KR20240036552A - 페놀 화합물, 유기 재료용 안정제, 수지 조성물, 및 유기 재료의 안정화 방법 - Google Patents

페놀 화합물, 유기 재료용 안정제, 수지 조성물, 및 유기 재료의 안정화 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20240036552A
KR20240036552A KR1020247000351A KR20247000351A KR20240036552A KR 20240036552 A KR20240036552 A KR 20240036552A KR 1020247000351 A KR1020247000351 A KR 1020247000351A KR 20247000351 A KR20247000351 A KR 20247000351A KR 20240036552 A KR20240036552 A KR 20240036552A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
butyl
bis
hydroxy
organic materials
resin
Prior art date
Application number
KR1020247000351A
Other languages
English (en)
Inventor
가즈히로 기타무라
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Publication of KR20240036552A publication Critical patent/KR20240036552A/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D493/00Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system
    • C07D493/02Heterocyclic compounds containing oxygen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D493/10Spiro-condensed systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/04Oxygen-containing compounds
    • C08K5/15Heterocyclic compounds having oxygen in the ring
    • C08K5/156Heterocyclic compounds having oxygen in the ring having two oxygen atoms in the ring
    • C08K5/1575Six-membered rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C08L101/02Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K15/00Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change
    • C09K15/04Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds
    • C09K15/06Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing oxygen
    • C09K15/08Anti-oxidant compositions; Compositions inhibiting chemical change containing organic compounds containing oxygen containing a phenol or quinone moiety

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
  • Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)

Abstract

본 발명은, 식 (1) :

[식 중, R1 은 탄소수 1 ∼ 2 의 알킬기를 나타내는] 로 나타내는, 페놀 화합물에 관한 것이다.

