic heterocyclic group. The polycyclic aromatic hydrocarbon group refers to a condensed polycyclic aromatic hydrocarbon group or a group derived from an aromatic ring set. The polycyclic aromatic heterocyclic group refers to a condensed polycyclic aromatic heterocyclic group or a group derived from an aromatic ring set.

Z0, Z1 및 Z2는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 12의 알콕시기인 것이 바람직하고, Z0는, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 12의 알킬기, 시아노기가 더 바람직하고, Z1 및 Z2는, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 메틸기, 시아노기가 더 바람직하다.Z 0 , Z 1 and Z 2 are each independently preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group with 1 to 12 carbon atoms, a cyano group, a nitro group or an alkoxy group with 1 to 12 carbon atoms, and Z 0 is a hydrogen atom. , an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a cyano group are more preferable, and Z 1 and Z 2 are more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, or a cyano group.

Q1, Q2 및 Q3는, -NH-, -S-, -NR2'-, -O-가 바람직하고, R2'은 수소 원자가 바람직하다. 그 중에서도 -S-, -O-, -NH-가 특히 바람직하다.Q 1 , Q 2 and Q 3 are preferably -NH-, -S-, -NR 2' -, and -O-, and R 2' is preferably a hydrogen atom. Among them, -S-, -O-, and -NH- are particularly preferable.

식 (Ar-1) ∼ (Ar-23) 중에서도, 식(Ar-6) 및 식(Ar-7)이 분자의 안정성의 관점에서 바람직하다.Among formulas (Ar-1) to (Ar-23), formulas (Ar-6) and (Ar-7) are preferable from the viewpoint of molecular stability.

식 (Ar-16) ∼ (Ar-23)에서, Y1는, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z0와 함께, 방향족 복소환기를 형성하고 있어도 된다. 방향족 복소환기로서는, Ar이 갖고 있어도 되는 방향족 복소환으로서 상기한 것을 들 수 있지만, 예를 들면, 피롤환, 이미다졸환, 피롤린환, 피리딘환, 피라진환, 피리미딘환, 인돌환, 퀴놀린환, 이소퀴놀린환, 퓨린환, 피롤리딘환 등을 들 수 있다. 이 방향족 복소환기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. 또한, Y1는, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z0와 함께, 상술한 치환되어 있어도 되는 다환계 방향족 탄화수소기 또는 다환계 방향족 복소환기여도 된다. 예를 들면, 벤조퓨란환, 벤조티아졸환, 벤조옥사졸환 등을 들 수 있다.In formulas (Ar-16) to (Ar-23), Y 1 may form an aromatic heterocyclic group together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 . Examples of the aromatic heterocyclic group include those mentioned above as aromatic heterocycles that Ar may have. For example, pyrrole ring, imidazole ring, pyrroline ring, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, indole ring, and quinoline ring. , isoquinoline ring, purine ring, pyrrolidine ring, etc. This aromatic heterocyclic group may have a substituent. In addition, Y 1 , together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0 , may be the polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group that may be substituted as described above. For example, benzofuran ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, etc. are mentioned.

중합성 액정 화합물 중에서도, 극대 흡수 파장이 300 ∼ 400㎚인 화합물이 바람직하다. 중합성 액정 조성물에 광중합개시제가 포함되는 경우, 장기 보관 시에 중합성 액정 화합물의 중합 반응 및 겔화가 진행될 우려가 있다. 그러나, 중합성 액정 화합물의 극대 흡수 파장이 300 ∼ 400㎚이면 보관 중에 자외광이 폭로되어도, 광중합개시제로부터의 반응 활성종의 발생 및 상기 반응 활성종에 의한 중합성 액정 화합물의 중합 반응 및 겔화의 진행을 유효하게 억제할 수 있다. 따라서, 중합성 액정 조성물의 장기 안정성의 점에서 유리해져, 얻어지는 위상차막의 배향성 및 막두께의 균일성을 향상시킬 수 있다. 또, 중합성 액정 화합물의 극대 흡수 파장은, 용매 중에서 자외 가시 분광 광도계를 이용하여 측정할 수 있다. 상기 용매는 중합성 액정 화합물을 용해할 수 있는 용매이며, 예를 들면 클로로포름 등을 들 수 있다.Among polymerizable liquid crystal compounds, compounds having a maximum absorption wavelength of 300 to 400 nm are preferable. If a photopolymerization initiator is included in the polymerizable liquid crystal composition, there is a risk that the polymerization reaction and gelation of the polymerizable liquid crystal compound may proceed during long-term storage. However, if the maximum absorption wavelength of the polymerizable liquid crystal compound is 300 to 400 nm, even if ultraviolet light is exposed during storage, the generation of reactive species from the photopolymerization initiator and the polymerization reaction and gelation of the polymerizable liquid crystal compound by the reactive species occur. Progression can be effectively inhibited. Therefore, it is advantageous in terms of long-term stability of the polymerizable liquid crystal composition, and the orientation and film thickness uniformity of the obtained retardation film can be improved. Additionally, the maximum absorption wavelength of the polymerizable liquid crystal compound can be measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer in a solvent. The solvent is a solvent that can dissolve the polymerizable liquid crystal compound, and examples include chloroform.

원반상의 중합성 액정 화합물로서는, 예를 들면, 식(W)으로 표시되는 기를 포함하는 화합물(이하, 「중합성 액정 화합물(W)」이라고도 함)을 들 수 있다.Examples of the disc-shaped polymerizable liquid crystal compound include a compound containing a group represented by the formula (W) (hereinafter also referred to as “polymerizable liquid crystal compound (W)”).

[화 3][Tuesday 3]

[식(W) 중, R40은, 하기 식 (W-1) ∼ (W-5)를 나타낸다.][In formula (W), R 40 represents the following formulas (W-1) to (W-5).]

[화 4][Tuesday 4]

[식 (W-1) ∼ (W-5) 중,[In formulas (W-1) to (W-5),

X40 및 Z40는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12의 알칸디일기를 나타내고, 상기 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 1 ∼ 5의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 알콕시기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋다. 또한, 상기 알칸디일기를 구성하는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 좋다.X 40 and Z 40 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and The hydrogen atom may be substituted with a halogen atom. Additionally, -CH 2 - constituting the alkanediyl group may be substituted with -O- or -CO-.

m2는, 정수를 나타낸다.]m2 represents an integer.]

봉상의 중합성 액정 화합물로서는, 예를 들면 식(Ⅱ), 식(Ⅲ), 식(Ⅳ), 식(Ⅴ), 식(Ⅵ) 또는 식(Ⅶ)으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.Examples of rod-shaped polymerizable liquid crystal compounds include compounds represented by formula (II), formula (III), formula (IV), formula (V), formula (VI), or formula (VII).

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (Ⅱ)P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (Ⅱ)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (Ⅲ)P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (Ⅲ)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (Ⅳ)P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (Ⅳ)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (Ⅴ)P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (Ⅴ)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (Ⅵ)P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (Ⅵ)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (Ⅶ)P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (Ⅶ)

[식 (Ⅱ) ∼ (Ⅶ) 중,[In formulas (II) to (VII),

A11 ∼ A14는, 각각 독립적으로, 2가의 지환식 탄화수소기 또는 2가의 방향족 탄화수소기를 나타낸다. 상기 2가의 지환식 탄화수소기 및 2가의 방향족 탄화수기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 6의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 탄소수 1 ∼ 6의 알킬기 및 상기 탄소수 1 ∼ 6의 알콕시기에 포함되는 수소 원자는, 불소 원자로 치환되어 있어도 좋다.A11 to A14 each independently represent a divalent alicyclic hydrocarbon group or a divalent aromatic hydrocarbon group. The hydrogen atom contained in the divalent alicyclic hydrocarbon group and the divalent aromatic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group with 1 to 6 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group, and The hydrogen atom contained in the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms may be substituted with a fluorine atom.

B11 및 B17은, 각각 독립적으로, -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR16-, -NR16-CO-, -CO-, -CS-, 또는 단결합을 나타낸다. R16은, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 6의 알킬기를 나타낸다.B11 and B17 are each independently -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR 16 -, -NR 16 -CO- , -CO-, -CS-, or represents a single bond. R 16 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

B12 ∼ B16은, 각각 독립적으로, -C≡C-, -CH＝CH-, -CH2-CH2-, -O-, -S-, -C(＝O)-, -C(＝O)-O-, -O-C(＝O)-, -O-C(＝O)-O-, -CH＝N-, -N＝CH-, -N＝N-, -C(＝O)-NR16-, -NR16-C(＝O)-, -OCH2-, -OCF2-, -CH2O-, -CF2O-, -CH＝CH-C(＝O)-O-, -O-C(＝O)-CH＝CH- 또는 단결합을 나타낸다.B12 to B16 are each independently -C≡C-, -CH=CH-, -CH 2 -CH 2 -, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O )-O-, -OC(＝O)-, -OC(＝O)-O-, -CH＝N-, -N=CH-, -N=N-, -C(＝O)-NR 16 -, -NR 16 -C(＝O)-, -OCH 2 -, -OCF 2 -, -CH 2 O-, -CF 2 O-, -CH＝CH-C(＝O)-O-, - OC(=O)-CH=CH- or represents a single bond.

E11 및 E12는, 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 12의 알칸디일기를 나타내고, 상기 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 탄소수 1 ∼ 5의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋고, 상기 알콕시기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 좋다. 또한, 상기 알칸디일기를 구성하는 -CH2-는, -O- 또는 -CO-로 치환되어 있어도 좋다.E11 and E12 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkoxy group may be may be substituted with a halogen atom. Additionally, -CH 2 - constituting the alkanediyl group may be substituted with -O- or -CO-.

F11은, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 13의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 13의 알콕시기, 시아노기, 니트로기, 트리플루오로메틸기, 디메틸아미노기, 히드록시기, 메틸올기, 포르밀기, 술포기(-SO3H), 카르복시기, 탄소수 1 ∼ 10의 알콕시카르보닐기 또는 할로겐 원자를 나타내고, 상기 알킬기 및 알콕시기를 구성하는 -CH2-는, -O-로 치환되어 있어도 좋다.F11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 13 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 13 carbon atoms, cyano group, nitro group, trifluoromethyl group, dimethylamino group, hydroxy group, methylol group, formyl group, sulfo group (-SO 3 H ), a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, and -CH 2 - constituting the alkyl group and the alkoxy group may be substituted with -O-.

P11 및 P12는, 각각 독립적으로, 중합성기를 나타낸다.]P11 and P12 each independently represent a polymerizable group.]

위상차막 형성용 조성물 중의 중합성 액정 화합물의 함유량은, 위상차막 형성용 조성물의 고형분 100질량부에 대하여, 예를 들면 70 ∼ 99.5질량부이며, 바람직하게는 80 ∼ 99질량부이며, 보다 바람직하게는 85 ∼ 98질량부이며, 더 바람직하게는 90 ∼ 95질량부이다. 중합성 액정 화합물의 함유량이 상기 범위 내이면, 얻어지는 위상차막의 배향성의 관점에서 유리하다. 또, 본 명세서에서, 중합성 액정 조성물의 고형분이란, 중합성 액정 조성물로부터 유기 용제 등의 휘발성 성분을 제외한 모든 성분을 의미한다.The content of the polymerizable liquid crystal compound in the composition for forming a retardation film is, for example, 70 to 99.5 parts by mass, preferably 80 to 99 parts by mass, more preferably 80 to 99 parts by mass, based on 100 parts by mass of solid content of the composition for forming a retardation film. is 85 to 98 parts by mass, more preferably 90 to 95 parts by mass. If the content of the polymerizable liquid crystal compound is within the above range, it is advantageous from the viewpoint of the orientation of the resulting retardation film. In addition, in this specification, the solid content of the polymerizable liquid crystal composition means all components excluding volatile components such as organic solvents from the polymerizable liquid crystal composition.

(5-2) 위상차막 형성용 조성물(5-2) Composition for forming a phase contrast film

상기와 같이, 위상차막 형성용 조성물은, 중합성 액정 화합물을 포함한다. 위상차막 형성용 조성물은 또한, 용제, 레벨링제, 중합개시제, 광증감제, 중합 금지제, 가교제, 밀착제 등의 반응성 첨가제를 포함하고 있어도 되고, 용제, 레벨링제를 포함하는 것이 가공성의 관점에서 바람직하다.As described above, the composition for forming a retardation film includes a polymerizable liquid crystal compound. The composition for forming a retardation film may further contain reactive additives such as a solvent, leveling agent, polymerization initiator, photosensitizer, polymerization inhibitor, crosslinking agent, and adhesive agent. From the viewpoint of processability, the composition for forming a retardation film may include a solvent and a leveling agent. desirable.

위상차막 형성용 조성물은 용제를 함유해도 된다. 일반적으로 중합성 액정 화합물은 점도가 높기 때문에, 용제에 용해시킨 위상차막 형성용 조성물로 함으로써 도포가 용이해져, 결과적으로 위상차막의 형성이 용이해지는 경우가 많다. 용제로서는, 중합성 액정 화합물을 완전히 용해할 수 있는 것이 바람직하고, 또한, 중합성 액정 화합물의 중합 반응에 불활성의 용제인 것이 바람직하다.The composition for forming a retardation film may contain a solvent. In general, polymerizable liquid crystal compounds have high viscosity, so application is facilitated by dissolving them in a solvent as a composition for forming a retardation film, and as a result, formation of a retardation film is often facilitated. The solvent is preferably one that can completely dissolve the polymerizable liquid crystal compound, and is also preferably inert in the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound.

용제로서는, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용제; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤 또는 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트 및 젖산에틸 등의 에스테르 용제; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 2-헵탄온 및 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제; 펜탄, 헥산 및 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용제; 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴 용제; 테트라히드로퓨란 및 디메톡시에탄 등의 에테르 용제; 클로로포름 및 클로로벤젠 등의 염소 함유 용제; 디메틸아세트아미드, 디메틸포름아미드, N-메틸-2-피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논 등의 아미드계 용제 등을 들 수 있다. 이들 용제는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다.Examples of the solvent include alcohol solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, and propylene glycol monomethyl ether; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, and methyl isobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane; Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; Chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; and amide-based solvents such as dimethylacetamide, dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. These solvents may be used individually, or may be used in combination of two or more types.

용제의 함유량은, 위상차막 형성용 조성물의 총량에 대하여 50 ∼ 98질량％가 바람직하다. 환언하면, 위상차막 형성용 조성물에 있어서의 고형분의 함유량은, 2 ∼ 50질량％가 바람직하고, 5 ∼ 30질량％가 보다 바람직하다. 상기 고형분의 함유량이 50질량％ 이하이면, 위상차막 형성용 조성물의 점도가 낮아지는 점에서, 위상차막의 두께가 대략 균일해짐으로써, 상기 위상차막에 불균일이 발생하기 어려워지는 경향이 있다. 또한, 이러한 고형분의 함유량은, 제조하고자 하는 위상차막의 두께를 고려하여 정할 수 있다.The content of the solvent is preferably 50 to 98% by mass with respect to the total amount of the composition for forming a retardation film. In other words, the solid content in the composition for forming a retardation film is preferably 2 to 50% by mass, and more preferably 5 to 30% by mass. If the solid content is 50% by mass or less, the viscosity of the composition for forming a retardation film is lowered, and the thickness of the retardation film becomes substantially uniform, which tends to make it difficult for unevenness to occur in the retardation film. Additionally, the content of this solid content can be determined by considering the thickness of the retardation film to be manufactured.

위상차막 형성용 조성물에는, 레벨링제를 함유시켜도 된다. 레벨링제란, 조성물의 유동성을 조정하고, 조성물을 도포하여 얻어지는 막을 보다 평탄하게 하는 기능을 갖는 첨가제이며, 예를 들면, 유기 변성 실리콘계, 폴리아크릴레이트계 및 퍼플루오로알킬계의 레벨링제를 들 수 있다. 그 중에서도, 수평 배향시키는 경우에는, 폴리아크릴레이트계 레벨링제 및 퍼플루오로알킬계 레벨링제가 바람직하고, 수직 배향시키는 경우에는, 유기 변성 실리콘계 레벨링제 및 퍼플루오로알킬계 레벨링제가 바람직하다.The composition for forming a retardation film may contain a leveling agent. A leveling agent is an additive that has the function of adjusting the fluidity of the composition and making the film obtained by applying the composition more flat. Examples include organic modified silicone-based, polyacrylate-based, and perfluoroalkyl-based leveling agents. You can. Among them, in the case of horizontal alignment, a polyacrylate-based leveling agent and a perfluoroalkyl-based leveling agent are preferable, and in the case of vertical alignment, an organic modified silicone-based leveling agent and a perfluoroalkyl-based leveling agent are preferable.

위상차막 형성용 조성물이 레벨링제를 함유하는 경우, 그 함유량은, 중합성 액정 화합물의 함유량 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 5질량부, 보다 바람직하게는 0.05 ∼ 3질량부이다. 레벨링제의 함유량이 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물을 수평 배향시키는 것이 용이하며, 또한 얻어지는 위상차막이 보다 평활해지는 경향이 있다. 중합성 액정 화합물에 대한 레벨링제의 함유량이 상기 범위를 초과하면, 얻어지는 위상차막에 불균일이 발생하기 쉬운 경향이 있다. 또, 위상차막 형성용 조성물은, 레벨링제를 2종 이상 함유하고 있어도 된다.When the composition for forming a retardation film contains a leveling agent, the content is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.05 to 3 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the content of the polymerizable liquid crystal compound. If the content of the leveling agent is within the above range, it is easy to horizontally align the polymerizable liquid crystal compound, and the resulting retardation film tends to be smoother. If the content of the leveling agent in the polymerizable liquid crystal compound exceeds the above range, unevenness tends to occur in the resulting retardation film. Moreover, the composition for forming a retardation film may contain two or more types of leveling agents.

위상차막 형성용 조성물은 중합개시제를 함유하고 있어도 된다. 중합개시제는, 중합성 액정 화합물 등의 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이다. 중합개시제로서는, 서모트로픽 액정의 상(相) 상태에 의존하지 않는다는 관점에서, 광의 작용에 의해 활성 라디칼을 발생시키는 광중합개시제가 바람직하다.The composition for forming a phase contrast film may contain a polymerization initiator. A polymerization initiator is a compound that can initiate a polymerization reaction of a polymerizable liquid crystal compound. As a polymerization initiator, a photopolymerization initiator that generates active radicals by the action of light is preferable from the viewpoint of not being dependent on the phase state of the thermotropic liquid crystal.

광중합개시제는, 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이면, 공지된 광중합개시제를 이용할 수 있다. 구체적으로는, 광의 작용에 의해 활성 라디칼 또는 산을 발생할 수 있는 광중합개시제를 들 수 있고, 그 중에서도, 광의 작용에 의해 라디칼을 발생하는 광중합개시제가 바람직하다. 광중합개시제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.As the photopolymerization initiator, any known photopolymerization initiator can be used as long as it is a compound capable of initiating the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound. Specifically, photopolymerization initiators that can generate active radicals or acids by the action of light can be mentioned, and among these, photopolymerization initiators that can generate radicals by the action of light are preferable. Photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more types.

광중합개시제로서는, 공지된 광중합개시제를 이용할 수 있고, 예를 들면, 활성 라디칼을 발생하는 광중합개시제로서는, 자기(自己) 개렬형의 벤조인계 화합물, 아세토페논계 화합물, 히드록시아세토페논계 화합물, α-아미노아세토페논계 화합물, 옥심에스테르계 화합물, 아실포스핀옥사이드계 화합물, 아조계 화합물 등을 사용할 수 있고, 수소 인발형(引拔型)의 벤조페논계 화합물, 알킬페논계 화합물, 벤조인에테르계 화합물, 벤질케탈계 화합물, 디벤조스베론계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 크산톤계 화합물, 티오크산톤계 화합물, 할로게노아세토페논계 화합물, 디알콕시아세토페논계 화합물, 할로게노비스이미다졸계 화합물, 할로게노트리아진계 화합물, 트리아진계 화합물 등을 사용할 수 있다. 산을 발생하는 광중합개시제로서는, 요오드늄염 및 술포늄염 등을 사용할 수 있다. 저온에서의 반응 효율이 우수하다는 관점에서 자기 개렬형의 광중합개시제가 바람직하고, 특히 아세토페논계 화합물, 히드록시아세토페논계 화합물, α-아미노아세토페논계 화합물, 옥심에스테르계 화합물이 바람직하다.As the photopolymerization initiator, known photopolymerization initiators can be used. For example, photopolymerization initiators that generate active radicals include self-cleavable benzoin-based compounds, acetophenone-based compounds, hydroxyacetophenone-based compounds, α -Aminoacetophenone-based compounds, oxime ester-based compounds, acylphosphine oxide-based compounds, azo-based compounds, etc. can be used, and hydrogen abstraction-type benzophenone-based compounds, alkylphenone-based compounds, and benzoin ethers. type compounds, benzyl ketal type compounds, dibenzosberone type compounds, anthraquinone type compounds, xanthone type compounds, thioxanthone type compounds, halogenoacetophenone type compounds, dialkoxyacetophenone type compounds, halogenobisimida Sol-based compounds, halogenotriazine-based compounds, triazine-based compounds, etc. can be used. As a photopolymerization initiator that generates acid, iodonium salts, sulfonium salts, etc. can be used. From the viewpoint of excellent reaction efficiency at low temperatures, self-cleavable photopolymerization initiators are preferable, and acetophenone-based compounds, hydroxyacetophenone-based compounds, α-aminoacetophenone-based compounds, and oxime ester-based compounds are particularly preferable.

위상차막 형성용 조성물 중의 중합개시제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 종류 및 그 양에 따라 적절히 조절할 수 있지만, 중합성 액정 화합물의 함유량 100질량부에 대하여, 통상 0.1 ∼ 30질량부, 바람직하게는 0.5 ∼ 10질량부, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 8질량부이다. 중합개시제의 함유량이 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향을 어지럽히는 일 없이 중합을 행할 수 있다.The content of the polymerization initiator in the composition for forming a retardation film can be appropriately adjusted depending on the type and amount of the polymerizable liquid crystal compound, but is usually 0.1 to 30 parts by mass, preferably 0.1 to 30 parts by mass, based on 100 parts by mass of the content of the polymerizable liquid crystal compound. It is 0.5 to 10 parts by mass, more preferably 0.5 to 8 parts by mass. If the content of the polymerization initiator is within the above range, polymerization can be performed without disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound.

위상차막 형성용 조성물은 증감제를 함유해도 된다. 증감제로서는, 광증감제가 바람직하다. 상기 증감제로서는, 예를 들면, 크산톤 및 티오크산톤 등의 크산톤 화합물(예를 들면, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤 등); 안트라센 및 알콕시기 함유 안트라센(예를 들면, 디부톡시안트라센 등) 등의 안트라센 화합물; 페노티아진 및 루브렌 등을 들 수 있다.The composition for forming a phase contrast film may contain a sensitizer. As a sensitizer, a photosensitizer is preferable. Examples of the sensitizer include xanthone compounds such as xanthone and thioxanthone (for example, 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, etc.); Anthracene compounds such as anthracene and alkoxy group-containing anthracene (for example, dibutoxyanthracene, etc.); Phenothiazine, rubrene, etc. can be mentioned.

위상차막 형성용 조성물이 증감제를 함유하는 경우, 위상차막 형성용 조성물에 함유되는 중합성 액정 화합물의 중합 반응을 보다 촉진할 수 있다. 이러한 증감제의 사용량은, 중합성 액정 화합물의 함유량 100질량부에 대하여, 0.1 ∼ 30질량부가 바람직하고, 0.5 ∼ 10질량부가 보다 바람직하고, 0.5 ∼ 8질량부가 더 바람직하다.When the composition for forming a phase contrast film contains a sensitizer, the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound contained in the composition for forming a phase contrast film can be further promoted. The amount of the sensitizer used is preferably 0.1 to 30 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass, and still more preferably 0.5 to 8 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound.

