KR20230091954A - 색상 변이가 감소된 차단층을 갖는 열처리 가능한 코팅 - Google Patents
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- 230000004888 barrier function Effects 0.000 title claims abstract description 243
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 138
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 382
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 382
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 107
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 84
- 238000005496 tempering Methods 0.000 claims abstract description 28
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 793
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 160
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 133
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 105
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 86
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 84
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 84
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 82
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 82
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 81
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 79
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 70
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 68
- CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N alumanylidynesilicon Chemical compound [Al].[Si] CSDREXVUYHZDNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 61
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 46
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 43
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 43
- BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(oxo)tin Chemical compound [Zn+2].[O-][Sn]([O-])=O BNEMLSQAJOPTGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 37
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 claims description 31
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 29
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 23
- YAIQCYZCSGLAAN-UHFFFAOYSA-N [Si+4].[O-2].[Al+3] Chemical compound [Si+4].[O-2].[Al+3] YAIQCYZCSGLAAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 20
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 20
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 17
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 11
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910010052 TiAlO Inorganic materials 0.000 claims description 7
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910003564 SiAlON Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 78
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 39
- 239000000463 material Substances 0.000 description 34
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 21
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 21
- 210000001787 dendrite Anatomy 0.000 description 19
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 18
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 17
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 15
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 14
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 13
- VQYHBXLHGKQYOY-UHFFFAOYSA-N aluminum oxygen(2-) titanium(4+) Chemical compound [O-2].[Al+3].[Ti+4] VQYHBXLHGKQYOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dizinc;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].[Zn+2].[Zn+2] JAONJTDQXUSBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 5
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000005329 float glass Substances 0.000 description 4
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- UEJBEYOXRNGPEI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)-2-(methylamino)propan-1-one Chemical group CNC(C)C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 UEJBEYOXRNGPEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001347 Stellite Inorganic materials 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N [Cr].[Co] Chemical class [Cr].[Co] WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- FJMNNXLGOUYVHO-UHFFFAOYSA-N aluminum zinc Chemical compound [Al].[Zn] FJMNNXLGOUYVHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- AHICWQREWHDHHF-UHFFFAOYSA-N chromium;cobalt;iron;manganese;methane;molybdenum;nickel;silicon;tungsten Chemical compound C.[Si].[Cr].[Mn].[Fe].[Co].[Ni].[Mo].[W] AHICWQREWHDHHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000005355 lead glass Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910000623 nickel–chromium alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 1
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920001483 poly(ethyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000005118 spray pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000002198 surface plasmon resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VRGNUPCISFMPEM-ZVGUSBNCSA-L zinc;(2r,3r)-2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound [Zn+2].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O VRGNUPCISFMPEM-ZVGUSBNCSA-L 0.000 description 1
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- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
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- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
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- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
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Abstract
코팅된 물품은 제1 표면 및 제2 표면을 갖는 기판, 및 제1 표면 또는 제2 표면 위에 적용된 기능성 코팅을 포함한다. 기능성 코팅은 기판의 적어도 일부 위의 차단층; 차단층의 적어도 일부 위의 금속층; 및 금속층의 적어도 일부 위의 상부층을 포함한다. 코팅된 제품은 템퍼링 후 ΔEcmc로 측정한 광학적 색상 변이가 4.5 이하이다.
Description
본 발명은 차단층에 관한 것으로, 보다 상세하게는 알칼리 금속, 알칼리 토금속 이온 및 나트륨 이온과 같은 금속 이온이 유리 기판으로부터 매질(예를 들어, 태양광 제어 코팅과 같은 코팅)으로, 또는 매질(예를 들어, 태양광 제어 코팅과 같은 코팅)으로부터 유리 기판으로 확산되는 것을 방지하기 위한 차단층에 관한 것이다.
관련 출원의 상호 참조
본 출원은 2021년 10월 19일자 미국 출원 제17/504,968호, 및 2020년 10월 21일자 미국 가출원 제63/094,584호를 우선권 주장하며, 상기 특허의 개시 내용은 그 전체가 참조로 인용된다.
태양열 제어 코팅은 건축 및 차량 투명 필름 분야에서 알려져 있다. 이러한 태양광 제어 코팅은 차량 또는 건물에 유입되는 태양 에너지의 양을 줄이기 위해 태양 적외선 또는 태양 자외선 범위와 같은 선택된 범위의 전자기 복사를 차단하거나 필터링한다. 이러한 태양 에너지 투과율 감소는 차량 또는 건물의 냉각 장치에 대한 부하를 줄이는 데 도움이 된다.
이러한 태양광 제어 코팅은 일반적으로 특히 태양 적외선 영역에서 태양 에너지 반사를 제공하는 하나 이상의 연속 금속층을 포함한다. 임계 두께 미만으로 증착된 금속층(본원에서 "아임계층(subcritical layer)"으로 지칭)은 연속층이 아닌 불연속 영역 또는 섬(island)을 형성한다. 이러한 불연속 층은 표면 플라즈몬 공명으로 알려진 효과를 통해 전자기 복사를 흡수한다. 이러한 아임계층은 일반적으로 동일한 재료의 연속 층보다 가시 영역에서 더 높은 흡광도를 가지며 태양 에너지 반사율도 더 낮다.
태양광 제어 코팅 층의 광학 특성 변화로 인해 바람직하지 않은 색상 변이(color shift)가 발생할 수 있다. 코팅의 흡수 및/또는 코팅된 물품의 색상이 가열 전 및 가열 후에 유지될 수 있는 태양광 제어 코팅을 생성하는 것이 바람직할 것이다.
본 발명은 기판을 포함하는 코팅된 물품에 관한 것이다. 기판은 제1 표면 및 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함한다. 기능성 코팅은 제1 표면 또는 제2 표면에 적용된다. 차단층은 기판의 적어도 일부 위에 위치한다. 금속층은 차단층의 적어도 일부 위에 위치한다. 상부층은 금속층의 적어도 일부 위에 위치한다.
본 발명은 제1 표면 및 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 기판을 포함하는 코팅된 물품에 관한 것이다. 기능성 코팅은 제1 표면 또는 제2 표면에 적용된다. 차단층은 기판의 적어도 일부 위에 위치하고, 이때 차단층은 제1 필름, 제2 필름, 및 제3 필름을 포함하며, 상기 차단층의 제1 필름은 차단 필름이고; 상기 차단 필름은 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 또는 이들의 조합을 포함한다. 금속층은 차단층의 적어도 일부 위에 위치한다. 상부층은 금속층의 적어도 일부 위에 위치한다. 코팅된 물품은 템퍼링 가능(temperable)하다.
본 발명은 기판을 포함하는 코팅된 물품을 제조하는 방법에 관한 것이다. 제1 표면 및 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 기판이 제공된다. 차단층은 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위에 형성된다. 금속층은 차단층의 적어도 일부 위에 형성된다. 상부층은 금속층의 적어도 일부 위에 형성된다. 코팅된 제품은 템퍼링 후 ΔEcmc로 측정한 광학적 색상 변이가 4.5 이하이다.
본 발명은 코팅된 물품을 제조하는 방법에 관한 것이다. 제1 표면 및 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 코팅된 물품이 제공된다. 코팅된 물품은 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위의 차단층, 차단층의 적어도 일부 위의 금속층, 및 금속층의 적어도 일부 위의 상부층을 포함한다. 코팅된 물품은 템퍼링된다. 코팅된 제품은 템퍼링 후 ΔEcmc로 측정한 광학적 색상 변이가 4.5 이하이다.
본 발명은 제1 플라이(ply) 및 제2플라이를 포함하는 절연 유리 유닛(insulated glass unit)에 관한 것이다. 제1 플라이는 1번 표면 및 1번 표면의 반대쪽의 2번 표면을 포함한다. 제2플라이는 3번 표면과 4번 표면을 포함한다. 제2플라이는 제1 플라이로부터 이격되고, 제1 플라이 및 제2플라이는 함께 연결된다. 기능성 코팅은 3번 표면 또는 4번 표면의 적어도 일부 위에 위치한다. 차단층은 3번 표면 또는 4번 표면의 적어도 일부 위에 위치한다. 금속층은 차단층의 적어도 일부 위에 위치한다. 상부층은 금속층의 적어도 일부 위에 위치한다.
본 발명은 코팅된 물품의 금속층에서 덴드라이트(dendrite) 형성을 감소시키는 방법에 관한 것이다. 제1 표면 및 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 기판이 제공된다. 차단층은 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위에 형성된다. 금속층은 차단층의 적어도 일부 위에 형성된다. 상부층은 금속층의 적어도 일부 위에 형성되어, 코팅된 물품을 형성한다. 코팅된 물품은 템퍼링된다. 코팅된 제품은 템퍼링 후 금속층에서 덴드라이트 형성이 감소되었다.
본 발명은 코팅된 물품의 금속층에서 덴드라이트(dendrite) 형성을 감소시키는 방법에 관한 것이다. 제1 표면 및 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 코팅된 물품이 제공된다. 코팅된 물품은 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위의 차단층, 차단층의 적어도 일부 위의 금속층, 및 금속층의 적어도 일부 위의 상부층을 포함한다. 코팅된 물품은 템퍼링된다. 코팅된 제품은 템퍼링 후 금속층에서 덴드라이트 형성이 감소되었다.
본 발명은 코팅된 물품의 적색 헤이즈(red haze)를 감소시키는 방법에 관한 것이다. 제1 표면 및 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 기판이 제공된다. 차단층은 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위에 형성된다. 금속층은 차단층의 적어도 일부 위에 형성된다. 상부층은 금속층의 적어도 일부 위에 형성되어, 코팅된 물품을 형성한다. 코팅된 물품은 템퍼링된다. 코팅된 제품은 템퍼링 후 적색 헤이즈가 감소되었다.
본 발명은 코팅된 물품의 적색 헤이즈(red haze)를 감소시키는 방법에 관한 것이다. 제1 표면 및 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 코팅된 물품이 제공된다. 코팅된 물품은 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위의 차단층, 차단층의 적어도 일부 위의 금속층, 및 금속층의 적어도 일부 위의 상부층을 포함한다. 코팅된 물품은 템퍼링된다. 코팅된 제품은 템퍼링 후 적색 헤이즈가 감소되었다.
도 1a는 본 발명의 코팅을 갖는 예시적인 절연 유리 유닛("IGU")의 측면도(축척이 아님)이다.
도 1b는 본 발명의 코팅을 갖는 예시적인 투명체의 단면도이다.
도 2a, 2b 및 2c는 본 발명의 예시에 따른 단일 금속 코팅의 단면도(축적이 아님)이다. 도 2a는 기판, 차단층, 금속층, 프라이머층, 상부층 및 보호 코팅을 포함하는 단일 금속 코팅이다. 도 2b는 3개의 필름을 포함하는 차단층, 2개의 필름을 포함하는 상부층 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시하는 도 2a의 단일 금속 코팅이다. 도 2c는 3개의 필름을 포함하는 차단층, 3개의 필름을 포함하는 상부층 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시하는 도 2a의 단일 금속 코팅이다.
도 3a, 3b 및 3c는 본 발명의 예시에 따른 이중 금속 코팅의 단면도(축적이 아님)이다. 도 3a는 기판, 차단층, 금속층, 프라이머층, 제1 중간층, 제2 금속층, 프라이머층, 상부층 및 보호 코팅을 포함하는 이중 금속 코팅이다. 도 3b는 3개의 필름을 포함하는 차단층, 3개의 필름을 포함하는 제1 중간층, 2개의 필름을 포함하는 상부층 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시하는 도 3a의 이중 금속 코팅이다. 도 3c는 3개의 필름을 포함하는 차단층, 3개의 필름을 포함하는 제1 중간층, 3개의 필름을 포함하는 상부층 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시하는 도 3a의 이중 금속 코팅이다.
도 4a, 4b 및 4c는 본 발명의 예시에 따른 삼중 금속 코팅의 단면도(축척이 아님)이다. 도 4a는 기판, 차단층, 금속층, 프라이머층, 제1 중간층, 제2 금속층, 제2 프라이머층, 제2 중간층, 제3 금속층, 제3 프라이머층, 상부층 및 보호 코팅을 포함하는 삼중 금속 코팅이다. 도 4b는 3개의 필름을 포함하는 차단층을 도시하는 도 4a의 삼중 금속 코팅이며, 제1 중간층은 3개의 필름을 포함하고, 제2 중간층은 3개의 필름을 포함하고, 상부층은 2개의 필름을 포함하고, 보호 코팅은 2개의 필름을 포함한다. 도 4c는 3개의 필름을 포함하는 차단층, 3개의 필름을 포함하는 제1 중간층, 3개의 필름을 포함하는 제2 중간층, 3개의 필름을 포함하는 상부층, 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시하는 도 4a의 삼중 금속 코팅이다.
도 5a, 5b 및 5c는 본 발명의 예시에 따른 사중 코팅의 단면도(축적이 아님)이다. 도 5a는 사중 금속 코팅으로서, 기판, 차단층, 금속층, 프라이머층, 제1 중간층, 제2 금속층, 제2 프라이머층, 제2 중간층, 제3 금속층, 제3 프라이머층, 제3 중간층, 제4 금속층, 제4 프라이머층, 상부층 및 보호 코팅을 포함한다. 도 5b는 도 5a의 사중 금속 코팅으로서, 3개의 필름을 포함하는 차단층, 3개의 필름을 포함하는 제1 중간층, 3개의 필름을 포함하는 제2 중간층, 3개의 필름을 포함하는 제3 중간층, 2개의 필름을 포함하는 상부층 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시한 것이다. 도 5c는 도 5a의 사중 금속 코팅으로서, 3개의 필름을 포함하는 차단층, 3개의 필름을 포함하는 제1 중간층, 3개의 필름을 포함하는 제2 중간층, 3개의 필름을 포함하는 제3 중간층, 3개의 필름을 포함하는 상부층 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시한 것이다.
도 6은 차단층을 갖는 기능성 코팅으로 코팅된 유리 기판에 대한 색상 변이의 그래프 표현이다. 차단층은 다양한 두께의 규소 알루미늄 질화물(SiAlN), 규소 알루미늄 산질화물(SiAlON) 또는 규소 알루미늄 산화물(SiAlO)의 차단 필름을 갖는다. 베이스라인 유리 기판은 차단 필름이 없는 제1 유전층을 갖는다.
도 1b는 본 발명의 코팅을 갖는 예시적인 투명체의 단면도이다.
도 2a, 2b 및 2c는 본 발명의 예시에 따른 단일 금속 코팅의 단면도(축적이 아님)이다. 도 2a는 기판, 차단층, 금속층, 프라이머층, 상부층 및 보호 코팅을 포함하는 단일 금속 코팅이다. 도 2b는 3개의 필름을 포함하는 차단층, 2개의 필름을 포함하는 상부층 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시하는 도 2a의 단일 금속 코팅이다. 도 2c는 3개의 필름을 포함하는 차단층, 3개의 필름을 포함하는 상부층 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시하는 도 2a의 단일 금속 코팅이다.
도 3a, 3b 및 3c는 본 발명의 예시에 따른 이중 금속 코팅의 단면도(축적이 아님)이다. 도 3a는 기판, 차단층, 금속층, 프라이머층, 제1 중간층, 제2 금속층, 프라이머층, 상부층 및 보호 코팅을 포함하는 이중 금속 코팅이다. 도 3b는 3개의 필름을 포함하는 차단층, 3개의 필름을 포함하는 제1 중간층, 2개의 필름을 포함하는 상부층 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시하는 도 3a의 이중 금속 코팅이다. 도 3c는 3개의 필름을 포함하는 차단층, 3개의 필름을 포함하는 제1 중간층, 3개의 필름을 포함하는 상부층 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시하는 도 3a의 이중 금속 코팅이다.
도 4a, 4b 및 4c는 본 발명의 예시에 따른 삼중 금속 코팅의 단면도(축척이 아님)이다. 도 4a는 기판, 차단층, 금속층, 프라이머층, 제1 중간층, 제2 금속층, 제2 프라이머층, 제2 중간층, 제3 금속층, 제3 프라이머층, 상부층 및 보호 코팅을 포함하는 삼중 금속 코팅이다. 도 4b는 3개의 필름을 포함하는 차단층을 도시하는 도 4a의 삼중 금속 코팅이며, 제1 중간층은 3개의 필름을 포함하고, 제2 중간층은 3개의 필름을 포함하고, 상부층은 2개의 필름을 포함하고, 보호 코팅은 2개의 필름을 포함한다. 도 4c는 3개의 필름을 포함하는 차단층, 3개의 필름을 포함하는 제1 중간층, 3개의 필름을 포함하는 제2 중간층, 3개의 필름을 포함하는 상부층, 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시하는 도 4a의 삼중 금속 코팅이다.
