KR20230096795A - 약액 공급 장치 - Google Patents
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- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 200
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 65
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 87
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 51
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 98
- 238000000034 method Methods 0.000 description 65
- 230000008569 process Effects 0.000 description 64
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 14
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 5
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
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- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
- H01L21/67253—Process monitoring, e.g. flow or thickness monitoring
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Power Engineering (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
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Abstract
본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 유닛은, 약액을 제공하는 약액 공급부; 상기 약액 공급부와 연결되고 상기 약액 공급부의 약액을 처리 공간으로 전달하기 위한 공급 라인; 상기 공급 라인으로부터 분기되어 상기 처리 공간으로 상기 약액을 전달하는 전달 라인; 상기 공급 라인으로부터 분기되어 상기 약액 공급부로 상기 약액을 순환시키는 제1 순환 라인; 상기 전달 라인으로부터 분기되어 상기 전달 라인의 약액을 상기 메인 순환 라인으로 순환시키는 제2 순환 라인; 및 상기 제1 순환 라인 상에 제공되어 약액을 일시적으로 수용하는 버퍼부를 포함할 수 있다.
Description
본 발명은 기판으로 약액을 공급하기 위한 약액 공급 장치에 관한 것이다.
반도체 소자를 제조하기 위해서는 사진, 세정, 증착, 애싱, 식각, 이온 주입 등과 같은 다양한 공정이 수행된다. 다양한 공정들 중 사진, 세정, 애싱, 식각 공정은 기판 상에 처리액을 공급하여 기판을 액 처리하는 공정을 포함한다.
액 처리 공정은 액 처리 공정 유닛에서 진행되며, 공정 유닛은 밸브가 설치된 공급 라인을 통해 약액 공급 유닛(40)과 연결된다. 기판을 처리하기 위한 처리액(약액)은 공급 라인을 통해 공정 유닛으로 공급되고, 공급 라인 상에는 처리액의 흐름, 유량, 압력 등을 제어하기 위한 밸브가 설치될 수 있다.
종래의 약액 공급 유닛(40)은, 도 3에 도시된 바와 같이, 약액 공급부(41), 공급 라인(42), 전달 라인(43), 제1 순환 라인(44), 제2 순환 라인(45)을 포함한다. 제1 순환 라인(44)은 공급 라인(42)으로부터 분기되고, 제2 순환 라인(45)은 전달 라인(43)으로부터 분기된다. 전달 라인(43), 제1 순환 라인(44), 제2 순환 라인(45) 상에는 약액의 흐름, 유량, 압력 등을 제어하기 위한 밸브가 설치될 수 있다. 일 예로, 제1 순환 라인(44) 상에는 제1 순환 라인(44)을 따라 흐르는 약액의 압력을 제어하기 위한 배압 밸브(v1)가 설치되고, 전달 라인(43)의 전단에는 전달 라인(43)을 따라 흐르는 약액의 압력을 제어하기 위한 정압 밸브(v2)가 설치되며, 전달 라인(43)의 후단과 제2 순환 라인(45) 상에는 약액의 흐름을 제어하기 위한 개폐 밸브(v3, v4)가 설치될 수 있다. 이때, 제2 순환 라인(45)은 제1 순환 라인(44) 상에 설치된 배압 밸브(v1)의 후단에서 제1 순환 라인(44)과 연결될 수 있다.
약액 공급부(41)에서 제공되는 약액은 공급 라인(42)으로부터 전달 라인(43)으로 공급되거나 제1 순환 라인(44)을 통해 약액 공급부(41)로 순환된다. 전달 라인(43)으로 공급된 약액은 기판으로 토출되거나 제2 순환 라인(45)을 통해 제1 순환 라인(44)으로 순환된다.
종래의 약액 공급 유닛에서, 제1 순환 라인(44)의 배압 밸브(v1) 전단 압력(Ps)은 배압 밸브(v1)의 설정에 따라 일정한 압력을 유지하고 전달 라인(43)의 정압 밸브(v2) 전단 압력(P1)도 제1 순환 라인(44)의 배압 밸브(v1) 전단 압력(Ps)처럼 일정하게 유지된다(Ps ~ P1). 그러나, 전달 라인(43)의 정압 밸브(v2) 후단 압력(P2)은 정압 밸브(v2)에 의하여 조절되고 전달 라인(43)을 통한 약액의 토출 여부에 따라 상이한 압력을 형성하게 된다.
예를 들어, 전달 라인(43)의 약액이 기판으로 토출되는 경우, 대기압으로 약액이 토출되기 때문에 P2에 대해 (P1-대기압)의 차압 조건이 형성될 수 있다. 그러나, 전달 라인(43)의 약액이 제2 순환 라인(45)을 통해 순환되는 경우, 제1 순환 라인(44)의 배압 밸브(v1) 후단에서 제1 순환 라인(44)과 제2 순환 라인(45)이 합류되기 때문에 그 합류 지점 이후의 압력(Pe) 영향을 받아 P2에 대해 (P1-Pe)의 차압 조건이 형성될 수 있다.
배압 밸브(v2) 후단의 압력(Pe)은 제1 순환 라인(44)을 따라 약액이 순환할 수 있도록 항상 대기압 이상의 압력이 형성되므로 약액 순환 시의 압력(P1-Pe)은 처리 공간으로 약액 토출 시의 압력(P1-대기압)보다 항상 작기 마련이다(즉, 토출 차압 > 순환 차압). 또한, 배압 밸브(v1) 후단의 압력(Pe)은 배압 밸브(v1) 전단 압력(P1)을 일정하게 유지하기 위한 배압 밸브(v1)의 설정에 따라 변화되는데, 통상적으로 배압 밸브(v1) 후단의 압력(Pe)은 배압 밸브(v1)의 배압 설정이 높을수록 낮아진다.
