KR20230115133A - Scrubber Apparatus using the machine learning - Google Patents
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Abstract
본 발명은 머신러닝을 이용한 스크러버장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 오염된 가스내의 오염물질 및 악취를 신속하게 제거하고 세정액과의 접촉효율을 증대시키고 머신러닝을 이용하여 작업의 효율성을 향상시킨 머신러닝을 이용한 스크러버장치에 관한 것이다.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 특징에 따르면 본 발명은, 원통형상으로 이루어진 본체(10)의 내측부에 제1 충전층(12)이 형성되고 상기 제1 충전층(12)의 상부에 제2 충전층(14)이 형성되며 상기 제2 충전층(14)의 상부에 더미스터(16)가 형성되는 본체부(102)와; 상기 본체부(102)의 본체(10) 하단부에 좌우 양측부에 각각 설치되어 세정액을 저장하는 저장탱크(28)가 구비되는 제1 및 제2 저장부(104,105)와; 상기 제1 및 제2 저장부에 저장된 세정액을 토출하여 상기 본체부(102)의 내부로 공급하기 위한 제1 및 제2 공급펌프(40,41)를 구비하는 제1 및 제2 공급부(106,107)와; 상기 제1 및 제2 공급부(106,017)에 의해 공급되는 세정액을 본체부(102) 내부에 공급되는 오염된 가스를 세정하기 위해 세정액을 분사하는 제1 및 제2 세정액 분사장치(108,109)와; 상기 제1 및 제2 세정액 분사장치(108,109)에 연결 설치되어 제1 및 제2 충전층이 설치된 하향으로 세정액을 회오리 분사하는 제1 및 제2 노즐부(110,111)와; 상기 제1 및 제2 노즐부를 통해 분사되는 세정액과 그 세정액에 의해 세척되는 오염가스를 여과시키기 위한 제1 및 제2 필터부(112,113)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 머신러닝을 이용한 스크러버장치는, 오염된 가스를 유입하여 오염물질 및 악취를 세정액과 접촉시켜서 악취를 제거하는 효과가 있고, 다단 구조의 세정액 분사장치와 필터부를 구비하여 여과공정의 효율성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a scrubber device using machine learning, and more particularly, to a machine that rapidly removes contaminants and odors in polluted gas, increases contact efficiency with cleaning liquid, and improves work efficiency using machine learning. It relates to a scrubber device using running.
According to a feature for achieving the above object, the present invention, the first filling layer 12 is formed on the inner side of the main body 10 made of a cylindrical shape, and the second filling layer 12 is formed on top of the first filling layer 12. a body portion 102 in which a filling layer 14 is formed and a dummy transistor 16 is formed on the second filling layer 14; First and second storage units 104 and 105 provided with storage tanks 28 installed on both left and right sides of the lower portion of the body 10 of the body unit 102 to store cleaning liquid; First and second supply units 106 and 107 having first and second supply pumps 40 and 41 for discharging and supplying the washing liquid stored in the first and second storage units to the inside of the main body unit 102 and; first and second cleaning liquid injection devices 108 and 109 for injecting the cleaning liquid supplied by the first and second supply units 106 and 017 to clean the contaminated gas supplied into the body portion 102; first and second nozzle units 110 and 111 connected to the first and second cleaning liquid spraying devices 108 and 109 and spraying the cleaning liquid in a whirlwind direction downward where the first and second filling layers are installed; It is characterized in that it includes first and second filter units 112 and 113 for filtering the cleaning liquid sprayed through the first and second nozzle units and the pollutant gas washed by the cleaning liquid.
The scrubber device using machine learning of the present invention has the effect of removing the odor by introducing polluted gas and contacting the contaminant and odor with the cleaning liquid, and has a multi-stage cleaning liquid injection device and filter unit to increase the efficiency of the filtration process. There is an effect that can be improved.
Description
본 발명은 머신러닝을 이용한 스크러버장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 오염된 가스내의 오염물질 및 악취를 신속하게 제거하고 세정액과의 접촉효율을 증대시키고 빅데이터를 스스로 분석하고 추출한 머신러닝을 이용하여 작업의 효율성을 향상시킨 머신러닝을 이용한 스크러버장치에 관한 것이다.The present invention relates to a scrubber device using machine learning, and more particularly, to rapidly remove contaminants and odors in polluted gas, increase contact efficiency with cleaning liquid, and analyze and extract big data by itself using machine learning. It relates to a scrubber device using machine learning that improves work efficiency.
일반적으로, 악취 및 오염물질을 제거하는 세정법으로는 기체 흡수의 물리 화학적 원리를 적용하여 제거대상 물질을 제거하는 물리화학적 처리방법과, 오염원에서 배출된 유해물질 및 악취 가스를 반응기 내의 생물막을 통과시켜서 생물막에 성장하고 있는 미생물을 통해 산화 및 분해시키는 생물학적 처리방법이 있다.In general, cleaning methods for removing odors and contaminants include a physicochemical treatment method for removing substances to be removed by applying a physicochemical principle of gas absorption, and a physicochemical treatment method for removing substances to be removed by applying the physicochemical principle of gas absorption, and passing harmful substances and odorous gases discharged from pollutants through a biofilm in a reactor. There is a biological treatment method that oxidizes and decomposes through microorganisms growing in a biofilm.
기체 흡수의 원리는 한 종류의 기체 혹은 혼합가스를 세정 액체와 직접 접촉시켜 그 기체 혹은 혼합 기체중의 특정 성분의 기체를 액체 중으로 물리학적으로 또는 화학적 반응에 의해 흡수시켜 제거하는 단위조작이다.The principle of gas absorption is a unit operation in which one type of gas or mixed gas is brought into direct contact with a cleaning liquid to physically or chemically absorb and remove the gas of a specific component in the gas or mixed gas into the liquid.
물리학적 흡수작용에 있어서는 기체상으로 존재하는 성분의 용해성 분자는 기체상으로부터 기체와 액체의 계면, 즉, 경계면으로 분자확산 또는 동력학적 운동으로 이동하여 액체상으로 물리학적 이동이 연속적으로 일어나게 되어 물리학적인 흡수작용이 일어나게 되는데 기체상과 액체상에서 물질 이동속도는 시스템 전체의 총괄물질 이동속도, 즉 기체 흡수속도에 영향을 미치고 화학적 흡수작용에 있어서는 기체와 액체 사이의 화학적 반응 속도를 고려하고 있다.In the physical absorption action, the soluble molecules of the components present in the gas phase move from the gas phase to the interface between gas and liquid, that is, the boundary, by molecular diffusion or dynamic motion, and the physical movement to the liquid phase occurs continuously, resulting in physical Absorption occurs, and the rate of material movement in the gas phase and liquid phase affects the overall mass movement rate of the entire system, that is, the gas absorption rate. In the case of chemical absorption, the chemical reaction rate between gas and liquid is considered.
화학적 흡수작용은 화학적 반응을 동반함으로써 용질로 작용하는 기체상의 기체분자가 액체 속으로 액체속으로 확산 되어감과 동시에 화학적 반응을 일으키는 물리 화학적 현상이다.Chemical absorption is a physical and chemical phenomenon in which gaseous molecules acting as a solute diffuse into a liquid and simultaneously cause a chemical reaction by accompanying a chemical reaction.