Description

페놀 화합물, 유기 재료용 안정제, 수지 조성물, 및 유기 재료의 안정화 방법
본 발명은, 신규한 페놀 화합물 그리고 그 유기 재료용 안정제로서의 용도에 관한 것이다.
열가소성 수지, 열경화성 수지, 천연 또는 합성 고무, 광유, 윤활유, 접착제, 도료 등의 유기 재료는, 제조시, 가공시 나아가서는 사용시에, 열이나 산소 등의 작용에 의해 열화되어, 분자 절단이나 분자 가교와 같은 현상에서 기인하는 유기 재료의 강도 물성의 저하, 흐름성의 변화, 착색, 표면 물성의 저하 등을 수반하여, 상품 가치가 현저하게 저해되는 경우가 있는 것이 알려져 있다.
이와 같은 열 또는 산소에 의한 열화를 방지할 목적에서, 종래부터 각종 페놀계 산화 방지제 및 인계 산화 방지제가 개발되어, 이들을 유기 재료에 첨가함으로써, 유기 재료를 안정화시킬 수 있는 것이 알려져 있다 (특허문헌 1). 그러나, 종래 사용되고 있는 산화 방지제는, 유기 재료를 가공할 때의 열 또는 산소에 의한 열화에 대한 안정화 효과가 불충분한 경우가 있어, 가일층의 안정화 효과를 갖는 화합물이 요구되고 있다.
일본 특허공보 평08-002998호
본 발명의 과제는, 유기 재료를 가공할 때의 열 안정성 향상에 유효한 신규 화합물을 제공하는 것이다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 여러 가지 화합물에 대해 상세하게 검토를 거듭하여, 신규한 페놀 화합물을 알아내어, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, 이하의 바람직한 양태를 포함한다.
〔1〕식 (1) :
[화학식 1]
[식 중, R1 은 탄소수 1 ∼ 2 의 알킬기를 나타낸다]
로 나타내는, 페놀 화합물.
〔2〕R1 은 메틸기인,〔1〕에 기재된 페놀 화합물.
〔3〕〔1〕또는〔2〕에 기재된 페놀 화합물을 포함하는, 유기 재료용 안정제.
〔4〕〔1〕또는〔2〕에 기재된 페놀 화합물 또는〔3〕에 기재된 유기 재료용 안정제와, 적어도 1 종의 유기 재료를 포함하는, 수지 조성물.
〔5〕유기 재료가 열가소성 수지인〔4〕에 기재된 수지 조성물.
〔6〕열가소성 수지가 폴리올레핀 또는 엔지니어링 플라스틱인,〔5〕에 기재된 수지 조성물.
〔7〕유기 재료에〔1〕또는〔2〕에 기재된 페놀 화합물 또는〔3〕에 기재된 유기 재료용 안정제를 첨가하는, 유기 재료의 안정화 방법.
〔8〕유기 재료가 열가소성 수지인〔7〕에 기재된 안정화 방법.
〔9〕열가소성 수지가 폴리올레핀 또는 엔지니어링 플라스틱인,〔8〕에 기재된 안정화 방법.
본 발명의 페놀 화합물은, 열가소성 수지 등의 유기 재료를 가공할 때의 열 안정성 향상에 유효하다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변경을 할 수 있다. 또, 특정한 특징에 대해 복수의 상한값 및 하한값이 기재되어 있는 경우, 이들 상한값 및 하한값 중 임의의 상한값과 하한값을 조합하여 바람직한 수치 범위로 할 수 있다.
본 발명은, 식 (1) :
[화학식 2]
[식 중, R1 은 탄소수 1 ∼ 2 의 알킬기를 나타낸다]
로 나타내는, 페놀 화합물을 제공한다. 상기 식 (1) 중의 R1 은, 탄소수 1 ∼ 2 의 알킬기를 나타내고, 구체적으로는 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다. 열가소성 수지 등의 유기 재료를 안정화시키기 쉬운 관점에서, R1 은 바람직하게는 메틸기이다.
식 (1) 로 나타내는 페놀 화합물은, 식 (1) 중의 -OR1 기 부분이 -OH 기인 화합물과, 탄소수 1 ∼ 2 의 알킬기를 갖는 할로겐화 알킬 (예를 들어 요오드화 메틸 또는 요오드화 에틸) 을, 질소의 존재하에서 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
반응은 통상적으로, 유기 용매 중에서 실시된다. 유기 용매로는, 반응을 저해하지 않는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 케톤계 용매, 에테르계 용매, 방향족 탄화수소 용매, 지방족 탄화수소 용매, 할로겐화 탄화수소 용매 등을 들 수 있다. 반응을 1 종류의 유기 용매 중에서 실시해도 되고, 2 종 이상의 유기 용매의 혼합 용매 중에서 실시해도 되고, 당해 유기 용매와 그 밖의 용매의 혼합 용매 중에서 실시해도 된다.
케톤계 용매로는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등을 들 수 있다. 에테르계 용매로는, 예를 들어 디에틸에테르, 디부틸에테르 등을 들 수 있다. 방향족 탄화수소 용매로는, 예를 들어 벤젠, 톨루엔, 자일렌, 에틸벤젠 등을 들 수 있다. 지방족 탄화수소 용매로는, 예를 들어 n-헥산, n-헵탄, n-옥탄 등을 들 수 있다. 할로겐화 탄화수소 용매로는, 예를 들어 클로로포름, 사염화탄소, 모노클로로벤젠, 디클로로메탄, 1,2-디클로로에탄, 디클로로벤젠 등을 들 수 있다.
반응은 실온에서 실시된다.
이 방법의 경우, 식 (1) 중의 -OR1 기 부분이 -OH 기인 화합물에 대한, 탄소수 1 ∼ 2 의 알킬기를 갖는 할로겐화 알킬의 양은, 할로겐화 알킬을, 식 (1) 중의 -OR1 기 부분이 -OH 기인 화합물에 대해, 3 몰 배 정도의 양으로 사용하는 것이 바람직하다. 또 첨가하는 탄산칼륨의 양은, -OR1 기 부분이 -OH 기인 화합물에 대해, 바람직하게는 3 몰 배 정도이다.
원료로서 사용하는 식 (1) 중의 -OR1 기 부분이 -OH 기인 화합물의 합성 방법은 알려져 있으며, 예를 들어 일본 특허 제3661198호 명세서 등에 기재된 방법에 따라 합성할 수 있다.
식 (1) 로 나타내는 본 발명의 페놀 화합물을 유기 재료에 첨가함으로써, 유기 재료의 열 열화 및 산화 열화 등을 저감시켜, 유기 재료를 안정화시킬 수 있고, 예를 들어 점도 저하를 방지하거나, 착색을 방지할 수 있다. 그 때문에, 본 발명의 페놀 화합물은, 유기 재료용 안정제의 유효 성분으로서 적당하다. 따라서, 본 발명은, 식 (1) 로 나타내는 본 발명의 페놀 화합물을 포함하는 유기 재료용 안정제, 및, 유기 재료에 본 발명의 페놀 화합물 또는 상기 유기 재료용 안정제를 첨가하는, 유기 재료의 안정화 방법도 제공한다. 또한, 유기 재료와, 본 발명의 페놀 화합물 또는 본 발명의 유기 재료용 안정제를 포함하는, 안정화된 수지 조성물도 제공한다.
상기의 양태에 있어서, 식 (1) 로 나타내는 본 발명의 페놀 화합물로서, 1 종류의 식 (1) 로 나타내는 페놀 화합물을 사용해도 되고, 2 종 이상의 식 (1) 로 나타내는 페놀 화합물을 조합하여 사용해도 된다.
본 발명의 페놀 화합물에 의해 안정화시킬 수 있는 유기 재료로는, 예를 들어 다음과 같은 것을 들 수 있지만, 이들 유기 재료에 한정되는 것은 아니다. 유기 재료는, 1 종류의 유기 재료여도 되고, 2 종 이상의 유기 재료의 혼합물이어도 된다.
(1) 폴리에틸렌, 예를 들어 고밀도 폴리에틸렌 (HD-PE), 저밀도 폴리에틸렌 (LD-PE), 직사슬형 저밀도 폴리에틸렌 (LLDPE),
(2) 폴리프로필렌,
(3) 메틸펜텐 폴리머,
(4) EEA (에틸렌/아크릴산에틸 공중합) 수지,
(5) 에틸렌/아세트산비닐 공중합 수지,
(6) 폴리스티렌류, 예를 들어 폴리스티렌, 폴리(p-메틸스티렌), 폴리(α-메틸스티렌),
(7) AS (아크릴로니트릴/스티렌 공중합) 수지,
(8) ABS (아크릴로니트릴/부타디엔/스티렌 공중합) 수지,
(9) AAS (특수 아크릴 고무/아크릴로니트릴/스티렌 공중합) 수지,
(10) ACS (아크릴로니트릴/염소화 폴리에틸렌/스티렌 공중합) 수지,
(11) 염소화 폴리에틸렌, 폴리클로로프렌, 염소화 고무,
(12) 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴,
(13) 메타크릴 수지,
(14) 에틸렌/비닐알코올 공중합 수지,
(15) 불소 수지,
(16) 폴리아세탈,
(17) 그래프트화 폴리페닐렌에테르 수지 및 폴리페닐렌술파이드 수지,
(18) 폴리우레탄,
(19) 폴리아미드,
(20) 폴리에스테르 수지, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트,
(21) 폴리카보네이트,
(22) 폴리아크릴레이트,
(23) 폴리술폰, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르술폰,
(24) 방향족 폴리에스테르 수지 등의 열가소성 수지,
(25) 에폭시 수지,
(26) 디알릴프탈레이트 프레폴리머,
(27) 실리콘 수지,
(28) 불포화 폴리에스테르 수지,
(29) 아크릴 변성 벤조구아나민 수지,
(30) 벤조구아나민/멜라민 수지,
(31) 우레아 수지 등의 열경화성 수지,
(32) 폴리부타디엔,
(33) 1,2-폴리부타디엔,
(34) 폴리이소프렌,
(35) 스티렌/부타디엔 공중합체,
(36) 부타디엔/아크릴로니트릴 공중합체,
(37) 에틸렌/프로필렌 공중합체,
(38) 실리콘 고무,
(39) 에피클로로히드린 고무,
(40) 아크릴 고무,
(41) 천연 고무,
(42) 염소 고무계 도료,
(43) 폴리에스테르 수지 도료,
(44) 우레탄 수지 도료,
(45) 에폭시 수지 도료,
(46) 아크릴 수지 도료,
(47) 비닐 수지 도료,
(48) 아미노알키드 수지 도료,
(49) 알키드 수지 도료,
(50) 니트로셀룰로오스 수지 도료,
(51) 유성 도료,
(52) 왁스,
(53) 윤활유 등.
그 중에서도, 열가소성 수지, 특히 폴리에틸렌, 예를 들어 HD-PE, LD-PE, LLDPE 및 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀, 폴리아미드, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 및 폴리카보네이트 등의 엔지니어링 플라스틱 등에 바람직하게 사용된다.
폴리올레핀으로는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 라디칼 중합에 의해 얻어진 것이어도 되고, 주기표 IVb, Vb, VIb 또는 VIII 족의 금속을 함유하는 촉매를 사용하는 중합에 의해 제조된 것이어도 된다. 이러한 금속을 함유하는 촉매로는, 1 개 이상의 배위자, 예를 들어 π 혹은 σ 결합에 의해 배위되는 산화물, 할로겐 화합물, 알코올레이트, 에스테르, 아릴 등을 갖는 금속 착물을 들 수 있다. 이들 착물은, 금속 착물 그대로여도 되고, 염화마그네슘, 염화티탄, 알루미나, 산화규소 등의 기재에 담지되어 있어도 된다. 폴리올레핀으로는, 예를 들어 지글러·나타 촉매, TNZ 촉매, 메탈로센 촉매, 필립스 촉매 등을 사용하여 제조된 것이 바람직하게 사용된다.
엔지니어링 플라스틱도 특별히 한정되지 않는다. 폴리아미드 수지는, 폴리머 사슬에 아미드 결합을 갖는 것으로서, 가열 용융시킬 수 있는 것이면 된다. 폴리아미드 수지는 어느 방법으로 제조된 것이어도 되고, 예를 들어 디아민류와 디카르복실산류의 축합 반응, 아미노카르복실산류의 축합 반응, 락탐류의 개환 중합 등의 방법에 의해 제조된 것을 들 수 있다. 폴리아미드 수지의 예로는, 나일론 66, 나일론 69, 나일론 610, 나일론 612, 폴리-비스-(p-아미노시클로헥실)메탄도데카미드, 나일론 46, 나일론 6, 나일론 12, 나일론 66 과 나일론 6 의 공중합체인 나일론 66/6 이나, 나일론 6/12 등의 공중합체 등을 들 수 있다. 폴리에스테르 수지는, 폴리머 사슬에 에스테르 결합을 갖는 것으로서, 가열 용융시킬 수 있는 것이면 되고, 예를 들어 디카르복실산류와 디하이드록시 화합물의 중축합 등에 의해 얻어지는 폴리에스테르를 들 수 있다. 폴리에스테르 수지는, 호모폴리에스테르, 코폴리에스테르 중 어느 것이어도 된다. 폴리카보네이트 수지는, 폴리머 사슬에 카보네이트 결합을 갖는 것으로서, 가열 용융시킬 수 있는 것이면 되고, 예를 들어 용제, 산 수용체, 분자량 조정제의 존재하, 방향족 하이드록시 화합물 또는 이것과 소량의 폴리하이드록시 화합물에, 포스겐, 디페닐카보네이트와 같은 카보네이트 전구체를 반응시킴으로써 얻어지는 폴리카보네이트를 들 수 있다. 폴리카보네이트 수지는, 직사슬형이어도 되고 분기형이어도 되고, 또, 공중합체여도 된다.