중합 반응을 안정적으로 진행시키는 관점에서, 위상차막 형성용 조성물은 산화 방지제를 함유해도 된다. 산화 방지제에 의해, 중합성 액정 화합물의 중합 반응의 진행 정도를 컨트롤할 수 있다.From the viewpoint of stably advancing the polymerization reaction, the composition for forming a retardation film may contain an antioxidant. The progress of the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound can be controlled by the antioxidant.

상기 산화 방지제로서는, 예를 들면, 페놀계 산화 방지제, 아민계 산화 방지제, 퀴논계 산화 방지제, 니트로소계 산화 방지제에서 선택되는 일차 산화 방지제여도 좋고, 인계 산화 방지제 및 황계 산화 방지제에서 선택되는 이차 산화 방지제여도 좋다.The antioxidant may be, for example, a primary antioxidant selected from phenol-based antioxidants, amine-based antioxidants, quinone-based antioxidants, and nitroso-based antioxidants, and a secondary antioxidant selected from phosphorus-based antioxidants and sulfur-based antioxidants. It's okay too.

위상차막 형성용 조성물이 산화 방지제를 함유하는 경우, 산화 방지제의 함유량은, 중합성 액정 화합물의 함유량 100질량부에 대하여, 바람직하게는 0.1 ∼ 30질량부, 보다 바람직하게는 0.5 ∼ 10질량부, 더 바람직하게는 0.5 ∼ 8질량부이다. 산화 방지제는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 산화 방지제의 함유량이, 상기 범위 내이면, 중합성 액정 화합물의 배향을 어지럽히는 일 없이 중합을 행할 수 있다.When the composition for forming a retardation film contains an antioxidant, the content of the antioxidant is preferably 0.1 to 30 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass, based on 100 parts by mass of the content of the polymerizable liquid crystal compound. More preferably, it is 0.5 to 8 parts by mass. Antioxidants can be used individually or in combination of two or more types. If the content of the antioxidant is within the above range, polymerization can be performed without disturbing the orientation of the polymerizable liquid crystal compound.

위상차막 형성용 조성물은, 반응성 첨가제를 포함해도 된다. 반응성 첨가제로서는, 그 분자 내에 탄소-탄소 불포화 결합이나 활성 수소 반응성기나 티올기를 갖는 것이 바람직하다. 또, 여기에서 말하는 「활성 수소 반응성기」란, 카르복시기(-COOH), 수산기(-OH), 아미노기(-NH2) 등의 활성 수소를 갖는 기에 대하여 반응성을 갖는 기를 의미하고, 글리시딜기, 옥사졸린기, 카르보디이미드기, 아지리딘기, 이미드기, 이소시아네이트기, 티오이소시아네이트기, 무수 말레산기 등이 그 대표예이다. 반응성 첨가제가 갖는 반응성기의 개수는, 통상, 각각 1 ∼ 20개이며, 바람직하게는 각각 1 ∼ 10개이다.The composition for forming a retardation film may contain a reactive additive. As a reactive additive, it is preferable to have a carbon-carbon unsaturated bond, an active hydrogen reactive group, or a thiol group in the molecule. In addition, the "active hydrogen reactive group" herein refers to a group that is reactive toward groups having active hydrogen such as a carboxyl group (-COOH), a hydroxyl group (-OH), and an amino group (-NH 2 ), and includes a glycidyl group, Representative examples include oxazoline group, carbodiimide group, aziridine group, imide group, isocyanate group, thioisocyanate group, and maleic anhydride group. The number of reactive groups each reactive additive has is usually 1 to 20, and preferably 1 to 10.

(5-3) 기재(5-3) Description

위상차막을 형성하기 위한 상기 기재로서는, 유리 기재 및 필름 기재를 들 수 있고, 필름 기재가 바람직한, 연속적으로 제조할 수 있는 점에서 장척의 롤상 필름이 보다 바람직하다. 필름 기재를 구성하는 수지로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 쇄상 폴리올레핀; 환상 올레핀계 수지; 폴리비닐알코올; 폴리에틸렌테레프탈레이트; 폴리메타크릴산에스테르; 폴리아크릴산에스테르; 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스 및 셀룰로오스아세테이트프로피오네이트 등의 셀룰로오스에스테르; 폴리에틸렌나프탈레이트; 폴리카보네이트; 폴리설폰; 폴리에테르설폰; 폴리에테르케톤; 폴리페닐렌설파이드 및 폴리페닐렌옥사이드; 등을 들 수 있다. 그 중에서도 광학 필름 용도로 사용할 때의 투명성 등의 관점에서 트리아세틸셀룰로오스, 환상 올레핀계 수지, 폴리메타크릴산에스테르, 폴리에틸렌테레프탈레이트 중 어느 것에서 선택되는 필름 기재가 보다 바람직하다.Examples of the substrate for forming the retardation film include a glass substrate and a film substrate. A film substrate is preferable, and a long roll-shaped film is more preferable because it can be manufactured continuously. Examples of the resin constituting the film base material include chain polyolefins such as polyethylene and polypropylene; Cyclic olefin resin; polyvinyl alcohol; polyethylene terephthalate; polymethacrylic acid ester; polyacrylic acid ester; Cellulose esters such as triacetylcellulose, diacetylcellulose, and cellulose acetate propionate; polyethylene naphthalate; polycarbonate; polysulfone; polyethersulfone; polyether ketone; polyphenylene sulfide and polyphenylene oxide; etc. can be mentioned. Among these, from the viewpoint of transparency when used as an optical film, a film substrate selected from any of triacetylcellulose, cyclic olefin resin, polymethacrylic acid ester, and polyethylene terephthalate is more preferable.

시판되는 셀룰로오스에스테르 기재로서는, "Fuji Tac Film"(FUJIFILM Corporation 제조); "KC8UX2M", "KC8UY" 및 "KC4UY"(이상, KONICA MINOLTA OPTO, INC. 제조) 등을 들 수 있다.Commercially available cellulose ester substrates include "Fuji Tac Film" (manufactured by FUJIFILM Corporation); “KC8UX2M”, “KC8UY”, and “KC4UY” (manufactured by KONICA MINOLTA OPTO, INC.), etc.

시판되는 환상 올레핀계 수지로서는, "Topas"(등록상표)(Ticona사(독일) 제조), "아톤"(등록상표)(JSR Corporation 제조), "제오노아(ZEONOR)"(등록상표), "제오넥스(ZEONEX)"(등록상표)(이상, Zeon Corporation 제조) 및 "아펠"(등록상표)(Mitsui Chemicals, Inc. 제조)을 들 수 있다. 이러한 환상 올레핀계 수지를, 용제 캐스트법, 용융 압출법 등의 공지된 수단에 의해 제막하여, 기재로 할 수 있다. 시판되고 있는 환상 올레핀계 수지 기재를 이용할 수도 있다. 시판되는 환상 올레핀계 수지 기재로서는, "에스시나"(등록상표), "SCA40"(등록상표)(이상, Sekisui Chemical Company, Limited 제조), "제오노아 필름"(등록상표)(Optes Co., Ltd. 제조) 및 "아톤 필름"(등록상표)(JSR Corporation 제조)을 들 수 있다.Commercially available cyclic olefin resins include "Topas" (registered trademark) (manufactured by Ticona (Germany)), "Aton" (registered trademark) (manufactured by JSR Corporation), "ZEONOR" (registered trademark), " Examples include “ZEONEX” (registered trademark) (manufactured by Zeon Corporation) and “Appel” (registered trademark) (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.). This cyclic olefin resin can be formed into a film by a known means such as a solvent casting method or a melt extrusion method to serve as a base material. A commercially available cyclic olefin resin base material can also be used. Commercially available cyclic olefin resin substrates include "Scina" (registered trademark), "SCA40" (registered trademark) (manufactured by Sekisui Chemical Company, Limited), and "Zeonoa Film" (registered trademark) (Optes Co., Ltd.) Ltd.) and “Aton Film” (registered trademark) (manufactured by JSR Corporation).

기재의 두께는, 실용적인 취급을 할 수 있을 정도로 얇은 것이 바람직하지만, 지나치게 얇으면 강도가 저하되어, 가공성이 떨어지는 경향이 있다. 기재의 두께는, 통상, 5㎛ ∼ 300㎛이며, 바람직하게는 10㎛ ∼ 200㎛, 보다 바람직하게는 10 ∼ 50㎛이다. 또한, 기재를 박리하여 위상차막을 전사함으로써, 추가적인 박막화 효과가 얻어진다.The thickness of the base material is preferably thin enough to allow practical handling, but if it is too thin, the strength tends to decrease and processability tends to deteriorate. The thickness of the base material is usually 5 μm to 300 μm, preferably 10 μm to 200 μm, and more preferably 10 to 50 μm. Additionally, by peeling off the substrate and transferring the retardation film, an additional thinning effect is obtained.

(5-4) 배향막(5-4) Alignment film

본 명세서에서 배향막은, 중합성 액정 화합물을 원하는 방향으로 액정 배향시키는, 배향 규제력을 갖는 것이다.In this specification, the alignment film has an orientation regulating force that aligns the liquid crystal of the polymerizable liquid crystal compound in a desired direction.

배향막은, 중합성 액정 화합물의 액정 배향을 용이하게 한다. 수평 배향, 수직 배향, 하이브리드 배향, 경사 배향 등의 액정 배향 상태는, 배향막 및 중합성 액정 화합물의 성질에 따라 변화하고, 그 조합은 임의로 선택할 수 있다. 예를 들면, 배향막이 배향 규제력으로서 수평 배향을 발현시키는 재료이면, 중합성 액정 화합물은 수평 배향 또는 하이브리드 배향을 형성할 수 있고, 수직 배향을 발현시키는 재료이면, 중합성 액정 화합물은 수직 배향 또는 경사 배향을 형성할 수 있다. 수평, 수직 등의 표현은, 위상차막 평면을 기준으로 한 경우의, 배향된 중합성 액정 화합물의 광축의 방향을 나타낸다. 예를 들면, 수직 배향이란 위상차막 평면에 대하여 수직인 방향으로, 배향된 중합성 액정 화합물의 광축을 갖는 것이다. 여기에서 말하는 수직이란, 위상차막 평면에 대하여 90° ± 20°를 의미한다.The alignment film facilitates liquid crystal alignment of the polymerizable liquid crystal compound. The liquid crystal alignment state, such as horizontal alignment, vertical alignment, hybrid alignment, and oblique alignment, varies depending on the properties of the alignment film and the polymerizable liquid crystal compound, and their combination can be selected arbitrarily. For example, if the alignment film is a material that exhibits horizontal alignment as an orientation regulating force, the polymerizable liquid crystal compound can form horizontal alignment or hybrid alignment, and if the alignment film is a material that exhibits vertical alignment, the polymeric liquid crystal compound can form vertical alignment or tilt. Orientation can be formed. Expressions such as horizontal, vertical, etc. indicate the direction of the optical axis of the aligned polymerizable liquid crystal compound when the retardation film plane is referenced. For example, vertical alignment means having the optical axis of the polymerizable liquid crystal compound oriented in a direction perpendicular to the plane of the retardation film. Perpendicular here means 90° ± 20° with respect to the phase contrast film plane.

배향 규제력은, 배향막이 배향성 폴리머로 형성되어 있는 경우에는, 표면 상태나 러빙 조건에 따라 임의로 조정하는 것이 가능하며, 광배향성 폴리머로 형성되어 있는 경우에는, 편광 조사 조건 등에 따라 임의로 조정하는 것이 가능하다. 또한, 중합성 액정 화합물의, 표면 장력이나 액정성 등의 물성을 선택함으로써, 액정 배향을 제어할 수도 있다.If the alignment film is made of an orientation polymer, the orientation regulating force can be arbitrarily adjusted depending on the surface condition or rubbing conditions. If the alignment film is made of a photo-alignment polymer, it can be arbitrarily adjusted depending on polarization irradiation conditions, etc. . Additionally, liquid crystal orientation can be controlled by selecting physical properties such as surface tension and liquid crystallinity of the polymerizable liquid crystal compound.

기재와 위상차막 사이에 형성되는 배향막으로서는, 배향막 상에 위상차막을 형성할 때에 사용되는 용제에 불용이며, 또한, 용제의 제거나 액정의 배향을 위한 가열 처리에 있어서의 내열성을 갖는 것이 바람직하다. 배향막으로서는, 배향성 폴리머로 이루어지는 배향막, 광배향막 및 그루브(groove) 배향막, 배향 방향으로 연신되어 있는 연신 필름 등을 들 수 있고, 장척의 롤상 필름에 적용하는 경우에는, 배향 방향을 용이하게 제어할 수 있는 점에서, 광배향막이 바람직하다.The alignment film formed between the substrate and the retardation film is preferably insoluble in the solvent used when forming the retardation film on the alignment film and has heat resistance in heat treatment for removing the solvent or aligning the liquid crystal. Examples of the orientation film include an orientation film made of an orientation polymer, a photo-alignment film, a groove orientation film, and a stretched film stretched in the orientation direction. When applied to a long roll-shaped film, the orientation direction can be easily controlled. In this regard, a photo-alignment film is preferable.

배향막의 두께는, 통상 10㎚ ∼ 5000㎚의 범위이며, 바람직하게는 10㎚ ∼ 1000㎚의 범위이며, 보다 바람직하게는 30 ∼ 300㎚이다.The thickness of the alignment film is usually in the range of 10 nm to 5000 nm, preferably in the range of 10 nm to 1000 nm, and more preferably in the range of 30 to 300 nm.

러빙 배향막에 이용되는 배향성 폴리머로서는, 분자 내에 아미드 결합을 갖는 폴리아미드나 젤라틴류, 분자 내에 이미드 결합을 갖는 폴리이미드 및 그 가수분해물인 폴리아믹산, 폴리비닐알코올, 알킬 변성 폴리비닐알코올, 폴리아크릴아미드, 폴리옥사졸, 폴리에틸렌이민, 폴리스티렌, 폴리비닐피롤리돈, 폴리아크릴산 및 폴리아크릴산에스테르류 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리비닐알코올이 바람직하다. 이들 배향성 폴리머는, 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 좋다.Orienting polymers used in the rubbing alignment film include polyamides and gelatins having an amide bond in the molecule, polyimide having an imide bond in the molecule and its hydrolyzate, polyamic acid, polyvinyl alcohol, alkyl-modified polyvinyl alcohol, and polyacrylic. Amides, polyoxazole, polyethyleneimine, polystyrene, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid, and polyacrylic acid esters can be mentioned. Among them, polyvinyl alcohol is preferable. These orientation polymers may be used individually, or may be used in combination of two or more types.

러빙하는 방법으로서는, 러빙 포가 감겨져, 회전하고 있는 러빙 롤에, 배향성 폴리머 조성물을 기재에 도포하고 어닐함으로써 기재 표면에 형성된 배향성 폴리머의 막을, 접촉시키는 방법을 들 수 있다.A method of rubbing includes a method of contacting a film of the oriented polymer formed on the surface of the base material by applying an oriented polymer composition to the base material and annealing it with a rubbing roll in which a rubbing cloth is wound and rotating.

광배향막은, 광반응성기를 갖는 폴리머나 올리고머 또는 모노머로 이루어진다. 광배향막은, 편광을 조사함으로써 배향 규제력이 얻어진다. 조사하는 편광의 편광 방향을 선택함으로써, 배향 규제력의 방향을 임의로 제어할 수 있는 점에서 광배향막이 보다 바람직하다.The photo-alignment film is made of a polymer, oligomer, or monomer having a photoreactive group. The photo-alignment film obtains an orientation regulation force by irradiating polarized light. A photo-alignment film is more preferable because the direction of the alignment regulating force can be arbitrarily controlled by selecting the polarization direction of the polarized light to be irradiated.

광반응성기란, 광을 조사함으로써 액정 배향능을 일으키는 기를 말한다. 구체적으로는, 광을 조사함으로써 발생하는 분자의 배향 유기(誘起) 또는 이성화 반응, 이량화 반응, 광가교 반응, 또는 광분해 반응과 같은, 액정 배향능의 기원이 되는 광반응을 일으키는 것이다. 상기 광반응성기 중에서도, 이량화 반응 또는 광가교 반응을 일으키는 것이, 배향성이 우수한 점에서 바람직하다. 이상과 같은 반응을 일으킬 수 있는 광반응성기로서는, 불포화 결합, 특히 이중 결합을 갖는 것이 바람직하고, 탄소-탄소 이중 결합(C＝C 결합), 탄소-질소 이중 결합(C＝N 결합), 질소-질소 이중 결합(N＝N 결합), 및 탄소-산소 이중 결합(C＝O 결합)으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 갖는 기가 보다 바람직하다.A photoreactive group refers to a group that produces liquid crystal alignment ability by irradiating light. Specifically, it causes orientation induction of molecules that occurs by irradiating light, or a photoreaction that is the origin of the liquid crystal alignment ability, such as an isomerization reaction, dimerization reaction, photocrosslinking reaction, or photodecomposition reaction. Among the photoreactive groups, those that cause a dimerization reaction or a photocrosslinking reaction are preferred because they have excellent orientation. The photoreactive group capable of causing the above reaction preferably has an unsaturated bond, especially a double bond, and includes a carbon-carbon double bond (C=C bond), a carbon-nitrogen double bond (C=N bond), and nitrogen. - A group having at least one selected from the group consisting of a nitrogen double bond (N=N bond) and a carbon-oxygen double bond (C=O bond) is more preferable.

C＝C 결합을 갖는 광반응성기로서는 예를 들면, 비닐기, 폴리엔기, 스틸벤기, 스틸바졸기, 스틸바졸륨기, 칼콘기 및 신나모일기 등을 들 수 있다. 반응성의 제어가 용이하다는 점이나 광배향 시의 배향 규제력 발현의 관점에서, 칼콘기 및 신나모일기가 바람직하다. C＝N 결합을 갖는 광반응성기로서는, 방향족 시프염기 및 방향족 히드라존 등의 구조를 갖는 기를 들 수 있다. N＝N 결합을 갖는 광반응성기로서는, 아조벤젠기, 아조나프탈렌기, 방향족 복소환 아조기, 비스아조기 및 포르마잔기 등이나, 아족시벤젠을 기본 구조로 하는 것을 들 수 있다. C＝O 결합을 갖는 광반응성기로서는, 벤조페논기, 쿠마린, 안트라퀴논기 및 말레이미드기 등을 들 수 있다. 이들 기는, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 아릴옥시기, 시아노기, 알콕시카르보닐기, 히드록실기, 설폰산기 및 할로겐화알킬기 등의 치환기를 갖고 있어도 된다.Examples of photoreactive groups having a C=C bond include vinyl group, polyene group, stilbene group, stilbazol group, stilbazolium group, chalcone group, and cinnamoyl group. From the viewpoint of ease of control of reactivity and expression of orientation regulation force during photo-alignment, chalcone group and cinnamoyl group are preferable. Examples of the photoreactive group having a C=N bond include groups having structures such as aromatic Schiff base and aromatic hydrazone. Examples of the photoreactive group having an N=N bond include azobenzene group, azonaphthalene group, aromatic heterocyclic azo group, bisazo group, and forma residue group, and those having azoxybenzene as the basic structure. Examples of the photoreactive group having a C=O bond include benzophenone group, coumarin, anthraquinone group, and maleimide group. These groups may have substituents such as an alkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, cyano group, alkoxycarbonyl group, hydroxyl group, sulfonic acid group, and halogenated alkyl group.

편광을 조사하려면, 막면으로부터 직접 편광을 조사하는 형식이어도, 기재 측으로부터 편광을 조사하고, 편광을 투과시켜 조사하는 형식이어도 좋다. 또한, 상기 편광은, 실질적으로 평행광인 것이 특히 바람직하다. 조사하는 편광의 파장은, 광반응성기를 갖는 폴리머 또는 모노머의 광반응성기가, 광에너지를 흡수할 수 있는 파장 영역인 것이 좋다. 구체적으로는, 파장 250 ∼ 400㎚의 범위의 UV(자외광)가 특히 바람직하다. 상기 편광 조사에 이용하는 광원으로서는, 크세논 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈할라이드 램프, KrF, ArF 등의 자외광 레이저 등을 들 수 있고, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프 및 메탈할라이드 램프가 보다 바람직하다. 이들 램프는, 파장 313㎚의 자외광의 발광 강도가 크기 때문에 바람직하다. 상기 광원으로부터의 광을, 적당한 편광자를 통과하여 조사함으로써, 편광을 조사할 수 있다. 이러한 편광자로서는, 편광 필터나 글랜 톰슨, 글랜 테일러 등의 편광 프리즘이나 와이어 그리드 타입의 편광자를 이용할 수 있다.To irradiate polarized light, the form may be irradiating polarized light directly from the film surface, or the form may be irradiating polarized light from the substrate side and transmitting the polarized light. In addition, it is particularly preferable that the polarized light is substantially parallel light. The wavelength of the polarized light to be irradiated is preferably in a wavelength range where the photoreactive group of the polymer or monomer having a photoreactive group can absorb light energy. Specifically, UV (ultraviolet light) with a wavelength of 250 to 400 nm is particularly preferable. Light sources used for the polarization irradiation include xenon lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, ultraviolet lasers such as KrF and ArF, and more examples of high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, and metal halide lamps. desirable. These lamps are preferable because they emit high intensity of ultraviolet light with a wavelength of 313 nm. Polarized light can be irradiated by irradiating light from the light source through an appropriate polarizer. As such a polarizer, a polarizing filter, a polarizing prism such as Glenn Thompson or Glenn Taylor, or a wire grid type polarizer can be used.

(6) 점접착제층(6) Adhesive layer

제1 점접착제층(41)은, 제1 보호층(10)과 편광자(5)와의 첩합을 위해 필요에 따라 마련되는 층이다. 제2 점접착제층(42)은, 편광자(5)와 제2 보호층(20)과의 첩합을 위해 필요에 따라 마련되는 층이다. 광학 적층체는, 제1 점접착제층(41) 및 제2 점접착제층(42)을 포함하는 것이 바람직하다. 제3 점접착제층(43)은, 제2 보호층(20)과 위상자(30)와의 첩합을 위해 마련되는 층이다. 광학 적층체는, 제3 점접착제층(43)을 포함하는 것이 바람직하다.The first adhesive layer 41 is a layer provided as needed for bonding the first protective layer 10 and the polarizer 5. The second adhesive layer 42 is a layer provided as needed for bonding the polarizer 5 and the second protective layer 20. The optical laminate preferably includes a first adhesive layer 41 and a second adhesive layer 42. The third adhesive layer 43 is a layer provided for bonding the second protective layer 20 and the phase shifter 30. The optical laminate preferably includes a third adhesive layer 43.

제1 점접착제층(41), 제2 점접착제층(42) 및 제3 점접착제층(43)은 각각, 점착제층이어도 좋고, 접착제층이어도 좋다. 점착제층은 점착제 조성물(감압식 접착제 조성물)로 형성되는 층이며, 접착제층은 접착제 조성물로 형성되는 층이다. 제1 점접착제층(41) 및 제2 점접착제층(42)은, 바람직하게는 접착제층이다. 제3 점접착제층(43)은, 바람직하게는 점착제층이다.The first adhesive layer 41, the second adhesive layer 42, and the third adhesive layer 43 may each be an adhesive layer or an adhesive layer. The adhesive layer is a layer formed from an adhesive composition (pressure-sensitive adhesive composition), and the adhesive layer is a layer formed from an adhesive composition. The first adhesive layer 41 and the second adhesive layer 42 are preferably adhesive layers. The third adhesive layer 43 is preferably an adhesive layer.