일반적으로, 약액 공급 유닛은, 공정에 따라 그리고 처리 단계에 따라 설정된 유량으로 약액을 공급하고, 약액의 유량은 약액의 공급압에 의해 조절될 수 있다. 약액의 공급압은 정압 밸브(v2)에 의하여 조절될 수 있다. 예를 들어, 정압 밸브(v2)는 약액이 흐르는 유로를 갖는 바디 및 유로 내에서 이동 가능한 다이어프램을 포함하고, 다이어프램은 유로의 압력에 의해 이동될 수 있다. 이와 같은 정압 밸브의 개구량은 유로의 압력에 비례한다. 유로의 압력은 정압 밸브(v2)를 통과하는 유체의 유량에 비례하므로 동일 유량의 약액이 정압 밸브를 통과하는 경우 정압 밸브(v2)의 개구량은 동일한 것이 정상적이다.
그러나, 상술한 바와 같이, 종래의 약액 공급 유닛에서는 약액 토출 압력과 약액 순환 압력이 상이하게 형성되므로 동일 유량의 약액이 정압 밸브(v2)를 통과하더라도 정압 밸브(v2)의 개구량은 약액 순환 시 보다 약액 토출 시에 더 큰 개구량을 보인다. 이에 따라, 약액 순환에서 약액 토출로 전환 시 정압 밸브(v2)의 개구는 커진 상태에서 급격하게 작아지고, 반대로 약액 토출에서 약액 순환으로 전환 시에는 정압 밸브(v2)의 개구는 작아진 상태로부터 급격하게 커지게 된다. 이는 파티클 생성에 영향(예: 다이어프램과 바디의 충돌에 의한 파티클 발생, 급격한 개구량 변화에 의한 버블 발생 등)을 미칠 수 있는 인자이기에 가급적이면 억제되는 것이 바람직하다.
또한, 처리 공간으로의 약액 토출이 중단되는 경우, 약액의 청정도 저하를 방지하기 위하여 약액을 체류시키지 않고 일정 유량 이상으로 순환시키는데, 이때 약액을 순환시키기 위한 순환 차압(P1-Pe)이 부족해 순환 약액을 원하는 유량으로 제어할 수 없는 현상이 발생할 수도 있다.
본 발명은 상술한 문제를 해결하기 위한 것으로, 약액의 토출과 약액의 순환 간 전환 시에 발생하는 밸브의 급격한 개구율 변화를 방지할 수 있는 약액 공급 장치를 제공하고자 한다.
또한, 본 발명은 약액의 순환 유량을 안정적으로 제어할 수 있는 약액 공급 장치를 제공하고자 한다.
본 발명의 해결과제는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 해결과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 약액을 제공하는 약액 공급부; 상기 약액 공급부와 연결되고 상기 약액 공급부의 약액을 처리 공간으로 전달하기 위한 공급 라인; 상기 공급 라인으로부터 분기되어 상기 처리 공간으로 상기 약액을 전달하는 전달 라인; 상기 공급 라인으로부터 분기되어 상기 약액 공급부로 상기 약액을 순환시키는 제1 순환 라인; 상기 전달 라인으로부터 분기되어 상기 전달 라인의 약액을 상기 메인 순환 라인으로 순환시키는 제2 순환 라인; 및 상기 제1 순환 라인 상에 제공되어 약액을 일시적으로 수용하는 버퍼부를 포함하는 약액 공급 유닛이 제공될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 버퍼부는, 상기 제1 순환 라인과 상기 제2 순환 라인의 합류 지점에 제공될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제1 순환 라인 상에는 순환 밸브가 제공되고, 상기 전달 라인 상에는 제1 전달 밸브가 제공될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 순환 밸브는 상기 제1 순환 라인 내에서 유동하는 약액의 압력을 조절하기 위한 배압 밸브로 제공되고, 상기 제1 전달 밸브는 상기 전달 라인 내에서 유동하는 약액의 압력을 조절하기 위한 정압 밸브로 제공될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제1 순환 라인과 상기 제2 순환 라인의 합류 지점은 상기 순환 밸브보다 후단부에 위치될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제1 전달 밸브는 상기 제2 순환 라인이 상기 전달 라인으로부터 분기되는 분기 지점보다 전단부에 배치될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 전달 라인 상에는 상기 제2 순환 라인의 분기 지점보다 후단부에 배치되는 제2 전달 밸브가 더 제공될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제2 전달 밸브는, 개폐에 따라 상기 처리 공간으로의 약액 토출을 제어하는 개폐 밸브로 제공될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제2 순환 라인 상에는 개폐에 따라 상기 제1 순환 라인으로의 약액 순환을 제어하는 공급 순환 밸브가 설치될 수 있다.
일 실시예에서, 상기 전달 라인 및 상기 제1 순환 라인 상에 배치된 복수의 압력 측정 부재를 더 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 복수의 압력 측정 부재는, 상기 제1 전달 밸브 전단부의 압력을 측정하는 제1 압력 측정 부재; 상기 제1 전달 밸브 후단부의 압력을 측정하는 제2 압력 측정 부재; 상기 순환 밸브 전단부의 압력을 측정하는 제3 압력 측정 부재; 및 상기 순환 밸브 후단부의 압력을 측정하는 제4 압력 측정 부재를 포함할 수 있다.
일 실시예에서, 상기 제1 전달 밸브의 전단부에 설치되며, 약액의 유량을 제어하는 LFC(Liquid Flow Controller)를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 처리 용기; 상기 처리 공간에서 상기 기판을 지지하는 지지 유닛; 상기 처리 공간으로 약액을 공급하는 약액 공급 유닛을 포함하는 기판 처리 장치가 제공될 수 있다. 상기 약액 공급 유닛은, 약액을 제공하는 약액 공급부; 상기 약액 공급부와 연결되고 상기 약액 공급부의 약액을 처리 공간으로 전달하기 위한 공급 라인; 상기 공급 라인으로부터 분기되어 상기 처리 공간으로 상기 약액을 전달하는 전달 라인; 상기 공급 라인으로부터 분기되어 상기 약액 공급부로 상기 약액을 순환시키는 제1 순환 라인; 상기 전달 라인으로부터 분기되어 상기 전달 라인의 약액을 상기 제1 순환 라인으로 순환시키는 제2 순환 라인; 및 상기 제1 순환 라인과 상기 제2 순환 라인의 합류 지점에 제공되는 버퍼부를 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 제1 순환 라인과 제2 순환 라인의 연결 지점에 구비된 버퍼부에 의하여 약액 토출 차압을 약액 순환 차압과 유사하게 형성할 수 있다. 약액 토출 시 밸브에 형성되는 차압 환경과 약액 순환시 밸브에 형성되는 차압 환경을 유사하게 조성함으로써 정압 밸브의 급격한 개구 변화를 방지할 수 있다.