그러나, 유해물질 및 악취 가스가 세정액 등과 충분히 접촉하지 못하는 경우, 악취 및 오염물질의 제거 효율이 낮아지게 되고 그에 따라 오염물질 등이 배기구를 통해 대기로 배출되어 환경오염을 유발하게 된다.However, if the harmful substances and odorous gases do not sufficiently come into contact with the cleaning liquid, etc., the removal efficiency of odors and pollutants is lowered, and accordingly, the pollutants and the like are discharged into the atmosphere through the exhaust port, causing environmental pollution.
또한, 반응체류 시간을 늘리기 위해서 별도의 수단을 구성하는 경우 이를 위한 설치 및 유지비용이 증가하여 경제성 및 공정의 효율성이 저하되는 문제가 있었다.In addition, in the case of configuring a separate means to increase the reaction residence time, there is a problem in that economic feasibility and efficiency of the process are lowered due to increased installation and maintenance costs.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 감안하여 안출된 것으로, 오염물질 및 악취 성분을 세정액으로 접촉시켜서 산화 및 중화반응을 유도하여 신속하게 제거할 수 있도록 개선된 머신러닝을 이용한 스크러버장치를 제공하는데 있다.The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a scrubber device using improved machine learning to quickly remove contaminants and odor components by contacting them with a cleaning solution to induce oxidation and neutralization reactions.
본 발명은 유입가수의 농도를 실시간 계측하여 실험칭 의한 약액분사량을 주입하고 약품사용량을 절감할 수 있도록 빅데이터를 저장하고 스스로 분석하며 추출한 머신러닝을 이용한 스크러버장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a scrubber device using machine learning that stores, analyzes, and extracts big data so that the concentration of inflow water can be measured in real time to inject the amount of chemical liquid injected according to the experimental name and reduce the amount of chemical usage.
상기한 바와 같은 목적을 달성하기 위한 특징에 따르면 본 발명은, 원통형상으로 이루어진 본체(10)의 내측부에 제1 충전층(12)이 형성되고 상기 제1 충전층(12)의 상부에 제2 충전층(14)이 형성되며 상기 제2 충전층(14)의 상부에 더미스터(16)가 형성되는 본체부(102)와; 상기 본체부(102)의 본체(10) 하단부에 좌우 양측부에 각각 설치되어 세정액을 저장하는 저장탱크(28)가 구비되는 제1 및 제2 저장부(104,105)와; 상기 제1 및 제2 저장부에 저장된 세정액을 토출하여 상기 본체부(102)의 내부로 공급하기 위한 제1 및 제2 공급펌프(40,41)를 구비하는 제1 및 제2 공급부(106,107)와; 상기 제1 및 제2 공급부(106,017)에 의해 공급되는 세정액을 본체부(102) 내부에 공급되는 오염된 가스를 세정하기 위해 세정액을 분사하는 제1 및 제2 세정액 분사장치(108,109)와; 상기 제1 및 제2 세정액 분사장치(108,109)에 연결 설치되어 제1 및 제2 충전층이 설치된 하향으로 세정액을 회오리 분사하는 제1 및 제2 노즐부(110,111)와; 상기 제1 및 제2 노즐부를 통해 분사되는 세정액과 그 세정액에 의해 세척되는 오염가스를 여과시키기 위한 제1 및 제2 필터부(112,113)를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to a feature for achieving the above object, the present invention, the first filling layer 12 is formed on the inner side of the main body 10 made of a cylindrical shape, and the second filling layer 12 is formed on top of the first filling layer 12. a body portion 102 in which a filling layer 14 is formed and a dummy transistor 16 is formed on the second filling layer 14; First and second storage units 104 and 105 provided with storage tanks 28 installed on both left and right sides of the lower portion of the body 10 of the body unit 102 to store cleaning liquid; First and second supply units 106 and 107 having first and second supply pumps 40 and 41 for discharging and supplying the washing liquid stored in the first and second storage units to the inside of the main body unit 102 and; first and second cleaning liquid injection devices 108 and 109 for injecting the cleaning liquid supplied by the first and second supply units 106 and 017 to clean the contaminated gas supplied into the body portion 102; first and second nozzle units 110 and 111 connected to the first and second cleaning liquid spraying devices 108 and 109 and spraying the cleaning liquid in a whirlwind direction downward where the first and second filling layers are installed; It is characterized in that it includes first and second filter units 112 and 113 for filtering the cleaning liquid sprayed through the first and second nozzle units and the pollutant gas washed by the cleaning liquid.
상기 제1 및 제2 노즐부(110,111)는,The first and second nozzle parts 110 and 111,
상기 본체부(102)의 내부에 가로방향으로 설치되는 노즐대(52)와;a nozzle stand 52 installed horizontally inside the main body 102;
상기 노즐대(52)에 설치되는 다수의 노즐 브라켓(54)과;a plurality of nozzle brackets 54 installed on the nozzle stand 52;
상기 노즐 브라켓(54)의 중앙부에서 수직 하방으로 설치되는 노즐바디(56)와;a nozzle body 56 installed vertically downward from the center of the nozzle bracket 54;
상기 노즐바디(56)의 하부에 수직하게 체결 설치되는 노즐(58)을 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable to include a nozzle 58 vertically fastened to the lower portion of the nozzle body 56.
상기 제1 및 제2 필터부(112,113)는,The first and second filter units 112 and 113,
상기 본체부(102)의 내부에 가로방향으로 설치되는 다수의 하부격판(42)과;a plurality of lower diaphragms 42 horizontally installed inside the main body 102;
상기 하부격판(42)의 일단부에 수직하게 대응하여 설치되는 다수의 측벽판(44,45)와;a plurality of side wall plates 44 and 45 installed to correspond vertically to one end of the lower diaphragm 42;
상기 측벽판(44)과 측벽판(45) 사이에 형성되는 가스 공급 개구부(46)를 형성하고,Forming a gas supply opening 46 formed between the side wall plate 44 and the side wall plate 45,
상기 가스 공급 개구부(46)의 상부에 처리된 세정액을 안내하기 위한 처리액 유도판(48)을 구비하며,A treatment liquid guide plate 48 for guiding the treated cleaning liquid is provided above the gas supply opening 46,
상기 세정 처리된 처리액을 여과시키기 위해 상기 하부격판(42)의 내측부에 수납 설치되는 다수의 여과재(202)를 포함하는 것이 바람직하다.It is preferable to include a plurality of filter media 202 accommodated and installed inside the lower diaphragm 42 to filter the cleaning treatment liquid.
본 발명의 머신러닝을 이용한 스크러버장치는, 오염된 가스를 유입하여 오염물질 및 악취를 세정액과 접촉시켜서 악취를 제거하는 효과가 있고, 다단 구조의 세정액 분사장치와 필터부를 구비하여 여과공정의 효율성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.The scrubber device using machine learning of the present invention has the effect of removing the odor by introducing polluted gas and contacting the contaminant and odor with the cleaning liquid, and has a multi-stage cleaning liquid injection device and filter unit to increase the efficiency of the filtration process. There is an effect that can be improved.
그리고 본 발명은 유입가스의 농도를 실시간으로 계측하고 분석한 머신러닝을 이용하여 실험치에 의한 약액 분사량을 주입함으로서 경제성이 향상되는 효과가 있다.In addition, the present invention has an effect of improving economic feasibility by injecting a chemical liquid injection amount according to an experimental value using machine learning that measures and analyzes the concentration of inlet gas in real time.
