KR20240064561A - Method of manufacturing a semi-matt decorative part and semi-matt decorative part - Google Patents
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Abstract
본 발명은:
- 800HV 이상의 경도를 갖는 장식부를 조달하는 단계;
- 다이아몬드, 질화붕소, 탄화규소, 알루미나 및/또는 탄화붕소 중 적어도 하나의 재료로 이루어진 연마 분말을 함유하는 드럼에 장식부를 배치하는 단계; 및
0.5m/min 내지 1.5m/min 사이의 평균 속도로 장식부가 움직이도록 드럼을 적어도 3시간 동안 작동하는 단계(300)를 포함하는 반무광 장식부의 제조 방법에 관한 것이다.
반무광 장식부(1)는 부드러운 외관 또는 예를 들어 흰색일 수 있는 밝은 색상의 벨루어 외관을 갖는다. 알려진 무광부보다 더러움이 덜하고 쉽게 청소할 수 있다.The invention:
- Procuring decorative parts with a hardness of 800HV or more;
- placing the decoration on a drum containing an abrasive powder made of at least one material of diamond, boron nitride, silicon carbide, alumina and/or boron carbide; and
It relates to a method of manufacturing a semi-matte decorative part including the step (300) of operating the drum for at least 3 hours to move the decorative part at an average speed between 0.5 m/min and 1.5 m/min.
The semi-matte decoration 1 has a smooth appearance or a light-coloured velor appearance, which can for example be white. It is less dirty than known matte parts and can be cleaned easily.
Description
본 발명은 반무광 장식부의 제조 방법 및 반무광 장식부에 관한 것이다. 본 발명에 따른 반무광 장식부는 시계 및 보석 분야에 제한되지 않고 일반 마이크로 기술 분야, 모바일 또는 휴대용 장치 분야, 차량 분야 또는 반무광 장식부가 물체를 장식하는 데 사용되며 해당 물체를 사용하는 동안 눈에 보이는 기타 모든 분야에서 응용될 수 있다. The present invention relates to a method of manufacturing a semi-matte decoration part and a semi-matte decoration part. The semi-matte decoration according to the invention is not limited to the watch and jewelry field, but also to the general microtechnology field, the mobile or portable device field, the vehicle field, or any other where the semi-matte decoration is used to decorate an object and is visible during use of the object. It can be applied in many fields.
무광택 장식부, 즉 광택이 없고, 반짝거리지 않고/않거나 빛을 반사하지 않는 부품은 널리 알려져 있으며 다양한 물체, 특히 시계 및 보석 분야에서 사용된다.Matte decorations, i.e. parts that are not shiny, do not sparkle and/or do not reflect light, are widely known and are used in a variety of objects, especially in the field of watches and jewelry.
이러한 무광택 장식부의 비제한적인 예에는 손목시계 케이스 및 팔찌 링크가 포함된다.Non-limiting examples of such matte embellishments include wristwatch cases and bracelet links.
무광택 외관은 깊이가 수 ㎛ 정도인 스크래치로 인해 달성된다. 이러한 스크래치에는 먼지가 쌓일 수 있으며 청소하기가 어렵다. 또한, 이 먼지는 장식부의 색상이 밝은 경우(예를 들어, 흰색) 특히 눈에 띈다.The matte appearance is achieved due to scratches of the order of several micrometers in depth. These scratches can collect dust and are difficult to clean. Additionally, this dust is particularly noticeable if the decoration is bright in color (e.g. white).
따라서, 공지된 장식부보다 먼지가 덜 쌓이는 장식부에 대한 필요가 있다.Accordingly, there is a need for a decoration part that accumulates less dust than known decoration parts.
또한, 공지된 장식부보다 더 쉽게 청소할 수 있는 장식부에 대한 필요도 있다.There is also a need for decoration parts that can be cleaned more easily than known decoration parts.
또한, 공지된 장식부와 다른 외관을 갖는 장식부에 대한 필요도 있다.There is also a need for decoration parts having a different appearance from known decoration parts.
본 발명의 한 가지 목적은 공지된 장식부의 제한이 없는 장식부를 제안하는 것이다.One object of the present invention is to propose a decoration part without the limitations of known decoration parts.
본 발명의 또 다른 목적은 공지된 장식부보다 먼지가 덜 쌓이는 장식부를 제안하는 것이다.Another object of the present invention is to propose a decoration part that accumulates less dust than known decoration parts.
본 발명의 또 다른 목적은 공지된 장식부보다 더 쉽게 청소될 수 있는 장식부를 제안하는 것이다.Another object of the present invention is to propose a decoration part that can be cleaned more easily than known decoration parts.
본 발명의 또 다른 목적은 공지된 장식부과 다른 외관을 갖는 장식부를 제안하는 것이다.Another object of the present invention is to propose a decoration part having a different appearance from known decoration parts.
본 발명에 따르면, 이러한 목적은 특히 청구항 1에 따른 반무광 장식부의 제조 방법 및 청구항 8에 따른 장식부에 의해 달성된다.According to the invention, this object is achieved in particular by a method for producing a semi-matte decoration portion according to claim 1 and a decoration portion according to claim 8.
반무광 장식부를 제조하는 본 발명에 따른 방법은:The method according to the invention for producing a semi-matte decorative part is:
- 800HV 이상의 경도를 갖는 장식부를 조달하는 단계;- Procuring decorative parts with a hardness of 800HV or more;
- 다이아몬드, 질화붕소, 탄화규소, 알루미나 및/또는 탄화붕소 중 적어도 하나의 재료로 이루어진 연마 분말을 함유하는 드럼에 장식부를 배치하는 단계; 및- placing the decoration on a drum containing an abrasive powder made of at least one material of diamond, boron nitride, silicon carbide, alumina and/or boron carbide; and
0.5m/min 내지 1.5m/min 사이, 바람직하게는 0.7m/min 내지 0.9m/min 사이, 예를 들어, 0.8m/min의 평균 속도로 장식부가 움직이도록 드럼을 적어도 3시간 동안 작동하는 단계를 포함하고, Operating the drum for at least 3 hours so that the decoration moves at an average speed of between 0.5 m/min and 1.5 m/min, preferably between 0.7 m/min and 0.9 m/min, for example 0.8 m/min. Including,
이로 인해 -1㎛에서 -0.3㎛ 범위의 비대칭(Rsk), 0.1㎛에서 1.5㎛ 범위의 프로파일 높이(Rt), 0.1㎛에서 0.2㎛ 범위의 거칠기를 갖는 표면의 프로파일을 얻을 수 있어 표면을 반무광으로 만든다. This makes it possible to obtain a surface profile with asymmetry (Rsk) in the range of -1㎛ to -0.3㎛, profile height (Rt) in the range of 0.1㎛ to 1.5㎛, and roughness in the range of 0.1㎛ to 0.2㎛, making the surface semi-matte. make it
일 실시예에서, 장식부의 움직임은 한 번에 하나 이상의 방향으로의 움직임, 예를 들어 진동 움직임이다.In one embodiment, the movement of the embellishment is a movement in more than one direction at a time, for example an oscillatory movement.