도 5a, 5b 및 5c는 본 발명의 예시에 따른 사중 코팅의 단면도(축적이 아님)이다. 도 5a는 사중 금속 코팅으로서, 기판, 차단층, 금속층, 프라이머층, 제1 중간층, 제2 금속층, 제2 프라이머층, 제2 중간층, 제3 금속층, 제3 프라이머층, 제3 중간층, 제4 금속층, 제4 프라이머층, 상부층 및 보호 코팅을 포함한다. 도 5b는 도 5a의 사중 금속 코팅으로서, 3개의 필름을 포함하는 차단층, 3개의 필름을 포함하는 제1 중간층, 3개의 필름을 포함하는 제2 중간층, 3개의 필름을 포함하는 제3 중간층, 2개의 필름을 포함하는 상부층 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시한 것이다. 도 5c는 도 5a의 사중 금속 코팅으로서, 3개의 필름을 포함하는 차단층, 3개의 필름을 포함하는 제1 중간층, 3개의 필름을 포함하는 제2 중간층, 3개의 필름을 포함하는 제3 중간층, 3개의 필름을 포함하는 상부층 및 2개의 필름을 포함하는 보호 코팅을 도시한 것이다.
도 6은 차단층을 갖는 기능성 코팅으로 코팅된 유리 기판에 대한 색상 변이의 그래프 표현이다. 차단층은 다양한 두께의 규소 알루미늄 질화물(SiAlN), 규소 알루미늄 산질화물(SiAlON) 또는 규소 알루미늄 산화물(SiAlO)의 차단 필름을 갖는다. 베이스라인 유리 기판은 차단 필름이 없는 제1 유전층을 갖는다.
본원에 사용되는 바와 같이, "왼쪽", "오른쪽", "내부", "외부", "위", "아래" 등과 같은 공간 또는 방향 용어는 도면에 도시된 바와 같이 본 발명에 관한 것이다. 그러나, 본 발명은 다양한 대안적 배향을 가정할 수 있으며, 따라서 이러한 용어는 제한하는 것으로 간주되어서는 안 된다는 것을 이해해야 한다. 또한, 본원에서 사용되는 바와 같이, 상세한 설명 및 청구범위에 사용된 치수, 물리적 특성, 공정 파라미터, 성분의 양, 반응 조건 등을 나타내는 모든 숫자는 모든 경우에 "약"이라는 용어에 의해 수식되는 것으로 이해되어야 한다. 따라서, 달리 나타내지 않는 한, 하기 상세한 설명 및 청구범위에 기재된 수치는 본 발명에 의해 얻고자 하는 원하는 특성에 따라 달라질 수 있다. 최소한, 청구 범위에 대한 등가 원칙의 적용을 제한하려는 시도가 아니라, 각각의 수치는 적어도 보고된 유효 숫자의 수에 비추어 일반적인 반올림 기법을 적용하여 해석되어야 한다. 또한, 본원에 개시된 모든 범위는 시작 및 종료 범위 값 및 그 안에 포함된 임의의 및 모든 하위 범위를 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 예를 들어, "1 내지 10"의 명시된 범위는 최소값 1과 최대값 10 사이의 모든 하위 범위, 즉, 1 이상의 최소값으로 시작하고 10 이하의 최대값으로 끝나는 모든 하위 범위, 예를 들어 1 내지 3.3, 4.7 내지 7.5, 5.5 내지 10 등을 포함하는 것으로 간주되어야 한다. 단수형 용어는 하나 이상을 나타낸다.
또한, 본원에서 사용되는 바와 같이, "위에 형성되는", "위에 증착되는" 또는 "위에 제공되는"이라는 용어는 표면 위에 형성, 증착, 또는 제공되지만, 반드시 표면과 접촉할 필요는 없음을 의미한다. 예를 들어, 기판 "위에 형성된" 코팅층은 형성된 코팅층과 기판 사이에 위치한 동일하거나 상이한 조성의 하나 이상의 다른 코팅층 또는 필름의 존재를 배제하지 않는다. 또한 본원에 언급된 발행된 특허 및 특허 출원과 같은 모든 문서(이에 국한되지 않음)는 그 전체가 "참조에 의해 인용"된 것으로 간주된다. 본원에서 사용되는 용어 "필름"은 원하는 또는 선택된 코팅 조성물의 코팅 영역을 의미한다. "층"은 하나 이상의 "필름"을 포함할 수 있고, "코팅" 또는 "코팅 스택"은 하나 이상의 "층"을 포함할 수 있다. "비대칭 반사율"이라는 용어는 한쪽 코팅의 가시광선 반사율이 반대쪽 코팅의 가시광선 반사율과 다르다는 것을 의미한다. 용어 "임계 두께"는 이러한 두께보다 큰 두께에서 물질이 연속적이고 중단되지 않은 층을 형성하고, 이러한 두께보다 작은 두께에서 물질이 연속적인 층이 아니라 물질의 불연속적인 영역 또는 섬을 형성하는 두께를 의미한다. 용어 "아임계 두께"는 코팅 물질이 코팅 물질의 섬상(isolated)의, 연결되지 않은 영역을 형성하도록 하는 임계 두께 미만의 두께를 의미한다. 용어 "섬상"은 코팅 물질이 연속적인 층이 아니라, 오히려 물질이 증착되어 고립된 영역 또는 섬을 형성함을 의미한다.
하기 논의의 목적을 위해, 본원에 기술된 코팅된 물품은, 비제한적으로, 절연 유리 유닛(insulating glass unit; IGU)과 같은 건축용 투명체와 함께 사용하는 것을 참조하여 논의될 수 있다. 본원에서 사용되는 바와 같이, "건축용 투명체"이라는 용어는, 비제한적으로, 창문 및 채광창(sky lights)과 같은 건물에 위치한 임의의 투명체를 의미한다. 그러나, 본원에 기술된 코팅된 물품은 이러한 건축용 투명체와 함께 사용하는 것으로 제한되는 것이 아니라, 임의의 원하는 분야의 투명체, 예컨대 비제한적으로, 적층 또는 비적층된 주거용 및/또는 상업용 창문, 절연 유리 유닛 및/또는 지상, 공중, 우주, 수상 및 수중 차량용 투명체와 함께 실시될 수 있는 것을 이해해야 한다. 하나의 양태 또는 실시양태에서, 본원에 기술된 바와 같은 코팅된 물품은 창문 또는 선루프와 같은 차량에 사용하기 위한 투명 필름이다. 따라서, 구체적으로 개시된 예시적인 양태 또는 실시양태는 단순히 본 발명의 일반적인 개념을 설명하기 위해 제시된 것이며, 본 발명이 이러한 특정 예시적인 실시양태에 제한되지 않는다는 것이 이해되어야 한다. 추가로, 전형적인 "투명체"는 재료가 투명성을 통해 볼 수 있도록 충분한 가시광선 투과율을 가질 수 있지만, "투명체"는 가시광선에 대해 투명할 필요는 없지만 반투명하거나 불투명할 수 있다. 즉, "투명"은 0% 초과, 최대 100%의 가시광선 투과율을 갖는 것을 의미한다.
본 발명의 특징을 포함하는 비제한적 투명성(10)이 도 1a에 도시되어 있다. 투명체(10)는 임의의 원하는 가시광선, 적외선, 또는 자외선 투과 및/또는 반사를 가질 수 있다.
도 1a의 예시적인 투명체(10)는 종래의 절연 유리 유닛의 형태이고 제1 주 표면(14)(1번 표면) 및 반대쪽의 제2 주 표면(16)(2번 표면)을 갖는 제1 플라이(12)를 포함한다. 예시된 비제한적 실시양태에서, 제1 주 표면(14)은 건물 외부를 향하며, 즉 외부 주 표면이고, 제2 주 표면(16)은 건물 내부를 향한다. 투명체(10)는 또한 내부(제1) 주 표면(20)(3번 표면) 및 외부(제2) 주 표면(22)(4번 표면)을 갖고 제1 플라이(12)으로부터 이격된 제2 플라이(18)을 포함한다. 일부 실시양태에서, 절연 유리 유닛은 제1 주 표면(5번 표면)의 반대쪽의 제2 주 표면(6번 표면)을 갖는 제3 플라이를 포함한다. 플라이 표면의 이러한 번호 매기기는 창호 기술의 종래 관행과 일치한다. 제1 및 제2 플라이(12, 18)는 종래의 스페이서 프레임(24)에 접착 결합되는 것과 같은 임의의 적절한 방식으로 연결될 수 있다. 갭 또는 챔버(26)가 두 플라이(12, 18) 사이에 형성된다. 챔버(26)는 공기와 같은 선택된 대기 또는 아르곤 또는 크립톤 가스와 같은 비반응성 가스로 채워진다. 코팅(30)(또는 하기에 기재된 임의의 다른 코팅)은 3번 표면(20)의 적어도 일부 또는 4번 표면(22)의 적어도 일부 또는 5번 표면의 적어도 일부 또는 6번 표면의 적어도 일부 위에 형성된다. 코팅(30)은 1번 표면(14)의 적어도 일부 또는 2번 표면(16)의 적어도 일부 위에 있지 않다. 절연 유리 유닛의 예는 예를 들어 미국 특허 제4,193,228호; 제4,464,874호; 제5,088,258호; 및 제5,106,663호에서 확인할 수 있다.
도 1b의 예시적인 투명체는 창문 또는 선루프와 같은 차량용의 종래의 투명체(110)의 형태이다. 명확성을 위해 씰, 커넥터 및 개방 메커니즘은 도시되지 않으며, 전체 차량도 도시되지 않는다. 투명체는 차량(118)의 차체(부분적으로 도시됨)에 장착된 제1 주 표면(114)(제1 표면) 및 반대쪽의 제2 주 표면(116)(제2 표면)을 갖는 제1 플라이(112)를 포함한다. 예시된 비제한적 실시양태에서, 제1 주 표면(114)은 차량의 외부를 향하므로 외부 주 표면이고, 제2 주 표면(116)은 차량의 내부를 향한다. 차체의 비제한적 예는 선루프의 경우 자동차 루프, 자동차 창문의 경우 자동차 도어 또는 프레임, 비행기의 동체를 포함한다. 투명체는 차량 기술 분야에서 널리 알려진 바와 같이 자동차 창문 또는 선루프와 같은 투명체가 개폐될 수 있는 메커니즘에 부착될 수 있다. 코팅(130) 또는 본원에 기술된 임의의 다른 코팅은 1번 표면(114) 위에 형성된 것으로 도시되어 있고, 2번 표면(116)의 적어도 일부 위에 형성될 수 있다.
본 발명의 광범위한 실시에서, 투명체(10, 110)의 플라이(12, 18, 112)는 동일하거나 상이한 재료일 수 있다. 플라이(12, 18, 112)는 임의의 원하는 특성을 갖는 임의의 원하는 재료를 포함할 수 있다. 예를 들어, 플라이(12, 18, 112) 중 하나 이상은 가시광에 대해 투명하거나 반투명할 수 있다. "투명"은 0% 초과, 최대 100%의 가시광선 투과율을 갖는 것을 의미한다. 대안적으로, 플라이(12, 18, 112) 중 하나 이상이 반투명할 수 있다. "반투명"은 전자기 에너지(예를 들어, 가시광선)를 통과시키지만 이 에너지를 확산시켜 관찰자의 반대편에 있는 물체가 명확하게 보이지 않도록 하는 것을 의미한다. 적합한 재료의 예는 플라스틱 기판(예컨대, 아크릴 중합체 예컨대 폴리아크릴레이트; 폴리알킬메타크릴레이트 예컨대 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리에틸메타크릴레이트, 폴리프로필메타크릴레이트 등; 폴리우레탄; 폴리카보네이트; 폴리알킬테레프탈레이트 예컨대 폴리에틸렌테레프탈레이트(예컨대 PET), 폴리프로필렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등, 폴리실록산 함유 중합체, 또는 이들을 제조하기 위한 임의의 단량체의 공중합체, 또는 이들의 임의의 혼합물); 세라믹 기판; 유리 기판; 또는 상기 중 임의의 것의 혼합물 또는 조합을 포함하지만, 이에 제한되지 않는다. 예를 들어, 플라이(12, 18, 112) 중 하나 이상은 종래의 소다-석회-실리케이트 유리, 보로실리케이트 유리 또는 납 유리를 포함할 수 있다. 유리는 투명 유리일 수 있다. "투명 유리"는 착색되지 않거나(not-tinted) 비-유색(not-colored) 유리를 의미한다. 대안적으로, 유리는 착색되거나 다른 방식으로 색을 갖는 유리일 수 있다. 유리는 어닐링되거나 열처리된(heat-treated) 유리일 수 있다. 본원에서 사용되는 "열처리된"이라는 용어는 템퍼링되거나(tempered) 적어도 부분적으로 템퍼링됨을 의미한다. 유리는 통상적인 플로트 유리(float glass)와 같은 임의의 유형일 수 있고, 임의의 광학적 특성, 예를 들어 임의의 값의 가시 투과율, 자외선 투과율, 적외선 투과율 및/또는 총 태양 에너지 투과율을 갖는 임의의 조성일 수 있다. "플로트 유리"는 용융 유리가 용융 금속 배스 상에 증착되고 제어가능하게 냉각되어, 플로트 유리 리본을 형성하는 종래의 플로트 공정에 의해 형성된 유리를 의미한다. 플로트 유리 공정의 예는 미국 특허 제4,466,562호 및 제4,671,155호에 개시되어 있다.
플라이(12, 18, 112)는, 각각, 예를 들어 투명한 플로트 유리를 포함할 수 있거나, 착색 또는 유색 유리일 수 있거나, 하나의 플라이(12, 18)는 투명 유리이고 다른 플라이(12, 18)는 유색 유리일 수 있다. 비제한적이지만, 제1 플라이(12) 및/또는 제2플라이(18)에 적합한 유리의 예는 미국 특허 제4,746,347호; 제4,792,536호; 제5,030,593호; 제5,030,594호; 제5,240,886호; 제5,385,872호; 및 제5,393,593호에 기재되어 있다. 플라이(12, 18, 112)는 임의의 원하는 치수, 예를 들어 길이, 폭, 형상 또는 두께를 가질 수 있다. 하나의 예시적인 자동차 투명 필름에서, 제1 및 제2 플라이는 각각 1mm 내지 10mm 두께, 예컨대 1mm 내지 8mm 두께, 예컨대 2mm 내지 8mm, 예컨대 3mm 내지 7mm, 예컨대 5mm 내지 7mm, 예컨대 6mm 두께일 수 있다.
본원에 기술된 코팅된 제품의 비제한적인 실시양태에서, 본 발명의 코팅(30, 130)은 유리 플라이(12, 18, 112) 중 하나의 적어도 하나의 주 표면의 적어도 일부 위에 증착된다. 도 1a에서, 코팅(30)은 내부 유리 플라이(18, 112)의 내부 표면(20)의 적어도 일부 위에 형성되며; 추가적으로 또는 대안적으로, 본 개시내용과 일치하는 비제한적 예시에서, 태양광 제어 코팅은 내부 유리 플라이(18)의 외부 표면(22)의 적어도 일부 위에 형성될 수 있음을 이해해야 한다. 본원에 사용된 바와 같이, "태양광 제어 코팅"은 코팅된 물품의 태양광 특성, 예컨대 비제한적으로, 코팅된 물품에서 반사, 흡수 또는 통과하는 가시광선, 적외선 또는 자외선과 같은 태양광 복사의 양, 차광 계수; 방사율 등에 영향을 미치는 하나 이상의 층 또는 필름으로 구성된 코팅을 지칭한다. 태양광 제어 코팅(30)은 태양광 스펙트럼, 예컨대 비제한적으로, IR, UV 및/또는 가시광선 스펙트럼의 선택된 부분을 차단, 흡수 또는 필터링할 수 있다.
