KR20240088752A - Polarizing film, image display device and manufacturing method of polarizing film - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 27
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 130
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 111
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 111
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 48
- SFHYNDMGZXWXBU-LIMNOBDPSA-N 6-amino-2-[[(e)-(3-formylphenyl)methylideneamino]carbamoylamino]-1,3-dioxobenzo[de]isoquinoline-5,8-disulfonic acid Chemical compound O=C1C(C2=3)=CC(S(O)(=O)=O)=CC=3C(N)=C(S(O)(=O)=O)C=C2C(=O)N1NC(=O)N\N=C\C1=CC=CC(C=O)=C1 SFHYNDMGZXWXBU-LIMNOBDPSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 19
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 136
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 103
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 46
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 29
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 29
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 20
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 claims description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 15
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 15
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 14
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 14
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 claims description 12
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 claims description 12
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims description 4
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 32
- 239000011630 iodine Substances 0.000 abstract description 32
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 abstract description 32
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 15
- 239000010408 film Substances 0.000 description 314
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 150
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 80
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 56
- -1 fluorene Glycidyl ether compounds Chemical class 0.000 description 37
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 34
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 description 33
- 230000008859 change Effects 0.000 description 31
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 26
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 19
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 18
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 18
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 11
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229920001477 hydrophilic polymer Polymers 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 238000012900 molecular simulation Methods 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 7
- 238000005381 potential energy Methods 0.000 description 7
- FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]oxetane Chemical compound C1OCC1(CC)COCC1(CC)COC1 FNYWFRSQRHGKJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 6
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 6
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 5
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 5
- KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 2-[[2,2-dimethyl-3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(C)(C)COCC1CO1 KUAUJXBLDYVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 3
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 3
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 2
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-tert-butylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OCC1OC1 HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWPTZLOWXIETLI-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[4-[9-[4-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]phenyl]fluoren-9-yl]phenoxy]ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOC(C=C1)=CC=C1C1(C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21)C(C=C1)=CC=C1OCCOCC1CO1 QWPTZLOWXIETLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCCCOCC1CO1 WTYYGFLRBWMFRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MRGGRPDTVDWEII-UHFFFAOYSA-N 3',6'-bis(oxiran-2-ylmethoxy)spiro[fluorene-9,9'-xanthene] Chemical compound C(C1CO1)OC=1C=CC=2C3(C4=CC=C(C=C4OC=2C=1)OCC1CO1)C1=CC=CC=C1C=1C=CC=CC=13 MRGGRPDTVDWEII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- MGAKFFHPSIQGDC-UHFFFAOYSA-N bicyclononadiene diepoxide Chemical compound C12CC3OC3CC2CC2C1O2 MGAKFFHPSIQGDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001110 calcium chloride Substances 0.000 description 2
- 229910001628 calcium chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N norbornane Chemical group C1C[C@H]2CC[C@@H]1C2 UMRZSTCPUPJPOJ-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-phenoxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC1=CC=CC=C1 HHQAGBQXOWLTLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N (3-ethyloxetan-3-yl)methanol Chemical compound CCC1(CO)COC1 UNMJLQGKEDTEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-trifluoro-5-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC(F)=C(F)C=C1F SKYXLDSRLNRAPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-ethenoxyethoxy)ethane Chemical compound C=COCCOCCOCCOC=C CYIGRWUIQAVBFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KATAXDCYPGGJNJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-ol Chemical compound C1OC1COCC(O)COCC1CO1 KATAXDCYPGGJNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLBOQBILGNEPEB-UHFFFAOYSA-N 1-chloroprop-2-enylbenzene Chemical compound C=CC(Cl)C1=CC=CC=C1 SLBOQBILGNEPEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQJCIXUNHZZFMB-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-(2-ethenoxypropoxy)propane Chemical compound C=COCC(C)OCC(C)OC=C RQJCIXUNHZZFMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PEBJBOQKIXHSOE-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(OC=C)C=C1 PEBJBOQKIXHSOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- IFSLSXUHNIVHPB-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OCC(C)(C)CO.OCC(C)(C)C(O)=O IFSLSXUHNIVHPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COCC1CO1 HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSRMIIBCXRHPCC-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCCOCCOCCOCC1CO1 VSRMIIBCXRHPCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJHINEHNXSBERZ-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-(oxiran-2-ylmethoxy)-5-[2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)-3-(oxiran-2-ylmethyl)phenyl]propan-2-yl]phenyl]methyl]oxirane Chemical compound CC(C)(C1=CC=C(OCC2CO2)C(CC2CO2)=C1)C1=CC=C(OCC2CO2)C(CC2CO2)=C1 AJHINEHNXSBERZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLLCROMVONRRO-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethenylbenzene Chemical compound CCCCOC=CC1=CC=CC=C1 HXLLCROMVONRRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMINVPVFKAFJAZ-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethoxybenzene Chemical compound C=COCCOC1=CC=CC=C1 LMINVPVFKAFJAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZLVUWBGUNVFES-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-5-methylpyrazol-3-amine Chemical compound CCN1N=C(C)C=C1N TZLVUWBGUNVFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-3-enal Chemical compound CCC(C=C)C=O CBECDWUDYQOTSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDFCBRMXZKAKKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzaldehyde;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.OC1=CC=CC=C1C=O CDFCBRMXZKAKKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 2-vinylpyridine Chemical compound C=CC1=CC=CC=N1 KGIGUEBEKRSTEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCQUOBKUEHYBMC-UHFFFAOYSA-N 3-(diethylamino)-7,8-dihydro-6h-cyclopenta[2,3]thieno[2,4-b][1,3]oxazin-1-one Chemical compound O=C1OC(N(CC)CC)=NC2=C1C(CCC1)=C1S2 GCQUOBKUEHYBMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(2-ethylhexoxymethyl)oxetane Chemical compound CCCCC(CC)COCC1(CC)COC1 BIDWUUDRRVHZLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUXZNIDKDPLYBY-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane Chemical compound C=1C=CC=CC=1OCC1(CC)COC1 JUXZNIDKDPLYBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-3-[[4-[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxymethyl]phenyl]methoxymethyl]oxetane Chemical compound C=1C=C(COCC2(CC)COC2)C=CC=1COCC1(CC)COC1 LMIOYAVXLAOXJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBVKVAIECGDBTC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylidenebutanamide Chemical compound NC(=O)C(=C)CCO SBVKVAIECGDBTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 4-vinylcyclohexene dioxide Chemical compound C1OC1C1CC2OC2CC1 OECTYKWYRCHAKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTNUOGWCFLMGLF-UHFFFAOYSA-N 5-methylbenzene-1,2,3,4-tetrol Chemical compound CC1=CC(O)=C(O)C(O)=C1O YTNUOGWCFLMGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3-(2-methyloxiran-2-yl)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CC2(C)OC2CC1C1(C)CO1 RBHIUNHSNSQJNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 9-prop-2-enoyloxynonyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCCCCOC(=O)C=C PGDIJTMOHORACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920008790 Amorphous Polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 101100064324 Arabidopsis thaliana DTX48 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004057 DFT-B3LYP calculation Methods 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 125000003670 adamantan-2-yl group Chemical group [H]C1([H])C(C2([H])[H])([H])C([H])([H])C3([H])C([*])([H])C1([H])C([H])([H])C2([H])C3([H])[H] 0.000 description 1
- MCYBYTIPMYLHAK-UHFFFAOYSA-N adamantane-1,3,5-triol Chemical compound C1C(C2)CC3(O)CC1(O)CC2(O)C3 MCYBYTIPMYLHAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOLCWHCSXCKHAP-UHFFFAOYSA-N adamantane-1,3-diol Chemical compound C1C(C2)CC3CC1(O)CC2(O)C3 MOLCWHCSXCKHAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 238000005134 atomistic simulation Methods 0.000 description 1
- XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N azaperone Chemical compound C1=CC(F)=CC=C1C(=O)CCCN1CCN(C=2N=CC=CC=2)CC1 XTKDAFGWCDAMPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N bakuchiol Chemical compound CC(C)=CCC[C@@](C)(C=C)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1 LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 229920005601 base polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 1
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical compound NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 229920003174 cellulose-based polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000010227 cup method (microbiological evaluation) Methods 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012955 diaryliodonium Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000002648 laminated material Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)prop-2-enamide Chemical compound OCCNC(=O)C=C UUORTJUPDJJXST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N n-propyl vinyl ketone Natural products CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N phenyl-(2,3,4,5-tetrahydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=C(O)C(O)=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1O LYKRPDCJKSXAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000636 poly(norbornene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003050 poly-cycloolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical group 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 229920005573 silicon-containing polymer Polymers 0.000 description 1
- DVQHRBFGRZHMSR-UHFFFAOYSA-N sodium methyl 2,2-dimethyl-4,6-dioxo-5-(N-prop-2-enoxy-C-propylcarbonimidoyl)cyclohexane-1-carboxylate Chemical compound [Na+].C=CCON=C(CCC)[C-]1C(=O)CC(C)(C)C(C(=O)OC)C1=O DVQHRBFGRZHMSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
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- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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Abstract
본 발명은, 고온 다습 환경 하에 있어서, 편광자에 포함되는 요오드의 외부로의 투과를 충분히 억제할 수 있는 편광 필름을 제공한다. 본 발명의 편광 필름은, 요오드를 포함하는 편광자와, 에폭시기를 포함하는 화합물 A1 에서 유래하는 구조 단위 U1, 및 옥세탄기를 포함하는 화합물 A2 에서 유래하는 구조 단위 U2 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 갖는 중합체를 포함하는 수지층을 구비한다. 편광 필름에서는, 하기 식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값이 4.00 미만이다. y＝(－3.71)x1＋(－3.94)x2＋(0.299)x3＋(0.226)x4＋(－1.05)x5＋(0.517)x6＋(0.769)x7＋71.81 (1)The present invention provides a polarizing film that can sufficiently suppress transmission of iodine contained in a polarizer to the outside in a high temperature and high humidity environment. The polarizing film of the present invention includes at least one selected from the group consisting of a polarizer containing iodine, a structural unit U1 derived from compound A1 containing an epoxy group, and a structural unit U2 derived from compound A2 containing an oxetane group. It is provided with a resin layer containing a polymer having. In a polarizing film, the value of y calculated by the following formula (1) is less than 4.00. y＝(-3.71)x 1 ＋(-3.94)x 2 ＋(0.299)x 3 ＋(0.226)x 4 ＋(-1.05)x 5 ＋(0.517)x 6 ＋(0.769)x 7 ＋71.81 ( One)
Description
본 발명은, 편광 필름, 화상 표시 장치 및 편광 필름의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polarizing film, an image display device, and a method of manufacturing the polarizing film.
액정 표시 장치, 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치는, 예를 들어, 그 표시 원리 등의 이유로 편광 필름을 구비하고 있다. 편광 필름은, 예를 들어, 편광자 및 보호 필름을 포함하는 적층체이다. 편광자는, 일반적으로는 폴리비닐알코올 (PVA) 필름 등의 친수성 고분자 필름에 이색성 색소를 흡착시키고, 당해 필름을 1 축 연신함으로써 제조할 수 있다. 편광자의 투과율 및 편광도를 향상시키는 관점에서, 이색성 색소로서는 요오드가 널리 사용된다.Image display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices are equipped with a polarizing film for reasons such as the display principle. A polarizing film is, for example, a laminate containing a polarizer and a protective film. A polarizer can generally be manufactured by adsorbing a dichroic dye to a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol (PVA) film and uniaxially stretching the film. From the viewpoint of improving the transmittance and polarization degree of the polarizer, iodine is widely used as a dichroic dye.
특허문헌 1 은, 에폭시 화합물을 포함하는 접착제를 사용하여, 편광자에 보호막을 첩합 (貼合) 시키는 것을 개시하고 있다. 상세하게는 특허문헌 1 에서는, 접착제의 도포층을 개재하여 편광자와 보호막을 겹친 상태에서, 도포층을 경화시킴으로써, 편광자와 보호막을 접합하고 있다.Patent Document 1 discloses bonding a protective film to a polarizer using an adhesive containing an epoxy compound. Specifically, in Patent Document 1, the polarizer and the protective film are bonded by curing the application layer in a state in which the polarizer and the protective film are overlapped through an adhesive application layer.
고온 다습 환경 하에 있어서, 편광자에 포함되는 요오드는, 편광자로부터 보호 필름, 또는 편광 필름을 화상 표시 패널에 첩합시키기 위한 점착제층으로 이동하는 경향이 있다. 특히, 편광자의 두께가 작고, 편광자에 있어서의 요오드의 농도가 높은 경우, 요오드는, 편광자로부터 보호 필름 또는 점착제층으로 이동하기 쉽다. 보호 필름 또는 점착제층으로 이동한 요오드는, 보호 필름 또는 점착제층을 통하여 편광 필름의 외부로 투과된다. 편광자에 있어서의 요오드의 함유율이 저하되면, 편광 필름의 편광도가 저하된다. 종래의 편광 필름에서는, 고온 다습 환경 하에 있어서, 편광자에 포함되는 요오드가 편광 필름의 외부로 투과되는 것을 충분히 억제할 수 없다.In a high-temperature and high-humidity environment, iodine contained in the polarizer tends to move from the polarizer to the protective film or the adhesive layer for bonding the polarizing film to the image display panel. In particular, when the thickness of the polarizer is small and the concentration of iodine in the polarizer is high, iodine is likely to move from the polarizer to the protective film or adhesive layer. Iodine that has moved to the protective film or adhesive layer is transmitted to the outside of the polarizing film through the protective film or adhesive layer. When the iodine content in the polarizer decreases, the degree of polarization of the polarizing film decreases. In a conventional polarizing film, transmission of iodine contained in the polarizer to the outside of the polarizing film cannot be sufficiently suppressed in a high temperature and high humidity environment.
그래서 본 발명은, 고온 다습 환경 하에 있어서, 편광자에 포함되는 요오드의 외부로의 투과를 충분히 억제하는 것에 적합한 편광 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다.Therefore, the purpose of the present invention is to provide a polarizing film suitable for sufficiently suppressing the transmission of iodine contained in the polarizer to the outside in a high temperature and high humidity environment.
본 발명자들은, 예의 검토한 결과, 편광 필름이 구비하는 수지층의 특성이, 수지층에 포함되는 중합체를 형성하기 위한 모노머에 기초하여 예측할 수 있는 것을 새롭게 알아내었다. 본 발명자들의 검토에 따르면, 이 예측은, 에폭시기를 포함하는 화합물에서 유래하는 구조 단위나, 옥세탄기를 포함하는 화합물에서 유래하는 구조 단위를 갖는 중합체를 포함하는 수지층에 대해서 특히 신뢰성이 높다. 본 발명자들은, 이 지견에 의거하여, 검토를 더욱 진행시켜 본 발명을 완성하기에 이르렀다.As a result of intensive study, the present inventors newly discovered that the characteristics of the resin layer with which the polarizing film is provided can be predicted based on the monomer for forming the polymer contained in the resin layer. According to the examination by the present inventors, this prediction is particularly reliable for a resin layer containing a polymer having a structural unit derived from a compound containing an epoxy group or a structural unit derived from a compound containing an oxetane group. Based on this knowledge, the present inventors further investigated and completed the present invention.
본 발명은,The present invention,
요오드를 포함하는 편광자와,A polarizer containing iodine,
에폭시기를 포함하는 화합물 A1 에서 유래하는 구조 단위 U1, 및 옥세탄기를 포함하는 화합물 A2 에서 유래하는 구조 단위 U2 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 갖는 중합체를 포함하는 수지층을 구비하고,A resin layer comprising a polymer having at least one selected from the group consisting of a structural unit U1 derived from compound A1 containing an epoxy group, and a structural unit U2 derived from compound A2 containing an oxetane group,
하기 식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값이 4.00 미만인, 편광 필름을 제공한다.A polarizing film is provided in which the value of y calculated by the following formula (1) is less than 4.00.
y＝(－3.71)x1＋(－3.94)x2＋(0.299)x3＋(0.226)x4＋(－1.05)x5＋(0.517)x6＋(0.769)x7＋71.81 (1)y＝(-3.71)x 1 ＋(-3.94)x 2 ＋(0.299)x 3 ＋(0.226)x 4 ＋(-1.05)x 5 ＋(0.517)x 6 ＋(0.769)x 7 ＋71.81 ( One)
상기 식 (1) 에 있어서, x1 은, 상기 중합체를 형성하기 위한 모노머의 한센 용해도 파라미터에 있어서의 분산항 δD (MPa1/2) 이고,In the formula (1), x 1 is the dispersion term δD (MPa 1/2 ) in the Hansen solubility parameter of the monomer for forming the polymer,
x2 는, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머의 쌍극자 모멘트에 있어서의 x 성분 (Debye) 이고,x 2 is the x component (Debye) in the dipole moment of the monomer to form the polymer,
x3 은, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머와 물 분자의 상호 작용 에너지 (kcal/mol) 이고,x 3 is the interaction energy (kcal/mol) of the monomer and water molecules to form the polymer,
x4 는, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머의 25 ℃ 의 물에 대한 용해도 (g/100g) 의 상용 대수값 LogS 이고,x 4 is the common logarithmic value LogS of the solubility (g/100 g) of the monomer in water at 25° C. to form the polymer,
x5 는, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머의 쌍극자 모멘트 (Debye) 이고,x 5 is the dipole moment (Debye) of the monomer to form the polymer,
x6 은, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머의 쌍극자 모멘트에 있어서의 z 성분 (Debye) 이고,x 6 is the z component (Debye) of the dipole moment of the monomer to form the polymer,
x7 은, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머에 있어서의 수소 결합 억셉터의 수이다.x 7 is the number of hydrogen bond acceptors in the monomer for forming the polymer.
또한 본 발명은,In addition, the present invention,
상기 편광 필름과,The polarizing film,
화상 표시 패널Image display panel
을 구비한, 화상 표시 장치를 제공한다.An image display device including a is provided.
또한 본 발명은,In addition, the present invention,
요오드를 포함하는 편광자와, 에폭시기를 포함하는 화합물 A1 에서 유래하는 구조 단위 U1, 및 옥세탄기를 포함하는 화합물 A2 에서 유래하는 구조 단위 U2 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 갖는 중합체를 포함하는 수지층을 구비한 편광 필름의 제조 방법으로서,A number containing a polymer having at least one selected from the group consisting of a polarizer containing iodine, a structural unit U1 derived from compound A1 containing an epoxy group, and a structural unit U2 derived from compound A2 containing an oxetane group. A method for producing a polarizing film with a stratum,
상기 제조 방법은,The manufacturing method is,
하기 식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값이 4.00 미만인 모노머를 중합시켜, 상기 중합체를 얻는 공정을 포함하는, 편광 필름의 제조 방법을 제공한다.A method for producing a polarizing film is provided, including a step of polymerizing a monomer whose y value calculated by the following formula (1) is less than 4.00 to obtain the polymer.
y＝(－3.71)x1＋(－3.94)x2＋(0.299)x3＋(0.226)x4＋(－1.05)x5＋(0.517)x6＋(0.769)x7＋71.81 (1)y＝(-3.71)x 1 ＋(-3.94)x 2 ＋(0.299)x 3 ＋(0.226)x 4 ＋(-1.05)x 5 ＋(0.517)x 6 ＋(0.769)x 7 ＋71.81 ( One)
상기 식 (1) 에 있어서, x1 은, 상기 모노머의 한센 용해도 파라미터에 있어서의 분산항 δD (MPa1/2) 이고,In the formula (1), x 1 is the dispersion term δD (MPa 1/2 ) in the Hansen solubility parameter of the monomer,
x2 는, 상기 모노머의 쌍극자 모멘트에 있어서의 x 성분 (Debye) 이고,x 2 is the x component (Debye) in the dipole moment of the monomer,
x3 은, 상기 모노머와 물 분자의 상호 작용 에너지 (kcal/mol) 이고,x 3 is the interaction energy (kcal/mol) between the monomer and water molecules,
x4 는, 상기 모노머의 25 ℃ 의 물에 대한 용해도 (g/100g) 의 상용 대수값 LogS 이고,x 4 is the common logarithmic value LogS of the solubility (g/100g) of the monomer in water at 25°C,
x5 는, 상기 모노머의 쌍극자 모멘트 (Debye) 이고,x 5 is the dipole moment (Debye) of the monomer,
x6 은, 상기 모노머의 쌍극자 모멘트에 있어서의 z 성분 (Debye) 이고,x 6 is the z component (Debye) in the dipole moment of the monomer,
x7 은, 상기 모노머에 있어서의 수소 결합 억셉터의 수이다.x 7 is the number of hydrogen bond acceptors in the monomer.
본 발명에 따르면, 고온 다습 환경 하에 있어서, 편광자에 포함되는 요오드의 외부로의 투과를 충분히 억제하는 것에 적합한 편광 필름을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a polarizing film suitable for sufficiently suppressing the transmission of iodine contained in a polarizer to the outside in a high temperature and high humidity environment.
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 편광 필름의 개략 단면도이다.
도 2 는, 편광 필름의 변형예를 나타내는 개략 단면도이다.
도 3 은, 편광 필름의 다른 변형예를 나타내는 개략 단면도이다.
도 4 는, 편광 필름의 또 다른 변형예를 나타내는 개략 단면도이다.
도 5 는, 편광 필름의 또 다른 변형예를 나타내는 개략 단면도이다.
도 6 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 화상 표시 장치의 개략 단면도이다.
도 7 은, 크랙 평가 시험에 사용한 편광 필름의 개략도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a polarizing film according to an embodiment of the present invention.
Fig. 2 is a schematic cross-sectional view showing a modified example of the polarizing film.
Fig. 3 is a schematic cross-sectional view showing another modified example of the polarizing film.
Fig. 4 is a schematic cross-sectional view showing another modified example of the polarizing film.
Fig. 5 is a schematic cross-sectional view showing another modified example of the polarizing film.
Fig. 6 is a schematic cross-sectional view of an image display device according to an embodiment of the present invention.
Fig. 7 is a schematic diagram of the polarizing film used in the crack evaluation test.
본 발명의 제 1 양태에 관련된 편광 필름은,The polarizing film according to the first aspect of the present invention,
요오드를 포함하는 편광자와,A polarizer containing iodine,
에폭시기를 포함하는 화합물 A1 에서 유래하는 구조 단위 U1, 및 옥세탄기를 포함하는 화합물 A2 에서 유래하는 구조 단위 U2 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 갖는 중합체를 포함하는 수지층을 구비하고,A resin layer comprising a polymer having at least one selected from the group consisting of a structural unit U1 derived from compound A1 containing an epoxy group, and a structural unit U2 derived from compound A2 containing an oxetane group,
하기 식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값이 4.00 미만이다.The value of y calculated by the following formula (1) is less than 4.00.
y＝(－3.71)x1＋(－3.94)x2＋(0.299)x3＋(0.226)x4＋(－1.05)x5＋(0.517)x6＋(0.769)x7＋71.81 (1)y＝(-3.71)x 1 ＋(-3.94)x 2 ＋(0.299)x 3 ＋(0.226)x 4 ＋(-1.05)x 5 ＋(0.517)x 6 ＋(0.769)x 7 ＋71.81 ( One)
상기 식 (1) 에 있어서, x1 은, 상기 중합체를 형성하기 위한 모노머의 한센 용해도 파라미터에 있어서의 분산항 δD (MPa1/2) 이고,In the formula (1), x 1 is the dispersion term δD (MPa 1/2 ) in the Hansen solubility parameter of the monomer for forming the polymer,
x2 는, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머의 쌍극자 모멘트에 있어서의 x 성분 (Debye) 이고,x 2 is the x component (Debye) in the dipole moment of the monomer to form the polymer,
x3 은, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머와 물 분자의 상호 작용 에너지 (kcal/mol) 이고,x 3 is the interaction energy (kcal/mol) of the monomer and water molecules to form the polymer,
x4 는, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머의 25 ℃ 의 물에 대한 용해도 (g/100g) 의 상용 대수값 LogS 이고,x 4 is the common logarithmic value LogS of the solubility (g/100 g) of the monomer in water at 25° C. to form the polymer,
x5 는, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머의 쌍극자 모멘트 (Debye) 이고,x 5 is the dipole moment (Debye) of the monomer to form the polymer,
x6 은, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머의 쌍극자 모멘트에 있어서의 z 성분 (Debye) 이고,x 6 is the z component (Debye) of the dipole moment of the monomer to form the polymer,
x7 은, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머에 있어서의 수소 결합 억셉터의 수이다.x 7 is the number of hydrogen bond acceptors in the monomer for forming the polymer.
본 발명의 제 2 양태에 있어서, 예를 들어, 제 1 양태에 관련된 편광 필름에서는 상기 y 의 값이 2.30 이하이다.In the second aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to the first aspect, the value of y is 2.30 or less.
본 발명의 제 3 양태에 있어서, 예를 들어, 제 1 또는 제 2 양태에 관련된 편광 필름에서는, 상기 중합체는, 상기 구조 단위 U1 및 상기 구조 단위 U2 의 양방을 포함한다.In the third aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to the first or second aspect, the polymer contains both the structural unit U1 and the structural unit U2.
본 발명의 제 4 양태에 있어서, 예를 들어, 제 1 ∼ 제 3 양태 중 어느 하나에 관련된 편광 필름에서는, 상기 중합체에 있어서, 상기 구조 단위 U1 의 함유율과 상기 구조 단위 U2 의 함유율의 합계값이 70 중량％ 이상이다.In the fourth aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to any one of the first to third aspects, in the polymer, the total value of the content of the structural unit U1 and the content of the structural unit U2 is It is 70% by weight or more.
본 발명의 제 5 양태에 있어서, 예를 들어, 제 1 ∼ 제 4 양태 중 어느 하나에 관련된 편광 필름에서는, 상기 화합물 A1 은, 에폭시기 이외의 고리 구조를 포함한다.In the fifth aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to any one of the first to fourth aspects, the compound A1 contains a ring structure other than an epoxy group.
본 발명의 제 6 양태에 있어서, 예를 들어, 제 1 ∼ 제 5 양태 중 어느 하나에 관련된 편광 필름에서는, 상기 화합물 A1 은, 지방족 고리 및 방향족 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 포함한다.In the sixth aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to any one of the first to fifth aspects, the compound A1 contains at least one selected from the group consisting of an aliphatic ring and an aromatic ring. .