(6-1) 접착제층(6-1) Adhesive layer

접착제층을 형성하는 접착제 조성물로서는, 예를 들면, 수계 접착제 조성물, 가열 또는 자외선, 가시광, 전자선, X선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해 경화하는 경화성 접착제 조성물 등을 들 수 있다. 수계 접착제 조성물로서는, 예를 들면, 주성분으로서 폴리비닐알코올계 수지 또는 우레탄 수지를 물에 용해한 것, 주성분으로서 폴리비닐알코올계 수지 또는 우레탄 수지를 물에 분산시킨 것을 들 수 있다. 수계 접착제 조성물은, 다가 알데히드, 멜라민계 화합물, 지르코니아 화합물, 아연 화합물, 글리옥살 화합물, 수용성 에폭시 수지 등의 경화성 성분이나 가교제를 더 함유하고 있어도 된다. 수계 접착제 조성물로서는, 예를 들면, 일본 특허공개 2010-191389호 공보에 기재된 접착제 조성물, 일본 특허공개 2011-107686호 공보에 기재된 접착제 조성물, 일본 특허공개 2020-172088호 공보에 기재된 조성물, 일본 특허공개 2005-208456호 공보에 기재된 조성물 등을 들 수 있다.Examples of the adhesive composition that forms the adhesive layer include water-based adhesive compositions and curable adhesive compositions that are cured by heating or irradiation of active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, and X-rays. Examples of water-based adhesive compositions include those in which polyvinyl alcohol-based resin or urethane resin as the main component is dissolved in water, and those in which polyvinyl alcohol-based resin or urethane resin as the main component is dispersed in water. The water-based adhesive composition may further contain a curable component or crosslinking agent such as a polyhydric aldehyde, a melamine-based compound, a zirconia compound, a zinc compound, a glyoxal compound, or a water-soluble epoxy resin. Examples of the water-based adhesive composition include the adhesive composition described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-191389, the adhesive composition described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-107686, the composition described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2020-172088, and the Japanese Patent Application Laid-Open. The composition described in Publication No. 2005-208456, etc. can be mentioned.

경화성 접착제 조성물은, 주성분으로서 경화성(중합성) 화합물을 포함하고, 활성 에너지선 조사에 의해 경화하는 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물인 것이 바람직하다. 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물로서는, 경화성 화합물로서 양이온 중합성 화합물을 포함하는 양이온 중합형 접착제 조성물, 경화성 화합물로서 라디칼 중합성 화합물을 포함하는 라디칼 중합형 접착제 조성물, 경화성 화합물로서 양이온 중합성 화합물과 라디칼 중합성 화합물 모두를 포함하는 하이브리드형 접착제 조성물 등을 들 수 있다.The curable adhesive composition is preferably an active energy ray-curable adhesive composition that contains a curable (polymerizable) compound as a main component and is cured by irradiation of active energy rays. Examples of the active energy ray-curable adhesive composition include a cationically polymerizable adhesive composition containing a cationically polymerizable compound as a curable compound, a radically polymerizable adhesive composition containing a radically polymerizable compound as a curable compound, and a radically polymerized adhesive composition with a cationically polymerizable compound as a curable compound. and a hybrid adhesive composition containing both chemical compounds.

양이온 중합성 화합물은, 자외선, 가시광, 전자선, X선 등의 활성 에너지선의 조사나 가열에 의해 양이온 중합 반응이 진행되어 경화하는 화합물 또는 올리고머이며, 구체적으로는 에폭시 화합물, 옥세탄 화합물, 비닐 화합물 등을 들 수 있다.Cationic polymerizable compounds are compounds or oligomers that undergo a cationic polymerization reaction and harden when irradiated or heated with active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, or X-rays. Specifically, epoxy compounds, oxetane compounds, vinyl compounds, etc. can be mentioned.

에폭시 화합물로서는, 3',4'-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카복실레이트 등의 지환식 에폭시 화합물(지환식환에 결합한 에폭시기를 분자 내에 1개 이상 갖는 화합물); 비스페놀 A의 디글리시딜에테르 등의 방향족 에폭시 화합물(분자 내에 방향족환과 에폭시기를 갖는 화합물); 2-에틸헥실글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르 등의 지방족 에폭시 화합물(지방족 탄소 원자에 결합하는 옥실란환을 분자 내에 적어도 1개 갖는 화합물) 등을 들 수 있다.Examples of the epoxy compound include alicyclic epoxy compounds such as 3',4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (a compound having one or more epoxy groups bonded to an alicyclic ring in the molecule); aromatic epoxy compounds (compounds having an aromatic ring and an epoxy group in the molecule) such as diglycidyl ether of bisphenol A; and aliphatic epoxy compounds (compounds having at least one oxilane ring bonded to an aliphatic carbon atom in the molecule) such as 2-ethylhexyl glycidyl ether and 1,4-butanediol diglycidyl ether.

옥세탄 화합물로서는, 3-에틸-3-{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄 등의 분자 내에 1개 이상의 옥세탄환을 갖는 화합물을 들 수 있다.Examples of the oxetane compound include compounds having one or more oxetane rings in the molecule, such as 3-ethyl-3-{[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl}oxetane.

양이온 중합형 접착제 조성물은, 양이온 중합개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 양이온 중합개시제는 열양이온 중합개시제여도 좋고, 광양이온 중합개시제여도 좋다. 양이온 중합개시제로서는, 벤젠디아조늄헥사플루오로안티모네이트 등의 방향족 디아조늄염; 디페닐요오드늄테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 등의 방향족 요오드늄염; 트리페닐술포늄헥사플루오로포스페이트 등의 방향족 술포늄염; 크실렌-시클로펜타디에닐철(Ⅱ)헥사플루오로안티모네이트 등의 철-아렌 착체 등을 들 수 있다. 양이온 중합개시제의 함유량은, 양이온 중합성 화합물 100질량부에 대하여 통상 0.1 ∼ 10질량부이다. 양이온 중합개시제는 2종 이상 포함하고 있어도 된다.The cationic polymerization type adhesive composition preferably contains a cationic polymerization initiator. The cationic polymerization initiator may be a thermal cationic polymerization initiator or a photocationic polymerization initiator may be used. Examples of the cationic polymerization initiator include aromatic diazonium salts such as benzenediazonium hexafluoroantimonate; Aromatic iodonium salts such as diphenyliodonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate; Aromatic sulfonium salts such as triphenylsulfonium hexafluorophosphate; and iron-arene complexes such as xylene-cyclopentadienyl iron (II) hexafluoroantimonate. The content of the cationic polymerization initiator is usually 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the cationic polymerizable compound. Two or more types of cationic polymerization initiators may be contained.

양이온 중합형 접착제 조성물로서는, 예를 들면, 일본 특허공개 2016-126345호 공보, 국제공개 제2019／10315호 공보, 일본 특허공개 2021-113969호 공보에 기재된 양이온 중합성 조성물 등을 들 수 있다.Examples of the cationically polymerizable adhesive composition include the cationically polymerizable compositions described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2016-126345, International Publication No. 2019/10315, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2021-113969.

라디칼 중합성 화합물은, 자외선, 가시광, 전자선, X선 등의 활성 에너지선의 조사나 가열에 의해 라디칼 중합 반응이 진행되어 경화하는 화합물 또는 올리고머이며, 구체적으로는 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물을 들 수 있다. 에틸렌성 불포화 결합을 갖는 화합물로서는, 분자 내에 1개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 (메타)아크릴계 화합물, 분자 내에 1개 이상의 비닐기를 갖는 비닐 화합물 등을 들 수 있다.A radically polymerizable compound is a compound or oligomer that undergoes a radical polymerization reaction and hardens by irradiation or heating of active energy rays such as ultraviolet rays, visible light, electron beams, or X-rays, and specifically includes compounds having an ethylenically unsaturated bond. there is. Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond include (meth)acrylic compounds having one or more (meth)acryloyl groups in the molecule, vinyl compounds having one or more vinyl groups in the molecule, and the like.

(메타)아크릴계 화합물로서는, 분자 내에 적어도 1개의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 모노머, (메타)아크릴아미드 모노머, 및 관능기 함유 화합물을 2종 이상 반응시켜 얻어지고, 분자 내에 적어도 2개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 (메타)아크릴올리고머 등의 (메타)아크릴로일기 함유 화합물을 들 수 있다.As a (meth)acrylic compound, it is obtained by reacting two or more types of (meth)acrylate monomer, (meth)acrylamide monomer, and functional group-containing compound having at least one (meth)acryloyloxy group in the molecule, and has a (meth)acryloyloxy group in the molecule. and (meth)acryloyl group-containing compounds such as (meth)acrylogomers having at least two (meth)acryloyl groups.

라디칼 중합형 접착제 조성물은, 라디칼 중합개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 라디칼 중합개시제는 열라디칼 중합개시제여도 좋고, 광라디칼 중합개시제여도 좋다. 라디칼 중합개시제로서는, 아세토페논, 3-메틸아세토페논 등의 아세토페논계 개시제; 벤조페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논 등의 벤조페논계 개시제; 벤조인프로필에테르, 벤조인에틸에테르 등의 벤조인에테르계 개시제; 4-이소프로필티오크산톤 등의 티오크산톤계 개시제; 크산톤, 플루오레논 등을 들 수 있다. 라디칼 중합개시제의 함유량은, 라디칼 중합성 화합물 100질량부에 대하여 통상 0.1 ∼ 10질량부이다. 라디칼 중합개시제는 2종 이상 포함하고 있어도 된다.The radical polymerization type adhesive composition preferably contains a radical polymerization initiator. The radical polymerization initiator may be a thermal radical polymerization initiator or an optical radical polymerization initiator. Examples of the radical polymerization initiator include acetophenone-based initiators such as acetophenone and 3-methylacetophenone; Benzophenone initiators such as benzophenone, 4-chlorobenzophenone, and 4,4'-diaminobenzophenone; Benzoin ether-based initiators such as benzoin propyl ether and benzoin ethyl ether; Thioxanthone-based initiators such as 4-isopropylthioxanthone; Xanthone, fluorenone, etc. can be mentioned. The content of the radical polymerization initiator is usually 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the radically polymerizable compound. Two or more types of radical polymerization initiators may be included.

라디칼 중합형 접착제 조성물로서는, 예를 들면, 일본 특허공개 2016-126345호 공보, 일본 특허공개 2016-153474호 공보, 국제공개 제2017／183335호에 기재의 라디칼 중합성 조성물 등을 들 수 있다.Examples of the radically polymerizable adhesive composition include radically polymerizable compositions described in JP2016-126345, JP2016-153474, and International Publication No. 2017/183335.

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물은, 필요에 따라, 이온 트랩제, 산화 방지제, 연쇄 이동제, 점착 부여제, 열가소성 수지, 충진제, 유동 조정제, 가소제, 소포제, 대전 방지제, 레벨링제, 용매 등의 첨가제를 함유할 수 있다.The active energy ray-curable adhesive composition contains additives such as ion trapping agents, antioxidants, chain transfer agents, tackifiers, thermoplastic resins, fillers, flow regulators, plasticizers, antifoaming agents, antistatic agents, leveling agents, and solvents, as necessary. can do.

접착제층에 의한 2층의 첩합은, 2층 각각의 첩합면에서 선택되는 적어도 한쪽의 첩합면에 접착제 조성물을 도공하고, 접착제 조성물의 도공층을 개재하여 양자를 겹쳐, 첩합 롤 등을 이용하여 상하로부터 압압(押壓)하여 첩합 후, 접착제층을 건조시키거나, 활성 에너지선을 조사하여 경화시키거나, 또는 가열하여 경화시킴으로써 행할 수 있다.Bonding of two layers with an adhesive layer involves coating an adhesive composition on at least one bonding surface selected from the bonding surfaces of each of the two layers, overlapping them through a coated layer of the adhesive composition, and bonding the top and bottom using a bonding roll, etc. After bonding by pressing, the adhesive layer can be dried, cured by irradiation with active energy rays, or cured by heating.

접착제층의 도공층을 형성하기 전에, 2층 각각의 첩합면에서 선택되는 적어도 한쪽의 첩합면에, 비누화 처리, 코로나 처리, 플라스마 처리, 프라이머 처리, 엥커 코팅 처리 등의 이접착 처리를 실시해도 된다.Before forming the coating layer of the adhesive layer, easy adhesion treatment such as saponification treatment, corona treatment, plasma treatment, primer treatment, anchor coating treatment, etc. may be performed on at least one bonding surface selected from the bonding surfaces of each of the two layers. .

접착제 조성물의 도공층의 형성에는, 다이 코터, 콤마 코터, 그라비아 코터, 와이어 바 코터, 닥터 블레이드 코터 등의 각종 도공 방식을 사용할 수 있다.To form the coating layer of the adhesive composition, various coating methods such as die coater, comma coater, gravure coater, wire bar coater, and doctor blade coater can be used.

활성 에너지선을 조사하는 경우의 광조사 강도는, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 조성마다 결정되는 것으로서 특별히 한정되지 않지만, 10mW／㎠ 이상 1,000mW／㎠ 이하인 것이 바람직하다. 또, 조사 강도는, 바람직하게는 광양이온 중합개시제 또는 광라디칼 중합개시제의 활성화에 유효한 파장 영역에서의 강도이다. 이러한 광조사 강도로 1회 혹은 복수 회 조사하여, 그 적산 광량을, 10mJ／㎠ 이상으로 하는 것이 바람직하고, 100mJ／㎠ 이상 1,000mJ／㎠ 이하로 하는 것이보다 바람직하다.The light irradiation intensity when irradiating active energy rays is determined for each composition of the active energy ray-curable adhesive composition and is not particularly limited, but is preferably 10 mW/cm2 or more and 1,000 mW/cm2 or less. In addition, the irradiation intensity is preferably an intensity in the wavelength range effective for activation of the photocationic polymerization initiator or the photoradical polymerization initiator. It is preferable to irradiate once or multiple times with this light irradiation intensity and make the accumulated light amount 10 mJ/cm2 or more, and more preferably 100 mJ/cm2 or more and 1,000 mJ/cm2 or less.

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물의 중합 경화를 행하기 위해 사용하는 광원은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 크세논 램프, 할로겐 램프, 케미컬 램프, 블랙 라이트 램프, 마이크로 웨이브 여기 수은등, 메탈할라이드 램프를 들 수 있다.The light source used to polymerize and cure the active energy ray-curable adhesive composition is not particularly limited, but includes, for example, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a halogen lamp, a chemical lamp, and a black light. Examples include lamps, microwave excitation mercury lamps, and metal halide lamps.

수계 접착제 조성물로 형성되는 접착제층의 두께는, 예를 들면 5㎛ 이하여도 좋고, 1㎛ 이하인 것이 바람직하고, 0.5㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.01㎛ 이상이어도 좋고, 0.05㎛ 이상인 것이 바람직하다.The thickness of the adhesive layer formed from the water-based adhesive composition may be, for example, 5 μm or less, preferably 1 μm or less, more preferably 0.5 μm or less, 0.01 μm or more, and preferably 0.05 μm or more.

활성 에너지선 경화형 접착제 조성물로 형성되는 접착제층의 두께는, 예를 들면, 10㎛ 이하여도 좋고, 5㎛ 이하인 것이 바람직하고, 3㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.1㎛ 이상이어도 좋고, 0.5㎛ 이상인 것이 바람직하고, 1㎛ 이상인 것이 보다 바람직하다.The thickness of the adhesive layer formed from the active energy ray-curable adhesive composition may be, for example, 10 μm or less, preferably 5 μm or less, more preferably 3 μm or less, 0.1 μm or more, and 0.5 μm or more. It is preferable, and it is more preferable that it is 1㎛ or more.

(6-2) 점착제층(6-2) Adhesive layer

점착제층을 형성하는 점착제 조성물로서는, 종래 공지된 광학적인 투명성이 우수한 점착제 조성물을 특별히 제한없이 이용할 수 있고, 예를 들면, (메타)아크릴계 수지, 우레탄계 수지, 실리콘계 수지, 폴리비닐에테르계 수지 등의 베이스 폴리머를 갖는 점착제 조성물을 이용할 수 있다. 또한, 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물, 열경화형 점착제 조성물 등이어도 된다. 이들 중에서도, 투명성, 점착력, 재박리성, 내후성, 내열성 등이 우수한 (메타)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 한 점착제 조성물이 바람직하다.As the adhesive composition for forming the adhesive layer, conventionally known adhesive compositions with excellent optical transparency can be used without particular restrictions, for example, (meth)acrylic resin, urethane resin, silicone resin, polyvinyl ether resin, etc. An adhesive composition having a base polymer can be used. Additionally, an active energy ray-curable adhesive composition, a thermosetting adhesive composition, etc. may be used. Among these, an adhesive composition using a (meth)acrylic resin as a base polymer, which is excellent in transparency, adhesiveness, re-peelability, weather resistance, heat resistance, etc., is preferable.

점착제 조성물은, 가교제, 실란 화합물, 대전 방지제 등을 더 포함하고 있어도 된다.The adhesive composition may further contain a crosslinking agent, a silane compound, an antistatic agent, etc.

[(메타)아크릴계 수지][(meth)acrylic resin]

점착제 조성물에 포함되는 (메타)아크릴계 수지는, 하기 식(Ⅷ)으로 나타나는 (메타)아크릴산알킬에스테르에 유래하는 구성 단위(이하, 「구성 단위(Ⅷ)」라고도 함)를 주성분(예를 들면, (메타)아크릴계 수지의 구성 단위 100질량부에 대하여 50질량부 이상 포함함)으로 하는 중합체(이하, 「(메타)아크릴산에스테르 중합체」라고도 함)인 것이 바람직하다.The (meth)acrylic resin contained in the adhesive composition contains a structural unit derived from a (meth)acrylic acid alkyl ester represented by the following formula (VIII) (hereinafter also referred to as “structural unit (VIII)”) as a main component (e.g., It is preferable that it is a polymer (hereinafter also referred to as “(meth)acrylic acid ester polymer”) containing 50 parts by mass or more per 100 parts by mass of structural units of (meth)acrylic resin.

[화 5][Tuesday 5]

[식(Ⅷ) 중, R10은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R20은, 탄소수 1 ∼ 20의 알킬기를 나타내고, 상기 알킬기는 직쇄상, 분기상 또는 환상 중 어느 구조를 갖고 있어도 좋고, 상기 알킬기의 수소 원자는, 탄소수 1 ∼ 10의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋다.][In formula (VIII), R 10 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 20 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and the alkyl group may have any of the structures of linear, branched, or cyclic, and the above The hydrogen atom of the alkyl group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.]

식(Ⅷ)으로 표시되는 (메타)아크릴산에스테르로서는, 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, n-프로필(메타)아크릴레이트, i-프로필(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, i-부틸(메타)아크릴레이트, n-펜틸(메타)아크릴레이트, n-헥실(메타)아크릴레이트, i-헥실(메타)아크릴레이트, n-헵틸(메타)아크릴레이트, n-옥틸(메타)아크릴레이트, i-옥틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, n- 및 i-노닐(메타)아크릴레이트, n-데실(메타)아크릴레이트, i-데실(메타)아크릴레이트, n-도데실(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 스테아릴(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 알콕시기 함유 알킬아크릴레이트의 구체예로서는, 2-메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시메틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 그 중에서도 n-부틸(메타)아크릴레이트 또는 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트를 포함하는 것이 바람직하고, 특히 n-부틸(메타)아크릴레이트를 포함하는 것이 바람직하다.Examples of (meth)acrylic acid esters represented by formula (VIII) include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, i-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, i-butyl (meth)acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, i-hexyl (meth)acrylate, n-heptyl (meth)acrylate ) Acrylate, n-octyl (meth)acrylate, i-octyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n- and i-nonyl (meth)acrylate, n-decyl (meth) Acrylate, i-decyl (meth)acrylate, n-dodecyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, etc. can be mentioned. Specific examples of alkoxy group-containing alkyl acrylate include 2-methoxyethyl (meth)acrylate and ethoxymethyl (meth)acrylate. Among these, it is preferable that it contains n-butyl (meth)acrylate or 2-ethylhexyl (meth)acrylate, and it is especially preferable that it contains n-butyl (meth)acrylate.

(메타)아크릴산에스테르 중합체는, 구성 단위(Ⅷ) 이외의 다른 단량체에 유래하는 구성 단위를 포함하고 있어도 된다. 다른 단량체에 유래하는 구성 단위는, 1종이어도 좋고, 2종 이상이어도 좋다. (메타)아크릴산에스테르 중합체가 포함할 수 있는 다른 단량체로서는, 극성 관능기를 갖는 단량체, 방향족기를 갖는 단량체, (메타)아크릴아미드계 단량체를 들 수 있다.The (meth)acrylic acid ester polymer may contain structural units derived from monomers other than structural unit (VIII). The number of structural units derived from other monomers may be one, or two or more types may be used. Other monomers that the (meth)acrylic acid ester polymer may contain include monomers having a polar functional group, monomers having an aromatic group, and (meth)acrylamide-based monomers.

극성 관능기를 갖는 단량체로서는, 극성 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 들 수 있다. 극성 관능기로서는, 히드록시기; 카르복시기; 탄소수 1 ∼ 6의 알킬기로 치환된 치환 아미노기 또는 무치환 아미노기; 에폭시기 등의 복소환기 등을 들 수 있다.Examples of monomers having a polar functional group include (meth)acrylate having a polar functional group. As a polar functional group, a hydroxy group; carboxyl group; A substituted or unsubstituted amino group substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; Heterocyclic groups such as epoxy groups, etc. can be mentioned.

(메타)아크릴산에스테르 중합체 중의 극성 관능기를 갖는 단량체에 유래하는 구성 단위의 함유량은, (메타)아크릴산에스테르 중합체의 전체 구성 단위 100질량부에 대하여, 바람직하게는 10질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.5질량부 이상 10질량부 이하, 더 바람직하게는 0.5질량부 이상 5질량부 이하, 특히 바람직하게는 1질량부 이상 5질량부 이하이다.The content of structural units derived from monomers having a polar functional group in the (meth)acrylic acid ester polymer is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 0.5 parts by mass, based on 100 parts by mass of all structural units of the (meth)acrylic acid ester polymer. Parts by mass or more and 10 parts by mass or less, more preferably 0.5 parts by mass or more and 5 parts by mass or less, particularly preferably 1 part by mass or more and 5 parts by mass or less.

방향족기를 갖는 단량체로서는, 분자 내에 1개의 (메타)아크릴로일기와 1개 이상의 방향환(예를 들면, 벤젠환, 나프탈렌환 등)을 갖고, 페닐기, 페녹시에틸기, 또는 벤질기를 갖는 (메타)아크릴산에스테르를 들 수 있다. 이들 구성 단위를 포함함으로써, 고온, 고습 환경에서 발생하는 편광판의 흰빠짐 현상을 억제할 수 있다.As a monomer having an aromatic group, it has one (meth)acryloyl group and one or more aromatic rings (for example, benzene ring, naphthalene ring, etc.) in the molecule, and (meta) which has a phenyl group, phenoxyethyl group, or benzyl group. Acrylic acid ester can be mentioned. By including these structural units, the whitening phenomenon of the polarizing plate that occurs in a high temperature and high humidity environment can be suppressed.

(메타)아크릴산에스테르 중합체 중의 방향족기를 갖는 단량체에 유래하는 구성 단위의 함유량은, (메타)아크릴산에스테르 중합체의 전체 구성 단위 100질량부에 대하여, 바람직하게는 20질량부 이하, 보다 바람직하게는 4질량부 이상 20질량부 이하, 더 바람직하게는 4질량부 이상 15질량부 이하이다.The content of the structural unit derived from the monomer having an aromatic group in the (meth)acrylic acid ester polymer is preferably 20 parts by mass or less, more preferably 4 parts by mass, based on 100 parts by mass of all structural units of the (meth)acrylic acid ester polymer. parts by mass or more and 20 parts by mass or less, more preferably 4 parts by mass or more and 15 parts by mass or less.