태양광 제어 코팅(30, 130)과 같은 본원에 기재된 코팅은 임의의 유용한 방법, 예컨대 비제한적으로, 종래의 화학 기상 증착(CVD) 및/또는 물리적 기상 증착(PVD) 방법에 의해 증착될 수 있다. CVD 공정의 예는 분무 열분해를 포함한다. PVD 공정의 예는 전자 빔 증착 및 진공 스퍼터링(예컨대 마그네트론 스퍼터 기상 증착(MSVD))을 포함한다. 졸-겔 증착과 같은 다른 코팅 방법도 사용될 수 있지만 이에 제한되지는 않다. 비제한적인 일 실시양태에서, 코팅(30, 130)은 MSVD에 의해 증착된다. MSVD 코팅 장치 및 방법의 예는 당업자에 의해 잘 이해될 것이며, 예를 들어 미국 특허 제4,379,040호; 제4,861,669호; 제4,898,789호; 제4,898,790호; 제4,900,633호; 제4,920,006호; 제4,938,857호; 제5,328,768호; 및 제5,492,750호에 기재되어 있다.
코팅된 물품은 기판(210)을 포함한다. 기판(210)은 임의의 원하는 특성을 포함할 수 있으며, 임의의 원하는 두께를 가질 수 있다. 기판(210)은 플라이(12, 18, 112)의 맥락에서 임의의 적절한 투명 재료, 예컨대 비제한적으로, 전술한 중합체, 유리 및/또는 세라믹 기판을 포함할 수 있다. 비제한적인 예시에서, 기판(210)은 도 1a 또는 도 1b에 도시된 바와 같이 플라이(12, 18, 112)를 참조하여 전술한 바와 같은 유리 기판을 포함할 수 있다. 그러나, 본 발명은 태양 전지에 사용되는 것과 같은 다른 기판에도 적용될 수 있음을 이해해야 한다.
기능성 코팅(30, 130)은, 예를 들어 비제한적으로, 미국 특허 출원 공보 2019/0043640에 개시된 투명 전도성 산화물(TCO)을 포함할 수 있다. 기능성 코팅(30, 130)은 미국 특허 출원 공보 2017/0341977, 2014/0272453, 2011/0228715, 및/또는 미국 특허 출원 번호 제15/669,414호에 기재된 스택 또는 임의의 이의 일부를 포함할 수 있다.
코팅(30, 130)은 단일 금속 코팅(31, 131), 예를 들어 하나의 금속층 또는 이중 금속 코팅(32, 132)(예를 들어, 2개의 금속층), 또는 삼중 금속 코팅(33, 133)(예를 들어, 3개의 금속층), 또는 사중 금속 코팅(34, 134)(예를 들어, 4개의 금속층)일 수 있다. 단일 금속 코팅(31, 131)에 적합한 예시적인 비제한적 코팅이 도 2a-2c에 도시되어 있다. 이중 금속 코팅(32, 132)에 적합한 예시적인 비제한적 코팅이 도 3a-3c에 도시되어 있다. 삼중 금속 코팅(33, 133)에 적합한 예시적인 비제한적 코팅이 도 4a-4c에 도시되어 있다. 사중 금속 코팅(34, 134)에 적합한 예시적인 비제한적 코팅이 도 5a-5c에 도시되어 있다.
예시적인 코팅(30, 130)은 도 2a에 도시된 바와 같이 하나의 금속층(즉, 단일 금속 코팅(31, 131))을 포함한다. 단일 금속 코팅(31, 131)은 기판의 적어도 일부(210)(예를 들어, 제2 플라이(18)의 4번 표면(22), 또는 제2 플라이(18)의 3번 표면(20)) 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉하는 차단층(220)을 포함한다. 금속층(228)은 차단층(220)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 제1 프라이머층(230)은 금속층(228)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉할 수 있다. 상부층(300)은 임의적인 제1 프라이머층(230) 또는 금속층(228)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 최외곽 보호 코팅(320)은 상부층(300)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉할 수 있다.
예시적인 코팅(30, 130)은 도 3a에 도시된 바와 같이 2개의 금속층(즉, 이중 금속 코팅(32, 132))을 포함한다. 이중 금속 코팅(32, 132)은 기판의 적어도 일부(210)(예를 들어, 제2 플라이(18)의 4번 표면(22), 또는 제2 플라이(18)의 3번 표면(20)) 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉하는 차단층(220)을 포함한다. 금속층(228)은 차단층(220)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 제1 프라이머층(230)은 금속층(228)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉할 수 있다. 제1 중간층(240)은 임의적인 제1 프라이머층(230) 또는 금속층(228)의 적어도 일부 위에 위치한다. 제2 금속층(248)은 제1 중간층(240)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 제2 프라이머층(250)은 제2 금속층(248)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 상부층(300)은 임의적인 제2 프라이머층(250) 또는 제2 금속층(248)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 최외곽 보호 코팅(320)은 상부층(300)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉할 수 있다.
예시적인 코팅(30, 130)은 도 4a에 도시된 바와 같이 3개의 금속층(즉, 삼중 금속 코팅(33, 133))을 포함한다. 삼중 금속 코팅(33, 133)은 기판의 적어도 일부(210)(예를 들어, 제2 플라이(18)의 4번 표면(22), 또는 제2 플라이(18)의 3번 표면(20)) 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉하는 차단층(220)을 포함한다. 금속층(228)은 차단층(220)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 제1 프라이머층(230)은 금속층(228)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉할 수 있다. 제1 중간층(240)은 임의적인 제1 프라이머층(230) 또는 금속층(228)의 적어도 일부 위에 위치한다. 제2 금속층(248)은 제1 중간층(240)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 제2 프라이머층(250)은 제2 금속층(248)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 제2 중간층(260)은 임의적인 제2 프라이머층(250) 또는 제2 금속층(248)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 제3 금속층(268)은 제2 중간층(260)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 제3 프라이머층(270)은 제3 금속층(268)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 상부층(300)은 임의적인 제3 프라이머층(270) 또는 제3 금속층(268)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 최외곽 보호 코팅(320)은 상부층(300)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉할 수 있다.
예시적인 코팅(30, 130)은 도 5a에 도시된 바와 같이 4개의 금속층(즉, 사중 금속 코팅(34, 134))을 포함한다. 사중 금속 코팅(34, 134)은 기판의 적어도 일부(210)(예를 들어, 제2 플라이(18)의 4번 표면(22), 또는 제2 플라이(18)의 3번 표면(20)) 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉하는 차단층(220)을 포함한다. 금속층(228)은 차단층(220)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 제1 프라이머층(230)은 금속층(228)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉할 수 있다. 제1 중간층(240)은 임의적인 제1 프라이머층(230) 또는 금속층(228)의 적어도 일부 위에 위치한다. 제2 금속층(248)은 제1 중간층(240)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 제2 프라이머층(250)은 제2 금속층(248)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 제2 중간층(260)은 임의적인 제2 프라이머층(250) 또는 제2 금속층(248)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 제3 금속층(268)은 제2 중간층(260)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 제3 프라이머층(270)은 제3 금속층(268)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 제3 중간층(280)은 임의적인 제3 프라이머층(270) 또는 제3 금속층(268)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 제4 금속층(288)은 제3 중간층(280)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 제4 프라이머층(290)은 제4 금속층(288)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 상부층(300)은 임의적인 제4 프라이머층(290) 또는 제4 금속층(288)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉한다. 임의적인 최외곽 보호 코팅(320)은 상부층(300)의 적어도 일부 위에 위치하거나, 이와 직접 접촉할 수 있다.
본 발명의 예시적인 비제한적 기능성 코팅(30, 130)이 도 2a-2c, 3a-3c, 4a-4c 및 5a-5c에 도시되어 있다. 이러한 기능성 코팅(30, 130)은 기판(210)의 주 표면의 적어도 일부 위에 증착된 차단층(220)을 포함한다. 차단층(220)은 아연, 나트륨, 칼슘, 마그네슘, 알칼리 금속 원소, 알칼리 토금속 원소, 또는 이들의 조합의 확산을 방지한다.
이러한 기능성 코팅(30, 130)은 기판의 적어도 일부 위에 차단층(220)을 포함한다. 차단층(220)은 반사 방지 재료 및/또는 유전체 재료, 예컨대 비제한적으로, 금속 산화물, 금속 합금의 산화물, 질화물, 산질화물 또는 이들의 혼합물로 이루어진 하나 이상의 필름을 포함할 수 있다. 차단층(220)은 가시광에 대해 투명할 수 있다. 차단층(220)에 적합한 금속 산화물의 예는 티타늄, 하프늄, 지르코늄, 니오븀, 아연, 비스무트, 납, 인듐, 주석, 알루미늄, 규소 및 이들의 혼합물의 산화물을 포함한다. 이러한 금속 산화물은 비스무트 산화물 중 망간, 인듐 산화물 중 주석 등과 같은 소량의 다른 물질을 가질 수 있다. 또한, 아연과 주석을 함유하는 산화물(예컨대, 아연 주석산염, 하기에 정의), 인듐-주석 합금의 산화물, 아연 및 알루미늄 함유 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물, 또는 알루미늄 질화물이 사용될 수 있다. 또한, 도핑된 금속 산화물, 예컨대 안티몬 또는 인듐으로 도핑된 주석 산화물 또는 니켈 또는 붕소로 도핑된 규소 산화물이 사용될 수 있다. 차단층(220)은 실질적으로 단일 상 필름, 예컨대, 금속 합금 산화물 필름, 예를 들어, 아연 주석산염일 수 있거나, 또는 아연 및 주석 산화물로 이루어진 상의 혼합물일 수 있거나, 또는 복수의 필름으로 이루어질 수 있다.
도 2b-2c, 3b-3c, 4b-4c 및 5b-5c를 참조하면, 차단층(220)은 제1필름(222), 제2필름(224) 및 제3필름(226)을 포함할 수 있으며, 제1필름(222)은 차단 필름이다. 차단 필름(222)은 기판의 적어도 일부 위에 있고, 제2 필름(224)은 차단 필름(222)의 적어도 일부 위에 있고, 제3 필름(226)은 제2 필름(224)의 적어도 일부 위에 있다.
예시적인 실시양태에서, 차단 필름(222)은 금속 산화물, 금속 질화물, 금속 산질화물, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 하나의 비제한적인 실시양태에서, 차단 필름(222)은 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 티타늄 산화물, 티타늄 알루미늄 산화물, 또는 이들의 조합을 포함한다. 또 다른 실시양태에서, 차단 필름(222)은 규소 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 티타늄 산화물, 티타늄 알루미늄 산화물, 또는 이들의 조합을 포함한다. 또 다른 실시양태에서, 차단 필름(222)은 규소 알루미늄 질화물을 포함한다. 또 다른 실시양태에서, 차단 필름(222)은 규소 알루미늄 산질화물을 포함한다.
차단 필름(222)은 2개의 캐소드(예를 들어, 하나의 규소 및 하나의 알루미늄) 또는 규소와 알루미늄을 모두 포함하는 단일 캐소드로부터 스퍼터링될 수 있다. 차단 필름(222)은 5 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 95 중량% 내지 80 중량% 규소, 예컨대 10 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 90 중량% 내지 80 중량% 규소, 예컨대, 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄 및 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함할 수 있다. 하나의 예시적인 실시양태에서, 차단 필름(222)은 규소 및 알루미늄을 포함하며, 5 중량% 알루미늄 및 95 중량% 규소를 포함한다. 또 다른 실시양태에서, 차단 필름(222)은 규소 및 알루미늄을 포함하며, 10 중량% 알루미늄 및 90 중량% 규소를 포함한다. 또 다른 실시양태에서, 차단 필름(222)은 규소 및 알루미늄을 포함하며, 15 중량% 알루미늄 및 85 중량% 규소를 포함한다. 또 다른 실시양태에서, 차단 필름(222)은 규소 및 알루미늄을 포함하며, 20 중량% 알루미늄 및 80 중량% 규소를 포함한다. 또 다른 실시양태에서, 차단 필름은 규소 및 알루미늄을 포함하며, 25 중량% 알루미늄 및 75 중량% 규소를 포함한다.
산화물 차단 필름(222)은 0% O2 초과 내지 100% O2 이하의 대기를 형성하도록 특정 유량을 갖는 산소(O2) 대기에서 금속 또는 금속 합금을 스퍼터링하여 형성된다. 유량은 대기 중의 O2 양에 대한 근사치이지만, 당업자는 코팅 챔버가 외부 환경으로부터 밀폐되지 않기 때문에 추가적인 O2 양이 코팅 챔버로 누출될 수 있음을 인식할 수 있다. 예를 들어, O2 유량(즉, 재료가 증착되는 챔버의 대기 중 O2 농도)은 0% 내지 50%, 예컨대, 10% 내지 50%, 예컨대, 20% 내지 30%, 예컨대, 20% 내지 40%, 예컨대, 20% 내지 50%, 예컨대, 30% 내지 40%, 예컨대, 30% 내지 50%의 범위일 수 있다. 나머지 대기는 불활성 기체, 예컨대, 아르곤일 수 있다.
질화물 차단 필름(222)은 0% N2 초과 내지 100% N2 이하의 대기를 형성하도록 특정 유량을 갖는 질소(N2) 대기에서 금속 또는 금속 합금을 스퍼터링하여 형성된다. 유량은 대기 중의 N2 양에 대한 근사치이지만, 당업자는 코팅 챔버가 외부 환경으로부터 밀폐되지 않기 때문에 추가적인 N2 양이 코팅 챔버로 누출될 수 있음을 인식할 수 있다. 예를 들어, N2 유량(즉, 재료가 증착되는 챔버의 대기 중 N2 농도)은 0% 내지 80%, 예컨대, 1% 내지 40%, 예컨대, 3% 내지 35%, 예컨대, 5% 내지 30%, 예컨대, 5% 내지 80%의 범위일 수 있다. 나머지 대기는 불활성 기체, 예컨대, 아르곤일 수 있다.
산질화물 차단층(222)은 O2 및 N2 환경에서 금속 또는 금속 합금을 스퍼터링함으로써 형성될 수 있다. 예를 들어, N2 유량(즉, 재료가 증착되는 챔버의 대기 중 N2 농도)은 50 내지 100%일 수 있고, O2 유량(즉, 재료가 증착되는 챔버의 대기 중 O2 농도)은 0% 내지 50%일 수 있다. N2 유량은 95% 내지 50%일 수 있으며, O2 유량은 5% 내지 50%일 수 있고, 예컨대 90% 내지 50% N2 및 10% 내지 50% O2, 예컨대, 80% 내지 50% N2 및 20% 내지 50% O2, 예컨대, 70% 내지 50% N2 및 30% 내지 50% O2일 수 있다. 하나의 실시양태에서, N2 유량은 90%일 수 있고, O2 유량은 10%일 수 있다. 하나의 실시양태에서, N2 유량은 80%일 수 있고, O2 유량은 20%일 수 있다. 하나의 실시양태에서, N2 유량은 70%일 수 있고, O2 유량은 30%일 수 있다. 하나의 실시양태에서, N2 유량은 60%일 수 있고, O2 유량은 40%일 수 있다.하나의 실시양태에서, N2 유량은 50%일 수 있고, O2 유량은 50%일 수 있다.
금속 산질화물 중 산소 및 질소의 원자비는 N2의 유량 및 O2의 유량을 기준으로 한 근사치이다. 금속 산질화물 필름 중 산소 및 질소의 원자비는 0 중량% 내지 100 중량%로 다양할 수 있으며, 여기서 중량%는 금속 산질화물 중 금속을 제외한 조성물 내 N + O의 총 질량에 대한 N 또는 O의 질량 비율을 나타낸다. 금속 산질화물 차단 필름(222)은 0 중량%의 산소, 및 50 중량% 이하의 산소; 40 중량% 이하의 산소; 30 중량% 이하의 산소; 20 중량% 이하의 산소; 10 중량% 이하의 산소; 5 중량% 이하의 산소를 포함한다. 금속 산질화물 필름 중 산소 및 질소의 유용한 원자비의 비제한적인 예는, 예를 들어 비제한적으로, 5% 내지 50% O 대 95% 내지 50% N; 10 내지 50% O 대 90% 내지 50% N; 15% 내지 40% O 대 85% 내지 60% N; 20% 내지 50% O 대 80% 내지 50% N; 25% 내지 45% O 대 75% 내지 55% N; 30% 내지 50% O 대 70% 내지 50% N; 40% 내지 50% O 대 60% 내지 50% N; 또는 50% O 대 50% N를 포함한다.