식 (1) 로 나타내는 본 발명의 페놀 화합물을 유기 재료에 첨가하여 유기 재료를 안정화시키는 경우, 본 발명의 페놀 화합물의 함량은, 유기 재료의 안정화의 관점에서, 유기 재료 100 질량부에 대해, 통상적으로 0.001 질량부 이상, 바람직하게는 0.01 질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.05 질량부 이상이다. 또, 본 발명의 페놀 화합물의 함량은, 유기 재료를 효율적으로 안정화시키고, 또한 경제적인 관점에서, 유기 재료 100 질량부에 대해, 통상적으로 5 질량부 이하, 바람직하게는 3 질량부 이하, 보다 바람직하게는 1 질량부 이하이다.
식 (1) 로 나타내는 페놀 화합물을 유기 재료에 첨가함에 있어서는, 유기 재료에 필요에 따라 추가로 다른 첨가제, 예를 들어 페놀계 산화 방지제, 황계 산화 방지제, 인계 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 과산화물 스캐빈저, 폴리아미드 안정제, 하이드록시아민, 활제, 가소제, 난연제, 조핵제, 금속 불활성화제, 대전 방지제, 안료, 충전제, 안료, 안티 블로킹제, 계면 활성제, 가공 보조제, 발포제, 유화제, 광택제, 스테아르산칼슘, 하이드로탈사이트 등의 중화제, 나아가서는 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스포페난트렌-10-옥사이드 등의 착색 개량제나, 미국 특허 4,325,853호, 4,338,244호, 5,175,312호, 5,216,053호, 5,252,643호, 4,316,611호 명세서, DE-A-4,316,622호, 4,316,876호 명세서, EP-A-589,839, EP-A-591,102호 명세서 등에 기재된 벤조푸란류, 인돌린류 등의 보조 안정제 등을 첨가할 수도 있다. 이들 첨가제를, 본 발명의 페놀 화합물과 동시에 유기 재료에 첨가할 수도 있고, 본 발명의 페놀 화합물과는 다른 단계에서 유기 재료에 첨가할 수도 있다. 첨가제로서, 1 종류의 첨가제를 사용해도 되고, 2 종 이상의 첨가제를 조합하여 사용해도 된다.
페놀계 산화 방지제로는, 예를 들어 다음과 같은 것을 들 수 있다. 페놀계 산화 방지제로서, 이하의 화합물을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
(1) 알킬화 모노페놀의 예
2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀, 2,4,6-트리-t-부틸페놀, 2,6-디-t-부틸페놀, 2-t-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디시클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리시클로헥실페놀, 2,6-디-t-부틸-4-메톡시메틸페놀, 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸운데실-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸헵타데실-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데실-1'-일)페놀 및 그들의 혼합물 등.
(2) 알킬티오메틸페놀의 예
2,4-디옥틸티오메틸-6-t-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디도데실티오메틸-4-노닐페놀 및 그들의 혼합물 등.
(3) 하이드로퀴논 및 알킬화 하이드로퀴논의 예
2,6-디-t-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-t-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-t-아밀하이드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-t-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-t-부틸-4-하이드록시아니솔, 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐스테아레이트, 비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)아디페이트 및 그들의 혼합물 등.
(4) 토코페롤의 예
α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 그들의 혼합물 등.
(5) 하이드록실화 티오디페닐에테르의 예
2,2'-티오비스(6-t-부틸페놀), 2,2'-티오비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(2-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-t-아밀페놀), 4,4'-(2,6-디메틸-4-하이드록시페닐)디술파이드 등.
(6) 알킬리덴비스페놀 및 그 유도체의 예
2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)페놀)], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-노닐페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4-이소부틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[4,6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(6-t-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 1,1-비스(4-하이드록시페닐)시클로헥산, 1,1-비스(5-t-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-t-부틸-5-메틸-2-하이드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-t-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-t-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실메르캅토부탄, 에틸렌글리콜 비스[3,3-비스-3'-t-부틸-4'-하이드록시페닐)부티레이트], 비스(3-t-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3'-t-부틸-2'-하이드록시-5'-메틸벤질)-6-t-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-디메틸-2-하이드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로판, 2,2-비스(5-t-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실메르캅토부탄, 1,1,5,5-테트라(5-t-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)펜탄, 2-t-부틸-6-(3'-t-부틸-5'-메틸-2'-하이드록시벤질)-4-메틸페닐 아크릴레이트, 2,4-디-t-펜틸-6-[1-(2-하이드록시-3,5-디-t-펜틸페닐)에틸]페닐 아크릴레이트 및 그들의 혼합물 등.
(7) O-, N- 및 S-벤질 유도체의 예
3,5,3',5'-테트라-t-부틸-4,4'-디하이드록시디벤질에테르, 옥타데실-4-하이드록시-3,5-디메틸벤질메르캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)아민, 비스(4-t-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)술파이드, 이소옥틸-3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질메르캅토아세테이트 및 그들의 혼합물 등.
(8) 하이드록시벤질화 말로네이트 유도체의 예
디옥타데실-2,2-비스(3,5-디-t-부틸-2-하이드록시벤질)말로네이트, 디옥타데실-2-(3-t-부틸-4-하이드록시-5-메틸벤질)말로네이트, 디도데실메르캅토에틸-2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트, 비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트 및 그들의 혼합물 등.
(9) 방향족 하이드록시벤질 유도체의 예
1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠, 1,4-비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-t-부틸-4-하이드록시벤질)페놀 및 그들의 혼합물 등.
(10) 트리아진 유도체의 예
2,4-비스(n-옥틸티오)-6-(4-하이드록시-3,5-디-t-부틸아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-n-옥틸티오-4,6-비스(4-하이드록시-3,5-디-t-부틸아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-n-옥틸티오-4,6-비스(4-하이드록시-3,5-디-t-부틸페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-페녹시)-1,3,5-트리아진, 트리스(4-t-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐프로필)-1,3,5-트리아진, 트리스(3,5-디시클로헥실-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 트리스[2-(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시신나모일옥시)에틸]이소시아누레이트 및 그들의 혼합물 등.
(11) 벤질포스포네이트 유도체의 예
디메틸-3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디에틸-3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-5-t-부틸-4-하이드록시-3-메틸벤질포스포네이트, 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산모노에스테르의 칼슘염 및 그들의 혼합물 등.
(12) 아실아미노페놀 유도체의 예
4-하이드록시라우릴산아닐리드, 4-하이드록시스테아르산아닐리드, 옥틸-N-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)카르바네이트 및 그들의 혼합물 등.
(13) β-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산과 이하의 1 가 또는 다가 알코올의 에스테르의 예
메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 에틸렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜, 티오에틸렌글리콜, 스피로글리콜, 트리에틸렌글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2,2,2]옥탄 및 그들의 혼합물 등.
(14) β-(5-t-부틸-4-하이드록시-3-메틸페닐)프로피온산과 이하의 1 가 또는 다가 알코올의 에스테르의 예
메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 에틸렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜, 티오에틸렌글리콜, 스피로글리콜, 트리에틸렌글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2,2,2]옥탄 및 그들의 혼합물 등.
(15) β-(3,5-디시클로헥실-4-하이드록시페닐)프로피온산과 이하의 1 가 또는 다가 알코올의 에스테르의 예
메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 에틸렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜, 티오에틸렌글리콜, 스피로글리콜, 트리에틸렌글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2,2,2]옥탄 및 그들의 혼합물 등.
(16) 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐아세트산과 이하의 1 가 또는 다가 알코올의 에스테르의 예
메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 에틸렌글리콜, 1,3-프로판디올, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 네오펜틸글리콜, 디에틸렌글리콜, 티오에틸렌글리콜, 스피로글리콜, 트리에틸렌글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(하이드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(하이드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-하이드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2,2,2]옥탄 및 그들의 혼합물 등.