이러한 맥락에서, "반무광부"라는 표현은 표면이 빛을 부분적으로만 그리고 정반사 방식으로 반사, 주로 빛을 확산적으로 반사(즉, 빛을 다양한 각도로 반사)하고, 부분적으로 빛나며 부분적으로 반짝이는 부분(미러와 같이, 법선과 동일 평면에 대한 입사각과 동일한 각도에서의 반사)을 나타낸다. 시각적인 외관은 매끄럽거나 벨벳 같거나 벨루어와 같다.In this context, the expression "semi-matte" means that a surface reflects light only partially and in a specular manner, mainly reflects light diffusely (i.e. reflects light at various angles), is partially shiny, and partially shiny. represents a portion (like a mirror, a reflection at an angle equal to the angle of incidence with respect to the same plane as the normal). The visual appearance is smooth, velvety, or velor-like.
일 실시예에서, 동일한 재료로 만들어진 연마된 장식부(즉, 매끄러운 표면을 갖는 부품)과 비교하여 본 발명에 따른 장식부로부터의 정반사는 최대 69%까지 감소되고, 동일한 재료로 만들어진 연마된 장식부와 비교하여 본 발명에 따른 장식부로부터의 확산 반사는 100% 이상, 예를 들어 최대 113%까지 증가한다.In one embodiment, specular reflection from a decoration according to the invention is reduced by up to 69% compared to a polished decoration made of the same material (i.e. a part with a smooth surface), and a polished decoration made of the same material. Compared to , the diffuse reflection from the decoration according to the invention increases by more than 100%, for example up to 113%.
이러한 맥락에서, "비대칭"(Rsk) 파라미터는 평가 또는 베이스 길이(예를 들어 250㎛)에 걸쳐 정의된 표면 요소(특히 피크 및 중공) 분포의 비대칭성을 말한다. 이 파라미터는 표면 상태의 형태에 대한 정보를 제공한다. Rsk의 양수 값은 표면 위로 돌출된 피크가 있는 표면에 해당하므로 가장 낮은 지점을 향한 분포 오프셋에 해당하는 반면, 음수 값은 깊은 골(또는 중공)이 있는 고원 표면과 가장 높은 지점을 향한 분포 오프셋에 해당한다.In this context, the “asymmetry” (Rsk) parameter refers to the asymmetry of the distribution of defined surface elements (especially peaks and hollows) over the evaluation or base length (e.g. 250 μm). This parameter provides information about the type of surface state. Positive values of Rsk correspond to surfaces with peaks that protrude above the surface and thus distribution offsets toward the lowest points, while negative values correspond to plateau surfaces with deep valleys (or hollows) and distribution offsets toward the highest points. It applies.
이러한 맥락에서, "프로파일 높이"(Rt) 파라미터는 평가 길이(예를 들어 250㎛)에 걸쳐 가장 깊은 골과 가장 높은 피크 사이의 높이를 말한다. 이 파라미터를 사용하면 프로파일을 로컬로 평가할 수 있다.In this context, the “profile height” (Rt) parameter refers to the height between the deepest valley and the highest peak over the length of assessment (e.g. 250 μm). This parameter allows the profile to be evaluated locally.
이러한 맥락에서, "거칠기"(Ra) 파라미터는 장식부 표면 프로파일의 산술 평균 거칠기를 말한다. 이는 베이스 길이에 걸쳐 정의된다. 이 파라미터를 사용하면 프로파일 거칠기 진폭을 전반적으로 평가할 수 있다.In this context, the “roughness” (Ra) parameter refers to the arithmetic mean roughness of the surface profile of the decoration. It is defined over the base length. This parameter allows a global assessment of the profile roughness amplitude.
따라서 이 해결책은 특정 유형의 연마재, 즉 다이아몬드, 질화붕소, 탄화규소, 알루미나 및/또는 탄화붕소 재료 중 적어도 하나의 연마 분말을 사용하여 텀블링하는 단계를 제공한다.This solution therefore provides for tumbling using an abrasive powder of a specific type, namely at least one of diamond, boron nitride, silicon carbide, alumina and/or boron carbide materials.
이러한 연마 분말은 설령 텀블링 중이더라도 입자가 많이 부서지지 않는 특별한 특성을 갖고 있으며, 이는 이러한 텀블링 단계가 연마 단계로 전환되는 것을 방지할 수 있게 한다. 실제로, 생산되는 장식부는 광택 장식부가 아닌 반무광 장식부이다.This abrasive powder has a special property that the particles do not break up much even during tumbling, which makes it possible to prevent this tumbling step from being converted into a polishing step. In fact, the decorative part produced is a semi-matte decorative part, not a glossy decorative part.
바람직한 실시예에서는 다이아몬드 연마 분말이 사용된다.In a preferred embodiment, diamond abrasive powder is used.
연마 분말, 특히 다이아몬드 연마 분말의 본 발명에 따른 용도는 첫째로 이 분말의 가격 때문에 명확하지 않다. 더욱이, 이 분말, 특히 다이아몬드 분말은 드럼의 품질 저하를 유발할 수 있다. 또한, 이 분말은 종종 오일과 같은 액체에 현탁되어 드럼 청소를 어렵게 만든다.The use of abrasive powders, especially diamond abrasive powders, according to the invention is not clear, firstly because of the price of these powders. Moreover, these powders, especially diamond powders, can cause deterioration of the drum. Additionally, this powder is often suspended in liquids such as oil, making drum cleaning difficult.
본 출원인이 수행한 모든 기대와는 반대로, 본 발명에 따른 연마 분말의 사용이 가능할 뿐만 아니라 알려진 장식부보다 덜 더러워지고 알려진 무광택 장식부보다 더 쉽게 청소할 수 있는 반무광 장식부를 얻는 것도 가능하다는 것이 입증되었다: 사실, 파라미터(Rsk, Rt 및 Ra)에 의해 정의된 구조로 인해, 본 발명에 따른 반무광 장식부는 알려진 무광택 장식부에 비해 덜 더러워지고 설사 더러워지더라도 쉽게 청소할 수 있다. 결과적으로, 본 발명에 따른 반무광 장식부는 또한 밝은 색상, 예를 들어 흰색으로 제조될 수 있다.Contrary to all the expectations made by the applicant, it has been proven that it is not only possible to use the abrasive powders according to the invention, but also to obtain semi-matte decorations that are less dirty than known decorations and are easier to clean than known matte decorations. : In fact, due to the structure defined by the parameters (Rsk, Rt and Ra), the semi-matte decoration according to the present invention is less dirty than the known matte decoration and can be easily cleaned even if it becomes dirty. As a result, the semi-matte decoration according to the invention can also be produced in bright colors, for example white.
이 해결책은 특히 공지된 장식부의 (무광택 또는 밝은) 외관과 다른 부드러운 외관 또는 벨루어와 유사한 외관을 갖는 장식부를 제안하는 선행 기술에 비해 이점을 갖는다.This solution has particular advantages over the prior art, which proposes decorations with a smooth appearance or a velor-like appearance, which differs from the (matte or bright) appearance of known decoration parts.
일 실시예에서, 방법은 드럼으로부터 반무광 장식부를 하적하는 단계를 포함한다.In one embodiment, the method includes unloading the semi-matte decoration from the drum.
일 실시예에서, 방법은 일반적으로 드럼을 하적하는 단계 이후에 드럼을 청소하는 단계를 포함한다.In one embodiment, the method includes cleaning the drum generally after unloading the drum.
일 실시예에서, 방법은 일반적으로 드럼을 하적하는 단계 이후에 반무광 장식부를 세척하는 단계를 포함한다.In one embodiment, the method includes cleaning the semi-matte decoration generally after unloading the drum.