본 개시내용에 따른 차단 필름(222), 예컨대 규소 알루미늄 산질화물로 이루어진 필름은 550 nm에서 1.4 이상 및 2.3 이하의 굴절률을 가질 수 있다. 하나의 실시양태에서, 차단 필름(222)은 1.45 이상 및 2.2 이하의 굴절률을 갖는다. 또 다른 실시양태에서, 차단 필름(222)은 1.70 내지 1.80, 예를 들어, 1.75의 굴절률을 갖는다. 차단 필름(222)의 굴절률은 적어도 부분적으로 차단 필름에 존재하는 질소의 중량 백분율에 의존한다는 것을 이해해야 한다.
차단 필름(222)은 50 Å 내지 350 Å, 바람직하게는 50 Å 내지 300 Å, 또는 가장 바람직하게는 100 Å 내지 250 Å의 총 두께를 포함할 수 있다.
하나의 비제한적인 실시양태에서, 차단층(220)의 제2 필름(224)은 아연 주석산염을 포함한다. "아연 주석산염"은 ZnXSn1-XO2-X(화학식 1)의 조성을 의미하며, 여기서 "x"는 0 초과 내지 1 미만의 범위 내에서 달라진다. 예를 들어, "x"는 0을 초과할 수 있으며, 0 초과 내지 1 미만의 임의의 분수 또는 소수점일 수 있다. 예를 들어, x = 2/3인 경우, 화학식 1은 Zn2/3Sn1/3O4/3이며, 보다 일반적으로 "Zn2SnO4"로 기재된다. 아연 주석산염-함유 필름은 상기 층에 화학식 1의 형태 중 하나 이상을 우세한 양으로 갖는다.
하나의 비제한적인 실시양태에서, 차단층(220)의 제3 필름(226)은 아연/주석 합금 산화물일 수 있다. "아연/주석 합금 산화물"은 순수 합금, 및 산화물의 혼합물을 의미한다. 아연 산화물은 캐소드의 스퍼터링 특성을 개선하기 위한 다른 물질을 포함하는 아연 캐소드에서 증착될 수 있다. 이와 같이, 아연/주석 합금 산화물은 아연과 주석의 캐소드에서 마그네트론 스퍼터링 진공 증착을 통해 수득될 수 있다. 예를 들어, 아연 캐소드는 스퍼터링을 개선하기 위해 소량(예를 들어, 최대 20 중량%, 최대 15 중량%, 최대 10 중량%, 또는 최대 5 중량%)의 주석을 포함할 수 있다. 이러한 경우, 생성된 아연 산화물 필름은 소량의 주석 산화물, 예를 들어, 최대 10 중량% 주석 산화물, 예를 들어, 최대 5 중량% 주석 산화물을 포함하게 된다. (캐소드의 전도성을 향상시키기 위해 첨가된) 최대 10 중량% 주석이 포함된 아연 캐소드에서 증착된 코팅층은 소량의 주석이 존재하더라도 본 원에서는 "아연 산화물 필름"으로 지칭된다. 하나의 비제한적인 캐소드는 5 중량% 내지 95 중량% 아연 및 95 중량% 내지 5 중량% 주석, 예컨대 10 중량% 내지 90 중량% 아연 및 90 중량% 내지 10 중량% 주석의 비율로 아연 및 주석을 포함할 수 있다. 그러나, 다른 비율의 아연 대 주석이 또한 사용될 수 있다.
하나의 비제한적인 실시양태에서, 차단층(220)의 제3 필름(226)은 알루미늄/아연 합금 산화물(AlxZn1-x 산화물)일 수 있다. "알루미늄/아연 합금 산화물"은 순수 합금, 및 산화물의 혼합물을 의미한다. 이와 같이, 알루미늄/아연 합금 산화물은 아연과 주석의 캐소드에서 마그네트론 스퍼터링 진공 증착을 통해 수득될 수 있으며, 스퍼터링을 개선하기 위해 소량의(예를 들어 10 중량% 미만, 예컨대, 0 초과 내지 5 중량%)의 주석을 포함할 수 있다. 이러한 경우, 생성된 알루미늄 아연 산화물 필름은 소량의 주석 산화물, 예를 들어 0 중량% 내지 10 중량% 미만, 예를 들어,0 중량% 내지 5 중량% 주석 산화물을 포함하게 된다. 차단층(220)의 제3 필름(226)은 AlxZn1-x 산화물을 포함할 수 있으며, 여기서 x는 중량% 내지 25 중량%, 바람직하게는 1 중량% 내지 15 중량%, 더욱 바람직하게는 1 중량% 내지 10 중량%, 및 가장 바람직하게는 2 중량% 내지 5 중량% 범위 내이다. 하나의 비제한적인 실시양태에서, x는 3 중량%이다.
하나의 비제한적인 실시양태에서, 차단층(220)의 차단 필름(222)은 기판의 적어도 일부 위의 규소 알루미늄 산질화물을 포함하고, 차단층(220)의 제2 필름(224)은 차단 필름(222)의 적어도 일부 위에 아연 주석산염을 포함하고, 차단층(220)의 제3 필름(226)은 제2 필름(224)의 적어도 일부 위에 아연 산화물 또는 알루미늄 아연 산화물을 포함한다. 제2 필름(224)은 50 Å 내지 400 Å, 바람직하게는 80 Å 내지 300 Å, 또는 가장 바람직하게는 90 Å 내지 250 Å 범위의 두께를 갖는 아연 주석산염을 포함할 수 있다. 제3 필름(226)은 50 Å 내지 100 Å, 바람직하게는 50 Å 내지 90 Å, 가장 바람직하게는 60 Å 내지 90 Å 범위의 두께를 갖는 아연 산화물 또는 알루미늄 아연 산화물을 포함할 수 있다.
차단층(220)은 150 Å 내지 850 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 또는 가장 바람직하게는 200 Å 내지 500 Å의 총 두께(예를 들어, 제1, 제2, 및 제3 필름(222, 224, 226)의 합한 두께)를 포함한다.
금속층(228)은 차단층(220)의 적어도 일부 위에 증착될 수 있다. 금속층(228)은 반사 금속, 예컨대 비제한적으로, 금속 금, 구리, 팔라듐, 알루미늄, 은, 또는 혼합물, 합금, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 하나의 실시양태에서, 금속층(228)은 금속 은 층을 포함한다. 금속층(228)은 연속층이다. "연속층"은 코팅이 섬상의 코팅 영역이 아닌, 재료의 연속 필름을 형성하는 것을 의미한다.
제1 금속층(228)은 60 Å 내지 150 Å, 예컨대 60 Å 내지 100 Å, 예컨대, 60 Å 내지 90 Å 범위의 두께를 가질 수 있다.
제1 프라이머층(230)은 금속층(228) 위에 위치한다. 제1 프라이머층(230)은 단일 필름 또는 다중 필름층일 수 있다. 제1 프라이머층(230)은 스퍼터링 공정 또는 후속 가열 공정 동안 금속층(228)의 분해 또는 산화를 방지하기 위해 증착 공정 동안 희생될 수 있는 산소-포집 물질을 포함할 수 있다. 제1 프라이머층(230)은 또한 기능성 코팅(30, 130)을 통과하는 전자기 복사의 적어도 일부, 예컨대 가시광선을 흡수할 수 있다. 제1 프라이머층(230)에 유용한 물질의 예는 티타늄, 규소, 이산화규소, 규소 질화물, 규소 산질화물, 니켈, 지르코늄, 아연, 알루미늄, 코발트, 크로뮴, 이들의 합금, 또는 이들의 혼합물을 포함한다. 하나의 비제한적인 실시양태에서, 제1 프라이머층(230)은 금속으로서 증착되는 티타늄, 티타늄 및 알루미늄, 또는 아연 및 알루미늄을 포함하고, 이러한 티타늄, 또는 티타늄 및 알루미늄, 또는 아연 및 알루미늄의 적어도 일부는 후속적으로 산화된다. 또 다른 실시양태에서, 프라이머층(230)은 니켈-크로뮴 합금, 예컨대, Inconel을 포함한다. 또 다른 실시양태에서, 프라이머층(230)은 코발트-크로뮴 합금, 예컨대, Stellite®을 포함한다.
제1 프라이머층(230)은 5 Å 내지 50 Å, 바람직하게는 10 Å 내지 35 Å, 또는 더욱 바람직하게는 10 Å 내지 30 Å 범위의 두께를 가질 수 있다.
제1 중간층(240)은 금속층(228)의 적어도 일부 위에(예를 들어, 제1 프라이머층(230) 위에) 위치한다. 제1 중간층(240)은 하나 이상의 금속 산화물 또는 금속 합금 산화물-함유 필름, 예컨대, 차단층(220)과 관련하여 상기 기재된 필름을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제1 중간층(240)은 제1 프라이머층(230)의 적어도 일부 위에 증착된, 금속 산화물, 예를 들어, 아연 산화물 또는 알루미늄 아연 산화물을 포함하는 제1 필름(242), 제1 필름(242)의 적어도 일부 위에 금속 산화물, 예를 들어, 아연 주석산염 필름을 포함하는 제2 필름(244), 및 제2 필름(244)의 적어도 일부 위에 금속 산화물, 예를 들어, 아연 산화물 필름 또는 알루미늄 아연 산화물 필름을 포함하는 제3 필름(246)을 포함할 수 있다.
한 예에서, 제1 및 제3 필름(242, 246) 둘 모두 존재하며, 각각 10 Å 내지 200 Å, 예를 들어, 50 Å 내지 200 Å, 예를 들어, 60 Å 내지 150 Å, 예를 들어, 70 Å 내지 85 Å 범위의 두께를 갖는다. 제2 필름(244)은 50 Å 내지 800 Å, 예를 들어, 50 Å 내지 500 Å, 예를 들어, 100 Å 내지 300 Å, 예를 들어, 110 Å 내지 235 Å, 예를 들어, 110 Å 내지 120 Å 범위의 두께를 가질 수 있다.
제1 중간층(240)은 50 Å 내지 1000 Å, 예컨대 50 Å 내지 500 Å, 예컨대, 100 Å 내지 370 Å, 예컨대, 100 Å 내지 300 Å, 예컨대, 100 Å 내지 200 Å, 예컨대, 150 Å 내지 200 Å, 예컨대, 180 Å 내지 190 Å 범위의 총 두께(예를 들어, 필름들의 합한 두께)를 포함할 수 있다.
제2 금속층(248)은 제1 중간층의 적어도 일부 위에 형성될 수 있다. 제2 금속층(248)은 반사 금속, 예컨대 비제한적으로, 금속 금, 구리, 팔라듐, 알루미늄, 은, 또는 혼합물, 합금, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 하나의 실시양태에서, 제2 금속층(248)은 금속 은 층을 포함한다.
하나의 실시양태에서, 제2 금속층(248)은 제1 중간층(240)의 적어도 일부 위에 형성된 연속층이다. 제2 금속층(248)은 50 Å 내지 300 Å, 예컨대 100 Å 내지 200 Å, 예컨대, 150 Å 내지 200 Å, 예컨대, 170 Å 내지 200 Å, 예컨대, 60 Å 내지 150 Å, 예컨대, 60 Å 내지 100 Å, 예컨대, 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 갖는 연속층이다.
또 다른 실시양태에서, 제2 금속층(248)은 제1 중간층(240)의 적어도 일부 위에 형성된 아임계 두께를 갖는 불연속층이다. 금속 재료, 예컨대 비제한적으로, 금속 금, 구리, 팔라듐, 알루미늄, 은, 또는 혼합물, 합금, 또는 이들의 조합은, 이러한 재료의 연속층보다는 재료의 고립 영역 또는 섬이 형성되도록 아임계 두께로 적용된다. 은의 경우, 임계 두께가 50 Å 미만, 예컨대, 40 Å, 예컨대 30 Å 미만, 예컨대, 25 Å 미만으로 결정되었다. 은의 경우, 연속층과 아임계층 사이의 전이가 25 Å 내지 50 Å 범위에서 발생한다. 구리의 경우, 유효 두께가 최대 90 Å; 예를 들어, 50 Å; 40 Å; 예를 들어, 36 Å, 예를 들어, 26 Å; 예를 들어, 20 Å; 예를 들어, 17 Å; 및 적어도 1 Å; 예를 들어, 2 Å; 예를 들어 3 Å; 예를 들어 4 Å; 예를 들어 5 Å; 예를 들어 6 Å; 예를 들어 7 Å인 것으로 결정되었다. 구리, 금, 팔라듐은 상기 범위에서 유사한 아임계 거동을 보일 것으로 추정된다. 하나의 비제한적인 실시양태에서, 제2 금속층(248)은 섬상 은을 포함하며, 이러한 섬은 최대 70 Å, 예를 들어 최대 40 Å, 예를 들어, 최대 35 Å, 예를 들어, 최대 30 Å, 예를 들어, 최대 25 Å, 예를 들어, 최대 20 Å; 예를 들어, 최대 17 Å; 및 적어도 1 Å; 예를 들어, 적어도 2 Å; 예를 들어, 적어도 4 Å; 예를 들어, 적어도 5 Å; 예를 들어 적어도 7 Å; 예를 들어, 적어도 10 Å의 유효 두께를 갖는다. 또 다른 실시양태에서, 제2 금속층(248)은 최대 90 Å; 예를 들어, 50 Å; 40 Å; 예를 들어, 36 Å, 예를 들어, 26 Å; 예를 들어, 20 Å; 예를 들어, 17 Å; 및 적어도 1 Å; 예를 들어, 2 Å; 예를 들어 3 Å; 예를 들어 4 Å; 예를 들어 5 Å; 예를 들어 6 Å; 예를 들어 7 Å의 유효 두께를 갖는 섬을 갖는 구리; 및 임의적으로 최대 70 Å, 예를 들어 최대 40 Å, 예를 들어, 최대 35 Å, 예를 들어, 최대 30 Å, 예를 들어, 최대 25 Å, 예를 들어, 최대 20 Å; 예를 들어, 최대 17 Å; 및 적어도 1 Å; 예를 들어, 적어도 2 Å; 예를 들어, 적어도 4 Å; 예를 들어, 적어도 5 Å; 예를 들어 적어도 7 Å; 예를 들어, 적어도 10 Å의 유효 두께를 갖는 섬을 갖는 은을 포함한다. 제2 금속층(248)은 플라즈몬 공명 이론에 따라 전자기 복사를 흡수한다. 이러한 흡수는 적어도 부분적으로는 금속 섬의 경계 조건에 따라 달라진다. 제2 금속층(248)은 금속층(248)과 같이 적외선을 반사하는 층이 아니다. 은 및 구리의 경우, 아임계 두께 미만으로 증착된 은 금속 및 구리 금속의 금속 섬 또는 볼이 약 20 Å 내지 70 Å, 예컨대 50 Å 내지 70 Å의 높이를 가질 수 있는 것으로 추정된다. 아임계 금속층이 균일하게 퍼질 수 있는 경우, 약 11 Å의 두께를 가지게 되는 것으로 추정된다. 광학적으로, 불연속 금속층은 26 Å의 유효 층 두께로 작동하는 것으로 추정된다. 아연 산화물 또는 알루미늄 아연 산화물 보다는 아연 주석산염 위에 불연속 금속층을 증착하면 코팅, 예를 들어, 불연속 금속층의 가시광선 흡수율이 증가하는 것으로 나타난다.
제2 프라이머층(250)은 제2 금속층(248) 위에 위치한다. 제2 프라이머층(250)은 단일 필름 또는 다중 필름층일 수 있다. 제2 프라이머층(250)은 제1 프라이머층(230)에 사용된 임의의 재료일 수 있다. 제2 프라이머층(250)은 5 Å 내지 50 Å, 바람직하게는 10 Å 내지 35 Å, 또는 더욱 바람직하게는 10 Å 내지 30 Å 범위의 두께를 가질 수 있다.
제2 중간층(260)은 제2 금속층(248)의 적어도 일부 위에(예를 들어, 제2 프라이머층(250) 위에) 위치한다. 제2 중간층(260)은 하나 이상의 금속 산화물 또는 금속 합금 산화물-함유 필름, 예컨대, 차단층(220)과 관련하여 상기 기재된 필름을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제2 중간층(260)은 제2 프라이머층(250)의 적어도 일부 위에 증착된, 금속 산화물, 예를 들어, 아연 산화물 또는 알루미늄 아연 산화물을 포함하는 제1 필름(262), 제1 필름(262)의 적어도 일부 위에 금속 산화물, 예를 들어, 아연 주석산염 필름을 포함하는 제2 필름(264), 및 제2 필름(264)의 적어도 일부 위에 금속 산화물, 예를 들어, 아연 산화물 필름 또는 알루미늄 아연 산화물 필름을 포함하는 제3 필름(266)을 포함할 수 있다.