(메타)아크릴아미드계 단량체로서는, N-(메톡시메틸)(메타)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)(메타)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)(메타)아크릴아미드, N-(부톡시메틸)(메타)아크릴아미드, N-(2-메틸프로폭시메틸)(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 이들 구성 단위를 포함함으로써, 후술하는 대전 방지제 등의 첨가물의 브리드 아웃을 억제할 수 있다.As the (meth)acrylamide monomer, N-(methoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(ethoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(propoxymethyl)(meth)acrylamide, N- (butoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(2-methylpropoxymethyl)(meth)acrylamide, etc. can be mentioned. By including these structural units, bleeding out of additives such as antistatic agents described later can be suppressed.

또한, 구성 단위(Ⅷ) 이외의 다른 단량체에 유래하는 구성 단위로서, 스티렌계 단량체에 유래하는 구성 단위, 비닐계 단량체에 유래하는 구성 단위, 분자 내에 복수의 (메타)아크릴로일기를 갖는 단량체에 유래하는 구성 단위 등이 포함되어 있어도 된다.In addition, structural units derived from monomers other than structural unit (VIII) include structural units derived from styrene-based monomers, structural units derived from vinyl-based monomers, and monomers having a plurality of (meth)acryloyl groups in the molecule. Derived structural units, etc. may be included.

(메타)아크릴계 수지의 중량 평균 분자량(이하, 단순히 「Mw」라고도 함)은, 50만 ∼ 250만인 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 50만 이상이면, 고온, 고습의 환경하에서의 점착제층의 내구성을 향상시킬 수 있다. 중량 평균 분자량이 250만 이하이면, 점착제 조성물을 함유하는 도공액을 도공할 때의 조작성이 양호해진다. 중량 평균 분자량(Mw)과 수평균 분자량(이하, 단순히 「Mn」이라고도 함)과의 비로 표시되는 분자량 분포(Mw／Mn)는, 통상 2 ∼ 10이다. 본 명세서에서 「중량 평균 분자량」 및 「수평균 분자량」이란, 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC) 법에 의해 측정되는 폴리스티렌 환산값이다.The weight average molecular weight (hereinafter also simply referred to as “Mw”) of the (meth)acrylic resin is preferably 500,000 to 2.5 million. If the weight average molecular weight is 500,000 or more, the durability of the adhesive layer in a high temperature and high humidity environment can be improved. If the weight average molecular weight is 2.5 million or less, the operability when applying the coating liquid containing the adhesive composition becomes good. The molecular weight distribution (Mw/Mn) expressed as the ratio between the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (hereinafter also simply referred to as “Mn”) is usually 2 to 10. In this specification, “weight average molecular weight” and “number average molecular weight” are polystyrene conversion values measured by gel permeation chromatography (GPC) method.

(메타)아크릴계 수지는, 아세트산에틸에 용해시켜 농도 20질량％의 용액으로 했을 때, 25℃에서의 점도가, 20Pa·s 이하인 것이 바람직하고, 0.1 ∼ 15Pa·s인 것이 보다 바람직하다. (메타)아크릴 수지의 25℃에서의 점도가 상기 범위 내이면, 상기 수지에 의해 형성된 점착제층을 포함하는 광학 적층체의 내구성의 향상이나, 리워크성에 기여한다. 상기 점도는, 브룩필드 점도계에 의해 측정할 수 있다.When the (meth)acrylic resin is dissolved in ethyl acetate to form a solution with a concentration of 20% by mass, the viscosity at 25°C is preferably 20 Pa·s or less, and more preferably 0.1 to 15 Pa·s. If the viscosity of the (meth)acrylic resin at 25°C is within the above range, it contributes to the improvement of durability and reworkability of the optical laminate containing the adhesive layer formed by the resin. The viscosity can be measured using a Brookfield viscometer.

(메타)아크릴계 수지의 유리 전이 온도(Tg)는, 예를 들면 -60 ∼ 20℃, 바람직하게는 -50 ∼ 15℃, 보다 바람직하게는 -45 ∼ 10℃, 더 바람직하게는 -40 ∼ 0℃이다. 또, 유리 전이 온도는 시차 주사 열량계(DSC)에 의해 측정할 수 있다.The glass transition temperature (Tg) of the (meth)acrylic resin is, for example, -60 to 20°C, preferably -50 to 15°C, more preferably -45 to 10°C, even more preferably -40 to 0°C. It is ℃. Additionally, the glass transition temperature can be measured by differential scanning calorimetry (DSC).

(메타)아크릴계 수지는, 2종 이상의 (메타)아크릴산에스테르 중합체를 포함해도 된다. 그러한 (메타)아크릴산에스테르 중합체로서는, 중량 평균 분자량이 50만 ∼ 250만인 상술한 (메타)아크릴산에스테르 중합체보다 중량 평균 분자량이 작은 것을 들 수 있고, 보다 구체적으로는, (메타)아크릴산에스테르에 유래하는 구성 단위(Ⅷ)를 주성분으로 하는 것으로서, 중량 평균 분자량이 5만 ∼ 30만의 범위에 있는 비교적 저분자량의 (메타)아크릴산에스테르 중합체를 들 수 있다.The (meth)acrylic resin may contain two or more types of (meth)acrylic acid ester polymers. Such (meth)acrylic acid ester polymers include those having a weight average molecular weight smaller than the above-mentioned (meth)acrylic acid ester polymers having a weight average molecular weight of 500,000 to 2.5 million, and more specifically, those derived from (meth)acrylic acid ester. Examples of those containing structural unit (VIII) as the main component include relatively low molecular weight (meth)acrylic acid ester polymers with a weight average molecular weight in the range of 50,000 to 300,000.

(메타)아크릴계 수지는, 통상, 용액 중합법, 괴상(塊狀) 중합법, 현탁 중합법, 유화(乳化) 중합법 등의 공지된 중합 방법에 의해 제조할 수 있다. (메타)아크릴계 수지의 제조에 있어서는, 통상, 중합개시제의 존재하에 중합이 행해진다. 중합개시제의 사용량은, (메타)아크릴계 수지를 구성하는 모든 단량체의 합계 100질량부에 대하여, 통상 0.001 ∼ 5질량부이다. (메타)아크릴계 수지는, 자외선 등의 활성 에너지선에 의해 중합되는 방법에 의해 제조할 수도 있다.(meth)acrylic resin can usually be manufactured by known polymerization methods such as solution polymerization, block polymerization, suspension polymerization, and emulsion polymerization. In the production of (meth)acrylic resin, polymerization is usually performed in the presence of a polymerization initiator. The amount of polymerization initiator used is usually 0.001 to 5 parts by mass based on a total of 100 parts by mass of all monomers constituting the (meth)acrylic resin. (meth)acrylic resin can also be manufactured by a method of polymerization using active energy rays such as ultraviolet rays.

[가교제][Cross-linking agent]

점착제 조성물은, 가교제를 포함하는 것이 바람직하다. 가교제로서는, 관용의 가교제(예를 들면, 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 아지리딘 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 과산화물 등)를 들 수 있고, 특히 점착제 조성물의 포트 라이프, 가교 속도, 및 광학 적층체의 내구성 등의 관점에서, 이소시아네이트계 화합물인 것이 바람직하다.The adhesive composition preferably contains a crosslinking agent. Examples of the crosslinking agent include common crosslinking agents (e.g., isocyanate compounds, epoxy compounds, aziridine compounds, metal chelate compounds, peroxides, etc.), and in particular, pot life of the adhesive composition, crosslinking speed, durability of the optical laminate, etc. From this point of view, it is preferable that it is an isocyanate-based compound.

이소시아네이트 화합물은, 분자 내에 적어도 2개의 이소시아나토기(-NCO)를 갖는 화합물이다. 구체적으로는, 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 수첨(水添) 자일릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 수첨 디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 등을 들 수 있다. 또한, 이들 이소시아네이트 화합물과, 글리세롤이나 트리메틸올프론 등의 폴리올을 반응시켜 얻어진 어덕트체나, 이들 이소시아네이트 화합물의 이량체나 삼량체도 들 수 있다. 2종 이상의 이소시아네이트 화합물을 조합해도 된다.An isocyanate compound is a compound that has at least two isocyanato groups (-NCO) in the molecule. Specifically, tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, Triphenylmethane triisocyanate, etc. can be mentioned. Additionally, adducts obtained by reacting these isocyanate compounds with polyols such as glycerol or trimethylolphrone, and dimers and trimers of these isocyanate compounds can also be mentioned. You may combine two or more types of isocyanate compounds.

가교제의 비율은, (메타)아크릴계 수지 100질량부에 대하여, 예를 들면 0.01 ∼ 10질량부, 바람직하게는 0.05 ∼ 5질량부, 더 바람직하게는 0.1 ∼ 1질량부이다.The ratio of the crosslinking agent is, for example, 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.05 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 to 1 part by mass, with respect to 100 parts by mass of the (meth)acrylic resin.

[실란 화합물][Silane compound]

점착제 조성물은, 실란 화합물을 더 함유하고 있어도 된다.The adhesive composition may further contain a silane compound.

실란 화합물로서는, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시독시프로필에톡시디메틸실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.As silane compounds, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-Glycidoxypropylethoxydimethylsilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3- Chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. are mentioned.

또한, 실란 화합물은, 상기 실란 화합물에 유래하는 올리고머를 포함할 수 있다.Additionally, the silane compound may include an oligomer derived from the silane compound.

점착제 조성물에 있어서의 실란 화합물의 함유량은, (메타)아크릴계 수지 100질량부에 대하여, 통상 0.01 ∼ 10질량부이며, 바람직하게는 0.05 ∼ 5질량부이다. 실란 화합물의 함유량이 0.01질량부 이상이면, 점착제층과 피착체와의 밀착성이 향상되는 경향이 있고, 함유량이 10질량부 이하이면, 점착제층으로부터의 실란 화합물이 브리드 아웃하는 것이 억제되는 경향이 있다.The content of the silane compound in the adhesive composition is usually 0.01 to 10 parts by mass, and preferably 0.05 to 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the (meth)acrylic resin. When the content of the silane compound is 0.01 parts by mass or more, the adhesion between the adhesive layer and the adherend tends to improve, and when the content is 10 parts by mass or less, bleeding out of the silane compound from the adhesive layer tends to be suppressed. .

[대전 방지제][Antistatic agent]

점착제 조성물은, 대전 방지제를 더 포함해도 된다. 대전 방지제로서는, 공지된 것을 들 수 있고, 이온성 대전 방지제가 바람직하다. 이온성 대전 방지제를 구성하는 양이온 성분으로서는, 유기 양이온 및 무기 양이온을 들 수 있다. 유기 양이온으로서는, 피리디늄 양이온, 이미다졸륨 양이온, 암모늄 양이온, 술포늄 양이온, 포스포늄 양이온 등을 들 수 있다. 무기 양이온으로서는, 리튬 양이온, 칼륨 양이온, 나트륨 양이온, 세슘 양이온 등의 알칼리 금속 양이온, 마그네슘 양이온, 칼슘 양이온 등의 알칼리 토류 금속 양이온 등을 들 수 있다. 이온성 대전 방지제를 구성하는 음이온 성분으로서는, 무기 음이온 및 유기 음이온 중 어느 것이어도 좋지만, 대전 방지 성능이 우수하다는 점에서, 불소 원자를 포함하는 음이온 성분이 바람직하다. 불소 원자를 포함하는 음이온 성분으로서는, 헥사플루오로포스페이트 음이온(PF6 -), 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 음이온[(CF3SO2)2N-], 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온[(FSO2)2N-], 테트라키스펜타플루오로페닐보레이트 음이온[(C6F5)4B-] 등을 들 수 있다.The adhesive composition may further contain an antistatic agent. Examples of antistatic agents include known antistatic agents, and ionic antistatic agents are preferred. Cationic components constituting the ionic antistatic agent include organic cations and inorganic cations. Examples of organic cations include pyridinium cation, imidazolium cation, ammonium cation, sulfonium cation, and phosphonium cation. Examples of inorganic cations include alkali metal cations such as lithium ions, potassium cations, sodium cations, and cesium cations, and alkaline earth metal cations such as magnesium cations and calcium cations. The anionic component constituting the ionic antistatic agent may be either an inorganic anion or an organic anion, but an anionic component containing a fluorine atom is preferred because of its excellent antistatic performance. Examples of the anion component containing a fluorine atom include hexafluorophosphate anion (PF 6 - ), bis(trifluoromethanesulfonyl)imide anion [(CF 3 SO 2 ) 2 N - ], and bis(fluorosulfonyl). ) imide anion [(FSO 2 ) 2 N - ], tetrakispentafluorophenylborate anion [(C 6 F 5 ) 4 B - ], etc.

점착제 조성물의 대전 방지 성능의 경시(經時) 안정성이 우수하다는 점에서, 실온에서 고체인 이온성 대전 방지제가 바람직하다.Since the antistatic performance of the adhesive composition is excellent in stability over time, an ionic antistatic agent that is solid at room temperature is preferred.

대전 방지제의 함유량은, (메타)아크릴계 수지 100질량부에 대하여, 예를 들면 0.01 ∼ 20질량부, 바람직하게는 0.1 ∼ 10질량부, 더 바람직하게는 1 ∼ 7질량부이다.The content of the antistatic agent is, for example, 0.01 to 20 parts by mass, preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 7 parts by mass, based on 100 parts by mass of the (meth)acrylic resin.

점착제 조성물은, 자외선 흡수제, 용매, 가교 촉매, 점착 부여 수지(택키파이어), 가소제 등의 첨가제를 단독 또는 2종 이상 포함할 수 있다. 또한, 점착제 조성물에 자외선 경화성 화합물을 배합하고, 점착제층을 형성한 후에 자외선을 조사하여 경화시켜, 보다 딱딱한 점착제층으로 하는 것도 유용하다.The adhesive composition may contain additives such as ultraviolet absorbers, solvents, crosslinking catalysts, tackifying resins (tackifiers), and plasticizers alone or in combination of two or more. In addition, it is also useful to mix an ultraviolet curable compound in an adhesive composition, form an adhesive layer, and then cure it by irradiating ultraviolet rays to obtain a harder adhesive layer.

점착제층은, 예를 들면, 상기 점착제 조성물을, 용제에 용해 또는 분산하여 용제 함유의 점착제 조성물로 하고, 그 다음에, 이를, 기재 또는 점착제층을 마련하는 층의 표면에 도포하고, 건조시킴으로써 형성할 수 있다.The adhesive layer is formed, for example, by dissolving or dispersing the adhesive composition in a solvent to form a solvent-containing adhesive composition, then applying it to the surface of the base material or the layer providing the adhesive layer, and drying it. can do.

점착제층의 두께는, 통상 0.1 ∼ 30㎛, 바람직하게는 3 ∼ 30㎛, 보다 바람직하게는 5 ∼ 25㎛이다.The thickness of the adhesive layer is usually 0.1 to 30 μm, preferably 3 to 30 μm, and more preferably 5 to 25 μm.

(7) 점착제층(7) Adhesive layer

광학 적층체는, 위상자(30)에서의 제2 보호층(20)과는 반대 측에 적층되는 점착제층(50)을 구비할 수 있다. 점착제층(50)에 대해서는, 상기 (6-2) 점착제층의 기재가 인용된다.The optical laminate may include an adhesive layer 50 laminated on the side of the phase element 30 opposite to the second protective layer 20 . Regarding the adhesive layer 50, the description of the adhesive layer (6-2) above is cited.

위상차 변화량의 면내 불균일을 억제하는 관점에서, 점착제층(50)의 온도 85℃에서의 저장 탄성률 G'는, 바람직하게는 0.005㎫ 이상, 보다 바람직하게는 0.01㎫ 이상, 더 바람직하게는 0.015㎫ 이상이다. 저장 탄성률 G'는, 통상 0.1㎫ 이하이며, 0.08㎫ 이하여도 좋다. 저장 탄성률 G'는, [실시예]의 항의 기재에 따라서 측정할 수 있다.From the viewpoint of suppressing in-plane non-uniformity in the amount of phase difference change, the storage modulus G' of the adhesive layer 50 at a temperature of 85°C is preferably 0.005 MPa or more, more preferably 0.01 MPa or more, and still more preferably 0.015 MPa or more. am. The storage elastic modulus G' is usually 0.1 MPa or less, and may be 0.08 MPa or less. The storage modulus G' can be measured according to the description in the [Examples] section.

점착제층(50)의 두께는, 통상 5㎛ 이상, 바람직하게는 10㎛ 이상이다. 점착제층(50)의 두께는, 통상 35㎛ 이하, 바람직하게는 30㎛ 이하이다.The thickness of the adhesive layer 50 is usually 5 μm or more, preferably 10 μm or more. The thickness of the adhesive layer 50 is usually 35 μm or less, preferably 30 μm or less.

(8) 적층체 α(8) Laminate α

광학 적층체가 상기 점착제층(50)을 구비하는 경우에 있어서, 편광자(5)에서의 위상자(30) 측의 면에 인접하는 층으로부터 점착제층(50)에서의 위상자(30) 측의 면에 인접하는 층까지의 적층체를, 본 명세서에서는 「적층체 α」라고 칭한다. 예를 들면 도 2에 나타나는 광학 적층체에 있어서, 적층체 α는, 제2 점접착제층(42)과 제2 보호층(20)과 제3 점접착제층(43)과 위상자(30)와의 적층체이다.In the case where the optical laminate is provided with the adhesive layer 50, the surface on the phase element 30 side of the adhesive layer 50 is formed from the layer adjacent to the surface on the phase element 30 side of the polarizer 5. The laminated body up to the layer adjacent to is referred to as “laminated body α” in this specification. For example, in the optical laminate shown in FIG. 2, the laminate α includes the second adhesive layer 42, the second protective layer 20, the third adhesive layer 43, and the phase element 30. It is a laminated body.

도 2에 나타나는 광학 적층체에 있어서, 편광자(5)에서의 위상자(30) 측의 면에 인접하는 층은, 제2 점접착제층(42)이다. 제2 점접착제층(42)을 개재하는 일 없이, 편광자(5)와 제2 보호층(20)이 직접 접해 있는 경우, 편광자(5)에서의 위상자(30) 측의 면에 인접하는 층은, 제2 보호층(20)이다. 도 2에 나타나는 광학 적층체에 있어서, 점착제층(50)에서의 위상자(30) 측의 면에 인접하는 층은, 위상자(30)이다.In the optical laminate shown in FIG. 2, the layer adjacent to the surface of the polarizer 5 on the phase element 30 side is the second adhesive layer 42. When the polarizer 5 and the second protective layer 20 are in direct contact without the second adhesive layer 42 intervening, the layer adjacent to the surface of the polarizer 5 on the phaser 30 side is the second protective layer 20. In the optical laminate shown in FIG. 2 , the layer adjacent to the surface of the adhesive layer 50 on the side of the phase element 30 is the phase element 30.

광학 적층체가 제2 점접착제층(42)을 가질 경우에 있어서, 제2 점접착제층(42)이 수계 접착제 조성물로 형성될 때에는, 적층체 α로부터 제2 점접착제층(42)을 제외한 것으로 한다. 즉, 제2 점접착제층(42)이 수계 접착제 조성물로 형성되는 경우, 도 2에 나타나는 광학 적층체에 있어서, 적층체 α는, 제2 보호층(20)과 제3 점접착제층(43)과 위상자(30)와의 적층체이다.When the optical laminate has the second adhesive layer 42 and the second adhesive layer 42 is formed of a water-based adhesive composition, the second adhesive layer 42 is excluded from the laminate α. . That is, when the second adhesive layer 42 is formed of a water-based adhesive composition, in the optical laminate shown in FIG. 2, the laminate α includes the second protective layer 20 and the third adhesive layer 43. It is a laminated body of and phase element 30.

적층체 α의 온도 23℃에서의 인장 탄성률을 E3[㎫], 두께를 T3[㎛]으로 할 때, 적층체 α는 하기 식(ⅳ):When the tensile elastic modulus of the laminate α at a temperature of 23°C is E3 [MPa] and the thickness is T3 [μm], the laminate α has the following formula (iv):

7000 ≤ E3 × T3 ≤ 22000 (ⅳ)7000 ≤ E3 × T3 ≤ 22000 (iv)

을 충족시키는 것이 바람직하다.It is desirable to satisfy.

적층체 α가 식(ⅳ)을 충족시킴으로써, 위상차 변화량의 면내 불균일 및 금속 부재의 부식을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. E3 × T3이 22000 이하인 경우, 열에 의한 편광자의 수축에 기인하는 인장 응력이 위상자(30)에 전해지기 어려워지기 때문에, 위상차 변화량의 면내 불균일을 억제할 수 있다. 한편, E3 × T3이 7000 이상인 경우, 적층체 α 중에 가교 밀도가 큰 등의 특징을 가지는 물질 투과성이 낮은 층이 포함되어 있다고 생각된다. 이때, 편광자(5) 중의 요오드 등의 이색성 색소가 상기 확산에 의해 요오드 등의 이색성 색소가 상기 금속 부재로 이행하는 것을 방지 또는 억제할 수 있어, 화상 표시 장치에 있어서 광학 적층체의 근방에 존재하는 금속 부재(전극 등)의 부식을 방지 또는 억제할 수 있다.When the laminate α satisfies equation (iv), in-plane non-uniformity in the amount of phase difference change and corrosion of the metal member can be more effectively suppressed. When E3 On the other hand, when E3 At this time, the dichroic dye such as iodine in the polarizer 5 can prevent or suppress the transfer of the dichroic dye such as iodine to the metal member due to the diffusion, so that the dichroic dye such as iodine is stored in the vicinity of the optical laminate in the image display device. Corrosion of existing metal members (electrodes, etc.) can be prevented or suppressed.

금속 부재의 부식을 방지하는 관점에서, 식(ⅳ)에서의 E3 × T3의 값은, 보다 바람직하게는 7500 이상, 더 바람직하게는 8000 이상, 더욱 더 바람직하게는 8500 이상, 특히 바람직하게는 10000 이상이다. 위상차 변화량의 면내 불균일을 억제하는 관점에서, E3 × T3의 값은, 보다 바람직하게는 20000 이하, 더 바람직하게는 15000 이하, 특히 바람직하게는 12000 이하이다.From the viewpoint of preventing corrosion of metal members, the value of E3 That's it. From the viewpoint of suppressing in-plane non-uniformity in the amount of phase difference change, the value of E3

적층체 α의 온도 23℃에서의 인장 탄성률 E3은, 통상 1200㎫ 이하, 바람직하게는 1000㎫ 이하이며, 또한, 통상 500㎫ 이상이며, 바람직하게는 600㎫ 이상이다. 인장 탄성률 E3은, [실시예]의 항의 기재에 따라서 측정할 수 있다.The tensile modulus E3 of the laminate α at a temperature of 23°C is usually 1200 MPa or less, preferably 1000 MPa or less, and usually 500 MPa or more, and preferably 600 MPa or more. The tensile modulus E3 can be measured according to the description in the [Examples] section.

<화상 표시 장치><Image display device>

화상 표시 장치는, 본 발명에 따른 광학 적층체와, 화상 표시 소자(유기 EL 표시 소자 등)를 포함한다. 광학 적층체는, 화상 표시 소자의 시인 측에 배치된다. 점착제층(50)을 이용하여, 광학 적층체를 화상 표시 소자에 첩합할 수 있다.An image display device includes an optical laminated body according to the present invention and an image display element (such as an organic EL display element). The optical laminate is disposed on the viewing side of the image display element. Using the adhesive layer 50, the optical laminate can be bonded to an image display element.

