KR20240032247A - Perfluorinated compounds reduction system - Google Patents

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KR20240032247A
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김진홍
장회구
김민지
지승환
이혜인
안혜진
박기범
손용주
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주식회사 에코프로에이치엔
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Abstract

과불화화합물 저감 시스템이 개시된다. 과불화화합물 저감 시스템은, 반도체 에칭 공정에서 발생되는 배기가스에 포함된 과불화화합물을 저감하는 과불화화합물 저감 시스템에 있어서, 전처리 스크러버, 촉매를 이용하는 촉매식 저감 장치 및 및 후처리 스크러버를 포함하고, 상기 배기가스를 순차적으로 통과시킴에 따라 상기 배기가스에 포함된 과불화화합물을 3단계로 제거하는 제거부, 상기 후처리 스크러버를 통과한 가스를 농축시키는 농축기, 및 상기 농축기에서 농축된 농축가스의 일부를 상기 촉매식 저감 장치로 재순환시키는 재순환 라인을 포함하여 구성된다.A perfluorinated compound reduction system is disclosed. The perfluorinated compound reduction system is a perfluorinated compound reduction system that reduces perfluorinated compounds contained in exhaust gas generated from a semiconductor etching process, and includes a pre-treatment scrubber, a catalytic reduction device using a catalyst, and a post-treatment scrubber. , a removal unit that removes perfluorinated compounds contained in the exhaust gas in three stages by sequentially passing the exhaust gas, a concentrator that concentrates the gas that has passed through the post-treatment scrubber, and the concentrated gas concentrated in the concentrator. It is configured to include a recirculation line that recirculates a portion of the catalytic reduction device.

Figure P1020220110749
Figure P1020220110749

Description

과불화화합물 저감 시스템{PERFLUORINATED COMPOUNDS REDUCTION SYSTEM}Perfluorinated compound reduction system {PERFLUORINATED COMPOUNDS REDUCTION SYSTEM}

아래의 실시예들은 과불화화합물 저감 시스템에 관한 것이다.The examples below relate to perfluorinated compound reduction systems.

최근, 지구온난화로 인한 온실가스 배출 저감 방법에 대한 관심이 높아지고 있다. 지구 온난화의 주범으로 지목되는 온실가스는 CO2, CH4, N2O등 다양한 화합물이 있으나, 그 중에서도 과불화화합물의 경우 배출되는 양은 상대적으로 적은 반면, 지구 온난화에 영향을 미치는 정도를 평가한 지구온난화지수(Global warming potential, GWP)가 매우 높아 집중적인 처리가 필요하다. 구체적으로, 과불화화합물의 경우 이산화탄소 대비 수천-수만배의 지구온난화지수를 가지며 이는 곧 동일한 양의 이산화 탄소 대비 지구온난화에 미치는 영향이 수천-수만배에 이르는 것을 의미한다. 그러나, 산업발전에 따라 산업체에서 이러한 과불화화합물의 배출이 증가되고 있으며, 이를 효율적으로 제거하기 위한 장치 또는 시스템이 요구되는 상황이다.Recently, interest in ways to reduce greenhouse gas emissions due to global warming is increasing. Greenhouse gases, which are considered the main cause of global warming, include various compounds such as CO2, CH4, and N2O. Among them, the amount of perfluorinated compounds emitted is relatively small, while the global warming potential (Global Warming Potential), which evaluates the extent to which they affect global warming, is relatively small. Global warming potential (GWP) is very high, so intensive treatment is required. Specifically, perfluorinated compounds have a global warming potential that is thousands to tens of thousands of times that of carbon dioxide, which means that their impact on global warming is thousands to tens of thousands of times that of the same amount of carbon dioxide. However, with industrial development, the emissions of these perfluorinated compounds are increasing from industrial companies, and a device or system to efficiently remove them is required.

이러한 과불화화합물의 예로는 CF4, CHF3, C3F6, CH2F2, C3F4, C2F6, C3F8, C4F10, C5F8, SF6, NF3 등을 들 수 있다. 과불화화합물은 주로 메모리나 LCD 등과 같은 반도체의 생산공정에서 주로 배출되며, 반도체의 제조 공정 중 식각공정의 에칭제나 화학증착공정에서의 반응기 세정제로도 많이 이용되고 있다.Examples of such perfluorinated compounds include CF 4 , CHF 3 , C 3 F 6 , CH 2 F 2 , C 3 F 4 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F 10 , C 5 F 8 , SF 6 , NF 3 , etc. Perfluorinated compounds are mainly emitted in the production process of semiconductors such as memory and LCD, and are also widely used as an etchant in the etching process or as a reactor cleaner in the chemical vapor deposition process during the semiconductor manufacturing process.

이러한 과불화화합물의 배출 감소를 위하여, 촉매를 이용한 촉매 분해법, 플라스마를 이용한 플라즈마 분해법 또는 분리하여 회수하는 분리회수 공정 등을 이용하고 있다. 그러나 플라즈마 분해법의 경우, 고온 공정이므로 에너지를 다량 필요로 하며, 분해 효율이 불확실한 문제점이 있다. 그리고 분리 회수 공정의 경우, 회수율이 낮고 많은 비용이 소모되는 문제점이 있다.To reduce the emissions of these perfluorinated compounds, catalytic decomposition using a catalyst, plasma decomposition using plasma, or a separation and recovery process are used. However, in the case of plasma decomposition, it requires a large amount of energy because it is a high temperature process, and there is a problem in that decomposition efficiency is uncertain. And in the case of the separation and recovery process, there is a problem of low recovery rate and high cost.

나아가 촉매 분해법의 경우, 2차적인 오염물질 및 HF가 발생하는 문제점이 있으며, 촉매 저감 설비의 특성상 가동일수가 늘어날수록 촉매 비활성화 등으로 인해 과불화화합물 저감 효율이 지속적으로 감소하는 단점이 있다. 또한, 유량 변화, 인입 가스 중의 과불화화합물의 농도 변화, 불순물 유입 등과 같은 외부 변인으로 인하여 저감 효율을 일정하게 유지하기 어려운 단점 또한 존재한다. Furthermore, in the case of the catalytic decomposition method, there is a problem of generating secondary pollutants and HF, and due to the nature of the catalytic reduction facility, as the number of operating days increases, the perfluorinated compound reduction efficiency continues to decrease due to catalyst deactivation. In addition, there is also a disadvantage that it is difficult to maintain the reduction efficiency constant due to external variables such as changes in flow rate, changes in the concentration of perfluorinated compounds in the incoming gas, and inflow of impurities.

전술한 배경기술은 발명자가 본원의 개시 내용을 도출하는 과정에서 보유하거나 습득한 것으로서, 반드시 본 출원 전에 일반 공중에 공개된 공지기술이라고 할 수는 없다.The above-mentioned background technology is possessed or acquired by the inventor in the process of deriving the disclosure of the present application, and cannot necessarily be said to be known technology disclosed to the general public before the present application.