제2 중간층(260)은 200 Å 내지 1000 Å, 예컨대 400 Å 내지 900 Å, 예컨대, 500 Å 내지 900 Å, 예컨대, 650 Å 내지 800 Å, 예컨대, 690 Å 내지 720 Å 범위의 총 두께(예를 들어, 층들의 합한 두께)를 포함한다.
한 예에서, 제1 및 제3 필름(262, 266) 둘 모두 존재하며, 각각 50 Å 내지 200 Å, 예컨대, 75 Å 내지 150 Å, 예컨대, 80 Å 내지 150 Å, 예컨대, 95 Å 내지 100 Å 범위의 두께를 갖는다. 제2 필름(264)은 100 Å 내지 800 Å, 예를 들어, 200 Å 내지 700 Å, 예를 들어, 300 Å 내지 600 Å, 예를 들어, 380 Å 내지 500 Å, 예를 들어, 380 Å 내지 450 Å 범위의 두께를 가질 수 있다.
제3 금속층(268)은 제2 중간층(260)의 적어도 일부 위에 형성될 수 있다. 제3 금속층(268)은 반사 금속, 예컨대 비제한적으로, 금속 금, 구리, 팔라듐, 알루미늄, 은, 또는 혼합물, 합금, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 하나의 실시양태에서, 제3 금속층(268)은 금속 은 층을 포함한다.
하나의 실시양태에서, 제3 금속층(268)은 제2 중간층의 적어도 일부 위에 형성된 연속층이다. 제3 금속층(268)은 25 Å 내지 300 Å, 예컨대, 50 Å 내지 300 Å, 예컨대, 50 Å 내지 200 Å, 예컨대, 70 Å 내지 200 Å, 예컨대, 100 Å 내지 200 Å, 예컨대, 170 Å 내지 200 Å, 예컨대, 60 Å 내지 150 Å, 예컨대, 60 Å 내지 100 Å, 예컨대, 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 갖는 연속층이다.
또 다른 실시양태에서, 제3 금속층(268)은 제2 중간층의 적어도 일부 위에 형성된 아임계 두께를 갖는 불연속층이다. 금속 재료, 예컨대 비제한적으로, 금속 금, 구리, 팔라듐, 알루미늄, 은, 또는 혼합물, 합금, 또는 이들의 조합은, 이러한 재료의 연속층보다는 재료의 고립 영역 또는 섬이 형성되도록 아임계 두께로 적용된다. 은의 경우, 임계 두께가 50 Å 미만, 예컨대, 40 Å, 예컨대 30 Å 미만, 예컨대, 25 Å 미만으로 결정되었다. 은의 경우, 연속층과 아임계층 사이의 전이가 25 Å 내지 50 Å 범위에서 발생한다. 구리의 경우, 유효 두께가 최대 90 Å; 예를 들어, 50 Å; 40 Å; 예를 들어, 36 Å, 예를 들어, 26 Å; 예를 들어, 20 Å; 예를 들어, 17 Å; 및 적어도 1 Å; 예를 들어, 2 Å; 예를 들어 3 Å; 예를 들어 4 Å; 예를 들어 5 Å; 예를 들어 6 Å; 예를 들어 7 Å인 것으로 결정되었다. 구리, 금, 팔라듐은 상기 범위에서 유사한 아임계 거동을 보일 것으로 추정된다. 하나의 비제한적인 실시양태에서, 제3 금속층(268)은 섬상 은을 포함하며, 이러한 섬은 최대 70 Å, 예를 들어 최대 40 Å, 예를 들어, 최대 35 Å, 예를 들어, 최대 30 Å, 예를 들어, 최대 25 Å, 예를 들어, 최대 20 Å; 예를 들어, 최대 17 Å; 및 적어도 1 Å; 예를 들어, 적어도 2 Å; 예를 들어, 적어도 4 Å; 예를 들어, 적어도 5 Å; 예를 들어 적어도 7 Å; 예를 들어, 적어도 10 Å의 유효 두께를 갖는다. 또 다른 실시양태에서, 제3 금속층(268)은 최대 90 Å; 예를 들어, 50 Å; 40 Å; 예를 들어, 36 Å, 예를 들어, 26 Å; 예를 들어, 20 Å; 예를 들어, 17 Å; 및 적어도 1 Å; 예를 들어, 2 Å; 예를 들어 3 Å; 예를 들어 4 Å; 예를 들어 5 Å; 예를 들어 6 Å; 예를 들어 7 Å의 유효 두께를 갖는 섬을 갖는 구리; 및 임의적으로 최대 70 Å, 예를 들어 최대 40 Å, 예를 들어, 최대 35 Å, 예를 들어, 최대 30 Å, 예를 들어, 최대 25 Å, 예를 들어, 최대 20 Å; 예를 들어, 최대 17 Å; 및 적어도 1 Å; 예를 들어, 적어도 2 Å; 예를 들어, 적어도 4 Å; 예를 들어, 적어도 5 Å; 예를 들어 적어도 7 Å; 예를 들어, 적어도 10 Å의 유효 두께를 갖는 섬을 갖는 은을 포함한다. 제3 금속층(268)은 플라즈몬 공명 이론에 따라 전자기 복사를 흡수한다. 이러한 흡수는 적어도 부분적으로는 금속 섬의 경계 조건에 따라 달라진다. 제3 금속층(268)은 금속층(228)과 같이 적외선을 반사하는 층이 아니다. 은 및 구리의 경우, 아임계 두께 미만으로 증착된 은 금속 및 구리 금속의 금속 섬 또는 볼이 약 20 Å 내지 70 Å, 예컨대 50 Å 내지 70 Å의 높이를 가질 수 있는 것으로 추정된다. 아임계 금속층이 균일하게 퍼질 수 있는 경우, 약 11 Å의 두께를 가지게 되는 것으로 추정된다. 광학적으로, 불연속 금속층은 26 Å의 유효 층 두께로 작동하는 것으로 추정된다.
제3 프라이머층(270)은 제3 금속층(268) 위에 위치한다. 제3 프라이머층(270)은 단일 필름 또는 다중 필름층일 수 있다. 제3 프라이머층(270)은 제1 프라이머층(230)에 사용된 임의의 재료일 수 있다.
제3 프라이머층(270)은 5 Å 내지 50 Å, 바람직하게는 10 nm 내지 35 Å, 또는 더욱 바람직하게는 10 Å 내지 30 Å 범위의 두께를 가질 수 있다.
제3 중간층(270)은 제3 금속층(268)의 적어도 일부 위에(예를 들어, 제3 프라이머층 위에) 위치한다. 제3 중간층(280)은 하나 이상의 금속 산화물 또는 금속 합금 산화물-함유 필름, 예컨대, 차단층(220)과 관련하여 상기 기재된 필름을 포함할 수 있다. 예를 들어, 제3 중간층은 제3 프라이머층(270)의 적어도 일부 위에 증착된, 금속 산화물, 예를 들어, 아연 산화물 또는 알루미늄 아연 산화물을 포함하는 제1 필름(282), 제1 필름(282)의 적어도 일부 위에 금속 산화물, 예를 들어, 아연 주석산염 필름을 포함하는 제2 필름(284), 및 제2 필름(284)의 적어도 일부 위에 금속 산화물, 예를 들어, 아연 산화물 필름 또는 알루미늄 아연 산화물 필름을 포함하는 제3 필름(286)을 포함할 수 있다.
제3 중간층(280)은 200 Å 내지 1000 Å, 예컨대 400 Å 내지 900 Å, 예컨대, 500 Å 내지 900 Å, 예컨대, 650 Å 내지 800 Å, 예컨대, 690 Å 내지 720 Å 범위의 총 두께(예를 들어, 층들의 합한 두께)를 포함한다.
한 예에서, 제1 및 제3 필름(282, 286) 둘 모두 존재하며, 각각 50 Å 내지 200 Å, 예컨대, 75 Å 내지 150 Å, 예컨대, 80 Å 내지 150 Å, 예컨대, 95 Å 내지 100 Å 범위의 두께를 갖는다. 제2 필름(284)은 100 Å 내지 800 Å, 예를 들어, 200 Å 내지 700 Å, 예를 들어, 300 Å 내지 600 Å, 예를 들어, 380 Å 내지 500 Å, 예를 들어, 380 Å 내지 450 Å 범위의 두께를 가질 수 있다.
제4 금속층(288)은 제3 중간층(280)의 적어도 일부 위에 형성될 수 있다. 제4 금속층(288)은 반사 금속, 예컨대 비제한적으로, 금속 금, 구리, 팔라듐, 알루미늄, 은, 또는 혼합물, 합금, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 제4 금속층(288)은 연속층이다. 일부 실시양태에서, 제4 금속층(288)은 금속 은 층을 포함한다.
제4 금속층(288)은 60 Å 내지 150 Å, 바람직하게는 60 Å 내지 100 Å, 또는 가장 바람직하게는 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 갖는 연속층이다.
제4 프라이머층(290)은 제4 금속층(288) 위에 위치한다. 제3 프라이머층(290)은 단일 필름 또는 다중 필름층일 수 있다. 제4 프라이머층(290)은 제1 프라이머층(230)에 사용된 임의의 재료일 수 있다. 제4 프라이머층(290)은 5 Å 내지 50 Å, 바람직하게는 10 Å 내지 35 Å, 또는 더욱 바람직하게는 10 Å 내지 30 Å 범위의 두께를 가질 수 있다.
상부층(300)은 최상위 금속층 위에(예를 들어, 최상위 프라이머층 위에) 위치한다. 단일 금속층 기능성 코팅(31, 131)에서, 상부층(300)은 금속층(228)의 적어도 일부 위에(예를 들어, 제1 프라이머층(230) 위에) 형성된다. 이중 금속층 기능성 코팅(32, 132)에서, 상부층(300)은 제2 금속층(248)의 적어도 일부 위에(예를 들어, 제2 프라이머층(250) 위에) 형성된다. 삼중 금속층 기능성 코팅(33, 133)에서, 상부층(300)은 제3 금속층(268)의 적어도 일부 위에(예를 들어, 제3 프라이머층(270) 위에) 형성된다. 사중 금속층 기능성 코팅(34, 134)에서, 상부층(300)은 제4 금속층(288)의 적어도 일부 위에(예를 들어, 적어도 일부 위에 제4 프라이머층(290) 위에) 형성된다.
상부층(300)은 하나 이상의 금속 산화물 또는 금속 합금 산화물-함유 필름, 예컨대, 차단층(220)과 관련하여 상기 기재된 필름을 포함할 수 있다. 예를 들어, 상부층(300)은 최상위 금속층(예를 들어, 최상위 프라이머층)위에 증착된 제1 금속 산화물 필름(302), 예를 들어, 아연 주석산염 필름, 및 제1 금속 산화물 필름(302)의 적어도 일부 위에 증착된 제2 금속 산질화물 필름(304), 예를 들어, 규소 알루미늄 산질화물을 포함할 수 있다(도 2b, 3b, 4b, 및 5b). 또 다른 실시양태에서, 상부층(300)은 최상위 금속층(예를 들어, 최상위 프라이머층) 위에 증착된 제1 금속 산화물 필름(302), 예를 들어, 아연 산화물 필름 또는 알루미늄 아연 산화물 필름, 제1 필름(302)의 적어도 일부 위에 증착된 제2 금속 합금 필름(304), 예를 들어, 아연 주석산염 필름, 및 제2 아연 주석산염 필름(304) 위에 증착된 제3 금속 합금 산질화물 필름(306), 예를 들어, 규소 알루미늄 산질화물 필름을 포함할 수 있다(도 2c, 3c, 4c, 및 5c).
상부층(300)은 50 Å 내지 750 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 더욱 바람직하게는 300 Å 내지 550 Å, 또는 가장 바람직하게는 300 Å 내지 400 Å 범위의 총 두께(예를 들어, 층들의 합한 두께)를 가질 수 있다.
임의적인 최외곽 보호 코팅(320)은 상부층(300)의 적어도 일부 위에 형성되며, 이는 코팅된 물품의 최상위층이다. 최외곽 보호 코팅(320)은 기계적 및/또는 화학적 공격으로부터 하부의 기능성 코팅층을 보호하는 데 도움이 될 수 있다. 최외곽 보호 코팅(320)은 하부의 코팅층에 예컨대 가열 또는 굽힘 동안 주위 산소가 통과하는 것을 방지 또는 감소시키기 위한 산소 차단 코팅층일 수 있다. 최외곽 보호 코팅(320)은 임의의 원하는 재료 또는 재료의 혼합물일 수 있고, 하나 이상의 보호 필름으로 구성될 수 있다. 최외곽 보호 코팅(320)은 보호층을 포함하며, 상기 보호층은 Si3N4, SiAlN, SiAlON, TiAlO, 티타니아, 알루미나, 실리카, 지르코니아, 또는 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함한다.
하나의 실시양태에서, 최외곽 보호층은 제1 보호 필름(322) 및 상기 제1 보호 필름(322)의 적어도 일부 위의 제2 보호 필름(324)으로 구성될 수 있다. 하나의 실시양태에서, 제1 보호 필름(322)은 상부층(300)의 금속 산질화물 필름(예를 들어, 규소 알루미늄 산질화물) 위에 배치되고 접촉하는 금속 질화물 필름, 예를 들어, 규소 알루미늄 질화물을 포함하고, 제2 보호 필름(324)은 제1 보호 필름(322) 위에 배치되고 접촉하는 금속 합금 산화물, 예컨대 티타늄 알루미늄 산화물을 포함한다.
하나의 실시양태에서, 상부층(300)의 금속 산질화물 필름은 상부층(300)의 금속 산질화물 필름과 접촉하는 제1 보호 금속 질화물 필름(322)과 동일한 금속의 금속 산질화물이다. 또 다른 실시양태에서, 상부층(300)의 금속 산질화물 필름은 구배층이며, 이때 예를 들어, 상기 기재된 원자비에서, 상부층(300)의 최상위 금속 합금 필름과 가장 가까운 금속 산질화물 필름 부분은 더 많은 양의 산소를 포함하고, 금속 산질화물 필름의 반대, 예를 들어, 제1 보호 금속 질화물 필름(322)과 가장 가까운 부분은 더 많은 양의 질소를 포함한다. 하나의 실시양태에서, 상부층(300)의 금속 산질화물 필름 및 제1 보호 금속 질화물 필름(322)은 연속, 단일 구배층을 형성한다. 또 다른 실시양태에서, 상부층(300)의 금속 산질화물 필름은 금속 합금 산화물 필름 위에 및/또는 금속 합금 산화물 필름과 제1 보호 금속 질화물 필름(322) 사이에 적용된다. 또 다른 실시양태에서, 제1 보호 금속 질화물 필름(322)은 존재하지 않으며, 상부층(300)의 금속 산질화물 필름이 구배층이고, 이때 상부층(300)의 금속 합금 산화물 필름으로부터 거리가 증가함에 따라 상부층(300)의 금속 산질화물 필름 내 산소의 양이 감소한다. 예를 들어, 상부층(300)의 최상위 금속 합금 산화물 필름에 가장 가까운 상부층(300)의 금속 산질화물 필름 부분은 더 많은 양의 산소를 포함하고, 상부층(300)의 산질화물 필름의 반대 부분은 더 많은 양의 질소를 포함하는데, 이때 상기 금속 산질화물 중 산소 및 질소의 원자비는 N2의 유량 및 O2의 유량을 기준으로 한 근사치이다. 상부층(300)의 산질화물 필름은 0 중량% 이하의 산소, 및 50 중량% 이하의 산소; 40 중량% 이하의 산소; 30 중량% 이하의 산소; 20 중량% 이하의 산소; 10 중량% 이하의 산소; 5 중량% 이하의 산소를 포함한다. 상부층(300)의 산질화물 필름 중 산소 및 질소의 유용한 원자비의 비제한적인 예는, 예를 들어 비제한적으로, 5% 내지 45% O 대 95% 내지 55% N; 10 내지 50% O 대 90% 내지 50% N; 15% 내지 40% O 대 85% 내지 60% N; 20% 내지 50% O 대 80% 내지 50% N; 25% 내지 45% O 대 75% 내지 55% N; 30% 내지 50% O 대 70% 내지 50% N; 40% 내지 50% O 대 60% 내지 50% N; 또는 50% O 대 50% N를 포함한다.