또한, 정압 밸브의 급격한 개구 변화가 방지됨에 따라 밸브에 의한 파티클 발생 확률을 감소시킬 수 있고, 밸브의 개구율이 토출 및 순환에 관계 없이 정상적으로 동작(개구량 ∝ 유량)함에 따라 순환 유량을 안정적으로 제어할 수 있다.
본 발명의 효과는 이상에서 언급된 것들에 한정되지 않으며, 언급되지 아니한 다른 효과들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 기판 처리 장치의 예를 도시한 것이다.
도 2는 도 1의 공정 유닛을 도시한 단면도이다.
도 3은 종래의 약액 공급 유닛의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 유닛을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 약액 공급 유닛의 약액 토출 과정을 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명에 따른 약액 공급 유닛의 약액 순환 과정을 도시한 도면이다.
도 2는 도 1의 공정 유닛을 도시한 단면도이다.
도 3은 종래의 약액 공급 유닛의 구조를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 약액 공급 유닛을 개략적으로 도시한 도면이다.
도 5는 본 발명에 따른 약액 공급 유닛의 약액 토출 과정을 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명에 따른 약액 공급 유닛의 약액 순환 과정을 도시한 도면이다.
이하, 첨부한 도면을 참고로 하여 본 발명의 실시예들에 대하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예들에 한정되지 않는다.
본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 붙이도록 한다.
또한, 여러 실시예들에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적인 실시예에서만 설명하고, 그 외의 다른 실시예에서는 대표적인 실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 한다.
명세서 전체에서, 어떤 부분이 다른 부분과 "연결(또는 결합)"되어 있다고 할 때, 이는 "직접적으로 연결(또는 결합)"되어 있는 경우뿐만 아니라, 다른 부재를 사이에 두고 "간접적으로 연결(또는 결합)"된 것도 포함한다. 또한, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
한편, 도면에서 구성 요소의 크기나 형상, 선의 두께 등은 이해의 편의상 다소 과장되게 표현되어 있을 수 있다.
이하, 설명의 편의를 위하여 복수 개로 구성될 수 있는 모든 구성 요소들이 하나로 구성된 것을 예로 설명하기로 한다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치를 보여주는 평면도이다. 도 1을 참조하면, 기판 처리 장치(1)는 인덱스 모듈(10)과 공정 처리 모듈(20)을 가진다. 인덱스 모듈(10)은 로드 포트(120) 및 이송 프레임(140)을 가진다. 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 그리고 공정 처리 모듈(20)은 순차적으로 일렬로 배열된다. 이하, 로드 포트(120), 이송 프레임(140), 그리고 공정 처리 모듈(20)이 배열된 방향을 제1방향(12)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(12)과 수직한 방향을 제2방향(14)이라 하며, 제1방향(12)과 제2방향(14)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(16)이라 칭한다.
로드 포트(120)에는 기판(W)이 수납된 캐리어(130)가 안착된다. 로드 포트(120)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(14)을 따라 일렬로 배치된다. 로드 포트(120)의 개수는 공정 처리 모듈(20)의 공정 효율 및 풋 프린트 조건 등에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다. 캐리어(130)에는 기판들(W)을 지면에 대해 수평하게 배치한 상태로 수납하기 위한 다수의 슬롯(미도시)이 형성된다. 캐리어(130)로는 전면개방일체형포드(Front Opening Unifed Pod;FOUP)가 사용될 수 있다.
이송 프레임(140)은 로드 포트(120)에 안착된 캐리어(130)와 버퍼 유닛(220) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송 프레임(140)에는 인덱스 레일(142)과 인덱스 로봇(144)이 제공된다. 인덱스 레일(142)은 그 길이 방향이 제2방향(14)과 나란하게 제공된다. 인덱스 로봇(144)은 인덱스 레일(142) 상에 설치되며, 인덱스 레일(142)을 따라 제2 방향(14)으로 직선 이동된다. 인덱스 로봇(144)은 베이스(144a), 몸체(144b), 그리고 인덱스암(144c)을 가진다. 베이스(144a)는 인덱스 레일(142)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(144b)는 베이스(144a)에 결합된다. 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(144b)는 베이스(144a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 몸체(144b)에 결합되고, 몸체(144b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 인덱스암(144c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 인덱스암(144c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다. 인덱스암(144c)들 중 일부는 공정 처리 모듈(20)에서 캐리어(130)로 기판(W)을 반송할 때 사용되고, 이의 다른 일부는 캐리어(130)에서 공정 처리 모듈(20)로 기판(W)을 반송할 때 사용될 수 있다. 이는 인덱스 로봇(144)이 기판(W)을 반입 및 반출하는 과정에서 공정 처리 전의 기판(W)으로부터 발생된 파티클이 공정 처리 후의 기판(W)에 부착되는 것을 방지할 수 있다.
공정 처리 모듈(20)은 버퍼 유닛(220), 이송 챔버(240), 공정 유닛(260), 약액 공급 유닛(400)을 포함한다. 이송 챔버(240)는 그 길이 방향이 제 1 방향(12)과 평행하게 배치된다. 이송 챔버(240)의 양측에는 각각 공정 유닛들(260)이 배치된다. 이송 챔버(240)의 일측 및 타측에서 공정 유닛들(260)은 이송 챔버(240)를 기준으로 대칭되도록 제공된다. 공정 유닛들(260) 중 일부는 이송 챔버(240)의 길이 방향을 따라 배치된다. 또한, 공정 유닛들(260) 중 일부는 서로 적층되게 배치된다. 즉, 이송 챔버(240)의 일측에는 공정 유닛들(260)이 A X B의 배열로 배치될 수 있다. 여기서 A는 제1 방향(12)을 따라 일렬로 제공된 공정 유닛(260)의 수이고, B는 제3방향(16)을 따라 일렬로 제공된 공정 유닛(260)의 수이다. 이송 챔버(240)의 일측에 공정 유닛(260)이 4개 또는 6개 제공되는 경우, 공정 유닛들(260)은 2 X 2 또는 3 X 2의 배열로 배치될 수 있다. 공정 유닛(260)의 개수는 증가하거나 감소할 수도 있다. 상술한 바와 달리, 공정 유닛(260)은 이송 챔버(240)의 일측에만 제공될 수 있다. 또한, 공정 유닛(260)은 이송 챔버(240)의 일측 및 양측에 단층으로 제공될 수 있다.