실시예의 목적은, 장기간 사용시에도 과불화화합물 저감 효율을 일정하게 유지하여 과불화화합물 저감 성능을 개선할 수 있는 과불화화합물 저감 시스템을 제공하는 것이다. The purpose of the embodiment is to provide a perfluorinated compound reduction system that can improve perfluorinated compound reduction performance by maintaining the perfluorinated compound reduction efficiency constant even during long-term use.

실시예들에서 해결하려는 과제들은 이상에서 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems to be solved in the embodiments are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.

실시예에 따른 과불화화합물 저감 시스템을 개시한다. 과불화화합물 저감 시스템은, 반도체 에칭 공정에서 발생되는 배기가스에 포함된 과불화화합물을 저감하는 과불화화합물 저감 시스템에 있어서, 전처리 스크러버, 촉매를 이용하는 촉매식 저감 장치 및 및 후처리 스크러버를 포함하고, 상기 배기가스를 순차적으로 통과시킴에 따라 상기 배기가스에 포함된 과불화화합물을 3단계로 제거하는 제거부, 상기 후처리 스크러버를 통과한 가스를 농축시키는 농축기, 및 상기 농축기에서 농축된 농축가스의 일부를 상기 촉매식 저감 장치로 재순환시키는 재순환 라인을 포함하여 구성된다.Disclosed is a perfluorinated compound reduction system according to an example. The perfluorinated compound reduction system is a perfluorinated compound reduction system that reduces perfluorinated compounds contained in exhaust gas generated from a semiconductor etching process, and includes a pre-treatment scrubber, a catalytic reduction device using a catalyst, and a post-treatment scrubber. , a removal unit that removes perfluorinated compounds contained in the exhaust gas in three stages by sequentially passing the exhaust gas, a concentrator that concentrates the gas that has passed through the post-treatment scrubber, and the concentrated gas concentrated in the concentrator. It is configured to include a recirculation line that recirculates a portion of the catalytic reduction device.

일 측에 따르면, 상기 농축기는 흡착제를 포함하고, 상기 흡착제는, 상기 후처리 스크러버를 통과한 배기가스에서 과불화화합물을 흡착할 수 있다.According to one side, the concentrator includes an adsorbent, and the adsorbent is capable of adsorbing perfluorinated compounds from exhaust gas that has passed through the post-treatment scrubber.

일 측에 따르면, 상기 흡착제는, 탄소 계통의 다공성 물질 또는 흡착능을 조절 가능하도록 화학물질이 첨착되거나 코팅된 탄소 계통의 다공성 물질, 제올라이트, 금속산화물 계통의 다공성 물질, 금속유기골격체, 공유결합성 유기골격체, 금속 질화물, 또는 금속 탄화물 계통의 다공성 물질 중 선택된 적어도 하나 이상으로 구성될 수 있다.According to one side, the adsorbent is a carbon-based porous material or a carbon-based porous material impregnated or coated with chemicals to control the adsorption capacity, zeolite, a metal oxide-based porous material, a metal-organic framework, and a covalent bond. It may be composed of at least one selected from an organic framework, a metal nitride, or a metal carbide-based porous material.

일 측에 따르면, 상기 농축기는, 송풍기를 포함하고, 상기 송풍기는 100℃ 내지 300℃의 수증기 또는 공기를 상기 흡착제로 유입시켜 상기 흡착제에 흡착된 과불화화합물의 일부를 탈착시키고, 상기 흡착제를 통과한 수증기 또는 공기를 상기 재순환 라인으로 재순환시킬 수 있다.According to one side, the concentrator includes a blower, and the blower introduces water vapor or air of 100°C to 300°C into the adsorbent to desorb a portion of the perfluorinated compound adsorbed on the adsorbent and pass through the adsorbent. The water vapor or air can be recycled to the recirculation line.

일 측에 따르면, 상기 농축기는, 상기 흡착제에 흡착된 과불화화합물의 5% 내지 90%를 탈착시키도록 상기 수증기 또는 공기의 유입량 및 온도를 조절 가능하게 형성될 수 있다.According to one side, the concentrator may be configured to adjust the inflow amount and temperature of the water vapor or air to desorb 5% to 90% of the perfluorinated compound adsorbed on the adsorbent.

일 측에 따르면, 상기 재순환 라인은, 상기 전처리 스크러버에서 상기 촉매식 저감 장치로 상기 배기가스를 유입시키는 배관에 연결될 수 있다.According to one side, the recirculation line may be connected to a pipe that introduces the exhaust gas from the pretreatment scrubber to the catalytic reduction device.

일 측에 따르면, 상기 촉매식 저감 장치는, 가스유입부와 가스배출부가 구비된 하우징, 상기 하우징 내부에 구비되는 축열체, 상기 축열체의 상부에 구비되고, 과불화화합물을 분해하는 촉매, 및 상기 촉매 상부에 구비되고, 상기 하우징 내부에 인입된 가스를 가열하는 버너를 포함할 수 있다.According to one side, the catalytic reduction device includes a housing provided with a gas inlet and a gas outlet, a thermal storage body provided inside the housing, a catalyst provided on an upper part of the thermal storage body and decomposing perfluorinated compounds, and It may be provided on top of the catalyst and may include a burner that heats gas introduced into the housing.

일 측에 따르면, 상기 촉매는, 알루미늄, 바륨, 인, 붕소, 지르코늄, 아연, 주석, 세륨, 코발트, 니켈, 철, 아연, 몰리브데늄, 텅스텐, 크롬, 또는 망간 중 적어도 하나 이상의 금속 산화물 촉매를 포함할 수 있다.According to one side, the catalyst is a metal oxide catalyst of at least one of aluminum, barium, phosphorus, boron, zirconium, zinc, tin, cerium, cobalt, nickel, iron, zinc, molybdenum, tungsten, chromium, or manganese. may include.

일 측에 따르면, 상기 축열체는, 열을 축적할 수 있는 소재를 포함하고, 세라믹, 금속산화물, 금속수산화물, 금속질화물, 또는 금속탄화물 중 적어도 하나 이상의 소재로 구성될 수 있다.According to one side, the thermal storage body includes a material capable of accumulating heat and may be made of at least one of ceramic, metal oxide, metal hydroxide, metal nitride, or metal carbide.

일 측에 따르면, 상기 전처리 스크러버 및 상기 후처리 스크러버는, 과불화화합물을 흡수하는 흡수액을 포함하고, 상기 흡수액의 pH를 조정 가능하도록 구비될 수 있다.According to one side, the pre-treatment scrubber and the post-treatment scrubber may include an absorbent liquid that absorbs perfluorinated compounds, and may be equipped to adjust the pH of the absorbent liquid.

일 측에 따르면, 상기 전처리 스크러버는, 상기 배기가스의 입자상 물질과 중화 반응에 의해 생성된 염이 상기 촉매식 저감 장치로 유입되는 것을 방지하는 필터, 및 데미스터를 더 포함할 수 있다.According to one side, the pretreatment scrubber may further include a filter that prevents particulate matter of the exhaust gas and salts generated by a neutralization reaction from flowing into the catalytic reduction device, and a demister.