상부층(300)의 금속 산질화물 필름은 >0 Å 내지 400 Å의 범위, 예컨대, 70 Å 내지 400 Å, 100 Å 내지 400 Å, 280 Å 내지 330 Å, 또는 120 Å 내지 220 Å의 두께를 가질 수 있다. 상부층(300)의 금속 산질화물 필름이 구배층이거나, 또는 최외곽 보호 코팅에 금속 질화물 필름이 없는 실시양태에서, 이는 200 Å 내지 400 Å, 바람직하게는 225 Å 내지 390 Å, 더욱 바람직하게는 250 Å 내지 380 Å, 가장 바람직하게는 280 Å 내지 375 Å의 두께를 가질 수 있다.
제1 보호 금속 질화물 필름(322)은 >0 Å 내지 400 Å 범위, 예컨대 70 Å 내지 400 Å, 100 Å 내지 400 Å, 250 Å 400 Å, 280 Å 내지 330 Å, 200 Å 내지 250 Å, 200 Å 내지 400 Å, 또는 100 Å 내지 160 Å의 두께를 가질 수 있다. 상부층(300)에 금속 산질화물 필름이 없고/없거나, 제2 보호 필름이 없는 실시양태에서, 제1 보호 금속 질화물 필름(322)은 100 Å 내지 400 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 400 Å, 가장 바람직하게는 280 Å 내지 330 Å 범위의 두께를 가질 수 있다. 상부층(300)이 금속 산질화물 필름을 갖고 최외곽 보호 코팅(320)이 제2 보호 필름(324)을 갖는 실시양태에서, 제1 보호 금속 질화물 필름(322)은 100 Å 내지 400 Å, 바람직하게는 100 Å 내지 330 Å, 더욱 바람직하게는 105 Å 내지 300 Å, 가장 바람직하게는 115 Å 내지 250 Å의 두께를 가질 수 있다. 보호 코팅(320)이 제1 보호 금속 질화물 필름(322) 및 제2 보호 필름(324) 둘 모두를 갖는 실시양태에서, 상부층(300)의 금속 산질화물 필름은 50 Å 내지 280 Å, 바람직하게는 75 Å 내지 260 Å, 더욱 바람직하게는 100 Å 내지 240 Å, 가장 바람직하게는 120 Å 내지 220 Å의 두께를 가질 수 있다.
특정 실시양태에서, 본 발명은 상부층(300)의 금속 산질화물 필름(존재하는 경우) 및/또는 제1 보호 금속 질화물 필름(322)(존재하는 경우)의 합한 두께가 200 Å 내지 800 Å, 예를 들어, 320 Å 내지 800 Å, 320 Å 내지 380 Å, 또는 280 Å 내지 370 Å이다.
특정 실시양태에서, 보호 코팅(300)은 TiAlO를 포함하는 제2 보호 필름(324)을 포함할 수 있다. 비제한적인 예의 제2 보호 필름(324)은 ,예컨대, 100 Å 내지 400 Å, 예컨대, 200 Å 내지 370 Å, 예컨대, 245 Å 내지 300 Å, 예컨대, 285 Å 내지 300 Å 범위의 두께를 가질 수 있다. 제2 보호 필름(324)은 예를 들어, 최상층으로서, 본 개시내용에 부합하는 상부층, 금속 질화물 필름, 및 금속 산질화물 필름의 임의의 다른 구성에 적용될 수 있는 것으로 이해되어야 한다. 택일적으로, 추가적인 기능성 층 또는 보호층이 제2 보호 필름(324) 위에 적용될 수 있다(도시되지 않음). 이러한 추가적인 보호 필름은 보호 코팅(320), 또는 제2 보호 필름(324)을 형성하는데 사용되는 임의의 재료, 또는 탑코트로서 사용될 수 있는 임의의 재료일 수 있다. 유사하게, 코팅된 물품이 제2 보호 필름(324)을 포함할 필요는 없다는 것이 이해되어야 한다.
최외곽 보호 코팅(320)은 총 두께(즉, 보호 코팅(320) 내의 층들 또는 필름들의 모든 두께의 합)가 200 Å 내지 800 Å, 바람직하게는 300 Å 내지 700 Å, 더욱 바람직하게는 350 Å 내지 600 Å, 또는 가장 바람직하게는 400 Å 내지 550 Å 범위이다.
본 발명의 실시에 있어서, 금속층을 위한 특정 금속을 선택하고, 프라이머 재료 및 두께를 선택하고, 유전 재료(들) 및 두께를 선택함으로써, 코팅의 흡수된 색상(예를 들어, 색조)이 달라질 수 있다. 본 발명의 실시에 있어서, 템퍼링 전후에 코팅된 제품의 색상을 유지하는 것이 바람직하다.
색상값(예를 들어, L*, a*, b*, C*, 및 Hue°는 국제 조명 위원회에 의해 지정된 1976 CIELAB 색상 시스템을 따른다 명세서 및 청구범위의 L*, a*, 및 b* 값은 색상 중심점 값을 나타낸다. "Rf"는 필름 측면 반사율을 의미하고, "Rg"는 유리 측면 반사율을 의미하며, "T"는 물품을 통한 투과율을 의미한다.
정상적인 제조 변형 내에서 본 발명의 태양광 제어 코팅을 포함하는 기준 IGU(3 mm 또는 6 mm) 또는 기준 적층 유닛은, 중심점 값에 대한 ΔEcmc 색상 차이가 열처리 후 4.5 미만의 CMC 단위(즉, ΔEcmc < 4.5), 바람직하게는 4 미만의 CMC 단위(즉, ΔEcmc < 4)이어야 한다.
코팅된 물품은 기판(210)의 주 표면의 적어도 일부 위에 증착된 차단층(220)을 포함한다. 차단층(220)은 금속층에서 덴드라이트 형성을 감소시키고 템퍼링 후 코팅된 물품의 적색 헤이즈를 감소시킬 수 있다.
하나의 비제한적인 실시양태는 금속층에서 덴드라이트 형성을 감소시키는 방법이다. "덴드라이트"는 금속층 내부 또는 위에, 분지의, 나무와 같은 특징부를 의미한다. 예를 들어, 덴드라이트는 결정 또는 결정 덩어리일 수 있다. 이러한 덴드라이트는 일반적으로 템퍼링 공정 중에 금속층 내부 또는 금속층 위에 형성되는 결정 구조이다. 금속층에서 덴드라이트 형성을 감소시키기 위해, 기판이 제공된다. 기판은 본원에 개시된 바와 같이 임의의 기판일 수 있다. 기판은 제1 표면 및 상기 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 갖는다. 차단층은 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위에 형성된다. 차단층은 본원에 개시된 바와 같이 임의의 차단층일 수 있다. 금속층은 차단층의 적어도 일부 위에 형성된다. 금속층은 본원에 기재된 바와 같이 임의의 금속층일 수 있다. 상부층은 금속층의 적어도 일부 위에 형성된다. 상부층은 본원에 기재된 바와 같이 임의의 상부층일 수 있다. 차단층, 금속층 및 상부층을 형성하여 코팅된 물품을 생성한다. 코팅된 물품은 본원에 기재된 바와 같이 추가적인 층을 추가로 포함할 수 있다. 코팅된 제품은 템퍼링되며, 이때 금속층의 덴드라이트 형성은 차단층이 없는 코팅된 제품에 비해 감소된다.
또 다른 비제한적인 실시양태는 코팅된 물품에서 적색 헤이즈를 감소시키는 방법이다. 전술한 바와 같이, 금속층 내에 형성되는 덴드라이트는 광산란 특징부일 수 있으며, 이러한 광산란 특징부는 코팅된 제품의 헤이즈(즉, 광산란)를 증가시킨다. 금속층 내의 덴드라이트는 전자기 에너지의 광파를 더욱 무작위로 이동시키고 도파관 효과를 방해하여, 금속층을 통과하여 기판으로 전달된 다음 기판의 바닥 표면으로 나가는 전자기 에너지의 양을 증가시킨다. 본원에 기재된 "적색 헤이즈"는 코팅된 물품이 어두운 배경 앞에서 밝은 빛에 의해 조명되는 경우 가시적인 광산란 효과에 관한 것이다. 적색 헤이즈는 템퍼링 또는 열 강화 공정 중에 금속층에 형성되는 공극(결핍 또는 빈 공간)의 결과로서 형성된다. 가열하는 동안 유리 및 코팅 스택의 알칼리 금속 이동성은 핵 생성 및 성장을 유발하여 덴드라이트 형성을 초래하고, 이는 코팅된 기판이 적색 헤이즈를 갖게 한다. 적색 헤이즈는 기판 위에 차단층을 형성함으로써 감소된다. 차단층은 본원에 개시된 임의의 차단층일 수 있다. 금속층은 차단층의 적어도 일부 위에 형성된다. 금속층은 본원에 기재된 임의의 금속층일 수 있다. 상부층은 금속층의 적어도 일부 위에 형성된다. 상부층은 본원에 기재된 임의의 상부층일 수 있다. 차단층, 금속층 및 상부층을 형성하여 코팅된 물품을 생성한다. 코팅된 물품은 본원에 기재된 바와 같이 추가적인 층을 포함할 수 있다. 코팅된 물품은 템퍼링되며, 이때 상기 코팅된 물품의 적색 헤이즈는 차단층을 갖지 않는 코팅된 물품의 적색 헤이즈보다 작다.
하기 번호가 매겨진 항목은 본 발명의 다양한 양태를 예시한다:
항목 1: 제1 표면 및 상기 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 기판; 및 제1 표면 또는 제2 표면 위에 적용되는 기능성 코팅을 포함하는 코팅된 물품으로서, 이때 상기 기능성 코팅이 기판의 적어도 일부 위의 차단층; 차단층의 적어도 일부 위의 금속층; 및 금속층의 적어도 일부 위의 상부층을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 2: 항목 1에 있어서, 코팅된 물품이 템퍼링 가능한, 코팅된 물품.
항목 3: 항목 1 또는 2에 있어서, 차단층이 제1 필름, 제2 필름, 및 제3 필름을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 4: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 차단층의 제1 필름이 차단 필름인, 코팅된 물품.
항목 5: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 티타늄 산화물, 티타늄 알루미늄 산화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 6: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 7: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 차단 필름이 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 8: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 제2 필름이 차단 필름의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제3 필름이 제2 필름의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 9: 항목 7에 있어서, 차단 필름이 0% 내지 50% 산소 대 100% 내지 50% 질소, 10 내지 50% 산소 대 90% 내지 50% 질소, 15% 내지 40% 산소 대 85% 내지 60% 질소, 또는 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖는, 코팅된 물품.
항목 10: 항목 7에 있어서, 차단 필름이 5 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 95 중량% 내지 80 중량% 규소, 10 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 90 중량% 내지 80 중량% 규소, 또는 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄 및 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 11: 항목 1 내지 8 중 어느 하나의 항목에 있어서, 차단 필름이 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖고, 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄을 포함하고, 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 12: 항목 11에 있어서, 광학 굴절률이 1.70 내지 1.80인, 코팅된 물품.
항목 13: 항목 3 내지 12에 있어서, 차단 필름이 50 Å 내지 350 Å, 바람직하게는 50 Å 내지 300 Å, 또는 가장 바람직하게는 100 Å 내지 250 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 14: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 차단층이 150 Å 내지 850 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 또는 가장 바람직하게는 200 Å 내지 500 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 15: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 은, 금, 팔라듐, 구리, 이들의 합금, 이들의 혼합물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 16: 항목 15에 있어서, 금속층이 은을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 17: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 연속 금속층인, 코팅된 물품.
항목 18: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 60 Å 내지 150 Å, 바람직하게는 60 Å 내지 100 Å, 또는 가장 바람직하게는 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 19: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 상부층이 제1 필름 및 제2 필름을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 20: 항목 19에 있어서, 상부층의 제1 필름이 금속층의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제2 필름이 제1 필름의 적어도 일부 위의 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 21: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 상부층이 50 Å 내지 750 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 더욱 바람직하게는 300 Å 내지 550 Å, 또는 가장 바람직하게는 300 Å 내지 400 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 22: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 금속층 위에 형성된 제1 프라이머층을 추가로 포함하는 코팅된 물품.
항목 23: 항목 22에 있어서, 상기 프라이머층이 티타늄, 규소, 니켈, 지르코늄, 아연, 알루미늄, 코발트, 크로뮴, 알루미늄, 이들의 합금 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는, 코팅된 물품.
항목 24: 항목 22에 있어서, 프라이머층이 5 Å 내지 50 Å, 바람직하게는 10 Å 내지 35 Å, 또는 더욱 바람직하게는 10 Å 내지 30 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 25: 전술한 항목 중 어느 하나에 있어서, 보호층을 포함하는 최외곽 보호 코팅을 추가로 포함하며, 상기 보호층이 Si3N4, SiAlN, SiAlON, TiAlO, 티타니아, 알루미나, 실리카, 지르코니아, 또는 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 26: 항목 25에 있어서, 보호층이 제1 보호 필름 및 제2 보호 필름을 포함하고, 상기 제2 보호 필름이 제1 보호 필름의 적어도 일부에 위치하는, 코팅된 물품.
항목 27: 항목 26에 있어서, 제1 보호 필름이 SiAlN을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 28: 항목 26에 있어서, 제2 보호 필름이 TiAlO을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 29: 항목 25에 있어서, 최외곽 보호 코팅이 200 Å 내지 800 Å, 바람직하게는 300 Å 내지 700 Å, 더욱 바람직하게는 350 Å 내지 600 Å, 또는 가장 바람직하게는 400 Å 내지 550 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 30: 항목 1에 있어서, 표면 위에 적용된 기능성 코팅이 금속층의 적어도 일부 위의 제1 중간층; 및 중간층 적어도 일부 위의 제2 금속층을 추가로 포함하고, 상부층이 제2 금속층의 적어도 일부 위에 있는, 코팅된 물품.
항목 31: 항목 30에 있어서, 제1 중간층이 제1 필름, 제2 필름, 및 제3 필름을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 32: 항목 30 또는 31에 있어서, 제1 중간층의 제1 필름이 금속층의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하고, 제2 필름이 제1 필름의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제3 필름이 제2 필름의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 33: 항목 30 내지 32 중 어느 한 항목에 있어서, 제1 중간층이 50 Å 내지 500 Å, 바람직하게는 100 Å 내지 300 Å, 더욱 바람직하게, 100 Å 내지 200 Å, 또는 가장 바람직하게는, 150 Å 내지 200 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 34: 항목 30에 있어서, 제2 금속층이 연속층이고, 60 Å 내지 150 Å, 바람직하게, 60 Å 내지 100 Å, 또는 가장 바람직하게는 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 35: 항목 34에 있어서, 제2 금속층이 불연속층이고, 90 Å 미만의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 36: 항목 30 내지 35 중 어느 한 항목에 있어서, 제2 금속층 위에 형성된 제2 프라이머층을 추가로 포함하는, 코팅된 물품.
항목 37: 항목 1에 있어서, 표면 위에 적용된 기능성 코팅이 금속층의 적어도 일부 위의 제1 중간층; 제1 중간층의 적어도 일부 위의 제2 금속층; 제2 금속층의 적어도 일부 위의 제2 중간층; 및 제2 중간층의 적어도 일부 위의 제3 금속층을 추가로 포함하고, 상부층이 제3 금속층의 적어도 일부 위에 있는, 코팅된 물품.
항목 38: 항목 37에 있어서, 제2 중간층이 제1 필름, 제2 필름, 및 제3 필름을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 39: 항목 37 또는 38에 있어서, 제2 중간층의 제1 필름이 제2 금속층의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하고, 제2 필름이 제1 필름의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제3 필름이 제2 필름의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 40: 항목 37 내지 39 중 어느 한 항목에 있어서, 제2 중간층이 200 Å 내지 1000 Å, 바람직하게는 400 Å 내지 900 Å, 더욱 바람직하게는 650 Å 내지 800 Å, 또는 가장 바람직하게는 690 Å 내지 720 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 41: 항목 37 내지 40 중 어느 한 항목에 있어서, 제3 금속층이 연속층이고, 60 Å 내지 150 Å, 바람직하게, 60 Å 내지 100 Å, 또는 가장 바람직하게는, 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 42: 항목 37 내지 40 중 어느 한 항목에 있어서, 제3 금속층이 불연속층이고, 90 Å 미만의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 43: 항목 37 내지 42 중 어느 한 항목에 있어서, 제3 금속층 위에 형성된 제3 프라이머층을 추가로 포함하는, 코팅된 물품.