본 발명의 제 7 양태에 있어서, 예를 들어, 제 1 ∼ 제 6 양태 중 어느 하나에 관련된 편광 필름에서는, 상기 수지층은, 산 발생제 및/또는 산 발생제의 분해물을 포함한다.In the seventh aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to any one of the first to sixth aspects, the resin layer contains an acid generator and/or a decomposition product of the acid generator.
본 발명의 제 8 양태에 있어서, 예를 들어, 제 1 ∼ 제 7 양태 중 어느 하나에 관련된 편광 필름에서는, 상기 수지층은 상기 편광자에 직접 접해 있다.In the eighth aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to any one of the first to seventh aspects, the resin layer is in direct contact with the polarizer.
본 발명의 제 9 양태에 있어서, 예를 들어, 제 1 ∼ 제 8 양태 중 어느 하나에 관련된 편광 필름에서는, 상기 수지층의 두께가 3 ㎛ 미만이다.In the ninth aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to any one of the first to eighth aspects, the thickness of the resin layer is less than 3 μm.
본 발명의 제 10 양태에 있어서, 예를 들어, 제 1 ∼ 제 9 양태 중 어느 하나에 관련된 편광 필름에서는, 상기 편광자의 두께가 1 ㎛ 이상 7 ㎛ 미만이다.In the tenth aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to any one of the first to ninth aspects, the thickness of the polarizer is 1 μm or more and less than 7 μm.
본 발명의 제 11 양태에 있어서, 예를 들어, 제 1 ∼ 제 10 양태 중 어느 하나에 관련된 편광 필름에서는, 상기 편광자는, 폴리비닐알코올을 주성분으로서 포함한다.In the eleventh aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to any one of the first to tenth aspects, the polarizer contains polyvinyl alcohol as a main component.
본 발명의 제 12 양태에 있어서, 예를 들어, 제 1 ∼ 제 11 양태 중 어느 하나에 관련된 편광 필름은, 보호 필름을 추가로 구비한다.In the twelfth aspect of the present invention, for example, the polarizing film according to any one of the first to eleventh aspects is further provided with a protective film.
본 발명의 제 13 양태에 있어서, 예를 들어, 제 12 양태에 관련된 편광 필름에서는, 상기 보호 필름, 상기 수지층 및 상기 편광자가 적층 방향으로 이 순서로 나열되어 있다.In the thirteenth aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to the twelfth aspect, the protective film, the resin layer, and the polarizer are arranged in this order in the stacking direction.
본 발명의 제 14 양태에 있어서, 예를 들어, 제 12 또는 제 13 양태에 관련된 편광 필름에서는, 상기 보호 필름의 투습도가 300 g/(m2·day) 이상이다.In the fourteenth aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to the twelfth or thirteenth aspect, the water vapor transmission rate of the protective film is 300 g/(m 2 ·day) or more.
본 발명의 제 15 양태에 있어서, 예를 들어, 제 12 ∼ 제 14 양태 중 어느 하나에 관련된 편광 필름에서는, 상기 보호 필름이 트리아세틸셀룰로오스를 주성분으로서 포함한다.In the 15th aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to any one of the 12th to 14th aspects, the protective film contains triacetylcellulose as a main component.
본 발명의 제 16 양태에 있어서, 예를 들어, 제 12 ∼ 제 15 양태 중 어느 하나에 관련된 편광 필름에서는, 상기 보호 필름의 두께가 40 ㎛ 미만이다.In the 16th aspect of the present invention, for example, in the polarizing film according to any one of the 12th to 15th aspects, the thickness of the protective film is less than 40 μm.
본 발명의 제 17 양태에 관련된 화상 표시 장치는,An image display device related to the 17th aspect of the present invention,
제 1 ∼ 제 16 양태 중 어느 하나에 관련된 편광 필름과,A polarizing film according to any one of the first to sixteenth aspects,
화상 표시 패널Image display panel
을 구비한다.Equipped with
본 발명의 제 18 양태에 관련된 편광 필름의 제조 방법은,The method for producing a polarizing film according to the 18th aspect of the present invention includes:
요오드를 포함하는 편광자와, 에폭시기를 포함하는 화합물 A1 에서 유래하는 구조 단위 U1, 및 옥세탄기를 포함하는 화합물 A2 에서 유래하는 구조 단위 U2 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 갖는 중합체를 포함하는 수지층을 구비한 편광 필름의 제조 방법으로서,A number containing a polymer having at least one selected from the group consisting of a polarizer containing iodine, a structural unit U1 derived from compound A1 containing an epoxy group, and a structural unit U2 derived from compound A2 containing an oxetane group. A method for producing a polarizing film with a stratum,
상기 제조 방법은,The manufacturing method is,
하기 식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값이 4.00 미만인 모노머를 중합시켜, 상기 중합체를 얻는 공정을 포함한다.It includes a step of obtaining the polymer by polymerizing a monomer whose y value calculated by the following formula (1) is less than 4.00.
y＝(－3.71)x1＋(－3.94)x2＋(0.299)x3＋(0.226)x4＋(－1.05)x5＋(0.517)x6＋(0.769)x7＋71.81 (1)y＝(-3.71)x 1 ＋(-3.94)x 2 ＋(0.299)x 3 ＋(0.226)x 4 ＋(-1.05)x 5 ＋(0.517)x 6 ＋(0.769)x 7 ＋71.81 ( One)
상기 식 (1) 에 있어서, x1 은, 상기 모노머의 한센 용해도 파라미터에 있어서의 분산항 δD (MPa1/2) 이고,In the formula (1), x 1 is the dispersion term δD (MPa 1/2 ) in the Hansen solubility parameter of the monomer,
x2 는, 상기 모노머의 쌍극자 모멘트에 있어서의 x 성분 (Debye) 이고,x 2 is the x component (Debye) in the dipole moment of the monomer,
x3 은, 상기 모노머와 물 분자의 상호 작용 에너지 (kcal/mol) 이고,x 3 is the interaction energy (kcal/mol) between the monomer and water molecules,
x4 는, 상기 모노머의 25 ℃ 의 물에 대한 용해도 (g/100g) 의 상용 대수값 LogS 이고,x 4 is the common logarithmic value LogS of the solubility (g/100g) of the monomer in water at 25°C,
x5 는, 상기 모노머의 쌍극자 모멘트 (Debye) 이고,x 5 is the dipole moment (Debye) of the monomer,
x6 은, 상기 모노머의 쌍극자 모멘트에 있어서의 z 성분 (Debye) 이고,x 6 is the z component (Debye) in the dipole moment of the monomer,
x7 은, 상기 모노머에 있어서의 수소 결합 억셉터의 수이다.x 7 is the number of hydrogen bond acceptors in the monomer.
이하, 본 발명의 상세함을 설명하지만, 이하의 설명은, 본 발명을 특정한 실시형태에 제한하는 취지는 아니다.The details of the present invention will be described below, but the following description is not intended to limit the present invention to specific embodiments.
(편광 필름의 실시형태)(Embodiment of polarizing film)
도 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 편광 필름 (10) 은, 요오드를 포함하는 편광자 (1) 와, 중합체 P 를 포함하는 수지층 (2) 을 구비하고 있다. 수지층 (2) 에 포함되는 중합체 P 는, 에폭시기를 포함하는 화합물 A1 에서 유래하는 구조 단위 U1, 및 옥세탄기를 포함하는 화합물 A2 에서 유래하는 구조 단위 U2 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 갖는다. 수지층 (2) 은, 예를 들어, 편광자 (1) 보다 시인 (視認) 측에 위치하고, 편광자 (1) 에 직접 접해 있다. 다만, 수지층 (2) 과 편광자 (1) 의 사이에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 접착제층, 접착 용이층 등의 다른 층이 배치되어 있어도 된다. 수지층 (2) 은, 편광자 (1) 보다 후술하는 화상 표시 패널측에 위치하고 있어도 된다. 바꾸어 말하면, 편광자 (1) 가 수지층 (2) 보다 시인측에 위치하고 있어도 된다. 수지층 (2) 은, 예를 들어, 편광 필름 (10) 의 가장 외측에 위치하고 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「필름」이란, 길이 및 폭에 비해서 두께가 충분히 작은 부재를 의미한다.As shown in FIG. 1, the polarizing film 10 of this embodiment is equipped with a polarizer 1 containing iodine and a resin layer 2 containing polymer P. The polymer P contained in the resin layer (2) has at least one selected from the group consisting of a structural unit U1 derived from compound A1 containing an epoxy group, and a structural unit U2 derived from compound A2 containing an oxetane group. . For example, the resin layer 2 is located on the viewing side of the polarizer 1 and is in direct contact with the polarizer 1. However, between the resin layer 2 and the polarizer 1, other layers such as an adhesive layer or an easily bonding layer may be disposed within a range that does not impair the effects of the present invention. The resin layer 2 may be located closer to the image display panel described later than the polarizer 1. In other words, the polarizer 1 may be located on the viewing side of the resin layer 2. The resin layer 2 is located on the outermost side of the polarizing film 10, for example. In addition, in this specification, “film” means a member whose thickness is sufficiently small compared to its length and width.
편광 필름 (10) 은, 접착제층 (3), 보호 필름 (4) 및 점착제층 (5) 을 추가로 구비하고 있어도 된다. 보호 필름 (4) 은, 예를 들어, 접착제층 (3) 을 개재하여 편광자 (1) 에 첩합되어 있다. 점착제층 (5) 은, 예를 들어, 후술하는 화상 표시 패널에 편광 필름 (10) 을 첩합시키기 위한 부재로서 기능한다. 그 때문에, 점착제층 (5) 은, 예를 들어, 편광 필름 (10) 의 가장 외측이고, 편광자 (1) 보다 화상 표시 패널측에 위치한다. 바꾸어 말하면, 편광자 (1) 는, 예를 들어, 점착제층 (5) 보다 시인측에 위치하고 있다. 수지층 (2), 편광자 (1), 접착제층 (3), 보호 필름 (4) 및 점착제층 (5) 은, 예를 들어, 적층 방향으로 이 순서로 나열되어 있다.The polarizing film 10 may further include an adhesive layer 3, a protective film 4, and an adhesive layer 5. The protective film 4 is bonded to the polarizer 1 via the adhesive layer 3, for example. The adhesive layer 5 functions as a member for bonding the polarizing film 10 to, for example, an image display panel described later. Therefore, the adhesive layer 5 is, for example, the outermost side of the polarizing film 10 and is located closer to the image display panel than the polarizer 1. In other words, the polarizer 1 is located on the viewing side of the adhesive layer 5, for example. The resin layer (2), polarizer (1), adhesive layer (3), protective film (4), and adhesive layer (5) are arranged in this order in the lamination direction, for example.
본 실시형태의 편광 필름 (10) 에서는, 하기 식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값이 4.00 미만이다.In the polarizing film 10 of this embodiment, the value of y calculated by the following formula (1) is less than 4.00.
y＝(－3.71)x1＋(－3.94)x2＋(0.299)x3＋(0.226)x4＋(－1.05)x5＋(0.517)x6＋(0.769)x7＋71.81 (1)y＝(-3.71)x 1 ＋(-3.94)x 2 ＋(0.299)x 3 ＋(0.226)x 4 ＋(-1.05)x 5 ＋(0.517)x 6 ＋(0.769)x 7 ＋71.81 ( One)
식 (1) 에 있어서, x1 은, 중합체 P 를 형성하기 위한 모노머 M 의 한센 용해도 파라미터에 있어서의 분산항 δD (MPa1/2) 이다. x1 은, 중합체 P 와 물 분자 또는 요오드의 사이에 발생하는 상호 작용을 예측하기 위한 지표가 될 수 있다. 한센 용해도 파라미터란, Hildebrand 에 의해 도입된 용해도 파라미터를 분산항 δD, 분극항 δP, 수소 결합항 δH 의 3 성분으로 분할한 것이다. 분산항 δD 는, 분자 사이의 분산력에 의한 에너지를 나타내고 있다. 한센 용해도 파라미터의 상세함은, 「Hansen Solubility Parameters ; A Users Handbook (CRC Press, 2007)」에 개시되어 있다. 분산항 δD 는, 예를 들어, HSPiP (version 5) 등의 공지된 소프트웨어를 사용하여 산출할 수 있다. 또한, 분산항 δD 의 값은, 사용하는 소프트웨어에 따라 약간 상이한 경우가 있다. 그러나, 이 오차는, 통상적으로 y 의 값을 산출함에 있어서 무시할 수 있을 정도의 크기이다.In formula (1), x 1 is the dispersion term δD (MPa 1/2 ) in the Hansen solubility parameter of monomer M for forming polymer P. x 1 can be an index for predicting the interaction that occurs between polymer P and water molecules or iodine. The Hansen solubility parameter is a solubility parameter introduced by Hildebrand divided into three components: dispersion term δD, polarization term δP, and hydrogen bonding term δH. The dispersion term δD represents the energy due to the dispersion force between molecules. For details on Hansen solubility parameters, see “Hansen Solubility Parameters; It is disclosed in “A Users Handbook (CRC Press, 2007).” The dispersion term δD can be calculated using, for example, known software such as HSPiP (version 5). Additionally, the value of the dispersion term δD may be slightly different depending on the software used. However, this error is usually of a size that can be ignored when calculating the value of y.
중합체 P 가 복수 종류의 모노머 M 으로 형성되어 있는 경우, 다음 방법에 의해 x1 의 값을 특정할 수 있다. 먼저, 복수 종류의 모노머 M 의 각각에 대해서, 한센 용해도 파라미터에 있어서의 분산항 δD (MPa1/2) 를 산출한다. 산출된 분산항 δD 에 대해서, 각 모노머 M 의 몰 비율에 의해 가중치를 부여하고 가중 평균을 행한다. 얻어진 가중 평균값을 x1 로 간주할 수 있다. 본 실시형태에 있어서, x1 의 값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 15 ∼ 20 (MPa1/2) 이고, 바람직하게는 16.4 ∼ 18.9 (MPa1/2) 이다.When the polymer P is formed of multiple types of monomers M, the value of x 1 can be specified by the following method. First, for each of the plurality of types of monomers M, the dispersion term δD (MPa 1/2 ) in the Hansen solubility parameter is calculated. The calculated dispersion term δD is weighted by the mole ratio of each monomer M, and a weighted average is performed. The obtained weighted average value can be regarded as x 1 . In this embodiment, the value of x 1 is not particularly limited, and is, for example, 15 to 20 (MPa 1/2 ), and preferably 16.4 to 18.9 (MPa 1/2 ).
x2 는, 중합체 P 를 형성하기 위한 모노머 M 의 쌍극자 모멘트에 있어서의 x 성분 (Debye) 이다. x2 는, 중합체 P 와 물 분자의 사이에 발생하는 상호 작용을 예측하기 위한 지표, 즉 중합체 P 의 소수성이나 가습 내구성의 정도를 예측하기 위한 지표가 될 수 있다. x2 의 값이 0 에 가까우면 가까울수록, 모노머 M 의 쌍극자 모멘트가 작고, 중합체 P 가 소수성인 경향이 있다.x 2 is the x component (Debye) in the dipole moment of monomer M for forming polymer P. x 2 can be an index for predicting the interaction that occurs between polymer P and water molecules, that is, an index for predicting the degree of hydrophobicity or humidification durability of polymer P. The closer the value of x 2 is to 0, the smaller the dipole moment of the monomer M, and the tendency for the polymer P to be hydrophobic.
x2 는, 예를 들어 다음 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 중합체 P 를 형성하기 위한 모노머 M 을 특정한다. 모노머 M 에 대해서, 분자 시뮬레이션을 실시함으로써, 쌍극자 모멘트에 있어서의 x 성분을 산출할 수 있다. 분자 시뮬레이션은, 예를 들어, Materials Studio (BIOVIA 사 제조, ver.8.0.0.843), WebMO (ver.19.0.009e) 등의 공지된 소프트웨어를 사용하여 실시할 수 있다.x 2 can be specified, for example, by the following method. First, the monomer M for forming polymer P is specified. By performing molecular simulation on the monomer M, the x component in the dipole moment can be calculated. Molecular simulation can be performed using, for example, known software such as Materials Studio (manufactured by BIOVIA, ver.8.0.0.843) and WebMO (ver.19.0.009e).
분자 시뮬레이션에 의한 쌍극자 모멘트 D 에 있어서의 x 성분의 산출은, 예를 들어, 다음 방법에 의해 실시할 수 있다. 먼저, Materials Studio 를 사용하여, 모노머 M 의 분자 모델을 작성한다. 분자 모델에 대해서는, COMPASS (Condensed-phase Optimized Molecular Potentials for Atomistic Simulation Studies) II 의 역장 (力場) 을 채용하여, 구조를 최적화한다. 다음으로, 모노머 M 의 분자 모델을 WebMO 에서 처리한다. 상세하게는 WebMO 에 있어서, Gaussian 프로그램 (Queue：g09) 을 사용하여, 모노머 M 의 분자 모델에 대해서 구조 최적화 계산을 실시한다. 이 때, 범함수로서 B3LYP 를 사용해도 되고, 기저 함수로서 6-31G(d) 를 사용해도 된다. 이에 따라, 모노머 M 의 쌍극자 모멘트 D 에 있어서의 x 성분을 산출할 수 있다. 또한, 분자 시뮬레이션을 실시할 때, 모노머 M 을 구성하는 각 원자의 내부 좌표는, Z-matrix 형식에 의해 정의한다. Z-matrix 형식을 이용한 경우, 내부 좌표를 결정하기 위한 x 축, y 축 및 z 축은, 모노머 M 의 구조에 따라 자동적으로 정해진다.Calculation of the x component in the dipole moment D by molecular simulation can be performed, for example, by the following method. First, create a molecular model of monomer M using Materials Studio. For the molecular model, the force field of COMPASS (Condensed-phase Optimized Molecular Potentials for Atomistic Simulation Studies) II is adopted to optimize the structure. Next, the molecular model of monomer M is processed in WebMO. Specifically, in WebMO, a structural optimization calculation is performed on the molecular model of monomer M using the Gaussian program (Queue: g09). At this time, B3LYP may be used as the functional function, and 6-31G(d) may be used as the basis function. Accordingly, the x component in the dipole moment D of the monomer M can be calculated. Additionally, when performing molecular simulation, the internal coordinates of each atom constituting the monomer M are defined by the Z-matrix format. When using the Z-matrix format, the x-axis, y-axis, and z-axis for determining the internal coordinates are automatically determined according to the structure of monomer M.
중합체 P 가 복수 종류의 모노머 M 으로 형성되어 있는 경우, 다음 방법에 의해 x2 를 특정할 수 있다. 먼저, 복수 종류의 모노머 M 의 각각에 대해서, 상기 서술한 방법에 의해 쌍극자 모멘트에 있어서의 x 성분을 산출한다. 산출된 쌍극자 모멘트에 있어서의 x 성분에 대해서, 각 모노머 M 의 몰 비율에 의해 가중치를 부여하고 가중 평균을 행한다. 얻어진 가중 평균값을 x2 로 간주할 수 있다. 복수 종류의 모노머 M 이 서로 구조 이성체인 경우에도, 산출된 쌍극자 모멘트에 있어서의 x 성분에 대해서, 각 구조 이성체의 몰 비율에 의해 가중치를 부여하고 가중 평균을 행함으로써, x2 를 특정할 수 있다. 본 실시형태에 있어서, x2 의 값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 －1.0 ∼ 1.0 Debye 이다.When polymer P is formed from multiple types of monomers M, x 2 can be specified by the following method. First, for each of the plurality of types of monomers M, the x component in the dipole moment is calculated by the method described above. The x component in the calculated dipole moment is weighted by the molar ratio of each monomer M, and a weighted average is performed. The obtained weighted average value can be regarded as x 2 . Even when multiple types of monomers M are structural isomers of each other, x 2 can be specified by weighting the x component in the calculated dipole moment by the molar ratio of each structural isomer and performing a weighted average. . In this embodiment, the value of x 2 is not particularly limited and is, for example, -1.0 to 1.0 Debye.
x3 은, 중합체 P 를 형성하기 위한 모노머 M 과 물 분자의 상호 작용 에너지 ΔE (kcal/mol) 이다. x3 은, 중합체 P 와 물 분자의 사이에 발생하는 상호 작용을 예측하기 위한 지표, 즉 중합체 P 의 소수성이나 가습 내구성의 정도를 예측하기 위한 지표가 될 수 있다.x 3 is the interaction energy ΔE (kcal/mol) between monomer M and water molecules to form polymer P. x 3 can be an index for predicting the interaction that occurs between polymer P and water molecules, that is, an index for predicting the degree of hydrophobicity or humidification durability of polymer P.
x3 은, 예를 들어 다음 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 중합체 P 를 형성하기 위한 모노머 M 을 특정한다. x2 에 대해서 상기 서술한 방법에 의해, 모노머 M 의 분자 모델을 작성하고, 당해 분자 모델에 대해서 구조 최적화 계산을 실시한다. 이에 따라, 1 분자 당의 모노머 M 의 포텐셜 에너지 EM (kcal/mol) 을 산출한다. 다음으로, 동일한 방법에 의해, 물 분자의 분자 모델을 작성하고, 당해 분자 모델에 대해서 구조 최적화 계산을 실시한다. 이에 따라, 1 분자 당의 물 분자의 포텐셜 에너지 EH2O (kcal/mol) 을 산출한다. 또한, 동일한 방법에 의해, 1 분자의 모노머 M 과 1 분자의 물 분자를 포함하는 분자 모델을 작성한다. 이 분자 모델에서는, 모노머 M 에 포함되는 수소 결합 억셉터의 근방에 물 분자를 배치한다. 이 분자 모델에 대해서, 구조 최적화 계산을 실시함으로써, 모노머 M 과 물 분자의 복합체의 포텐셜 에너지 EM＋H2O (kcal/mol) 을 산출한다. 산출된 포텐셜 에너지에 기초하여, 하기 식에 의해 x3 을 특정할 수 있다.x 3 can be specified, for example, by the following method. First, the monomer M for forming polymer P is specified. For x 2 , a molecular model of the monomer M is created by the method described above, and a structure optimization calculation is performed on the molecular model. Accordingly, the potential energy E M (kcal/mol) of monomer M per molecule is calculated. Next, a molecular model of a water molecule is created by the same method, and a structural optimization calculation is performed on the molecular model. Accordingly, the potential energy E H2O (kcal/mol) of one water molecule per molecule is calculated. Additionally, by the same method, a molecular model containing one molecule of monomer M and one molecule of water is created. In this molecular model, water molecules are placed near the hydrogen bond acceptor contained in monomer M. By performing a structural optimization calculation on this molecular model, the potential energy E M+H2O (kcal/mol) of the complex of monomer M and water molecules is calculated. Based on the calculated potential energy, x 3 can be specified by the following equation.
x3(ΔE)＝EM＋H2O－(EM＋EH2O)x 3 (ΔE)＝E M＋H2O－ (E M ＋E H2O )
또한, 수소 결합 억셉터란, 물 분자에 포함되는 수소 원자와 수소 결합을 형성하는 것이 가능한 원자를 의미한다. 수소 결합 억셉터로서는, 산소 원자나 질소 원자 등의 전기 음성도가 비교적 큰 원자를 들 수 있다. 모노머 M 이 수소 결합 억셉터를 복수 개 포함하는 경우, 포텐셜 에너지 EM＋H2O 은, 다음 방법에 의해 특정할 수 있다. 먼저, 1 분자의 모노머 M 과 1 분자의 물 분자를 포함하는 분자 모델을 복수 개 준비한다. 분자 모델의 수는, 1 분자의 모노머 M 에 포함되는 수소 결합 억셉터의 수와 일치한다. 복수의 분자 모델에 있어서, 물 분자가 근방에 배치되는 수소 결합 억셉터가 서로 상이하다. 다음으로, 복수의 분자 모델의 각각에 대해서, 구조 최적화 계산을 실시함으로써, 포텐셜 에너지를 산출한다. 얻어진 산출값의 평균값을 포텐셜 에너지 EM＋H2O 으로 간주할 수 있다.In addition, a hydrogen bond acceptor means an atom capable of forming a hydrogen bond with a hydrogen atom contained in a water molecule. Examples of hydrogen bond acceptors include atoms with relatively high electronegativity, such as oxygen atoms and nitrogen atoms. When the monomer M contains a plurality of hydrogen bond acceptors, the potential energy E M+H2O can be specified by the following method. First, prepare a plurality of molecular models containing one molecule of monomer M and one molecule of water. The number of molecular models corresponds to the number of hydrogen bond acceptors contained in one molecule of monomer M. In a plurality of molecular models, the hydrogen bond acceptors arranged near the water molecules are different from each other. Next, the potential energy is calculated by performing a structure optimization calculation for each of the plurality of molecular models. The average value of the obtained calculated values can be regarded as the potential energy E M+H2O .
중합체 P 가 복수 종류의 모노머 M 으로 형성되어 있는 경우, 다음 방법에 의해 x3 을 특정할 수 있다. 먼저, 복수 종류의 모노머 M 의 각각에 대해서, 물 분자와의 상호 작용 에너지 ΔE 를 산출한다. 산출된 상호 작용 에너지 ΔE 에 대해서, 각 모노머 M 의 몰 비율에 의해 가중치를 부여하고 가중 평균을 행한다. 얻어진 가중 평균값을 x3 으로 간주할 수 있다. 본 실시형태에 있어서, x3 의 값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 －20 ∼ 10 kcal/mol 이다.When polymer P is formed from multiple types of monomers M, x 3 can be specified by the following method. First, for each of the plurality of types of monomers M, the interaction energy ΔE with water molecules is calculated. The calculated interaction energy ΔE is weighted by the molar ratio of each monomer M, and a weighted average is performed. The obtained weighted average value can be regarded as x 3 . In this embodiment, the value of x 3 is not particularly limited and is, for example, -20 to 10 kcal/mol.
x4 는, 중합체 P 를 형성하기 위한 모노머 M 의 25 ℃ 의 물에 대한 용해도 S (g/100g) 의 상용 대수값 LogS 이다. x4 는, 중합체 P 의 물에 대한 용해성을 예측하기 위한 지표, 즉 중합체 P 의 소수성이나 가습 내구성의 정도를 예측하기 위한 지표가 될 수 있다. 용해도 S 는, 상세하게는 25 ℃ 의 물 100 g 에 용해 가능한 모노머 M 의 중량 (g) 의 최대값을 의미한다.x 4 is the common logarithmic value LogS of the solubility S (g/100g) in water at 25° C. of monomer M to form polymer P. x 4 can be an index for predicting the solubility of polymer P in water, that is, an index for predicting the degree of hydrophobicity or humidification durability of polymer P. Solubility S specifically means the maximum value of the weight (g) of monomer M that can be dissolved in 100 g of water at 25°C.