화상 표시 장치는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 유기 일렉트로 루미네선스(유기 EL) 표시 장치, 무기 일렉트로 루미네선스(무기 EL) 표시 장치, 액정 표시 장치, 전계 발광 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 들 수 있다.The image display device is not particularly limited and includes, for example, an organic electroluminescence (organic EL) display device, an inorganic electroluminescence (inorganic EL) display device, a liquid crystal display device, and an electroluminescence display device. I can hear it.

화상 표시 장치는, 스마트폰, 태블릿 등의 모바일 기기, 텔레비전, 디지털 포토 프레임, 전자 간판, 측정기 또는 계기류, 사무용 기기, 의료 기기, 전산 기기 등으로서 이용할 수 있다.Image display devices can be used as mobile devices such as smartphones and tablets, televisions, digital photo frames, electronic signs, measuring instruments or instruments, office equipment, medical equipment, computer equipment, etc.

[실시예][Example]

이하, 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 예에 의해 한정되는 것은 아니다. 이하, 사용량, 함유량을 나타내는 부 및 ％는, 특별히 언급이 없는 한 질량 기준이다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by showing examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. Hereinafter, parts and % indicating usage amount and content are based on mass, unless otherwise specified.

<측정 및 평가><Measurement and evaluation>

(1) 층, 필름, 또는 적층체 α의 두께(1) Thickness of layer, film, or laminate α

특기(特記)하지 않는 한, 층, 필름, 또는 적층체 α의 두께는, 레이저 현미경(Olympus Corporation 제조 「LEXT」), 또는, 디지털 마이크로미터(Nikon Corporation 제조 「MH-15M」)를 이용하여 측정했다.Unless otherwise specified, the thickness of the layer, film, or laminate α is measured using a laser microscope (“LEXT” manufactured by Olympus Corporation) or a digital micrometer (“MH-15M” manufactured by Nikon Corporation). did.

(2) 보호 필름의 인장 탄성률 E(85℃)(2) Tensile modulus E of the protective film (85℃)

단체의 보호 필름으로부터 장변 100㎜, 단변 50㎜의 측정용 샘플을 잘라냈다. JIS K7161:1994 및 JIS K7127:1999에 준거하여, 측정용 샘플이 항복점을 가지지 않을 경우에는 인장 파괴 스트레인을, 항복점을 가질 경우에는 인장 파괴 신장 스트레인을 파단 신도로 하고, 파단 신도를 측정했다. 인장 시험기〔Shimadzu Corporation 제조 AUTOGRAPH AG-Xplus 시험기〕의 상하 척(chuck) 도구로, 척 도구의 간격이 5㎝가 되도록 측정용 샘플의 장변 방향의 양단을 사이에 두고, 온도 85℃, 상대습도 55％RH의 환경하, 인장 속도 300㎜／분으로 측정용 샘플을 장변 방향으로 인장하여, 온도 85℃, 상대습도 55％RH에서의 장변 방향에서의 인장 탄성률[㎫]을 산출했다.A sample for measurement with a long side of 100 mm and a short side of 50 mm was cut from the single protective film. Based on JIS K7161:1994 and JIS K7127:1999, when the sample for measurement did not have a yield point, the tensile breaking strain was measured, and when the sample for measurement had a yield point, the tensile breaking elongation strain was used as the breaking elongation, and the breaking elongation was measured. Using the upper and lower chuck tools of a tensile tester [AUTOGRAPH AG- In an environment of %RH, the sample for measurement was stretched in the long side direction at a tensile speed of 300 mm/min, and the tensile elastic modulus [MPa] in the long side direction at a temperature of 85°C and a relative humidity of 55%RH was calculated.

(3) 층 또는 필름의 면내 위상차값(3) In-plane retardation value of layer or film

층 또는 필름의 파장 550㎚에서의 면내 위상차값[㎚]은, 위상차 측정 장치(Oji Scientific Instruments 제조, KOBRA-WPR)를 이용하여 측정했다.The in-plane retardation value [nm] of the layer or film at a wavelength of 550 nm was measured using a retardation measurement device (manufactured by Oji Scientific Instruments, KOBRA-WPR).

(4) 보호 필름의 투습도(4) Water vapor permeability of protective film

하기의 측정 조건으로 제2 보호층의 투습도를 측정했다.The moisture permeability of the second protective layer was measured under the following measurement conditions.

·시험 항목: 수증기 투과도·Test item: water vapor permeability

·시험 방법: 감습(感濕) 센서법·Test method: moisture sensor method

·측정 장치: Lyssy 제조 L80 시리즈 수증기 투과도계Measuring device: L80 series water vapor permeability meter manufactured by Lyssy

·시료 제작 방법: 지지 기재와 제2 보호층을 포함하는 후술하는 적층체에 있어서의 제2 보호층면에 알루미늄 마스크를 첩부한 후, 지지 기재를 박리하고, 이 박리면에 알루미늄 마스크를 첩부하여 측정 시료로 했다. 양면에 지지 기재를 갖는 제2 보호층 8 및 9에 대해서는, 한쪽의 지지 기재를 박리하고, 이 박리면에 알루미늄 마스크를 첩부한 후, 다른쪽의 지지 기재를 박리하고, 이 박리면에 알루미늄 마스크를 더 첩부하여 측정 시료로 했다. 제2 보호층 4 및 5, 그리고 비교예 1에서 이용한 제2 보호층 7(두께 20㎛의 트리아세틸셀룰로오스 필름)은 지지 기재가 없기 때문에, 지지 기재의 박리 조작은 행하지 않았다.Sample production method: After attaching an aluminum mask to the second protective layer surface of a laminate described later containing a support base material and a second protective layer, peeling the support base material, attaching an aluminum mask to this peeled surface, and measuring It was used as a sample. For the second protective layers 8 and 9, which have a support substrate on both sides, the support substrate on one side is peeled off, an aluminum mask is attached to the peeled surface, and then the other support substrate is peeled, and an aluminum mask is applied to the peeled surface. was further attached to serve as a measurement sample. Since the second protective layers 4 and 5 and the second protective layer 7 (triacetylcellulose film with a thickness of 20 μm) used in Comparative Example 1 did not have a support substrate, the peeling operation of the support substrate was not performed.

·측정 조건·Measuring conditions

측정 온도: 40℃Measurement temperature: 40℃

상대습도: 90％RHRelative humidity: 90%RH

측정 면적:Measuring Area:

제2 보호층 1 ∼ 5: 7.1 × 10-4㎡(마스크 장착 시의 투과 면적)Second protective layer 1 to 5: 7.1 × 10 -4 ㎡ (transmission area when wearing mask)

제2 보호층 6 ∼ 9: 7.9 × 10-5㎡(마스크 장착 시의 투과 면적)Second protective layer 6 to 9: 7.9 × 10 -5 ㎡ (transmission area when wearing mask)

측정 시료 설치 방향: 임의Measurement sample installation direction: Random

(5) 보호 필름의 광탄성률(5) Photoelastic modulus of protective film

광탄성률은, 위상차 측정 장치 KOBRA-WPR(Oji Scientific Instruments 제조)를 이용하여, 샘플(사이즈 1㎝ × 10㎝)의 양단을 협지(挾持)하여 응력(0.5N ∼ 3N)를 걸면서, 샘플 중앙의 위상차값(23℃／파장 550㎚)을 측정하고, 응력과 위상차값의 함수의 기울기로부터 산출했다. 또, 광탄성률은 두께에 의존하지 않는 점에서, 수지마다 적당한 두께의 필름을 제막하여 측정한 값을 각 두께 공통으로 이용했다.The photoelasticity modulus was measured by clamping both ends of the sample (size 1 cm The phase difference value (23°C/wavelength 550 nm) was measured and calculated from the slope of the function of stress and phase difference value. In addition, since the photoelastic modulus does not depend on thickness, a film of appropriate thickness was formed for each resin, and the measured value was used for each thickness.

(6) 편광자의 붕소 함유량(6) Boron content of polarizer

편광자 0.2g을 1.9질량％ 만니톨 수용액 200g에 용해했다. 얻어진 수용액을 1㏖／L NaOH 수용액으로 적정하고, 중화에 필요로 한 NaOH액의 양과 검량선의 비교에 의해, 편광자의 붕소 함유량[질량％]을 산출했다.0.2 g of polarizer was dissolved in 200 g of 1.9 mass% mannitol aqueous solution. The obtained aqueous solution was titrated with a 1 mol/L NaOH aqueous solution, and the boron content [mass %] of the polarizer was calculated by comparing the amount of NaOH solution required for neutralization with a calibration curve.

(7) 점착제층의 저장 탄성률 G'(85℃)(7) Storage modulus G' of the adhesive layer (85℃)

점착제층의 저장 탄성률 G'는, 점탄성 측정 장치(MCR-301, Anton Paar사)를 이용하여 측정했다. 실시예 및 비교예에서 이용한 것과 같은 점착제층을 폭 30㎜ × 길이 30㎜로 하고, 박리 필름을 벗겨, 두께가 200 ± 10㎛가 되도록 복수 매 적층하여 측정 스테이지에 접합 후, 측정 칩(PP25, Anton Paar사)과 접착한 상태로 -20℃ ∼ 100℃의 온도 영역에서 주파수 1.0㎐, 변형량 1％, 노멀 포스 1N, 승온 속도 5℃／분의 조건하에서 측정을 행하고, 온도 85℃에서의 저장 탄성률 G'[㎫]를 얻었다.The storage elastic modulus G' of the adhesive layer was measured using a viscoelasticity measuring device (MCR-301, Anton Paar). The same adhesive layer as used in the examples and comparative examples was set to a width of 30 mm Anton Paar), the measurement was carried out in a temperature range of -20°C to 100°C under the conditions of a frequency of 1.0 Hz, a deformation amount of 1%, a normal force of 1 N, and a temperature increase rate of 5°C/min, and stored at a temperature of 85°C. The elastic modulus G'[MPa] was obtained.

(8) 적층체 α의 인장 탄성률 E3(23℃)(8) Tensile modulus E3 of laminate α (23°C)

(8-1) 적층체 α의 제작(8-1) Fabrication of laminate α

(8-1-1) 제2 점접착제층이 수계 접착제로 형성되는 경우(8-1-1) When the second adhesive layer is formed of a water-based adhesive

제2 보호층의 표면, 및 위상자의 기재 A를 박리 제거함으로써 노출된 표면에, 각각 코로나 처리(0.3㎾, 처리 속도 3m／분)를 실시했다. 제2 보호층의 코로나 처리면과 위상자의 코로나 처리면을, 후술하는 제3 점접착제층을 개재하여 첩합하여, (지지 기재) 제2 보호층／제3 점접착제층／광배향막 A／위상차막 A／접착제층／위상차막 B／배향막 B／기재 B를 이 순으로 포함하는 적층체 α(또는 지지 기재 부착 적층체 α)를 얻었다.Corona treatment (0.3 kW, processing speed 3 m/min) was performed on the surface of the second protective layer and the surface exposed by peeling and removing the phase phase substrate A. The corona-treated surface of the second protective layer and the corona-treated surface of the phase are bonded via a third adhesive layer to be described later, (supporting substrate) second protective layer/third adhesive layer/photo-alignment film A/phase shield. A laminate α (or a laminate α with a support substrate) containing A/adhesive layer/phase contrast film B/alignment film B/substrate B in this order was obtained.

(8-1-2) 제2 점접착제층이 점착제층인 경우(8-1-2) When the second adhesive layer is an adhesive layer

점착제층(제2 점접착제층)을 개재하여 지지 기재가 첩합된 제2 보호층의 표면(지지 기재를 갖는 면과는 반대의 면), 및 위상자의 기재 A를 박리 제거함으로써 노출된 표면에, 각각 코로나 처리(0.3㎾, 처리 속도 3m／분)를 실시했다. 제2 보호층의 코로나 처리면과 위상자의 코로나 처리면을, 후술하는 제3 점접착제층을 개재하여 첩합하여, (지지 기재) 제2 점접착제층／제2 보호층／점착제층 1／광배향막 A／위상차막 A／접착제층／위상차막 B／배향막 B／기재 B를 이 순으로 포함하는 지지 기재 부착 적층체 α를 얻었다.On the surface of the second protective layer (the side opposite to the side with the support substrate) to which the support substrate is bonded via an adhesive layer (second adhesive layer), and on the surface exposed by peeling and removing the substrate A of the phase phase, Each was subjected to corona treatment (0.3 kW, treatment speed 3 m/min). The corona-treated surface of the second protective layer and the corona-treated surface of the phase are bonded via a third adhesive layer to be described later, and (supporting substrate) second adhesive layer/second protective layer/adhesive layer 1/photo-alignment film. A laminate with a support substrate α containing A/phase contrast film A/adhesive layer/phase contrast film B/alignment film B/substrate B in this order was obtained.

(8-1-3) 제2 보호층이 수지층인 경우(8-1-3) When the second protective layer is a resin layer

제2 보호층의 표면, 및 위상자의 기재 A를 박리 제거함으로써 노출된 표면에, 각각 코로나 처리(0.3㎾, 처리 속도 3m／분)를 실시했다. 제2 보호층의 코로나 처리면과 위상자의 코로나 처리면을, 후술하는 제3 점접착제층을 개재하여 첩합하여, (지지 기재) 제2 보호층／제3 점접착제층／광배향막 A／위상차막 A／접착제층／위상차막 B／배향막 B／기재 B를 이 순으로 포함하는 적층체 α(또는 지지 기재 부착 적층체 α)를 얻었다.Corona treatment (0.3 kW, processing speed 3 m/min) was performed on the surface of the second protective layer and the surface exposed by peeling and removing the phase phase substrate A. The corona-treated surface of the second protective layer and the corona-treated surface of the phase are bonded via a third adhesive layer to be described later, (supporting substrate) second protective layer/third adhesive layer/photo-alignment film A/phase shield. A laminate α (or a laminate α with a support substrate) containing A/adhesive layer/phase contrast film B/alignment film B/substrate B in this order was obtained.

상기 (8-1-1) ∼ (8-1-3)에서, 지지 기재와 제2 보호층을 포함하는 후술하는 적층체를 이용하여 적층체 α를 제작하는 경우, 상기 제2 보호층의 표면이란, 후술하는 적층체에 있어서의 제2 보호층의 표면을 가리킨다. 양면에 지지 기재를 갖는 제2 보호층을 이용하여 적층체 α를 제작하는 경우, 상기 제2 보호층의 표면이란, 한쪽의 지지 기재를 박리함으로써 노출된 제2 보호층의 표면을 가리킨다.In the above (8-1-1) to (8-1-3), when manufacturing the laminate α using the later-described laminate including a support substrate and a second protective layer, the surface of the second protective layer This refers to the surface of the second protective layer in the laminate described later. When producing a laminate α using a second protective layer having a support substrate on both sides, the surface of the second protective layer refers to the surface of the second protective layer exposed by peeling off the support substrate on one side.

또, 적층체 α의 제작 절차는 상기에 한정되는 것은 아니다.In addition, the manufacturing procedure of the laminate α is not limited to the above.

(8-2) 측정 시료의 제작 및 인장 탄성률 E3의 측정(8-2) Production of measurement samples and measurement of tensile modulus E3

측정 시료의 제작 방법을, 도 3을 참조하여 설명한다. 적층체 α를 60㎜ × 200㎜의 단편으로 잘라냈다. 또한 60㎜ × 200㎜의 풀 부착 대지(臺紙)(17)를 준비했다. 이 풀 부착 대지(17)는, 중앙부에 10㎜ × 140㎜의 장방형으로 컷아웃(切拔)된 컷아웃부(18)를 갖고 있다. 제2 보호층이 지지 기재를 가질 경우에는 상기 지지 기재를 적층체 α로부터 박리 제거하고, 제2 보호층(상기 (8-1-2)의 경우에는 점착제층)의 표면이 풀 부착 대지의 풀에 접하도록, 상기 적층체를 풀 부착 대지에 첩합했다. 그 후, 기재층 B를 박리했다. 이와 같이 하여, 도 3에 나타내는 샘플을 얻었다. 컷아웃부(18)의 부분에는 적층체 α(16)가 존재하고, 기타 부분에서는, 풀 부착 대지(17)와 적층체 α(16)가 첩합되어 있다. 다음으로, 풀 부착 대지(17)의 컷아웃부(18)를 포함하도록, 10㎜ × 60㎜의 장방형 부분(도 3 중의 점선으로 둘러싸인 부분)을 재단하고, 이를, 인장 탄성률의 측정 시료로서 사용했다.The manufacturing method of the measurement sample will be explained with reference to FIG. 3. Laminate α was cut into pieces of 60 mm x 200 mm. Additionally, a 60 mm × 200 mm glued sheet (17) was prepared. This adhesive base 17 has a cutout portion 18 cut out in a rectangular shape of 10 mm x 140 mm in the central portion. When the second protective layer has a supporting base material, the supporting base material is peeled and removed from the laminate α, and the surface of the second protective layer (adhesive layer in the case of (8-1-2) above) is glued. The above-described laminate was bonded to the adhesive base so that it was in contact with. After that, the base material layer B was peeled off. In this way, the sample shown in FIG. 3 was obtained. Laminate α (16) exists in the portion of the cutout portion 18, and in other portions, adhesive base 17 and laminate α (16) are bonded together. Next, 10 mm did.

인장 탄성률 E3의 측정은, JIS K7161에 따라 행했다. 인장 시험은, 인장 시험기〔Shimadzu Corporation 제조 AUTOGRAPH AG-Xplus 시험기〕를 이용하여, 상기의 측정 시료의 양단의 대지 부분(도 3 중의 사선 부분)을 파지하고, 속도 1㎜／분으로 인장함으로써, 장변 방향에서의 인장 탄성률[㎫]을 산출했다. 인장 시험은, 온도 23℃, 습도 50％의 실온 환경하에서 행했다.The measurement of tensile elastic modulus E3 was performed according to JIS K7161. In the tensile test, using a tensile tester [AUTOGRAPH AG- The tensile modulus of elasticity [MPa] in the direction was calculated. The tensile test was conducted in a room temperature environment with a temperature of 23°C and a humidity of 50%.

(9) 위상차 변화량의 면내 불균일의 평가(9) Evaluation of in-plane non-uniformity of phase difference change

광학 적층체가 고온하에 놓여졌을 때의 면내 위상차값의 변화량의 면내 불균일(위상차 변화량의 면내 불균일)을 다음 절차에 따라서 측정하고, 평가했다. 광학 적층체로부터, 위상자의 지상축(遲相軸)을 장변 방향으로 하는 120㎜ × 60㎜의 시료를 잘라냈다. 시료가 갖는 점착제층을 개재하여 무알칼리 유리(Corning Inc. 제조, 품번: EAGLE XG(등록상표))에 첩합하여 평가용 샘플을 제작했다. 평가용 샘플에 대해서, 위상차 측정 장치(Oji Scientific Instruments 제조, KOBRA-WPR)를 이용하여, 파장 550㎚에서의 면내 위상차값을 측정했다. 면내 위상차값은, 평가용 샘플의 면내 중심, 및 4개의 단변(端邊)의 각 중앙 위치에 대해서 측정했다(합계 5점).The in-plane non-uniformity of the amount of change in the in-plane retardation value (in-plane non-uniformity of the amount of retardation change) when the optical laminate was placed under high temperature was measured and evaluated according to the following procedure. From the optical laminate, a 120 mm x 60 mm sample was cut out with the slow axis of the phase element in the long side direction. A sample for evaluation was produced by bonding the sample to alkali-free glass (manufactured by Corning Inc., product number: EAGLE XG (registered trademark)) through the adhesive layer of the sample. For the samples for evaluation, the in-plane phase difference value at a wavelength of 550 nm was measured using a phase difference measuring device (KOBRA-WPR, manufactured by Oji Scientific Instruments). The in-plane phase difference value was measured for the in-plane center of the evaluation sample and the center position of each of the four short sides (5 points in total).

평가용 샘플을 오븐에 넣고, 온도 85℃에서 168시간, 평가용 샘플을 가열하는 내열 시험을 실시했다. 평가용 샘플을 오븐으로부터 취출하고, 그 1.5시간 후에 상기 위상차 측정 장치를 이용하여, 상기 5점과 같은 점에 대해서, 파장 550㎚에서의 면내 위상차값을 측정하고, 상기 5점에서의 내열 시험 전후의 면내 위상차값의 변화량 ΔRe를 구했다. 평가용 샘플의 면내 중심에서의 면내 위상차값의 변화량을 ΔRe1로 하고, 4개의 단변의 각 중앙 위치에서의 면내 위상차값의 변화량을 각각 ΔRe2 ∼ 5로 했다. 이들로부터, ｜Re1 ― Re2｜, ｜Re1 ― Re3｜, ｜Re1 ― Re4｜, ｜Re1 ― Re5｜의 값을 구했다. 이들 값 중 최대값과 최소값의 차 X를 구했다. 차 X의 값에 기초하여, 하기의 기준에 따라서 위상차 변화량의 면내 불균일을 평가했다. 하기 기준 중 A＋는 가장 평가가 좋고, 위상차 변화량의 면내 불균일이 가장 작다. D는 가장 평가가 나쁘고, 위상차 변화량의 면내 불균일이 가장 크다.The evaluation sample was placed in an oven, and a heat resistance test was conducted by heating the evaluation sample at a temperature of 85°C for 168 hours. A sample for evaluation is taken out from the oven, and after 1.5 hours, the in-plane retardation value at a wavelength of 550 nm is measured for the same points as the 5 points above using the above-mentioned phase difference measuring device, and before and after the heat resistance test at the 5 points above. The change amount ΔRe of the in-plane phase difference value was obtained. The amount of change in the in-plane retardation value at the in-plane center of the evaluation sample was set to ΔRe1, and the amount of change in the in-plane retardation value at the central position of each of the four short sides was set to ΔRe2 to 5, respectively. From these, the values of |Re1 - Re2|, |Re1 - Re3|, |Re1 - Re4|, and |Re1 - Re5| were obtained. Among these values, the difference X between the maximum and minimum values was obtained. Based on the value of difference Among the following criteria, A+ is evaluated the best and has the smallest in-plane non-uniformity in the amount of phase difference change. D has the worst evaluation and has the largest in-plane non-uniformity in the amount of phase difference change.

A＋: X의 값이 1.2 미만A+: The value of X is less than 1.2

A: X의 값이 1.2 이상 2.0 미만A: The value of X is 1.2 or more but less than 2.0

B: X의 값이 2.0 이상 2.5 미만B: The value of X is 2.0 or more but less than 2.5

C: X의 값이 2.5 이상 3.0 미만C: The value of X is 2.5 or more but less than 3.0

D: X의 값이 3.0 이상D: The value of X is 3.0 or higher

(10) 광학 적층체에 의한 금속 부식의 평가(10) Evaluation of metal corrosion by optical laminate

무알칼리 유리 기판 표면에 스퍼터링에 의해 금속 알루미늄층 및 금속 티탄층이 이 순으로 적층된 금속층 부착 유리 기판을 준비했다. 다음으로, 실시예 및 비교예에서 얻은 광학 적층체를 50㎜ × 50㎜의 크기로 재단하고, 광학 적층체의 점착제층 상에 금속층 부착 유리 기판의 금속 티탄층 측을 첩착하여 평가용 샘플을 제작했다. 평가용 샘플을, 온도 85℃, 상대습도 85％RH의 오븐 중에서 350시간 보관한 후, 평가용 샘플을 오븐으로부터 취출했다. 백라이트 상에 유리 기판을 아래로 하여 평가용 샘플을 재치하고, 광 누설에 의한 휘점의 개수 및 크기를 관찰하여, 하기의 기준에 따라서 금속 부식의 평가를 행했다.A glass substrate with a metal layer was prepared in which a metal aluminum layer and a metal titanium layer were laminated in this order by sputtering on the surface of the alkali-free glass substrate. Next, the optical laminates obtained in the examples and comparative examples were cut to a size of 50 mm did. After storing the sample for evaluation in an oven at a temperature of 85°C and a relative humidity of 85%RH for 350 hours, the sample for evaluation was taken out from the oven. A sample for evaluation was placed on the backlight with the glass substrate facing down, the number and size of bright spots due to light leakage were observed, and metal corrosion was evaluated according to the following standards.