(17) β-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산의 아미드의 예
N,N'-비스[3-(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오닐]히드라진, N,N'-비스[3-(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오닐]헥사메틸렌디아민, N,N'-비스[3-(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오닐]트리메틸렌디아민 및 그들의 혼합물 등.
황계 산화 방지제로는, 예를 들어 다음과 같은 것을 들 수 있다.
디라우릴 3,3'-티오디프로피오네이트, 트리데실 3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸 3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴 3,3'-티오디프로피오네이트, 라우릴 스테아릴 3,3'-티오디프로피오네이트, 네오펜탄테트라일테트라키스 (3-라우릴티오프로피오네이트) 등.
인계 산화 방지제로는, 예를 들어 다음과 같은 것을 들 수 있다. 인계 산화 방지제로서, 이하의 화합물을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
트리페닐포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 트리라우릴포스파이트, 트리옥타데실포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리-t-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴소르비톨트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-t-부틸페닐)-4,4'-디페닐렌디포스포나이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐) 2-에틸헥실 포스파이트, 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-t-부틸페닐) 플루오로 포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐) 에틸 포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐) 메틸 포스파이트, 2-(2,4,6-트리-t-부틸페닐)-5-에틸-5-부틸-1,3,2-옥사포스포리난, 2,2',2''-니트릴로[트리에틸-트리스(3,3',5,5'-테트라-t-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일) 포스파이트, 6-[3-(3-t-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-t-부틸디벤즈[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀 및 그들의 혼합물 등.
자외선 흡수제로는, 예를 들어 다음과 같은 것을 들 수 있다. 자외선 흡수제로서, 이하의 화합물을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
(1) 살리실레이트 유도체의 예
페닐 살리실레이트, 4-t-부틸페닐 살리실레이트, 2,4-디-t-부틸페닐 3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시벤조에이트, 4-t-옥틸페닐 살리실레이트, 비스(4-t-부틸벤조일)레조르시놀, 벤조일레조르시놀, 헥사데실 3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시벤조에이트, 옥타데실 3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-t-부틸페닐 3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시벤조에이트 및 그들의 혼합물 등.
(2) 2-하이드록시벤조페논 유도체의 예
2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 비스(5-벤조일-4-하이드록시-2-메톡시페닐)메탄, 2,2',4,4'-테트라하이드록시벤조페논 및 그들의 혼합물 등.
(3) 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸의 예
2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-t-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-t-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-t-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3-t-부틸-2-하이드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-s-부틸-2'-하이드록시-5'-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-t-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-3',3'-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸, 2-[(3'-t-부틸-2'-하이드록시페닐)-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-[3'-t-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-하이드록시페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-[3'-t-부틸-3'-하이드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-[3'-t-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐] 벤조트리아졸, 2-[3'-t-부틸-2'-하이드록시-5-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐] 벤조트리아졸, 2-[3'-t-부틸-2'-하이드록시-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]페닐] 벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-(3,4,5,6-테트라하이드로프탈이미드메틸)-5-메틸페닐] 벤조트리아졸, 2-(3,5-디-t-부틸-2-하이드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸 및 2-[3'-t-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐] 벤조트리아졸의 혼합물, 2,2'-메틸렌비스[6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀, 2,2'-메틸렌비스[4-t-부틸-6-(2H-벤조트리아졸-2-일)페놀], 폴리(3 ∼ 11)(에틸렌글리콜) 과 2-[3'-t-부틸-2'-하이드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐] 벤조트리아졸의 축합물, 폴리(3 ∼ 11)(에틸렌글리콜) 과 메틸 3-[3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-t-부틸-4-하이드록시페닐]프로피오네이트의 축합물, 2-에틸헥실 3-[3-t-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피오네이트, 옥틸 3-[3-t-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피오네이트, 메틸 3-[3-t-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피오네이트, 3-[3-t-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-하이드록시페닐]프로피온산 및 그들의 혼합물 등.
광 안정제로는, 예를 들어 다음과 같은 것을 들 수 있다. 광 안정제로서, 이하의 화합물을 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
(1) 힌더드아민계 광 안정제의 예
비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-옥톡시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-벤질옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)2-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)-2-부틸말로네이트, 비스(1-아크로일-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)-2-부틸말로네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)데칸디오에이트, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 메타크릴레이트, 4-[3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시]-1-[2-(3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시)에틸]-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 2-메틸-2-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)프로피온아미드, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디놀 및 1-트리데칸올의 혼합 에스테르화물,
1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀 및 1-트리데칸올의 혼합 에스테르화물, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디놀 및 3,9-비스(2-하이드록시-1,1-디메틸에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5·5]운데칸의 혼합 에스테르화물, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀 및 3,9-비스(2-하이드록시-1,1-디메틸에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5·5]운데칸의 혼합 에스테르화물, 디메틸 숙시네이트와 1-(2-하이드록시에틸)-4-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 중축합물, 폴리[(6-모르폴리노-1,3,5-트리아진-2,4-디일)((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)헥사메틸렌((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)], 폴리[(6-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)이미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)헥사메틸렌((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)], N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 1,2-디브로모에탄의 중축합물, N,N',4,7-테트라키스[4,6-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-1,3,5-트리아진-2-일]-4,7-디아자데칸-1,10-디아민, N,N',4-트리스[4,6-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-1,3,5-트리아진-2-일]-4,7-디아자데칸-1,10-디아민, N,N',4,7-테트라키스[4,6-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-1,3,5-트리아진-2-일]-4,7-디아자데칸-1,10-디아민, N,N',4-트리스[4,6-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-1,3,5-트리아진-2-일]-4,7-디아자데칸-1,10-디아민 및 그들의 혼합물 등.