도 1은 본 발명의 머신러닝을 이용한 스크러버장치의 구조를 보여주는 정면도
도 2는 본 발명의 머신러닝을 이용한 스크러버장치의 노즐부의 구조를 보여주는 확대도
도 3은 본 발명의 머신러닝을 이용한 스크러버장치의 필터부의 구조를 보여주는 확대도
도 4는 본 발명의 스크러버의 단층 구조의 다른 일실시예를 보여주는 도면1 is a front view showing the structure of a scrubber device using machine learning of the present invention
Figure 2 is an enlarged view showing the structure of the nozzle part of the scrubber device using machine learning of the present invention
Figure 3 is an enlarged view showing the structure of the filter unit of the scrubber device using machine learning of the present invention
Figure 4 is a view showing another embodiment of the single-layer structure of the scrubber of the present invention
이하의 본 발명의 목적들, 다른 목적들, 특징들 및 이점들은 첨부된 도면과 관련된 이하의 바람직한 실시예들을 통해서 쉽게 이해될 것이다. 그러나 본 발명은 여기서 설명되는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다.Objects, other objects, features and advantages of the present invention below will be easily understood through the following preferred embodiments in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms.
오히려, 여기서 소개되는 실시예들은 개시된 내용이 구체화되고 명확해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되는 것이다.Rather, the embodiments introduced herein are provided so that the disclosed content can be embodied and clear, and the spirit of the present invention can be sufficiently conveyed to those skilled in the art.
여기에 설명되고 예시되는 실시예들은 보통의 실시예들도 포함한다.The embodiments described and illustrated herein include common embodiments as well.
본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다(comprise)' 및/또는 '포함하는(comprising)'으로 언급된 구성요소는 하나 이상의 다른 구성요소의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.In this specification, singular forms also include plural forms unless specifically stated otherwise in a phrase. Elements referred to as 'comprise' and/or 'comprising' used in the specification do not exclude the presence or addition of one or more other elements.
이하, 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명하도록 한다. 아래의 특정 실시예들을 기술하는데 있어서, 여러가지의 특정적인 내용들은 발명을 더 구체적으로 설명하고 이해를 돕기 위해 작성되었다. 하지만 본 발명을 이해할 수 있을 정도로 이 분야의 지식을 갖고 있는 기술자는 이러한 여러 가지의 특정적인 내용들이 없어도 사용될수 있다는 것을 인지할 수 있다. 어떤 경우에는, 발명을 기술하는 데 있어서 흔히 알려졌으면서 발명과 크게 관련 없는 부분들은 본 발명을 설명하는 데 있어 혼돈을 막기 위해 기술하지 않음을 미리 언급해 둔다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In describing the specific embodiments below, various specific details have been prepared to more specifically describe the invention and aid understanding. However, a technician having knowledge in this field to the extent of understanding the present invention can recognize that it can be used without these various specific contents. In some cases, it is mentioned in advance that parts that are commonly known in describing the invention and are not greatly related to the invention are not described in order to prevent confusion in describing the present invention.
이하에서는 본 발명에 따른 머신러닝을 이용한 스크러버장치에 관하여 첨부되어진 도면과 함께 구체적으로 설명하기로 한다.Hereinafter, a scrubber device using machine learning according to the present invention will be described in detail with accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 머신러닝을 이용한 스크러버장치의 구조를 보여주는 정면도이고, 도 2는 본 발명의 머신러닝을 이용한 스크러버장치의 노즐부의 구조를 보여주는 확대도이며, 도 3은 본 발명의 머신러닝을 이용한 스크러버장치의 필터부의 구조를 보여주는 확대도이고, 도 4는 본 발명의 스크러버의 단층 구조의 다른 일실시예를 보여주는 도면이다.1 is a front view showing the structure of a scrubber device using machine learning of the present invention, FIG. 2 is an enlarged view showing the structure of a nozzle unit of the scrubber device using machine learning of the present invention, and FIG. 3 is a view showing the machine learning of the present invention It is an enlarged view showing the structure of the filter unit of the used scrubber device, and FIG. 4 is a view showing another embodiment of the single-layer structure of the scrubber of the present invention.
도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 머신러닝을 이용한 스크러버장치(100)는, 먼저, 도 1을 참조하여 설명하면, 스크러버장치(100)는, 원통형상으로 이루어진 본체부(102)와, 상기 본체부(102)의 하부에 설치되어 세정액을 공급하기 위해 세정액을 저장하는 제1 및 제2 저장부(104,105)와, 상기 제1 및 제2 저장부(104,105)와 연결 설치되어 세정액을 상기 본체부(102)로 공급하는 제1 및 제2 공급부(106,107)와, 상기 제1 및 제2 공급부(106,107)에 의해 공급되는 세정액을 분사하여 공급되는 가스를 세정하는 제1 및 제2 세정액 분사장치(108,109)와, 상기 제1 및 제2 세정액 분사장치(108,109)에 구비된 제1 및 제2 노즐부(110,111)와, 상기 제1 및 제2 세정액 분사장치(108,109)에 의해 세정된 가스를 여과하여 회수하기 위한 제1 및 제2 필터부(112,113)를 포함한다.As shown in FIGS. 1 to 4, the scrubber device 100 using machine learning of the present invention will first be described with reference to FIG. ), and first and second storage units 104 and 105 installed below the body portion 102 to store the cleaning liquid to supply the cleaning liquid, and connected to the first and second storage units 104 and 105, First and second supply units 106 and 107 for supplying cleaning liquid to the main body 102, and first and second supply units 106 and 107 for spraying the cleaning liquid supplied by the first and second supply units 106 and 107 to clean the supplied gas. 2 cleaning liquid spraying devices 108 and 109, the first and second nozzle units 110 and 111 provided in the first and second cleaning liquid spraying devices 108 and 109, and the first and second cleaning liquid spraying devices 108 and 109 It includes first and second filter units 112 and 113 for filtering and recovering the cleaned gas.
그리고 상기 본체부(102)는 상부와 하부에 각각 두 곳의 가스 공급관(200)을 구비한다.And, the main body part 102 is provided with two gas supply pipes 200 at an upper part and a lower part, respectively.
상기 본체부(102)의 하단 좌우 양측부에는 제1 및 제2 저장부(104,105)가 설치되고 상기 제1 및 제2 저장부(104,105)에는 제1 및 제2 공급부(106,107)가 각각 연결 설치되며, 상기 제1 및 제2 공급부(106,107)에는 제1 세정액 분사장치(108) 및 제2 세정액 분사장치(109)가 각각 연결 설치되어 있다.First and second storage units 104 and 105 are installed at the lower left and right sides of the main body unit 102, and first and second supply units 106 and 107 are connected to the first and second storage units 104 and 105, respectively. The first and second supply units 106 and 107 are connected to and installed with a first cleaning liquid spraying device 108 and a second cleaning liquid spraying device 109, respectively.
이때, 상기 제1 세정액 분사장치(108)와 제2 세정액 분사장치(109)에는 제 1 노즐부(110) 및 제2 노즐부(111)가 구비되어 세정액을 분사하도록 설치된다.At this time, a first nozzle unit 110 and a second nozzle unit 111 are provided in the first cleaning liquid spraying device 108 and the second cleaning liquid spraying device 109 to spray the cleaning liquid.