A＋: 휘점 발생 없음A+: No bright spots

A: 0.1 ∼ 0.5㎜의 휘점이 1 ∼ 5개 이내A: Within 1 to 5 bright spots measuring 0.1 to 0.5 mm.

B＋: 0.1 ∼ 0.5㎜의 휘점이 6 ∼ 15개 이내, 또는 0.5 ∼ 1.0㎜의 휘점이 5개 이내B+: Within 6 to 15 bright points between 0.1 and 0.5 mm, or within 5 bright points between 0.5 and 1.0 mm.

B: 0.5 ∼ 1.0㎜의 휘점이 6 ∼ 15개 이내B: Within 6 to 15 bright spots of 0.5 to 1.0 mm

C: 15개를 초과하는 휘점이 전면(全面)에 인정되지만, 일부 휘점이 없는 영역을 갖는다C: More than 15 bright spots are recognized on the entire surface, but there are some areas without bright spots.

D: 15개를 초과하는 휘점이 전면에 골고루 인정된다D: Bright spots exceeding 15 are recognized evenly over the entire surface.

[편광자의 제작][Production of polarizer]

(1) 편광자 1의 제작(1) Fabrication of polarizer 1

두께 20㎛, 중합도 2400, 비누화도 99.9％ 이상의 폴리비닐알코올 필름을, 건식으로 연신 배율 4.5배로 일축 연신하고, 긴장 상태를 유지한 채, 물 100부당 요오드 0.05부 및 요오드화칼륨 5부를 함유하는, 28℃의 염색 욕(浴)에 60초간 침지했다.A polyvinyl alcohol film with a thickness of 20 μm, a degree of polymerization of 2400, and a degree of saponification of 99.9% or more is uniaxially stretched at a stretching ratio of 4.5 times in a dry manner, and while maintaining the tension, it contains 0.05 parts of iodine and 5 parts of potassium iodide per 100 parts of water, 28 It was immersed in a dye bath at ℃ for 60 seconds.

그 다음에, 물 100부당 붕산 5.5부 및 요오드화칼륨 15부를 함유하는, 64℃의 붕산 수용액 1에 110초간 침지했다. 그 다음에, 물 100부당 붕산 2.3부 및 요오드화칼륨 15부를 함유하는, 67℃의 붕산 수용액 2에 30초간 침지했다. 그 후, 3℃의 순수를 이용하여 수세하고, 건조하여, 편광자 1을 얻었다. 상기 방법에 의해 측정한 편광자 1의 붕소 함유량은 2.8질량％였다. 편광자의 두께는 8㎛였다.Next, it was immersed in boric acid aqueous solution 1 at 64°C containing 5.5 parts of boric acid and 15 parts of potassium iodide per 100 parts of water for 110 seconds. Next, it was immersed in boric acid aqueous solution 2 at 67°C, containing 2.3 parts of boric acid and 15 parts of potassium iodide per 100 parts of water, for 30 seconds. After that, it was washed with pure water at 3°C, dried, and polarizer 1 was obtained. The boron content of polarizer 1 measured by the above method was 2.8 mass%. The thickness of the polarizer was 8㎛.

(2) 편광자 2의 제작(2) Fabrication of polarizer 2

붕산 수용액 2의 붕산 함유량을 5.5부로 변경한 것 이외에는 편광자 1과 마찬가지로 하여 편광자 2를 제작했다. 편광자 2의 두께는 8㎛이며, 붕소 함유량은 4.1질량％였다.Polarizer 2 was produced in the same manner as polarizer 1 except that the boric acid content of boric acid aqueous solution 2 was changed to 5.5 parts. The thickness of polarizer 2 was 8 μm, and the boron content was 4.1 mass%.

[보호 필름의 제작·준비][Production/preparation of protective film]

(1) 제1 보호층 1의 준비(1) Preparation of first protective layer 1

제1 보호층 1로서, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(KONICA MINOLTA, INC. 제조 KC2UATAC, 두께 T1: 25㎛)을 준비했다. 제1 보호층 1의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E1은 830㎫이었다.As the first protective layer 1, a triacetylcellulose (TAC) film (KC2UATAC manufactured by KONICA MINOLTA, INC., thickness T1: 25 μm) was prepared. The tensile modulus E1 of the first protective layer 1 at a temperature of 85°C was 830 MPa.

(2) 제1 보호층 2의 준비(2) Preparation of first protective layer 2

제1 보호층 1의 편면에 두께 7㎛의 하드 코팅층을 형성하여, 제1 보호층 2(두께 T1: 32㎛)를 얻었다. 제1 보호층 2의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E1은 700㎫이었다.A hard coating layer with a thickness of 7 μm was formed on one side of the first protective layer 1 to obtain a first protective layer 2 (thickness T1: 32 μm). The tensile modulus E1 of the first protective layer 2 at a temperature of 85°C was 700 MPa.

(3) 제2 보호층 1의 제작(3) Fabrication of second protective layer 1

지지 기재로서, 두께 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)(TOYOBO CO., LTD. 제조 「TN100」, 논실리콘계 박리제를 포함하는 이형층을 가짐)을 준비했다. 또한, 하기 성분을 배합하여, 열가소성 수지를 포함하는 조성물을 조제했다.As a support substrate, a 38-μm-thick polyethylene terephthalate film (PET film) (“TN100” manufactured by TOYOBO CO., LTD., having a release layer containing a non-silicone-based release agent) was prepared. Additionally, the following components were mixed to prepare a composition containing a thermoplastic resin.

·환상 폴리올레핀계 수지(Zeon Corporation 제조 「제오노아 ZF14」): 10부Cyclic polyolefin resin (“Zeonoa ZF14” manufactured by Zeon Corporation): 10 parts

·시클로헥산: 90부·Cyclohexane: 90 parts

지지 기재의 이형층 상에, 상기 열가소성 수지를 포함하는 조성물을, 백 코팅법에 의해 다이를 이용하여 도포한 후, 40℃에서 1분, 70℃에서 1분, 120℃에서 2분의 조건으로 도포층을 건조시킴으로써, 제2 보호층 1로서 두께 T2가 2㎛인 환상 폴리올레핀계 수지층을 갖는 적층체를 제작했다. 제2 보호층 1의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E2는 450㎫, 파장 550㎚에서의 면내 위상차값은 0.5㎚, 투습도는 63g／㎡／24hr, 광탄성률은 3.5 × 10-12Pa-1이었다.On the release layer of the support substrate, the composition containing the thermoplastic resin is applied using a die by a back coating method, and then applied under the conditions of 40°C for 1 minute, 70°C for 1 minute, and 120°C for 2 minutes. By drying the application layer, a laminate having a cyclic polyolefin resin layer with a thickness T2 of 2 μm as the second protective layer 1 was produced. The tensile modulus E2 of the second protective layer 1 at a temperature of 85°C was 450 MPa, the in-plane retardation value at a wavelength of 550 nm was 0.5 nm, the moisture permeability was 63 g/m2/24hr, and the photoelastic modulus was 3.5 × 10 -12 Pa -1 . .

(4) 제2 보호층 2의 제작(4) Fabrication of second protective layer 2

지지 기재의 이형층 상에의 열가소성 수지를 포함하는 조성물의 도포량을 변경한 것 이외에는 제2 보호층 1의 제작과 마찬가지로 하여, 제2 보호층 2로서 두께 T2가 3㎛인 환상 폴리올레핀계 수지층을 갖는 적층체를 제작했다. 제2 보호층 2의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E2는 450㎫, 투습도는 37g／㎡／24hr, 광탄성률은 3.5 × 10-12Pa-1이었다.Except that the application amount of the composition containing the thermoplastic resin on the release layer of the support substrate was changed, in the same manner as the production of the second protective layer 1, a cyclic polyolefin-based resin layer with a thickness T2 of 3 μm was formed as the second protective layer 2. A laminate with The tensile elastic modulus E2 of the second protective layer 2 at a temperature of 85°C was 450 MPa, the moisture permeability was 37 g/m2/24hr, and the photoelastic modulus was 3.5 × 10 -12 Pa -1 .

(5) 제2 보호층 3의 제작(5) Fabrication of second protective layer 3

지지 기재의 이형층 상에의 열가소성 수지를 포함하는 조성물의 도포량을 변경한 것 이외에는 제2 보호층 1의 제작과 마찬가지로 하여, 제2 보호층 3으로서 두께 T2가 4㎛인 환상 폴리올레핀계 수지층을 갖는 적층체를 제작했다. 제2 보호층 3의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E2는 450㎫, 투습도는 19g／㎡／24hr, 광탄성률은 3.5 × 10-12Pa-1이었다.Except that the application amount of the composition containing the thermoplastic resin on the release layer of the support substrate was changed, in the same manner as the production of the second protective layer 1, a cyclic polyolefin-based resin layer with a thickness T2 of 4 μm was formed as the second protective layer 3. A laminate with The tensile elastic modulus E2 of the second protective layer 3 at a temperature of 85°C was 450 MPa, the moisture permeability was 19 g/m2/24hr, and the photoelastic modulus was 3.5 × 10 -12 Pa -1 .

(6) 제2 보호층 4의 준비(6) Preparation of second protective layer 4

제2 보호층 4로서, 두께 T2가 13㎛인 환상 폴리올레핀계 수지 필름을 준비했다. 제2 보호층 4의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E2는 620㎫, 투습도는 4.8g／㎡／24hr, 광탄성률은 3.5 × 10-12Pa-1이었다.As the second protective layer 4, a cyclic polyolefin-based resin film with a thickness T2 of 13 μm was prepared. The tensile elastic modulus E2 of the second protective layer 4 at a temperature of 85°C was 620 MPa, the moisture permeability was 4.8 g/m2/24hr, and the photoelastic modulus was 3.5 × 10 -12 Pa -1 .

(7) 제2 보호층 5의 준비(7) Preparation of second protective layer 5

제2 보호층 5로서, 두께 T2가 23㎛인 환상 폴리올레핀계 수지 필름을 준비했다. 제2 보호층 5의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E2는 620㎫, 투습도는 2.6g／㎡／24hr, 광탄성률은 3.5 × 10-12Pa-1이었다.As the second protective layer 5, a cyclic polyolefin-based resin film with a thickness T2 of 23 μm was prepared. The tensile elastic modulus E2 of the second protective layer 5 at a temperature of 85°C was 620 MPa, the moisture permeability was 2.6 g/m2/24hr, and the photoelastic modulus was 3.5 × 10 -12 Pa -1 .

(8) 제2 보호층 6의 제작(8) Fabrication of the second protective layer 6

지지 기재로서, 두께 38㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)(TOYOBO CO., LTD. 제조 「TN100」, 논실리콘계 박리제를 포함하는 이형층을 가짐)을 준비했다. 또한, 일본 특허공개 2013-254133호 공보에 따라서 용융 압형에 의해 제작한 두께 60㎛의 (메타)아크릴계 수지 필름(전광선 투과율: 93.5％, Tg: 105℃) 10부를 톨루엔 90부에 용해함으로써 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 조성물을 조제했다.As a support substrate, a 38-μm-thick polyethylene terephthalate film (PET film) (“TN100” manufactured by TOYOBO CO., LTD., having a release layer containing a non-silicone-based release agent) was prepared. In addition, according to Japanese Patent Laid-Open No. 2013-254133, 10 parts of a (meth)acrylic resin film (total light transmittance: 93.5%, Tg: 105°C) with a thickness of 60 ㎛ produced by melt pressing was dissolved in 90 parts of toluene (meth) ) A composition containing an acrylic resin was prepared.

지지 기재의 이형층 상에, 상기 (메타)아크릴계 수지를 포함하는 조성물을, 백 코팅법에 의해 다이를 이용하여 도포한 후, 40℃에서 1분, 70℃에서 1분, 100℃에서 1분, 그 다음에 130℃에서 2분의 조건으로 도포층을 건조시킴으로써, 제2 보호층 6으로서 두께 T2가 2㎛인 (메타)아크릴계 수지층을 갖는 적층체를 제작했다. 제2 보호층 6의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E2는 850㎫, 파장 550㎚에서의 면내 위상차값은 0.1㎚, 투습도는 1100g／㎡／24hr, 광탄성률은 0.3 × 10-12Pa-1이었다.On the release layer of the support substrate, the composition containing the (meth)acrylic resin is applied using a die by a back coating method, and then applied at 40°C for 1 minute, at 70°C for 1 minute, and at 100°C for 1 minute. , and then the applied layer was dried at 130°C for 2 minutes to produce a laminate having a (meth)acrylic resin layer with a thickness T2 of 2 μm as the second protective layer 6. The tensile elastic modulus E2 of the second protective layer 6 at a temperature of 85°C was 850 MPa, the in-plane retardation value at a wavelength of 550 nm was 0.1 nm, the moisture permeability was 1100 g/m2/24hr, and the photoelastic modulus was 0.3 × 10 -12 Pa -1 . .

(9) 제2 보호층 8의 준비(9) Preparation of second protective layer 8

지지 기재로서, 두께 50㎛의 환상 폴리올레핀 필름을 2매 준비했다. 또한, 하기 성분을 배합하여, 수지 조성물을 조제했다.As a support substrate, two cyclic polyolefin films with a thickness of 50 μm were prepared. Additionally, the following components were mixed to prepare a resin composition.

·4-히드록시부틸아크릴레이트(OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD 제조): 70부4-Hydroxybutylacrylate (manufactured by OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD): 70 parts

·디펜타에리스리톨폴리아크릴레이트(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD. 제조): 30부· Dipentaerythritol polyacrylate (manufactured by SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.): 30 parts

·Irgacure 184(Ciba Japan K.K. 제조): 3부·Irgacure 184 (manufactured by Ciba Japan K.K.): 3 copies

얻어진 수지 조성물을, 상기 2매의 지지 기재 사이에, 고속 라미네이터를 이용하여 도공했다. 이어서 자외선을 하기의 조건으로 조사하고, 제2 보호층 8로서 두께 T2가 1㎛인 경화 수지층을 갖는 적층체를 제작했다. 제2 보호층 8의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E2는 850㎫, 파장 550㎚에서의 면내 위상차값은 0.1㎚, 투습도는 2200g／㎡／24hr, 광탄성률은 0.3 × 10-12Pa-1이었다.The obtained resin composition was applied between the two supporting substrates using a high-speed laminator. Next, ultraviolet rays were irradiated under the following conditions to produce a laminate having a cured resin layer with a thickness T2 of 1 μm as the second protective layer 8. The tensile elastic modulus E2 of the second protective layer 8 at a temperature of 85°C was 850 MPa, the in-plane retardation value at a wavelength of 550 nm was 0.1 nm, the moisture permeability was 2200 g/m2/24hr, and the photoelastic modulus was 0.3 × 10 -12 Pa -1 . .

<UV 조사 조건><UV irradiation conditions>

GS-UV 램프 고압 수은 램프 사용·UV 파장 영역 UVA의 적산 광량 400mJ／㎠(측정기: Fusion UV사 제조 UV Power PuckⅡ에 의한 측정값)GS-UV lamp uses high-pressure mercury lamp, integrated UVA light amount in UV wavelength range is 400mJ/㎠ (Measuring instrument: Measured value using UV Power PuckⅡ manufactured by Fusion UV)

(10) 제2 보호층 9의 준비(10) Preparation of second protective layer 9

수지 조성물의 배합을 하기로 변경한 것, 및 두께 T2를 2㎛로 변경한 것 이외에는 제2 보호층 8과 마찬가지로 하여, 제2 보호층 9로서 두께 T2가 2㎛인 경화 수지층을 갖는 적층체를 제작했다. 제2 보호층 9의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E2는 850㎫, 파장 550㎚에서의 면내 위상차값은 0.1㎚, 투습도는 1100g／㎡／24hr, 광탄성률은 0.3 × 10-12Pa-1이었다.A laminate having a cured resin layer with a thickness T2 of 2 μm as the second protective layer 9 in the same manner as the second protective layer 8 except that the formulation of the resin composition was changed as follows and the thickness T2 was changed to 2 μm. produced. The tensile elastic modulus E2 at a temperature of 85°C of the second protective layer 9 was 850 MPa, the in-plane retardation value at a wavelength of 550 nm was 0.1 nm, the moisture permeability was 1100 g/m2/24hr, and the photoelastic modulus was 0.3 × 10 -12 Pa -1 . .

·4-히드록시부틸아크릴레이트(OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD 제조): 30부4-Hydroxybutylacrylate (manufactured by OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD): 30 parts

·디펜타에리스리톨폴리아크릴레이트(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD. 제조): 70부· Dipentaerythritol polyacrylate (manufactured by SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.): 70 parts

·Irgacure 184(Ciba Japan K.K. 제조): 3부·Irgacure 184 (manufactured by Ciba Japan K.K.): 3 copies

[활성 에너지선 경화형 접착제의 조제][Preparation of active energy ray-curable adhesive]

(1) 활성 에너지선 경화형 접착제 1의 조제(1) Preparation of active energy ray curable adhesive 1

하기 성분을 배합하여 혼합한 후, 탈포하여, 활성 에너지선 경화형 접착제 1을 조제했다.After mixing the following components and defoaming, active energy ray-curable adhesive 1 was prepared.

(양이온 중합성 화합물)(cationic polymerizable compound)

·3',4'-에폭시시클로헥실메틸3,4-에폭시시클로헥산카복실레이트(상품명: CEL2021P, Daicel Corporation 제조): 70부・3',4'-Epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Product name: CEL2021P, manufactured by Daicel Corporation): 70 parts

·네오펜틸글리콜디글리시딜에테르(상품명: EX-211, Nagase Chemtex Corporation 제조): 20부·Neopentyl glycol diglycidyl ether (Product name: EX-211, manufactured by Nagase Chemtex Corporation): 20 parts

·2-에틸헥실글리시딜에테르(상품명: EX-121, Nagase Chemtex Corporation 제조): 10부2-Ethylhexylglycidyl ether (Product name: EX-121, manufactured by Nagase Chemtex Corporation): 10 parts

(광양이온 중합개시제)(Photocationic polymerization initiator)

·상품명: CPI-100(San-Apro Ltd. 제조, 50％ 프로필렌카보네이트 용액): 4.5부(실질 고형분 2.25부)· Product name: CPI-100 (manufactured by San-Apro Ltd., 50% propylene carbonate solution): 4.5 parts (actual solid content 2.25 parts)

(광증감 조제)(Photosensitization preparation)

·1,4-디에톡시나프탈렌: 2부·1,4-diethoxynaphthalene: Part 2

(2) 활성 에너지선 경화형 접착제 2의 조제(2) Preparation of active energy ray curable adhesive 2

하기 성분을 배합하여 혼합한 후, 탈포하여, 활성 에너지선 경화형 접착제 2를 조제했다.After mixing the following components and defoaming, active energy ray-curable adhesive 2 was prepared.

(양이온 중합성 화합물)(cationic polymerizable compound)

·3',4'-에폭시시클로헥실메틸3,4-에폭시시클로헥산카복실레이트(상품명: CEL2021P, Daicel Corporation 제조): 32.5부· 3',4'-Epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (Product name: CEL2021P, manufactured by Daicel Corporation): 32.5 parts

·2,2-비스(히드록시메틸)-1-부탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥산 부가물(상품명: EHPE3150, Daicel Corporation 제조): 17.5부1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adduct of 2,2-bis(hydroxymethyl)-1-butanol (trade name: EHPE3150, manufactured by Daicel Corporation): 17.5 parts

·3-[(벤질옥시)메틸]-3-에틸옥세탄(방향족 함유 옥세탄 화합물, 상품명: TCM-104, TRONLY 제조): 10.0부・3-[(benzyloxy)methyl]-3-ethyloxetane (aromatic-containing oxetane compound, brand name: TCM-104, manufactured by TRONLY): 10.0 parts

·3-에틸-3{[(3-에틸옥세탄-3-일)메톡시]메틸}옥세탄(상품명: OXT-221, TOAGOSEI CO., LTD. 제조): 40.0부·3-Ethyl-3{[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl}oxetane (Product name: OXT-221, manufactured by TOAGOSEI CO., LTD.): 40.0 parts

(광양이온 중합개시제)(Photocationic polymerization initiator)

·술포늄계 광중합개시제(상품명: CPI-100P, San-Apro Ltd. 제조, 50질량％ 용액): 2.6부(실질 고형분 1.3부)· Sulfonium-based photopolymerization initiator (Product name: CPI-100P, manufactured by San-Apro Ltd., 50% by mass solution): 2.6 parts (actual solid content 1.3 parts)

(광증감 조제)(Photosensitization preparation)

·1,4-디에톡시나프탈렌: 2.0부·1,4-diethoxynaphthalene: 2.0 parts

[점착제층의 제작][Production of adhesive layer]

양면이 박리 필름에 첩합된 이하의 아크릴계 점착제층 1 및 2를 제작했다.The following acrylic adhesive layers 1 and 2, in which both sides were bonded to a release film, were produced.

(1) 점착제층 1의 제작(1) Production of adhesive layer 1

(1-1) 아크릴계 수지 용액 1의 조제(1-1) Preparation of acrylic resin solution 1

냉각관, 질소 도입관, 온도계, 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 아세트산에틸 100부, 아크릴산부틸 99.0부, 아크릴산2-히드록시에틸 0.5부, 및 아크릴산 0.5부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소를 포함하지 않으면서 내온을 55℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합개시제) 0.12부를 아세트산에틸 10부에 녹인 용액을 전량 첨가했다. 중합개시제를 첨가한 후, 1시간 이 온도에서 보지하고, 그 다음에 내온을 54 ∼ 56℃로 유지하면서 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3부／hr로 반응 용기 내에 연속적으로 더하고, 아크릴계 수지의 농도가 35질량％가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸의 첨가 개시부터 6시간 경과할 때까지 이 온도에서 보온했다. 마지막으로 아세트산에틸을 더하여 아크릴계 수지의 농도가 20질량％가 되도록 조절하고, 아크릴계 수지 용액 1을 조제했다. 얻어진 아크릴계 수지는, 중량 평균 분자량 Mw가 170만, 분자량 분포 Mw／Mn이 3.9였다. 또, Mw 및 Mn은, GPC 장치에 칼럼으로서, TOSOH CORPORATION 제조의 「TSKgel GMHHR-H(S)」를 2개 직렬로 이어 배치하고, 용출액으로서 테트라히드로퓨란을 이용하여, 시료 농도 2㎎／mL, 시료 도입량 100μL, 온도 40℃, 유속 1mL／분의 조건으로, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 측정했다.A mixed solution of 100 parts of ethyl acetate, 99.0 parts of butyl acrylate, 0.5 parts of 2-hydroxyethyl acrylate, and 0.5 parts of acrylic acid was added to a reaction vessel equipped with a cooling pipe, a nitrogen introduction pipe, a thermometer, and a stirrer, and then stirred with nitrogen gas. By replacing the air in the device, the internal temperature was raised to 55°C without containing oxygen. After that, the entire solution of 0.12 parts of azobisisobutyronitrile (polymerization initiator) dissolved in 10 parts of ethyl acetate was added. After adding the polymerization initiator, it was maintained at this temperature for 1 hour, and then ethyl acetate was continuously added into the reaction vessel at an addition rate of 17.3 parts/hr while maintaining the internal temperature at 54 to 56°C, and the concentration of the acrylic resin was 35. When the mass % was reached, the addition of ethyl acetate was stopped, and the temperature was kept at this temperature until 6 hours had elapsed from the start of the addition of ethyl acetate. Finally, ethyl acetate was added to adjust the concentration of the acrylic resin to 20% by mass, and acrylic resin solution 1 was prepared. The obtained acrylic resin had a weight average molecular weight Mw of 1.7 million and a molecular weight distribution Mw/Mn of 3.9. In addition, for Mw and Mn, two "TSKgel GMHHR-H(S)" manufactured by TOSOH CORPORATION were placed in series as columns in the GPC device, and tetrahydrofuran was used as an eluent, and the sample concentration was 2 mg/mL. , was measured by standard polystyrene conversion under the conditions of a sample introduction amount of 100 μL, a temperature of 40°C, and a flow rate of 1 mL/min.