이상에서 본 바와 같이, 실시예들에 따르면, 과불화화합물 저감 시스템은, 농축기 및 재순환 라인을 통해 과불화화합물을 촉매식 저감 장치에 한번 더 통과시킴으로써 장기간 사용시에도 시스템의 과불화화합물 저감 효율을 일정하게 유지시킬 수 있다.As seen above, according to the embodiments, the perfluorinated compound reduction system keeps the perfluorinated compound reduction efficiency of the system constant even during long-term use by passing the perfluorinated compound through the concentrator and recirculation line once more through the catalytic reduction device. It can be maintained.

일 실시예에 따른 과불화화합물 저감 시스템의 효과는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The effects of the perfluorinated compound reduction system according to one embodiment are not limited to those mentioned above, and other effects not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the description below.

도 1은 일 실시 예에 따른 과불화화합물 저감 시스템을 간략히 도시한 도면이다.
도 2는 일 실시 예에 따른 촉매식 저감 장치의 구성을 나타낸 도면이다.
본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예들을 예시하는 것이며, 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술적 사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니 된다.1 is a diagram briefly illustrating a perfluorinated compound reduction system according to an embodiment.
Figure 2 is a diagram showing the configuration of a catalytic reduction device according to an embodiment.
The following drawings attached to this specification illustrate preferred embodiments of the present invention, and serve to further understand the technical idea of the present invention along with the detailed description of the invention, so the present invention is limited only to the matters described in such drawings. It should not be interpreted as such.

이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 실시예들을 상세하게 설명한다. 그러나, 실시예들에는 다양한 변경이 가해질 수 있어서 특허출원의 권리 범위가 이러한 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 실시예들에 대한 모든 변경, 균등물 내지 대체물이 권리 범위에 포함되는 것으로 이해되어야 한다.Hereinafter, embodiments will be described in detail with reference to the attached drawings. However, various changes can be made to the embodiments, so the scope of the patent application is not limited or limited by these embodiments. It should be understood that all changes, equivalents, or substitutes for the embodiments are included in the scope of rights.

실시예에서 사용한 용어는 단지 설명을 목적으로 사용된 것으로, 한정하려는 의도로 해석되어서는 안된다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 명세서에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terms used in the examples are for descriptive purposes only and should not be construed as limiting. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly dictates otherwise. In this specification, terms such as “comprise” or “have” are intended to designate the presence of features, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof described in the specification, but are not intended to indicate the presence of one or more other features. It should be understood that this does not exclude in advance the possibility of the existence or addition of elements, numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.

다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 실시예가 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as generally understood by a person of ordinary skill in the technical field to which the embodiments belong. Terms defined in commonly used dictionaries should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and unless explicitly defined in the present application, should not be interpreted in an ideal or excessively formal sense. No.

또한, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 도면 부호에 관계없이 동일한 구성 요소는 동일한 참조부호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다. 실시예를 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 실시예의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.In addition, when describing with reference to the accompanying drawings, identical components will be assigned the same reference numerals regardless of the reference numerals, and overlapping descriptions thereof will be omitted. In describing the embodiments, if it is determined that detailed descriptions of related known technologies may unnecessarily obscure the gist of the embodiments, the detailed descriptions are omitted.

또한, 실시예의 구성 요소를 설명하는 데 있어서, 제1, 제2, A, B, (a), (b) 등의 용어를 사용할 수 있다. 이러한 용어는 그 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위한 것일 뿐, 그 용어에 의해 해당 구성 요소의 본질이나 차례 또는 순서 등이 한정되지 않는다. 어떤 구성 요소가 다른 구성요소에 "연결", "결합" 또는 "접속"된다고 기재된 경우, 그 구성 요소는 그 다른 구성요소에 직접적으로 연결되거나 접속될 수 있지만, 각 구성 요소 사이에 또 다른 구성 요소가 "연결", "결합" 또는 "접속"될 수도 있다고 이해되어야 할 것이다. Additionally, in describing the components of the embodiment, terms such as first, second, A, B, (a), and (b) may be used. These terms are only used to distinguish the component from other components, and the nature, sequence, or order of the component is not limited by the term. When a component is described as being "connected," "coupled," or "connected" to another component, that component may be directly connected or connected to that other component, but there is no need for another component between each component. It should be understood that may be “connected,” “combined,” or “connected.”

어느 하나의 실시예에 포함된 구성요소와, 공통적인 기능을 포함하는 구성요소는, 다른 실시예에서 동일한 명칭을 사용하여 설명하기로 한다. 반대되는 기재가 없는 이상, 어느 하나의 실시예에 기재한 설명은 다른 실시예에도 적용될 수 있으며, 중복되는 범위에서 구체적인 설명은 생략하기로 한다.Components included in one embodiment and components including common functions will be described using the same names in other embodiments. Unless stated to the contrary, the description given in one embodiment may be applied to other embodiments, and detailed description will be omitted to the extent of overlap.

도면을 참조하여, 과불화화합물 저감 시스템(1)에 대해 설명한다. 참고적으로, 도 1은 일 실시 예에 따른 과불화화합물 저감 시스템(1)을 간략히 도시한 도면이고, 도 2는 일 실시 예에 따른 촉매식 저감 장치(12)의 구성을 나타낸 도면이다.Referring to the drawings, the perfluorinated compound reduction system 1 will be described. For reference, FIG. 1 is a diagram briefly showing a perfluorinated compound reduction system 1 according to an embodiment, and FIG. 2 is a diagram showing the configuration of a catalytic reduction device 12 according to an embodiment.

도 1 내지 도 2를 참조하면, 과불화화합물 저감 시스템(1)은, 반도체 에칭 공정에서 발생되는 배기가스에 포함된 유해물질, 과불화화합물, 입자상 물질을 저감할 수 있고, 장기간 사용시에도 과불화화합물 저감 효율을 일정하게 유지할 수 있다. 반도체 제조 공정 (예를 들어, 에칭 공정)에서 배출되는 배기가스에는 각종 유해물질, 과불화화합물, 입자상 물질이 포함되어 있다. 예를 들어, 유해물질은 HF, F2, SiF4, Cl2, HCl, BCl3, SiCl4, CCl4, CHCl3, HBr, Br2, 불화 금속류, 염화 금속류 등이 있고, 과불화화합물 및 기타 불화 화합물의 종류로는 CF4, CHF3, CH3F, CH2F2, C4F6, C4F8, C2F4, C2F6, COF2, SF6, NF3 등이 있고, 입자상 물질은 Si의 수산화물 또는 산화물, Al의 수산화물 또는 산화물, W의 수산화물 또는 산화물, Ti의 수산화물 또는 산화물 등이 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위해 유해물질, 과불화화합물, 입자상 물질을 과불화화합물로 통칭하여 설명하기로 한다.Referring to Figures 1 and 2, the perfluorinated compound reduction system 1 can reduce harmful substances, perfluorinated compounds, and particulate matter contained in exhaust gas generated from a semiconductor etching process, and can reduce perfluorinated compounds even when used for a long period of time. The compound reduction efficiency can be kept constant. Exhaust gases emitted from semiconductor manufacturing processes (e.g., etching processes) contain various hazardous substances, perfluorinated compounds, and particulate matter. For example, hazardous substances include HF, F 2 , SiF 4 , Cl 2 , HCl, BCl 3 , SiCl 4 , CCl 4 , CHCl 3 , HBr, Br 2 , metal fluoride, metal chloride, etc., and perfluorinated compounds and Other types of fluorinated compounds include CF 4 , CHF 3 , CH 3 F, CH 2 F 2 , C 4 F 6 , C 4 F 8 , C 2 F 4 , C 2 F 6 , COF 2 , SF 6 , and NF 3 etc., and the particulate matter includes a hydroxide or oxide of Si, a hydroxide or oxide of Al, a hydroxide or oxide of W, and a hydroxide or oxide of Ti. Hereinafter, for convenience of explanation, hazardous substances, perfluorinated compounds, and particulate matter will be collectively referred to as perfluorinated compounds.