한편, 상기 제1 충전층(12)의 하부에는 제1 필터부(112)가 설치되고 상기 제2 충전층(14)의 하부에는 제2 필터부(113)가 설치된다.Meanwhile, a first filter unit 112 is installed below the first filling layer 12 and a second filter unit 113 is installed below the second filling layer 14 .
상기 제1 필터부(112)는 오염된 가스가 가스 공급관(200)을 통해 유입되면 제1 세정액 분사장치(108)에서 분사되는 세정액에 의해 오염물질과 악취는 제거되고 가스만 상승하도록 설치되어 있다.The first filter unit 112 is installed so that when polluted gas is introduced through the gas supply pipe 200, contaminants and odors are removed by the cleaning liquid sprayed from the first cleaning liquid injection device 108, and only the gas rises. .
그리고 상기 제2 충전층(14)과 제1 세정액 분사장치(108)의 사이에는 제2 필터부(113)가 설치되어서 오염된 가스가 가스 공급관(201)을 통해 유입되면 상기 제2 세정액 분사장치(109)에서 분사되는 세정액에 의해 오염물질과 악취가 제거되고 가스는 상승하여 더미스터(16)를 통과하고 이어서 상승된 가스는 탑콘(18)과 스택(20)을 통해 외부로 배출되도록 설치되어 있다.In addition, a second filter unit 113 is installed between the second filling layer 14 and the first cleaning liquid spraying device 108 so that when contaminated gas is introduced through the gas supply pipe 201, the second cleaning liquid spraying device Pollutants and odors are removed by the cleaning liquid sprayed from 109, the gas rises and passes through the duster 16, and then the elevated gas is installed to be discharged to the outside through the top cone 18 and the stack 20 there is.
좀 더 구체적으로 설명하면, 상기 본체부(102)는 원통형상의 수직상방으로 세워진 본체(10)로 이루어지고, 상기 본체부(102)는, 상기 본체(10)의 내측 중단부에 유해가스와 흡수액이 접촉되는 제1 충전층(12)이 형성되어 있고, 상기 제1 충전층(12)의 상단부에는 소정의 거리로 이격되어 제2 충전층(14)이 형성되어 있다.More specifically, the body portion 102 is composed of a body 10 erected vertically upward in a cylindrical shape, and the body portion 102 is disposed at an inner stop portion of the body 10 to absorb harmful gases and absorb liquid. A first filling layer 12 is formed in contact therewith, and a second filling layer 14 is formed at an upper end of the first filling layer 12 at a predetermined distance.
상기 제1 및 제2 충전층(12,14)은 카트리지 타입으로 설치되고, 오염물질을 걸러주도록 부직포와 같은 발포성 섬유재질을 사용함이 바람직하고, 측면에 밀폐형 개구부를 설치하여 스크러버 내부의 여재를 상부로 용이하게 배출할 수 있도록 설치됨이 바람직하고 이때 스크러버 상부에 여재 주입부를 설치하여 배출된 여재를 상부의 주입부를 통해 용이하게 충전할 수 있다.The first and second filling layers 12 and 14 are installed in a cartridge type, and it is preferable to use an expandable fiber material such as a non-woven fabric to filter out contaminants, and a sealed opening is installed on the side to pass the filter material inside the scrubber to the upper part. It is preferable to be installed so that it can be easily discharged, and at this time, the filter medium injection unit is installed on the top of the scrubber so that the discharged filter medium can be easily filled through the upper injection unit.
상기 제1 및 제2 충전층(12,14)에는 다수의 계측센서들이 구비되어 있고, 상기 다수의 계측센서들은 상기 제1 충전층(12) 및 제2 충전층(14)에 흡수되는 유해가스를 흡수액의 효율적인 흡수를 위하여 유입가스를 실시간으로 계측하여 서버에 저장하고 상기 서버에 저장된 계측 데이터를 분석 단말기가 실시간으로 분석하여 약액 분사량을 판단하고 상기 약액 분사량을 상기 제1 및 제2 충전층(12,14)에 주입한 후, 주입된 약액 분사량과 제1 및 제2 충전층(12,14)에 흡수되는 유입가스를 다시 계측하여 서버로 보내고 다시 서버에 보내진 계측 데이터를 분석 단말기가 실시간으로 분석하여 다시 약액 분사량을 판단하여 제공하는 머신러닝 단말기를 포함하는 것이 바람직하다.The first and second filled layers 12 and 14 are provided with a plurality of measurement sensors, and the plurality of measurement sensors are harmful gases absorbed by the first and second filled layers 12 and 14. In order to efficiently absorb the absorbent liquid, the incoming gas is measured in real time and stored in a server, and the measurement data stored in the server is analyzed in real time by an analysis terminal to determine the amount of chemical liquid injection, and the amount of chemical liquid injected is determined in the first and second filling layers ( 12 and 14), the injection amount of the injected chemical solution and the inflow gas absorbed by the first and second packed layers 12 and 14 are measured again and sent to the server, and the analysis terminal transmits the measurement data sent to the server in real time. It is preferable to include a machine learning terminal that analyzes and determines the injection amount of the chemical liquid again and provides it.
한편 머신러닝을 이용한 기술로는 먼저, 공공하수처리시설의 3년간 운영데이타를 이용하여 데이터 마이닝 기법으로 방류수를 분석하는 단말기와, 상기 분석된 방류수 수질기준 초과시점을 이상 케이스로 기준을 설정하고 그 당시의 유입수질 조건 및 운전조건(DO, 반송량, 슬러지 인발량 등)과 평상시의 유입수질 조건 및 운전 조건을 비교하는 단말기와, 비슷한 유입수질 조건일 때의 평상시 운전조건과 이상 케이스 발생의 운전조건을 비교하는 단말기와, 생물반응에 필요한 운영인자를 선정하여 평상시와 이상 케이스시 운전을 예측하는 단말기와 예측된 결과를 토대로 이상 케이스 별 최적운영 조건을 도출하는 단말기와, 상기의 단계를 통하여 향후 유입수질에 따른 최적운영 조건을 도출하는 단말기를 이용하여 도출된 데이터를 포함하여 상기 단말기들에의해 추출된 데이터를 기반으로 머신러닝 기법을 이용하여 스크러버장치를 운영 및 관리하는 단말기를 포함한다.On the other hand, as a technology using machine learning, first, a terminal that analyzes effluent with a data mining technique using 3-year operating data of public sewage treatment facilities, and sets the criteria as an abnormal case at the time when the analyzed effluent water quality standard is exceeded. A terminal that compares influent water quality conditions and operating conditions (DO, return amount, sludge withdrawal amount, etc.) at the time and normal influent water quality conditions and operating conditions, and normal operating conditions and abnormal case operation under similar influent water quality conditions A terminal that compares conditions, a terminal that predicts operation in normal and abnormal cases by selecting operating factors necessary for biological reactions, and a terminal that derives optimal operating conditions for each abnormal case based on the predicted results, and the future through the above steps A terminal for operating and managing a scrubber device using machine learning techniques based on data extracted by the terminals, including data derived using the terminal for deriving optimal operating conditions according to inlet water quality.