일 실시예에서, 방법은 일반적으로 드럼을 하적하는 단계, 예를 들어 (일반적으로 즉시는 아니지만) 검사 단계 다음에 반무광 장식부를 검사하는 단계를 포함한다.In one embodiment, the method generally includes inspecting the semi-matte decoration following the step of unloading the drum, for example (but generally not immediately) the inspection step.
일 실시예에서, 방법은 일반적으로 드럼을 적재하는 단계에 앞서 장식부를 연마하는 단계를 포함한다. 즉, 본 실시예에서 본 발명에 따른 방법은 이전에 연마된 장식부를 "흐릿하게" 하여 반무광택으로 만드는 것을 가능하게 한다.In one embodiment, the method includes grinding the decoration generally prior to loading the drum. That is, in this embodiment the method according to the invention makes it possible to "blur" the previously polished decoration and make it semi-matte.
일 실시예에서, 연마 분말 입자의 크기(즉, 최대 크기)는 예를 들어 5㎛ 내지 50㎛ 범위, 바람직하게는 10㎛ 내지 30㎛ 범위, 예를 들어 15㎛에서 25㎛ 범위이다.In one embodiment, the size (i.e. maximum size) of the abrasive powder particles is for example in the range of 5 μm to 50 μm, preferably in the range of 10 μm to 30 μm, for example in the range of 15 μm to 25 μm.
일 실시예에서, 연마 분말의 입자는 반드시 모두 동일한 형상일 필요는 없다.In one embodiment, the particles of the abrasive powder are not necessarily all of the same shape.
일 실시예에서, 연마 분말의 입자는 반드시 모두 동일한 크기일 필요는 없다.In one embodiment, the particles of the abrasive powder are not necessarily all the same size.
일 실시예에서 드럼에 사용되는 연마 분말은 액체에 현탁되어 있다.In one embodiment, the abrasive powder used in the drum is suspended in a liquid.
일 실시예에서, 액체는 액체속의중 연마 분말의 현탁을 개선하기 위해 계면활성제, 예를 들어 오일 및/또는 비누를 포함한다.In one embodiment, the liquid includes a surfactant, such as oil and/or soap, to improve suspension of the abrasive powder in the liquid.
일 실시예에서, 방법은 복수의 장식부, 예를 들어 수십, 수백 또는 수천 개의 장식부를 드럼에 배치하는 단계를 포함한다.In one embodiment, the method includes disposing a plurality of decorations, for example tens, hundreds or thousands of decorations, on a drum.
일 실시예에서, 방법은 또한 0.3mm 내지 15mm 범위의 최대 치수를 갖는 장식부 미디어 또는 "칩"을 드럼에 배치하는 단계를 포함한다. 이러한 미디어는 원통 모양이나 기타 적절한 모양일 수 있다. 일 실시예에서, 드럼 내 미디어의 부피는 드럼 내 장식부의 총 부피의 대략 4배이다.In one embodiment, the method also includes placing embellishment media or “chips” on the drum having a maximum dimension ranging from 0.3 mm to 15 mm. Such media may be cylindrical or other suitable shape. In one embodiment, the volume of media within the drum is approximately four times the total volume of decoration within the drum.
일 실시예에서, 장식부는 세라믹, 서멧, 사파이어 및/또는 소결 유리로 만들어진다.In one embodiment, the decoration is made of ceramic, cermet, sapphire and/or sintered glass.
일 실시예에서, 드럼이 본 발명에 따른 방법에 사용되면, 이는 더 이상 다른 다른 공정(예를 들어 연마 등)에 사용될 수 없고 오로지 본 발명에 따른 방법에만 사용된다: 사실, 청구된 연마 분말은 드럼에서 연마하려고 시도할 수 있는 장식부의 표면 상태에 영향을 미치는 드럼 벽의 열화를 유발한다. 한편, 이는 본 발명에 따른 방법을 위해 다시 사용될 수도 있다.In one embodiment, once the drum has been used in the method according to the invention, it can no longer be used for any other process (e.g. polishing, etc.) but is used exclusively for the method according to the invention: in fact, the claimed abrasive powder This causes deterioration of the drum walls which affects the surface condition of any decorations that can be attempted to be polished from the drum. On the other hand, it can also be used again for the method according to the present invention.
일 실시예에서, 드럼은 3시간보다 많은 시간 동안, 예를 들어 5시간 또는 10시간 동안 작동된다.In one embodiment, the drum is operated for more than 3 hours, for example 5 or 10 hours.
본 발명은 또한 표면을 반무광으로 만들기 위해 800 HV 이상의 경도를 갖고 표면에 스크래치가 있으며, -1㎛ 내지 -0.3㎛ 범위의 비대칭성을 갖는 표면 프로파일, 0.1㎛ 내지 1.5㎛ 범위의 프로파일 높이 및 0.1㎛ 내지 0.2㎛ 범위의 거칠기를 가는 장식부에 관한 것이다.The present invention also provides a surface with a hardness of 800 HV or more to make the surface semi-matte, with scratches on the surface, a surface profile with asymmetry in the range of -1 ㎛ to -0.3 ㎛, a profile height in the range of 0.1 ㎛ to 1.5 ㎛ and 0.1 ㎛. It relates to a decorative part having a roughness in the range of 0.2㎛.
일 실시예에서, 장식부는 세라믹, 서멧, 사파이어 및/또는 소결 유리로 만들어진다.In one embodiment, the decoration is made of ceramic, cermet, sapphire and/or sintered glass.
일 실시예에서 표면의 스크래치 방향 분포는 불규칙하다. 즉, 스크래치가 모두 동일한 방향이 아니다. 반대로, 각 스크래치의 방향은 다른 스크래치의 방향과 반드시 일치하지 않고, 이러한 스크래치는 스커핑(scuffing), 충격 또는 침식에 의해 생성된다.In one embodiment, the distribution of scratch directions on the surface is irregular. In other words, the scratches are not all in the same direction. Conversely, the direction of each scratch does not necessarily match the direction of the other scratches, and these scratches are created by scuffing, impact or erosion.
일 실시예에서, 단위 표면적당 스크래치 밀도는 표면 전체에 걸쳐 균일하다. 일 실시예에서, 이 밀도는 측면 길이가 100㎛인 정사각형 표면에 대해 100 내지 400 스크래치 범위이고, 측면 길이가 100㎛인 정사각형 표면에 대해 바람직하게는 180 내지 220 스크래치 범위이다.In one embodiment, the scratch density per unit surface area is uniform across the surface. In one embodiment, this density ranges from 100 to 400 scratches for a square surface with a side length of 100 μm, and preferably ranges from 180 to 220 scratches for a square surface with a side length of 100 μm.
일 실시예에서 스크래치는 골(valley)과 피크(peak)를 정의한다.In one embodiment, scratches define valleys and peaks.
이러한 맥락에서, "피크"라는 용어는 돌기, 즉 한쪽 끝(베이스)이 다른 쪽 끝(자유 단부 또는 팁)보다 큰 양단 사이에 정의된 돌기를 나타낸다. 피크는 피라미드, 원뿔, 잘린 피라미드, 잘린 원뿔 등의 모양일 수 있다.In this context, the term "peak" refers to a protuberance, i.e. a protrusion defined between two ends where one end (the base) is larger than the other end (the free end or tip). The peak may be shaped like a pyramid, cone, truncated pyramid, truncated cone, etc.