(2) 아크릴레이트계 광 안정제의 예
에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카르보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 부틸α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 메틸 α-카르보메톡시-p-메톡시신나메이트 및 N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린 및 그들의 혼합물 등.
(3) 니켈계 광 안정제의 예
2,2'-티오비스-[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀] 의 니켈 착물, 니켈디부틸 디티오카르바메이트, 모노알킬에스테르의 니켈염, 케톡심의 니켈 착물 및 그들의 혼합물 등.
(4) 옥사미드계 광 안정제의 예
4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디에톡시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-t-부틸아닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-t-부틸아닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-t-부틸-2'-에톡시아닐리드, 2-에톡시-5,4'-디-t-부틸-2'-에틸옥사닐리드 및 그들의 혼합물 등.
(5) 2-(2-하이드록시페닐)-1,3,5-트리아진계 광 안정제의 예
2,4,6-트리스(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디하이드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-하이드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-부틸옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시-3-옥틸옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진 및 그들의 혼합물 등.
금속 불활성화제로는, 예를 들어 다음과 같은 것을 들 수 있다.
N,N'-디페닐옥사미드, N-살리실랄-N'-살리실로일히드라진, N,N'-비스(살리실로일)히드라진, N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐프로피오닐)히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살릴디히드라지드, 옥사닐리드, 이소프탈로일디히드라지드, 세바코일비스페닐히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)옥살릴디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)티오프로피오닐디히드라지드 및 그들의 혼합물 등.
과산화물 스캐빈저로는, 예를 들어 β-티오디프로피온산의 에스테르, 메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토벤조이미다졸의 아연염, 디부틸디티오카르밤산의 아연염, 디옥타데실디술파이드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실메르캅토)프로피오네이트 및 그들의 혼합물 등을 들 수 있다.
폴리아미드 안정제로는, 예를 들어 요오드화물 또는 인 화합물의 구리 또는 2 가의 망간염 및 그들의 혼합물 등을 들 수 있다.
하이드록시아민으로는, 예를 들어 N,N-디벤질하이드록시아민, N,N-디에틸하이드록시아민, N,N-디옥틸하이드록시아민, N,N-디라우릴하이드록시아민, N,N-디테트라데실하이드록시아민, N,N-디헥사데실하이드록시아민, N,N-디옥타데실하이드록시아민, N-헥사데실-N-옥타데실하이드록시아민, N-헵타데실-N-옥타데실하이드록시아민 및 그들의 혼합물 등을 들 수 있다.
중화제로는, 예를 들어 스테아르산칼슘, 스테아르산아연, 스테아르산마그네슘, 하이드로탈사이트 (염기성 마그네슘·알루미늄·하이드록시·카보네이트·하이드레이트), 멜라민, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄 및 그들의 혼합물 등을 들 수 있다.
활제로는, 예를 들어 파라핀, 왁스 등의 지방족 탄화수소, 탄소수 8 ∼ 22 의 고급 지방산, 탄소수 8 ∼ 22 의 고급 지방산 금속 (Al, Ca, Mg, Zn) 염, 탄소수 8 ∼ 22 의 지방족 알코올, 폴리글리콜, 탄소수 4 ∼ 22 의 고급 지방산과 탄소수 4 ∼ 18 의 지방족 1 가 알코올의 에스테르, 탄소수 8 ∼ 22 의 고급 지방족 아마이드, 실리콘유, 로진 유도체 등을 들 수 있다.
조핵제로는, 예를 들어 다음과 같은 것을 들 수 있다. 나트륨 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)포스페이트, [인산-2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)]디하이드로옥시알루미늄, 비스[인산-2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)]하이드로옥시알루미늄, 트리스[인산-2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)]알루미늄, 나트륨 비스(4-t-부틸페닐)포스페이트, 벤조산나트륨 등의 벤조산 금속염, p-t-부틸벤조산알루미늄, 1,3:2,4-비스(O-벤질리덴)소르비톨, 1,3:2,4-비스(O-메틸벤질리덴)소르비톨, 1,3:2,4-비스(O-에틸벤질리덴)소르비톨, 1,3-O-3,4-디메틸벤질리덴-2,4-O-벤질리덴소르비톨, 1,3-O-벤질리덴-2,4-O-3,4-디메틸벤질리덴소르비톨, 1,3:2,4-비스(O-3,4-디메틸벤질리덴)소르비톨, 1,3-O-p-클로로벤질리덴-2,4-O-3,4-디메틸벤질리덴소르비톨, 1,3-O-3,4-디메틸벤질리덴-2,4-O-p-클로로벤질리덴소르비톨, 1,3:2,4-비스(O-p-클로로벤질리덴)소르비톨 및 그들의 혼합물 등.
충전제로는, 예를 들어 탄산칼슘, 규산염, 유리 섬유, 아스베스토, 탤크, 카올린, 마이카, 황산바륨, 카본 블랙, 카본 파이버, 제올라이트 및 그들의 혼합물 등을 들 수 있다.
이들 첨가제 중 바람직하게 사용되는 것은, 페놀계 산화 방지제, 인계 산화 방지제, 자외선 흡수제, 힌더드아민계 광 안정제, 과산화물 스캐빈저 및 중화제이다.
특히 바람직한 페놀계 산화 방지제로는, 이하의 화합물을 들 수 있다.
2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀, 2,4,6-트리-t-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,2'-티오비스(6-t-부틸페놀), 4,4'-티오비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-t-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)페놀)], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-t-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-t-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 1,1-비스(4-하이드록시페닐)시클로헥산, 1,1-비스(5-t-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1,3-트리스(5-t-부틸-4-하이드록시-2-메틸페닐)부탄, 에틸렌글리콜 비스[3,3-비스-3'-t-부틸-4'-하이드록시페닐)부티레이트], 2-t-부틸-6-(3'-t-부틸-5'-메틸-2'-하이드록시벤질)-4-메틸페닐 아크릴레이트, 2,4-디-t-펜틸-6-[1-(2-하이드록시-3,5-디-t-펜틸페닐)에틸]페닐 아크릴레이트,
2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-페녹시)-1,3,5-트리아진, 트리스(4-t-부틸-3-하이드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질) 이소시아누레이트, 트리스[2-(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시신나모일옥시)에틸]이소시아누레이트, 디에틸-3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 디-n-옥타데실-3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질포스포네이트, 3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질포스폰산모노에스테르의 칼슘염, n-옥타데실 3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 네오펜탄테트라일테트라키스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시신나메이트), 티오디에틸렌비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시신나메이트), 1,3,5-트리메틸-2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)벤젠, 3,6-디옥사옥타메틸렌비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시신나메이트), 헥사메틸렌비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시신나메이트), 트리에틸렌글리콜 비스(5-t-부틸-4-하이드록시-3-메틸신나메이트), 3,9-비스[2-(3-(3-t-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시)-1,1-디메틸에틸]-2,4,4,10-테트라옥사스피로[5·5]운데칸, N,N'-비스[3-(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오닐]히드라진, N,N'-비스[3-(3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오닐]헥사메틸렌디아민 등.
또 특히 바람직한 인계 산화 방지제로는, 이하의 화합물을 들 수 있다.
트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 테트라키스(2,4-디-t-부틸페닐)-4,4'-디페닐렌디포스포나이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐) 2-에틸헥실 포스파이트, 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-t-부틸페닐) 플루오로 포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐) 에틸포스파이트, 2-(2,4,6-트리-t-부틸페닐)-5-에틸-5-부틸-1,3,2-옥사포스포리난, 2,2',2''-니트릴로[트리에틸-트리스(3,3',5,5'-테트라-t-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)포스파이트, 6-[3-(3-t-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-t-부틸디벤즈[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀 등.
특히 바람직한 자외선 흡수제로는, 이하의 화합물을 들 수 있다.