LogS 는, HSPiP (version 5) 등의 공지된 소프트웨어를 사용하여 산출해도 된다. HSPiP 는, 다수의 화합물의 용해도의 실측값에 기초하여 작성된 중회귀식을 사용하여, 임의의 화합물의 용해도나 그 상용 대수값 LogS 를 산출할 수 있다. HSPiP 를 사용하여 산출된 용해도 및 LogS 는, 실측값과 잘 일치하는 것이 알려져 있다.LogS may be calculated using known software such as HSPiP (version 5). HSPiP can calculate the solubility of an arbitrary compound or its common logarithmic value LogS using a multiple regression equation created based on the actual measured solubility values of many compounds. It is known that the solubility and LogS calculated using HSPiP are in good agreement with the actual measured values.
중합체 P 가 복수 종류의 모노머 M 으로 형성되어 있는 경우, 다음 방법에 의해 x4 를 특정할 수 있다. 먼저, 복수 종류의 모노머 M 의 각각에 대해서, LogS 를 산출한다. 산출된 LogS 에 대해서, 각 모노머 M 의 몰 비율에 의해 가중치를 부여하고 가중 평균을 행한다. 얻어진 가중 평균값을 x4 로 간주할 수 있다. 본 실시형태에 있어서, x4 의 값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 －5.0 ∼ 10 이다.When polymer P is formed from multiple types of monomers M, x 4 can be specified by the following method. First, LogS is calculated for each of the plurality of types of monomers M. The calculated LogS is weighted by the mole ratio of each monomer M, and a weighted average is performed. The obtained weighted average value can be regarded as x 4 . In this embodiment, the value of x 4 is not particularly limited and is, for example, -5.0 to 10.
x5 는, 중합체 P 를 형성하기 위한 모노머 M 의 쌍극자 모멘트 (Debye) 이다. x5 는, 중합체 P 와 물 분자의 사이에 발생하는 상호 작용을 예측하기 위한 지표, 즉 중합체 P 의 소수성이나 가습 내구성의 정도를 예측하기 위한 지표가 될 수 있다. x5 의 값이 0 에 가까우면 가까울수록, 중합체 P 가 소수성인 경향이 있다. x5 는, x2 에 대해서 상기 서술한 분자 시뮬레이션에 의해 산출할 수 있다. 또한, 쌍극자 모멘트는, x 성분, y 성분 및 z 성분으로부터 산출되는 벡터량이다.x 5 is the dipole moment (Debye) of monomer M to form polymer P. x 5 can be an index for predicting the interaction that occurs between polymer P and water molecules, that is, an index for predicting the degree of hydrophobicity or humidification durability of polymer P. The closer the value of x 5 is to 0, the more hydrophobic the polymer P tends to be. x 5 can be calculated by the molecular simulation described above for x 2 . Additionally, the dipole moment is a vector quantity calculated from the x component, y component, and z component.
중합체 P 가 복수 종류의 모노머 M 으로 형성되어 있는 경우, 다음 방법에 의해 x5 를 특정할 수 있다. 먼저, 복수 종류의 모노머 M 의 각각에 대해서, 쌍극자 모멘트를 산출한다. 산출된 쌍극자 모멘트에 대해서, 각 모노머 M 의 몰 비율에 의해 가중치를 부여하고 가중 평균을 행한다. 얻어진 가중 평균값을 x5 로 간주할 수 있다. 복수 종류의 모노머 M 이 서로 구조 이성체인 경우에도, 산출된 쌍극자 모멘트에 대해서, 각 구조 이성체의 몰 비율에 의해 가중치를 부여하고 가중 평균을 행함으로써, x5 를 특정할 수 있다. 본 실시형태에 있어서, x5 의 값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 2.0 ∼ 5.0 Debye 이다.When polymer P is formed from multiple types of monomers M, x 5 can be specified by the following method. First, the dipole moment is calculated for each of the plurality of types of monomers M. The calculated dipole moment is weighted by the molar ratio of each monomer M and a weighted average is performed. The obtained weighted average value can be regarded as x 5 . Even when multiple types of monomers M are structural isomers of each other, x 5 can be specified by weighting the calculated dipole moment by the molar ratio of each structural isomer and performing a weighted average. In this embodiment, the value of x 5 is not particularly limited and is, for example, 2.0 to 5.0 Debye.
x6 은, 중합체 P 를 형성하기 위한 모노머 M 의 쌍극자 모멘트에 있어서의 z 성분 (Debye) 이다. x6 은, 중합체 P 와 물 분자의 사이에 발생하는 상호 작용을 예측하기 위한 지표, 즉 중합체 P 의 소수성이나 가습 내구성의 정도를 예측하기 위한 지표가 될 수 있다. x6 의 값이 0 에 가까우면 가까울수록, 중합체 P 가 소수성인 경향이 있다. x6 은, x2 에 대해서 상기 서술한 분자 시뮬레이션에 의해 산출할 수 있다.x 6 is the z component (Debye) in the dipole moment of monomer M for forming polymer P. x 6 can be an index for predicting the interaction that occurs between polymer P and water molecules, that is, an index for predicting the degree of hydrophobicity or humidification durability of polymer P. The closer the value of x 6 is to 0, the more hydrophobic the polymer P tends to be. x 6 can be calculated by the molecular simulation described above for x 2 .
중합체 P 가 복수 종류의 모노머 M 으로 형성되어 있는 경우, 다음 방법에 의해 x6 을 특정할 수 있다. 먼저, 복수 종류의 모노머 M 의 각각에 대해서, 쌍극자 모멘트에 있어서의 z 성분을 산출한다. 산출된 쌍극자 모멘트에 있어서의 z 성분에 대해서, 각 모노머 M 의 몰 비율에 의해 가중치를 부여하고 가중 평균을 행한다. 얻어진 가중 평균값을 x6 으로 간주할 수 있다. 복수 종류의 모노머 M 이 서로 구조 이성체인 경우에도, 산출된 쌍극자 모멘트에 있어서의 z 성분에 대해서, 각 구조 이성체의 몰 비율에 의해 가중치를 부여하고 가중 평균을 행함으로써, x6 을 특정할 수 있다. 본 실시형태에 있어서, x6 의 값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 －2.0 ∼ 3.0 Debye 이다.When polymer P is formed from multiple types of monomers M, x 6 can be specified by the following method. First, the z component in the dipole moment is calculated for each of the plurality of types of monomers M. The z component in the calculated dipole moment is weighted by the molar ratio of each monomer M, and a weighted average is performed. The obtained weighted average value can be regarded as x 6 . Even when multiple types of monomers M are structural isomers of each other, x 6 can be specified by weighting the z component in the calculated dipole moment by the molar ratio of each structural isomer and performing a weighted average. . In this embodiment, the value of x 6 is not particularly limited and is, for example, -2.0 to 3.0 Debye.
x7 은, 중합체 P 를 형성하기 위한 모노머 M 에 있어서의 수소 결합 억셉터의 수이다. x7 은, 중합체 P 의 물에 대한 용해성을 예측하기 위한 지표, 즉 중합체 P 의 소수성이나 가습 내구성의 정도를 예측하기 위한 지표가 될 수 있다. 상기 서술한 바와 같이, 수소 결합 억셉터란, 물 분자에 포함되는 수소 원자와 수소 결합을 형성하는 것이 가능한 원자를 의미한다. 수소 결합 억셉터의 수는, x2 에 대해서 상기 서술한 분자 시뮬레이션을 이용하여 특정해도 된다.x 7 is the number of hydrogen bond acceptors in the monomer M for forming polymer P. x 7 can be an index for predicting the solubility of polymer P in water, that is, an index for predicting the degree of hydrophobicity or humidification durability of polymer P. As described above, a hydrogen bond acceptor means an atom capable of forming a hydrogen bond with a hydrogen atom contained in a water molecule. The number of hydrogen bond acceptors may be specified for x 2 using the molecular simulation described above.
중합체 P 가 복수 종류의 모노머 M 으로 형성되어 있는 경우, 다음 방법에 의해 x7 을 특정할 수 있다. 먼저, 복수 종류의 모노머 M 의 각각에 대해서, 수소 결합 억셉터의 수를 특정한다. 특정된 수소 결합 억셉터의 수에 대해서, 각 모노머 M 의 몰 비율에 의해 가중치를 부여하고 가중 평균을 행한다. 얻어진 가중 평균값을 x7 로 간주할 수 있다. 본 실시형태에 있어서, x7 의 값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 2.0 ∼ 6.0 이다.When polymer P is formed of multiple types of monomers M, x 7 can be specified by the following method. First, for each of the plurality of types of monomers M, the number of hydrogen bond acceptors is specified. The number of hydrogen bond acceptors specified is weighted by the molar ratio of each monomer M, and a weighted average is performed. The obtained weighted average value can be regarded as x 7 . In this embodiment, the value of x 7 is not particularly limited and is, for example, 2.0 to 6.0.
식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값은, 편광자 (1) 에 포함되는 요오드의 외부로의 투과를 충분히 억제하는 관점에서, 바람직하게는 3.00 이하이고, 보다 바람직하게는 2.30 이하이고, 2.00 이하여도 되고, 1.00 이하여도 된다. 다만, y 의 값이 작으면 작을수록, 모노머 M 이나 모노머 M 을 포함하는 용액의 점도가 증가하고, 수지층 (2) 의 제조가 어려운 경향이 있다. 수지층 (2) 을 용이하게 제조할 수 있다는 관점에서, y 의 값은, 예를 들어 －2.00 이상이고, 0 이상이어도 되고, 경우에 따라서는 1.00 이상이어도 되고, 2.00 이상이어도 된다.The value of y calculated by equation (1) is preferably 3.00 or less, more preferably 2.30 or less, and 2.00 or less from the viewpoint of sufficiently suppressing transmission of iodine contained in the polarizer 1 to the outside. It may be 1.00 or less. However, as the value of y is smaller, the viscosity of the monomer M or the solution containing the monomer M increases, and the production of the resin layer 2 tends to be difficult. From the viewpoint of being able to easily manufacture the resin layer 2, the value of y is, for example, -2.00 or more, may be 0 or more, and in some cases may be 1.00 or more, or may be 2.00 or more.
식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값은, 수지층 (2) 에 포함되는 중합체 P 를 형성하기 위한 모노머 M 에 관한 지표이다. 그러나, 본 발명자들의 검토에 따르면, y 의 값은, 편광자 (1) 에 포함되는 요오드의 외부로의 투과를 억제하는 데에 적합한 수지층 (2) 을 선택하기 위한 지표로서도 유용하다.The value of y calculated by formula (1) is an index regarding the monomer M for forming the polymer P contained in the resin layer (2). However, according to the present inventors' examination, the value of y is also useful as an index for selecting a resin layer (2) suitable for suppressing transmission of iodine contained in the polarizer (1) to the outside.
[편광자][Polarizer]
편광자 (1) 는, 요오드를 포함하는 한, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드를 흡착시켜 1 축 연신한 것을 들 수 있다. 편광자 (1) 는, 폴리비닐알코올계 필름 및 요오드로 구성되어 있는 것이 바람직하다. 편광자 (1) 는, 예를 들어 폴리비닐알코올을 주성분으로서 포함한다. 본 명세서에 있어서, 「주성분」은, 편광자 (1) 에 중량 기준으로 가장 많이 포함되는 재료를 의미한다.The polarizer 1 is not particularly limited as long as it contains iodine, and may be, for example, a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol-based film, a partially formalized polyvinyl alcohol-based film, or an ethylene-vinyl acetate copolymer-based partially saponified film. Examples include those that were uniaxially stretched by adsorbing iodine. The polarizer 1 is preferably comprised of a polyvinyl alcohol-based film and iodine. Polarizer 1 contains, for example, polyvinyl alcohol as a main component. In this specification, “main component” means the material contained in the largest amount by weight in the polarizer 1.
편광자 (1) 의 두께는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 30 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 20 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 18 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 15 ㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 12 ㎛ 이하이고, 특히 바람직하게는 10 ㎛ 이하이다. 편광자 (1) 의 두께는, 2 ㎛ 이상이어도 되고, 4 ㎛ 이상이어도 되고, 5 ㎛ 이상이어도 된다. 편광자 (1) 의 두께는, 7 ∼ 12 ㎛ 여도 되고, 경우에 따라서는 1 ㎛ 이상 7 ㎛ 미만, 특히 4 ∼ 6 ㎛ 여도 된다. 본 명세서에서는, 두께가 10 ㎛ 이하인 편광자 (1) 를 박형 편광자라고 부르는 경우가 있다. 박형 편광자는, 두께 불균일이 적으며, 시인성이 우수한 경향이 있다. 또한, 박형 편광자는, 치수 변화가 억제되어 있으며, 내구성이 우수하다는 이점도 갖는다. 박형 편광자에 따르면, 편광 필름 (10) 을 박형화할 수 있다. 편광자 (1) 이 박형 편광자인 경우, 편광 필름 (10) 이 실용상 충분한 편광도를 갖기 위해서는, 편광자 (1) 에 있어서의 요오드의 농도를 높게 조정할 필요가 있다. 본 실시형태의 편광 필름 (10) 에서는, 편광자 (1) 의 두께가 작고, 편광자 (1) 에 있어서의 요오드의 농도가 높은 경우에도, 요오드가 편광자 (1) 로부터 외부로 투과되는 것을 충분히 억제할 수 있다.The thickness of the polarizer 1 is not particularly limited, and is, for example, 30 μm or less, preferably 20 μm or less, more preferably 18 μm or less, further preferably 15 μm or less, particularly preferably is 12 ㎛ or less, particularly preferably 10 ㎛ or less. The thickness of the polarizer 1 may be 2 μm or more, 4 μm or more, or 5 μm or more. The thickness of the polarizer 1 may be 7 to 12 μm, and in some cases, may be 1 μm or more and less than 7 μm, especially 4 to 6 μm. In this specification, the polarizer 1 whose thickness is 10 μm or less may be called a thin polarizer. Thin polarizers have little thickness unevenness and tend to have excellent visibility. In addition, the thin polarizer has the advantage of suppressed dimensional change and excellent durability. According to the thin polarizer, the polarizing film 10 can be reduced in thickness. When the polarizer 1 is a thin polarizer, in order for the polarizing film 10 to have sufficient polarization degree for practical use, the concentration of iodine in the polarizer 1 needs to be adjusted to be high. In the polarizing film 10 of the present embodiment, even when the thickness of the polarizer 1 is small and the concentration of iodine in the polarizer 1 is high, transmission of iodine to the outside from the polarizer 1 can be sufficiently suppressed. You can.
편광자 (1) 는, 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름 등의 친수성 고분자 필름을 요오드의 수용액에 침지시킴으로써 염색하고, 원래 길이의 3 ∼ 7 배로 연신함으로써 제조할 수 있다. 친수성 고분자 필름은, 필요에 따라, 붕산, 요오드화칼륨 등을 포함하는 수용액에 침지시켜도 된다. 또한, 필요에 따라, 친수성 고분자 필름에 대해서, 염색 전에, 물에 침지시켜 수세해도 된다. 친수성 고분자 필름을 수세함으로써, 표면에 부착된 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있다. 친수성 고분자 필름을 수세하면 친수성 고분자 필름이 팽윤되기 때문에, 염색의 불균일 등을 억제할 수 있는 효과도 있다. 친수성 고분자 필름의 연신은, 요오드에 의한 염색 후에 실시해도 되고, 염색하면서 실시해도 되고, 요오드에 의한 염색 전에 실시해도 된다. 친수성 고분자 필름의 연신은, 붕산, 요오드화칼륨 등을 포함하는 수용액 중, 또는 수중에서 실시해도 된다.The polarizer 1 can be manufactured, for example, by immersing a hydrophilic polymer film such as a polyvinyl alcohol-based film in an aqueous solution of iodine, dyeing it, and stretching it to 3 to 7 times the original length. The hydrophilic polymer film may be immersed in an aqueous solution containing boric acid, potassium iodide, etc., as needed. Additionally, if necessary, the hydrophilic polymer film may be immersed in water and washed before dyeing. By washing the hydrophilic polymer film with water, contamination or anti-blocking agent adhering to the surface can be removed. When the hydrophilic polymer film is washed with water, the hydrophilic polymer film swells, which has the effect of suppressing uneven dyeing. Stretching of the hydrophilic polymer film may be carried out after dyeing with iodine, may be carried out while dyeing, or may be carried out before dyeing with iodine. Stretching of the hydrophilic polymer film may be carried out in an aqueous solution containing boric acid, potassium iodide, etc., or in water.
박형 편광자로서는, 대표적으로는 일본 공개특허공보 소51-069644호, 일본 공개특허공보 2000-338329호, 국제 공개 2010/100917호, 일본 공개특허공보 2014-59328호, 일본 공개특허공보 2012-73563호 등에 기재된 것을 들 수 있다. 이들 박형 편광자는, 폴리비닐알코올계 수지 (PVA 계 수지) 층과 연신용 수지 기재를 포함하는 적층체를 연신하는 공정과, 얻어진 연신 필름을 염색하는 공정을 포함하는 제조 방법에 의해 제조할 수 있다. 이 제조 방법에서는, PVA 계 수지층이 연신용 수지 기재에 지지되어 있기 때문에, 연신에 의한 파단 등의 결함이 발생하기 어렵다.As a thin polarizer, representative examples include Japanese Patent Application Publication No. 51-069644, Japanese Patent Application Publication No. 2000-338329, International Publication No. 2010/100917, Japanese Patent Application Publication No. 2014-59328, and Japanese Patent Application Publication No. 2012-73563. Examples include those described in the above. These thin polarizers can be manufactured by a manufacturing method including a step of stretching a laminate containing a polyvinyl alcohol-based resin (PVA-based resin) layer and a resin substrate for stretching, and a step of dyeing the obtained stretched film. . In this manufacturing method, since the PVA-based resin layer is supported on the resin substrate for stretching, defects such as breakage due to stretching are unlikely to occur.
박형 편광자는, 고배율로의 연신이 가능하고, 편광 성능을 향상시킬 수 있다는 관점에서, 상기 제조 방법 중에서도, 붕산 수용액 중에서의 연신 공정을 포함하는 제조 방법에 의해 제조되는 것이 바람직하고, 특히, 붕산 수용액 중에서의 연신 공정 전에, 보조적인 공중 연신을 실시하는 공정을 포함하는 제조 방법에 의해 제조되는 것이 바람직하다. 붕산 수용액 중에서의 연신 공정을 포함하는 제조 방법은, 국제 공개 2010/100917호, 일본 공개특허공보 2014-59328호, 일본 공개특허공보 2012-73563호 등에 개시되어 있다. 공중 연신을 실시하는 공정을 포함하는 제조 방법은, 일본 공개특허공보 2014-59328호, 일본 공개특허공보 2012-73563호 등에 개시되어 있다.From the viewpoint of enabling stretching at high magnification and improving polarization performance, the thin polarizer is preferably manufactured, among the above-described manufacturing methods, by a manufacturing method including a stretching process in an aqueous boric acid solution, especially in an aqueous boric acid solution. It is preferable to manufacture it by a manufacturing method including a step of performing auxiliary stretching in air before the stretching step in the air. A manufacturing method including a stretching process in an aqueous boric acid solution is disclosed in International Publication No. 2010/100917, Japanese Patent Application Publication No. 2014-59328, Japanese Patent Application Publication No. 2012-73563, etc. A manufacturing method including a step of performing air stretching is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-59328, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-73563, etc.
[수지층][Resin layer]
상기 서술한 바와 같이, 수지층 (2) 은, 에폭시기를 포함하는 화합물 A1 에서 유래하는 구조 단위 U1, 및 옥세탄기를 포함하는 화합물 A2 에서 유래하는 구조 단위 U2 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 갖는 중합체 P 를 포함한다. 화합물 A1 및 A2 는, 중합체 P 를 형성하기 위한 모노머 M 으로서 사용할 수 있다.As described above, the resin layer 2 contains at least one selected from the group consisting of a structural unit U1 derived from compound A1 containing an epoxy group, and a structural unit U2 derived from compound A2 containing an oxetane group. It includes a polymer P having. Compounds A1 and A2 can be used as monomer M to form polymer P.
화합물 A1 은, 1 개의 에폭시기를 포함하는 단관능 에폭시 화합물이어도 되고, 2 개 이상의 에폭시기를 갖는 다관능 에폭시 화합물이어도 된다. 다관능 에폭시 화합물에 포함되는 에폭시기의 수는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 2 이상이고, 바람직하게는 2 ∼ 6 이고, 보다 바람직하게는 2 ∼ 4 이다.Compound A1 may be a monofunctional epoxy compound containing one epoxy group, or may be a polyfunctional epoxy compound containing two or more epoxy groups. The number of epoxy groups contained in the polyfunctional epoxy compound is not particularly limited, and is, for example, 2 or more, preferably 2 to 6, and more preferably 2 to 4.
화합물 A1 은, 에폭시기 이외의 고리 구조 R 을 포함하지 않아도 되지만, 포함하고 있는 것이 바람직하다. 화합물 A1 에 포함되는 고리 구조 R 의 수는, 예를 들어 1 이상이고, 바람직하게는 1 ∼ 10 이고, 1 ∼ 6 이어도 된다. 화합물 A1 에 있어서, 복수의 고리 구조 R 이 서로 축합되어 있어도 된다. 화합물 A1 에 있어서, 에폭시 고리와 고리 구조 R 이 축합되어 있어도 된다. 본 명세서에 있어서, 「축합되어 있다」함은, 인접하는 2 개의 고리 구조가, 2 개 이상의 탄소 원자와, 이들의 탄소 원자의 사이에 형성된 공유 결합을 공유하고 있는 상태를 의미한다.Compound A1 does not need to contain ring structures R other than the epoxy group, but it is preferable that it does. The number of ring structures R contained in compound A1 is, for example, 1 or more, preferably 1 to 10, and may be 1 to 6. In compound A1, a plurality of ring structures R may be condensed with each other. In compound A1, the epoxy ring and ring structure R may be condensed. In this specification, “condensed” means a state in which two adjacent ring structures share two or more carbon atoms and a covalent bond formed between these carbon atoms.
화합물 A1 은, 고리 구조 R 로서 지방족 고리 및 방향족 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 포함하는 것이 바람직하다. 지방족 고리는, 방향족성을 갖지 않고, 탄소 원자만으로 구성된 고리 구조이다. 지방족 고리의 탄소수는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 5 ∼ 10 이다. 지방족 고리의 구체예로서는, 시클로펜탄 고리, 시클로헥산 고리, 시클로헵탄 고리 등을 들 수 있다. 2 개의 지방족 고리가 서로 축합되어, 노르보르난 고리 등이 형성되어 있어도 된다. 방향족 고리는, 방향족성을 갖는 고리 구조이다. 방향족 고리는, 탄소 원자만으로 구성되어 있어도 된다. 방향족 고리는, 전형적으로는 벤젠 고리이다.Compound A1 preferably contains at least one ring structure R selected from the group consisting of an aliphatic ring and an aromatic ring. An aliphatic ring is a ring structure composed of only carbon atoms without aromaticity. The number of carbon atoms in the aliphatic ring is not particularly limited and is, for example, 5 to 10. Specific examples of the aliphatic ring include a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, and a cycloheptane ring. Two aliphatic rings may be condensed with each other to form a norbornane ring or the like. An aromatic ring is a ring structure that has aromaticity. The aromatic ring may be composed of only carbon atoms. The aromatic ring is typically a benzene ring.
고리 구조 R 은, 상기 서술한 지방족 고리, 방향족 고리에 한정되지 않는다. 고리 구조 R 은, 질소 원자, 산소 원자 등의 헤테로 원자를 포함하는 헤테로 고리여도 된다. 일례로서 화합물 A1 은, 헤테로 고리로서 옥세탄 고리를 포함하고 있어도 되지만, 포함하지 않는 것이 바람직하다.The ring structure R is not limited to the aliphatic ring or aromatic ring described above. The ring structure R may be a hetero ring containing a hetero atom such as a nitrogen atom or an oxygen atom. As an example, compound A1 may contain an oxetane ring as a heteroring, but it is preferable that it does not contain an oxetane ring.
화합물 A1 은, 에폭시기 이외의 다른 관능기를 추가로 포함하고 있어도 된다. 다른 관능기로서는, 예를 들어, 에테르기, 에스테르기 등을 들 수 있다. 화합물 A1 은, 다른 관능기로서 수소 원자와 헤테로 원자의 결합을 포함하는 극성기를 추가로 포함하고 있어도 되지만, 극성기를 포함하지 않는 것이 바람직하다. 극성기로서는, 예를 들어, 하이드록실기, 카르복실기, 1 급 아민기 및 2 급 아민기를 들 수 있다.Compound A1 may further contain functional groups other than the epoxy group. Examples of other functional groups include ether groups and ester groups. Compound A1 may further contain a polar group containing a bond between a hydrogen atom and a hetero atom as another functional group, but it is preferable that it does not contain a polar group. Examples of polar groups include hydroxyl groups, carboxyl groups, primary amine groups, and secondary amine groups.
화합물 A1 은, 에폭시 모노머여도 되고, 에폭시 프리폴리머 (에폭시 수지) 여도 된다. 화합물 A1 은, 바람직하게는 에폭시 모노머이다. 에폭시 모노머의 분자량은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 1000 미만이고, 바람직하게는 800 이하이고, 500 이하여도 된다. 에폭시 프리폴리머의 중량 평균 분자량은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 1000 ∼ 50000 이다.Compound A1 may be an epoxy monomer or an epoxy prepolymer (epoxy resin). Compound A1 is preferably an epoxy monomer. The molecular weight of the epoxy monomer is not particularly limited, and is, for example, less than 1000, preferably 800 or less, and may be 500 or less. The weight average molecular weight of the epoxy prepolymer is not particularly limited and is, for example, 1,000 to 50,000.