피크는 표면, 특히 2개 이상의 표면에 의해 정의되는 골, 즉 중공 또는 개구에 의해 분리될 수 있다. 변형으로, 이러한 표면은 두 개의 연속 피크의 측면 표면이다.Peaks may be separated by surfaces, especially valleys, cavities or openings defined by two or more surfaces. As a variation, these surfaces are the side surfaces of two consecutive peaks.
피크는 반드시 주기적, 즉 규칙적으로 간격을 둘 일 필요는 없으며, 서로 다른 단면, 예를 들어 비제한적으로 역 V자형, 역 U자형 등의 단면을 가질 수 있다. 본 발명은 다양한 모양의 피크를 포함할 수 있다.The peaks do not necessarily have to be periodically, that is, regularly spaced, and may have different cross-sections, for example, but not limited to, an inverted V-shape, an inverted U-shape, etc. The present invention may include peaks of various shapes.
일 실시예에서, 골의 바닥은 본 발명에 따른 반무광 장식부의 실질적으로 일정한 깊이에 위치한다. 그러나, 다양한 깊이의 골도 예상할 수 있다.In one embodiment, the bottom of the valley is located at a substantially constant depth of the semi-matte decoration according to the invention. However, goals of varying depth can also be expected.
일 실시예에서, 골의 깊이와 피크의 높이 사이의 평균 높이는 0.1㎛ 내지 1㎛ 범위이다. 이는 프로파일 요소의 평균 높이가 평가 길이에 걸쳐 정의되는 것을 의미한다. 이 파라미터는 표준 ISO 12085의 파라미터 R에 가깝고 패턴 파라미터로 간주될 수 있다(ISO 25178 참조).In one embodiment, the average height between the depth of the valley and the height of the peak ranges from 0.1 μm to 1 μm. This means that the average height of the profile elements is defined over the evaluation length. This parameter is close to the parameter R of standard ISO 12085 and can be considered a pattern parameter (see ISO 25178).
일 실시예에서, 피크의 높이 및/또는 골의 깊이는 불규칙하다.In one embodiment, the height of the peaks and/or the depth of the troughs are irregular.
바람직한 실시예에서, 스크래치는 모두 실질적으로 직선이거나 직선이다. 다른 실시예에서, 적어도 일부 스크래치는 직선이 아니며, 예를 들어 곡선이다.In a preferred embodiment, the scratches are all substantially straight or straight. In other embodiments, at least some of the scratches are not straight, for example curved.
일 실시예에서, 표면의 스크래치 길이는 1㎛ 내지 70㎛ 범위이다.In one embodiment, the scratch length on the surface ranges from 1 μm to 70 μm.
일 실시예에서, 표면의 스크래치 폭은 1㎛ 내지 5㎛ 범위이다.In one embodiment, the scratch width of the surface ranges from 1 μm to 5 μm.
일 실시예에서, 동일한 재료로 제조된 연마된 장식부와 비교하여 본 발명에 따른 장식부로부터의 정반사는 최대 70%까지 감소되고, 동일한 재료로 제조된 연마된 장식부와 비교하여 본 발명에 따른 장식부로부터의 확산 반사는 100% 이상 증가된다. In one embodiment, specular reflection from a decoration according to the invention is reduced by up to 70% compared to a polished decoration made of the same material, and the specular reflection according to the invention is reduced by up to 70% compared to a polished decoration made of the same material. Diffuse reflection from the decoration is increased by more than 100%.
일 실시예에서, 반무광 장식부는 모노블록 부품, 즉 일체형 부품이다.In one embodiment, the semi-matte decoration is a monoblock part, i.e. a one-piece part.
일 실시예에서, 반무광 장식부는 팔찌(예를 들어 손목시계)의 링크 또는 시계(예를 들어 손목시계) 케이스이다.In one embodiment, the semi-matte embellishment is a link on a bracelet (eg, a wristwatch) or a watch (eg, wristwatch) case.
본 발명은 또한 본 발명에 따른 반무광 장식부를 포함하는 계시기(예를 들어 시계 또는 손목시계) 및 장신구에 관한 것이다.The invention also relates to timepieces (e.g. watches or wristwatches) and accessories comprising semi-matte decoration according to the invention.
본 발명의 내용에 포함됨.Included in the content of the present invention.
첨부된 도면에 의해 예시된 설명으로 본 발명의 실시예를 나타낸다.
도 1은 본 발명에 따른 반무광 장식부의 일 실시예의 사시도이다.
도 2는 도 1의 반무광 장식부 단면의 부분 다이어그램이다.
도 3a는 거칠기 비대칭 파라미터 Rsk가 0인 표면의 프로파일을 도시한다.
도 3b는 양의 거칠기 비대칭 파라미터 Rsk를 갖는 표면의 프로파일을 도시한다.
도 3c는 음의 거칠기 비대칭 파라미터 Rsk를 갖는 표면의 프로파일을 도시한다.
도 4a는 일 실시예에 따른 반무광 장식부의 표면 사시도이다.
도 4b는 샌드블라스팅된 장식부의 표면의 사시도이다.
도 5는 일 실시예에 따른 반무광 장식부의 표면을 위에서 본 도면이다.
도 6a는 일 실시예에 따른 반무광 장식부의 표면을 위에서 본 또 다른 도면이다.
도 6b는 샌드블래스트된 장식부의 표면을 위에서 본 도면이다.
도 7a는 위에는 본 발명에 따른 장식부 및 연마된 장식부에 대한 정반사를 측정하기 위한 시스템과 아래에는 시스템의 비디오 카메라에 의해 보여지는 두 장식부의 위에서 본 모습을 도시한다.
도 7b는 위에는 본 발명에 따른 장식부 및 연마된 장식부에 대한 확산 반사를 측정하기 위한 시스템과, 아래에는 시스템의 비디오 카메라에 의해 보여지는 두 장식부의 위에서 본 모습을 도시한다.
도 8은 반무광 장식부를 제조하는 본 발명의 일 실시예에 따른 방법의 단계를 보여주는 흐름도이다.Embodiments of the present invention are shown in the description illustrated by the accompanying drawings.
Figure 1 is a perspective view of one embodiment of a semi-matte decoration part according to the present invention.
FIG. 2 is a partial diagram of a cross section of the semi-matte decoration portion of FIG. 1.
Figure 3a shows the profile of a surface where the roughness asymmetry parameter Rsk is zero.
Figure 3b shows the profile of a surface with positive roughness asymmetry parameter Rsk.
Figure 3c shows the profile of a surface with negative roughness asymmetry parameter Rsk.
Figure 4a is a perspective view of the surface of a semi-matte decoration portion according to one embodiment.
Figure 4b is a perspective view of the surface of a sandblasted decoration.
Figure 5 is a view from above of the surface of a semi-matte decoration portion according to one embodiment.
Figure 6a is another view of the surface of a semi-matte decoration portion according to an embodiment as seen from above.
Figure 6b is a view from above of the surface of the sandblasted decoration part.
Figure 7a shows, above, a system for measuring specular reflections on a decorated part and a polished decorated part according to the invention and, below, a top view of two decorated parts as viewed by a video camera of the system.