일 실시 예에 따른 과불화화합물 저감 시스템(1)은, 제거부(10), 농축기(20), 및 재순환 라인(30)을 포함한다.The perfluorinated compound reduction system 1 according to one embodiment includes a removal unit 10, a concentrator 20, and a recirculation line 30.

일 실시 예에 따른 제거부(10)는, 전처리 스크러버(11), 촉매를 이용하는 촉매식 저감 장치(12), 및 후처리 스크러버(13)를 포함할 수 있다. 제거부(10)는 배기가스를 순차적으로 통과시킴에 따라 배기가스에 포함된 과불화화합물을 3단계로 제거할 수 있다. 여기서, 배기가스를 순차적으로 통과시키기 위하여 반도체 에칭 공정부와 전처리 스크러버(11) 사이, 전처리 스크러버(11)와 촉매식 저감 장치(12) 사이, 촉매식 저감 장치(12)와 후처리 스크러버(13) 사이, 후처리 스크러버(13)와 농축기(20) 사이, 및 후처리 스크러버(13)와 최종 배기구 사이에 배기가스가 이동하는 배관이 형성될 수 있다. 이하에서는 설명의 편의를 위해, 순서대로 제1배관(14), 제2배관(15), 제3배관(16), 제4배관(17). 및 제5배관(23)으로 명명하여 설명하도록 한다.The removal unit 10 according to one embodiment may include a pre-treatment scrubber 11, a catalytic reduction device 12 using a catalyst, and a post-treatment scrubber 13. The removal unit 10 can remove perfluorinated compounds contained in the exhaust gas in three stages by sequentially passing the exhaust gas. Here, in order to sequentially pass the exhaust gas, between the semiconductor etching process unit and the pre-treatment scrubber 11, between the pre-treatment scrubber 11 and the catalytic abatement device 12, and between the catalytic abatement device 12 and the post-treatment scrubber 13 ), between the post-treatment scrubber 13 and the concentrator 20, and between the post-treatment scrubber 13 and the final exhaust port, a pipe through which the exhaust gas moves may be formed. Hereinafter, for convenience of explanation, the first pipe (14), the second pipe (15), the third pipe (16), and the fourth pipe (17) are used in that order. and the fifth pipe (23).

전처리 스크러버(11)는 제1배관(14)과 연결되어 반도체 공정에서 발생된 배기가스를 1차적으로 처리할 수 있다. 전처리 스크러버(11)는 후술하는 촉매식 저감 장치(12)의 촉매에 촉매독이 될 수 있는 물질을 제거하거나, 미세먼지를 제거하는 장치일 수 있으며, 예를 들어, 습식 스크러버일 수 있다.The pretreatment scrubber 11 is connected to the first pipe 14 and can primarily treat exhaust gas generated in the semiconductor process. The pretreatment scrubber 11 may be a device that removes substances that may poison the catalyst of the catalytic reduction device 12, which will be described later, or removes fine dust. For example, it may be a wet scrubber.

전처리 스크러버(11)는 과불화화합물을 흡수하는 흡수액을 포함할 수 있다. 전처리 스크러버(11)는 흡수액의 pH를 조정 가능하도록 구비된다. 예를 들어, 전처리 스크러버(11) 내부로 서로 pH가 다른 흡수액을 분사하는 복수 개의 노즐, 및 노즐을 선택하고 각 노즐의 분사량을 조절하는 제어부가 구비될 수 있다. 구체적으로, 제1노즐이 입자상 물질이 포함된 배기가스를 산화시키기 위한 아염소산나트륨 용액과 같은 세정액을 분사하고, 제2노즐이 산화된 배기가스를 중화시키기 위한 암모니아수 용액과 같은 세정액을 분사할 수 있다. The pretreatment scrubber 11 may contain an absorbent liquid that absorbs perfluorinated compounds. The pretreatment scrubber 11 is provided to adjust the pH of the absorbent liquid. For example, a plurality of nozzles that spray absorbent liquids with different pH into the pretreatment scrubber 11 may be provided, and a control unit that selects the nozzles and adjusts the spray amount of each nozzle. Specifically, the first nozzle may spray a cleaning liquid such as a sodium chlorite solution to oxidize exhaust gas containing particulate matter, and the second nozzle may spray a cleaning liquid such as an ammonia solution to neutralize the oxidized exhaust gas. there is.

또한, 전처리 스크러버(11)는, 배기가스의 입자상 물질과 중화 반응에 의해 생성된 염이 촉매식 저감 장치(12)로 유입되는 것을 방지하는 필터(111), 및 데미스터(112)를 더 포함할 수 있다. 예를 들어, 필터(111)는 다공성 소재로 형성되어 입자상 물질을 제거 및 포집할 수 있고, 데미스터(112)는 복수의 플레이트가 서로 결합되어 절곡형성되는 구조로 이루어져 세정액에 포함된 염을 제거 및 포집할 수 있다.In addition, the pretreatment scrubber 11 further includes a filter 111 and a demister 112 that prevent particulate matter in the exhaust gas and salts generated by the neutralization reaction from flowing into the catalytic reduction device 12. can do. For example, the filter 111 is made of a porous material to remove and collect particulate matter, and the demister 112 is made of a structure in which a plurality of plates are joined and bent to remove salts contained in the cleaning solution. and can be captured.

촉매식 저감 장치(12)는 제2배관(15)과 연결되어 전처리 스크러버(11)를 통과한 가스를 2차적으로 처리할 수 있다. 촉매식 저감 장치(12)는, 하우징(121), 축열체(122), 촉매(123), 및 버너(124)를 포함한다.The catalytic reduction device 12 is connected to the second pipe 15 and can secondarily treat the gas that has passed through the pretreatment scrubber 11. The catalytic reduction device 12 includes a housing 121, a heat storage body 122, a catalyst 123, and a burner 124.