방향족 고리를 갖는 화합물 A1 의 구체예로서는, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S 등의 비스페놀류에서 유래하는 구조를 갖는 글리시딜에테르 화합물 (예를 들어, 비스페놀형 에폭시 수지) ; 테트라하이드록시페닐메탄, 테트라하이드록시벤조페논, 폴리비닐페놀, t-부틸페놀 등의 다른 페놀류에서 유래하는 구조를 갖는 글리시딜에테르 화합물 ; 9,9-비스{4-[2-(옥시란-2-일메톡시)에톡시]페닐}-9H-플루오렌, 3',6'-비스(옥시란-2-일메톡시)스피로[플루오렌-9,9'-크산텐] 등의 플루오렌 골격을 갖는 글리시딜에테르 화합물 ; 페놀 노볼락 에폭시 수지, 크레졸 노볼락 에폭시 수지 및 하이드록시벤즈알데히드 페놀 노볼락 에폭시 수지 등의 노볼락형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Specific examples of compound A1 having an aromatic ring include glycidyl ether compounds having a structure derived from bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, and bisphenol S (for example, bisphenol type epoxy resin); Glycidyl ether compounds having structures derived from other phenols such as tetrahydroxyphenylmethane, tetrahydroxybenzophenone, polyvinylphenol, and t-butylphenol; 9,9-bis{4-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]phenyl}-9H-fluorene, 3',6'-bis(oxiran-2-ylmethoxy)spiro[fluorene Glycidyl ether compounds having a fluorene skeleton such as [orene-9,9'-xanthene]; Novolak-type epoxy resins such as phenol novolak epoxy resin, cresol novolak epoxy resin, and hydroxybenzaldehyde phenol novolak epoxy resin can be mentioned.
지방족 고리를 갖는 화합물 A1 의 구체예로서는, 비닐시클로헥센디옥사이드, 3',4'-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 리모넨디옥사이드, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트 등의 시클로헥산 골격을 갖는 에폭시 화합물 ; 디시클로펜타디엔디에폭사이드, 비시클로노나디엔디에폭사이드, 트리시클로펜타디엔디에폭사이드, 도데카하이드로-2,6-메타노-2H-옥시라노[3',4']시클로펜타[1',2'：6,7]나프스[2,3-b]옥시란 등의 축합 고리 골격을 갖는 에폭시 화합물 ; 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.Specific examples of compound A1 having an aliphatic ring include vinylcyclohexene dioxide, 3',4'-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, limonene dioxide, and bis(3,4-epoxycyclohexylmethyl). ) Epoxy compounds having a cyclohexane skeleton such as adipate; Dicyclopentadiene diepoxide, bicyclononadiene diepoxide, tricyclopentadiene diepoxide, dodecahydro-2,6-methano-2H-oxirano[3',4']cyclopenta[1 ',2': epoxy compounds having a condensed ring skeleton such as 6,7]naps[2,3-b]oxirane; Dicyclopentadiene type epoxy resin, etc. can be mentioned.
에폭시기 이외의 고리 구조 R 을 포함하지 않는 화합물 A1 의 구체예로서는, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세롤폴리글리시딜에테르, 트리메틸올프로판폴리글리시딜에테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르 등의 글리시딜에테르 화합물 등을 들 수 있다.Specific examples of Compound A1 that does not contain a ring structure R other than the epoxy group include 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, and trimethylolpropane poly. Glycidyl ether compounds such as glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and polyethylene glycol diglycidyl ether can be mentioned.
상기에서 예시한 화합물 A1 은, 1 종 단독으로 사용되어도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용되어도 된다.Compound A1 exemplified above may be used individually or in combination of two or more types.
화합물 A2 는, 1 개의 옥세탄기를 포함하는 단관능 옥세탄 화합물이어도 되고, 2 개 이상의 옥세탄기를 갖는 다관능 옥세탄 화합물이어도 된다. 다관능 옥세탄 화합물에 포함되는 옥세탄기의 수는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 2 이상이고, 바람직하게는 2 ∼ 6 이고, 보다 바람직하게는 2 ∼ 4 이다. 또한, 화합물 A2 는, 중합체 P 를 합성하기 위한 반응을 촉진하는 경향이 있다.Compound A2 may be a monofunctional oxetane compound containing one oxetane group, or may be a polyfunctional oxetane compound containing two or more oxetane groups. The number of oxetane groups contained in the polyfunctional oxetane compound is not particularly limited, and is, for example, 2 or more, preferably 2 to 6, and more preferably 2 to 4. Additionally, Compound A2 tends to promote the reaction for synthesizing polymer P.
화합물 A2 는, 옥세탄기 이외의 고리 구조를 추가로 포함하고 있어도 되고, 포함하지 않아도 된다. 옥세탄기 이외의 고리 구조로서는, 예를 들어, 화합물 A1 에 대해서 상기 서술한 것을 들 수 있다. 화합물 A2 는, 예를 들어, 옥세탄기 이외의 고리 구조로서 에폭시기를 포함하지 않는다.Compound A2 may or may not further contain ring structures other than the oxetane group. Examples of ring structures other than the oxetane group include those described above for compound A1. Compound A2, for example, does not contain an epoxy group as a ring structure other than an oxetane group.
화합물 A2 는, 옥세탄기 이외의 다른 관능기를 추가로 포함하고 있어도 된다. 다른 관능기로서는, 예를 들어, 에테르기, 에스테르기 등을 들 수 있다. 화합물 A2 는, 다른 관능기로서 극성기를 추가로 포함하고 있어도 되지만, 극성기를 포함하지 않는 것이 바람직하다.Compound A2 may further contain other functional groups other than the oxetane group. Examples of other functional groups include ether groups and ester groups. Compound A2 may further contain a polar group as another functional group, but it is preferable that it does not contain a polar group.
화합물 A2 는, 옥세탄 모노머여도 되고, 옥세탄 프리폴리머 (옥세탄 수지) 여도 된다. 화합물 A2 는, 바람직하게는 옥세탄 모노머이다. 옥세탄 모노머의 분자량은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 1000 미만이고, 바람직하게는 800 이하이고, 500 이하여도 된다. 옥세탄 프리폴리머의 중량 평균 분자량은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 1000 ∼ 50000 이다.Compound A2 may be an oxetane monomer or an oxetane prepolymer (oxetane resin). Compound A2 is preferably an oxetane monomer. The molecular weight of the oxetane monomer is not particularly limited, and is, for example, less than 1000, preferably 800 or less, and may be 500 or less. The weight average molecular weight of the oxetane prepolymer is not particularly limited and is, for example, 1,000 to 50,000.
화합물 A2 의 구체예로서는, 3-에틸-3-하이드록시메틸옥세탄, 비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메틸]에테르, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄 등의 옥세탄기 이외의 고리 구조를 포함하지 않는 옥세탄 화합물 ; 1,4-비스[(3-에틸-3-옥세타닐) 메톡시메틸]벤젠, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 4,4'-(3-에틸옥세탄-3-일메틸옥시메틸)비페닐 등의 벤젠 고리를 포함하는 옥세탄 화합물 등을 들 수 있다. 상기에서 예시한 화합물 A2 는, 1 종 단독으로 사용되어도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용되어도 된다.Specific examples of compound A2 include 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methyl]ether, and 3-ethyl-3-(2-ethylhexyloxymethyl)oxetane. Oxetane compounds containing no ring structure other than the oxetane group, such as cetane; 1,4-bis[(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl]benzene, 3-ethyl-3-(phenoxymethyl)oxetane, 4,4'-(3-ethyloxetane-3 Oxetane compounds containing a benzene ring, such as -ylmethyloxymethyl)biphenyl, etc. can be mentioned. Compound A2 exemplified above may be used individually or in combination of two or more types.
중합체 P 에 있어서, 화합물 A1 에서 유래하는 구조 단위 U1 의 함유율은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 10 중량％ 이상이고, 30 중량％ 이상이어도 되고, 50 중량％ 이상이어도 되고, 70 중량％ 이상이어도 된다. 중합체 P 는, 실질적으로 구조 단위 U1 만으로 구성되어 있어도 된다. 본 명세서에 있어서, 「실질적으로 ∼ 으로 구성된다」함은, 언급된 구조 단위의 본질적 특징을 변경하는 다른 구조 단위를 배제하는 것을 의미하고, 예를 들어 95 중량％ 이상, 나아가서는 99 중량％ 이상이 당해 구조 단위에 의해 구성되어 있는 것을 의미한다. 구조 단위 U1 의 함유율의 바람직한 범위는, 예를 들어 50 중량％ ∼ 90 중량％ 이다.In the polymer P, the content of the structural unit U1 derived from compound A1 is not particularly limited, and may be, for example, 10% by weight or more, 30% by weight or more, 50% by weight or more, or 70% by weight or more. do. Polymer P may be comprised substantially only of structural unit U1. In this specification, “consisting substantially of” means excluding other structural units that change the essential characteristics of the mentioned structural unit, for example, 95% by weight or more, and further, 99% by weight or more. This means that it is composed of the structural units in question. The preferable range of the content of the structural unit U1 is, for example, 50% by weight to 90% by weight.
중합체 P 에 있어서, 화합물 A2 에서 유래하는 구조 단위 U2 의 함유율은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 5 중량％ 이상이고, 10 중량％ 이상이어도 되고, 20 중량％ 이상이어도 되고, 30 중량％ 이상이어도 되고, 40 중량％ 이상이어도 되고, 50 중량％ 이상이어도 된다. 중합체 P 는, 실질적으로 구조 단위 U2 만으로 구성되어 있어도 된다. 구조 단위 U2 의 함유율의 바람직한 범위는, 예를 들어 10 중량％ ∼ 50 중량％ 이다.In the polymer P, the content of the structural unit U2 derived from compound A2 is not particularly limited, and is, for example, 5% by weight or more, may be 10% by weight or more, may be 20% by weight or more, and may be 30% by weight or more. It may be 40% by weight or more, and may be 50% by weight or more. Polymer P may be comprised substantially only of the structural unit U2. The preferable range of the content of the structural unit U2 is, for example, 10% by weight to 50% by weight.
중합체 P 는, 구조 단위 U1 및 구조 단위 U2 의 양방을 포함하는 것이 바람직하다. 중합체 P 에 있어서, 구조 단위 U1 의 함유율과 구조 단위 U2 의 함유율의 합계값은, 예를 들어 50 중량％ 이상이고, 바람직하게는 70 중량％ 이상이고, 보다 바람직하게는 80 중량％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 90 중량％ 이상이고, 특히 바람직하게는 95 중량％ 이상이고, 특히 더 바람직하게는 99 중량％ 이상이다.Polymer P preferably contains both structural units U1 and structural units U2. In the polymer P, the total value of the content of the structural unit U1 and the content of the structural unit U2 is, for example, 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, and further Preferably it is 90% by weight or more, particularly preferably 95% by weight or more, and even more preferably 99% by weight or more.
중합체 P 는, 화합물 A1 및 A2 이외의 다른 카티온 중합성 모노머에서 유래하는 구조 단위를 추가로 포함하고 있어도 된다. 또한, 중합체 P 는, 라디칼 중합성 모노머에서 유래하는 구조 단위를 포함하고 있어도 된다.Polymer P may further contain structural units derived from cationically polymerizable monomers other than compounds A1 and A2. Additionally, the polymer P may contain a structural unit derived from a radically polymerizable monomer.
다른 카티온 중합성 모노머로서는, 예를 들어, 비닐에테르 화합물을 들 수 있다. 비닐에테르 화합물로는, 예를 들어, 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 부틸비닐에테르, 시클로헥실비닐에테르 등의 지방족 비닐에테르 ; 페닐비닐에테르, 2-페녹시에틸비닐에테르, p-메톡시페닐비닐에테르 등의 방향족 비닐에테르 ; 부탄디올-1,4-디비닐에테르, 트리에틸렌글리콜디비닐에테르, 디프로필렌글리콜디비닐에테르 등의 다관능 비닐에테르 등을 들 수 있다.Examples of other cationically polymerizable monomers include vinyl ether compounds. Examples of the vinyl ether compound include aliphatic vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, butyl vinyl ether, and cyclohexyl vinyl ether; Aromatic vinyl ethers such as phenyl vinyl ether, 2-phenoxyethyl vinyl ether, and p-methoxyphenyl vinyl ether; and polyfunctional vinyl ethers such as butanediol-1,4-divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, and dipropylene glycol divinyl ether.
라디칼 중합성 모노머로서는, (메트)아크릴산에스테르, 스티렌계 화합물 등을 들 수 있다. 본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴산」은, 아크릴산 및/또는 메타크릴산을 의미한다.Examples of radically polymerizable monomers include (meth)acrylic acid ester and styrene-based compounds. In this specification, “(meth)acrylic acid” means acrylic acid and/or methacrylic acid.
(메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 4-t-부틸시클로헥실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 5-(메트)아크릴옥시-2,6-노르보르난카르보락톤, 3,3,5-트리메틸시클로헥실(메트)아크릴레이트, 4-t-부틸페닐(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 1-아다만틸(메트)아크릴레이트, 2-아다만틸(메트)아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸(메트)아크릴레이트, 2-에틸-2-아다만틸(메트)아크릴레이트, 2-이소프로필-2-아다만틸(메트)아크릴레이트, 4-비페닐(메트)아크릴레이트, 1-나프틸(메트)아크릴레이트, 2-나프틸(메트)아크릴레이트, 1-안트라센(메트)아크릴레이트, 1-안트라센메틸(메트)아크릴레이트, 9-안트라센메틸(메트)아크릴레이트 등의 단관능 (메트)아크릴산에스테르 ; 디메틸올-트리시클로데칸디(메트)아크릴레이트, 1,3-아다만탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,3,5-아다만탄트리올-1,5-디(메트)아크릴레이트, 9,9-비스[4-(2-(메트)아크릴로일옥시에톡시)페닐]플루오렌 등의 2 관능 (메트)아크릴산에스테르 ; 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 1,3,5-아다만탄트리올트리(메트)아크릴레이트 등의 3 관능 (메트)아크릴산에스테르 ; 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트 등의 4 관능 (메트)아크릴산에스테르 ; 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 6 관능 (메트)아크릴산에스테르 등을 들 수 있다.Examples of (meth)acrylic acid esters include dicyclofentanyl (meth)acrylate, 4-t-butylcyclohexyl (meth)acrylate, lauryl (meth)acrylate, and 5-(meth)acryloxy-2. ,6-norbornanecarbolactone, 3,3,5-trimethylcyclohexyl (meth)acrylate, 4-t-butylphenyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, 1-adamane Tyl (meth)acrylate, 2-adamantyl (meth)acrylate, 2-methyl-2-adamantyl (meth)acrylate, 2-ethyl-2-adamantyl (meth)acrylate, 2- Isopropyl-2-adamantyl (meth)acrylate, 4-biphenyl (meth)acrylate, 1-naphthyl (meth)acrylate, 2-naphthyl (meth)acrylate, 1-anthracene (meth) Monofunctional (meth)acrylic acid esters such as acrylate, 1-anthracene methyl (meth)acrylate, and 9-anthracene methyl (meth)acrylate; Dimethylol-tricyclodecane di(meth)acrylate, 1,3-adamantanediol di(meth)acrylate, 1,3,5-adamantanetriol-1,5-di(meth)acrylate , 9,9-bis[4-(2-(meth)acryloyloxyethoxy)phenyl]fluorene, and other bifunctional (meth)acrylic acid esters; Trifunctional (meth)acrylic acid esters such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate, glycerol tri(meth)acrylate, and 1,3,5-adamantane triol tri(meth)acrylate; Tetrafunctional (meth)acrylic acid esters such as pentaerythritol tetra(meth)acrylate; and hexafunctional (meth)acrylic acid esters such as dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.
스티렌계 화합물로는, 예를 들어, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐벤질클로라이드, 부톡시스티렌, 비닐피리딘 등을 들 수 있다.Examples of styrene-based compounds include styrene, α-methylstyrene, vinylbenzyl chloride, butoxystyrene, and vinylpyridine.
중합체 P 는, 다관능 모노머에서 유래하는 구조 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 다관능 모노머로서는, 예를 들어, 상기 서술한 다관능 에폭시 화합물, 다관능 옥세탄 화합물, 다관능 (메트)아크릴산에스테르, 다관능 비닐에테르 화합물 등을 들 수 있다. 중합체 P 에 있어서의 다관능 모노머에서 유래하는 구조 단위의 함유율은, 예를 들어 20 중량％ 이상이고, 바람직하게는 40 중량％ 이상이고, 보다 바람직하게는 50 중량％ 이상이고, 경우에 따라서는 70 중량％ 이상이어도 된다. 다관능 모노머에서 유래하는 구조 단위의 함유율의 상한값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 95 중량％ 이다.Polymer P preferably contains structural units derived from polyfunctional monomers. Examples of polyfunctional monomers include the above-mentioned polyfunctional epoxy compounds, polyfunctional oxetane compounds, polyfunctional (meth)acrylic acid esters, and polyfunctional vinyl ether compounds. The content of structural units derived from polyfunctional monomers in polymer P is, for example, 20% by weight or more, preferably 40% by weight or more, more preferably 50% by weight or more, and in some cases 70% by weight or more. It may be more than % by weight. The upper limit of the content of the structural unit derived from the polyfunctional monomer is not particularly limited, and is, for example, 95% by weight.
중합체 P 는, 극성기를 갖는 모노머에서 유래하는 구조 단위를 포함하고 있어도 되지만, 포함하지 않는 것이 바람직하다. 중합체 P 가 극성기를 갖는 모노머에서 유래하는 구조 단위를 포함하는 경우, 편광자 (1) 에 포함되는 요오드가 수지층 (2) 에 접근하기 쉬운 경향이 있다. 그래서, 중합체 P 에 있어서의 극성기를 갖는 모노머에서 유래하는 구조 단위의 함유율은, 바람직하게는 20 중량％ 이하이고, 보다 바람직하게는 10 중량％ 이하이고, 더욱 바람직하게는 5 중량％ 이하이고, 특히 바람직하게는 2 중량％ 이하이다.Polymer P may contain a structural unit derived from a monomer having a polar group, but preferably does not contain it. When the polymer P contains a structural unit derived from a monomer having a polar group, iodine contained in the polarizer (1) tends to easily approach the resin layer (2). Therefore, the content of the structural unit derived from a monomer having a polar group in the polymer P is preferably 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less, even more preferably 5% by weight or less, especially Preferably it is 2% by weight or less.
수지층 (2) 은, 예를 들어 중합체 P 를 주성분으로서 포함한다. 수지층 (2) 에 있어서의 중합체 P 의 함유율은, 예를 들어 50 중량％ 이상이고, 바람직하게는 70 중량％ 이상이고, 보다 바람직하게는 90 중량％ 이상이고, 더욱 바람직하게는 95 중량％ 이상이다. 수지층 (2) 은, 바람직하게는 실질적으로 중합체 P 만으로 이루어진다.The resin layer 2 contains polymer P as a main component, for example. The content of polymer P in the resin layer 2 is, for example, 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more, more preferably 90% by weight or more, and even more preferably 95% by weight or more. am. The resin layer 2 preferably consists substantially only of polymer P.
다만, 수지층 (2) 은, 중합체 P 이외의 다른 성분을 포함하고 있어도 된다. 다른 성분으로서는, 산 발생제, 산 발생제의 분해물, 대전 방지제, 산화 방지제, 무기 입자, 레벨링제 등을 들 수 있다. 수지층 (2) 은, 예를 들어 다른 성분으로서 산 발생제 및/또는 산 발생제의 분해물을 포함한다. 산 발생제는, 전형적으로는 화합물 A1 이나 화합물 A2 의 중합 개시제로서 기능하는 광산 발생제이다.However, the resin layer 2 may contain components other than polymer P. Other components include acid generators, decomposition products of acid generators, antistatic agents, antioxidants, inorganic particles, leveling agents, etc. The resin layer 2 contains, for example, an acid generator and/or a decomposition product of the acid generator as other components. The acid generator is typically a photo acid generator that functions as a polymerization initiator for Compound A1 or Compound A2.
광산 발생제로서는, 예를 들어, 하기 식 (i) 에 의해 표시되는 화합물을 들 수 있다.Examples of the photoacid generator include compounds represented by the following formula (i).
L＋X－ (i)L + X - (i)
식 (i) 에 있어서, L＋ 는 오늄 카티온이다. 오늄 카티온으로는, 술포늄 카티온, 술폭소늄 카티온, 포스포늄 카티온, 피리디늄 카티온, 퀴놀리늄 카티온, 이소퀴놀리늄 카티온, 벤조옥사졸륨 카티온, 벤조티아졸륨 카티온, 푸릴요오도늄 카티온, 티에닐요오도늄 카티온, 디아릴요오도늄 카티온 등을 들 수 있고, 바람직하게는 술포늄 카티온이다.In formula (i), L + is an onium cation. Examples of onium cations include sulfonium cation, sulfoxonium cation, phosphonium cation, pyridinium cation, quinolinium cation, isoquinolinium cation, benzoxazolium cation, and benzothiazolium cation. ion, furyl iodonium cation, thienyl iodonium cation, diaryliodonium cation, etc., and sulfonium cation is preferable.
X－ 는, 카운터 아니온이다. 카운터 아니온으로는, PF6 －, SbF6 －, AsF6 －, SbCl6 －, BiCl5 －, SnCl6 －, ClO4 －, 디티오카르바메이트 아니온, SCN－ 등을 들 수 있고, 바람직하게는 PF6 － 이다.X - is a counter anion. Counter anions include PF 6 - , SbF 6 - , AsF 6 - , SbCl 6 - , BiCl 5 - , SnCl 6 - , ClO 4 - , dithiocarbamate anion, SCN - , etc., Preferably it is PF 6 - .
광산 발생제의 구체예로서는, 예를 들어, 「사이라큐어 UVI-6992」,「사이라큐어 UVI-6974」(이상, 다우·케미컬 일본 주식회사 제조),「아데카옵토머 SP150」,「아데카옵토머 SP152」,「아데카옵토머 SP170」,「아데카옵토머 SP172」(이상, 주식회사 ADEKA 제조),「IRGACURE250」(치바 스페셜리티 케미컬즈사 제조),「CI-5102」,「CI-2855」(이상, 닛폰 소다사 제조),「산에이드 SI-60L」,「산에이드 SI-80L」,「산에이드 SI-100L」,「산에이드 SI-110L」,「산에이드 SI-180L」(이상, 산신 화학사 제조),「CPI-100P」,「CPI-100A」(이상, 선아프로 주식회사 제조),「WPI-069」,「WPI-113」,「WPI-116」,「WPI-041」,「WPI-044」,「WPI-054」,「WPI-055」,「WPAG-281」,「WPAG-567」,「WPAG-596」(이상, 와코 순약사 제조) 을 들 수 있다.Specific examples of photoacid generators include, for example, “Cyracure UVI-6992”, “Cyracure UVI-6974” (manufactured by Dow Chemical Japan Co., Ltd.), “Adeka Optomer SP150”, and “Adeka”. Optomer SP152”, “Adeka Optomer SP170”, “Adeka Optomer SP172” (manufactured by ADEKA Co., Ltd.), “IRGACURE250” (manufactured by Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd.), “CI-5102”, “CI-2855” (above, manufactured by Nippon Soda Corporation), “San-Aid SI-60L”, “San-Aid SI-80L”, “San-Aid SI-100L”, “San-Aid SI-110L”, “San-Aid SI-180L” (above) , manufactured by Sanshin Chemical Co., Ltd.), “CPI-100P”, “CPI-100A” (above, manufactured by Sun-Apro Co., Ltd.), “WPI-069”, “WPI-113”, “WPI-116”, “WPI-041”, Examples include "WPI-044", "WPI-054", "WPI-055", "WPAG-281", "WPAG-567", and "WPAG-596" (all manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.).
수지층 (2) 의 두께는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 10 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 5 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 3 ㎛ 미만이고, 더욱 바람직하게는 2.5 ㎛ 미만이다. 수지층 (2) 이 얇으면 얇을수록, 수지층 (2) 을 형성하기 위해서 사용되는 산 발생제의 사용량을 저감시킬 수 있는 경향이 있다. 산 발생제의 사용량이 적은 경우, 수지층 (2) 이 편광자 (1) 와 직접 접해 있어도, 산 발생제로부터 발생된 산이 수지층 (2) 으로부터 편광자 (1) 로 이동하기 어렵고, 편광자 (1) 의 열화를 억제할 수 있는 경향이 있다. 수지층 (2) 의 두께는, 편광자 (1) 에 포함되는 요오드의 외부로의 투과를 충분히 억제하는 관점에서, 0.3 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.5 ㎛ 이상이어도 된다.The thickness of the resin layer 2 is not particularly limited, and is, for example, 10 μm or less, preferably 5 μm or less, more preferably less than 3 μm, and even more preferably less than 2.5 μm. The thinner the resin layer 2 is, the more likely it is that the amount of acid generator used to form the resin layer 2 can be reduced. When the amount of the acid generator used is small, even if the resin layer 2 is in direct contact with the polarizer 1, it is difficult for the acid generated from the acid generator to move from the resin layer 2 to the polarizer 1, and the polarizer 1 There is a tendency to suppress deterioration. The thickness of the resin layer 2 is preferably 0.3 μm or more, and may be 0.5 μm or more, from the viewpoint of sufficiently suppressing transmission of iodine contained in the polarizer 1 to the outside.