Figure 7b shows, above, a system for measuring diffuse reflections on a decorated part and a polished decorated part according to the invention, and below, a top view of two decorated parts as seen by a video camera of the system.
Figure 8 is a flowchart showing the steps of a method for manufacturing a semi-matte decorative portion according to an embodiment of the present invention.
도 1은 본 발명에 따른 반무광 장식부(1)의 일 실시예의 사시도이다. 도시된 예에서, 장식부(1)는 팔찌의 링크이다. 도 1의 장식부(1)는 제1 표면(10) 및 상기 제1 표면(10) 반대편의 제2 표면(12)을 갖는다. 도시된 실시예에서, 제2 표면(12)은 제1 표면(10)과 평행하다. 도 1의 실시예에서, 반무광 장식부(1)는 모노블록 부품이다.Figure 1 is a perspective view of an embodiment of a semi-matte decoration portion 1 according to the present invention. In the example shown, the decoration 1 is a link of a bracelet. The decoration 1 in FIG. 1 has a first surface 10 and a second surface 12 opposite the first surface 10 . In the depicted embodiment, second surface 12 is parallel to first surface 10. In the embodiment of Figure 1, the semi-matte decoration 1 is a monoblock part.
도 1의 반무광 장식부는 특정 기하학 및 형상을 갖는 링크이지만, 본 발명은 그러한 기하학 또는 형상에 국한되지 않고 임의의 다른 기하학, 형상, 비율 및/또는 치수에도 적용된다.Although the semi-matte decoration in Figure 1 is a link with a specific geometry and shape, the invention is not limited to such geometry or shape but also applies to any other geometry, shape, proportion and/or dimension.
본 발명은 팔찌의 링크에 국한되지 않는다.The invention is not limited to links in bracelets.
본 발명에 따르면, 장식부(1)는 800 HV 이상의 경도를 갖고 표면에 스크래치가 있으며, -1㎛ 내지 -0.3㎛ 범위의 비대칭성, 0.1㎛ 내지 1.5㎛ 범위의 프로파일 높이 및 0.1㎛ - 0.2㎛ 범위의 거칠기를 갖는 표면 프로파일을 가져 표면을 반무광으로 만든다.According to the invention, the decorative part 1 has a hardness of more than 800 HV, scratches on the surface, asymmetry in the range of -1 μm to -0.3 μm, profile height in the range of 0.1 μm to 1.5 μm and 0.1 μm to 0.2 μm. It has a surface profile with a range of roughnesses, making the surface semi-matte.
일 실시예에서, 장식부(1)는 세라믹, 서멧, 사파이어 및/또는 소결 유리로 만들어진다.In one embodiment, the decoration 1 is made of ceramic, cermet, sapphire and/or sintered glass.
도 2는 도 1의 반무광 장식부(1)를 도 1의 A-A선을 따라 취한 부분 단면도이다.FIG. 2 is a partial cross-sectional view of the semi-matte decoration portion 1 of FIG. 1 taken along line A-A of FIG. 1.
장식부(1)의 표면(10)은 골(13)과 피크(11)를 포함한다. 피크(11)는 반드시 주기적일, 즉 규칙적인 간격을 둘 필요가 없으며, 역 V자형, 역 U자형 등의 비제한적인 예시적인 단면들에 의해 다른 단면을 가질 수 있다. 본 발명에 따른 반무광 장식부(1)는 다양한 형태의 피크를 포함할 수 있다.The surface 10 of the decoration 1 includes valleys 13 and peaks 11. The peaks 11 do not necessarily have to be periodic, i.e., at regular intervals, and may have different cross-sections, including non-limiting example cross-sections such as an inverted V-shape, an inverted U-shape, etc. The semi-matte decoration portion 1 according to the present invention may include peaks of various shapes.
도 2의 실시예에서, 피크(11)는 표면에 걸쳐 불규칙하게 분포된다. 즉, 피크(11)는 서로 수직인 선과 컬럼을 포함하는 매트릭스를 형성하도록 배열되지 않는다.In the example of Figure 2, peaks 11 are distributed irregularly over the surface. That is, the peaks 11 are not arranged to form a matrix containing lines and columns perpendicular to each other.
도 2의 실시예에서, 골의 바닥(130)은 본 발명에 따른 반무광 장식부에서 실질적으로 일정한 깊이에 위치한다. 그러나, 다양한 깊이의 골(13)도 동일하게 예상될 수 있다.In the embodiment of Figure 2, the bottom 130 of the valley is located at a substantially constant depth in the semi-matte decoration according to the invention. However, valleys 13 of various depths can equally be expected.
일 실시예에서 중공의 깊이와 피크의 높이 사이의 평균 높이는 0.1㎛ 내지 1㎛ 범위에 있다. 프로파일 요소의 평균 높이는 평가 길이에 걸쳐 정의된다. 이 파라미터는 표준 ISO 12085의 파라미터 R에 가깝고 패턴 파라미터로 간주될 수 있다(ISO 25178 참조).In one embodiment, the average height between the depth of the hollow and the height of the peak is in the range of 0.1 μm to 1 μm. The average height of the profile elements is defined over the evaluation length. This parameter is close to the parameter R of standard ISO 12085 and can be considered a pattern parameter (see ISO 25178).
일 실시예에서, 피크의 높이 및/또는 골의 깊이는 불규칙하다.In one embodiment, the height of the peaks and/or the depth of the troughs are irregular.
도 3a는 산술 평균 거칠기 Rsk가 0인 표면의 프로파일을 도시한다. 도 3b는 양의 산술 평균 거칠기 Rsk를 갖는 표면의 프로파일을 도시한다. 도 3c는 음의 산술 평균 거칠기 Rsk를 갖는 표면의 프로파일을 도시한다.Figure 3a shows the profile of a surface with an arithmetic mean roughness Rsk equal to zero. Figure 3b shows the profile of a surface with positive arithmetic mean roughness Rsk. Figure 3c shows the profile of a surface with negative arithmetic mean roughness Rsk.
본 발명에 따른 반무광 장식부(1)의 비대칭성은 (도 3c에서와 같이) 음수이다.The asymmetry of the semi-matte decoration 1 according to the invention is negative (as in Figure 3c).
더욱이, 출원인에 의해 수행된 테스트는 본 발명에 따른 반무광 장식부(1)의 비대칭성이 -0.3㎛ 내지 -0.15㎛ 범위인 샌드블래스트된 표면의 비대칭성보다 더 뚜렷하다는 것을 입증했고, 이는 더 깊은 골과 낮은 피크에 반영된다.Moreover, tests carried out by the applicant have demonstrated that the asymmetry of the semi-matte decoration 1 according to the invention is more pronounced than the asymmetry of the sandblasted surface, which ranges from -0.3 μm to -0.15 μm, which leads to deeper This is reflected in troughs and low peaks.
출원인에 의해 수행된 테스트는 본 발명에 따른 반무광 장식부(1)의 프로파일의 전체 높이가 2㎛ 내지 3㎛ 범위인 샌드블래스트된 표면의 프로파일보다 작은 것으로 나타났다.Tests carried out by the applicant have shown that the overall height of the profile of the semi-matte decoration 1 according to the invention is smaller than the profile of the sandblasted surface, which is in the range from 2 μm to 3 μm.