하우징(121)은 촉매식 저감 장치(12)의 외관을 형성하며, 내부에는 배기가스의 분해 처리가 수행되는 밀폐된 공간을 형성된다. 하우징(121)은 내부에 밀폐된 공간을 가지도록 바닥부, 측벽부, 및 천정부를 형성하는 벽체들로 이루어질 수 있다. 도시한 바와 같이, 하우징(121)은 단면이 사각형인 육면체와 같은 형태를 가질 수 있지만, 그에 한정되는 것은 아니다. 또한, 도시하지 않지만 하우징(121) 내면에는 내화부재가 배치될 수 있다.The housing 121 forms the exterior of the catalytic reduction device 12, and forms a closed space inside where decomposition treatment of exhaust gas is performed. The housing 121 may be made of walls forming a bottom part, a side wall part, and a ceiling part so as to have a sealed space inside. As shown, the housing 121 may have a shape such as a hexahedron with a square cross-section, but is not limited thereto. Additionally, although not shown, a fireproof member may be disposed on the inner surface of the housing 121.

또한, 하우징(121)은 지지프레임에 의해 지면으로부터 소정 높이로 지지될 수 있다.Additionally, the housing 121 may be supported at a predetermined height from the ground by a support frame.

또한, 하우징(121)은, 적어도 하나 이상의 파티션들에 의해 다수개의 구획 공간으로 나뉠 수 있다. 파티션들이 하우징(121)의 천정부보다 낮은 높이를 가지기 때문에 하우징(121) 내부에서 상부 공간은 가스가 이동가능하도록 연결되어 있다. 여기서, 하우징(121)은 2개의 파티션이 구비되어 하우징(121) 내부를 3개의 구획 공간으로 분리할 수 있다. Additionally, the housing 121 may be divided into a plurality of partition spaces by at least one partition. Since the partitions have a lower height than the ceiling of the housing 121, the upper space within the housing 121 is connected to allow gas to move. Here, the housing 121 is provided with two partitions so that the interior of the housing 121 can be divided into three compartment spaces.

또한, 하우징(121)은 적어도 하나 이상의 가스유입부와 가스배출부가 구비될 수 있다. 여기서, 적어도 하나 이상의 가스 유입부와 가스배출부는 제2배관(15)과 제3배관(16)으로부터 분기된 배관에 의해 각각 연결될 수 있다. Additionally, the housing 121 may be provided with at least one gas inlet and one gas outlet. Here, at least one gas inlet and one or more gas outlets may be connected to each other by pipes branched from the second pipe 15 and the third pipe 16.

축열체(122)는 하우징(121) 내부에 구비된다. 축열체(122)를 구비함으로써, 가스 유입부로 유입된 가스를 예열함으로써 운전비용을 절감할 수 있는 장점이 있다. 이를 위해, 축열체(122)는, 열을 축적할 수 있는 소재를 포함하고, 세라믹, 금속산화물, 금속수산화물, 금속질화물, 또는 금속탄화물 중 적어도 하나 이상의 소재로 구성될 수 있다. 여기서, 축열체(122)는 Al2O3를 85 중량% 이상, 바람직하게는 Al2O3를 95 중량% 이상을 포함할 수 있다. 축열체(122)는 Al2O3가 다량 포함될 경우, 부식성이 강한 HF에 강한 내성을 가져 축열체(122)를 장기간 손상 없이 이용할 수 있는 장점이 있다.The heat storage body 122 is provided inside the housing 121. By providing the thermal storage body 122, there is an advantage in that operating costs can be reduced by preheating the gas flowing into the gas inlet. To this end, the thermal storage body 122 includes a material capable of accumulating heat and may be made of at least one of ceramic, metal oxide, metal hydroxide, metal nitride, or metal carbide. Here, the thermal storage body 122 may contain 85% by weight or more of Al 2 O 3 , and preferably 95% by weight or more of Al 2 O 3 . When the thermal storage body 122 contains a large amount of Al 2 O 3 , it has strong resistance to highly corrosive HF, which has the advantage that the thermal storage body 122 can be used for a long period of time without damage.

촉매(123)는 축열체(122)의 상부에 구비되고, 과불화화합물을 분해한다. 촉매(123)는 소정 온도 조건에서 소모되거나 변하지 않으면서 가스의 분해 반응을 촉진시킨다. 촉매(123)가 축열체(122)의 상부에 구비됨으로써, 가스는 소정 온도로 예열된 상태로 촉매(123)를 통과할 수 있다. 여기서, 촉매(123)를 통과할 때의 온도는 650℃ 내지800℃일 수 있다. 예를 들어, 촉매(123)는 알루미늄, 바륨, 인, 붕소, 지르코늄, 아연, 주석, 세륨, 코발트, 니켈, 철, 아연, 몰리브데늄, 텅스텐, 크롬, 또는 망간 중 적어도 하나 이상의 금속 산화물 촉매를 포함할 수 있다. The catalyst 123 is provided on the top of the heat storage body 122 and decomposes perfluorinated compounds. The catalyst 123 promotes the decomposition reaction of gas without being consumed or changed under predetermined temperature conditions. Since the catalyst 123 is provided on the upper part of the heat storage body 122, gas can pass through the catalyst 123 while being preheated to a predetermined temperature. Here, the temperature when passing through the catalyst 123 may be 650°C to 800°C. For example, the catalyst 123 is a metal oxide catalyst of at least one of aluminum, barium, phosphorus, boron, zirconium, zinc, tin, cerium, cobalt, nickel, iron, zinc, molybdenum, tungsten, chromium, or manganese. may include.

또한, 도시하지 않지만 촉매(123)는 과불화화합물 분해 촉매를 포함하는 제1촉매, 선택적 환원 촉매를 포함하는 제2촉매, 및 제2촉매에 연결된 암모니아 주입부로 구성될 수 있다. 제1촉매에서 과불화화합물이 분해되는 경우, HF, 산화물 등 부생성물이 생성될 수 있다. HF는 부식성이 강해 촉매의 손상을 초래하고, 촉매 피독을 일으켜 촉매의 분해효율을 떨어뜨릴 수 있다. 제2촉매부 및 암모니아 주입부의 구성을 통해, 제1촉매에서 발생된 HF 및 산화물을 질소 및 산소로 분해할 수 있다. 여기서, 선택적 환원 촉매는 니켈, 아연, 주석, 텅스텐, 몰리브덴, 코발트, 비스무트, 티타늄, 지르코늄, 세륨, 안티몬, 망간, 바나듐, 니오븀, 루테늄, 팔라듐, 로듐, 금, 은, 백금, 인듐 및 이리듐 중 적어도 하나 이상의 금속 산화물 촉매를 포함할 수 있다. 암모니아 주입부를 통해 주입된 암모니아가 제2촉매에서 HF와 결합하여 고체인 NH4F를 생성하여, HF의 활성을 저해할 수 있다.In addition, although not shown, the catalyst 123 may be composed of a first catalyst including a perfluorinated compound decomposition catalyst, a second catalyst including a selective reduction catalyst, and an ammonia injection unit connected to the second catalyst. When perfluorinated compounds are decomposed in the first catalyst, by-products such as HF and oxides may be generated. HF is highly corrosive and can cause damage to the catalyst and reduce the decomposition efficiency of the catalyst by causing catalyst poisoning. Through the configuration of the second catalyst section and the ammonia injection section, HF and oxides generated in the first catalyst can be decomposed into nitrogen and oxygen. Here, the selective reduction catalyst is nickel, zinc, tin, tungsten, molybdenum, cobalt, bismuth, titanium, zirconium, cerium, antimony, manganese, vanadium, niobium, ruthenium, palladium, rhodium, gold, silver, platinum, indium and iridium. It may include at least one metal oxide catalyst. Ammonia injected through the ammonia injection unit combines with HF in the second catalyst to generate solid NH 4 F, which may inhibit the activity of HF.