(1-2) 점착제 조성물 1의 조제(1-2) Preparation of adhesive composition 1

상기 (1-1)에서 얻어진 아크릴계 수지 용액 1의 고형분 80부에 대하여, 2관능 아크릴레이트(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.로부터 입수; 품번 「A-DOG」)를 20부(고형분), 가교제(Mitsui Chemicals, Inc. 제조: 상품명 「D-101E」(톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체의 아세트산에틸 용액(고형분 농도 75질량％))을 유효 성분 베이스로 2.5부, 광중합개시제(Ciba Japan K.K. 제조: 상품명 「Irgacure 500」)를 1.5부, 실란 커플링제(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조: 상품명 「KBM-403」)를 0.3부 첨가하고, 고형분 농도가 13％가 되도록 아세트산에틸을 더 첨가하여 점착제 조성물 1을 얻었다.With respect to 80 parts of the solid content of the acrylic resin solution 1 obtained in (1-1) above, 20 parts (solid content) of bifunctional acrylate (obtained from SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO., LTD.; product number “A-DOG”), 2.5 parts of cross-linking agent (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., brand name “D-101E” (ethyl acetate solution of trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate (solid concentration 75% by mass)) as the active ingredient base, and photopolymerization initiator (Ciba) Add 1.5 parts of silane coupling agent (trade name: “Irgacure 500” manufactured by Japan K.K., Ltd.) and 0.3 parts of silane coupling agent (trade name: “KBM-403” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and add acetic acid so that the solid content concentration is 13%. Further ethyl was added to obtain adhesive composition 1.

A-DOG는, 히드록시피발알데히드와 트리메틸올프로판과의 아세탈 화합물의 디아크릴레이트로서, 아래 식의 구조를 갖는다.A-DOG is a diacrylate of an acetal compound of hydroxypivaldehyde and trimethylolpropane, and has the structure shown below.

[화 6][Tuesday 6]

(1-3) 점착제층 1의 제작(1-3) Production of adhesive layer 1

상기 (1-2)에서 조제한 점착제 조성물 1을, 이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로 이루어지는 박리 필름〔Mitsubishi Chemical Corporation. 제조: MRV(V04)(두께: 38㎛)〕의 이형 처리면에, 어플리케이터를 이용하여 건조 후의 두께가 5㎛가 되도록 도포하고, 100℃에서 1분간 건조하여 점착제층(점착제 시트)을 제작했다. 그 다음에 얻어진 점착제층의 상기 박리 필름 측과는 반대 측의 표면을, 이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로 이루어지는 박리 필름〔Mitsubishi Chemical Corporation. 제조: MRF(두께: 38㎛)〕의 이형 처리면과 첩합했다. 이어서 자외선을 하기의 조건으로 조사하고, 점착제층 1을 제작했다. 점착제층 1의 온도 85℃에서의 저장 탄성률 G'는 0.125㎫이었다.The adhesive composition 1 prepared in the above (1-2) was used as a release film [Mitsubishi Chemical Corporation] made of a polyethylene terephthalate film subjected to a mold release treatment. Manufacture: MRV (V04) (thickness: 38 ㎛)] was applied to the release-treated surface using an applicator so that the thickness after drying was 5 ㎛, and dried at 100°C for 1 minute to produce an adhesive layer (adhesive sheet). . Next, the surface of the obtained adhesive layer on the side opposite to the release film side is a release film made of a polyethylene terephthalate film to which a mold release treatment has been performed [Mitsubishi Chemical Corporation. It was bonded to the release-treated surface of [Manufactured: MRF (thickness: 38 μm)]. Next, ultraviolet rays were irradiated under the following conditions to produce adhesive layer 1. The storage elastic modulus G' of the adhesive layer 1 at a temperature of 85°C was 0.125 MPa.

<UV 조사 조건><UV irradiation conditions>

·Fusion UV 램프 시스템(Fusion UV Systems Inc. 제조) H 밸브 사용·Fusion UV lamp system (manufactured by Fusion UV Systems Inc.) uses H valve

·UV 파장 영역 UVA의 적산 광량 250mJ／㎠(측정기: Fusion UV사 제조 UV Power PuckⅡ에 의한 측정값)・UV wavelength range: UVA integrated light amount: 250mJ/㎠ (Measuring instrument: Measured value using UV Power PuckⅡ manufactured by Fusion UV)

(2) 점착제층 2의 제작(2) Production of adhesive layer 2

(2-1) 아크릴계 수지 용액 2의 조제(2-1) Preparation of acrylic resin solution 2

냉각관, 질소 도입관, 온도계, 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 아세트산에틸 81.8부, 아크릴산부틸 90.0부, 아크릴산메틸 5.0부 및 아크릴산 5.0부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소를 포함하지 않으면서 내온을 55℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합개시제) 0.15부를 아세트산에틸 10부에 녹인 용액을 전량 첨가했다. 중합개시제를 첨가한 후, 1시간 이 온도에서 보지하고, 그 다음에 내온을 54 ∼ 56℃로 유지하면서 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3부／hr로 반응 용기 내에 연속적으로 더하고, 아크릴계 수지의 농도가 35질량％가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸의 첨가 개시부터 6시간 경과할 때까지 이 온도에서 보온했다. 마지막으로 아세트산에틸을 더하여 아크릴계 수지의 농도가 20질량％가 되도록 조절하고, 아크릴계 수지 용액 2를 조제했다. 얻어진 아크릴계 수지는, 중량 평균 분자량 Mw가 160만, 분자량 분포 Mw／Mn이 4.5였다. 또, Mw 및 Mn은, GPC 장치에 칼럼으로서 TOSOH CORPORATION 제조의 「TSKgel GMHHR-H(S)」를 2개 직렬로 이어 배치하고, 용출액으로서 테트라히드로퓨란을 이용하여, 시료 농도 2㎎／mL, 시료 도입량 100μL, 온도 40℃, 유속 1mL／분의 조건으로, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 측정했다.A mixed solution of 81.8 parts of ethyl acetate, 90.0 parts of butyl acrylate, 5.0 parts of methyl acrylate, and 5.0 parts of acrylic acid was added to a reaction vessel equipped with a cooling pipe, a nitrogen introduction pipe, a thermometer, and a stirrer, and the air in the device was replaced with nitrogen gas. As a result, the internal temperature was raised to 55°C without containing oxygen. After that, the entire solution of 0.15 parts of azobisisobutyronitrile (polymerization initiator) dissolved in 10 parts of ethyl acetate was added. After adding the polymerization initiator, it was maintained at this temperature for 1 hour, and then ethyl acetate was continuously added into the reaction vessel at an addition rate of 17.3 parts/hr while maintaining the internal temperature at 54 to 56°C, and the concentration of the acrylic resin was 35. When the mass % was reached, the addition of ethyl acetate was stopped, and the temperature was kept at this temperature until 6 hours had elapsed from the start of the addition of ethyl acetate. Finally, ethyl acetate was added to adjust the concentration of the acrylic resin to 20% by mass, and acrylic resin solution 2 was prepared. The obtained acrylic resin had a weight average molecular weight Mw of 1.6 million and a molecular weight distribution Mw/Mn of 4.5. Additionally, for Mw and Mn, two "TSKgel GMHHR-H(S)" manufactured by TOSOH CORPORATION were placed in series as columns in the GPC device, and tetrahydrofuran was used as an eluent, with a sample concentration of 2 mg/mL. Measurement was performed using standard polystyrene conversion under the conditions of a sample introduction amount of 100 μL, a temperature of 40°C, and a flow rate of 1 mL/min.

(2-2) 점착제 조성물 2의 조제(2-2) Preparation of adhesive composition 2

(2-1)에서 얻어진 아크릴계 수지 용액 2의 고형분 100부에 대하여, 가교제(Mitsui Chemicals, Inc. 제조: 상품명 「D-101E」(톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체의 아세트산에틸 용액(고형분 농도 75질량％))을 유효 성분 베이스로 0.15부, 실란 커플링제(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조: 상품명 「KBM-403」)를 0.2부 첨가하고, 고형분 농도가 13％가 되도록 아세트산에틸을 더 첨가하여 점착제 조성물 2를 얻었다.With respect to 100 parts of the solid content of the acrylic resin solution 2 obtained in (2-1), a crosslinking agent (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.: brand name "D-101E" (ethyl acetate solution of trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate (solid content) Concentration 75% by mass) was added as an active ingredient base in an amount of 0.15 parts, a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.: product name “KBM-403”) was added in an amount of 0.2 parts, and acetic acid was added so that the solid concentration was 13%. Further ethyl was added to obtain adhesive composition 2.

(2-3) 점착제층 2의 제작(2-3) Production of adhesive layer 2

상기 (2-2)에서 조제한 점착제 조성물 2를, 이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로 이루어지는 박리 필름〔Mitsubishi Chemical Corporation. 제조: MRV(V04)(두께: 38㎛)〕의 이형 처리면에, 어플리케이터를 이용하여 건조 후의 두께가 15㎛가 되도록 도포하고, 100℃에서 1분간 건조하여 점착제층(점착제 시트)을 제작했다. 그 다음에 얻어진 점착제층의 상기 박리 필름 측과는 반대 측의 표면을, 이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름으로 이루어지는 박리 필름〔Mitsubishi Chemical Corporation. 제조: MRF(두께: 38㎛)〕의 이형 처리면과 첩합하여, 점착제층 2를 제작했다. 점착제층 2의 온도 85℃에서의 저장 탄성률 G'는 0.0255㎫이었다.The adhesive composition 2 prepared in (2-2) above was used as a release film [Mitsubishi Chemical Corporation] made of a polyethylene terephthalate film subjected to a mold release treatment. Manufacture: MRV (V04) (thickness: 38 ㎛)] was applied to the release-treated surface using an applicator so that the thickness after drying was 15 ㎛, and dried at 100°C for 1 minute to produce an adhesive layer (adhesive sheet). . Next, the surface of the obtained adhesive layer on the side opposite to the release film side is a release film made of a polyethylene terephthalate film to which a mold release treatment has been performed [Mitsubishi Chemical Corporation. [Manufacture: MRF (thickness: 38 μm)] was bonded to the release-treated surface to produce adhesive layer 2. The storage modulus G' of the adhesive layer 2 at a temperature of 85°C was 0.0255 MPa.

[위상자 1의 제작][Production of Phaser 1]

(1) 위상차막 A의 제작(1) Fabrication of phase contrast film A

(1-1) 광배향막 형성용 조성물 A의 조제(1-1) Preparation of composition A for forming a photo-alignment film

하기 구조의 광배향성 재료(중량 평균 분자량: 50000, m:n ＝ 50:50)는 일본 특허공개 2021-196514호 공보에 기재된 방법에 준하여 제조했다. 광배향성 재료 2부와 시클로펜탄온(용제) 98부를 성분으로서 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80℃에서 1시간 교반함으로써, 광배향막 형성용 조성물 A를 조제했다.A photo-alignment material with the following structure (weight average molecular weight: 50000, m:n = 50:50) was manufactured according to the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2021-196514. Composition A for forming a photo-alignment film was prepared by mixing 2 parts of the photo-alignment material and 98 parts of cyclopentanone (solvent) as components, and stirring the resulting mixture at 80°C for 1 hour.

광배향성 재료:Photo-alignable materials:

[화 7][Tuesday 7]

(1-2) 중합성 액정 화합물의 제조(1-2) Preparation of polymerizable liquid crystal compound

하기에 나타내는 구조를 갖는 중합성 액정 화합물(A1) 및 중합성 액정 화합물(A2)을, 각각 조제했다. 중합성 액정 화합물(A1)은, 일본 특허공개 2019-003177호 공보에 기재된 방법과 마찬가지로 준비했다. 중합성 액정 화합물(A2)은, 일본 특허공개 2009-173893호 공보에 기재된 방법과 마찬가지로 준비했다.Polymerizable liquid crystal compound (A1) and polymerizable liquid crystal compound (A2) having the structures shown below were prepared, respectively. The polymerizable liquid crystal compound (A1) was prepared in the same manner as the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-003177. The polymerizable liquid crystal compound (A2) was prepared in the same manner as the method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-173893.

중합성 액정 화합물(A1):Polymerizable liquid crystal compound (A1):

[화 8][Tuesday 8]

중합성 액정 화합물(A2):Polymerizable liquid crystal compound (A2):

[화 9][Tuesday 9]

클로로포름 10mL에 중합성 액정 화합물(A1) 1㎎을 용해시켜 용액을 얻었다. 얻어진 용액을 광로 길이 1㎝의 측정용 셀에 측정용 시료를 넣고, 측정용 시료를 자외 가시 분광 광도계(Shimadzu Corporation 제조 「UV-2450」)에 세트하여 흡수 스펙트럼을 측정했다. 얻어진 흡수 스펙트럼으로부터 극대 흡수도가 되는 파장을 판독한 바, 파장 300 ∼ 400㎚의 범위에서의 극대 흡수 파장 λmax는 356㎚였다.A solution was obtained by dissolving 1 mg of polymerizable liquid crystal compound (A1) in 10 mL of chloroform. The obtained solution was placed in a measurement cell with an optical path length of 1 cm, and the absorption spectrum was measured by setting the measurement sample in an ultraviolet-visible spectrophotometer ("UV-2450" manufactured by Shimadzu Corporation). As a result of reading the wavelength at which the maximum absorption was obtained from the obtained absorption spectrum, the maximum absorption wavelength λmax in the wavelength range of 300 to 400 nm was 356 nm.

(1-3) 위상차막 형성용 조성물 A의 조제(1-3) Preparation of composition A for forming a phase contrast film

중합성 액정 화합물(A1) 및 중합성 액정 화합물(A2)을 질량비 90:10으로 혼합하고, 혼합물을 얻었다. 얻어진 혼합물 100부에 대하여, 레벨링제 「BYK-361N」(BM Chemie사 제조) 0.1부와, 광중합개시제로서 「Irgacure OXE-03」(BASF Japan Ltd. 제조) 3부를 첨가했다. 또한, 고형분 농도가 13％가 되도록 N-메틸-2-피롤리돈(NMP)을 첨가했다. 이 혼합물을 온도 80℃에서 1시간 교반함으로써, 위상차막 형성용 조성물 A를 조제했다.The polymerizable liquid crystal compound (A1) and the polymerizable liquid crystal compound (A2) were mixed at a mass ratio of 90:10 to obtain a mixture. For 100 parts of the obtained mixture, 0.1 part of leveling agent "BYK-361N" (manufactured by BM Chemie) and 3 parts of "Irgacure OXE-03" (manufactured by BASF Japan Ltd.) as a photopolymerization initiator were added. Additionally, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added so that the solid content concentration was 13%. Composition A for forming a retardation film was prepared by stirring this mixture at a temperature of 80°C for 1 hour.

(1-4) 위상차막 A의 제작(1-4) Fabrication of phase contrast film A

기재 A로서 이축 연신 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(DIAFOIL Mitsubishi Plastics, Inc. 제조)에, 광배향막 형성용 조성물 A를 바 코터에 의해 도포했다. 얻어진 도포막을 120℃에서 2분간 건조시킨 후, 실온까지 냉각하여 건조 피막을 형성했다. 그 후, UV 조사 장치(SPOT CURE SP-9; Ushio Inc. 제조)를 이용하여, 편광 자외광 100mJ(313㎚ 기준)를 조사하여 광배향막 A를 얻었다. JASCO Corporation 제조의 Ellipsometer M-220을 이용하여 측정한 광배향막 A의 막두께는 100㎚였다.Composition A for forming a photo-alignment film was applied to a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (manufactured by DIAFOIL Mitsubishi Plastics, Inc.) as a substrate A using a bar coater. The obtained coating film was dried at 120°C for 2 minutes and then cooled to room temperature to form a dry film. Afterwards, using a UV irradiation device (SPOT CURE SP-9; manufactured by Ushio Inc.), 100 mJ (based on 313 nm) of polarized ultraviolet light was irradiated to obtain a photo-alignment film A. The film thickness of photo-alignment film A measured using Ellipsometer M-220 manufactured by JASCO Corporation was 100 nm.

얻어진 광배향막 A 상에, 상기 위상차막 형성용 조성물 A를 바 코터에 의해 도포하고, 도포막을 형성했다. 이 도포막을 120℃에서 2분간 가열 건조 후, 실온까지 냉각하여 건조 피막을 얻었다. 그 다음에, 고압 수은 램프(Ushio Inc. 제조 「UniQure VB-15201BY-A」)를 이용하여, 질소 분위기하에서 노광량 500mJ／㎠(365㎚ 기준)의 자외광을 상기 건조 피막에 조사함으로써, 중합성 액정 화합물이 기재 면내에 대하여 수평 방향으로 배향된 상태에서 경화한 위상차막 A를 형성하고, 기재 A／광배향막 A／위상차막 A로 이루어지는 적층체 A를 얻었다. Olympus Corporation 제조의 레이저 현미경 LEXT OLS4100을 이용하여 측정한 위상차막 A의 막두께는 2.0㎛였다.On the obtained photo-alignment film A, the composition A for forming a retardation film was applied using a bar coater to form a coating film. This coating film was dried by heating at 120°C for 2 minutes and then cooled to room temperature to obtain a dry film. Next, using a high-pressure mercury lamp (“UniQure VB-15201BY-A” manufactured by Ushio Inc.), the dried film is irradiated with ultraviolet light at an exposure dose of 500 mJ/cm2 (based on 365 nm) under a nitrogen atmosphere, thereby polymerizing the film. A cured retardation film A was formed in a state in which the liquid crystal compound was oriented horizontally with respect to the inside of the substrate plane, and a laminate A consisting of substrate A/photo-alignment film A/retardation film A was obtained. The film thickness of retardation film A measured using a laser microscope LEXT OLS4100 manufactured by Olympus Corporation was 2.0 μm.

적층체 A의 위상차막 A의 표면에 코로나 처리를 실시하고, 두께 25㎛의 점착제층(LINTEC Corporation 제조)을 개재하여 유리에 첩합하고, 기재 A를 박리, 제거했다. 파장 450㎚, 550㎚ 및 650㎚의 광에 대한 면내 위상차값을, 파장 448.2㎚, 498.6㎚, 548.4㎚, 587.3㎚, 628.7㎚, 748.6㎚의 광에 대한 면내 위상차값의 측정 결과로부터 얻어진 코시의 분산 공식으로부터 구했다.Corona treatment was performed on the surface of the retardation film A of the laminate A, and it was bonded to glass through a 25-μm-thick adhesive layer (manufactured by LINTEC Corporation), and the base material A was peeled and removed. Cauchy's equation obtained from the measurement results of the in-plane retardation values for light with wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm, and the in-plane retardation value for light with wavelengths of 448.2 nm, 498.6 nm, 548.4 nm, 587.3 nm, 628.7 nm, and 748.6 nm. Obtained from the dispersion formula.

그 결과, 면내 위상차값은, Re(450) ＝ 122㎚, Re(550) ＝ 140㎚, Re(650) ＝ 144㎚이며, 각 파장에서의 면내 위상차값의 관계는 이하와 같이 되었다.As a result, the in-plane retardation values were Re(450) = 122 nm, Re(550) = 140 nm, and Re(650) = 144 nm, and the relationship between the in-plane retardation values at each wavelength was as follows.

Re(450)／Re(550) ＝ 0.87Re(450)/Re(550) = 0.87

Re(650)／Re(550) ＝ 1.03Re(650)/Re(550) = 1.03

(식 중, Re(450)는 파장 450㎚의 광에 대한 면내 위상차값을, Re(550)는 파장 550㎚의 광에 대한 면내 위상차값을, Re(650)는 파장 650㎚의 광에 대한 면내 위상차값을 나타낸다.)(In the formula, Re(450) is the in-plane retardation value for light with a wavelength of 450 nm, Re(550) is the in-plane retardation value for light with a wavelength of 550 nm, and Re(650) is the in-plane retardation value for light with a wavelength of 650 nm. Indicates the in-plane phase difference value.)

(2) 위상차막 B의 제작(2) Fabrication of phase contrast film B

(2-1) 배향막 형성용 조성물 B의 조제(2-1) Preparation of composition B for forming an alignment film

시판되는 배향성 폴리머인 SUNEVER SE-610(Nissan Chemical Industries, Ltd 제조)에 2-부톡시에탄올을 고형분량이 1％가 되도록 더하여, 배향막 형성용 조성물 B를 얻었다.Composition B for forming an alignment film was obtained by adding 2-butoxyethanol to a commercially available alignment polymer, SUNEVER SE-610 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) so that the solid content was 1%.

(2-2) 위상차막 형성용 조성물 B의 조제(2-2) Preparation of composition B for forming a phase contrast film

중합성 액정 화합물 Paliocolor LC242(BASF Japan Ltd. 제조) 100부와, 레벨링제 「BYK-361N」(BYK-Chemie Inc. 제조) 0.1부와, 광중합개시제 「Omnirad 907」(IGM Resin B.V.사 제조) 2.5부를 혼합했다. 또한, 프로필렌글리콜1-모노메틸에테르2-아세테이트(PGME) 400부를 첨가하고, 얻어진 혼합물을 온도 80℃에서 1시간 교반함으로써, 위상차막 형성용 조성물 B를 조제했다.100 parts of polymerizable liquid crystal compound Paliocolor LC242 (manufactured by BASF Japan Ltd.), 0.1 part of leveling agent “BYK-361N” (manufactured by BYK-Chemie Inc.), and 2.5 parts of photopolymerization initiator “Omnirad 907” (manufactured by IGM Resin B.V.) Wealth was mixed. Additionally, composition B for forming a retardation film was prepared by adding 400 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate (PGME) and stirring the obtained mixture at a temperature of 80°C for 1 hour.

중합성 액정 화합물 LC242:Polymerizable liquid crystal compound LC242:

[화 10][Tuesday 10]

(2-3) 위상차막 B의 제작(2-3) Fabrication of phase contrast film B

기재 B로서, 환상 올레핀계 수지(COP) 필름(Zeon Corporation 제조, ZF14)을 이용하여, 그 편면에 코로나 처리 장치(AGF-B10; KASUGA DENKI, INC. 제조)를 이용하여 코로나 처리를 실시하고, 그 표면에 배향막 형성용 조성물 B를, 바 코터를 이용하여 도포하고, 90℃에서 1분간 건조했다. 얻어진 배향막 B의 막두께를 레이저 현미경으로 측정한 바, 30㎚였다.As the base material B, a cyclic olefin resin (COP) film (ZF14, manufactured by Zeon Corporation) was used, and corona treatment was performed on one side using a corona treatment device (AGF-B10; manufactured by KASUGA DENKI, INC.), Composition B for forming an alignment film was applied to the surface using a bar coater and dried at 90°C for 1 minute. The film thickness of the obtained alignment film B was measured using a laser microscope and was found to be 30 nm.