출원인에 의해 수행된 테스트는 본 발명에 따른 반무광 장식부(1)의 프로파일의 산술 평균 거칠기가 0.3㎛ 내지 0.5㎛ 범위인 샌드블래스트된 표면의 거칠기보다 작음을 입증했다. Tests carried out by the applicant have demonstrated that the arithmetic mean roughness of the profile of the semi-matte decoration 1 according to the invention is smaller than that of the sandblasted surface, which is in the range from 0.3 μm to 0.5 μm.
일 실시예에서, 본 발명에 따른 반무광 장식부(1)의 골의 깊이와 피크의 높이 사이의 평균 높이는 0.1㎛ 내지 1㎛ 범위이다.In one embodiment, the average height between the depth of the valley and the height of the peak of the semi-matte decoration portion 1 according to the present invention is in the range of 0.1 μm to 1 μm.
출원인에 의해 수행된 테스트는 본 발명에 따른 반무광 장식부(1)의 골 깊이와 피크 높이 사이의 평균 높이가 1.3㎛ 내지 2㎛ 범위인 샌드블래스트 처리된 표면의 평균 높이보다 낮다는 것이 입증되었다. Tests carried out by the applicant have demonstrated that the average height between the valley depth and the peak height of the semi-matte decoration 1 according to the invention is lower than the average height of the sandblasted surface, which ranges from 1.3 μm to 2 μm.
도 4a는 일 실시예에 따른 반무광 장식부의 표면의 사시도이다. 도 4b는 샌드블래스트된 장식부의 표면의 사시도이다. 측정값에 따른 표면 거칠기의 차이가 도 4a와 4b에 도시되어 있다.Figure 4a is a perspective view of the surface of a semi-matte decoration portion according to one embodiment. Figure 4b is a perspective view of the surface of a sandblasted decoration. The difference in surface roughness according to the measured values is shown in Figures 4a and 4b.
도 4b 및 6b와 관련하여 언급된 테스트 동안 고려된 샌드블래스트된 표면은 (커런덤 분말(corundum powder)을 사용한) 샌드블라스팅에 의해 얻어지는 800HV 이상의 경도를 갖는 장식부(특히 도 4a 및 6a의 반무광 장식부와 동일한 재료로 제조된 장식부)의 표면이며, 샌드블라스팅 단계 다음에는 유리 비드를 사용하는 쇼트블라스팅 단계가 이어진다. 이 샌드블래스트 장식부는 무광택 외관을 갖는다.The sandblasted surfaces considered during the tests mentioned in connection with FIGS. 4b and 6b have decorations with a hardness of more than 800 HV, obtained by sandblasting (using corundum powder) (in particular the semi-matte decorations of FIGS. 4a and 6a The surface of the decorative part is manufactured from the same material as, and the sandblasting step is followed by a shotblasting step using glass beads. This sandblasted decoration has a matte appearance.
도 5는 일 실시예에 따른 반무광 장식부(1)의 표면을 위에서 본 도면이다. 장식부(1)의 표면에 대한 연마 분말의 마찰과 관련하여 본 발명에 따른 장식부를 특징짓는 스크래치를 볼 수 있다.Figure 5 is a view from above of the surface of the semi-matte decoration portion 1 according to one embodiment. The scratches that characterize the decoration according to the invention can be seen in connection with the friction of the abrasive powder against the surface of the decoration 1 .
도 5에서 볼 수 있듯이, 일 실시예에서, 표면 위의 스크래치 방향 분포는 불규칙하다. 즉, 모든 스크래치가 동일한 방향이 아니다: 반대로, 각 스크래치의 방향은 반드시 다른 스크래치의 방향과 일치할 필요가 없고, 이러한 스크래치는 스커핑(scuffing), 충격 또는 침식에 의해 생성된다.As can be seen in Figure 5, in one embodiment, the distribution of scratch directions on the surface is irregular. That is, not all scratches are of the same direction: conversely, the direction of each scratch does not necessarily match the direction of other scratches, which are created by scuffing, impact or erosion.
도 5에서 볼 수 있듯이, 일 실시예에서, 단위 표면적당 스크래치 밀도는 표면에 걸쳐 균일하다. 도 5에서 볼 수 있듯이, 일 실시예에서, 이 밀도는 측면 길이가 100㎛인 정사각형 표면에 대해 100 내지 400 스크래치 범위이고, 바람직하게는 측면 길이가 100㎛인 정사각형 표면에 대해 180 내지 220 스크래치 범위이다. As can be seen in Figure 5, in one embodiment, the scratch density per unit surface area is uniform across the surface. As can be seen in Figure 5, in one embodiment, this density ranges from 100 to 400 scratches for a square surface with a side length of 100 μm, preferably from 180 to 220 scratches for a square surface with a side length of 100 μm. am.
바람직한 실시예에서 스크래치는 모두 실질적으로 직선이거나 직선이다. 도 5에서 볼 수 있듯이, 일 실시예에서, 적어도 일부 스크래치는 직선이 아니며, 예를 들어 곡선이다.In a preferred embodiment the scratches are all substantially straight or straight. As can be seen in Figure 5, in one embodiment, at least some of the scratches are not straight, for example curved.
도 5에서 볼 수 있는 바와 같이, 일 실시예에서, 표면의 스크래치 길이는 1㎛ 내지 70㎛ 범위이다.As can be seen in Figure 5, in one embodiment, the scratch length of the surface ranges from 1 μm to 70 μm.
일 실시예에서, 표면의 스크래치 폭은 1㎛ 내지 5㎛ 범위이다.In one embodiment, the scratch width of the surface ranges from 1 μm to 5 μm.
도 6a는 일 실시예에 따른 반무광 장식부(1)의 표면을 위에서 본 또 다른 도면이다. 본 실시예에서, 반무광 장식부(1)는 장식부(1)의 표면 위에 연마 분말을 문지르는 것과 관련된 방법의 특징적인 스크래치를 포함한다. 이러한 스크래치는, 도 6b에서 볼 수 있듯이, 예를 들어, 과립이고 균일한 외관을 갖는 샌드블래스트된 표면에는 없다. 도 7a는 위에는 본 발명에 따른 장식부(1) 및 동일한 재료로 만들어진 연마된 장식부(1')로부터의 정반사를 측정하기 위한 시스템(201)을 도시하고 아래에는 시스템(201)의 비디오 카메라(22)에 의해 본 두 장식부(1, 1')를 위에서 본 모습을 도시한다. Figure 6a is another view of the surface of the semi-matte decoration portion 1 according to one embodiment viewed from above. In this embodiment, the semi-matte decoration 1 includes characteristic scratches from a method involving rubbing an abrasive powder onto the surface of the decoration 1. These scratches are absent, for example, on a sandblasted surface, which has a granular and uniform appearance, as can be seen in Figure 6b. Figure 7a shows, above, a system 201 for measuring specular reflections from a decoration 1 according to the invention and a polished decoration 1' made of the same material, and below, a video camera of the system 201 ( 22) shows the two decorative parts 1 and 1' seen from above.
시스템(201)은 광원(20) 및 비디오 카메라(22)를 포함한다. 비디오 카메라(22)는 장식부(1 또는 1')의 표면에 대한 법선(n)에 대해 장식부(1 또는 1')의 표면 상의 광원(20)으로부터의 광의 입사각(α)과 동일한 각도(α)에 위치된다. System 201 includes a light source 20 and a video camera 22. The video camera 22 is positioned at an angle (α) equal to the angle of incidence (α) of the light from the light source 20 on the surface of the decoration (1 or 1') with respect to the normal n to the surface of the decoration (1 or 1'). It is located at α).