페닐 살리실레이트, 4-t-부틸페닐 살리실레이트, 2,4-디-t-부틸페닐 3',5'-디-t-부틸-4'-하이드록시벤조에이트, 4-t-옥틸페닐 살리실레이트, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 2,2'-디하이드록시-4-메톡시벤조페논, 비스(5-벤조일-4-하이드록시-2-메톡시페닐)메탄, 2,2',4,4'-테트라하이드록시벤조페논, 2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-t-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-t-부틸-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-t-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3-t-부틸-2-하이드록시-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-s-부틸-2'-하이드록시-5'-t-부틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-t-아밀-2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸, 2-[2'-하이드록시-3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)페닐]-2H-벤조트리아졸 등.
특히 바람직한 광 안정제로는, 이하의 화합물을 들 수 있다.
비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-옥톡시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-벤질옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(N-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) 2-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)-2-부틸말로네이트, 비스(1-아크로일-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시벤질)-2-부틸말로네이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)숙시네이트, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜 메타크릴레이트, 4-[3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시]-1-[2-(3-(3,5-디-t-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시)에틸]-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 2-메틸-2-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)프로피온아미드, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트,
테트라키스(1,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) 1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디놀 및 1-트리데칸올의 혼합 에스테르화물, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀 및 1-트리데칸올의 혼합 에스테르화물, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디놀 및 3,9-비스(2-하이드록시-1,1-디메틸에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5·5]운데칸의 혼합 에스테르화물, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산과 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀 및 3,9-비스(2-하이드록시-1,1-디메틸에틸)-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5·5]운데칸의 혼합 에스테르화물, 디메틸 숙시네이트와 1-(2-하이드록시에틸)-4-하이드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 중축합물, 폴리[(6-모르폴리노-1,3,5-트리아진-2,4-디일)((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)헥사메틸렌((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)], 폴리[(6-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-1,3,5-트리아진-2,4-디일)((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)헥사메틸렌((2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노)] 등.
식 (1) 로 나타내는 본 발명의 페놀 화합물 및/또는 필요에 따라 첨가되는 그 밖의 첨가제를, 균질한 혼합물을 얻기 위한 공지된 모든 방법 및 장치를 사용하여, 유기 재료에 첨가할 수 있다. 예를 들어 유기 재료가 고체 폴리머인 경우에는, 본 발명의 페놀 화합물 및/또는 필요에 따라 첨가되는 그 밖의 첨가제를, 그 고체 폴리머에 직접 드라이 블렌드할 수도 있고, 혹은, 페놀 화합물 및/또는 필요에 따라 첨가되는 그 밖의 첨가제를 마스터 배치의 형태로, 고체 폴리머에 첨가할 수도 있다. 유기 재료가 액상 폴리머인 경우에는, 상기 첨가 방법에 더하여, 중합 도중 혹은 중합 직후의 폴리머 용액에, 본 발명의 페놀 화합물 및/또는 필요에 따라 첨가되는 그 밖의 첨가제를, 용액 또는 분산액의 형태로 배합할 수도 있다. 한편, 유기 재료가 고체 폴리머 이외의 액체 (예를 들어 기름 등) 인 경우에는, 상기 첨가 방법에 더하여, 본 발명의 페놀 화합물 및/또는 필요에 따라 첨가되는 그 밖의 첨가제를 유기 재료에 직접 첨가하여 용해시킬 수도 있고, 혹은, 본 발명의 페놀 화합물 및/또는 필요에 따라 첨가되는 그 밖의 첨가제를 액상 매체에 용해 또는 현탁시킨 상태로 첨가할 수도 있다.
식 (1) 로 나타내는 본 발명의 페놀 화합물은, 폴리올레핀 등의 열가소성 수지를 비롯한 각종 유기 재료의 안정제로서 우수한 성능을 갖는다. 본 발명의 페놀 화합물을 첨가한 유기 재료는 제조시, 가공시, 나아가서는 사용시의 열 열화 및 산화 열화 등에 대해 안정적이며, 고품질의 제품이 된다.
실시예
이하에 실시예를 나타내어, 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 의해 한정되는 것은 아니다.
1H-NMR 의 측정
장치 : bruker 사 제조, AV-300M
측정 용매 : CDCl3
MFR 의 측정
MFR 의 측정은, 멜트 인덱서 (형식 L246-3537, 주식회사 테크노·세븐사 제조) 를 사용하여, 온도 230 ℃ 및 하중 21.18 N 으로 실시하였다.
폴리프로필렌 수지는, 열에 의한 가공시에 분해가 진행되고, 그 MFR 이 상승한다. 그 때문에, 안정제를 첨가한 폴리프로필렌 수지 조성물의 MFR 이, 열에 의한 가공에 의해 상승하기 어려울수록, 그 수지 조성물의 가공 안정성은 양호하다.
옐로 인덱스 (YI) 의 측정
실시예 및 비교예에서 얻은 펠릿을, 프레스기 (칸사이 롤사 제조「PEW-5040」) 를 온도 230 ℃ 의 조건에서 사용하여 프레스하여, 두께 1 ㎜ 의 시트를 얻었다. 얻어진 시트의 옐로 인덱스 (YI) 를, 색차계 (미놀타사 제조「CM-3500d」) 를 사용하여 측정하였다. YI 값이 작을수록, 변색이 억제되어 있다고 할 수 있다.
실시예 1 : 식 (1) 로 나타내는 페놀 화합물 (R1 = 메틸) 의 합성
스밀라이저 (등록상표) GA-80 (화학식 : C43H64O10, ExactMass : 740.45, 분자량 : 740.98) 을 10 g (13.5 mmol), 아세톤 100 mL, 탄산칼륨 1.87 g (13.5 mmol, 분자량 : 138.20) 및 요오드화 메틸 1.92 g (13.5 mmol, 분자량 : 141.94) 을 투입하고, 실온에서 밤새 교반하였다. 원료와 생성물의 비율이 LC 로 대략 8 : 2 였기 때문에, 탄산칼륨 및 요오드화 메틸을 각 1 등량씩 추가하고, 실온에서 6 시간 교반하였다. 탄산칼륨 및 요오드화 메틸을 추가로 각 1 등량씩 추가하여 밤새 교반한 후, 여과시키고, 잔사를 농축시켜 미정제 생성물을 얻었다. 잔사를 실리카 겔 칼럼 크로마토그래피 (전개 용매 : 헥산/아세트산에틸계) 로 정제함으로써, 하기 식 (1-MeO) 로 나타내는 화합물 (1) 을 4.5 g, 하기 식 (DMeO) 로 나타내는 디메톡시체 (DMeO) 를 2.9 g 얻었다. 식 (1-MeO) 로 나타내는 화합물 (1) 이 본 발명의 페놀 화합물이다. 얻어진 디메톡시체는, 후술하는 비교예 3 에 있어서의 비교용 수지 조성물에 있어서 사용하였다. 또한, 식 (1-MeO) 로 나타내는 화합물 (1) 의 화학식은 C44H66O10 이고, ExactMass 는 754.47 이고, 분자량은 755.00 이었다. 또, 식 (DMeO) 로 나타내는 디메톡시체의 화학식은 C45H68O10 이고, ExactMass 는 768.48 이고, 분자량은 769.03 이었다.
[화학식 3]
순도 (LC)
기종 : LC-20A
칼럼 : L-column2 ODS (5 ㎛, 4.6 ㎜φ, 150 ㎜)
주입량 : 5 μL (각 메탄올 용액)
이동상 : A 액 물/아세트산 = 1000/1 (v/v)
B 액 메탄올/THF/아세트산 = 930/70/1 (v/v/v)
그레이디언트 : Time (min.) 0 7 37 47
B conc. (%) 70 70 100 100
유량 : 1.0 mL/min
칼럼 온도 : 40°C
측정 파장 : UV, 280 ㎚
순도 : 99.3 % (1-MeO)
97.4 % (DMeO)
실시예 2 : 식 (1) 로 나타내는 페놀 화합물을 포함하는 수지 조성물의 펠릿의 조제
폴리프로필렌 수지 (스미토모 화학 주식회사 제조 MFR : 25 g/10 min) 100 질량부에, 스테아르산칼슘 0.05 질량부와, 실시예 1 에서 얻은 화합물 (1) 0.1 질량부를 드라이 블렌드하였다. 얻어진 혼합물을, 실린더 직경 32 ㎜ 의 2 축 압출기 (형식 : BTN32-S2-36-L, 플라스틱 공학 연구소사 제조) 를 사용하여, 공기 분위기하, 온도 230 ℃ 및 스크루 회전수 100 rpm 의 조건에서 혼련하여, 본 발명의 수지 조성물의 펠릿 (1) 을 얻었다.
얻어진 펠릿 (1) 을, 실린더 직경 30 ㎜ 의 단축 압출기 (형식 : VS30-28, 타나베 플라스틱스사 제조) 를 사용하여, 공기 분위기하, 온도 280 ℃ 및 스크루 회전수 100 rpm 의 조건에서 혼련하여 펠릿을 얻는 작업을 5 회 반복하여, 5 회의 혼련 조작 후의 펠릿 (2) 를 얻었다. 얻어진 펠릿 (2) 의 MFR 과 YI 를, 상기의 측정 방법에 따라 측정하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다.
비교예 1
화합물 (1) 을 첨가하지 않은 것 이외에는 실시예 2 와 동일하게 하여, 5 회의 혼련 조작 후의 펠릿을 제조하였다. 얻어진 펠릿의 MFR 과 YI 를, 상기의 측정 방법에 따라 측정하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다.
비교예 2
화합물 (1) 을 대신하여 실시예 1 에 있어서 원료로서 사용한 GA-80 을 0.1 질량부 첨가한 것 이외에는 실시예 2 와 동일하게 하여, 5 회의 혼련 조작 후의 펠릿을 제조하였다. 얻어진 펠릿의 MFR 과 YI 를, 상기의 측정 방법에 따라 측정하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다.
비교예 3
화합물 (1) 을 대신하여, 실시예 1 에 기재된 제조 방법에 있어서 얻어진 디메톡시체를 0.1 질량부 첨가한 것 이외에는 실시예 2 와 동일하게 하여, 5 회의 혼련 조작 후의 펠릿을 제조하였다. 얻어진 펠릿의 MFR 과 YI 를, 상기의 측정 방법에 따라 측정하였다. 얻어진 결과를 표 1 에 나타낸다.
실시예 2 의 수지 조성물은, 혼련 조작을 5 회 반복한 후의 펠릿 (2) 에 있어서, MFR 이 낮아, 가공시의 열이나 산소 등의 작용에 의한 것으로 생각되는 수지의 분해를 억제할 수 있는 것이 확인되었다. 또, YI 도 낮아, 수지의 착색을 방지할 수 있는 것도 확인되었다. 이에 반해, 본 발명의 페놀 화합물을 첨가하지 않는 비교예 1 ∼ 3 의 경우에는, 5 회의 혼련 조작 후에, 수지의 분해 억제와 착색의 방지의 양방을 충분히 향상시킬 수 없었다.