상기 서술한 바와 같이, 수지층 (2) 은, 접착제층 또는 접착 용이층을 개재하여 편광자 (1) 에 첩합되어 있어도 된다. 수지층 (2) 을 편광자 (1) 에 첩합시키기 위한 접착제층으로는, 예를 들어, 후술하는 접착제층 (3) 에 대해서 예시하는 것을 들 수 있다. 접착 용이층은, 예를 들어, 폴리에스테르 골격, 폴리에테르 골격, 폴리카보네이트 골격, 폴리우레탄 골격, 실리콘계, 폴리아미드 골격, 폴리이미드 골격, 폴리비닐알코올 골격 등을 갖는 폴리머를 포함하는 수지에 의해 형성할 수 있다. 수지에 포함되는 폴리머는, 1 종이어도 되고, 2 종 이상이어도 된다. 접착 용이층은, 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 첨가제로서는, 점착 부여제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 내열 안정제 등의 안정제 등을 들 수 있다. 접착 용이층의 두께는, 특별히 한정되지 않고, 바람직하게는 0.01 ∼ 5 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 0.02 ∼ 2 ㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 1 ㎛ 이다. 접착 용이층은, 복수 층의 적층체여도 된다.As described above, the resin layer 2 may be bonded to the polarizer 1 through an adhesive layer or an easily bonding layer. Examples of the adhesive layer for bonding the resin layer 2 to the polarizer 1 include those exemplified for the adhesive layer 3 described later. The easy-adhesion layer is formed of a resin containing a polymer having, for example, a polyester skeleton, a polyether skeleton, a polycarbonate skeleton, a polyurethane skeleton, a silicone-based skeleton, a polyamide skeleton, a polyimide skeleton, a polyvinyl alcohol skeleton, etc. can do. The number of polymers contained in the resin may be one, or two or more types may be used. The easily adhesion layer may contain an additive. Examples of additives include stabilizers such as tackifiers, ultraviolet absorbers, antioxidants, and heat-resistant stabilizers. The thickness of the easy-adhesion layer is not particularly limited, and is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.02 to 2 μm, and still more preferably 0.05 to 1 μm. The easily adhesion layer may be a laminate of multiple layers.
[접착제층][Adhesive layer]
접착제층 (3) 은, 접착제를 포함하는 층이다. 접착제의 재료는, 특별히 한정되지 않고, 공지된 재료를 사용할 수 있다. 접착제층 (3) 에 포함되는 접착제로서는, 예를 들어, 수계 접착제 및 활성 에너지선 경화형 접착제를 들 수 있다. 활성 에너지선 경화형 접착제로서는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2019-147865호, 일본 공개특허공보 2016-177248호 등에 개시된 것을 사용할 수 있다.The adhesive layer 3 is a layer containing an adhesive. The material of the adhesive is not particularly limited, and known materials can be used. Examples of adhesives contained in the adhesive layer 3 include water-based adhesives and active energy ray-curable adhesives. As an active energy ray-curable adhesive, those disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-147865, Japanese Patent Application Publication No. 2016-177248, etc. can be used.
접착제층 (3) 의 두께는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 3.0 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 0.01 ∼ 3.0 ㎛ 이고, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 2.5 ㎛ 이고, 더욱 바람직하게는 0.5 ∼ 1.5 ㎛ 이다. 접착제층 (3) 의 두께가 지나치게 작은 경우, 접착제층 (3) 의 응집력이 부족하여, 박리력이 저하되는 경우가 있다. 접착제층 (3) 의 두께가 지나치게 큰 경우, 편광 필름 (10) 의 단면에 응력이 가해지면, 접착제층 (3) 에서 박리가 일어나는 경우가 있다. 즉, 편광 필름 (10) 에 있어서, 충격으로 인한 박리 불량이 발생하는 경우가 있다.The thickness of the adhesive layer 3 is not particularly limited, and is, for example, 3.0 μm or less, preferably 0.01 to 3.0 μm, more preferably 0.1 to 2.5 μm, and still more preferably 0.5 to 1.5 μm. . When the thickness of the adhesive layer 3 is too small, the cohesive force of the adhesive layer 3 may be insufficient, and the peeling force may decrease. When the thickness of the adhesive layer 3 is too large and stress is applied to the cross section of the polarizing film 10, peeling may occur in the adhesive layer 3. That is, in the polarizing film 10, peeling defects due to impact may occur.
[보호 필름][Protective Film]
보호 필름 (4) 으로는, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하다. 보호 필름 (4) 은, 전형적으로는 투명 보호 필름이다. 보호 필름 (4) 의 재료로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 폴리머 ; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 폴리머 ; 폴리메틸메타크릴레이트 등의(메트)아크릴계 폴리머 ; 폴리스티렌, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체 (AS 수지) 등의 스티렌계 폴리머 ; 폴리카보네이트계 폴리머 ; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 올레핀계 폴리머 ; 폴리노르보르넨 등의 고리형 올레핀계 폴리머 ; 염화비닐계 폴리머 ; 나일론, 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 폴리머 ; 이미드계 폴리머 ; 술폰계 폴리머 ; 폴리에테르술폰계 폴리머 ; 폴리에테르에테르케톤계 폴리머 ; 폴리페닐렌술파이드계 폴리머 ; 비닐알코올계 폴리머 ; 염화비닐리덴계 폴리머 ; 비닐부티랄계 폴리머 ; 아릴레이트계 폴리머 ; 폴리옥시메틸렌계 폴리머 ; 에폭시계 폴리머 ; 이들 폴리머의 혼합물 등을 들 수 있다.The protective film 4 is preferably one having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture barrier properties, isotropy, etc. The protective film 4 is typically a transparent protective film. Examples of the material of the protective film 4 include polyester polymers such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; Cellulose-based polymers such as diacetylcellulose and triacetylcellulose; (meth)acrylic polymers such as polymethyl methacrylate; Styrene-based polymers such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin); Polycarbonate-based polymer; Olefin-based polymers such as polyethylene, polypropylene, and ethylene/propylene copolymer; Cyclic olefin polymers such as polynorbornene; Vinyl chloride-based polymer; Amide-based polymers such as nylon and aromatic polyamide; Imide-based polymer; Sulfone-based polymer; Polyethersulfone-based polymer; Polyetheretherketone-based polymer; Polyphenylene sulfide-based polymer; Vinyl alcohol-based polymer; Vinylidene chloride-based polymer; Vinyl butyral-based polymer; Arylate-based polymer; Polyoxymethylene-based polymer; Epoxy-based polymer; Mixtures of these polymers, etc. can be mentioned.
보호 필름 (4) 은, 상기 서술한 폴리머 중, 열가소성 수지로서 기능하는 폴리머를 포함하는 것이 바람직하다. 보호 필름 (4) 에 있어서의 열가소성 수지의 함유율은, 바람직하게는 50 중량％ ∼ 100 중량％ 이고, 보다 바람직하게는 50 중량％ ∼ 99 중량％ 이고, 더욱 바람직하게는 60 중량％ ∼ 98 중량％ 이고, 특히 바람직하게는 70 중량％ ∼ 97 중량％ 이다. 보호 필름 (4) 에 있어서의 열가소성 수지의 함유율이 50 중량％ 미만인 경우, 열가소성 수지가 본래 갖는 높은 투명성 등의 기능이 충분히 발현되지 않는 경우가 있다. 보호 필름 (4) 은, 상기 서술한 폴리머 중, 트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 를 주성분으로서 포함하는 것이 바람직하다. TAC 를 포함하는 보호 필름 (4) 은, 파단 강도가 높고, 내크랙성이 우수한 경향이 있다. 이 보호 필름 (4) 은, 비용이 낮은 경향도 있다.It is preferable that the protective film 4 contains a polymer that functions as a thermoplastic resin among the polymers described above. The content of the thermoplastic resin in the protective film (4) is preferably 50% by weight to 100% by weight, more preferably 50% by weight to 99% by weight, and even more preferably 60% by weight to 98% by weight. and is particularly preferably 70% by weight to 97% by weight. When the content of the thermoplastic resin in the protective film 4 is less than 50% by weight, the functions inherent in the thermoplastic resin, such as high transparency, may not be sufficiently expressed. The protective film 4 preferably contains triacetylcellulose (TAC) as a main component among the above-mentioned polymers. The protective film 4 containing TAC tends to have high breaking strength and excellent crack resistance. This protective film 4 also tends to be low in cost.
보호 필름 (4) 은, 일본 공개특허공보 2001-343529호, 국제 공개 01/37007호 등에 기재된 폴리머 필름이어도 된다. 이 폴리머 필름의 재료로서는, 예를 들어, 측사슬에 치환 및/또는 비치환 이미드기를 갖는 열가소성 수지와, 측사슬에 치환 및/또는 비치환 페닐기, 그리고, 니트릴기를 갖는 열가소성 수지를 포함하는 수지 조성물을 들 수 있다. 이 폴리머 필름의 구체예로서는, 이소부틸렌 및 N-메틸말레이미드로 이루어지는 교호 공중합체와 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체를 포함하는 수지 조성물로 형성된 필름을 들 수 있다. 이 필름은, 예를 들어, 수지 조성물을 혼합 압출함으로써 얻어진다. 이 필름은, 위상차가 작고, 광 탄성 계수가 작기 때문에, 편광 필름 (10) 의 변형으로 인한 불균일 등의 문제를 해소할 수 있다. 또한, 이 필름은, 투습도가 작기 때문에, 다습 환경 하에서의 내구성이 우수하다.The protective film (4) may be a polymer film described in Japanese Patent Application Publication No. 2001-343529, International Publication No. 01/37007, etc. Materials for this polymer film include, for example, a thermoplastic resin having a substituted and/or unsubstituted imide group in the side chain, a thermoplastic resin having a substituted and/or unsubstituted phenyl group in the side chain, and a nitrile group. Compositions may be mentioned. Specific examples of this polymer film include a film formed from a resin composition containing an alternating copolymer of isobutylene and N-methylmaleimide and an acrylonitrile-styrene copolymer. This film is obtained, for example, by mixing and extruding a resin composition. Since this film has a small phase difference and a small photoelastic coefficient, problems such as unevenness due to deformation of the polarizing film 10 can be solved. Additionally, because this film has a low moisture permeability, it is excellent in durability in a high humidity environment.
보호 필름 (4) 은, 첨가제를 1 종류 이상 포함하고 있어도 된다. 첨가제로서는, 예를 들어, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 활제, 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 안료, 착색제 등을 들 수 있다.The protective film 4 may contain one or more types of additives. Examples of additives include ultraviolet absorbers, antioxidants, lubricants, plasticizers, mold release agents, discoloration inhibitors, flame retardants, nucleating agents, antistatic agents, pigments, colorants, etc.
보호 필름 (4) 의 투습도는, 특별히 한정되지 않고, 150 g/(m2·day) 를 상회하고 있어도 되며, 300 g/(m2·day) 이상이어도 되고, 500 g/(m2·day) 이상이어도 된다. 본 실시형태의 편광 필름 (10) 에서는, 보호 필름 (4) 의 투습도가 높은 경우에도, 수지층 (2) 에 의해 편광자 (1) 에 포함되는 요오드의 외부로의 투과를 충분히 억제할 수 있다. 보호 필름 (4) 의 투습도의 상한값은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 5000 g/(m2·day) 이고, 1000 g/(m2·day) 여도 된다. 또한, TAC 를 포함하는 보호 필름 (4) 은, 투습도가 높은 경향이 있다.The moisture permeability of the protective film 4 is not particularly limited, and may exceed 150 g/(m 2 ·day), may be 300 g/(m 2 ·day) or more, and may be 500 g/(m 2 ·day). ) may be more than that. In the polarizing film 10 of the present embodiment, even when the moisture permeability of the protective film 4 is high, transmission of iodine contained in the polarizer 1 to the outside can be sufficiently suppressed by the resin layer 2. The upper limit of the moisture permeability of the protective film 4 is not particularly limited, and is, for example, 5000 g/(m 2 ·day), and may be 1000 g/(m 2 ·day). Additionally, the protective film 4 containing TAC tends to have a high moisture permeability.
보호 필름 (4) 의 투습도는, 일본 산업 규격 (JIS) Z0208 의 투습도 시험 (컵법) 에 준하여, 이하의 방법에 의해 측정할 수 있다. 먼저, 보호 필름 (4) 을 직경 60 mm 로 절단하여, 측정 샘플을 준비한다. 다음으로, 약 15 g 의 염화칼슘이 배치된 투습 컵에 측정 샘플을 세팅한다. 이 투습 컵을 온도 40 ℃, 습도 92 ％ RH 로 설정된 항온기에 배치하고, 24 시간 방치함으로써 투습도 시험을 실시한다. 시험 전후에 있어서의 염화칼슘의 중량의 증가량을 측정함으로써, 보호 필름 (4) 의 투습도를 특정할 수 있다.The moisture permeability of the protective film 4 can be measured by the following method in accordance with the moisture permeability test (cup method) of Japanese Industrial Standard (JIS) Z0208. First, the protective film 4 is cut into a diameter of 60 mm to prepare a measurement sample. Next, the measurement sample is set in a moisture-permeable cup in which about 15 g of calcium chloride is placed. A moisture permeability test is performed by placing this moisture permeable cup in a thermostat set at a temperature of 40°C and a humidity of 92% RH and leaving it for 24 hours. By measuring the amount of increase in the weight of calcium chloride before and after the test, the moisture permeability of the protective film 4 can be specified.
또한, 보호 필름 (4) 의 투습도는, 150 g/(m2·day) 이하여도 된다. 이 경우, 편광 필름 (10) 의 내부에 공기 중의 수분이 침입하는 것을 억제할 수 있어, 편광 필름 (10) 의 수분율의 변화를 억제할 수 있다. 이에 따라, 보존 시 등에 있어서, 편광 필름 (10) 의 컬이나 치수 변화의 발생을 억제할 수 있다. 투습도가 낮은 보호 필름 (4) 을 형성하는 재료로서는, 예를 들어, 폴리에스테르계 폴리머, 폴리카보네이트계 폴리머, 아릴레이트계 폴리머, 아미드계 폴리머, 올레핀계 폴리머, 고리형 올레핀계 폴리머, (메트)아크릴계 폴리머, 및 이것들의 혼합물을 들 수 있다.In addition, the moisture permeability of the protective film 4 may be 150 g/(m 2 ·day) or less. In this case, it is possible to suppress moisture in the air from entering the inside of the polarizing film 10, and a change in the moisture content of the polarizing film 10 can be suppressed. Accordingly, it is possible to suppress the occurrence of curl or dimensional change in the polarizing film 10 during storage, etc. Materials forming the protective film 4 with low moisture permeability include, for example, polyester-based polymers, polycarbonate-based polymers, arylate-based polymers, amide-based polymers, olefin-based polymers, cyclic olefin-based polymers, (meth) Acrylic polymers and mixtures thereof can be mentioned.
보호 필름 (4) 의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 강도, 취급성 등의 관점에서, 5 ∼ 100 ㎛ 가 바람직하고, 10 ∼ 60 ㎛ 가 보다 바람직하고, 13 ∼ 40 ㎛ 가 더욱 바람직하다. 보호 필름 (4) 의 두께는, 40 ㎛ 미만이어도 된다.The thickness of the protective film 4 is not particularly limited, but is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 60 μm, and even more preferably 13 to 40 μm from the viewpoint of strength, handleability, etc. The thickness of the protective film 4 may be less than 40 μm.
보호 필름 (4) 의 표면에는, 부재 사이의 밀착성을 향상시키기 위해서, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 접착 용이 처리가 실시되어 있어도 된다. 보호 필름 (4) 의 표면 상에는, 접착 용이층이 배치되어 있어도 된다. 접착 용이층으로는, 수지층 (2) 에 대해서 상기 서술한 것을 사용할 수 있다.The surface of the protective film 4 may be subjected to adhesion facilitation treatment, such as corona treatment or plasma treatment, in order to improve adhesion between members. An easy-adhesion layer may be disposed on the surface of the protective film 4. As the easily adhesion layer, what was described above for the resin layer 2 can be used.
[점착제층][Adhesive layer]
점착제층 (5) 은, 점착제를 포함하는 층이다. 점착제의 재료는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, (메트)아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리아미드, 폴리에테르, 불소계 폴리머, 고무계 폴리머 등을 베이스 폴리머로서 포함하는 것을 사용할 수 있다. 특히, (메트)아크릴계 폴리머를 포함하는 아크릴계 점착제는, 광학적 투명성이 우수하고, 적절한 젖음성, 응집성, 접착성 등의 점착 특성을 가지며, 내후성, 내열성 등이 우수하기 때문에, 점착제층 (5) 의 재료에 적합하다.The adhesive layer 5 is a layer containing an adhesive. The material of the adhesive is not particularly limited, and for example, (meth)acrylic polymer, silicone polymer, polyester, polyurethane, polyamide, polyether, fluorine polymer, rubber polymer, etc. can be used as the base polymer. there is. In particular, an acrylic adhesive containing a (meth)acrylic polymer has excellent optical transparency, has adhesive properties such as appropriate wettability, cohesiveness, and adhesiveness, and is excellent in weather resistance, heat resistance, etc., and is therefore the material of the adhesive layer 5. suitable for
점착제층 (5) 은, 상이한 조성을 갖는 복수 층의 적층체여도 된다. 점착제층 (5) 의 두께는, 사용 목적, 접착력 등에 따라 적절히 정해지고, 예를 들어 1 ∼ 500 ㎛ 이고, 1 ∼ 200 ㎛ 가 바람직하고, 1 ∼ 100 ㎛ 가 보다 바람직하다. 점착제층 (5) 의 두께는, 50 ㎛ 이하여도 된다.The adhesive layer 5 may be a laminate of multiple layers having different compositions. The thickness of the adhesive layer 5 is appropriately determined depending on the purpose of use, adhesive strength, etc., and is, for example, 1 to 500 μm, preferably 1 to 200 μm, and more preferably 1 to 100 μm. The thickness of the adhesive layer 5 may be 50 μm or less.
편광 필름 (10) 이 화상 표시 패널에 첩합되기 전에 있어서, 점착제층 (5) 은, 세퍼레이터와 첩합되어 있어도 된다. 세퍼레이터에 따르면, 점착제층 (5) 의 오염을 방지할 수 있다. 세퍼레이터로서는, 예를 들어, 플라스틱 필름, 고무 시트, 종이, 천, 부직포, 네트, 발포 시트, 금속박 및 이것들의 라미네이트체 등의 박막에 대해서, 필요에 따라, 실리콘계, 장사슬 알킬계, 불소계, 황화몰리브덴 등의 박리제로 코트 처리한 것을 사용할 수 있다.Before the polarizing film 10 is bonded to the image display panel, the adhesive layer 5 may be bonded to the separator. According to the separator, contamination of the adhesive layer 5 can be prevented. As a separator, for example, for thin films such as plastic films, rubber sheets, paper, cloth, non-woven fabrics, nets, foam sheets, metal foils, and laminated materials thereof, silicone-based, long-chain alkyl-based, fluorine-based, and sulfide-based separators can be used as needed. One that has been coated with a release agent such as molybdenum can be used.
[다른 부재][Other absences]
편광 필름 (10) 은, 상기 서술한 부재 이외의 다른 부재를 추가로 구비하고 있어도 된다. 편광 필름 (10) 은, 예를 들어, 수지층 (2) 보다 시인측에 위치하는 투명 기판을 추가로 구비하고 있어도 된다. 투명 기판이 편광 필름 (10) 의 가장 외측에 위치하고 있어도 된다. 투명 기판은, 예를 들어, 유리 또는 폴리머로 구성되어 있다. 투명 기판을 구성하는 폴리머로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리시클로올레핀, 폴리카보네이트 등을 들 수 있다. 유리로 구성된 투명 기판의 두께는, 예를 들어 0.1 mm ∼ 1 mm 이다. 폴리머로 구성된 투명 기판의 두께는, 예를 들어 10 ㎛ ∼ 200 ㎛ 이다.The polarizing film 10 may further include members other than those described above. The polarizing film 10 may further include, for example, a transparent substrate located on the viewing side of the resin layer 2. The transparent substrate may be located on the outermost side of the polarizing film 10. The transparent substrate is made of, for example, glass or polymer. Examples of polymers that constitute the transparent substrate include polyethylene terephthalate, polycycloolefin, and polycarbonate. The thickness of the transparent substrate made of glass is, for example, 0.1 mm to 1 mm. The thickness of the transparent substrate made of polymer is, for example, 10 μm to 200 μm.
투명 기판은, 예를 들어, OCA (optical clear adhesive) 층을 개재하여 수지층 (2) 과 첩합된다. OCA 층으로는, 예를 들어, 점착제층 (5) 에 대해서 상기 서술한 것을 사용할 수 있다. OCA 층의 두께는, 150 ㎛ 이하인 것이 바람직하다.The transparent substrate is bonded to the resin layer 2 through, for example, an OCA (optical clear adhesive) layer. As the OCA layer, for example, those described above for the adhesive layer 5 can be used. The thickness of the OCA layer is preferably 150 μm or less.
편광 필름 (10) 은, 반사판, 반투과판, 위상차 필름, 시야각 보상 필름, 휘도 향상 필름 등의 광학 필름을 추가로 구비하고 있어도 된다. 위상차 필름은, 예를 들어 1/2 파장판, 1/4 파장판 등을 포함한다. 편광 필름 (10) 에 있어서, 위상차 필름은, 편광자 (1) 보다 화상 표시 패널측 (예를 들어, 점착제층 (5) 과 보호 필름 (4) 의 사이) 에 배치되어 있어도 되고, 편광자 (1) 보다 시인측에 배치되어 있어도 된다.The polarizing film 10 may further include an optical film such as a reflector, a transflective plate, a retardation film, a viewing angle compensation film, or a brightness enhancing film. Retardation films include, for example, 1/2 wave plates, 1/4 wave plates, etc. In the polarizing film 10, the retardation film may be disposed closer to the image display panel than the polarizer 1 (for example, between the adhesive layer 5 and the protective film 4), and the retardation film may be disposed closer to the polarizer 1. It may be placed closer to the viewer.
편광 필름 (10) 은, 하드 코트층, 반사 방지층, 스티킹 방지층, 확산층, 안티글레어층 등의 기능층을 추가로 구비하고 있어도 된다. 편광 필름 (10) 에 있어서, 하드 코트층은, 수지층 (2) 보다 시인측에 배치되어 있어도 된다.The polarizing film 10 may further include functional layers such as a hard coat layer, an anti-reflection layer, an anti-sticking layer, a diffusion layer, and an anti-glare layer. In the polarizing film (10), the hard coat layer may be disposed on the viewing side of the resin layer (2).
[편광 필름의 제조 방법][Method for producing polarizing film]
편광 필름 (10) 의 제조 방법은, 예를 들어, 상기 식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값이 4.00 미만인 모노머 M 을 중합시켜, 중합체 P 를 얻는 공정을 포함한다. 상세하게는 편광 필름 (10) 은, 다음 방법에 의해 제조할 수 있다. 먼저, 접착제층 (3) 을 개재하여 편광자 (1) 와 보호 필름 (4) 을 첩합시킨다. 다음으로, 상기 모노머 M 과 중합 개시제를 포함하는 도포액을 준비한다. 중합 개시제는, 전형적으로는 수지층 (2) 에 대해서 상기 서술한 산 발생제이다.The method for producing the polarizing film 10 includes, for example, a step of polymerizing monomer M whose value of y calculated by the above formula (1) is less than 4.00 to obtain polymer P. In detail, the polarizing film 10 can be manufactured by the following method. First, the polarizer 1 and the protective film 4 are bonded together through the adhesive layer 3. Next, prepare a coating solution containing the monomer M and a polymerization initiator. The polymerization initiator is typically the acid generator described above for the resin layer 2.
도포액에 있어서의 중합 개시제의 함유율은, 예를 들어 20 중량％ 이하이고, 바람직하게는 0.01 ∼ 20 중량％ 이고, 보다 바람직하게는 0.05 ∼ 10 중량％ 이고, 0.1 ∼ 5 중량％ 여도 된다.The content of the polymerization initiator in the coating liquid is, for example, 20% by weight or less, preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight, and may be 0.1 to 5% by weight.
다음으로, 도포액을 편광자 (1) 상에 도포한다. 이에 따라, 모노머 M 및 중합 개시제를 포함하는 막 (도막) 을 편광자 (1) 상에 형성할 수 있다. 다음으로, 도막으로부터 수지층 (2) 이 형성되도록 모노머 M 을 중합시킨다. 모노머 M 의 중합은, 공지된 방법으로 실시할 수 있다. 예를 들어, 중합 개시제로서 광산 발생제를 사용하는 경우, 도막에 활성 에너지선을 조사함으로써, 모노머 M 을 중합시킬 수 있다. 활성 에너지선으로는, 예를 들어, 가시광선 및 자외선을 들 수 있다. 본 명세서에서는, 도막에 포함되는 모노머 M 을 중합시킴으로써 제조된 수지층 (2) 을 경화 수지층이라고 부르는 경우가 있다. 다음으로, 보호 필름 (4) 에 점착제층 (5) 을 첩합시킴으로써, 편광 필름 (10) 이 얻어진다.Next, the coating liquid is applied onto the polarizer 1. Accordingly, a film (coating film) containing monomer M and a polymerization initiator can be formed on the polarizer 1. Next, the monomer M is polymerized so that the resin layer 2 is formed from the coating film. Polymerization of monomer M can be performed by a known method. For example, when using a photoacid generator as a polymerization initiator, the monomer M can be polymerized by irradiating an active energy ray to the coating film. Examples of active energy rays include visible rays and ultraviolet rays. In this specification, the resin layer 2 manufactured by polymerizing the monomer M contained in the coating film may be called a cured resin layer. Next, the polarizing film 10 is obtained by bonding the adhesive layer 5 to the protective film 4.
수지층 (2) 은, 다음 방법에 의해 제조해도 된다. 먼저, 모노머 M 을 중합시켜, 중합체 P 를 얻는다. 얻어진 중합체 P 를 용매에 첨가하여, 도포액을 제조한다. 용매로서는, 예를 들어, 중합체 P 를 용해 또는 분산시킬 수 있는 유기 용매를 들 수 있다. 다음으로, 도포액을 편광자 (1) 상에 도포함으로써 도막을 제조한다. 도막을 건조시킴으로써, 수지층 (2) 이 얻어진다.The resin layer 2 may be manufactured by the following method. First, monomer M is polymerized to obtain polymer P. The obtained polymer P is added to a solvent to prepare a coating liquid. Examples of the solvent include organic solvents that can dissolve or disperse polymer P. Next, a coating film is produced by applying the coating liquid onto the polarizer 1. By drying the coating film, the resin layer 2 is obtained.