버퍼 유닛(220)은 이송 프레임(140)과 이송 챔버(240) 사이에 배치된다. 버퍼 유닛(220)은 이송 챔버(240)와 이송 프레임(140) 간에 기판(W)이 반송되기 전에 기판(W)이 머무르는 공간을 제공한다. 버퍼 유닛(220)의 내부에는 기판(W)이 놓이는 슬롯(미도시)이 제공된다. 슬롯(미도시)들은 서로 간에 제3방향(16)을 따라 이격되도록 복수 개가 제공된다. 버퍼 유닛(220)은 이송 프레임(140)과 마주보는 면 및 이송 챔버(240)와 마주보는 면이 개방된다.
이송 챔버(240)는 버퍼 유닛(220)과 공정 유닛(260) 간에, 그리고 공정 유닛들(260) 간에 기판(W)을 반송한다. 이송 챔버(240)에는 가이드 레일(242)과 메인 로봇(244)이 제공된다. 가이드 레일(242)은 그 길이 방향이 제1방향(12)과 나란하도록 배치된다. 메인 로봇(244)은 가이드 레일(242) 상에 설치되고, 가이드 레일(242) 상에서 제1방향(12)을 따라 직선 이동된다. 메인 로봇(244)은 베이스(244a), 몸체(244b), 그리고 메인암(244c)을 가진다. 베이스(244a)는 가이드 레일(242)을 따라 이동 가능하도록 설치된다. 몸체(244b)는 베이스(244a)에 결합된다. 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 제3방향(16)을 따라 이동 가능하도록 제공된다. 또한, 몸체(244b)는 베이스(244a) 상에서 회전 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 몸체(244b)에 결합되고, 이는 몸체(244b)에 대해 전진 및 후진 이동 가능하도록 제공된다. 메인암(244c)은 복수 개 제공되어 각각 개별 구동되도록 제공된다. 메인암(244c)들은 제3방향(16)을 따라 서로 이격된 상태로 적층되게 배치된다.
공정 유닛(260)은 기판(W)에 대해 액 처리하는 공정을 수행한다. 공정 유닛(260)은 수행하는 세정 공정의 종류에 따라 상이한 구조를 가질 수 있다. 이와 달리 각각의 공정 유닛(260)은 동일한 구조를 가질 수 있다. 선택적으로 공정 유닛들(260)은 복수 개의 그룹으로 구분되어, 동일한 그룹에 속하는 공정 유닛(260) 내에 장치들은 서로 동일하고, 서로 상이한 그룹에 속하는 공정 유닛(260) 내에 제공된 장치의 구조는 서로 상이하게 제공될 수 있다.
본 실시예에는 기판의 액 처리 공정을 세정 공정으로 설명한다. 이러한 액 처리 공정은 세정 공정에 한정되지 않으며, 사진, 애싱, 그리고 식각 등 다양하게 적용 가능하다.
도 2는 도 1의 공정 유닛을 보여주는 단면도이다. 도 2를 참조하면, 공정 유닛(260)은 처리 용기(320), 지지 유닛(340), 승강 유닛(360), 그리고 액 토출 유닛(380)를 포함한다.
처리 용기(320)는 내부에 기판이 처리되는 처리 공간을 제공한다. 처리 용기(320)는 상부가 개방된 통 형상을 가진다. 처리 용기(320)는 내부 회수통(322) 및 외부 회수통(326)을 가진다. 각각의 회수통(322,326)은 공정에 사용된 처리액들 중 서로 상이한 처리액을 회수한다. 내부 회수통(322)은 지지 유닛(340)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 외부 회수통(326)은 내부 회수통(326)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 내부 회수통(322)의 내측공간(322a) 및 내부 회수통(322)은 내부 회수통(322)으로 처리액이 유입되는 제1유입구(322a)로서 기능한다. 내부 회수통(322)과 외부 회수통(326)의 사이공간(326a)은 외부 회수통(326)으로 처리액이 유입되는 제2유입구(326a)로서 기능한다. 일 예에 의하면, 각각의 유입구(322a, 326a)는 서로 상이한 높이에 위치될 수 있다. 각각의 회수통(322,326)의 저면 아래에는 회수 라인(322b, 326b)이 연결된다. 각각의 회수통(322,326)에 유입된 처리액들은 회수 라인(322b, 326b)을 통해 외부의 처리액 재생 시스템(미도시)으로 제공되어 재사용될 수 있다.
지지 유닛(340)은 처리 공간에서 기판(W)을 지지한다. 지지 유닛(340)은 공정 진행 중 기판(W)을 지지 및 회전시키는 기판 지지 유닛(340)으로 제공된다. 지지 유닛(340)은 지지 몸체(342), 지지핀(344), 척핀(346), 그리고 회전 구동 부재를 가진다. 지지 몸체(342)는 대체로 원형으로 제공되는 상부면 및 하부면을 가진다. 하부면은 상부면에 비해 작은 직경을 가진다. 상부면 및 하부면은 그 중심축이 서로 일치하도록 위치된다.
지지핀(344)은 복수 개 제공된다. 지지핀(344)은 지지 몸체(342)의 상부면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 지지 몸체(342)에서 상부로 돌출된다. 지지 핀(344)들은 서로 간에 조합에 의해 전체적으로 환형의 링 형상을 가지도록 배치된다. 지지핀(344)은 지지 몸체(342)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판(W)의 후면 가장자리를 지지한다.