버너(124)는 촉매 상부에 구비되고, 하우징(121) 내부에 인입된 가스를 가열한다. 예를 들어, 버너(124)는 히팅자켓, 또는 열교환기일 수 있다. 다만 이는 일 예시에 불과한 것으로써, 가스를 가열할 수 있는 수단 또는 방법인 경우 제한이 없다.The burner 124 is provided on top of the catalyst and heats the gas introduced into the housing 121. For example, burner 124 may be a heating jacket or a heat exchanger. However, this is only an example, and there is no limitation as long as it is a means or method of heating gas.

후처리 스크러버(13)는 제3배관(16)과 연결되어 촉매식 저감 장치(12)를 통과한 가스를 3차적으로 처리할 수 있다. 후처리 스크러버(13)는 촉매식 저감 장치(12)에서 과불화화합물이 분해되고 생성된 HF, F2, SOx, NOx 등의 분해 부산물을 처리할 수 있으며, 구체적으로 습식 스크러버일 수 있다. 후처리 스크러버(13)의 구성은 전처리 스크러버(11)의 구성과 동일하므로, 자세한 설명은 생략하도록 한다.The post-treatment scrubber 13 is connected to the third pipe 16 and can thirdly process the gas that has passed through the catalytic reduction device 12. The post-treatment scrubber 13 can treat decomposition by-products such as HF, F2, SOx, and NOx generated when perfluorinated compounds are decomposed in the catalytic reduction device 12, and may specifically be a wet scrubber. Since the configuration of the post-treatment scrubber 13 is the same as that of the pre-treatment scrubber 11, detailed description will be omitted.

또한, 일 실시 예에 따르면, 후처리 스크러버(13)의 후단에 흡착 설비 또는 흡수 설비를 추가하여 분해 부산물의 제거 효율을 높일 수도 있다.Additionally, according to one embodiment, the removal efficiency of decomposition by-products may be increased by adding an adsorption facility or absorption facility at the rear of the post-treatment scrubber 13.

농축기(20)는 제4배관(17)과 연결되어 후처리 스크러버(13)를 통과한 가스를 농축시킨다. 가스가 후처리 스크러버(13)까지 통과하더라도 아직 전환되지 않은 과불화화합물이 포함되어 있을 수 있다. 후처리 스크러버(13)를 통과한 가스의 과불화화합물은 농도가 낮은 상태이기 때문에, 고농도로 농축시킴으로써 배출 효율을 향상시킬 수 있다. 과불화화합물을 농축시키기 위해서, 농축기(20)는 흡착제(21)를 포함할 수 있다. 흡착제(21)는 후처리 스크러버(13)를 통과한 배기가스에서 미전환된 과불화화합물을 흡착한다. 여기서, 흡착제(21)는 로터를 이용하여 회전하는 이동상 흡착제(21), 두 개 이상의 흡착베드를 이용하여 흡착과 탈착을 반복하는 고정상 흡착제(21), 또는 유동화에 적합한 구상의 흡착제(21)를 이용한 유동상 흡착제(21)를 사용할 수 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며 흡착이 가능한 모든 방법 및 장치가 가능하다.The concentrator 20 is connected to the fourth pipe 17 and concentrates the gas that has passed through the post-treatment scrubber 13. Even if the gas passes through the post-treatment scrubber 13, it may contain perfluorinated compounds that have not yet been converted. Since the perfluorinated compounds in the gas that passed through the post-treatment scrubber 13 have a low concentration, discharge efficiency can be improved by concentrating them to a high concentration. In order to concentrate the perfluorinated compound, the concentrator 20 may include an adsorbent 21. The adsorbent 21 adsorbs unconverted perfluorinated compounds from the exhaust gas that has passed through the post-treatment scrubber 13. Here, the adsorbent 21 is a mobile bed adsorbent 21 that rotates using a rotor, a fixed bed adsorbent 21 that repeats adsorption and desorption using two or more adsorption beds, or a spherical adsorbent 21 suitable for fluidization. The fluidized bed adsorbent 21 can be used, but is not necessarily limited to this, and any method or device capable of adsorption is possible.

여기서, 흡착제(21)는 탄소 계통의 다공성 물질 또는 흡착능을 조절 가능하도록 화학물질이 첨착되거나 코팅된 탄소 계통의 다공성 물질, 제올라이트, 금속산화물 계통의 다공성 물질, 금속유기골격체, 공유결합성 유기골격체, 금속 질화물, 또는 금속 탄화물 계통의 다공성 물질 중 선택된 적어도 하나 이상으로 구성될 수 있다.Here, the adsorbent 21 is a carbon-based porous material or a carbon-based porous material impregnated or coated with chemicals to control the adsorption capacity, zeolite, a metal oxide-based porous material, a metal-organic framework, or a covalent organic framework. It may be composed of at least one selected from a sieve, a metal nitride, or a metal carbide-based porous material.

또한, 농축기(20)는 흡착제(21)에 흡착된 과불화화합물의 일부를 탈착시킴으로써 흡착제(21)의 흡착능을 유지시킬 수 있도록 형성된다. 농축기(20)는 100℃ 내지 300℃의 수증기 또는 공기를 흡착제(21)에 제공함으로써, 흡착제(21)에 흡착된 과불화화합물의 5% 내지 90%를 탈착시킬 수 있다.In addition, the concentrator 20 is formed to maintain the adsorption capacity of the adsorbent 21 by desorbing a portion of the perfluorinated compound adsorbed on the adsorbent 21. The concentrator 20 can desorb 5% to 90% of the perfluorinated compounds adsorbed on the adsorbent 21 by providing water vapor or air at a temperature of 100°C to 300°C to the adsorbent 21.