계속해서, 상기 제1 및 제2 충전층(12,14)은 다단으로 형성하여 유해물질과 악취물질 등의 오염물질이 유입되면 세정액 또는 약품과 접촉 반응하여 중화시키거나 산화시켜서 오염물질을 제거하고 걸러내도록 이루어진다.Subsequently, the first and second filling layers 12 and 14 are formed in multiple stages, so that when pollutants such as harmful substances and odorous substances are introduced, they are neutralized or oxidized by contact reaction with cleaning liquid or chemicals to remove pollutants, made to take out
상기 제1 및 제2 충전층(12,14)에 의해 오염물질이 제거되면 기체가 상승하여 후술되는 스택(20)을 통하여 외부로 배출된다.When contaminants are removed by the first and second filling layers 12 and 14, gas rises and is discharged to the outside through a stack 20 described later.
상기와 같이 설치된 제2 충전층(14)의 상부에는 더미스터(16)가 설치되고 상기 더미스터(16)는 상기 제2 충전층(14)에서 처리되어 외부로 배출하기 전에 가스 내에 포함된 잔유수분을 제거하게 된다.A duster 16 is installed on the upper part of the second filling layer 14 installed as described above, and the duster 16 is processed in the second filling layer 14 and the residue contained in the gas before being discharged to the outside. It will remove moisture.
그리고 상기 본체부(102)의 상부에는 중앙 상방으로 경사지도록 탑콘(18)이 형성되어 있으며, 상기 탑콘(18)의 상부에는 원통형상의 스택(20)이 형성되며, 상기 탑콘(18)의 내측부에는 파형상의 응축부(19)가 설치되어 있으며, 상기 응축부(19)에 의해서 더미스터(16)를 통과한 가스의 잔유수분을 응축시킴과 동시에 가스를 건조시킬 수 있도록 열선이 구비되고 열선에 의해 소정의 온도로 가열된 가스를 외부로 배출할 수 있도록 온도감지센서를 구비하여 설치된다.In addition, a top cone 18 is formed on the upper part of the body part 102 so as to be inclined upward in the center, and a cylindrical stack 20 is formed on the top of the top cone 18, and on the inside of the top cone 18 A corrugated condensing unit 19 is installed, and a heating wire is provided to condense residual moisture of the gas that has passed through the dehumidifier 16 by the condensing unit 19 and to dry the gas at the same time. It is installed with a temperature sensor so that gas heated to a predetermined temperature can be discharged to the outside.
상기 소정의 온도는 대기 중의 온도와 동일하거나 1-2도 정도 더 낮은 온도로 배출되어 대기의 온도를 낮출 수 있도록 온도감지센서를 통해 조절 배출됨이 바람직하다.It is preferable that the predetermined temperature is discharged at a temperature equal to or 1-2 degrees lower than the temperature in the air, so that the temperature of the air can be lowered through a temperature sensor.
이후, 상기 탑콘(18)을 통과하여 최종 오염물질이 제거되고 온도가 낮춰진 가스는 상기 스택(20)을 통과하여 외기로 방출된다.Thereafter, final contaminants are removed by passing through the top cone 18 and the gas whose temperature is lowered passes through the stack 20 and is discharged to the outside air.
한편, 상기 본체부(102)의 중간부분에는 세정액이 공급되는 제1 공급관(22)이 좌측 외주면부에 형성되어 있고, 상기 본체부(102)의 상단 부분에는 세정액이 공급되는 제2 공급관(24)이 우측 외주면부에 돌출 형성되어 있다.On the other hand, the first supply pipe 22 through which the washing liquid is supplied is formed in the left outer circumferential portion of the middle part of the main body part 102, and the second supply pipe 24 through which the washing liquid is supplied to the upper part of the main body part 102. ) protrudes from the right outer circumferential portion.
상기 제1 공급관(22)에는 제1 세정액 분사장치(108)가 연결 설치되고, 상기 제2 공급관(24)에는 제2 세정액 분사장치(109)가 연결 설치된다.A first cleaning liquid spraying device 108 is connected and installed to the first supply pipe 22 , and a second cleaning liquid spraying device 109 is connected and installed to the second supply pipe 24 .
그리고, 상기 제1 공급관(22)의 하단부에는 소정의 거리만큼 이격되어서 제1 배출관(26)이 형성되고, 상기 제2 공급관(24)의 하단부에는 소정의 거리만큼 이격되어서 제2 배출관(27)이 형성된다.In addition, a first discharge pipe 26 is formed at the lower end of the first supply pipe 22 by a predetermined distance, and a second discharge pipe 27 is formed at the lower end of the second supply pipe 24 by a predetermined distance. is formed
상기 제1 공급관(22)으로는 하단의 세정액이 공급되고 상기 제2 공급관(24)으로는 상단의 세정액이 공급되며 상기 제1 배출관(26)을 통해서 세정액이 배출되어 저장부(104)로 배출되고 상기 제2 배출관(27)을 통해서 세정액이 배출되어 저장부(105)로 배출된다.The washing liquid at the lower end is supplied to the first supply pipe 22, the washing liquid at the upper end is supplied to the second supply pipe 24, and the washing liquid is discharged through the first discharge pipe 26 and discharged to the storage unit 104. And the washing liquid is discharged through the second discharge pipe 27 and discharged to the storage unit 105.
이어서, 상기 본체부(102)의 하단부에는 좌우 대향하여 각각 세정액이 저장되는 저장부(104)와 저장부(105)가 설치되어 있다.Then, the storage unit 104 and the storage unit 105 are installed at the lower end of the main body unit 102 to store the washing liquid, respectively, facing left and right.
상기 저장부(104)는, 사각 박스형태의 저장탱크(28)로 이루어지고, 상기 좌측면 상부에는 좌측방향으로 돌출되도록 투입구(30)가 형성되며 상기 투입구(30)를 통해서 세정액이 유입되고 상기 투입구(30)의 하부에는 좌측방향으로 돌출되도록 토출구(32)가 형성되며 상기 토출구(32)를 통해서 토출되는 세정액이 상기 제1 공급관(22)으로 공급되도록 설치되어 있다.The storage unit 104 is made of a storage tank 28 in the form of a square box, and an inlet 30 is formed on the upper left side so as to protrude in the left direction, and the washing liquid flows in through the inlet 30. A discharge port 32 is formed at the bottom of the inlet port 30 so as to protrude in the left direction, and the cleaning solution discharged through the outlet port 32 is supplied to the first supply pipe 22 .
상기 저장탱크(28)의 중앙 하부에는 외부로 돌출되어 오염된 세정액을 배출시키기 위한 드레인관(34)이 형성되어 있고 상기 저장탱크(28)의 좌측부에는 세정액의 오염된 정도와 탁도 및 세정액의 양과 수위 등을 육안으로 판별할 수 있도록 투명한 수위조절창(36)이 형성되어 있다.In the lower center of the storage tank 28, a drain pipe 34 protrudes to the outside to discharge the contaminated cleaning solution, and the left side of the storage tank 28 shows the degree of contamination of the cleaning solution, the turbidity and the amount of the cleaning solution. A transparent water level control window 36 is formed so that the water level can be visually determined.