척핀(346)은 복수 개 제공된다. 척핀(346)은 지지 몸체(342)의 중심에서 지지핀(344)보다 멀리 떨어지게 배치된다. 척핀(346)은 지지 몸체(342)에서 상부로 돌출되도록 제공된다. 척핀(346)은 지지 유닛(340)가 회전될 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다. 척핀(346)은 지지 몸체(342)의 반경 방향을 따라 외측 위치와 내측 위치 간에 직선 이동이 가능하도록 제공된다. 외측 위치는 내측 위치에 비해 지지 몸체(342)의 중심으로부터 멀리 떨어진 위치이다. 기판(W)이 지지 유닛(340)에 로딩 또는 언로딩 시 척 핀(346)은 외측 위치에 위치되고, 기판(W)에 대해 공정 수행 시 척 핀(346)은 내측 위치에 위치된다. 내측 위치는 척핀(346)과 기판(W)의 측부가 서로 접촉되는 위치이고, 외측 위치는 척핀(346)과 기판(W)이 서로 이격되는 위치이다.
회전 구동 부재(348,349)는 지지 몸체(342)를 회전시킨다. 지지 몸체(342)는 회전 구동 부재(348,349)에 의해 자기 중심축을 중심으로 회전 가능하다. 회전 구동 부재(348,349)는 지지축(348) 및 구동부(349)를 포함한다. 지지축(348)은 제3방향(16)을 향하는 통 형상을 가진다. 지지축(348)의 상단은 지지 몸체(342)의 저면에 고정 결합된다. 일 예에 의하면, 지지축(348)은 지지 몸체(342)의 저면 중심에 고정 결합될 수 있다. 구동부(349)는 지지축(348)이 회전되도록 구동력을 제공한다. 지지축(348)은 구동부(349)에 의해 회전되고, 지지 몸체(342)는 지지축(348)과 함께 회전 가능하다.
승강 유닛(360)은 처리 용기(320)를 상하 방향으로 직선 이동시킨다. 처리 용기(320)가 상하로 이동됨에 따라 지지 유닛(340)에 대한 처리 용기(320)의 상대 높이가 변경된다. 승강 유닛(360)은 브라켓(362), 이동축(364), 그리고 구동기(366)를 가진다. 브라켓(362)은 처리 용기(320)의 외벽에 고정설치되고, 브라켓(362)에는 구동기(366)에 의해 상하 방향으로 이동되는 이동축(364)이 고정결합된다. 기판(W)이 지지 유닛(340)에 놓이거나, 지지 유닛(340)로부터 들어올려 질 때 지지 유닛(340)가 처리 용기(320)의 상부로 돌출되도록 처리 용기(320)는 하강된다. 또한, 공정이 진행될 시에는 기판(W)에 공급된 처리액의 종류에 따라 처리액이 기설정된 회수통(360)으로 유입될 수 있도록 처리 용기(320)의 높이가 조절한다. 선택적으로, 승강 유닛(360)은 지지 유닛(340)를 상하 방향으로 이동시킬 수 있다.
액 토출 유닛(380)은 기판(W) 상으로 처리액을 공급한다. 액 토출 유닛(380)은 복수 개로 제공될 수 있으며, 각각은 서로 상이한 종류의 처리액들을 공급할 수 있다. 액 토출 유닛(380)은 이동 부재(381) 및 노즐(390)을 포함한다.
이동 부재(381)는 노즐(390)을 공정 위치 및 대기 위치로 이동시킨다. 여기서 공정 위치는 노즐(390)이 기판 지지 유닛(340)에 지지된 기판(W)과 대향되는 위치이고, 대기 위치는 노즐(390)이 공정 위치를 벗어난 위치로 정의한다. 일 예에 의하면, 공정 위치는 전처리 위치 및 후처리 위치를 포함한다. 전처리 위치는 노즐(390)이 제1 공급 위치에 처리액을 공급하는 위치이고, 후처리 위치는 노즐(390)이 제2공급 위치에 처리액을 공급하는 위치로 제공된다. 제1공급 위치는 제2공급 위치보다 기판(W)의 중심에 더 가까운 위치이고, 제2공급 위치는 기판의 단부를 포함하는 위치일 수 있다. 선택적으로 제2공급 위치는 기판의 단부에 인접한 영역일 수 있다.
이동 부재(381)는 지지축(386), 아암(382), 그리고 구동기(388)를 포함한다. 지지축(386)은 처리 용기(320)의 일측에 위치된다. 지지축(386)은 그 길이방향이 제3방향을 향하는 로드 형상을 가진다. 지지축(386)은 구동기(388)에 의해 회전 가능하도록 제공된다. 지지축(386)은 승강 이동이 가능하도록 제공된다. 아암(382)은 지지축(386)의 상단에 결합된다. 아암(382)은 지지축(386)으로부터 수직하게 연장된다. 아암(382)의 끝단에는 노즐(390)이 고정 결합된다. 지지축(386)이 회전됨에 따라 노즐(390)은 아암(382)과 함께 스윙 이동 가능하다. 노즐(390)은 스윙 이동되어 공정 위치 및 대기 위치로 이동될 수 있다. 선택적으로 아암(382)은 그 길이방향을 향해 전진 및 후진 이동이 가능하도록 제공될 수 있다. 상부에서 바라볼 때 노즐(390)이 이동되는 경로는 공정 위치에서 기판(W)의 중심축과 일치될 수 있다. 예컨대, 처리액은 케미칼, 린스액, 그리고 유기 용제일 수 있다. 케미칼은 케미칼 노즐로부터 토출되고, 린스액은 린스 노즐로부터 토출되며, 유기 용제는 건조 노즐로부터 토출될 수 있다. 케미칼은 산 또는 염기 성질을 가지는 식각액일 수 있다. 케미칼은 황산(H2SO4), 인산(P2O5), 불산(HF) 그리고 수산화 암모늄(NH4OH)을 포함할 수 있다. 린스액은 순수(H20)일 수 있다. 유기 용제는 이소프로필알코올(IPA)일 수 있다.
도 4는 도 2의 공정 유닛으로 처리액을 공급하는 약액 공급 유닛의 일 실시예를 개략적으로 도시한 것이다.