항목 44: 항목 1에 있어서, 표면 위에 적용된 상기 코팅이 금속층의 적어도 일부 위의 제1 중간층; 제1 중간층의 적어도 일부 위의 제2 금속층; 제2 금속층의 적어도 일부 위의 제2 중간층; 제2 중간층의 적어도 일부 위의 제3 금속층; 제3 금속층의 적어도 일부 위의 제3 중간층; 및 제3 중간층의 적어도 일부 위의 제4 금속층을 추가로 포함하고, 상부층이 제4 금속층의 적어도 일부 위에 있는, 코팅된 물품.
항목 45: 항목 44에 있어서, 제3 중간층이 제1 필름, 제2 필름, 및 제3 필름을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 46: 항목 44 또는 45에 있어서, 제3 중간층의 제1 필름이 제3 금속층의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하고, 제2 필름이 제1 필름의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제3 필름이 제2 필름의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하는, 코팅된 물품.
항목 47: 항목 44 내지 46 중 어느 한 항목에 있어서, 제3 중간층이 200 Å 내지 1000 Å, 바람직하게는 400 Å 내지 900 Å, 더욱 바람직하게, 650 Å 내지 800 Å, 또는 가장 바람직하게는, 690 Å 내지 720 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 48: 항목 44에 있어서, 제4 금속층이 연속층이고, 60 Å 내지 150 Å, 바람직하게는 60 Å 내지 100 Å, 또는 가장 바람직하게는 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품.
항목 49: 항목 44 내지 48 중 어느 한 항목에 있어서, 제4 금속층 위에 형성된 제4 프라이머층을 추가로 포함하는, 코팅된 물품.
항목 50: 코팅된 물품을 제조하는 방법으로서, 상기 제조 방법이, 제1 표면 및 상기 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 기판을 제공하는 단계; 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위에 차단층을 형성하는 단계; 차단층의 적어도 일부 위에 금속층을 형성하는 단계; 및 금속층의 적어도 일부 위에 상부층을 형성하는 단계를 포함하고, 이때 상기 코팅된 제품이 템퍼링 후 ΔEcmc로 측정한 광학적 색상 변이가4.5 이하인, 제조 방법.
항목 51: 항목 50에 있어서, 차단층이 제1 필름, 제2 필름, 및 제3 필름을 포함하는, 제조 방법.
항목 52: 항목 51에 있어서, 차단층의 제1 필름이 차단 필름인, 제조 방법.
항목 53: 항목 52에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 티타늄 산화물, 티타늄 알루미늄 산화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 제조 방법.
항목 54: 항목 52에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 제조 방법.
항목 55: 항목 53 또는 54에 있어서, 차단 필름이 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 제조 방법.
항목 56: 항목 51에 있어서, 제2 필름이 차단 필름의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제3 필름이 제2 필름의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하는, 제조 방법.
항목 57: 항목 55에 있어서, 차단 필름이 0% 내지 50% 산소 대 100% 내지 50% 질소, 10 내지 50% 산소 대 90% 내지 50% 질소, 15% 내지 40% 산소 대 85% 내지 60% 질소, 또는 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖는, 제조 방법.
항목 58: 항목 55에 있어서, 차단 필름이 5 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 95 중량% 내지 80 중량% 규소, 10 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 90 중량% 내지 80 중량% 규소, 또는 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄 및 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 제조 방법.
항목 59: 항목 37 내지 58 중 어느 하나의 항목에 있어서, 차단 필름이 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖고, 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄을 포함하고, 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 제조 방법.
항목 60: 항목 59에 있어서, 광학 굴절률이 1.70 내지 1.80인, 제조 방법.
항목 61: 항목 52 내지 60 중 어느 한 항목에 있어서, 차단 필름이 50 Å 내지 350 Å, 바람직하게는 50 Å 내지 300 Å, 또는 가장 바람직하게는, 100 Å 내지 250 Å의 총 두께를 포함하는, 제조 방법.
항목 62: 항목 50 내지 61 중 어느 한 항목에 있어서, 차단층이 150 Å 내지 850 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 또는 가장 바람직하게는, 200 Å 내지 500 Å의 총 두께를 포함하는, 제조 방법.
항목 63: 항목 50 내지 62 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 은, 금, 팔라듐, 구리, 이들의 합금, 이들의 혼합물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 제조 방법.
항목 64: 항목 63에 있어서, 금속층이 은을 포함하는, 제조 방법.
항목 65: 항목 50 내지 64 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 연속 금속층인, 제조 방법.
항목 66: 항목 50 내지 65 중 어느 한 항목에 있어서, 금속층이 60 Å 내지 150 Å, 바람직하게는 60 Å 내지 100 Å, 또는 가장 바람직하게는, 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 포함하는, 제조 방법.
항목 67: 항목 50 내지 66 중 어느 하나에 있어서, 상부층이 제1 필름 및 제2 필름을 포함하는, 제조 방법.
항목 68: 항목 67에 있어서, 상부층의 제1 필름이 금속층의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제2 필름이 제1 필름의 적어도 일부 위의 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 제조 방법.
항목 69: 항목 50 내지 68 중 어느 한 항목에 있어서, 상부층이 50 Å 내지 750 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 더욱 바람직하게, 300 Å 내지 550 Å, 또는 가장 바람직하게는, 300 Å 내지 400 Å의 총 두께를 포함하는, 제조 방법.
항목 70: 항목 50에 있어서, 상기 코팅된 제품이 템퍼링 후 ΔEcmc로 측정한 광학적 색상 변이가4.0 이하인, 제조 방법.
항목 71: 코팅된 물품의 금속층 내 덴드라이트 형성을 감소시키는 방법으로서, 상기 방법이, 제1 표면 및 상기 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 기판을 제공하는 단계; 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위에 차단층을 형성하는 단계; 차단층의 적어도 일부 위에 금속층을 형성하는 단계; 및 금속층의 적어도 일부 위에 상부층을 형성하여 코팅된 물품을 형성하고, 상기 코팅된 물품을 템퍼링하는 단계를 포함하고, 이때 상기 코팅된 물품이 템퍼링 후 금속층 내 덴드라이트 형성이 감소된, 방법.
항목 72: 항목 71에 있어서, 차단층이 제1 필름, 제2 필름, 및 제3 필름을 포함하는, 방법.
항목 73: 항목 72에 있어서, 차단층의 제1 필름이 차단 필름인, 방법.
항목 74: 항목 73에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 티타늄 산화물, 티타늄 알루미늄 산화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
항목 75: 항목 73에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
항목 76: 항목 74 또는 75에 있어서, 차단 필름이 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 방법.
항목 77: 항목 76에 있어서, 제2 필름이 차단 필름의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제3 필름이 제2 필름의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하는, 방법.
항목 78: 항목 76에 있어서, 차단 필름이 0% 내지 50% 산소 대 100% 내지 50% 질소, 10 내지 50% 산소 대 90% 내지 50% 질소, 15% 내지 40% 산소 대 85% 내지 60% 질소, 또는 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖는, 방법.
항목 79: 항목 76에 있어서, 차단 필름이 5 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 95 중량% 내지 80 중량% 규소, 10 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 90 중량% 내지 80 중량% 규소, 또는 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄 및 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 방법.
항목 80: 항목 71 내지 79 중 어느 하나의 항목에 있어서, 차단 필름이 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖고, 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄을 포함하고, 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 방법.
항목 81: 항목 80에 있어서, 광학 굴절률이 1.70 내지 1.80인, 방법.
항목 82: 항목 73 내지 81 중 어느 한 항목에 있어서, 차단 필름이 50 Å 내지 350 Å, 바람직하게는 50 Å 내지 300 Å, 또는 가장 바람직하게는, 100 Å 내지 250 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 83: 항목 71 내지 82 중 어느 한 항목에 있어서, 차단층이 150 Å 내지 850 Å, 바람직하게, 250 Å 내지 600 Å, 또는 가장 바람직하게는, 200 Å 내지 500 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 84: 항목 71 내지 83 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 은, 금, 팔라듐, 구리, 이들의 합금, 이들의 혼합물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
항목 85: 항목 84에 있어서, 금속층이 은을 포함하는, 방법.
항목 86: 항목 71 내지 85 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 연속 금속층인, 방법.
항목 87: 항목 71 내지 86 중 어느 한 항목에 있어서, 금속층이 60 Å 내지 150 Å, 바람직하게, 60 Å 내지 100 Å, 또는 가장 바람직하게는, 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 88: 항목 71 내지 87 중 어느 하나에 있어서, 상부층이 제1 필름 및 제2 필름을 포함하는, 방법.
항목 89: 항목 88에 있어서, 상부층의 제1 필름이 금속층의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제2 필름이 제1 필름의 적어도 일부 위의 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 방법.
항목 90: 항목 71 내지 89 중 어느 한 항목에 있어서, 상부층이 50 Å 내지 750 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 더욱 바람직하게, 300 Å 내지 550 Å, 또는 가장 바람직하게는, 300 Å 내지 400 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 91: 코팅된 물품의 적색 헤이즈(red haze)를 감소시키는 방법으로서, 상기 방법이, 제1 표면 및 상기 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 기판을 제공하는 단계; 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위에 차단층을 형성하는 단계; 차단층의 적어도 일부 위에 금속층을 형성하는 단계; 및 금속층의 적어도 일부 위에 상부층을 형성하여 코팅된 물품을 형성하고, 상기 코팅된 물품을 템퍼링하는 단계를 포함하고, 이때 상기 코팅된 물품이 템퍼링 후 적색 헤이즈가 감소된, 방법.
항목 92: 항목 91에 있어서, 차단층이 제1 필름, 제2 필름, 및 제3 필름을 포함하는, 방법.
항목 93: 항목 92에 있어서, 차단층의 제1 필름이 차단 필름인, 방법.
항목 94: 항목 93에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 티타늄 산화물, 티타늄 알루미늄 산화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
항목 95: 항목 93에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
항목 96: 항목 94 또는 95에 있어서, 차단 필름이 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 방법.
항목 97: 항목 96에 있어서, 제2 필름이 차단 필름의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제3 필름이 제2 필름의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하는, 방법.
항목 98: 항목 96에 있어서, 차단 필름이 0% 내지 50% 산소 대 100% 내지 50% 질소, 10 내지 50% 산소 대 90% 내지 50% 질소, 15% 내지 40% 산소 대 85% 내지 60% 질소, 또는 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖는, 방법.
항목 99: 항목 96에 있어서, 차단 필름이 5 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 95 중량% 내지 80 중량% 규소, 10 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 90 중량% 내지 80 중량% 규소, 또는 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄 및 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 방법.
항목 100: 항목 91 내지 99 중 어느 하나의 항목에 있어서, 차단 필름이 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖고, 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄을 포함하고, 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 방법.
항목 101: 항목 100에 있어서, 광학 굴절률이 1.70 내지 1.80인, 방법.
항목 102: 항목 93 내지 101 중 어느 한 항목에 있어서, 차단 필름이 50 Å 내지 350 Å, 바람직하게, 50 Å 내지 300 Å, 또는 가장 바람직하게는, 100 Å 내지 250 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 103: 항목 91 내지 102 중 어느 한 항목에 있어서, 차단층이 150 Å 내지 850 Å, 바람직하게, 250 Å 내지 600 Å, 또는 가장 바람직하게는, 200 Å 내지 500 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 104: 항목 91 내지 103 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 은, 금, 팔라듐, 구리, 이들의 합금, 이들의 혼합물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
항목 105: 항목 104에 있어서, 금속층이 은을 포함하는, 방법.
항목 106: 항목 91 내지 105 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 연속 금속층인, 방법.
항목 107: 항목 91 내지 106 중 어느 한 항목에 있어서, 금속층이 60 Å 내지 150 Å, 바람직하게, 60 Å 내지 100 Å, 또는 가장 바람직하게는, 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 108: 항목 91 내지 107 중 어느 하나에 있어서, 상부층이 제1 필름 및 제2 필름을 포함하는, 방법.
항목 109: 항목 108에 있어서, 상부층의 제1 필름이 금속층의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제2 필름이 제1 필름의 적어도 일부 위의 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 방법.
항목 110: 항목 91 내지 109 중 어느 한 항목에 있어서, 상부층이 50 Å 내지 750 Å, 바람직하게, 250 Å 내지 600 Å, 더욱 바람직하게, 300 Å 내지 550 Å, 또는 가장 바람직하게는, 300 Å 내지 400 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 111: 1번 표면 및 1번 표면의 반대쪽의 2번 표면을 포함하는 제1 플라이; 3번 표면 및 4번 표면을 포함하는 제2 플라이; 및 3번 표면 또는 4번 표면의 적어도 일부 위의 기능성 코팅을 포함하는 절연 유리 유닛으로서, 이때 상기 제2 플라이가 제1 플라이로부터 이격되고, 제1 플라이 및 제2 플라이가 함께 연결되고; 상기 기능성 코팅이 3번 표면 또는 4번 표면의 적어도 일부 위의 차단층; 차단층의 적어도 일부 위의 금속층; 및 금속층의 적어도 일부 위의 상부층을 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 112: 항목 111에 있어서, 차단층이 제1 필름, 제2 필름, 및 제3 필름을 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 113: 항목 112에 있어서, 차단층의 제1 필름이 차단 필름인, 절연 유리 유닛.
항목 114: 항목 113에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 티타늄 산화물, 티타늄 알루미늄 산화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 115: 항목 113에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 116: 항목 114 또는 115에 있어서, 차단 필름이 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 117: 항목 113에 있어서, 제2 필름이 차단 필름의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제3 필름이 제2 필름의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 118: 항목 116에 있어서, 차단 필름이 0% 내지 50% 산소 대 100% 내지 50% 질소, 10 내지 50% 산소 대 90% 내지 50% 질소, 15% 내지 40% 산소 대 85% 내지 60% 질소, 또는 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖는, 절연 유리 유닛.
항목 119: 항목 116에 있어서, 차단 필름이 5 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 95 중량% 내지 80 중량% 규소, 10 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 90 중량% 내지 80 중량% 규소, 또는 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄 및 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 120: 항목 111 내지 119 중 어느 하나의 항목에 있어서, 차단 필름이 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖고, 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄을 포함하고, 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 121: 항목 120에 있어서, 광학 굴절률이 1.70 내지 1.80인, 절연 유리 유닛.
항목 122: 항목 113 내지 121 중 어느 한 항목에 있어서, 차단 필름이 50 Å 내지 350 Å, 바람직하게는 50 Å 내지 300 Å, 또는 가장 바람직하게는 100 Å 내지 250 Å의 총 두께를 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 123: 항목 111 내지 122 중 어느 한 항목에 있어서, 차단층이 150 Å 내지 850 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 또는 가장 바람직하게는 200 Å 내지 500 Å의 총 두께를 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 124: 항목 111 내지 123 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 은, 금, 팔라듐, 구리, 이들의 합금, 이들의 혼합물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 125: 항목 124에 있어서, 금속층이 은을 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 126: 항목 111 내지 125 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 연속 금속층인, 절연 유리 유닛.
항목 127: 항목 111 내지 126 중 어느 한 항목에 있어서, 금속층이 60 Å 내지 150 Å, 바람직하게는 60 Å 내지 100 Å, 또는 가장 바람직하게는 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 128: 항목 111 내지 127 중 어느 하나에 있어서, 상부층이 제1 필름 및 제2 필름을 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 129: 항목 128에 있어서, 상부층의 제1 필름이 금속층의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제2 필름이 제1 필름의 적어도 일부 위의 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 130: 항목 111 내지 129 중 어느 한 항목에 있어서, 상부층이 50 Å 내지 750 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 더욱 바람직하게는 300 Å 내지 550 Å, 또는 가장 바람직하게는 300 Å 내지 400 Å의 총 두께를 포함하는, 절연 유리 유닛.