그리고 상기 저장탱크(28)의 상부에는 제1 센서(38)가 설치되어 있는바, 상기 제1 센서(38)는 저장탱크(28) 내부의 세정액의 산도(PH)를 측정하도록 설치되는 PH센서를 사용함이 바람직하다.In addition, a first sensor 38 is installed above the storage tank 28, and the first sensor 38 is a PH sensor installed to measure the acidity (PH) of the washing liquid inside the storage tank 28. It is preferable to use
또한, 상기 저장부(105)는, 사각 박스형태의 저장탱크(29)로 이루어지고, 상기 좌측면 상부에는 좌측방향으로 돌출되도록 투입구(31)가 형성되며 상기 투입구(31)를 통해서 세정액이 유입되고 상기 투입구(31)의 하부에는 좌측방향으로 돌출되도록 토출구(33)가 형성되며 상기 토출구(33)를 통해서 토출되는 세정액이 상기 제2 공급관(24)으로 공급되도록 설치되어 있다.In addition, the storage part 105 is made of a storage tank 29 in the form of a square box, and an inlet 31 is formed on the upper left side so as to protrude in the left direction, and the washing liquid flows in through the inlet 31. A discharge port 33 is formed at the bottom of the inlet 31 so as to protrude leftward, and the cleaning liquid discharged through the outlet 33 is installed to be supplied to the second supply pipe 24 .
상기 저장탱크(29)의 중앙 하부에는 외부로 돌출되어 오염된 세정액을 배출시키기 위한 드레인관(35)이 형성되어 있고 상기 저장탱크(29)의 좌측부에는 세정액의 오염된 정도와 탁도 및 세정액의 양과 수위 등을 육안으로 판별할 수 있도록 투명한 수위조절창(37)이 형성되어 있다.In the lower center of the storage tank 29, a drain pipe 35 protrudes outward to discharge the contaminated cleaning solution, and the left side of the storage tank 29 shows the degree of contamination of the cleaning solution, the turbidity and the amount of the cleaning solution. A transparent water level control window 37 is formed so that the water level can be visually determined.
그리고 상기 저장탱크(29)의 상부에는 제1 센서(39)가 설치되어 있는바, 상기 제1 센서(39)는 저장탱크(29) 내부의 세정액의 산도(PH)를 측정하도록 설치되는 PH센서를 사용함이 바람직하다.In addition, a first sensor 39 is installed above the storage tank 29, and the first sensor 39 is a PH sensor installed to measure the acidity (PH) of the washing liquid inside the storage tank 29. It is preferable to use
상기 저장부(104)의 토출구(32)에는 제1 공급부(106)가 연결 설치되어 있고 상기 제1 공급부(106)에 의해 세정액이 제1 공급관(22)으로 공급된다.A first supply unit 106 is connected to the discharge port 32 of the storage unit 104 and the washing liquid is supplied to the first supply pipe 22 by the first supply unit 106 .
상기 제1 공급부(106)는 상기 토출구(32)와 연결 설치되는 제1 공급펌프(40)를 구비한다.The first supply unit 106 includes a first supply pump 40 connected to the outlet 32 .
상기 제1 공급펌프(40)의 일측부는 상기 토출구(32)와 연결되고 상기 제1 공급펌프(40)의 타측부는 상기 제1 공급관(22)과 연결 설치된다.One side of the first supply pump 40 is connected to the outlet 32 and the other side of the first supply pump 40 is connected to the first supply pipe 22 .
상기와 같이 설치된 제1 공급부(106)의 제1 공급펌프(40)에 의해 상기 저장탱크(28)에 저장된 세정액이 상기 제1 공급관(22)으로 공급되어 분사가 이루어진다.The washing liquid stored in the storage tank 28 is supplied to the first supply pipe 22 by the first supply pump 40 of the first supply unit 106 installed as described above, and spraying is performed.
한편, 상기 제1 공급관(22)에는 가로방향으로 제1 세정액 분사장치(108)가 연결 설치되어 있다.On the other hand, the first washer fluid spraying device 108 is connected and installed in the horizontal direction to the first supply pipe 22 .
상기 제1 세정액 분사장치(108)는 세정액을 분사하기 위한 제1 노즐부(110)를 포함하고, 상기 제1 세정액 분사장치(108)에는 다수의 노즐이 고정 설치되는 노즐대(52)가 구비된다.The first cleaning liquid spraying device 108 includes a first nozzle unit 110 for spraying a cleaning liquid, and the first cleaning liquid spraying device 108 includes a nozzle stand 52 on which a plurality of nozzles are fixedly installed. do.
이때, 상기 상기 저장부(105)의 토출구(33)에는 제2 공급부(107)가 연결 설치되어 있고 상기 제2 공급부(107)에 의해 세정액이 제2 공급관(24)으로 공급된다.At this time, a second supply unit 107 is connected to the outlet 33 of the storage unit 105, and the washing liquid is supplied to the second supply pipe 24 by the second supply unit 107.
상기 제2 공급부(107)는 상기 토출구(33)와 연결 설치되는 제2 공급펌프(41)를 구비한다.The second supply unit 107 includes a second supply pump 41 connected to the outlet 33 .
상기 제2 공급펌프(41)의 일측부는 상기 토출구(33)와 연결되고 상기 제2 공급펌프(41)의 타측부는 상기 제2 공급관(24)과 연결 설치된다.One side of the second supply pump 41 is connected to the outlet 33 and the other side of the second supply pump 41 is connected to the second supply pipe 24 .
상기와 같이 설치된 제2 공급부(107)의 제2 공급펌프(41)에 의해 상기 저장탱크(29)에 저장된 세정액이 상기 제2 공급관(24)으로 공급되어 분사가 이루어진다.The washing liquid stored in the storage tank 29 is supplied to the second supply pipe 24 by the second supply pump 41 of the second supply unit 107 installed as described above, and spraying is performed.
한편, 상기 제2 공급관(24)에는 가로방향으로 연결되는 제2 세정액 분사장치(109)가 연결 설치되어 있다.On the other hand, a second washer spraying device 109 connected in a horizontal direction is connected to the second supply pipe 24 and installed.
그리고, 상기 제1 세정액 분사장치(109)는 세정액을 분사하기 위한 제1 노즐부(111)를 포함하고, 상기 제1 세정액 분사장치(109)에는 다수의 노즐이 고정 설치되는 노즐대(52)가 구비된다.And, the first cleaning liquid spraying device 109 includes a first nozzle unit 111 for spraying the cleaning liquid, and a nozzle stand 52 to which a plurality of nozzles are fixedly installed in the first cleaning liquid spraying device 109 is provided
계속해서 상기와 같이 설치된 상기 제 1노즐부(110,111)는 도2에 도시된 바와 같이, 먼저 상기 원판형상으로 이루어진 다수의 노즐 브라켓(54)이 노즐대(52)에 소정의 거리만큼 이격하여 각각 고정 설치되어 있고, 상기 노즐 브라켓(54)의 중앙부에는 노즐바디(56)가 수직하게 설치되며 상기 노즐바디(56)의 수직 하부에는 노즐(58)이 체결 설치되어 있다.Subsequently, as shown in FIG. 2, in the first nozzle parts 110 and 111 installed as described above, first, the plurality of nozzle brackets 54 made of the disk shape are spaced apart from the nozzle stand 52 by a predetermined distance, respectively. It is fixedly installed, the nozzle body 56 is vertically installed at the center of the nozzle bracket 54, and the nozzle 58 is fastened and installed at the vertical lower part of the nozzle body 56.
상기 노즐(58)은 그 하단부에 노즐팁(60)이 구비된다.The nozzle 58 is provided with a nozzle tip 60 at its lower end.