도 7b는 위에는 본 발명에 따른 장식부(1)와 연마된 장식부(1')에 의한 확산 반사를 측정하기 위한 시스템(202)과, 아래에는 시스템(202)의 비디오 카메라(22)로 본 장식부(1, 1')를 위에서 본 모습을 도시한다. Figure 7b shows, above, a system 202 for measuring the diffuse reflection by the decoration 1 and the polished decoration 1' according to the invention, and below, with the video camera 22 of the system 202. The decoration portions 1 and 1' are shown as seen from above.
시스템(201)은 또한 광원(20) 및 비디오 카메라(22)를 포함하지만, 비디오 카메라(22)는 장식부(1, 1')의 표면에 대한 법선(n)에 대해 장식부(1, 1')의 표면 상의 광원(20)으로부터의 빛의 입사각(α)과 같지 않은(이 경우에는 더 작은) 각도(β)에 위치한다 The system 201 also includes a light source 20 and a video camera 22, where the video camera 22 displays the decoration 1, 1 with respect to the normal n to the surface of the decoration 1, 1'. ') is located at an angle (β) that is not equal to (in this case smaller) the angle of incidence (α) of the light from the light source 20 on the surface of
두 시스템의 비디오 카메라(22)에 의해 획득된 이미지의 회색 레벨을 측정함으로써 표면의 정량적 비교가 가능해진다.Quantitative comparison of surfaces is possible by measuring the gray level of the images acquired by the video cameras 22 of both systems.
동일한 재료(각각 흰색 및 각각 검은색)로 만들어진 연마된 장식부(1')에 대해 본 발명에 따른 장식부(1)(각각 흰색 및 검은색)를 사용하여 출원인에 의해 수행된 테스트는 연마된 장식부에 비해 본 발명에 따른 장식부에 의한 정반사가 최대 69%까지 감소하고, 연마된 장식부에 비해 본 발명에 따른 장식부에 의한 확산 반사는 100% 이상, 예를 들어 최대 113%까지 증가한다. 일 실시예에서, 반무광 장식부(1)는 팔찌(예를 들어 손목시계) 또는 시계 케이스(예를 들어 손목시계 케이스)의 링크이다.Tests carried out by the applicant using a decoration 1 according to the invention (white and black respectively) against a polished decoration 1' made of the same material (white and black respectively) The specular reflection by the decoration part according to the present invention is reduced by up to 69% compared to the decoration part, and the diffuse reflection by the decoration part according to the present invention is increased by more than 100%, for example, up to 113%, compared to the polished decoration part. do. In one embodiment, the semi-matte decoration 1 is a link of a bracelet (eg a wristwatch) or a watch case (eg a wristwatch case).
본 발명은 또한 본 발명에 따른 반무광 장식부(1)를 포함하는 시계 및/또는 장신구에 관한 것이다.The invention also relates to a watch and/or jewelry comprising a semi-matte decoration (1) according to the invention.
도 8은 반무광 장식부를 제조하는 본 발명의 일 실시예에 따른 방법 단계의 흐름도이다.Figure 8 is a flowchart of method steps for manufacturing a semi-matte decoration according to an embodiment of the present invention.
반무광 장식부를 제조하는 본 발명에 따른 방법은:The method according to the invention for producing a semi-matte decorative part is:
- 800HV 이상의 경도를 갖는 장식부를 조달하는 단계(단계 100);- Procuring a decorative part having a hardness of 800 HV or more (step 100);
- 다이아몬드, 질화붕소, 탄화규소, 알루미나 및/또는 탄화붕소 재료 중 적어도 하나의 연마 분말을 함유하는 드럼에 장식부를 배치하는 단계(단계 200); 및- placing the decoration on a drum containing an abrasive powder of at least one of diamond, boron nitride, silicon carbide, alumina and/or boron carbide materials (step 200); and
- 장식부가 0.5m/min 내지 1.5m/min 사이의 평균 속도로 움직이도록 드럼을 적어도 3시간 동안 작동하는 단계(단계 300)를 포함하고,- operating the drum for at least 3 hours such that the decoration moves at an average speed between 0.5 m/min and 1.5 m/min (step 300),
이를 통해 -1㎛에서 -0.3㎛ 범위의 비대칭(Rsk), 0.1㎛에서 1.5㎛ 범위의 프로파일 높이(Rt), 0.1㎛에서 0.2㎛ 범위의 거칠기(Ra)를 갖는 표면의 프로파일을 얻을 수 있어 표면을 반무광으로 만든다.Through this, it is possible to obtain a surface profile with asymmetry (Rsk) in the range of -1㎛ to -0.3㎛, profile height (Rt) in the range of 0.1㎛ to 1.5㎛, and roughness (Ra) in the range of 0.1㎛ to 0.2㎛. Make it semi-matte.
따라서, 이 해결책은 특정 유형의 연마재, 즉 다이아몬드, 질화붕소, 탄화규소, 알루미나 및/또는 탄화붕소 재료 중 적어도 하나의 연마 분말을 사용하여 텀블링하는 단계를 제공한다.Accordingly, this solution provides for tumbling using an abrasive powder of a specific type of abrasive, namely at least one of diamond, boron nitride, silicon carbide, alumina and/or boron carbide materials.
이러한 연마 분말은 설령 텀블링하는 중이라도 입자가 많이 부서지지 않는 특별한 특성을 갖고 있다: 이는 이러한 텀블링 단계가 연마 단계로 전환되는 것을 방지할 수 있게 한다. 실제로, 생산되는 장식부는 광택 장식부가 아닌 반무광 장식부이다.These abrasive powders have a special property that the particles do not break up much even during tumbling: this makes it possible to prevent this tumbling step from being converted into a polishing step. In reality, the decorative part produced is a semi-matte decorative part, not a glossy decorative part.
일 실시예에서, 방법은 드럼으로부터 반무광 장식부를 하적하는 단계(미도시)를 포함한다.In one embodiment, the method includes unloading the semi-matte decoration from the drum (not shown).
일 실시예에서, 방법은 일반적으로 드럼을 하적하는 단계 후에 드럼을 청소하는 단계(미도시)를 포함한다.In one embodiment, the method includes cleaning the drum (not shown) generally following the step of unloading the drum.
일 실시예에서, 방법은 일반적으로 드럼을 하적하는 단계 이후에 반무광 장식부를 세척하는 단계(미도시)를 포함한다.In one embodiment, the method includes cleaning the semi-matte decoration (not shown) generally after unloading the drum.
일 실시예에서, 방법은 일반적으로 드럼을 하적하는 단계 이후에 반무광 장식부(1)를 검사하는 단계(미도시), 예를 들어 검사 단계를 포함한다.In one embodiment, the method generally comprises a step (not shown) of inspecting the semi-matte decoration 1 after the step of unloading the drum, for example an inspection step.
일 실시예에서, 방법은 일반적으로 드럼을 장착하는 단계(200)에 앞서 장식부를 연마하는 단계(미도시)를 포함한다. 즉, 본 실시예에서, 본 발명에 따른 방법은 이전에 연마된 장식부를 "흐릿하게" 하여 반무광으로 만드는 것을 가능하게 한다.In one embodiment, the method generally includes grinding the decoration (not shown) prior to mounting the drum (200). That is, in this embodiment, the method according to the invention makes it possible to "blur" the previously polished decoration and make it semi-matte.