[편광 필름의 특성][Characteristics of polarizing film]
본 실시형태의 편광 필름 (10) 에서는, 고온 다습 환경 하에 있어서, 편광자 (1) 에 포함되는 요오드의 외부로의 투과가 충분히 억제된다. 즉, 고온 다습 환경 하에 있어서, 편광자 (1) 에 있어서의 요오드의 농도가 거의 변화하지 않는다. 편광자 (1) 에 있어서의 요오드의 농도의 변화는, 예를 들어, 편광 필름 (10) 의 단체 투과율의 변화로부터 판독할 수 있다. 일례로서 점착제층 (5) 을 개재하여 편광 필름 (10) 을 무알칼리 유리에 첩합시킨 상태에서, 편광 필름 (10) 을 65 ℃ 90 ％ RH 의 분위기 하에 8 시간 둔 경우에, 편광 필름 (10) 의 단체 투과율의 변화 ΔY1 은, 예를 들어 4 이하이고, 바람직하게는 3 이하이고, 보다 바람직하게는 2 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.85 이하이고, 특히 바람직하게는 1.5 이하이고, 특히 더 바람직하게는 1 이하이다.In the polarizing film 10 of this embodiment, transmission of the iodine contained in the polarizer 1 to the outside is sufficiently suppressed in a high temperature and high humidity environment. That is, in a high temperature and high humidity environment, the concentration of iodine in the polarizer 1 hardly changes. The change in the concentration of iodine in the polarizer 1 can be read, for example, from the change in the single transmittance of the polarizing film 10. As an example, when the polarizing film 10 is bonded to alkali-free glass through the adhesive layer 5 and left in an atmosphere of 65°C 90% RH for 8 hours, the polarizing film 10 The change in single transmittance ΔY1 is, for example, 4 or less, preferably 3 or less, more preferably 2 or less, further preferably 1.85 or less, particularly preferably 1.5 or less, and even more preferably is 1 or less.
단체 투과율의 변화 ΔY1 은, 구체적으로는 다음 방법에 의해 측정할 수 있다. 먼저, 점착제층 (5) 을 개재하여 편광 필름 (10) 을 무알칼리 유리에 첩합시킴으로써 얻어진 적층체의 단체 투과율 Ts1 을 측정한다. 다음으로, 이 적층체를 65 ℃ 90 ％ RH 의 분위기 하에 8 시간 둔다. 이 분위기 하에 둔 후의 적층체에 대해서, 단체 투과율 Ts2 를 측정한다. 단체 투과율 Ts2 로부터 단체 투과율 Ts1 을 공제한 값을 단체 투과율의 변화 ΔY1 로 간주한다. 또한, 적층체의 단체 투과율은, JIS Z8701-1999 의 2 도 시야 (C 광원) 에 의해 시감도 보정을 행한 Y 값이다. 단체 투과율은, 무라카미 색채 기술 연구소 제조의 DOT-3 등의 시판되는 분광 광도계를 사용하여 측정할 수 있다. 단체 투과율의 측정 파장은, 380 ∼ 700 ㎚ (10 ㎚ 마다) 이다. 무알칼리 유리는, 알칼리 성분 (알칼리 금속 산화물) 을 실질적으로 포함하지 않는 유리이고, 상세하게는 유리에 있어서의 알칼리 성분의 중량 비율이, 예를 들어 1000 ppm 이하이고, 나아가서는 500 ppm 이하이다. 무알칼리 유리는, 예를 들어 판상이고, 0.5 mm 이상의 두께를 갖는다.The change in single transmittance ΔY1 can be specifically measured by the following method. First, the single transmittance Ts1 of the laminated body obtained by bonding the polarizing film 10 to alkali-free glass through the adhesive layer 5 is measured. Next, this laminate is left in an atmosphere of 65°C and 90% RH for 8 hours. For the laminate after being placed under this atmosphere, the single transmittance Ts2 is measured. The value obtained by subtracting the single transmittance Ts1 from the single transmittance Ts2 is regarded as the change in single transmittance ΔY1. In addition, the single transmittance of the laminate is the Y value obtained by performing visibility correction using the 2-degree field of view (C light source) of JIS Z8701-1999. The single transmittance can be measured using a commercially available spectrophotometer such as DOT-3 manufactured by Murakami Color Research Institute. The measurement wavelength of single transmittance is 380 to 700 nm (every 10 nm). Alkali-free glass is glass that does not substantially contain an alkali component (alkali metal oxide), and in detail, the weight ratio of the alkali component in the glass is, for example, 1000 ppm or less, and further 500 ppm or less. Alkali-free glass is, for example, plate-shaped and has a thickness of 0.5 mm or more.
단체 투과율 Ts1 은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 42 ％ ∼ 46 ％ 이고, 바람직하게는 43 ％ 이상이고, 보다 바람직하게는 44 ％ 이상이다. 단체 투과율 Ts2 는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 42 ％ ∼ 48 ％ 이고, 바람직하게는 47 ％ 이하이고, 보다 바람직하게는 46 ％ 이하이다.The single transmittance Ts1 is not particularly limited and is, for example, 42% to 46%, preferably 43% or more, and more preferably 44% or more. The single transmittance Ts2 is not particularly limited and is, for example, 42% to 48%, preferably 47% or less, and more preferably 46% or less.
또한, 점착제층 (5) 을 개재하여 편광 필름 (10) 을 무알칼리 유리에 첩합시킨 상태에서, 편광 필름 (10) 을 65 ℃ 90 ％ RH 의 분위기 하에 24 시간 둔 경우에, 편광 필름 (10) 의 단체 투과율의 변화 ΔY2 는, 예를 들어 20 이하이고, 바람직하게는 10 이하이고, 보다 바람직하게는 5 이하이고, 더욱 바람직하게는 3 이하이고, 특히 바람직하게는 2 이하이다.In addition, when the polarizing film 10 is bonded to alkali-free glass through the adhesive layer 5 and left in an atmosphere of 65°C 90% RH for 24 hours, the polarizing film 10 The change in single transmittance ΔY2 is, for example, 20 or less, preferably 10 or less, more preferably 5 or less, further preferably 3 or less, and especially preferably 2 or less.
단체 투과율의 변화 ΔY2 는, 점착제층 (5) 을 개재하여 편광 필름 (10) 을 무알칼리 유리에 첩합시킴으로써 얻어진 적층체를 65 ℃ 90 ％ RH 의 분위기 하에 24 시간 두는 것을 제외하고, 단체 투과율의 변화 ΔY1 에 대해서 상기 서술한 방법과 동일한 방법에 의해 측정할 수 있다.The change in single transmittance ΔY2 is the change in single transmittance except that the laminate obtained by bonding the polarizing film 10 to alkali-free glass through the adhesive layer 5 is placed in an atmosphere of 65°C and 90% RH for 24 hours. ΔY1 can be measured by the same method as described above.
(편광 필름의 변형예)(Modified example of polarizing film)
도 2 는, 변형예에 관련된 편광 필름 (11) 의 개략 단면도이다. 도 2 에 나타내는 바와 같이, 본 변형예의 편광 필름 (11) 에 있어서, 보호 필름 (4) 은, 수지층 (2) 보다 시인측에 위치하고 있고, 보호 필름 (4), 수지층 (2) 및 편광자 (1) 가 적층 방향으로 이 순서로 나열되어 있다. 편광 필름 (11) 은, 접착제층 (3) 을 구비하지 않는다. 이상을 제외하고, 편광 필름 (11) 의 구조는, 편광 필름 (10) 의 구조와 동일하다. 따라서, 편광 필름 (10) 과 편광 필름 (11) 에서 공통되는 요소에는 동일한 참조 부호를 붙이고, 그것들의 설명을 생략하는 경우가 있다. 즉, 이하의 각 실시형태에 관한 설명은, 기술적으로 모순되지 않는 한, 상호적으로 적용된다. 이하의 각 실시형태는, 기술적으로 모순되지 않는 한, 상호적으로 조합되어도 된다.FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the polarizing film 11 according to a modification. As shown in FIG. 2, in the polarizing film 11 of this modification, the protective film 4 is located on the viewing side rather than the resin layer 2, and the protective film 4, the resin layer 2, and the polarizer (1) are listed in this order in the stacking direction. The polarizing film 11 is not provided with the adhesive layer 3. Except for the above, the structure of the polarizing film 11 is the same as that of the polarizing film 10. Therefore, elements common to the polarizing film 10 and the polarizing film 11 may be given the same reference numerals and their descriptions may be omitted. That is, the description of each embodiment below applies mutually, unless there is a technical conflict. Each of the following embodiments may be combined with each other as long as there is no technical conflict.
수지층 (2) 은, 편광자 (1) 및 보호 필름 (4) 의 각각에 직접 접해 있다. 수지층 (2) 을 개재하여 편광자 (1) 및 보호 필름 (4) 이 첩합되어 있다. 다만, 수지층 (2) 과 편광자 (1) 의 사이, 또는 수지층 (2) 과 보호 필름 (4) 의 사이에는, 접착제층, 접착 용이층 등의 다른 층이 배치되어 있어도 된다. 접착제층 또는 접착 용이층을 개재하여, 이들 부재가 첩합되어 있어도 된다. 접착제층 및 접착 용이층으로는, 편광 필름 (10) 에 대해서 상기 서술한 것을 들 수 있다.The resin layer 2 is in direct contact with each of the polarizer 1 and the protective film 4. The polarizer 1 and the protective film 4 are bonded together through the resin layer 2. However, another layer such as an adhesive layer or an easily bonding layer may be disposed between the resin layer 2 and the polarizer 1 or between the resin layer 2 and the protective film 4. These members may be bonded together through an adhesive layer or an easily bonding layer. Examples of the adhesive layer and the easily bonding layer include those described above for the polarizing film 10.
편광 필름 (11) 은, 보호 필름 (4) 보다 시인측에 위치하는 하드 코트층을 추가로 구비하고 있어도 된다. 하드 코트층이 편광 필름 (11) 의 가장 외측에 위치하고 있어도 된다. 다만, 편광 필름 (11) 이 상기 서술한 투명 기판을 구비하는 경우, 하드 코트층은, 보호 필름 (4) 과 투명 기판의 사이에 위치하고 있어도 된다.The polarizing film 11 may further include a hard coat layer located on a viewing side from the protective film 4. The hard coat layer may be located on the outermost side of the polarizing film 11. However, when the polarizing film 11 is provided with the transparent substrate described above, the hard coat layer may be located between the protective film 4 and the transparent substrate.
편광 필름 (11) 에서는, 보호 필름 (4) 및 수지층 (2) 의 양방이 편광자 (1) 보다 시인측에 위치하고 있다. 이 편광 필름 (11) 에서는, 고온 다습 환경 하에 있어서, 편광자 (1) 에 포함되는 요오드의 외부로의 투과가 보다 억제되는 경향이 있다. 일례로서 점착제층 (5) 을 개재하여 편광 필름 (11) 을 무알칼리 유리에 첩합시킨 상태에서, 편광 필름 (11) 을 85 ℃ 85 ％ RH 의 분위기 하에 120 시간 둔 경우에, 편광 필름 (11) 의 단체 투과율의 변화 ΔY3 은, 예를 들어 2 이하이고, 바람직하게는 1.6 이하이고, 보다 바람직하게는 1.5 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.3 이하이고, 1.2 이하여도 되고, 1 이하여도 된다.In the polarizing film 11, both the protective film 4 and the resin layer 2 are located on the viewing side of the polarizer 1. In this polarizing film 11, the transmission of iodine contained in the polarizer 1 to the outside tends to be more suppressed in a high temperature and high humidity environment. As an example, when the polarizing film 11 is bonded to alkali-free glass through the adhesive layer 5 and left in an atmosphere of 85°C and 85% RH for 120 hours, the polarizing film 11 The change in single transmittance ΔY3 is, for example, 2 or less, preferably 1.6 or less, more preferably 1.5 or less, further preferably 1.3 or less, may be 1.2 or less, and may be 1 or less.
단체 투과율의 변화 ΔY3 은, 구체적으로는 다음 방법에 의해 측정할 수 있다. 먼저, 점착제층 (5) 을 개재하여 편광 필름 (11) 을 무알칼리 유리에 첩합시킴으로써 얻어진 적층체의 단체 투과율 Ts3 을 측정한다. 다음으로, 이 적층체를 85 ℃ 85 ％ RH 의 분위기 하에 120 시간 둔다. 이 분위기 하에 둔 후의 적층체에 대해서, 단체 투과율 Ts4 를 측정한다. 단체 투과율 Ts4 로부터 단체 투과율 Ts3 을 공제한 값을 단체 투과율의 변화 ΔY3 으로 간주한다.The change in single transmittance ΔY3 can be specifically measured by the following method. First, the single transmittance Ts3 of the laminate obtained by bonding the polarizing film 11 to alkali-free glass through the adhesive layer 5 is measured. Next, this laminate is left in an atmosphere of 85°C and 85% RH for 120 hours. For the laminate after being placed in this atmosphere, the single transmittance Ts4 is measured. The value obtained by subtracting the group transmittance Ts3 from the group transmittance Ts4 is regarded as the change in group transmittance ΔY3.
단체 투과율 Ts3 은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 42 ％ ∼ 46 ％ 이고, 바람직하게는 43 ％ 이상이고, 보다 바람직하게는 44 ％ 이상이다. 단체 투과율 Ts4 는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 42 ％ ∼ 48 ％ 이고, 바람직하게는 47 ％ 이하이고, 보다 바람직하게는 46 ％ 이하이다.The single transmittance Ts3 is not particularly limited and is, for example, 42% to 46%, preferably 43% or more, and more preferably 44% or more. The single transmittance Ts4 is not particularly limited and is, for example, 42% to 48%, preferably 47% or less, and more preferably 46% or less.
또한, 점착제층 (5) 을 개재하여 편광 필름 (11) 을 무알칼리 유리에 첩합시킨 상태에서, 편광 필름 (11) 을 85 ℃ 85 ％ RH 의 분위기 하에 240 시간 둔 경우에, 편광 필름 (11) 의 단체 투과율의 변화 ΔY4 는, 예를 들어 1.6 이하이고, 바람직하게는 1.5 이하이고, 보다 바람직하게는 1.4 이하이고, 더욱 바람직하게는 1.3 이하이고, 특히 바람직하게는 1.2 이하이다.Moreover, when the polarizing film 11 is left in an atmosphere of 85°C and 85% RH for 240 hours in a state where the polarizing film 11 is bonded to alkali-free glass through the adhesive layer 5, the polarizing film 11 The change in single transmittance ΔY4 is, for example, 1.6 or less, preferably 1.5 or less, more preferably 1.4 or less, further preferably 1.3 or less, and particularly preferably 1.2 or less.
단체 투과율의 변화 ΔY4 는, 점착제층 (5) 을 개재하여 편광 필름 (11) 을 무알칼리 유리에 첩합시킴으로써 얻어진 적층체를 85 ℃ 85 ％ RH 의 분위기 하에 240 시간 두는 것을 제외하고, 단체 투과율의 변화 ΔY3 에 대해서 상기 서술한 방법과 동일한 방법에 의해 측정할 수 있다.The change in single transmittance ΔY4 is the change in single transmittance except that the laminate obtained by bonding the polarizing film 11 to alkali-free glass through the adhesive layer 5 is placed in an atmosphere of 85°C and 85% RH for 240 hours. ΔY3 can be measured by the same method as described above.
(편광 필름의 다른 변형예)(Other variations of polarizing film)
편광 필름 (10) 에 있어서, 수지층 (2) 은, 편광자 (1) 보다 후술하는 화상 표시 패널측에 위치하고 있어도 된다. 도 3 에 나타내는 바와 같이, 본 변형예에 관련된 편광 필름 (12) 에 있어서, 수지층 (2) 은, 편광자 (1) 보다 화상 표시 패널측에 위치한다. 수지층 (2) 의 위치를 제외하고, 편광 필름 (12) 의 구조는, 편광 필름 (10) 의 구조와 동일하다.In the polarizing film 10, the resin layer 2 may be located closer to the image display panel described later than the polarizer 1. As shown in FIG. 3, in the polarizing film 12 according to this modification, the resin layer 2 is located closer to the image display panel than the polarizer 1. Except for the position of the resin layer 2, the structure of the polarizing film 12 is the same as that of the polarizing film 10.
수지층 (2) 은, 예를 들어, 편광자 (1) 와 접착제층 (3) 의 사이에 위치하고, 편광자 (1) 및 접착제층 (3) 의 각각에 직접 접해 있다. 다만, 수지층 (2) 과 편광자 (1) 의 사이에는, 접착제층, 접착 용이층 등의 다른 층이 배치되어 있어도 된다. 예를 들어, 수지층 (2) 은, 접착제층 또는 접착 용이층을 개재하여 편광자 (1) 에 첩합되어 있어도 된다. 수지층 (2) 을 편광자 (1) 에 첩합시키기 위한 접착제층 및 접착 용이층으로는, 편광 필름 (10) 에 대해서 상기 서술한 것을 들 수 있다. 수지층 (2) 이 편광자 (1) 보다 화상 표시 패널측에 위치하는 경우, 고온 다습 환경 하에 있어서, 편광자 (1) 에 포함되는 요오드가, 점착제층 (5) 으로 이동하고, 점착제층 (5) 을 통해서 편광 필름 (12) 의 외부로 투과되는 것을 억제할 수 있다.The resin layer 2 is, for example, located between the polarizer 1 and the adhesive layer 3, and is in direct contact with each of the polarizer 1 and the adhesive layer 3. However, other layers such as an adhesive layer or an easily bonding layer may be disposed between the resin layer 2 and the polarizer 1. For example, the resin layer 2 may be bonded to the polarizer 1 through an adhesive layer or an easily bonding layer. Examples of the adhesive layer and easy-bonding layer for bonding the resin layer 2 to the polarizer 1 include those described above for the polarizing film 10. When the resin layer 2 is located closer to the image display panel than the polarizer 1, in a high temperature and high humidity environment, iodine contained in the polarizer 1 moves to the adhesive layer 5, and the adhesive layer 5 Transmission to the outside of the polarizing film 12 can be suppressed through this.
(편광 필름의 또 다른 변형예)(Another variation of polarizing film)
편광 필름 (10) 은, 상기 서술한 부재 이외의 다른 부재를 추가로 구비하고 있어도 된다. 도 4 에 나타내는 바와 같이, 본 변형예에 관련된 편광 필름 (13) 은, 상기 서술한 보호 필름 (제 1 보호 필름) (4) 과 함께, 보호 필름 (제 2 보호 필름) (6) 을 추가로 가지고 있다. 제 2 보호 필름 (6) 을 제외하고, 편광 필름 (13) 의 구조는, 편광 필름 (10) 의 구조와 동일하다.The polarizing film 10 may further include members other than those described above. As shown in FIG. 4, the polarizing film 13 according to the present modification further includes a protective film (second protective film) 6 in addition to the protective film (first protective film) 4 described above. Have. Except for the second protective film 6, the structure of the polarizing film 13 is the same as that of the polarizing film 10.
제 2 보호 필름 (6) 은, 편광자 (1) 보다 시인측에 위치한다. 편광자 (1) 는, 예를 들어 제 1 보호 필름 (4) 과 제 2 보호 필름 (6) 의 사이에 위치한다. 제 2 보호 필름 (6) 은, 예를 들어 수지층 (2) 보다 시인측이고, 또한 편광 필름 (13) 의 가장 외측에 위치하고 있다. 다만, 편광 필름 (13) 이 상기 서술한 투명 기판을 구비하는 경우, 제 2 보호 필름 (6) 은, 수지층 (2) 과 투명 기판의 사이에 위치하고 있어도 된다. 제 2 보호 필름 (6) 은, 예를 들어 수지층 (2) 에 직접 접해 있다. 다만, 제 2 보호 필름 (6) 은, 접착제층, 하드 코트층 등의 다른 층을 개재하여, 수지층 (2) 에 첩합되어 있어도 된다. 제 2 보호 필름 (6) 을 수지층 (2) 에 첩합시키기 위한 접착제층으로는, 예를 들어 접착제층 (3) 에 대해서 상기 서술한 것을 들 수 있다.The second protective film 6 is located on the viewing side of the polarizer 1. The polarizer 1 is positioned between the first protective film 4 and the second protective film 6, for example. The second protective film 6 is, for example, on the viewing side of the resin layer 2 and is located on the outermost side of the polarizing film 13. However, when the polarizing film 13 is provided with the transparent substrate described above, the second protective film 6 may be positioned between the resin layer 2 and the transparent substrate. The second protective film 6 is in direct contact with the resin layer 2, for example. However, the second protective film 6 may be bonded to the resin layer 2 through another layer such as an adhesive layer or a hard coat layer. Examples of the adhesive layer for bonding the second protective film 6 to the resin layer 2 include those described above for the adhesive layer 3.
제 2 보호 필름 (6) 으로는, 제 1 보호 필름 (4) 에 대해서 상기 서술한 것을 사용할 수 있다. 제 1 보호 필름 (4) 및 제 2 보호 필름 (6) 은, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.As the second protective film 6, those described above for the first protective film 4 can be used. The first protective film 4 and the second protective film 6 may be the same or different from each other.
(편광 필름의 또 다른 변형예)(Another variation of polarizing film)
편광 필름 (10) 은, 2 개 이상의 수지층 (2) 을 구비하고 있어도 된다. 도 5 에 나타내는 바와 같이, 본 변형예에 관련된 편광 필름 (14) 은, 2 개의 수지층 (2a 및 2b) 을 구비하고 있다. 수지층 (2b) 을 제외하고, 편광 필름 (14) 의 구조는, 편광 필름 (10) 의 구조와 동일하다.The polarizing film 10 may be provided with two or more resin layers 2. As shown in FIG. 5 , the polarizing film 14 according to this modification is provided with two resin layers 2a and 2b. Except for the resin layer 2b, the structure of the polarizing film 14 is the same as that of the polarizing film 10.
편광 필름 (14) 에 있어서, 편광자 (1) 는, 2 개의 수지층 (2a 및 2b) 의 사이에 위치한다. 상세하게는 수지층 (2b) 은, 편광자 (1) 보다 화상 표시 패널측 (예를 들어, 편광자 (1) 와 접착제층 (3) 의 사이) 에 위치한다. 2 개의 수지층 (2a 및 2b) 의 사이에 편광자 (1) 가 배치되어 있는 경우, 편광 필름 (14) 에 있어서, 편광자 (1) 에 포함되는 요오드의 외부로의 투과가 보다 억제되는 경향이 있다.In the polarizing film 14, the polarizer 1 is located between two resin layers 2a and 2b. In detail, the resin layer 2b is located closer to the image display panel than the polarizer 1 (for example, between the polarizer 1 and the adhesive layer 3). When the polarizer 1 is disposed between the two resin layers 2a and 2b, in the polarizing film 14, the transmission of iodine contained in the polarizer 1 to the outside tends to be more suppressed. .
수지층 (2b) 은, 편광자 (1) 에 직접 접해 있어도 된다. 다만, 수지층 (2b) 과 편광자 (1) 의 사이에는, 접착제층, 접착 용이층 등의 다른 층이 배치되어 있어도 된다. 예를 들어, 수지층 (2b) 은, 접착제층 또는 접착 용이층을 개재하여 편광자 (1) 에 첩합되어 있어도 된다. 수지층 (2b) 을 편광자 (1) 에 첩합시키기 위한 접착제층 및 접착 용이층으로는, 편광 필름 (10) 에 대해서 상기 서술한 것을 들 수 있다.The resin layer 2b may be in direct contact with the polarizer 1. However, other layers such as an adhesive layer or an easily bonding layer may be disposed between the resin layer 2b and the polarizer 1. For example, the resin layer 2b may be bonded to the polarizer 1 through an adhesive layer or an easily bonding layer. Examples of the adhesive layer and the easily bonding layer for bonding the resin layer 2b to the polarizer 1 include those described above for the polarizing film 10.
(화상 표시 장치의 실시형태)(Embodiment of image display device)
도 6 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 화상 표시 장치 (100) 는, 편광 필름 (10) 및 화상 표시 패널 (20) 을 구비한다. 화상 표시 장치 (100) 에서는, 편광 필름 (10) 대신에 편광 필름 (11, 12, 13 또는 14) 도 사용 가능하다. 화상 표시 장치 (100) 에 있어서, 편광 필름 (10) 은, 예를 들어 점착제층 (5) 을 개재하여 화상 표시 패널 (20) 에 첩합되어 있다. 화상 표시 패널 (20) 로서는, 유기 EL 표시 패널, 액정 표시 패널 등을 들 수 있고, 바람직하게는 유기 EL 표시 패널이다.As shown in FIG. 6 , the image display device 100 of this embodiment includes a polarizing film 10 and an image display panel 20. In the image display device 100, a polarizing film 11, 12, 13, or 14 can also be used instead of the polarizing film 10. In the image display device 100, the polarizing film 10 is bonded to the image display panel 20 through, for example, an adhesive layer 5. Examples of the image display panel 20 include an organic EL display panel and a liquid crystal display panel, and an organic EL display panel is preferred.
화상 표시 장치 (100) 는, 예를 들어 조명 시스템 (도시하지 않음) 을 추가로 구비한다. 일례로서, 편광 필름 (10), 화상 표시 패널 (20) 및 조명 시스템이 이 순서로 나열되어 있으며, 편광 필름 (10) 이 가장 시인측에 위치한다. 조명 시스템은, 예를 들어 백라이트 또는 반사판을 가지며, 화상 표시 패널 (20) 에 광을 조사한다.The image display device 100 is further equipped with, for example, an illumination system (not shown). As an example, the polarizing film 10, the image display panel 20, and the lighting system are arranged in this order, with the polarizing film 10 positioned most on the viewing side. The lighting system has, for example, a backlight or a reflector and irradiates light to the image display panel 20.
실시예Example
이하, 실시예에 의해, 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명은, 이하에 나타내는 실시예에 한정되지 않는다.Hereinafter, the present invention will be explained in more detail through examples. The present invention is not limited to the examples shown below.