약액 공급 유닛(400)은 복수 개의 공정 유닛들(260) 각각에 약액을 공급할 수 있다. 일 예로, 약액 공급 유닛(400)은 복수 개로 제공될 수 있으며, 각각은 서로 상이한 종류의 처리액들을 공급할 수 있다. 약액은 케미칼, 린스액, 유기 용제 중 하나일 수 있다. 또는, 약액은 둘 이상의 케미칼이 혼합된 혼합액일 수 있다. 본 실시예의 약액 공급 유닛(400)은 이에 한정되는 것이 아니며, 약액 공급 유닛(400)은 공정 유닛에 기판을 처리하기 위한 어떠한 처리 유체도 공급할 수 있다.
약액 공급 유닛(400)은 약액 공급부(410), 공급 라인(420), 전달 라인(430), 제1 순환 라인(440), 제2 순환 라인(435), 버퍼부(450)를 포함할 수 있다.
약액 공급부(410)는 공정 유닛(260)으로 전달되는 약액이 저장되는 공간을 가진다. 일 예로, 약액 공급부(410)는 탱크 형태로 제공될 수 있다. 약액 공급부(410)는 공급 라인(420)과 연결된다.
공급 라인(420)은 공정 유닛(260)의 처리 공간으로 약액 공급부(410)의 약액을 제공하기 위한 라인이다. 공급 라인(420)은 일단이 약액 공급부(410)와 연결되고, 타단이 전달 라인(430)과 제1 순환 라인(440)으로 분기될 수 있다.
전달 라인(430)은 약액을 처리 공간으로 전달하는 라인이다. 전달 라인(430)은 일단이 공급 라인(420)으로부터 분기되고, 타단이 공정 유닛(260)과 연결될 수 있다. 전달 라인(430) 상에는 제1 전달 밸브(432)와 제2 전달 밸브(434)가 제공될 수 있다. 일예로, 제1 전달 밸브(432)는 정압 밸브로 제공되고 제2 전달 밸브(434)는 개폐 밸브로 제공될 수 있다. 제1 전달 밸브(432)는 전달 라인(430) 내에서 유동하는 약액의 압력을 제어하고, 제2 전달 밸브(434)는 전달 라인(430)을 따라 흐르는 약액이 처리 공간으로 토출되는 것을 제어할 수 있다. 제2 전달 밸브(434)는 개폐 동작에 따라 처리 공간으로의 약액 토출을 선택적으로 제어할 수 있다.
전달 라인(430)으로부터, 전달 라인(430)의 약액을 제1 순환 라인(440)으로 순환시키기 위한 제2 순환 라인(435)이 분기될 수 있다. 제1 전달 밸브(432)는 제2 순환 라인(435)이 상기 전달 라인(430)으로부터 분기되는 분기 지점보다 전단부에 배치될 수 있다. 제2 전달 밸브(434)는 제2 순환 라인(435)이 상기 전달 라인(430)으로부터 분기되는 분기 지점보다 후단부에 배치될 수 있다.
제1 순환 라인(440)은 공급 라인(420)의 약액을 약액 공급부(410)로 순환시키는 라인이다. 제1 순환 라인(440)은 일단이 공급 라인(420)으로부터 분기되고, 타단이 약액 공급부(410)와 연결될 수 있다. 제1 순환 라인(440) 상에는 순환 밸브(442)가 제공될 수 있다. 일 예로, 순환 밸브(442)는 배압 밸브로 제공될 수 있다. 순환 밸브(442)는 제1 순환 라인(440) 내에서 유동하는 약액의 압력을 제어할 수 있다. 순한 밸브(442)는 순환 밸브(442)의 전단부 압력과 제1 전달 밸브(432)의 전단부 압력을 일정하게 유지할 수 있다. 상세히 도시되지는 않았지만, 제1 순환 라인(440) 상에는 약액을 순환시키기 위한 펌프가 제공될 수 있다.
제2 순환 라인(435)은 전달 라인(430)의 약액을 제1 순환 라인(440)으로 순환시키는 라인이다. 제2 순환 라인(435)은 일단이 전달 라인(430)으로부터 분기되고, 타단이 제1 순환 라인(440)과 합류될 수 있다. 이때, 제1 순환 라인(440)과 제2 순환 라인(435)의 합류 지점은 순환 밸브(442)보다 후단부에 위치할 수 있다. 제2 순환 라인(435) 상에는 공급 순환 밸브(436)가 제공될 수 있다. 일 예로, 공급 순환 밸브(436)는 개폐 밸브로 제공될 수 있다. 공급 순환 밸브(436)는 제2 순환 라인(435) 내에서 유동하는 약액이 제1 순환 라인(440)으로 회수되는 것을 제어할 수 있다. 공급 순환 밸브(436)는 개폐 동작에 따라 제1 순환 라인(440)으로의 약액 회수를 선택적으로 제어할 수 있다. 상세히 도시되지는 않았지만, 제2 순환 라인(435) 상에는 약액을 순환시키기 위한 펌프가 제공될 수 있다.
버퍼부(450)는 제1 순환 라인(440)과 제2 순환 라인(435)의 합류 지점에 제공된다. 버퍼부(450)는 약액 수용 공간을 갖는다. 버퍼부(450)는 전달 라인(430)으로부터 제2 순환 라인(435)을 통해 제1 순환 라인(440)으로 회수되는 약액이 일시적으로 머무르는 공간을 제공할 수 있다. 예를 들어, 버퍼부(450)는 약액이 일시적으로 저류될 수 있는 버퍼 탱크의 형태로 제공될 수 있다. 또는, 버퍼부(450)는 대구경 배관의 형태로 제공될 수 있다. 버퍼부(450)의 형태는 이에 제한되지 않고 약액 수용 공간을 제공할 수 있는 어떠한 형태로든 제공될 수 있다.
전달 라인(430)과 제1 순환 라인(440) 상에는 압력을 측정하기 위한 복수의 압력 측정 부재가 배치될 수 있다. 일 예로, 복수의 압력 측정 부재는, 제1 압력 측정 부재(P1), 제2 압력 측정 부재(P2), 제3 압력 측정 부재(Ps), 제4 압력 측정 부재(P4)를 포함할 수 있다.
제1 압력 측정 부재(P1)는 제1 전달 밸브(432) 전단부의 압력을 측정하기 위한 것으로, 제1 전달 밸브(432)와 공급 라인(420)의 분기점 사이 영역에 배치될 수 있다.