일 실시예에서, 연마 분말 입자의 크기(즉, 최대 치수)는 5㎛ 내지 50㎛ 범위, 바람직하게는 10㎛ 내지 30㎛ 범위, 예를 들어 15㎛ 내지 25㎛ 범위이다..In one embodiment, the size (i.e. largest dimension) of the abrasive powder particles ranges from 5 μm to 50 μm, preferably from 10 μm to 30 μm, for example from 15 μm to 25 μm.
일 실시예에서, 연마 분말의 입자는 반드시 모두 동일한 형상일 필요는 없다.In one embodiment, the particles of the abrasive powder are not necessarily all of the same shape.
일 실시예에서, 연마 분말의 입자는 반드시 모두 동일한 크기일 필요는 없다.In one embodiment, the particles of the abrasive powder are not necessarily all the same size.
일 실시예에서, 드럼에 사용되는 연마 분말은 액체 속에 현탁되어 있다.In one embodiment, the abrasive powder used in the drum is suspended in a liquid.
일 실시예에서, 액체는 액체 내 연마 분말의 현탁을 개선하기 위해 계면활성제, 예를 들어 오일 및/또는 비누를 포함한다.In one embodiment, the liquid includes a surfactant, such as oil and/or soap, to improve suspension of the abrasive powder in the liquid.
일 실시예에서, 방법은 복수의 장식부, 예를 들어 수십, 수백 또는 수천 개의 장식부를 드럼에 배치하는 단계를 포함한다.In one embodiment, the method includes disposing a plurality of decorations, for example tens, hundreds or thousands of decorations, on a drum.
일 실시예에서, 방법은 또한 0.3mm 내지 15mm 범위의 최대 치수를 갖는 장식부 미디어 또는 "칩"을 드럼에 배치하는 단계를 포함한다. 이러한 미디어는 원통 모양이나 기타 적절한 모양일 수 있다. 일 실시예에서, 드럼 내 미디어의 부피는 진동 드럼 내 장식부의 전체 부피의 대략 4배이다.In one embodiment, the method also includes placing embellishment media or “chips” on the drum having a maximum dimension ranging from 0.3 mm to 15 mm. Such media may be cylindrical or other suitable shape. In one embodiment, the volume of media within the drum is approximately four times the total volume of decoration within the vibrating drum.
일 실시예에서, 장식부는 세라믹, 서멧, 사파이어 및/또는 소결 유리로 만들어진다.In one embodiment, the decoration is made of ceramic, cermet, sapphire and/or sintered glass.
1, 1'
장식부
10
제1 표면
11
피크
12
제2 표면
13
골
130
바닥1, 1' decoration part
10 first surface
11 peak
12 second surface
13 goals
130 floor
Claims (15)
- 다이아몬드, 질화붕소, 탄화규소, 알루미나 및/또는 탄화붕소 중 적어도 하나의 재료로 이루어진 연마 분말을 함유하는 드럼에 장식부를 배치하는 단계(200); 및
0.5m/min 내지 1.5m/min 사이의 평균 속도로 장식부가 움직이도록 드럼을 적어도 3시간 동안 작동하는 단계(300)를 포함하고;
이를 통해 -1㎛에서 -0.3㎛ 범위의 비대칭(Rsk), 0.1㎛에서 1.5㎛ 범위의 프로파일 높이(Rt), 0.1㎛에서 0.2㎛ 범위의 거칠기(Ra)를 갖는 표면의 프로파일을 얻을 수 있어 표면을 반무광으로 만드는 반무광 장식부의 제조 방법.- Procuring a decorative part having a hardness of 800 HV or more (100);
- placing the decoration on a drum containing an abrasive powder made of at least one material of diamond, boron nitride, silicon carbide, alumina and/or boron carbide (200); and
operating the drum for at least 3 hours to move the decoration portion at an average speed between 0.5 m/min and 1.5 m/min (300);
Through this, it is possible to obtain a surface profile with asymmetry (Rsk) in the range of -1㎛ to -0.3㎛, profile height (Rt) in the range of 0.1㎛ to 1.5㎛, and roughness (Ra) in the range of 0.1㎛ to 0.2㎛. A method of manufacturing a semi-matte decorative part that makes it semi-matte.
연마 분말의 입자 크기가 5㎛ 내지 50㎛ 범위, 바람직하게는 10㎛ 내지 30㎛ 범위, 예를 들어 15㎛ 내지 25㎛ 범위인 제조 방법.According to paragraph 1,
A process for producing the abrasive powder, wherein the particle size is in the range from 5 μm to 50 μm, preferably in the range from 10 μm to 30 μm, for example in the range from 15 μm to 25 μm.
연마 분말이 액체 속에 현탁되어 있는 제조 방법.According to claim 1 or 2,
A manufacturing method in which abrasive powder is suspended in a liquid.
액체는 계면활성제를 포함하는 제조 방법.According to paragraph 3,
A manufacturing method wherein the liquid contains a surfactant.
드럼을 적재하는 단계(200) 전에 장식부를 연마하는 단계를 포함하는 제조 방법.According to any one of claims 1 to 4,
A manufacturing method comprising grinding the decoration before loading the drum (200).
최대 치수가 0.3mm 내지 15mm 범위인 장식부 미디어를 드럼에 배치하는 단계를 포함하는 제조 방법.According to any one of claims 1 to 5,
A manufacturing method comprising placing embellishment media having a maximum dimension ranging from 0.3 mm to 15 mm into a drum.
장식부는 세라믹, 서멧, 사파이어 및/또는 소결 유리로 제조되는 제조 방법.According to any one of claims 1 to 6,
A manufacturing method in which the decorative part is made of ceramic, cermet, sapphire and/or sintered glass.
세라믹, 서멧, 사파이어 및/또는 소결 유리로 제조되는 장식부(1).According to clause 8,
Decorative part (1) made of ceramic, cermet, sapphire and/or sintered glass.
표면의 스크래치 방향 분포가 불규칙한 장식부(1).According to clause 8 or 9,
Decorative part (1) with an irregular distribution of scratch directions on the surface.
단위 표면적당 스크래치 밀도가 균일한 장식부(1).According to any one of claims 8 to 10,
Decorative part (1) with uniform scratch density per unit surface area.
스크래치가 골과 피크를 정의하고, 골의 깊이와 피크의 높이 사이의 평균 높이가 0.1㎛ 내지 1㎛ 범위인 장식부(1).According to any one of claims 8 to 11,
A decorative portion (1) wherein scratches define valleys and peaks, and the average height between the depth of the valleys and the height of the peaks is in the range of 0.1 ㎛ to 1 ㎛.
피크의 높이 및/또는 골의 깊이가 불규칙한 장식부(1).According to any one of claims 8 to 12,
Decorative part (1) with irregular peak height and/or valley depth.
표면 스크래치의 길이가 1㎛ 내지 70㎛ 범위이고/이거나 표면 스크래치의 폭이 1㎛ 내지 5㎛인 장식부(1).According to any one of claims 8 to 13,
A decoration portion (1) wherein the length of the surface scratch is in the range of 1 μm to 70 μm and/or the width of the surface scratch is in the range of 1 μm to 5 μm.
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