[실시예 1][Example 1]
(편광 필름 A 의 제조)(Manufacture of polarizing film A)
＜박형 편광자＞＜Thin polarizer＞
먼저, 비정성 폴리에틸렌테레프탈레이트 (PET) 기재에, 두께 9 ㎛ 의 PVA 층이 제막된 적층체를 준비하였다. 이 적층체에 대해서, 연신 온도 130 ℃ 에서 공중 보조 연신을 실시함으로써 연신 적층체를 제조하였다. 다음으로, 요오드를 사용하여, 연신 적층체를 염색하여, 착색 적층체를 얻었다. 또한, 착색 적층체에 대해서, 붕산 수용액 중, 연신 온도 65 도에서 연신함으로써, 비정성 PET 기재와 PVA 층이 일체로 연신된 적층체 a 를 얻었다. 적층체 a 에 있어서, 총연신 배율은 5.94 배이고, PVA 층의 두께는 5 ㎛ 였다. 상기 2 단 연신에 의해, 비정성 PET 기재에 제막된 PVA 층의 PVA 분자는, 고차로 배향되었다. 또한, 염색에 의해 흡착된 요오드는, 폴리요오드 이온 착물로서 한 방향으로 고차로 배향되었다. 적층체 a 에 포함되는 PVA 층은, 박형 편광자로서 기능하였다.First, a laminate was prepared in which a PVA layer with a thickness of 9 μm was formed on an amorphous polyethylene terephthalate (PET) substrate. About this laminated body, a stretched laminated body was manufactured by performing air-assisted stretching at a stretching temperature of 130°C. Next, the stretched laminate was dyed using iodine to obtain a colored laminate. Additionally, the colored laminate was stretched in an aqueous boric acid solution at a stretching temperature of 65 degrees to obtain a laminate a in which the amorphous PET base material and the PVA layer were stretched integrally. In laminate a, the total stretch ratio was 5.94 times, and the thickness of the PVA layer was 5 μm. By the above two-step stretching, the PVA molecules of the PVA layer formed on the amorphous PET substrate were oriented to a high degree. Additionally, the iodine adsorbed by dyeing was highly oriented in one direction as a polyiodine ion complex. The PVA layer contained in the laminate a functioned as a thin polarizer.
＜투명 보호 필름＞＜Transparent protective film＞
먼저, 일본 공개특허공보 2010-284840호의 제조예 1 에 기재된 방법에 의해, 이미드화된 메타크릴산메틸-스티렌 공중합체로 구성된 수지 (이미드화 MS 수지) 를 제조하였다. 다음으로, 2 축 혼련기를 사용하여, 이미드화 MS 수지 100 중량부 및 트리아진계 자외선 흡수제 (아데카사 제조, 상품명 : T-712) 0.62 중량부를 220 ℃ 에서 혼합하여, 수지 펠릿을 제조하였다. 얻어진 수지 펠릿은, 100.5 kPa, 100 ℃ 의 환경 하에서 12 시간 건조시켰다. 다음으로, 단축 압출기를 사용하여, 다이스 온도 270 ℃ 에서 T 다이로부터 수지 펠릿을 압출함으로써, 두께 160 ㎛ 의 필름을 제조하였다. 또한, 이 필름에 대해서, 그 반송 방향으로 150 ℃ 의 분위기 하에서 연신하여, 두께를 80 ㎛ 로 조절하였다. 다음으로, 수성 우레탄 수지를 포함하는 접착 용이제를 필름에 도포한 후에, 반송 방향과 직교하는 방향으로 150 ℃ 의 분위기 하에서 필름을 연신함으로써, 두께 40 ㎛ 의 투명 보호 필름 I 를 얻었다. 이 투명 보호 필름 I 의 투습도는, 40 ℃ 92 ％ RH 의 조건 하에서 58 g/(m2·day) 였다.First, a resin (imidized MS resin) composed of imidized methyl methacrylate-styrene copolymer was produced by the method described in Production Example 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2010-284840. Next, using a two-screw kneader, 100 parts by weight of imidized MS resin and 0.62 parts by weight of a triazine-based ultraviolet absorber (manufactured by Adeka, brand name: T-712) were mixed at 220°C to prepare resin pellets. The obtained resin pellets were dried in an environment of 100.5 kPa and 100°C for 12 hours. Next, a film with a thickness of 160 μm was produced by extruding a resin pellet from a T die at a die temperature of 270°C using a single-screw extruder. Additionally, this film was stretched in an atmosphere of 150°C in the conveyance direction, and the thickness was adjusted to 80 μm. Next, after applying an adhesion agent containing a water-based urethane resin to the film, the film was stretched in a 150°C atmosphere in a direction perpendicular to the conveyance direction, thereby obtaining a transparent protective film I with a thickness of 40 μm. The water vapor transmission rate of this transparent protective film I was 58 g/(m 2 ·day) under the conditions of 40°C and 92% RH.
＜활성 에너지선 경화형 접착제 조성물＞＜Active energy ray curable adhesive composition＞
12 중량부의 하이드록시에틸아크릴아미드 (KJ 케미컬즈사 제조, 상품명 : HEAA), 24 중량부의 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트 (토아 합성사 제조, 상품명 : ARONIX M-5700), 12 중량부의 하이드록시피발산네오펜틸글리콜아크릴산 부가물 (쿄에이샤 화학사 제조, 상품명 : 라이트 아크릴레이트 HPP-A), 38 중량부의 1,9-노난디올디아크릴레이트 (쿄에이샤 화학사 제조, 상품명 : 라이트 아크릴레이트 1,9ND-A), 10 중량부의 아크릴 올리고머 (토아 합성사 제조, 상품명 : ARUFON UP-1190), 3 중량부의 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온 (IGM Resins 사 제조, 상품명 : OMNIRAD 907) 및 2 중량부의 2,4-디에틸티오크산톤 (일본 화약사 제조, 상품명 : KAYACURE DETX-S) 를 혼합하고, 3 시간 교반함으로써, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 얻었다.12 parts by weight of hydroxyethyl acrylamide (manufactured by KJ Chemicals, brand name: HEAA), 24 parts by weight of 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate (manufactured by Toa Synthetics, brand name: ARONIX M-5700), 12 parts by weight Hydroxypivalic acid neopentyl glycol acrylic acid adduct (manufactured by Kyoeisha Chemical Company, brand name: Light Acrylate HPP-A), 38 parts by weight of 1,9-nonanediol diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Company, brand name: Light Acrylic) Rate 1,9ND-A), 10 parts by weight of acrylic oligomer (manufactured by Toa Synthetics, brand name: ARUFON UP-1190), 3 parts by weight of 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropane- Activator was activated by mixing 1-one (manufactured by IGM Resins, brand name: OMNIRAD 907) and 2 parts by weight of 2,4-diethylthioxanthone (manufactured by Nippon Chemical Co., brand name: KAYACURE DETX-S) and stirring for 3 hours. An energy ray-curable adhesive composition was obtained.
＜투명 보호 필름, 접착제층 및 박형 편광자를 포함하는 적층체＞<Laminate including a transparent protective film, an adhesive layer, and a thin polarizer>
후지 기계사 제조의 MCD 코터 (셀 형상 : 허니콤, 그라비어 롤 라인 수) : 1000 개/inch, 회전 속도 140 ％/대 라인 속도) 를 사용하여, 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물을 투명 보호 필름 I 의 첩합면에 도공하였다. 얻어진 도막의 두께는 0.7 ㎛ 였다. 다음으로, 롤기를 사용하여, 투명 보호 필름 I 과 PVA 층을 포함하는 적층체 a 를 첩합시켰다. 이 때, 도막과 PVA 층을 접촉시켰다. 롤기의 라인 속도는 25 m/min 였다. 다음으로, 얻어진 적층체에 대해서, 투명 보호 필름측에서부터 활성 에너지선을 조사하였다. 활성 에너지선으로는, 가시광선 조사 장치 (Fusion UV Systems 사 제조 Light HAMMER10) 로부터 출사된 가시광선을 사용하였다. 가시광선 조사 장치의 광원은, 갈륨 봉입 메탈 할라이드 램프였다. 가시광선 조사 장치에서는, 밸브로서 V 밸브를 사용하였다. 가시광선 조사 장치로부터의 출사광의 피크 조도는 1600 ㎽/㎝2 였다. 파장 380 ㎚ ∼ 440 ㎚ 의 범위에 있어서, 가시광선 조사 장치로부터의 출사광의 적산 조사량은 1000 mJ/㎝2 였다. 가시광선 조사 장치로부터의 출사광의 조도는, Solatell 사 제조의 Sola-Check 시스템을 사용하여 측정하였다. 적층체에 활성 에너지선을 조사함으로써, 도막 중의 활성 에너지선 경화형 접착제 조성물이 경화되었다. 다음으로, 이 적층체에 대해서, 70 ℃ 에서 3 분간 열풍 건조를 실시함으로써, 투명 보호 필름 I, 접착제층 및 박형 편광자를 포함하는 적층체 b 를 얻었다.Using an MCD coater manufactured by Fuji Machine Co., Ltd. (Cell shape: honeycomb, number of gravure roll lines: 1000 pieces/inch, rotation speed 140%/line speed), the active energy ray-curable adhesive composition was applied to the transparent protective film I. Coated on the bonded surface. The thickness of the obtained coating film was 0.7 μm. Next, the laminated body a containing the transparent protective film I and the PVA layer was bonded together using a roll machine. At this time, the coating film and the PVA layer were brought into contact. The line speed of the roll machine was 25 m/min. Next, the obtained laminate was irradiated with active energy rays from the transparent protective film side. As the active energy ray, visible ray emitted from a visible ray irradiation device (Light HAMMER10 manufactured by Fusion UV Systems) was used. The light source of the visible light irradiation device was a gallium-encapsulated metal halide lamp. In the visible light irradiation device, a V valve was used as the valve. The peak illuminance of the light emitted from the visible light irradiation device was 1600 mW/cm 2 . In the range of wavelength 380 nm to 440 nm, the cumulative irradiation amount of light emitted from the visible light irradiation device was 1000 mJ/cm 2 . The illuminance of the light emitted from the visible light irradiation device was measured using the Sola-Check system manufactured by Solatell. By irradiating the laminate with active energy rays, the active energy ray-curable adhesive composition in the coating film was cured. Next, this laminated body was dried with hot air at 70°C for 3 minutes to obtain a laminated body b containing transparent protective film I, an adhesive layer, and a thin polarizer.
＜수지층＞＜Resin layer＞
먼저, 60 중량부의 3',6'-비스(옥시란-2-일메톡시)스피로[플루오렌-9,9'-크산텐] (타오카 화학 공업사 제조, 상품명 : TBIS-RXG), 20 중량부의 비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메틸]에테르 (토아 합성사 제조, 상품명 : OXT-221), 20 중량부의 4-t-부틸페닐글리시딜에테르 (나가세 켐텍스사 제조, 상품명 : 데나콜 EX-146), 및 10 중량부의 광산 발생제 (선아프로사 제조, 상품명 : CPI-100P) 를 혼합하고, 25 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써 도포액을 제조하였다.First, 60 parts by weight of 3',6'-bis(oxiran-2-ylmethoxy)spiro[fluorene-9,9'-xanthene] (manufactured by Taoka Chemical Industries, brand name: TBIS-RXG), 20 parts by weight Bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methyl]ether (manufactured by Toa Synthetics, brand name: OXT-221), 20 parts by weight of 4-t-butylphenylglycidyl ether (manufactured by Nagase Chemtex, brand name: Denacol EX-146) and 10 parts by weight of a photoacid generator (manufactured by Sun-Apro, brand name: CPI-100P) were mixed and stirred at 25°C for 1 hour to prepare a coating liquid.
다음으로, 상기 적층체 b 로부터, PVA 층에 인접하고 있는 비정성 PET 기재를 제거하고, 노출된 PVA 층의 표면에 대하여 코로나 처리를 실시하였다. 다음으로, 후지 기계사 제조의 MCD 코터 (셀 형상 : 허니콤, 그라비어 롤 라인 수 : 250 개/inch, 회전 속도 160 ％/대 라인 속도) 를 사용하여, 노출된 PVA 층 상에 상기 도포액을 도공하였다. 얻어진 도막의 두께는 2.0 ㎛ 였다. 다음으로, 롤기를 사용하여, COP 필름 (일본 제온사 제조, 상품명 : ZF14, 두께 : 25 ㎛) 과 PVA 층을 첩합시켰다. 이 때, 도막과 COP 필름을 접촉시켰다. 롤기의 라인 속도는 25 m/min 였다. 다음으로, 얻어진 적층체에 대해서, COP 필름측에서부터 활성 에너지선을 조사하였다. 활성 에너지선으로는, 조사 장치 (Fusion UV Systems 사 제조 Light HAMMER10) 로부터 출사된 자외선을 사용하였다. 조사 장치에서는, 밸브로서 H 밸브를 사용하였다. 조사 장치로부터의 출사광의 피크 조도는 200 ㎽/㎝2 였다. 파장 330 ㎚ ∼ 390 ㎚ 의 범위에 있어서, 조사 장치로부터의 출사광의 적산 조사량은 600 mJ/㎝2 였다. 조사 장치로부터의 출사광의 조도 및 적산 조사량은, EIT 사 제조의 UV 용 방사계 POWER PUCK II 를 사용하여 측정하였다. 적층체에 활성 에너지선을 조사함으로써, 도막 중의 모노머가 중합되었다. 모노머가 중합됨으로써 도막이 경화되었다. 다음으로, 이 적층체에 대해서, 70 ℃ 에서 3 분간 열풍 건조를 실시하고, 그리고 25 ℃ 에서 24 시간 정치 (靜置) 시켰다. 이에 따라, 수지층이 형성되었다. 이 적층체로부터 COP 필름을 박리함으로써, 투명 보호 필름 I, 접착제층, 박형 편광자 및 수지층을 포함하는 적층체 c 를 얻었다.Next, from the laminate b, the amorphous PET substrate adjacent to the PVA layer was removed, and corona treatment was performed on the exposed surface of the PVA layer. Next, using an MCD coater manufactured by Fuji Machinery Co., Ltd. (cell shape: honeycomb, number of gravure roll lines: 250 pieces/inch, rotation speed 160%/unit line speed), the above coating liquid was applied on the exposed PVA layer. Pottery was done. The thickness of the obtained coating film was 2.0 μm. Next, a COP film (manufactured by Zeon Corporation, Japan, brand name: ZF14, thickness: 25 μm) and the PVA layer were bonded together using a roll machine. At this time, the coating film and the COP film were brought into contact. The line speed of the roll machine was 25 m/min. Next, the obtained laminate was irradiated with active energy rays from the COP film side. As the active energy ray, ultraviolet rays emitted from an irradiation device (Light HAMMER10 manufactured by Fusion UV Systems) were used. In the irradiation device, an H valve was used as the valve. The peak illuminance of the light emitted from the irradiation device was 200 mW/cm 2 . In the wavelength range of 330 nm to 390 nm, the cumulative irradiation amount of light emitted from the irradiation device was 600 mJ/cm 2 . The illuminance and integrated irradiation amount of the light emitted from the irradiation device were measured using a UV radiometer POWER PUCK II manufactured by EIT. By irradiating the laminate with active energy rays, the monomer in the coating film was polymerized. The coating film was cured as the monomer polymerized. Next, this laminate was dried with hot air at 70°C for 3 minutes and left to stand at 25°C for 24 hours. Accordingly, a resin layer was formed. By peeling the COP film from this laminate, a laminate c containing transparent protective film I, an adhesive layer, a thin polarizer, and a resin layer was obtained.
다음으로, 투명 보호 필름 I 의 표면에 대하여 코로나 처리를 실시하였다. 이 표면에, 두께 20 ㎛ 의 점착제층을 첩합시켰다. 점착제층은, 아크릴계 점착제로 구성되어 있었다. 이에 따라, 수지층, 편광자, 접착제층, 투명 보호 필름 I 및 점착제층을 이 순서로 구비한 편광 필름 A 를 얻었다.Next, corona treatment was performed on the surface of transparent protective film I. To this surface, an adhesive layer with a thickness of 20 μm was bonded. The adhesive layer was composed of an acrylic adhesive. Accordingly, polarizing film A was obtained including the resin layer, polarizer, adhesive layer, transparent protective film I, and adhesive layer in this order.
(편광 필름 B 의 제조)(Manufacture of polarizing film B)
먼저, 상기 투명 보호 필름 I 의 첩합면에 대하여 코로나 처리를 실시하였다. 다음으로, 후지 기계사 제조의 MCD 코터 (셀 형상 : 허니콤, 그라비어 롤 라인 수 : 250 개/inch, 회전 속도 160 ％/대 라인 속도) 를 사용하여, 투명 보호 필름 I 의 첩합면에 상기 도포액을 도공하였다. 얻어진 도막의 두께는 2.0 ㎛ 였다. 다음으로, 롤기를 사용하여, 투명 보호 필름 I 과 PVA 층을 포함하는 적층체 a 를 첩합시켰다. 이 때, 도막과 PVA 층을 접촉시켰다. 롤기의 라인 속도는 25 m/min 였다. 다음으로, 얻어진 적층체에 대해서, 박형 편광자측에서부터 활성 에너지선을 조사하였다. 활성 에너지선으로는, 편광 필름 A 에 대해서 상기 서술한 자외선을 사용하였다. 적층체에 활성 에너지선을 조사함으로써, 도막 중의 모노머가 중합되었다. 모노머가 중합됨으로써 도막이 경화되었다. 다음으로, 이 적층체에 대해서, 70 ℃ 에서 3 분간 열풍 건조를 실시하고, 그리고 25 ℃ 에서 24 시간 정치시켰다. 이에 따라, 수지층이 형성되고, 투명 보호 필름 I, 수지층 및 박형 편광자를 포함하는 적층체 d 를 얻었다.First, corona treatment was performed on the bonded surface of the transparent protective film I. Next, using an MCD coater manufactured by Fuji Machinery Co., Ltd. (cell shape: honeycomb, number of gravure roll lines: 250 pieces/inch, rotation speed 160%/set line speed), the above-mentioned coating is applied to the bonded surface of the transparent protective film I. The liquid was applied. The thickness of the obtained coating film was 2.0 μm. Next, the laminated body a containing the transparent protective film I and the PVA layer was bonded together using a roll machine. At this time, the coating film and the PVA layer were brought into contact. The line speed of the roll machine was 25 m/min. Next, the obtained laminate was irradiated with active energy rays from the thin polarizer side. As an active energy ray, the ultraviolet rays mentioned above for polarizing film A were used. By irradiating the laminate with active energy rays, the monomer in the coating film was polymerized. The coating film was cured as the monomer polymerized. Next, this laminate was dried with hot air at 70°C for 3 minutes and left to stand at 25°C for 24 hours. Accordingly, a resin layer was formed, and a laminate d containing transparent protective film I, a resin layer, and a thin polarizer was obtained.
다음으로, 얻어진 적층체 d 로부터, PVA 층에 인접하고 있는 비정성 PET 기재를 제거하고, 노출된 PVA 층의 표면에 대하여 코로나 처리를 실시하였다. 이 표면에, 두께 20 ㎛ 의 점착제층을 첩합시켰다. 점착제층은, 아크릴계 점착제로 구성되어 있었다. 이에 따라, 투명 보호 필름 I, 수지층, 편광자 및 점착제층을 이 순서로 구비한 편광 필름 B 를 얻었다.Next, from the obtained laminate d, the amorphous PET substrate adjacent to the PVA layer was removed, and corona treatment was performed on the exposed surface of the PVA layer. To this surface, an adhesive layer with a thickness of 20 μm was bonded. The adhesive layer was composed of an acrylic adhesive. Accordingly, polarizing film B was obtained including transparent protective film I, resin layer, polarizer, and adhesive layer in this order.
(편광 필름 C 의 제조)(Manufacture of polarizing film C)
＜하드 코트층이 부착된 투명 보호 필름＞＜Transparent protective film with hard coat layer＞
먼저, 우레탄아크릴레이트를 주성분으로서 포함하는 자외선 경화형 수지 모노머 또는 올리고머를 아세트산부틸에 용해시킨 용액 (DIC 사 제조, 상품명 : 유니딕 17-806, 고형분 농도 : 80 중량％) 를 준비하였다. 이 용액의 고형분 100 중량부에 대하여, 5 중량부의 광중합 개시제 (BASF 사 제조, 상품명 : IRGACURE907), 및 0.1 중량부의 레벨링제 (DIC 사 제조, 상품명 : GRANDIC PC4100) 를 첨가하였다. 또한, 용액 중의 고형분 농도가 36 중량％ 로 조정되도록, 시클로펜타논과 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 중량비 45：55 로 용액에 첨가하였다. 이에 따라, 하드 코트층을 형성하기 위한 도포액을 제조하였다.First, a solution obtained by dissolving an ultraviolet curable resin monomer or oligomer containing urethane acrylate as a main component in butyl acetate (manufactured by DIC, brand name: Unidic 17-806, solid content concentration: 80% by weight) was prepared. With respect to 100 parts by weight of solid content of this solution, 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (manufactured by BASF, brand name: IRGACURE907) and 0.1 parts by weight of a leveling agent (manufactured by DIC, brand name: GRANDIC PC4100) were added. Additionally, cyclopentanone and propylene glycol monomethyl ether were added to the solution at a weight ratio of 45:55 so that the solid content concentration in the solution was adjusted to 36% by weight. Accordingly, a coating liquid for forming a hard coat layer was prepared.
다음으로, 투명 보호 필름으로서 트리아세틸셀룰로오스 (TAC) 필름 (후지 필름사 제조, 상품명 : TJ25UL, 원료 : 트리아세틸셀룰로오스계 폴리머, 두께 : 25 ㎛, 투습도 : 931 g/(m2·day)) 를 준비하였다. 투명 보호 필름 상에, 하드 코트층을 형성하기 위한 도포액을 도포하고, 도막을 형성하였다. 도막의 두께는, 경화 후의 하드 코트층의 두께가 7 ㎛ 가 되도록 조정하였다. 다음으로, 도막을 90 ℃ 에서 1 분간 건조시키고, 그리고 고압 수은 램프를 사용하여, 적산 광량이 300 mJ/㎝2 의 자외선을 도막에 조사하였다. 이에 따라, 도막이 경화되고, 두께 7 ㎛ 의 하드 코트층 (HC) 이 형성됨으로써, HC 가 부착된 투명 보호 필름 II 를 얻었다. HC 가 부착된 투명 보호 필름 II 의 투습도는, 40 ℃ 92 ％ RH 의 조건 하에서 420 g/(m2·day) 였다.Next, a triacetylcellulose (TAC) film (manufactured by Fujifilm, brand name: TJ25UL, raw material: triacetylcellulose polymer, thickness: 25 ㎛, moisture permeability: 931 g/(m 2 ·day)) was used as a transparent protective film. Ready. On the transparent protective film, a coating liquid for forming a hard coat layer was applied to form a coating film. The thickness of the coating film was adjusted so that the thickness of the hard coat layer after curing was 7 μm. Next, the coating film was dried at 90°C for 1 minute, and then the coating film was irradiated with ultraviolet rays with an accumulated light amount of 300 mJ/cm 2 using a high-pressure mercury lamp. As a result, the coating film was cured and a hard coat layer (HC) with a thickness of 7 μm was formed, thereby obtaining a transparent protective film II with HC attached. The moisture permeability of the transparent protective film II with HC was 420 g/(m 2 ·day) under the conditions of 40°C and 92% RH.
투명 보호 필름 I 대신에 HC 가 부착된 투명 보호 필름 II 를 사용한 것을 제외하고, 편광 필름 B 와 동일한 방법에 의해 편광 필름 C 를 제조하였다. 편광 필름 C 는, 하드 코트층, 투명 보호 필름 (TAC 필름), 수지층, 편광자 및 점착제층을 이 순서로 구비하고 있었다.Polarizing film C was manufactured in the same manner as polarizing film B, except that transparent protective film II with HC attached was used instead of transparent protective film I. Polarizing film C was equipped with a hard coat layer, a transparent protective film (TAC film), a resin layer, a polarizer, and an adhesive layer in this order.
[실시예 2―11, 비교예 1―6][Example 2-11, Comparative Example 1-6]
수지층을 형성하기 위한 도포액에 포함되는 모노머를 표 1 에 기재된 모노머로 변경한 것을 제외하고, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해 실시예 2―11, 비교예 1―6 의 각각에 대해서 편광 필름 A―C 를 제조하였다.Polarizing films were prepared for each of Examples 2-11 and Comparative Examples 1-6 in the same manner as Example 1, except that the monomer contained in the coating liquid for forming the resin layer was changed to the monomer shown in Table 1. A-C were prepared.
＜식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값＞<Value of y calculated by equation (1)>
실시예 및 비교예에서 사용된 수지층을 형성하기 위한 도포액에 포함되는 모노머에 대해서, 상기 서술한 방법에 의해 x1 ∼ x7 의 값을 특정하였다. 또한, 모노머의 한센 용해도 파라미터에 있어서의 분산항 δD (MPa1/2), 및 모노머의 25 ℃ 의 물에 대한 용해도 S (g/100g) 의 상용 대수값 LogS 는, HSPiP (version 5) 를 사용하여 산출하였다. 모노머의 쌍극자 모멘트 등을 산출하기 위한 분자 시뮬레이션은, Materials Studio (BIOVIA 사 제조, ver.8.0.0.843) 및 WebMO (ver.19.0.009e) 를 이용하였다. 또한, x1 ∼ x7 의 값을 사용하여, 식 (1) 에 의해 y 의 값을 산출하였다.For the monomer contained in the coating liquid for forming the resin layer used in the examples and comparative examples, the values of x 1 to x 7 were specified by the method described above. In addition, the dispersion term δD (MPa 1/2 ) in the Hansen solubility parameter of the monomer and the commonly used logarithmic value LogS of the solubility S (g/100g) of the monomer in water at 25°C use HSPiP (version 5). It was calculated. Materials Studio (manufactured by BIOVIA, ver.8.0.0.843) and WebMO (ver.19.0.009e) were used for molecular simulation to calculate the dipole moment of the monomer. Additionally, the value of y was calculated using equation (1) using the values of x 1 to x 7 .