상기 노즐팁(60)은 나선형상으로 형성되고 상기 노즐(58)을 통해 분사되는 세정액은 상기 나선형상의 노즐팁(60)을 회전하면서 하향 분사되며 세정액도 나선형으로 회오리 치듯이 분사되어 빠르면서 넓은 범위로 세정액이 분사되어 오염물질 및 악취를 제거하여 오염가스를 세정할 수 있다.The nozzle tip 60 is formed in a spiral shape, and the cleaning liquid sprayed through the nozzle 58 is sprayed downward while rotating the spiral nozzle tip 60, and the cleaning liquid is also sprayed spirally in a whirlwind, quickly and over a wide range. The cleaning liquid is sprayed to remove contaminants and odors to clean polluted gas.
도 3은 본 발명의 필터부의 구조를 보여주는 확대도로서, 제1 및 제2 필터부(112,113)가 제1 및 제2 충전층(12,14)의 하부에 설치되어 있고, 제1 세정액 분사장치 및 제2 세정액 분사장치(108,109)에 의해 오염된 가스가 세정됨과 동시에 세정액이 상기 제1 필터부(112) 및 제2 필터부(113)를 통과시키도록 이루어지며, 사용된 세정액은 상기 본체부(102)에 형성된 제1 배출관(26) 및 제2 배출관(27)을 통해 제1 저장부(104) 및 제2 저장부(105)로 순환 유입된다.3 is an enlarged view showing the structure of the filter unit of the present invention, in which first and second filter units 112 and 113 are installed below the first and second filling layers 12 and 14, and the first washer spraying device And the contaminated gas is cleaned by the second cleaning liquid injection device 108, 109 and at the same time the cleaning liquid passes through the first filter unit 112 and the second filter unit 113, and the used cleaning liquid is used in the main body unit. It is circulated and introduced into the first storage unit 104 and the second storage unit 105 through the first discharge pipe 26 and the second discharge pipe 27 formed in (102).
상기 제1 및 제2 필터부(112,113)는, 상기 본체부(102)의 내측부에 가로방향으로 설치되는 하부격판(42)과, 상기 하부격판(42)의 일측부에 수직하게 설치되어 상기 하부격판(42)에 수납부를 마련하도록 고정되는 측벽판(44,45)과, 상기 측벽판(44)과 측벽판(44)의 사이에 형성되는 가스공급 개구부(46)와, 상기 가스공급 개구부(46)의 상부에 우산처럼 씌워지듯이 설치되는 역브이자 형상으로 형성되는 처리액 유도판(48)과 상기 하부격판(42)에 수납되는 여과재(202)를 포함한다.The first and second filter units 112 and 113 include a lower diaphragm 42 installed horizontally on the inner side of the main body 102 and vertically installed on one side of the lower diaphragm 42 to form the lower diaphragm 42. Side wall plates 44 and 45 fixed to provide a receiving portion in the partition plate 42, a gas supply opening 46 formed between the side wall plates 44 and the side wall plates 44, and the gas supply opening ( 46) and a treatment liquid guide plate 48 formed in an inverted V-shape installed on top of the upper part like an umbrella and a filter medium 202 accommodated in the lower diaphragm 42.
상기 처리액 유도판(48)의 각도는 중앙부에 힌지부가 설치되고 좌우로 벌어지면서 각도조절이 이루어지도록 설치됨이 바람직하고 이때 벌어지는 소정의 각도는 45도 내지 120도 범위로 조절이 가능하다.The angle of the treatment liquid guide plate 48 is preferably installed such that a hinge part is installed at the center and the angle is adjusted while being opened left and right, and the predetermined angle at this time can be adjusted in the range of 45 degrees to 120 degrees.
상기 처리액 유도판의 벌어지는 각도가 45도보다 작을 경우에는 qck 처리된 가스가 상승하면서 처리액 유도판의 내측면부에 부딪히면서 역방향으로 회돌이 현상이 발생하여 후술되는 갭(5)으로 빠져나가지 못하고 벌어지는 각도가 120도 보다 더 넓을 경우에는 1차 처리된 가스의 양이 너무 많이 배출되어 머신러닝을 이용한 빅데이터가 불균일하여 정확한 처리를 하지 못하기 때문이다.When the divergence angle of the treatment liquid guide plate is smaller than 45 degrees, the qck-treated gas rises and collides with the inner surface of the treatment liquid guide plate, causing a reverse rotation phenomenon to occur. If the angle is wider than 120 degrees, it is because the amount of gas processed firstly is discharged too much, and the big data using machine learning is non-uniform, so accurate processing is not possible.
상기와 같이 이루어진 제1 및 제2 필터부(112,113)는 본체부(102) 내부에 다수의 하부격판(42)이 횡방향으로 고정 설치되고 상기 하부격판(42)의 일측단부에는 측벽판(44,45)들이 설치되며 상기 측벽판(44)과 측벽판(45) 사이에는 가스 공급 개구부(46)가 형성된다.In the first and second filter units 112 and 113 made as described above, a plurality of lower diaphragms 42 are horizontally fixed and installed inside the main body 102, and a side wall plate 44 is installed at one end of the lower diaphragm 42. , 45) are installed, and a gas supply opening 46 is formed between the side wall plate 44 and the side wall plate 45.
그리고 상기 가스 공급 개구부(46)의 상부에는 가스공급 개구부(46)를 덮어서 상방에서 하방으로 흐르는 세정액이 유입되지 않도록 우산모양으로 씌워져서 설치되는 처리액 유도판(48)이 구비된다.In addition, a processing liquid guide plate 48 is provided above the gas supply opening 46 to cover the gas supply opening 46 so that the washing liquid flowing from the top to the bottom does not flow in.
상기 하부격판(42)의 상부에 형성된 수납부에는 다수의 여과재(202)가 수납 설치된다.A plurality of filter media 202 are accommodated and installed in the accommodating part formed on the upper part of the lower diaphragm 42 .
상기 처리액 유도판(48)의 양측단부와 여과재(202)의 사이에는 가스 공급관(200,201)에서 공급되어 하부에서 공급되는 가스가 상승하여 외부로 배출될 수 있도록 갭(50)이 형성되어 있다. A gap 50 is formed between both ends of the treatment liquid guide plate 48 and the filter medium 202 so that gas supplied from the gas supply pipes 200 and 201 and supplied from the lower portion rises and is discharged to the outside.
상기 갭(50)을 통하여 가스가 화살표 방향과 같이 유입되면서 상승이 이루어진다.As the gas flows in the direction of the arrow through the gap 50, the gas rises.
상기 갭(50)은 10mm - 500mm 정도로 설정하되, 상기 처리액 유도판(48)의 벌어지는 각도와 1차 처리된 가스의 배출양에 따라 조절이 가능하도록 이루어진다. The gap 50 is set to about 10 mm - 500 mm, and can be adjusted according to the opening angle of the treatment liquid guide plate 48 and the discharge amount of the first-processed gas.
한편, 상기 여과재(202)를 통과한 세정액은 제1 배출관(26) 및 제2 배출관(27)을 통해서 저장부(104,105)로 유입된다.Meanwhile, the washing liquid passing through the filter medium 202 flows into the storage units 104 and 105 through the first discharge pipe 26 and the second discharge pipe 27 .