여기서, 흡착제(21)에 제공되는 수증기 또는 공기의 온도가 100℃ 미만인 경우에는 탈착 효율이 5%이하로 낮아질 수 있고, 수증기가 응축되어 탈착 효율의 저하와 동시에 흡착 효율 또한 저하되어 흡착과 탈착으로 이루어진 연속 운전이 어려워질 수 있다. 흡착제(21)에 제공되는 수증기 또는 공기의 온도가 300℃를 초과하는 경우에는 수증기 또한 공기의 온도를 상승시키기 위해 과도한 에너지가 소모되고, 동시에 탈착 효율을 90% 이상으로 높이는 데는 한계가 있어 설비 운용의 효율이 떨어진다. 또한, 흡착 효율을 높이기 위해서는 높은 온도로 가열된 흡착제(21)를 다시 낮은 온도로 냉각시켜주어야 하는데, 이러한 냉각 과정에 많은 시간이 소요될 수 있어 흡착과 탈착으로 이루어진 연속 운전이 어려워질 수 있다.Here, if the temperature of the water vapor or air provided to the adsorbent 21 is less than 100°C, the desorption efficiency may be lowered to 5% or less, and the water vapor condenses and the desorption efficiency decreases. At the same time, the adsorption efficiency also decreases, resulting in a breakdown between adsorption and desorption. Continuous operation may become difficult. If the temperature of the water vapor or air provided to the adsorbent 21 exceeds 300°C, excessive energy is consumed to raise the temperature of the water vapor and air, and at the same time, there is a limit to increasing the desorption efficiency to 90% or more, making it difficult to operate the facility. efficiency decreases. In addition, in order to increase adsorption efficiency, the adsorbent 21 heated to a high temperature must be cooled to a low temperature again, but this cooling process may take a lot of time, making continuous operation consisting of adsorption and desorption difficult.

농축기(20)는 수증기 또는 공기를 유입시키고 그 유입량 및 온도를 조절 가능하도록 송풍기(22)를 포함할 수 있다. 예를 들어, 송풍기(22)는 농축기(20)의 상단부에 구비되고, 100℃ 내지 300℃의 수증기 또는 공기를, 농축기(20)로 유입되는 가스의 총 유량의 15% 이하의 유량으로 흡착제(21)에 유입시킬 수 있다.The concentrator 20 may include a blower 22 to introduce water vapor or air and to control the amount and temperature of the inflow. For example, the blower 22 is provided at the upper end of the concentrator 20 and blows water vapor or air at 100°C to 300°C into the adsorbent ( 21) can be introduced.

농축기(20)는 흡착제(21)를 통과하여서 과불화화합물을 포함하는 수증기 또는 공기를 재순환 라인(30)을 통해 제거부(10)로 유입시킴으로써, 상기 수증기 또는 공기에 포함된 과불화화합물을 저감시키도록 순환시킬 수 있다.The concentrator 20 passes through the adsorbent 21 and introduces water vapor or air containing perfluorinated compounds into the removal unit 10 through the recirculation line 30, thereby reducing the perfluorinated compounds contained in the water vapor or air. It can be circulated to do so.

재순환 라인(30)은 흡착제(21)에서 탈착된 과불화화합물을 포함하는 수증기 또는 공기를 촉매식 저감 장치(12)로 유입시킨다. The recirculation line 30 introduces water vapor or air containing perfluorinated compounds desorbed from the adsorbent 21 into the catalytic reduction device 12.

재순환 라인(30)은, 전처리 스크러버(11)에서 촉매식 저감 장치(12)로 배기가스를 유입시키는 배관에 연결될 수 있다. 예를 들어, 재순환 라인(30)은 제2배관(15)의 일 측에 연결되어 흡착제(21)를 통과한 가스가 전처리 스크러버(11)를 통과한 가스와 합류하여 촉매식 저감 장치(12)에 유입될 수 있다. 또는, 재순환 라인(30)이 제2배관(15)과 별도의 배관으로 촉매식 저감 장치(12)를 통과하도록 구비될 수도 있다. 위와 같은 구성에 따르면 농축기(20)의 흡착제(21)에 흡착된 과불화화합물의 일부를 탈착시키고, 탈착된 과불화화합물을 포함하는 가스는 촉매식 저감 장치(12)를 다시 통과하게 됨으로써, 촉매의 장기간 사용에 따른 비활성화된 부분에 의한 과불화화합물의 미처리 부분을 보충할 수 있다. 따라서, 제5배관(23)에서의 배기가스에 포함된 과불화화합물의 함량을 0에 근접하도록 저감 시스템을 장기간 운용이 가능하다.The recirculation line 30 may be connected to a pipe that introduces exhaust gas from the pretreatment scrubber 11 to the catalytic reduction device 12. For example, the recirculation line 30 is connected to one side of the second pipe 15 so that the gas that has passed through the adsorbent 21 joins the gas that has passed through the pretreatment scrubber 11 to form the catalytic reduction device 12. may flow into. Alternatively, the recirculation line 30 may be provided to pass through the catalytic reduction device 12 through a separate pipe from the second pipe 15. According to the above configuration, a part of the perfluorinated compound adsorbed on the adsorbent 21 of the concentrator 20 is desorbed, and the gas containing the desorbed perfluorinated compound passes again through the catalytic reduction device 12, thereby reducing the catalyst. The untreated portion of the perfluorinated compound can be replenished by the deactivated portion resulting from long-term use. Therefore, it is possible to operate the reduction system for a long period of time so that the content of perfluorinated compounds contained in the exhaust gas from the fifth pipe 23 approaches zero.

이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기를 기초로 다양한 기술적 수정 및 변형을 적용할 수 있다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.Although the embodiments have been described with limited drawings as described above, those skilled in the art can apply various technical modifications and variations based on the above. For example, the described techniques are performed in a different order than the described method, and/or components of the described system, structure, device, circuit, etc. are combined or combined in a different form than the described method, or other components are used. Alternatively, appropriate results may be achieved even if substituted or substituted by an equivalent.

그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 청구범위의 범위에 속한다.Therefore, other implementations, other embodiments, and equivalents of the claims also fall within the scope of the following claims.

1 과불화화합물 저감 시스템
10 제거부
11 전처리 스크러버
111 필터
112 데미스터
12 촉매식 저감 장치
121 하우징
122 축열체
123 촉매
124 버너
13 후처리 스크러버
20 농축기
21 흡착제
22 송풍기
30 재순환 라인1 Perfluorinated compound reduction system
10 Removal part
11 Pretreatment scrubber
111 filter
112 demister
12 Catalytic reduction device
121 housing
122 thermal mass
123 catalyst
124 burner
13 Post-treatment scrubber
20 concentrator
21 adsorbent
22 blower
30 recirculation line

Claims (11)