＜단체 투과율의 변화 ΔY1＞＜Change in group transmittance ΔY1＞
실시예 및 비교예의 편광 필름 A 에 대해서, 이하의 방법에 의해 단체 투과율의 변화 ΔY1 을 측정하였다. 먼저, 점착제층을 개재하여 편광 필름 A 를 무알칼리 유리에 첩합시켰다. 얻어진 적층체에 대해서, 단체 투과율 Ts1 을 측정하였다. 단체 투과율 Ts1 은, 적분구가 부착된 분광 투과율 측정기 (무라카미 색채 기술 연구소 제조의 Dot-3c) 를 사용하여 측정하였다. 다음으로, 이 적층체를 65 ℃ 90 ％ RH 의 분위기 하에 8 시간 두었다. 이 분위기 하에 둔 후의 적층체에 대해서, 상기 분광 투과율 측정기를 사용하여, 단체 투과율 Ts2 를 측정하였다. 단체 투과율 Ts2 로부터 단체 투과율 Ts1 을 공제함으로써, 단체 투과율의 변화 ΔY1 을 산출하였다.For the polarizing film A of Examples and Comparative Examples, the change ΔY1 in single transmittance was measured by the following method. First, polarizing film A was bonded to alkali-free glass through an adhesive layer. For the obtained laminate, the single transmittance Ts1 was measured. The single transmittance Ts1 was measured using a spectral transmittance meter equipped with an integrating sphere (Dot-3c manufactured by Murakami Color Research Institute). Next, this laminate was placed in an atmosphere of 65°C and 90% RH for 8 hours. For the laminate after being placed in this atmosphere, the single transmittance Ts2 was measured using the above spectral transmittance meter. By subtracting the single transmittance Ts1 from the single transmittance Ts2, the change in single transmittance ΔY1 was calculated.
＜단체 투과율의 변화 ΔY2＞＜Change in group transmittance ΔY2＞
점착제층을 개재하여 편광 필름 A 를 무알칼리 유리에 첩합시킴으로써 얻어진 적층체를 65 ℃ 90 ％ RH 의 분위기 하에 24 시간 둔 것을 제외하고, 단체 투과율의 변화 ΔY1 에 대해서 상기 서술한 방법과 동일한 방법에 의해, 단체 투과율의 변화 ΔY2 를 측정하였다.The change in single transmittance ΔY1 was performed by the same method as described above, except that the laminate obtained by bonding the polarizing film A to alkali-free glass through an adhesive layer was placed in an atmosphere of 65°C and 90% RH for 24 hours. , the change in single transmittance ΔY2 was measured.
＜단체 투과율의 변화 ΔY3＞＜Change in group transmittance ΔY3＞
실시예 및 비교예의 편광 필름 B 및 C 에 대해서, 이하의 방법에 의해 단체 투과율의 변화 ΔY3 을 측정하였다. 먼저, 점착제층을 개재하여 편광 필름 B 및 C 를 무알칼리 유리에 첩합시켰다. 얻어진 적층체에 대해서, 단체 투과율 Ts3 을 측정하였다. 단체 투과율 Ts3 은, 적분구가 부착된 분광 투과율 측정기 (무라카미 색채 기술 연구소 제조의 Dot-3c) 를 사용하여 측정하였다. 다음으로, 이 적층체를 85 ℃ 85 ％ RH 의 분위기 하에 120 시간 두었다. 이 분위기 하에 둔 후의 적층체에 대해서, 상기 분광 투과율 측정기를 사용하여 단체 투과율 Ts4 를 측정하였다. 단체 투과율 Ts4 로부터 단체 투과율 Ts3 을 공제함으로써, 단체 투과율의 변화 ΔY3 을 산출하였다.For the polarizing films B and C of Examples and Comparative Examples, the change in single transmittance ΔY3 was measured by the following method. First, polarizing films B and C were bonded to alkali-free glass through an adhesive layer. For the obtained laminate, the single transmittance Ts3 was measured. The single transmittance Ts3 was measured using a spectral transmittance meter equipped with an integrating sphere (Dot-3c manufactured by Murakami Color Research Institute). Next, this laminate was placed in an atmosphere of 85°C and 85% RH for 120 hours. For the laminate after being placed in this atmosphere, the single transmittance Ts4 was measured using the above spectral transmittance meter. By subtracting the single transmittance Ts3 from the single transmittance Ts4, the change in single transmittance ΔY3 was calculated.
＜단체 투과율의 변화 ΔY4＞＜Change in group transmittance ΔY4＞
점착제층을 개재하여 편광 필름 B 를 무알칼리 유리에 첩합시킴으로써 얻어진 적층체를 85 ℃ 85 ％ RH 의 분위기 하에 240 시간 둔 것을 제외하고, 단체 투과율의 변화 ΔY3 에 대해서 상기 서술한 방법과 동일한 방법에 의해 단체 투과율의 변화 ΔY4 를 측정하였다.By the same method as the method described above for the change in single transmittance ΔY3, except that the laminate obtained by bonding the polarizing film B to alkali-free glass through an adhesive layer was placed in an atmosphere of 85°C and 85% RH for 240 hours. The change in single transmittance ΔY4 was measured.
＜크랙 평가＞＜Crack evaluation＞
실시예 및 비교예의 편광 필름 B 및 C 에 대해서, 이하의 방법에 의해 히트 쇼크 시험을 실시하였다. 먼저, 편광 필름의 투명 보호 필름 I (또는 HC 가 부착된 투명 보호 필름 II) 의 표면에 점착제층을 첩합시켰다. 다음으로, CO2 레이저 (콤네트사 제조, 제품명 : Laser Pro-SPIRIT) 를 사용하여, 얻어진 적층체를 도 7 에 나타내는 형상으로 재단하여, 측정 샘플 (15) 을 제조하였다. 상세하게는 측정 샘플 (15) 은, 세로 50 mm × 가로 150 mm 의 단책상 (短冊狀) 의 적층체에 대해서, 일방의 장변측으로부터 V 자 형상으로 당해 적층체의 일부를 잘라냄으로써 제조하였다. 이 때, 절단 전의 적층체의 장변과 절단면이 이루는 각도를 14°로 조정하였다. 또한, 단책상의 적층체에 있어서, 흡수축 방향은, 단변이 연장되는 방향에 일치하고 있었다. CO2 레이저의 조사 조건은, 이하와 같았다.A heat shock test was performed on the polarizing films B and C of Examples and Comparative Examples by the following method. First, an adhesive layer was bonded to the surface of transparent protective film I of the polarizing film (or transparent protective film II with attached HC). Next, using a CO 2 laser (manufactured by Comnet, product name: Laser Pro-SPIRIT), the obtained laminate was cut into the shape shown in FIG. 7 to prepare a measurement sample 15. In detail, the measurement sample 15 was manufactured by cutting a part of the laminate in a V shape from one long side of a strip-shaped laminate measuring 50 mm in height and 150 mm in width. At this time, the angle formed between the long side of the laminate before cutting and the cut surface was adjusted to 14°. Additionally, in the single-panel laminate, the direction of the absorption axis coincided with the direction in which the short side extends. The irradiation conditions of CO 2 laser were as follows.
·조사 조건· Investigation conditions
파장 : 10.6 ㎛ Wavelength: 10.6 ㎛
레이저 출력 : 30 WLaser power: 30 W
발진 모드 : 펄스 발진Oscillation mode: pulse oscillation
레이저광의 직경 : 70 ㎛Laser beam diameter: 70 ㎛
레이저 조사면 : 보호 필름측Laser irradiation surface: Protection film side
다음으로, 투명 보호 필름측의 표면에 배치된 점착제층을 사용하여, 측정 샘플 (15) 을 두께 0.5 mm 의 무알칼리 유리에 첩합시켰다. 이 상태에서, 측정 샘플 (15) 에 대하여, －40 ∼ 80 ℃ 의 히트 쇼크를 200 회 부여함으로써, 히트 쇼크 시험을 실시하였다. 각 히트 쇼크는, 30 분간 실시하였다. 상기 히트 쇼크 시험 후에, 측정 샘플 (15) 의 V 자 부분 (도 7 의 영역 A) 에 있어서, 측정 샘플 (15) 을 관통하는 크랙의 발생 유무를 확인하였다. 상기 히트 쇼크 시험을 10 회 반복하여, 크랙이 발생한 경우를 × 로 하고, 크랙이 발생하지 않은 경우를 ○ 으로 하였다.Next, the measurement sample 15 was bonded to alkali-free glass with a thickness of 0.5 mm using the adhesive layer disposed on the surface on the transparent protective film side. In this state, a heat shock test was performed by subjecting the measurement sample 15 to heat shock at -40 to 80°C 200 times. Each heat shock was performed for 30 minutes. After the heat shock test, the presence or absence of cracks penetrating the measurement sample 15 was confirmed in the V-shaped portion (area A in Fig. 7) of the measurement sample 15. The heat shock test was repeated 10 times, and the case where a crack occurred was designated as ×, and the case where a crack did not occur was designated as ○.
제조된 각 편광 필름에 대해서, 평가 결과를 이하의 표 1 에 나타낸다.For each manufactured polarizing film, the evaluation results are shown in Table 1 below.
또한, 표 1 중의 약칭은 이하와 같다.In addition, the abbreviated names in Table 1 are as follows.
TBIS-RXG : 3',6'-비스(옥시란-2-일메톡시)스피로[플루오렌-9,9'-크산텐] (타오카 화학 공업사 제조, 상품명 : TBIS-RXG)TBIS-RXG: 3',6'-bis(oxiran-2-ylmethoxy)spiro[fluorene-9,9'-xanthene] (manufactured by Taoka Chemical Industry, brand name: TBIS-RXG)
OXT-221 : 비스[(3-에틸-3-옥세타닐)메틸]에테르 (토아 합성사 제조, 상품명 : OXT-221)OXT-221: Bis[(3-ethyl-3-oxetanyl)methyl]ether (manufactured by Toa Synthetics, product name: OXT-221)
EX-146 : 4-t-부틸페닐글리시딜에테르 (나가세 켐텍스사 제조, 상품명 : 데나콜 EX-146)EX-146: 4-t-butylphenylglycidyl ether (manufactured by Nagase Chemtex, brand name: Denacol EX-146)
jER-834 : 비스페놀 A 형 에폭시 수지 (에폭시 당량 230 ∼ 270 g/eq, 미츠비시 케미컬사 제조, 상품명 : jER-834)jER-834: Bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent weight 230 to 270 g/eq, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, product name: jER-834)
TBIS-GG : 9,9-비스{4-[2-(옥시란-2-일메톡시)에톡시]페닐}-9H-플루오렌 (타오카 화학 공업사 제조, 상품명 : TBIS-GG)TBIS-GG: 9,9-bis{4-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]phenyl}-9H-fluorene (manufactured by Taoka Chemical Industry Co., Ltd., brand name: TBIS-GG)
THI-DE : 비시클로노나디엔디에폭사이드 (ENEOS 사 제조, 상품명 : THI-DE)THI-DE: Bicyclononadiene diepoxide (manufactured by ENEOS, brand name: THI-DE)
ED-505 : 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르 (ADEKA 사 제조, 상품명 : 아데카 글리실롤 ED-505)ED-505: Trimethylolpropane triglycidyl ether (manufactured by ADEKA, brand name: ADEKA Glysilol ED-505)
EP-4088S : 디시클로펜타디엔형 에폭시 수지 (ADEKA 사 제조, 상품명 : EP-4088S)EP-4088S: Dicyclopentadiene type epoxy resin (manufactured by ADEKA, product name: EP-4088S)
BATG : 2,2-비스(3-글리시딜-4-글리시딜옥시페닐)프로판 (쇼와 덴코사 제조, 상품명 : 쇼프리 BATG)BATG: 2,2-bis(3-glycidyl-4-glycidyloxyphenyl)propane (manufactured by Showa Denko, brand name: Shopuri BATG)
OXBP : 4,4'-(3-에틸옥세탄-3-일메틸옥시메틸)비페닐 (우베 코산사 제조, 상품명 : ETERNACOLL-OXBP)OXBP: 4,4'-(3-ethyloxetan-3-ylmethyloxymethyl)biphenyl (manufactured by Ube Kosan, brand name: ETERNACOLL-OXBP)
DE-102 : 노르보르난 고리를 갖는 에폭시 화합물 (ENEOS 사 제조, 상품명 : DE-102)DE-102: Epoxy compound having a norbornane ring (manufactured by ENEOS, brand name: DE-102)
DE-103 : 트리시클로펜타디엔디에폭사이드 (ENEOS 사 제조, 상품명 : DE-103)DE-103: Tricyclopentadiene diepoxide (manufactured by ENEOS, brand name: DE-103)
ED-523T : 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르 (ADEKA 사 제조, 상품명 : 아데카 글리실롤 ED-523T)ED-523T: Neopentyl glycol diglycidyl ether (manufactured by ADEKA, brand name: ADEKA Glysilol ED-523T)
EX-313 : 글리세롤폴리글리시딜에테르 (나가세 켐텍스사 제조, 상품명 : 데나콜 EX-313)EX-313: Glycerol polyglycidyl ether (manufactured by Nagase Chemtex, brand name: Denacol EX-313)
EX-212 : 1,6-헥산디올디글리시딜에테르 (나가세 켐텍스사 제조, 상품명 : 데나콜 EX-212)EX-212: 1,6-hexanediol diglycidyl ether (manufactured by Nagase Chemtex, brand name: Denacol EX-212)
EX-832 : 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르 (에폭시 당량 284 g/eq, 나가세 켐텍스사 제조, 상품명 : 데나콜 EX-832)EX-832: Polyethylene glycol diglycidyl ether (epoxy equivalent weight 284 g/eq, manufactured by Nagase Chemtex, brand name: Denacol EX-832)
EX-821 : 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르 (에폭시 당량 185 g/eq, 나가세 켐텍스사 제조, 상품명 : 데나콜 EX-821)EX-821: Polyethylene glycol diglycidyl ether (epoxy equivalent weight 185 g/eq, manufactured by Nagase Chemtex, brand name: Denacol EX-821)
표 1 에서 알 수 있는 바와 같이, 식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값이 4.00 미만인 실시예의 편광 필름 A―C 에서는, 각각 비교예의 편광 필름 A―C 와 비교하여, 단체 투과율의 변화 ΔY 가 작고, 고온 다습 환경 하에 있어서의 요오드의 외부로의 투과가 충분히 억제되어 있었다. 또한, 투명 보호 필름으로서 TAC 필름을 구비한 편광 필름 C 는, 편광 필름 B 와 비교하여, 내크랙성이 우수한 경향이 있었다.As can be seen from Table 1, in the polarizing films A-C of the examples where the value of y calculated by equation (1) is less than 4.00, the change in single transmittance ΔY is compared with the polarizing films A-C of the comparative examples, respectively. It was small, and permeation of iodine to the outside was sufficiently suppressed under a high temperature and high humidity environment. Moreover, compared to polarizing film B, polarizing film C equipped with a TAC film as a transparent protective film tended to be excellent in crack resistance.
산업상 이용가능성Industrial applicability
본 발명의 편광 필름은, 예를 들어 휴대 전화, 스마트 폰, 노트북 컴퓨터 등의 모바일용 디스플레이 ; 카 내비게이션 장치용 패널, 클러스터 패널, 미러 디스플레이 등의 차재용 디스플레이에 바람직하게 이용할 수 있다.The polarizing film of the present invention is, for example, mobile displays such as mobile phones, smart phones, and notebook computers; It can be suitably used in in-vehicle displays such as panels for car navigation systems, cluster panels, and mirror displays.
Claims (18)
에폭시기를 포함하는 화합물 A1 에서 유래하는 구조 단위 U1, 및 옥세탄기를 포함하는 화합물 A2 에서 유래하는 구조 단위 U2 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 갖는 중합체를 포함하는 수지층을 구비하고,
하기 식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값이 4.00 미만인, 편광 필름.
y＝(－3.71)x1＋(－3.94)x2＋(0.299)x3＋(0.226)x4＋(－1.05)x5＋(0.517)x6＋(0.769)x7＋71.81 (1)
상기 식 (1) 에 있어서, x1 은, 상기 중합체를 형성하기 위한 모노머의 한센 용해도 파라미터에 있어서의 분산항 δD (MPa1/2) 이고,
x2 는, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머의 쌍극자 모멘트에 있어서의 x 성분 (Debye) 이고,
x3 은, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머와 물 분자의 상호 작용 에너지 (kcal/mol) 이고,
x4 는, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머의 25 ℃ 의 물에 대한 용해도 (g/100g) 의 상용 대수값 LogS 이고,
x5 는, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머의 쌍극자 모멘트 (Debye) 이고,
x6 은, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머의 쌍극자 모멘트에 있어서의 z 성분 (Debye) 이고,
x7 은, 상기 중합체를 형성하기 위한 상기 모노머에 있어서의 수소 결합 억셉터의 수이다.A polarizer containing iodine,
A resin layer comprising a polymer having at least one selected from the group consisting of a structural unit U1 derived from compound A1 containing an epoxy group, and a structural unit U2 derived from compound A2 containing an oxetane group,
A polarizing film in which the value of y calculated by the following formula (1) is less than 4.00.
y＝(-3.71)x 1 ＋(-3.94)x 2 ＋(0.299)x 3 ＋(0.226)x 4 ＋(-1.05)x 5 ＋(0.517)x 6 ＋(0.769)x 7 ＋71.81 ( One)
In the formula (1), x 1 is the dispersion term δD (MPa 1/2 ) in the Hansen solubility parameter of the monomer for forming the polymer,
x 2 is the x component (Debye) in the dipole moment of the monomer to form the polymer,
x 3 is the interaction energy (kcal/mol) of the monomer and water molecules to form the polymer,
x 4 is the common logarithmic value LogS of the solubility (g/100 g) of the monomer in water at 25° C. to form the polymer,
x 5 is the dipole moment (Debye) of the monomer to form the polymer,
x 6 is the z component (Debye) of the dipole moment of the monomer to form the polymer,
x 7 is the number of hydrogen bond acceptors in the monomer for forming the polymer.
상기 y 의 값이 2.30 이하인, 편광 필름.According to claim 1,
A polarizing film wherein the value of y is 2.30 or less.
상기 중합체는, 상기 구조 단위 U1 및 상기 구조 단위 U2 의 양방을 포함하는, 편광 필름.According to claim 1,
The polarizing film in which the polymer contains both the structural unit U1 and the structural unit U2.
상기 중합체에 있어서, 상기 구조 단위 U1 의 함유율과 상기 구조 단위 U2 의 함유율의 합계값이 70 중량％ 이상인, 편광 필름.According to claim 1,
In the polymer, a polarizing film in which the total content of the structural unit U1 and the structural unit U2 is 70% by weight or more.
상기 화합물 A1 은, 에폭시기 이외의 고리 구조를 포함하는, 편광 필름.According to claim 1,
The said compound A1 is a polarizing film containing a ring structure other than an epoxy group.
상기 화합물 A1 은, 지방족 고리 및 방향족 고리로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개를 포함하는, 편광 필름.According to claim 1,
The polarizing film in which the compound A1 contains at least one selected from the group consisting of an aliphatic ring and an aromatic ring.
상기 수지층은, 산 발생제 및/또는 산 발생제의 분해물을 포함하는, 편광 필름.According to claim 1,
A polarizing film in which the resin layer contains an acid generator and/or a decomposition product of the acid generator.
상기 수지층은, 상기 편광자에 직접 접해 있는, 편광 필름.According to claim 1,
The polarizing film in which the resin layer is in direct contact with the polarizer.
상기 수지층의 두께가 3 ㎛ 미만인, 편광 필름.According to claim 1,
A polarizing film wherein the resin layer has a thickness of less than 3 μm.
상기 편광자의 두께가 1 ㎛ 이상 7 ㎛ 미만인, 편광 필름.According to claim 1,
A polarizing film wherein the thickness of the polarizer is 1 ㎛ or more and less than 7 ㎛.
상기 편광자는, 폴리비닐알코올을 주성분으로서 포함하는, 편광 필름.According to claim 1,
A polarizing film in which the polarizer contains polyvinyl alcohol as a main component.
보호 필름을 추가로 구비한, 편광 필름.According to claim 1,
Polarizing film, additionally equipped with a protective film.
상기 보호 필름, 상기 수지층 및 상기 편광자가 적층 방향으로 이 순서로 나열되어 있는, 편광 필름.According to claim 12,
A polarizing film in which the protective film, the resin layer, and the polarizer are arranged in this order in the stacking direction.
상기 보호 필름의 투습도가 300 g/(m2·day) 이상인, 편광 필름.According to claim 12,
A polarizing film wherein the protective film has a moisture permeability of 300 g/(m 2 ·day) or more.
상기 보호 필름이 트리아세틸셀룰로오스를 주성분으로서 포함하는, 편광 필름.According to claim 12,
A polarizing film in which the protective film contains triacetylcellulose as a main component.
상기 보호 필름의 두께가 40 ㎛ 미만인, 편광 필름.According to claim 12,
A polarizing film, wherein the protective film has a thickness of less than 40 μm.
화상 표시 패널을 구비한, 화상 표시 장치.The polarizing film according to any one of claims 1 to 16,
An image display device including an image display panel.
상기 제조 방법은,
하기 식 (1) 에 의해 산출되는 y 의 값이 4.00 미만인 모노머를 중합시켜, 상기 중합체를 얻는 공정을 포함하는, 편광 필름의 제조 방법.
y＝(－3.71)x1＋(－3.94)x2＋(0.299)x3＋(0.226)x4＋(－1.05)x5＋(0.517)x6＋(0.769)x7＋71.81 (1)
상기 식 (1) 에 있어서, x1 은, 상기 모노머의 한센 용해도 파라미터에 있어서의 분산항 δD (MPa1/2) 이고,
x2 는, 상기 모노머의 쌍극자 모멘트에 있어서의 x 성분 (Debye) 이고,
x3 은, 상기 모노머와 물 분자의 상호 작용 에너지 (kcal/mol) 이고,
x4 는, 상기 모노머의 25 ℃ 의 물에 대한 용해도 (g/100g) 의 상용 대수값 LogS 이고,
x5 는, 상기 모노머의 쌍극자 모멘트 (Debye) 이고,
x6 은, 상기 모노머의 쌍극자 모멘트에 있어서의 z 성분 (Debye) 이고,
x7 은, 상기 모노머에 있어서의 수소 결합 억셉터의 수이다.A number containing a polymer having at least one selected from the group consisting of a polarizer containing iodine, a structural unit U1 derived from compound A1 containing an epoxy group, and a structural unit U2 derived from compound A2 containing an oxetane group. A method for producing a polarizing film with a stratum,
The manufacturing method is,
A method for producing a polarizing film, including the step of obtaining the polymer by polymerizing a monomer whose value of y calculated by the following formula (1) is less than 4.00.
y＝(-3.71)x 1 ＋(-3.94)x 2 ＋(0.299)x 3 ＋(0.226)x 4 ＋(-1.05)x 5 ＋(0.517)x 6 ＋(0.769)x 7 ＋71.81 ( One)
In the formula (1), x 1 is the dispersion term δD (MPa 1/2 ) in the Hansen solubility parameter of the monomer,
x 2 is the x component (Debye) in the dipole moment of the monomer,
x 3 is the interaction energy (kcal/mol) between the monomer and water molecules,
x 4 is the common logarithmic value LogS of the solubility (g/100g) of the monomer in water at 25°C,
x 5 is the dipole moment (Debye) of the monomer,
x 6 is the z component (Debye) in the dipole moment of the monomer,
x 7 is the number of hydrogen bond acceptors in the monomer.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021157499 | 2021-09-28 | ||
| JPJP-P-2021-157499 | 2021-09-28 | ||
| PCT/JP2022/031958 WO2023053798A1 (en) | 2021-09-28 | 2022-08-24 | Polarization film, image display device, and method for producing polarization film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20240088752A true KR20240088752A (en) | 2024-06-20 |
Family
ID=85780618
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020247010108A KR20240088752A (en) | 2021-09-28 | 2022-08-24 | Polarizing film, image display device and manufacturing method of polarizing film |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPWO2023053798A1 (en) |
| KR (1) | KR20240088752A (en) |
| CN (1) | CN117999501A (en) |
| TW (1) | TW202313345A (en) |
| WO (1) | WO2023053798A1 (en) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012208250A (en) | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Photocurable adhesive, polarizing plate, and laminated optical member |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101845081B1 (en) * | 2014-11-28 | 2018-04-04 | 삼성에스디아이 주식회사 | Composition for window film, flexible window film prepared using the same and flexible display apparatus comprising the same |
| CN109564318A (en) * | 2016-08-03 | 2019-04-02 | 住友化学株式会社 | Stacked film |
| KR20190035848A (en) * | 2016-08-03 | 2019-04-03 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | Laminated film |
| CN110168035B (en) * | 2017-02-08 | 2022-03-11 | 日东电工株式会社 | Adhesive composition for polarizing film, optical film, and image display device |
| JP7027003B2 (en) * | 2017-09-21 | 2022-03-01 | 日東電工株式会社 | Laminated optical film and its manufacturing method, and image display device |
| JP7219137B2 (en) * | 2019-03-28 | 2023-02-07 | 日東電工株式会社 | Method for manufacturing polarizing film |
| CN114502995A (en) * | 2019-09-30 | 2022-05-13 | 日东电工株式会社 | Polarizing plate with phase difference layer and image display device using same |
| WO2021192615A1 (en) * | 2020-03-27 | 2021-09-30 | 日東電工株式会社 | Polarization film, image display device and polarization film production method |
-
2022
- 2022-08-24 KR KR1020247010108A patent/KR20240088752A/en unknown
- 2022-08-24 CN CN202280063382.5A patent/CN117999501A/en active Pending
- 2022-08-24 WO PCT/JP2022/031958 patent/WO2023053798A1/en active Application Filing
- 2022-08-24 JP JP2023550465A patent/JPWO2023053798A1/ja active Pending
- 2022-08-29 TW TW111132517A patent/TW202313345A/en unknown
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012208250A (en) | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Photocurable adhesive, polarizing plate, and laminated optical member |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPWO2023053798A1 (en) | 2023-04-06 |
| TW202313345A (en) | 2023-04-01 |
| WO2023053798A1 (en) | 2023-04-06 |
| CN117999501A (en) | 2024-05-07 |
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