얻어진 배향막 B 상에 위상차막 형성용 조성물 B를, 바 코터를 이용하여 도포하고, 90℃에서 1분간 건조하여 건조 피막을 얻었다. 고압 수은 램프(Ushio Inc. 제조 「UniQure VB-15201BY-A」)를 이용하여, 질소 분위기하에서 노광량 1000mJ／㎠(365㎚ 기준)의 자외광을 상기 건조 피막에 조사함으로써 위상차막 B를 형성하고, 기재 B／배향막 B／위상차막 B로 이루어지는 적층체 B를 얻었다. Olympus Corporation 제조의 레이저 현미경 LEXT OLS4100을 이용하여 측정한 위상차막 B의 막두께는 450㎚였다.Composition B for forming a retardation film was applied onto the obtained alignment film B using a bar coater and dried at 90°C for 1 minute to obtain a dry film. Using a high-pressure mercury lamp (“UniQure VB-15201BY-A” manufactured by Ushio Inc.), the dried film is irradiated with ultraviolet light at an exposure amount of 1000 mJ/cm2 (based on 365 nm) in a nitrogen atmosphere to form a retardation film B, Laminate B consisting of base material B/alignment film B/phase contrast film B was obtained. The film thickness of phase contrast film B measured using a laser microscope LEXT OLS4100 manufactured by Olympus Corporation was 450 nm.

위상차값을 측정한 바, Re(550) ＝ 1㎚, Rth(550) ＝ -75㎚였다. 적층체 B는, nx ≒ ny ＜ nz로 표시되는 광학 특성을 가졌다. 또, COP의 파장 550㎚에서의 위상차값은 대략 0이기 때문에, 상기 광학 특성에는 영향을 주지 않는다.When the phase difference value was measured, Re(550) = 1 nm and Rth (550) = -75 nm. Laminate B had optical properties expressed as nx ≒ ny < nz. Additionally, since the phase difference value at the COP wavelength of 550 nm is approximately 0, it does not affect the optical characteristics.

(3) 위상자 1의 제작(3) Fabrication of Phaser 1

적층체 A의 위상차막 A 및 적층체 B의 위상차막 B에, 각각 코로나 처리를 실시했다. 위상차막 A 또는 위상차막 B 중 어느 한쪽의 코로나 처리면에 접착제를 도포하여, 적층체 A와 적층체 B를 첩합했다. 접착제에는, 상기 활성 에너지선 경화형 접착제 1을 이용했다. 코로나 처리 장치에는, KASUGA DENKI, INC. 제조의 AGF-B10을 이용했다. 코로나 처리는, 상기 코로나 처리 장치를 이용하여, 출력 0.3㎾, 처리 속도 3m／분의 조건으로 1회 행했다. 적층체 A 측으로부터 자외선을 조사하여 활성 에너지선 경화형 접착제 1을 경화시켜, 두께 1.5㎛의 접착제층을 형성했다. 자외선은, 파장 320㎚ ∼ 390㎚의 UVA가 420mJ／㎠가 되도록 조사했다. 이상에 의해, 기재 A／광배향막 A／위상차막 A／접착제층／위상차막 B／배향막 B／기재 B로 이루어지는 기재가 부착된 위상자 1을 제작했다.Corona treatment was performed on the retardation film A of the laminate A and the retardation film B of the laminate B, respectively. An adhesive was applied to the corona-treated surface of either retardation film A or retardation film B, and laminate A and laminate B were bonded together. As the adhesive, the above-described active energy ray-curable adhesive 1 was used. For corona treatment equipment, KASUGA DENKI, INC. Manufactured AGF-B10 was used. The corona treatment was performed once using the corona treatment device described above under the conditions of an output of 0.3 kW and a processing speed of 3 m/min. The active energy ray-curable adhesive 1 was cured by irradiating ultraviolet rays from the laminate A side to form an adhesive layer with a thickness of 1.5 μm. Ultraviolet rays were irradiated so that UVA with a wavelength of 320 nm to 390 nm was 420 mJ/cm2. As described above, retardator 1 with a substrate consisting of substrate A/photo-alignment film A/retardation film A/adhesive layer/retardation film B/alignment film B/substrate B was produced.

[위상자 3의 제작][Production of Phase 3]

활성 에너지선 경화형 접착제 1 대신에, 활성 에너지선 경화형 접착제 2를 이용한 것 이외에는 위상자 1과 마찬가지로 하여, 위상자 3을 제작했다.Phaser 3 was produced in the same manner as Phaser 1, except that Active Energy Ray-curable Adhesive 2 was used instead of Active Energy Ray-curable Adhesive 1.

<실시예 1 ∼ 17><Examples 1 to 17>

상기 제 1 보호층 1 ∼ 2에서 선택되는 제1 보호층과, 상기 편광자 1 ∼ 2에서 선택되는 편광자와, 상기 제2 보호층 1 ∼ 6에서 선택되는 보호 필름과, 상기 위상자 1 또는 3을 첩합했다. 그 다음에, 위상자 1 또는 3에서의 제2 보호층과는 반대 측의 면에 점착제층을 적층하여, 광학 적층체를 얻었다. 구체적으로는 다음과 같다.A first protective layer selected from the first protective layers 1 to 2, a polarizer selected from the polarizers 1 to 2, a protective film selected from the second protective layers 1 to 6, and the retardator 1 or 3. It was put together. Next, an adhesive layer was laminated on the side opposite to the second protective layer of phase 1 or 3 to obtain an optical laminate. Specifically, it is as follows:

제1 보호층 및 제2 보호층의 표면(제2 보호층을 갖는 적층체를 이용한 경우에는, 상기 적층체의 제2 보호층의 표면)의 한쪽 면에, 각각 코로나 처리를 실시했다. 편광자의 한쪽 면에, 수계 접착제를 도포하고, 제1 보호층을 첩합했다. 편광자의 다른 한쪽 면에, 수계 접착제를 도포하고, 제2 보호층(또는 제2 보호층을 갖는 적층체)을 첩합했다. 그 후, 건조시켜 편광판을 얻었다. 상기 수계 접착제는, 물 100부에 대하여, 카르복시기 변성 폴리비닐알코올〔KURARAY CO., LTD.로부터 입수한 상품명 「KL-318」〕을 3부 용해시켜, 수용성 에폭시 수지인 폴리아미드 에폭시계 첨가제〔Taoka Chemical Company, Limited 제조의 상품명 「스미레즈 레진 650(30)」, 고형분 농도 30％의 수용액〕를 1.5부 첨가한 것이다. 이상에 의해, 제1 보호층／접착제층／편광자／접착제층／제2 보호층으로 이루어지는 적층체 X를 얻었다. 여기에서, 제2 보호층을 갖는 적층체를 이용한 경우에는, 적층체 X는, 제1 보호층／접착제층／편광자／접착제층／제2 보호층／지지 기재가 된다.Corona treatment was performed on one surface of the first protective layer and the second protective layer (when using a laminate having a second protective layer, the surface of the second protective layer of the laminate). A water-based adhesive was applied to one side of the polarizer, and the first protective layer was bonded together. A water-based adhesive was applied to the other side of the polarizer, and a second protective layer (or a laminate having a second protective layer) was bonded together. After that, it was dried to obtain a polarizing plate. The water-based adhesive is prepared by dissolving 3 parts of carboxyl group-modified polyvinyl alcohol [trade name "KL-318" obtained from KURARAY CO., LTD.] per 100 parts of water, and adding a polyamide epoxy-based additive [Taoka], which is a water-soluble epoxy resin. 1.5 parts of “Sumirez Resin 650 (30)” manufactured by Chemical Company, Limited, an aqueous solution with a solid content concentration of 30%, was added. As a result of the above, the laminated body X consisting of 1st protective layer/adhesive layer/polarizer/adhesive layer/2nd protective layer was obtained. Here, when a laminated body with a 2nd protective layer is used, laminated body X becomes a 1st protective layer/adhesive layer/polarizer/adhesive layer/2nd protective layer/support base material.

다음으로, 상기 적층체 X의 제2 보호층의 표면(적층체 X가 지지 기재를 가질 경우에는, 지지 기재를 박리 제거한 표면) 및 위상자 1 또는 3의 기재 A를 박리 제거함으로써 노출된 표면에, 각각 코로나 처리를 실시했다. 코로나 처리 장치에는, KASUGA DENKI, INC. 제조의 AGF-B10을 이용했다. 코로나 처리는, 상기 코로나 처리 장치를 이용하여, 출력 0.3㎾, 처리 속도 3m／분의 조건으로 1회 행했다. 적층체 X의 코로나 처리면과 위상자 1 또는 3의 코로나 처리면을, 상기 점착제층 1을 개재하여 첩합했다. 그 후, 위상자 1 또는 3의 기재 B를 박리 제거하여, 제1 보호층／접착제층／편광자／접착제층／제2 보호층／점착제층 1／광배향막 A／위상차막 A／접착제층／위상차막 B／배향막 B를 이 순으로 포함하는 적층체 Y를 얻었다. 마지막으로, 적층체 Y의 배향막 B 측의 면에 상기 점착제층 2를 적층하여, 광학 적층체를 얻었다. 각 실시예에서 사용한 제1 보호층, 편광자, 제2 보호층 및 위상자의 종류를 하기 표의 「층 구성」의 란에 나타낸다.Next, on the surface of the second protective layer of the laminate , each underwent corona treatment. For corona treatment equipment, KASUGA DENKI, INC. Manufactured AGF-B10 was used. The corona treatment was performed once using the corona treatment device described above under the conditions of an output of 0.3 kW and a processing speed of 3 m/min. The corona-treated surface of the laminate Thereafter, the base material B of phase 1 or 3 is peeled and removed to form 1st protective layer/adhesive layer/polarizer/adhesive layer/2nd protective layer/adhesive layer 1/photo-alignment film A/retardation film A/adhesive layer/retardation film. A laminate Y containing film B/alignment film B in this order was obtained. Finally, the adhesive layer 2 was laminated on the surface of the laminate Y on the side of the alignment film B, to obtain an optical laminate. The types of the first protective layer, polarizer, second protective layer, and phase element used in each example are shown in the “Layer Configuration” column in the table below.

<실시예 18 ∼ 19><Examples 18 to 19>

제2 보호층을 적층하지 않는 것 이외에는 실시예 1 ∼ 17과 마찬가지의 방법에 의해, 제1 보호층／접착제층／편광자로 이루어지는 적층체 Z를 얻었다. 지지 기재의 두께 50㎛의 환상 폴리올레핀 필름 2매 중 한쪽을 적층체 Z로 변경하고, 자외선을 환상 폴리올레핀 필름 측으로부터 조사한 것 이외에는 제2 보호층 8 또는 9의 제작 방법과 마찬가지로 하여, 제1 보호층／접착제층／편광자／제2 보호층／지지 기재로 이루어지는 적층체 Z'를 얻었다. 다음으로, 적층체 Z'의 지지 기재를 박리 제거함으로써 노출된 표면, 및 위상자 3의 기재 A를 박리 제거함으로써 노출된 표면에, 각각 코로나 처리(0.3㎾, 처리 속도 3m／분)를 실시했다. 적층체 Z'의 코로나 처리면과 위상자 3의 코로나 처리면을, 상기 점착제층 1을 개재하여 첩합했다. 그 후, 위상자 3의 기재 B를 박리 제거하여, 제1 보호층／접착제층／편광자／제2 보호층／점착제층 1／광배향막 A／위상차막 A／접착제층／위상차막 B／배향막 B를 이 순으로 포함하는 적층체를 얻었다. 마지막으로, 이 적층체의 배향막 B 측의 면에 상기 점착제층 2를 적층하여, 광학 적층체를 얻었다. 각 실시예에서 사용한 제1 보호층, 편광자, 제2 보호층 및 위상자의 종류를 하기 표의 「층 구성」의 란에 나타낸다.Laminate Z consisting of a first protective layer/adhesive layer/polarizer was obtained by the same method as Examples 1 to 17 except that the second protective layer was not laminated. The first protective layer was fabricated in the same manner as in the second protective layer 8 or 9 except that one of the two 50 μm-thick cyclic polyolefin films of the support substrate was changed to the laminate Z, and ultraviolet rays were irradiated from the cyclic polyolefin film side. Laminated body Z' consisting of /adhesive layer/polarizer/2nd protective layer/support base material was obtained. Next, corona treatment (0.3 kW, processing speed 3 m/min) was performed on the surface exposed by peeling and removing the support substrate of the laminate Z' and the surface exposed by peeling and removing the substrate A of phase 3. . The corona-treated surface of laminate Z' and the corona-treated surface of phase 3 were bonded together through the adhesive layer 1. Afterwards, the base material B of phase 3 is peeled and removed, and 1st protective layer/adhesive layer/polarizer/2nd protective layer/adhesive layer 1/photo-alignment film A/phase contrast film A/adhesive layer/phase contrast film B/alignment film B A laminate containing in this order was obtained. Finally, the adhesive layer 2 was laminated on the surface of the laminate on the side of the alignment film B, thereby obtaining an optical laminate. The types of the first protective layer, polarizer, second protective layer, and phase element used in each example are shown in the “Layer Configuration” column in the table below.

<비교예 1><Comparative Example 1>

특허문헌 1의 실시예 1에 준거하여, 제1 보호층／접착제층／편광자／접착제층／제2 보호층／아크릴계 점착제층／위상차막(λ／4 위상차판)／접착제층／위상차막 B(포지티브 C 플레이트)／아크릴계 점착제층을 이 순으로 포함하는 광학 적층체를 제작했다. 제1 보호층은, 상기 제 1 보호층 1에 상당한다. 편광자는, 상기 편광자 2에 상당한다. 제2 보호층은, 두께 T2가 20㎛인 트리아세틸셀룰로오스 필름(FUJIFILM Corporation 제조 「ZRG20SL」)이다. 이 제2 보호층을 제2 보호층 7로 한다. 제2 보호층 7의 온도 85℃에서의 인장 탄성률 E2는 830㎫, 투습도는 1800g／㎡／24hr, 광탄성률은 8.8 × 10-12Pa-1이었다. 또한, 비교예 1에서의 위상자를 위상자 2로 한다. 사용한 제1 보호층, 편광자, 제2 보호층 및 위상자의 종류를 하기 표의 「층 구성」의 란에 나타낸다.Based on Example 1 of Patent Document 1, 1st protective layer/adhesive layer/polarizer/adhesive layer/2nd protective layer/acrylic adhesive layer/retardation film (λ/4 retardation plate)/adhesive layer/retardation film B ( Positive C plate)/An optical laminate containing an acrylic adhesive layer in this order was produced. The first protective layer corresponds to the first protective layer 1 above. The polarizer corresponds to the polarizer 2 above. The second protective layer is a triacetylcellulose film (“ZRG20SL” manufactured by FUJIFILM Corporation) with a thickness T2 of 20 μm. This second protective layer is referred to as second protective layer 7. The tensile elastic modulus E2 of the second protective layer 7 at a temperature of 85°C was 830 MPa, the moisture permeability was 1800 g/m2/24hr, and the photoelastic modulus was 8.8 × 10 -12 Pa -1 . Additionally, the phase element in Comparative Example 1 is assumed to be phase element 2. The types of the first protective layer, polarizer, second protective layer, and phase element used are shown in the “Layer Composition” column of the table below.

<비교예 2, 3><Comparative Examples 2, 3>

제2 보호층을 적층하지 않았던 것, 및 하기 표에 나타내는 제1 보호층, 편광자 및 위상자를 이용한 것 이외에는 실시예 1 ∼ 17과 마찬가지로 하여, 제1 보호층／접착제층／편광자／점착제층 1／위상차막 A／접착제층／위상차막 B／배향막 B／점착제층 2를 이 순으로 포함하는 광학 적층체를 제작했다. 사용한 제1 보호층, 편광자 및 위상자의 종류를 하기 표의 「층 구성」의 란에 나타낸다.In the same manner as Examples 1 to 17, except that the second protective layer was not laminated and that the first protective layer, polarizer, and retardator shown in the table below were used, first protective layer/adhesive layer/polarizer/adhesive layer 1/ An optical laminate containing phase contrast film A/adhesive layer/phase contrast film B/alignment film B/adhesive layer 2 in this order was produced. The types of the first protective layer, polarizer, and retardator used are shown in the “Layer Composition” column in the table below.

<실시예 20><Example 20>

위상자 3 대신에 위상자 1을 사용한 것 이외에는 실시예 18과 마찬가지로 하여, 제1 보호층／접착제층／편광자／제2 보호층／점착제층 1／광배향막 A／위상차막 A／접착제층／위상차막 B／배향막 B／점착제층 2를 이 순으로 포함하는 광학 적층체를 얻었다. 사용한 제1 보호층, 편광자, 제2 보호층 및 위상자의 종류를 하기 표의 「층 구성」의 란에 나타낸다.In the same manner as in Example 18 except that phase 1 was used instead of phase 3, first protective layer/adhesive layer/polarizer/second protective layer/adhesive layer 1/photo-alignment film A/phase contrast film A/adhesive layer/phase difference An optical laminate containing film B/alignment film B/adhesive layer 2 in this order was obtained. The types of the first protective layer, polarizer, second protective layer, and phase element used are shown in the “Layer Composition” column of the table below.

<비교예 4><Comparative Example 4>

제2 보호층 2 대신에 제2 보호층 7을 사용한 것 이외에는 실시예 7과 마찬가지로 하여, 제1 보호층／접착제층／편광자／제2 보호층／점착제층 1／광배향막 A／위상차막 A／접착제층／위상차막 B／배향막 B／점착제층 2를 이 순으로 포함하는 광학 적층체를 얻었다. 사용한 제1 보호층, 편광자, 제2 보호층 및 위상자의 종류를 하기 표의 「층 구성」의 란에 나타낸다.In the same manner as in Example 7 except that the second protective layer 7 was used instead of the second protective layer 2, 1st protective layer/adhesive layer/polarizer/2nd protective layer/adhesive layer 1/photo-alignment film A/phase contrast film A/ An optical laminate containing adhesive layer/retardation film B/alignment film B/adhesive layer 2 in this order was obtained. The types of the first protective layer, polarizer, second protective layer, and phase element used are shown in the “Layer Composition” column in the table below.

실시예 및 비교예에서 제작한 광학 적층체에 대해서 행한, 위상차 변화량의 면내 불균일의 평가 및 금속 부식의 평가의 결과를 하기 표에 나타낸다.The results of the evaluation of the in-plane non-uniformity of the phase difference change and the evaluation of metal corrosion performed on the optical laminates produced in the examples and comparative examples are shown in the table below.

[표 1][Table 1]

[표 2][Table 2]

[표 3][Table 3]

5: 편광자
10: 제1 보호층
20: 제2 보호층
30: 위상자
41: 제1 점접착제층
42: 제2 점접착제층
43: 제3 점접착제층
50: 점착제층
16: 적층체 α
17: 풀 부착 대지
18: 컷아웃부5: Polarizer
10: first protective layer
20: second protective layer
30: Phaser
41: First adhesive layer
42: Second adhesive layer
43: Third adhesive layer
50: Adhesive layer
16: Laminate α
17: Grass Attachment Site
18: cutout part

Claims (13)

제1 보호층, 편광자, 제2 보호층 및 위상자를 이 순으로 구비하는 광학 적층체로서,
상기 편광자는, 이색성 색소가 흡착 배향되어 있는 두께 15㎛ 이하의 폴리비닐알코올계 수지 필름이며,
상기 제2 보호층의 온도 85℃에서의 인장 탄성률을 E2[㎫], 두께를 T2[㎛]로 할 때, 하기 식(ⅰ):
E2 × T2 ≤ 16000 (ⅰ)
을 충족시키는, 광학 적층체.An optical laminate comprising a first protective layer, a polarizer, a second protective layer, and a retardator in this order,
The polarizer is a polyvinyl alcohol-based resin film with a thickness of 15 μm or less in which a dichroic dye is adsorbed and oriented,
When the tensile elastic modulus of the second protective layer at a temperature of 85°C is E2 [MPa] and the thickness is T2 [μm], the following equation (i):
E2 × T2 ≤ 16000 (ⅰ)
An optical laminate that satisfies the above. 제1항에 있어서,
E2 × T2의 값은 1850 이하인, 광학 적층체.According to paragraph 1,
An optical laminate wherein the value of E2 × T2 is 1850 or less. 제1항에 있어서,
상기 위상자는 위상차막을 포함하는, 광학 적층체.According to paragraph 1,
An optical laminate, wherein the retardator includes a retardation film. 제1항에 있어서,
하기 식(ⅱ):
T2 ≤ 7 (ⅱ)
을 더 충족시키는, 광학 적층체.According to paragraph 1,
Equation (ii) below:
T2 ≤ 7 (ii)
An optical laminate that further satisfies the above. 제1항에 있어서,
상기 제2 보호층의 투습도는 1700g／㎡／24hr 이하인, 광학 적층체.According to paragraph 1,
An optical laminate wherein the second protective layer has a moisture permeability of 1700 g/m2/24hr or less. 제1항에 있어서,
상기 제2 보호층은 환상 폴리올레핀계 수지로 이루어지는, 광학 적층체.According to paragraph 1,
An optical laminate wherein the second protective layer is made of cyclic polyolefin-based resin. 제1항에 있어서,
상기 제2 보호층은, 파장 550㎚에서의 면내 위상차값이 10㎚ 이하인, 광학 적층체.According to paragraph 1,
The second protective layer is an optical laminate having an in-plane retardation value of 10 nm or less at a wavelength of 550 nm. 제1항에 있어서,
상기 편광자와 상기 제2 보호층 사이에 점접착제층을 포함하는, 광학 적층체.According to paragraph 1,
An optical laminate comprising an adhesive layer between the polarizer and the second protective layer. 제1항에 있어서,
상기 편광자는, 붕소 함유량이 0.5질량％ 이상 5.5질량％ 이하인, 광학 적층체.According to paragraph 1,
The said polarizer is an optical laminated body whose boron content is 0.5 mass % or more and 5.5 mass % or less. 제1항에 있어서,
상기 제1 보호층의 온도 85℃에서의 인장 탄성률을 E1[㎫], 두께를 T1[㎛]로 할 때, 하기 식(ⅲ):
17000 ≤ E1 × T1 ≤ 40000 (ⅲ)
을 충족시키는, 광학 적층체.According to paragraph 1,
When the tensile elastic modulus of the first protective layer at a temperature of 85°C is E1 [MPa] and the thickness is T1 [μm], the following formula (iii):
17000 ≤ E1 × T1 ≤ 40000 (iii)
An optical laminate that satisfies the above. 제1항에 있어서,
상기 위상자에서의 상기 제2 보호층 측과는 반대 측에 적층되는 점착제층을 더 구비하는, 광학 적층체.According to paragraph 1,
An optical laminate further comprising an adhesive layer laminated on a side of the phase element opposite to the side of the second protective layer. 제11항에 있어서,
상기 편광자에서의 상기 위상자 측의 면에 인접하는 층으로부터 상기 점착제층에서의 상기 위상자 측의 면에 인접하는 층까지의 적층체의 온도 23℃에서의 인장 탄성률을 E3[㎫], 두께를 T3[㎛]으로 할 때, 하기 식(ⅳ):
7000 ≤ E3 × T3 ≤ 22000 (ⅳ)
을 충족시키는, 광학 적층체.According to clause 11,
The tensile modulus of elasticity at a temperature of 23°C of the laminate from the layer adjacent to the surface on the phase side of the polarizer to the layer adjacent to the phase side surface of the adhesive layer is E3 [MPa], and the thickness is E3 [MPa]. When T3 [㎛], the following equation (iv):
7000 ≤ E3 × T3 ≤ 22000 (iv)
An optical laminate that satisfies the above. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체를 포함하는, 화상 표시 장치.An image display device comprising the optical laminated body according to any one of claims 1 to 12.
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