제2 압력 측정 부재(P2)는 제1 전달 밸브(432) 후단부의 압력을 측정하기 위한 것으로, 제1 전달 밸브(432)와 제2 전달 밸브(434)의 사이 영역에 배치될 수 있다.
제3 압력 측정 부재(P3)는 순환 밸브(442) 전단부의 압력을 측정하기 위한 것으로, 순환 밸브(442)와 공급 라인(420)의 분기점 사이 영역에 배치될 수 있다.
제4 압력 측정 부재(P4)는 순환 밸브(442) 후단부의 압력을 측정하기 위한 것으로, 버퍼부(450)에 연결될 수 있다. 본 발명에서는 제4 압력 측정 부재(P4)가 버퍼부(450)에 연결된 예를 도시했지만, 제4 압력 측정 부재(P4)는 버퍼부(450)와 약액 공급부(410)의 사이 영역에 제공되어 버퍼부(450) 후단의 압력을 측정하도록 구성될 수도 있다.
도 5는 공정 유닛(260)의 처리 공간으로 약액을 토출하는 예를 도시하고, 도 6은 제2 순환 라인(435)으로 약액을 순환시키는 예를 도시한다.
도 5에 도시된 바와 같이, 처리 공간으로 약액 토출 시, 제2 전달 밸브(434)는 개방되고 공급 순환 밸브(436)는 폐쇄된다. 반면, 도 6에 도시된 바와 같이, 제2 순환 라인(435)으로 약액 순환 시, 제2 전달 밸브(434)는 폐쇄되고 공급 순환 밸브(436)는 개방된다. 제2 전달 밸브(434)와 공급 순환 밸브(436)는 유량 제어 밸브의 형태로 제공될 수도 있다.
종래의 약액 공급 유닛에서, 약액 토출 시와 약액 순환 시에 제2 압력 측정 부재(P2)에 의하여 측정되는 압력은 동일한 유량임에도 불구하고 상이하게 측정된다.
다시 도 3을 참조하면, 처리 공간으로 약액 토출 시, 약액은 대기압으로 토출되기 때문에, P2 지점의 압력은 P1 지점의 압력에서 대기압만큼의 압력이 감소된 압력(P1 - 대기압)이다.
이에 반해, 제1 순환 라인(44)으로 약액 순환 시, 제1 순환 라인(44)과 제2 순환 라인(45)이 합류되는 합류 지점 이후의 압력에 영향을 받기 때문에, P2 지점의 압력은 P1 지점의 압력에서 Pe 지점의 압력만큼 감소된 압력(P1 - Pe)이다.
Pe 지점은 제1 순환 라인(44)과 제2 순환 라인(45)이 합류되는 합류 지점 이후에 존재하므로 제2 순환 라인(45)으로부터 제1 순환 라인(44)으로 순환되는 약액에 의하여 합류 지점에 가해지는 압력의 영향을 받을 수 있다. 또한, Pe 지점에는, 제1 순환 라인(44)의 약액 순환이 유지될 수 있는 압력 이상의 압력이 가해지므로 통상적으로 대기압 이상의 압력이 형성된다. 따라서, 약액 토출 시에 형성되는 압력(P1 - 대기압)이 약액 순환 시 형성되는 압력(P1 - P4)보다 크다.
처리 공간으로의 약액 토출 시와 제1 순환 라인(44)으로의 약액 순환 시에 P2 지점에 형성되는 압력이 상이함에 따라, 제1 순환 밸브(v2)의 개구량 역시 달라지게 된다. 약액 토출 시에 형성되는 압력(P1 - 대기압)이 약액 순환 시 형성되는 압력(P1 - P4)보다 크기 때문에 제1 순환 밸브(v2)의 개구량은 약액 토출 시보다 약액 순환 시에 더 큰 개구량을 보인다. 즉, 동일 유량의 약액이 전달 라인(43)을 따라 유동하더라도, 약액 순환에서 약액 토출로 전환 시 제1 순환 밸브(v2)의 개구는 감소하고, 약액 토출에서 약액 순환으로 전환 시 제1 순환 밸브(v2)의 개구는 증가하는 비정상적인 동작이 반복된다(정상적인 밸브의 동작은 약액의 유량에 비례하여 밸브의 개구량이 변화하는 것이다).
이러한 현상은 배관 내 파티클 형성 요인으로써 작용할 가능성이 크다. 제1 순환 밸브(v2)의 개구량 반복 변화에 의한 다이어프램 접촉이 파티클의 요인이 될 수 있다. 또한, 제1 순환 밸브(v2)의 급격한 개구율 변화에 의해 버블 발생 가능성이 높아지는 문제가 있다.
상술한 문제를 해결하기 위해, 본 발명의 실시예에 따른 약액 공급 유닛(400)은 버퍼부(450)를 포함한다. 버퍼부(450)에 의하면, 종래의 장치에서 제1 순환 라인(44)과 제2 순환 라인(45)의 합류에 의하여 제1 순환 라인(44)의 합류 지점에 가해지던 압력이 제거되므로 순환 밸브(442) 후단에 형성되는 압력이 감압될 수 있다. 또한, 제1 순환 라인(440)을 따라 순환하는 약액에 가해지던 순환 압력이 버퍼부(450)에 의하여 감압될 수 있다. 이에 따라, 전달 라인(430)의 약액이 공정 유닛(260)의 처리 공간으로 토출될 때의 제2 압력 측정 부재(P2)에서 측정되는 압력(P1 압력 - 대기압)과 전달 라인(430)의 약액이 제2 순환 라인(435)을 통해 제1 순환 라인(440)으로 순환될 때의 제2 압력 측정 부재(P2)에서 측정되는 압력(P1 압력 - P4 압력)이 유사해질 수 있다. 즉, 제2 압력 측정 부재(P2)에서 측정되는 압력이 일정하게 유지될 수 있다.
제2 압력 측정 부재(P2)에서 측정되는 압력이 일정하게 유지됨에 따라 제2 전달 밸브(434)의 개구량이 유량에 비례할 수 있게 된다. 이에 따라, 약액 토출과 약액 순환 간 전환에 따른 제2 전달 밸브(434)의 급격한 개구량 변화를 방지할 수 있다. 또한, 제2 전달 밸브(434)의 개구량이 유량에 비례하여 정상적으로 동작하므로 제2 순환 라인(435)을 통한 순환 유량을 안정적으로 제어할 수 있다.