Claims (9)

  1. 식 (1) :

    [식 중, R1 은 탄소수 1 ∼ 2 의 알킬기를 나타낸다]
    로 나타내는, 페놀 화합물.
  2. 제 1 항에 있어서,
    R1 은 메틸기인, 페놀 화합물.
  3. 제 1 항에 기재된 페놀 화합물을 포함하는, 유기 재료용 안정제.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 페놀 화합물 또는 제 3 항에 기재된 유기 재료용 안정제와, 적어도 1 종의 유기 재료를 포함하는, 수지 조성물.
  5. 제 4 항에 있어서,
    유기 재료가 열가소성 수지인 수지 조성물.
  6. 제 5 항에 있어서,
    열가소성 수지가 폴리올레핀 또는 엔지니어링 플라스틱인, 수지 조성물.
  7. 유기 재료에 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 페놀 화합물 또는 제 3 항에 기재된 유기 재료용 안정제를 첨가하는, 유기 재료의 안정화 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    유기 재료가 열가소성 수지인 안정화 방법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    열가소성 수지가 폴리올레핀 또는 엔지니어링 플라스틱인, 안정화 방법.
KR1020247000351A 2021-07-15 2022-06-30 페놀 화합물, 유기 재료용 안정제, 수지 조성물, 및 유기 재료의 안정화 방법 KR20240036552A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2021-117275 2021-07-15
JP2021117275A JP2023013248A (ja) 2021-07-15 2021-07-15 フェノール化合物、有機材料用安定剤、樹脂組成物、及び有機材料の安定化方法
PCT/JP2022/026154 WO2023286616A1 (ja) 2021-07-15 2022-06-30 フェノール化合物、有機材料用安定剤、樹脂組成物、及び有機材料の安定化方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20240036552A true KR20240036552A (ko) 2024-03-20