본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형 예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Since the embodiments described in this specification and the configurations shown in the drawings are only one of the most preferred embodiments of the present invention and do not represent all of the technical spirit of the present invention, various equivalents that can replace them at the time of this application It should be understood that there may be variations and examples.
10 : 본체
12 : 제1 충전층
14 : 제2 충전층
16 : 더미스터
18 : 탑 콘
20 : 스택
22 : 제1 공급관
24 : 제2 공급관
26 :
제1 배출관
28 : 저장탱크
30 :
투입구
32 : 토출구
34 : 드레인관
36 : 수위조절창
38 : 제1 센서
40 : 제1 공급펌프
42 : 하부격판
44 : 측벽판
46 : 가스공급 개구부
48 : 처리액 유도판
50 : 갭
52 : 노즐대
54 : 노즐 브라켓
56 : 노즐바디
58 : 노즐
60 : 노즐팁
100 : 스크러버장치
102 : 본체부
104 : 제1 저장부
106 : 제1 공급부
108 : 제1 세정액 분사장치
110 : 제1 노즐부
112 : 제1 필터부
200 : 가스 공급관
202 : 여과재10: main body 12: first filling layer
14: second filling layer 16: pilester
18: top cone 20: stack
22: first supply pipe 24: second supply pipe
26: first discharge pipe 28: storage tank
30: input port 32: discharge port
34: drain pipe 36: water level control window
38: first sensor 40: first supply pump
42: lower partition plate 44: side wall plate
46: gas supply opening 48: treatment liquid guide plate
50: gap 52: nozzle stand
54: nozzle bracket 56: nozzle body
58: nozzle 60: nozzle tip
100: scrubber device 102: main body
104: first storage unit 106: first supply unit
108: first washer spray device 110: first nozzle unit
112: first filter unit
200: gas supply pipe 202: filter medium
Claims (3)
상기 본체부(102)의 본체(10) 하단부에 좌우 양측부에 각각 설치되어 세정액을 저장하는 저장탱크(28)가 구비되는 제1 및 제2 저장부(104,105)와;
상기 제1 및 제2 저장부에 저장된 세정액을 토출하여 상기 본체부(102)의 내부로 공급하기 위한 제1 및 제2 공급펌프(40,41)를 구비하는 제1 및 제2 공급부(106,107)와;
상기 제1 및 제2 공급부(106,017)에 의해 공급되는 세정액을 본체부(102) 내부에 공급되는 오염된 가스를 세정하기 위해 세정액을 분사하는 제1 및 제2 세정액 분사장치(108,109)와;
상기 제1 및 제2 세정액 분사장치(108,109)에 연결 설치되어 제1 및 제2 충전층이 설치된 하향으로 세정액을 회오리 분사하는 제1 및 제2 노즐부(110,111)와;
상기 제1 및 제2 노즐부를 통해 분사되는 세정액과 그 세정액에 의해 세척되는 오염가스를 여과시키기 위한 제1 및 제2 필터부(112,113)를 포함하는 것을 특징으로 하는 머신러닝을 이용한 스크러버장치.
A first filling layer 12 is formed on the inner side of the body 10 having a cylindrical shape, and a second filling layer 14 is formed on top of the first filling layer 12, and the second filling layer 14 a main body portion 102 having a thermistor 16 formed thereon;
First and second storage units 104 and 105 provided with storage tanks 28 installed on both left and right sides of the lower portion of the body 10 of the body unit 102 to store cleaning liquid;
First and second supply units 106 and 107 having first and second supply pumps 40 and 41 for discharging and supplying the washing liquid stored in the first and second storage units to the inside of the main body unit 102 and;
first and second cleaning liquid injection devices 108 and 109 for injecting the cleaning liquid supplied by the first and second supply units 106 and 017 to clean the contaminated gas supplied into the body portion 102;
first and second nozzle units 110 and 111 connected to the first and second cleaning liquid spraying devices 108 and 109 and spraying the cleaning liquid in a whirlwind direction downward where the first and second filling layers are installed;
A scrubber device using machine learning, characterized in that it comprises first and second filter units 112 and 113 for filtering the cleaning liquid sprayed through the first and second nozzle units and the pollutant gas washed by the cleaning liquid.
상기 제1 및 제2 노즐부(110,111)는
상기 본체부(102)의 내부에 가로방향으로 설치되는 노즐대(52)와;
상기 노즐대(52)에 설치되는 다수의 노즐 브라켓(54)과;
상기 노즐 브라켓(54)의 중앙부에서 수직 하방으로 설치되는 노즐바디(56)와;
상기 노즐바디(56)의 하부에 수직하게 체결 설치되는 노즐(58)을 포함하는 것을 특징으로 하는 머신러닝을 이용한 스크러버장치.
According to claim 1,
The first and second nozzle parts 110 and 111 are
a nozzle stand 52 installed horizontally inside the main body 102;
a plurality of nozzle brackets 54 installed on the nozzle stand 52;
a nozzle body 56 installed vertically downward from the center of the nozzle bracket 54;
Scrubber device using machine learning, characterized in that it comprises a nozzle (58) vertically fastened to the lower part of the nozzle body (56).
상기 제1 및 제2 필터부(112,113)는,
상기 본체부(102)의 내부에 가로방향으로 설치되는 다수의 하부격판(42)과;
상기 하부격판(42)의 일단부에 수직하게 대응하여 설치되는 다수의 측벽판(44,45)와;
상기 측벽판(44)과 측벽판(45) 사이에 형성되는 가스 공급 개구부(46)를 형성하고,
상기 가스 공급 개구부(46)의 상부에 처리된 세정액을 안내하기 위한 처리액 유도판(48)을 구비하며,
상기 세정 처리된 처리액을 여과시키기 위해 상기 하부격판(42)의 내측부에 수납 설치되는 다수의 여과재(202)를 포함하는 것을 특징으로 하는 머신러닝을 이용한 스크러버장치. According to claim 1,
The first and second filter units 112 and 113,
a plurality of lower diaphragms 42 horizontally installed inside the main body 102;
a plurality of side wall plates 44 and 45 installed to correspond vertically to one end of the lower diaphragm 42;
Forming a gas supply opening 46 formed between the side wall plate 44 and the side wall plate 45,
A treatment liquid guide plate 48 for guiding the treated cleaning liquid is provided above the gas supply opening 46,
Scrubber device using machine learning, characterized in that it includes a plurality of filter media 202 accommodated and installed inside the lower diaphragm 42 to filter the cleaning treatment liquid.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1020220011757A KR20230115133A (en) | 2022-01-26 | 2022-01-26 | Scrubber Apparatus using the machine learning |
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| KR1020220011757A KR20230115133A (en) | 2022-01-26 | 2022-01-26 | Scrubber Apparatus using the machine learning |
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|---|---|
| KR20230115133A true KR20230115133A (en) | 2023-08-02 |
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| KR (1) | KR20230115133A (en) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR200465435Y1 (en) | 2008-07-01 | 2013-02-20 | 김재용 | Cooling Apparatus of Gas Scrubber |
| KR101501749B1 (en) | 2014-05-15 | 2015-03-12 | (주)더블유제이이엔에스 | Water disposal automatic control system having a function of smart equipment diagnosis |
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2022
- 2022-01-26 KR KR1020220011757A patent/KR20230115133A/en unknown
Patent Citations (2)
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