한편, 상세히 도시하지는 않았지만, 공급 라인(420)의 분기점과 제1 압력 측정 부재(P1) 사이에는 공급되는 약액의 유량을 제어하기 위한 유량 제어기가 배치될 수 있다. 예를 들어, 유량 제어기는 약액의 유량을 제어하는 LFC(Liquid Flow Controller)일 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서 본 발명에 기재된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상이 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의해서 해석되어야하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
260: 공정 유닛
400: 약액 공급 유닛
410: 약액 공급부
420: 공급 라인
430: 전달 라인
432: 제1 전달 밸브
434: 제2 전달 밸브
435: 제2 순환 라인
436: 공급 순환 밸브
440: 제1 순환 라인
442: 순환 밸브
450: 버퍼부
400: 약액 공급 유닛
410: 약액 공급부
420: 공급 라인
430: 전달 라인
432: 제1 전달 밸브
434: 제2 전달 밸브
435: 제2 순환 라인
436: 공급 순환 밸브
440: 제1 순환 라인
442: 순환 밸브
450: 버퍼부
Claims (13)
- 약액을 제공하는 약액 공급부;
상기 약액 공급부와 연결되고 상기 약액 공급부의 약액을 처리 공간으로 제공하기 위한 공급 라인;
상기 공급 라인으로부터 분기되어 상기 처리 공간으로 상기 약액을 전달하는 전달 라인;
상기 공급 라인으로부터 분기되어 상기 약액 공급부로 상기 약액을 순환시키는 제1 순환 라인;
상기 전달 라인으로부터 분기되어 상기 전달 라인의 약액을 상기 제1 순환 라인으로 순환시키는 제2 순환 라인; 및
상기 제1 순환 라인 상에 제공되고 약액을 일시적으로 수용하는 버퍼부를 포함하는 약액 공급 유닛.
- 제1항에 있어서,
상기 버퍼부는, 상기 제1 순환 라인과 상기 제2 순환 라인의 합류 지점에 제공되는 약액 공급 유닛.
- 제2항에 있어서,
상기 제1 순환 라인 상에는 순환 밸브가 제공되고,
상기 전달 라인 상에는 제1 전달 밸브가 제공되는 약액 공급 유닛.
- 제3항에 있어서,
상기 순환 밸브는 상기 제1 순환 라인 내에서 유동하는 약액의 압력을 조절하기 위한 배압 밸브로 제공되고,
상기 제1 전달 밸브는 상기 전달 라인 내에서 유동하는 약액의 압력을 조절하기 위한 정압 밸브로 제공되는 약액 공급 유닛.
- 제4항에 있어서,
상기 제1 순환 라인과 상기 제2 순환 라인의 합류 지점은 상기 순환 밸브보다 후단부에 위치하는 약액 공급 유닛.
- 제5항에 있어서,
상기 제1 전달 밸브는 상기 제2 순환 라인이 상기 전달 라인으로부터 분기되는 분기 지점보다 전단부에 배치되는 약액 공급 유닛.
- 제2항에 있어서,
상기 전달 라인 상에는 상기 제2 순환 라인의 분기 지점보다 후단부에 배치되는 제2 전달 밸브가 더 제공되는 약액 공급 유닛.
- 제7항에 있어서,
상기 제2 전달 밸브는,
개폐에 따라 상기 처리 공간으로의 약액 토출을 제어하는 개폐 밸브로 제공되는 약액 공급 유닛.
- 제8항에 있어서,
상기 제2 순환 라인 상에는 개폐에 따라 상기 제1 순환 라인으로의 약액 순환을 제어하는 공급 순환 밸브가 설치되는 약액 공급 유닛.
- 제5항에 있어서,
상기 전달 라인 및 상기 제1 순환 라인 상에 배치된 복수의 압력 측정 부재를 더 포함하는 약액 공급 유닛.
- 제10항에 있어서,
상기 복수의 압력 측정 부재는,
상기 제1 전달 밸브 전단부의 압력을 측정하는 제1 압력 측정 부재;
상기 제1 전달 밸브 후단부의 압력을 측정하는 제2 압력 측정 부재;
상기 순환 밸브 전단부의 압력을 측정하는 제3 압력 측정 부재; 및
상기 순환 밸브 후단부의 압력을 측정하는 제4 압력 측정 부재를 포함하는 약액 공급 유닛.
- 제2항에 있어서,
상기 제1 전달 밸브의 전단부에 설치되며, 약액의 유량을 제어하는 LFC(Liquid Flow Controller)를 더 포함하는 약액 공급 유닛.
- 기판을 처리하는 장치에 있어서,
기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 처리 용기;
상기 처리 공간에서 상기 기판을 지지하는 지지 유닛;
상기 처리 공간으로 약액을 공급하는 약액 공급 유닛을 포함하고,
상기 약액 공급 유닛은,
약액을 제공하는 약액 공급부;
상기 약액 공급부와 연결되고 상기 약액 공급부의 약액을 처리 공간으로 전달하기 위한 공급 라인;
상기 공급 라인으로부터 분기되어 상기 처리 공간으로 상기 약액을 전달하는 전달 라인;
상기 공급 라인으로부터 분기되어 상기 약액 공급부로 상기 약액을 순환시키는 제1 순환 라인;
상기 전달 라인으로부터 분기되어 상기 전달 라인의 약액을 상기 제1 순환 라인으로 순환시키는 제2 순환 라인; 및
상기 제1 순환 라인과 상기 제2 순환 라인의 합류 지점에 제공되는 버퍼부를 포함하는 기판 처리 장치.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20210186505 | 2021-12-23 | ||
KR1020210186505 | 2021-12-23 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20230096795A true KR20230096795A (ko) | 2023-06-30 |
Family
ID=86959768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020220034138A KR20230096795A (ko) | 2021-12-23 | 2022-03-18 | 약액 공급 장치 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR20230096795A (ko) |
-
2022
- 2022-03-18 KR KR1020220034138A patent/KR20230096795A/ko unknown
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