반도체 에칭 공정에서 발생되는 배기가스에 포함된 과불화화합물을 저감하는 과불화화합물 저감 시스템에 있어서,
전처리 스크러버, 촉매를 이용하는 촉매식 저감 장치 및 및 후처리 스크러버를 포함하고, 상기 배기가스를 순차적으로 통과시킴에 따라 상기 배기가스에 포함된 과불화화합물을 3단계로 제거하는 제거부;
상기 후처리 스크러버를 통과한 가스를 농축시키는 농축기; 및
상기 농축기에서 농축된 농축가스의 일부를 상기 촉매식 저감 장치로 재순환시키는 재순환 라인;
을 포함하는, 과불화화합물 저감 시스템.In a perfluorinated compound reduction system for reducing perfluorinated compounds contained in exhaust gas generated from a semiconductor etching process,
A removal unit that includes a pre-treatment scrubber, a catalytic reduction device using a catalyst, and a post-treatment scrubber, and removes perfluorinated compounds contained in the exhaust gas in three stages as the exhaust gas passes sequentially;
A concentrator for concentrating the gas passing through the post-treatment scrubber; and
a recirculation line that recirculates a portion of the concentrated gas concentrated in the concentrator to the catalytic reduction device;
A perfluorinated compound reduction system comprising: 제1항에 있어서,
상기 농축기는 흡착제를 포함하고, 상기 흡착제는, 상기 후처리 스크러버를 통과한 배기가스에서 과불화화합물을 흡착하는 과불화화합물 저감 시스템.According to paragraph 1,
A perfluorinated compound reduction system wherein the concentrator includes an adsorbent, and the adsorbent adsorbs perfluorinated compounds from exhaust gas that has passed through the post-treatment scrubber. 제2항에 있어서,
상기 흡착제는,
탄소 계통의 다공성 물질 또는 흡착능을 조절 가능하도록 화학물질이 첨착되거나 코팅된 탄소 계통의 다공성 물질, 제올라이트, 금속산화물 계통의 다공성 물질, 금속유기골격체, 공유결합성 유기골격체, 금속 질화물, 또는 금속 탄화물 계통의 다공성 물질 중 선택된 적어도 하나 이상으로 구성된, 과불화화합물 저감 시스템.According to paragraph 2,
The adsorbent is,
Carbon-based porous materials or carbon-based porous materials impregnated or coated with chemicals to control adsorption capacity, zeolites, metal oxide-based porous materials, metal-organic frameworks, covalent organic frameworks, metal nitrides, or metals. A perfluorinated compound reduction system consisting of at least one selected from carbide-based porous materials. 제2항에 있어서,
상기 농축기는, 송풍기를 포함하고,
상기 송풍기는 100℃ 내지 300℃의 수증기 또는 공기를 상기 흡착제로 유입시켜 상기 흡착제에 흡착된 과불화화합물의 일부를 탈착시키고, 상기 흡착제를 통과한 수증기 또는 공기를 상기 재순환 라인으로 재순환시키는, 과불화화합물 저감 시스템.According to paragraph 2,
The concentrator includes a blower,
The blower introduces water vapor or air at 100°C to 300°C into the adsorbent, desorbs a portion of the perfluorinated compound adsorbed on the adsorbent, and recirculates the water vapor or air that has passed through the adsorbent to the recirculation line. Compound abatement system. 제4항에 있어서,
상기 농축기는, 상기 흡착제에 흡착된 과불화화합물의 5% 내지 90%를 탈착시키도록 상기 수증기 또는 공기의 유입량 및 온도를 조절 가능하게 형성되는, 과불화화합물 저감 시스템.According to paragraph 4,
The concentrator is configured to control the inflow amount and temperature of the water vapor or air to desorb 5% to 90% of the perfluorinated compounds adsorbed on the adsorbent. 제1항에 있어서,
상기 재순환 라인은, 상기 전처리 스크러버에서 상기 촉매식 저감 장치로 상기 배기가스를 유입시키는 배관에 연결되는, 과불화화합물 저감 시스템.According to paragraph 1,
The recirculation line is connected to a pipe that introduces the exhaust gas from the pretreatment scrubber to the catalytic reduction device. 제1항에 있어서,
상기 촉매식 저감 장치는,
가스유입부와 가스배출부가 구비된 하우징;
상기 하우징 내부에 구비되는 축열체;
상기 축열체의 상부에 구비되고, 과불화화합물을 분해하는 촉매; 및
상기 촉매 상부에 구비되고, 상기 하우징 내부에 인입된 가스를 가열하는 버너;
를 포함하는, 과불화화합물 저감 시스템.According to paragraph 1,
The catalytic reduction device,
A housing provided with a gas inlet and a gas outlet;
A heat storage body provided inside the housing;
A catalyst provided on the top of the thermal storage body and decomposing perfluorinated compounds; and
a burner provided on top of the catalyst and heating gas introduced into the housing;
A perfluorinated compound reduction system comprising: 제7항에 있어서,
상기 촉매는,
알루미늄, 바륨, 인, 붕소, 지르코늄, 아연, 주석, 세륨, 코발트, 니켈, 철, 아연, 몰리브데늄, 텅스텐, 크롬, 또는 망간 중 적어도 하나 이상의 금속 산화물 촉매를 포함하는, 과불화화합물 저감 시스템.In clause 7,
The catalyst is,
A perfluorinated compound reduction system comprising at least one metal oxide catalyst selected from aluminum, barium, phosphorus, boron, zirconium, zinc, tin, cerium, cobalt, nickel, iron, zinc, molybdenum, tungsten, chromium, or manganese. . 제7항에 있어서,
상기 축열체는,
열을 축적할 수 있는 소재를 포함하고, 세라믹, 금속산화물, 금속수산화물, 금속질화물, 또는 금속탄화물 중 적어도 하나 이상의 소재로 구성되는, 과불화화합물 저감 시스템.In clause 7,
The thermal storage body is,
A perfluorinated compound reduction system that includes a material capable of accumulating heat and is composed of at least one material selected from the group consisting of ceramics, metal oxides, metal hydroxides, metal nitrides, and metal carbides. 제1항에 있어서,
상기 전처리 스크러버 및 상기 후처리 스크러버는,
과불화화합물을 흡수하는 흡수액을 포함하고, 상기 흡수액의 pH를 조정 가능하도록 구비되는, 과불화화합물 저감 시스템.According to paragraph 1,
The pre-treatment scrubber and the post-treatment scrubber,
A perfluorinated compound reduction system comprising an absorbent liquid that absorbs perfluorinated compounds, and equipped to adjust the pH of the absorbent liquid. 제10항에 있어서,
상기 전처리 스크러버는, 상기 배기가스의 입자상 물질과 중화 반응에 의해 생성된 염이 상기 촉매식 저감 장치로 유입되는 것을 방지하는 필터, 및 데미스터를 더 포함하는, 과불화화합물 저감 시스템.According to clause 10,
The pretreatment scrubber further includes a filter for preventing particulate matter of the exhaust gas and salts generated by a neutralization reaction from flowing into the catalytic reduction device, and a demister.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US20050175524A1 (en) * 2003-04-01 2005-08-11 Yoichi Mori Method and apparatus for treating exhaust gas
KR100654922B1 (en) * 2006-01-26 2006-12-06 주식회사 코캣 Cleaning apparatus of exhaust gas produced from semiconductor production process and method thereof
KR100634173B1 (en) * 2006-06-23 2006-10-16 주식회사 이즈컨텍 waste gas purification apparatus
KR101947733B1 (en) * 2016-07-28 2019-05-10 주식회사 효진엔지니어링 Horizontal Type Scrubber to remove waste gases by combination of gas-liquid contact device with multi function
KR101939609B1 (en) * 2016-12-23 2019-01-18 주식회사 에코프로 Method and apparatus for decomposition of perfluoro compound

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