Family

ID=84920071

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020247000351A KR20240036552A (ko) 2021-07-15 2022-06-30 페놀 화합물, 유기 재료용 안정제, 수지 조성물, 및 유기 재료의 안정화 방법

Country Status (5)

Country Link
EP (1) EP4371988A1 (ko)
JP (1) JP2023013248A (ko)
KR (1) KR20240036552A (ko)
CN (1) CN117642406A (ko)
WO (1) WO2023286616A1 (ko)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH082998A (ja) 1994-06-15 1996-01-09 Sumitomo Electric Ind Ltd 酸化物誘電体薄膜及びその製造方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2042562B (en) 1979-02-05 1983-05-11 Sandoz Ltd Stabilising polymers
US4316611A (en) 1980-06-20 1982-02-23 Stokes W Fred Competition game machine
US4325853A (en) 1980-07-31 1982-04-20 Gulf Oil Corporation Hot melt adhesive compositions containing rosin esters
JPS60240745A (ja) * 1984-05-15 1985-11-29 Sumitomo Chem Co Ltd 高分子用安定剤
JPH01193362A (ja) * 1988-01-29 1989-08-03 Mitsubishi Petrochem Co Ltd 安定化された合成樹脂組成物
US5175312A (en) 1989-08-31 1992-12-29 Ciba-Geigy Corporation 3-phenylbenzofuran-2-ones
US5216053A (en) 1989-10-30 1993-06-01 The Dow Chemical Company Chlorinated polyethlene mastic adhesive compositions, and process for the production of these compositions
US5252643A (en) 1991-07-01 1993-10-12 Ciba-Geigy Corporation Thiomethylated benzofuran-2-ones
TW260686B (ko) 1992-05-22 1995-10-21 Ciba Geigy
GB2267490B (en) 1992-05-22 1995-08-09 Ciba Geigy Ag 3-(Carboxymethoxyphenyl)benzofuran-2-one stabilisers
TW255902B (ko) 1992-09-23 1995-09-01 Ciba Geigy
MX9305489A (es) 1992-09-23 1994-03-31 Ciba Geigy Ag 3-(dihidrobenzofuran-5-il)benzofuran-2-onas, estabilizadores.
JP3661198B2 (ja) 1994-04-12 2005-06-15 住友化学株式会社 ヒドロキシフェニルプロピオン酸エステルの製造法
JP5050486B2 (ja) * 2005-10-31 2012-10-17 住友化学株式会社 顆粒群およびその製造方法
WO2016021315A1 (ja) * 2014-08-05 2016-02-11 株式会社Adeka 熱可塑性樹脂用酸化防止剤及びそれを含有してなる熱可塑性樹脂組成物

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH082998A (ja) 1994-06-15 1996-01-09 Sumitomo Electric Ind Ltd 酸化物誘電体薄膜及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2023286616A1 (ja) 2023-01-19
CN117642406A (zh) 2024-03-01
EP4371988A1 (en) 2024-05-22
JP2023013248A (ja) 2023-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3876479B2 (ja) 亜リン酸エステル類、その製造法及びその用途
JP4193223B2 (ja) 安定剤組成物、その製造方法及びその用途
EP3348541B1 (en) Stabilizer for organic materials
EP3260461B1 (en) Phosphite compound, method for producing the same and uses thereof
KR20240036552A (ko) 페놀 화합물, 유기 재료용 안정제, 수지 조성물, 및 유기 재료의 안정화 방법
JP4123664B2 (ja) 3−フェニルベンゾフラノン類を有効成分とする熱可塑性ポリマー用安定剤
WO2024150714A1 (ja) 加工安定剤、樹脂組成物、および有機材料の安定化方法
US6046261A (en) Piperidine compound
EP3257858B1 (en) Phosphorous acid compound, method for producing said compound, and use of said compound
EP3330343A1 (en) Phosphite ester composition
WO2023166983A1 (ja) 亜リン酸エステル組成物
JP2017036237A (ja) 液状亜リン酸エステル化合物及びその用途
EP4317166A1 (en) Phosphorous ester compound, method for producing same, and use application for same
JP2023166639A (ja) 新規フェノール化合物及び該化合物を含む樹脂組成物
WO2023166978A1 (ja) 加工安定剤、有機材料組成物、及び有機材料の安定化方法
JP3887881B2 (ja) 5配位リン化合物、その製造方法及びその用途
JP2023170490A (ja) 加工安定剤及びポリアミド樹脂組成物
JP3876481B2 (ja) 亜リン酸エステル類、その製造方法及びその用途
WO2022255116A1 (ja) 亜リン酸エステル組成物
JP2001114762A (ja) ピペリジン系化合物、その製法及びその用途
JP2024053404A (ja) 安定剤、有機材料組成物、及び有機材料の安定化方法
JP3879182B2 (ja) 有機リン化合物、その製造方法及びその用途
JP3846125B2 (ja) ベンゾエート系化合物及びそれを有効成分とする安定剤
JP2017052705A (ja) 液状亜リン酸エステル化合物及びその用途
JPH10120691A (ja) 亜リン酸エステル類、その製法及びその用途