항목 131: 코팅된 물품의 제조 방법으로서, 상기 제조 방법이 제1 표면 및 상기 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 코팅된 물품을 제공하는 단계로서, 이때 상기 코팅된 물품이 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위의 차단층; 차단층의 적어도 일부 위의 금속층; 및 금속층의 적어도 일부 위의 상부층을 포함하는, 단계; 상기 코팅된 물품을 템퍼링하는 단계를 포함하고, 상기 코팅된 제품이 템퍼링 후 ΔEcmc로 측정한 광학적 색상 변이가4.5 이하인, 제조 방법.
항목 132: 항목 131에 있어서, 차단층이 제1 필름, 제2 필름, 및 제3 필름을 포함하는, 제조 방법.
항목 133: 항목 132에 있어서, 차단층의 제1 필름이 차단 필름인, 제조 방법.
항목 134: 항목 133에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 티타늄 산화물, 티타늄 알루미늄 산화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 제조 방법.
항목 135: 항목 134에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 제조 방법.
항목 136: 항목 134 또는 135에 있어서, 차단 필름이 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 제조 방법.
항목 137: 항목 132에 있어서, 제2 필름이 차단 필름의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제3 필름이 제2 필름의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하는, 제조 방법.
항목 138: 항목 136에 있어서, 차단 필름이 0% 내지 50% 산소 대 100% 내지 50% 질소, 10 내지 50% 산소 대 90% 내지 50% 질소, 15% 내지 40% 산소 대 85% 내지 60% 질소, 또는 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖는, 제조 방법.
항목 139: 항목 136에 있어서, 차단 필름이 5 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 95 중량% 내지 80 중량% 규소, 10 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 90 중량% 내지 80 중량% 규소, 또는 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄 및 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 제조 방법.
항목 140: 항목 131 내지 139 중 어느 하나의 항목에 있어서, 차단 필름이 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖고, 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄을 포함하고, 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 제조 방법.
항목 141: 항목 136에 있어서, 광학 굴절률이 1.70 내지 1.80인, 제조 방법.
항목 142: 항목 133 내지 141 중 어느 한 항목에 있어서, 차단 필름이 50 Å 내지 350 Å, 바람직하게는 50 Å 내지 300 Å, 또는 가장 바람직하게는, 100 Å 내지 250 Å의 총 두께를 포함하는, 제조 방법.
항목 143: 항목 131 내지 142 중 어느 한 항목에 있어서, 차단층이 150 Å 내지 850 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 또는 가장 바람직하게는, 200 Å 내지 500 Å의 총 두께를 포함하는, 제조 방법.
항목 144: 항목 131 내지 143 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 은, 금, 팔라듐, 구리, 이들의 합금, 이들의 혼합물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 제조 방법.
항목 145: 항목 144에 있어서, 금속층이 은을 포함하는, 제조 방법.
항목 146: 항목 131 내지 145 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 연속 금속층인, 제조 방법.
항목 147: 항목 131 내지 146 중 어느 한 항목에 있어서, 금속층이 60 Å 내지 150 Å, 바람직하게는 60 Å 내지 100 Å, 또는 가장 바람직하게는, 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 포함하는, 제조 방법.
항목 148: 항목 131 내지 147 중 어느 하나에 있어서, 상부층이 제1 필름 및 제2 필름을 포함하는, 제조 방법.
항목 149: 항목 148에 있어서, 상부층의 제1 필름이 금속층의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제2 필름이 제1 필름의 적어도 일부 위의 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 제조 방법.
항목 150: 항목 131 내지 149 중 어느 한 항목에 있어서, 상부층이 50 Å 내지 750 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 더욱 바람직하게, 300 Å 내지 550 Å, 또는 가장 바람직하게는, 300 Å 내지 400 Å의 총 두께를 포함하는, 제조 방법.
항목 151: 항목 131에 있어서, 상기 코팅된 제품이 템퍼링 후 ΔEcmc로 측정한 광학적 색상 변이가4.0 이하인, 제조 방법.
항목 152: 코팅된 물품의 금속층 내 덴드라이트 형성을 감소시키는 방법으로서, 상기 방법이, 제1 표면 및 상기 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면; 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위에 차단층; 차단층의 적어도 일부 위에 금속층을 포함하는 코팅된 물품을 제공하는 단계; 금속층의 적어도 일부 위에 상부층을 형성하는 단계; 및 상기 코팅된 물품을 템퍼링하는 단계를 포함하고, 이때 상기 코팅된 물품이 템퍼링 후 금속층 내 덴드라이트 형성이 감소된, 방법.
항목 153: 항목 152에 있어서, 차단층이 제1 필름, 제2 필름, 및 제3 필름을 포함하는, 방법.
항목 154: 항목 153에 있어서, 차단층의 제1 필름이 차단 필름인, 방법.
항목 155: 항목 154에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 티타늄 산화물, 티타늄 알루미늄 산화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
항목 156: 항목 155에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
항목 157: 항목 155 또는 156에 있어서, 차단 필름이 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 방법.
항목 158: 항목 153에 있어서, 제2 필름이 차단 필름의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제3 필름이 제2 필름의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하는, 방법.
항목 159: 항목 157에 있어서, 차단 필름이 0% 내지 50% 산소 대 100% 내지 50% 질소, 10 내지 50% 산소 대 90% 내지 50% 질소, 15% 내지 40% 산소 대 85% 내지 60% 질소, 또는 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖는, 방법.
항목 160: 항목 157에 있어서, 차단 필름이 5 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 95 중량% 내지 80 중량% 규소, 10 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 90 중량% 내지 80 중량% 규소, 또는 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄 및 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 방법.
항목 161: 항목 153 내지 160 중 어느 하나의 항목에 있어서, 차단 필름이 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖고, 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄을 포함하고, 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 방법.
항목 162: 항목 157에 있어서, 광학 굴절률이 1.70 내지 1.80인, 방법.
항목 163: 항목 153 내지 162 중 어느 한 항목에 있어서, 차단 필름이 50 Å 내지 350 Å, 바람직하게는 50 Å 내지 300 Å, 또는 가장 바람직하게는, 100 Å 내지 250 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 164: 항목 152 내지 163 중 어느 한 항목에 있어서, 차단층이 150 Å 내지 850 Å, 바람직하게, 250 Å 내지 600 Å, 또는 가장 바람직하게는, 200 Å 내지 500 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 165: 항목 152 내지 164 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 은, 금, 팔라듐, 구리, 이들의 합금, 이들의 혼합물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
항목 166: 항목 165에 있어서, 금속층이 은을 포함하는, 방법.
항목 167: 항목 152 내지 166 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 연속 금속층인, 방법.
항목 168: 항목 152 내지 167 중 어느 한 항목에 있어서, 금속층이 60 Å 내지 150 Å, 바람직하게, 60 Å 내지 100 Å, 또는 가장 바람직하게는, 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 169: 항목 152 내지 168 중 어느 하나에 있어서, 상부층이 제1 필름 및 제2 필름을 포함하는, 방법.
항목 170: 항목 169에 있어서, 상부층의 제1 필름이 금속층의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제2 필름이 제1 필름의 적어도 일부 위의 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 방법.
항목 171: 항목 152 내지 170 중 어느 한 항목에 있어서, 상부층이 50 Å 내지 750 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 더욱 바람직하게, 300 Å 내지 550 Å, 또는 가장 바람직하게는, 300 Å 내지 400 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 172: 코팅된 물품의 적색 헤이즈를 감소시키는 방법으로서, 상기 방법이, 제1 표면 및 상기 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면; 제1 표면 또는 제2 표면의 적어도 일부 위에 차단층; 차단층의 적어도 일부 위에 금속층을 포함하는 코팅된 물품을 제공하는 단계; 금속층의 적어도 일부 위에 상부층을 형성하는 단계; 및 상기 코팅된 물품을 템퍼링하는 단계를 포함하고, 이때 상기 코팅된 물품이 템퍼링 후 금속층 내 덴드라이트 형성이 감소된, 방법.
항목 173: 항목 172에 있어서, 차단층이 제1 필름, 제2 필름, 및 제3 필름을 포함하는, 방법.
항목 174: 항목 173에 있어서, 차단층의 제1 필름이 차단 필름인, 방법.
항목 175: 항목 174에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 질화물, 규소 알루미늄 질화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 티타늄 산화물, 티타늄 알루미늄 산화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
항목 176: 항목 175에 있어서, 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
항목 177: 항목 175 또는 176에 있어서, 차단 필름이 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 방법.
항목 178: 항목 173에 있어서, 제2 필름이 차단 필름의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제3 필름이 제2 필름의 적어도 일부 위의 아연 산화물을 포함하는, 방법.
항목 179: 항목 177에 있어서, 차단 필름이 0% 내지 50% 산소 대 100% 내지 50% 질소, 10 내지 50% 산소 대 90% 내지 50% 질소, 15% 내지 40% 산소 대 85% 내지 60% 질소, 또는 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖는, 방법.
항목 180: 항목 177에 있어서, 차단 필름이 5 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 95 중량% 내지 80 중량% 규소, 10 중량% 내지 20 중량% 알루미늄 및 90 중량% 내지 80 중량% 규소, 또는 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄 및 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 방법.
항목 181: 항목 173 내지 180 중 어느 하나의 항목에 있어서, 차단 필름이 20% 내지 50% 산소 대 80% 내지 50% 질소의 산소 대 질소 비를 갖고, 20 중량% 내지 25 중량% 알루미늄을 포함하고, 80 중량% 내지 75 중량% 규소를 포함하는, 방법.
항목 182: 항목 177에 있어서, 광학 굴절률이 1.70 내지 1.80인, 방법.
항목 183: 항목 173 내지 182 중 어느 한 항목에 있어서, 차단 필름이 50 Å 내지 350 Å, 바람직하게는 50 Å 내지 300 Å, 또는 가장 바람직하게는, 100 Å 내지 250 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 184: 항목 172 내지 163 중 어느 한 항목에 있어서, 차단층이 150 Å 내지 850 Å, 바람직하게, 250 Å 내지 600 Å, 또는 가장 바람직하게는, 200 Å 내지 500 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 185: 항목 172 내지 184 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 은, 금, 팔라듐, 구리, 이들의 합금, 이들의 혼합물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 방법.
항목 186: 항목 185에 있어서, 금속층이 은을 포함하는, 방법.
항목 187: 항목 172 내지 186 중 어느 하나에 있어서, 금속층이 연속 금속층인, 방법.
항목 188: 항목 172 내지 187 중 어느 한 항목에 있어서, 금속층이 60 Å 내지 150 Å, 바람직하게, 60 Å 내지 100 Å, 또는 가장 바람직하게는, 60 Å 내지 90 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
항목 189: 항목 172 내지 188 중 어느 하나에 있어서, 상부층이 제1 필름 및 제2 필름을 포함하는, 방법.
항목 190: 항목 189에 있어서, 상부층의 제1 필름이 금속층의 적어도 일부 위의 아연 주석산염을 포함하고, 제2 필름이 제1 필름의 적어도 일부 위의 규소 알루미늄 산질화물을 포함하는, 방법.
항목 191: 항목 172 내지 190 중 어느 한 항목에 있어서, 상부층이 50 Å 내지 750 Å, 바람직하게는 250 Å 내지 600 Å, 더욱 바람직하게, 300 Å 내지 550 Å, 또는 가장 바람직하게는, 300 Å 내지 400 Å의 총 두께를 포함하는, 방법.
실시예
실시예 1
표 1에 따라 기능성 코팅으로 기판을 코팅하였다. 기판은 유리였다. 기능성 층은 기판 위에 배치된 차단층(이때 차단층은 제1 필름으로서 차단 필름을 포함함), 금속층, 프라이머층, 상부층, 및 임의적으로 보호 필름을 포함하였다. 차단층의 차단 필름은 규소 알루미늄 산화물(SiAlO)을 포함하였다. 차단층은 아연 주석산염 필름 및 아연 산화물 필름을 추가로 포함하였다. 상부층은 아연 주석산염 필름 및 규소 알루미늄 산질화물 필름을 포함하였다. SiAlN 또는 TiAlO를 포함하는 임의적인 보호 필름을 상부층의 규소 알루미늄 산질화물 필름 위에 배치하였고, TiAlO를 포함하는 임의적인 제2 보호 필름을 SiAlN를 포함하는 제1 보호 필름 위에 배치하였다. 비교 실시예 CE-1, CE-2, CE-3, CE-4, 및 CE-5는 표 2에 따라 차단 필름 없이 제조하였다.
[표 1]
[표 2]
코팅된 물품의 생성된 색상 특성은 표 3에서 확인할 수 있다.
[표 3]
실시예 2
표 4에 개시된 기능성 코팅으로 기판을 코팅하였다. 기판은 유리였다. 기능성 층은 기판 위에 배치된 차단층을 포함하였고, 이때 차단층은 차단 필름(제1 필름으로서), 금속층, 프라이머층, 상부층, 및 임의적으로 보호 필름을 포함하였다. 차단층의 차단 필름은 규소 알루미늄 질화물(SiAlN) 또는 규소 알루미늄 산질화물(SiAlON)을 포함하였다. 차단층은 아연 주석산염 필름 및 아연 산화물 필름을 추가로 포함하였다. 금속층은 차단층의 아연 산화물 필름 위에 배치하였다. 금속층은 연속적인 은 층이다. 프라이머층을 금속층 위에 배치하였고, 상부층을 프라이머층 위에 배치하였다. 상부층은 아연 주석산염 필름 및 규소 알루미늄 산질화물 필름을 포함하였다. SiAlN을 포함하는 임의적인 보호 필름을 상부층의 SiAlON 필름 위에 배치하였다. 비교 실시예 CE-1 및 CE-2는 표 5에 따라 차단 필름 없이, 각각 아연 주석산염 및 아연 산화물의 제1 및 제2 유전체 필름으로만 제조하였다.
[표 4]
[표 5]
코팅된 물품의 생성된 색상 특성은 표 6에서 확인할 수 있다.
[표 6]
실시예 3
차단층을 갖는 기능성 코팅으로 기판을 코팅하였다. 기판은 유리였다. 기능성 코팅이 기판 위에 배치된 차단층을 포함하였고, 이때 차단층은 차단 필름(제1 필름으로서), 제1 금속층, 프라이머층, 제1 중간층, 제2 금속층, 제2 프라이머층, 상부층, 및 보호층을 포함하였다. 차단층의 차단 필름은 SiAlN(50 Å, 150 Å, 또는 300 Å의 두께), SiAlON(50 Å, 150 Å, 또는 300 Å의 두께), 또는 SiAlO(150 Å, 200 Å, 또는 250 Å의 두께)을 포함하였다. 차단층은 제2 필름으로서 아연 주석산염 필름 및 제3 필름으로서 아연 산화물 필름을 추가로 포함하였다. 제1 금속층은 차단층의 아연 산화물 필름 위에 배치하였다. 제1 금속층은 연속적인 은 층이었다. 제1 티타늄 프라이머층을 제1 금속층 위에 배치하였고, 제1 중간층을 제1 프라이머층 위에 배치하였다. 제1 중간층은 아연 산화물을 포함하는 제1 필름, 아연 주석산염을 포함하는 제2 필름, 및 아연 산화물을 포함하는 제3 필름을 포함하였다. 제2 금속층을 제1 중간층 위에 배치하였다. 제2 금속층은 연속적인 은 층이었다. 제2 티타늄 프라이머층을 제2 금속층 위에 배치하였다. 상부층을 제2 프라이머층 위에 배치하였다. 상부층은 제1 필름으로서 아연 주석산염, 및 제2 필름으로서 아연 산화물 필름을 포함하였다. 이산화 티타늄을 포함하는 보호층을 상부층 위에 배치하였다. 비교 실시예는 차단 필름 없이 제조하였으며, 각각 아연 주석산염 및 아연 산화물의 제1 및 제2 유전체 필름만을 가졌다.
코팅된 기판의 생성된 색상 특성은 도 6에서 확인할 수 있다. 차단 필름을 사용하면 Rf 및 Rg 속성 모두에서 색상 변이의 감소가 관찰되었다.
실시예 4
X-선 광전자 분광법(XPS)을 사용하여 코팅된 기판을 분석하였다. 유리 위에 ZnSn을 갖는 기준선 기판을 준비하고, XPS를 사용하여 분석하였다. 샘플 기판은 유리 위에 SiAlN 차단 필름을 갖고, SiAlN 차단 필름 위에 ZnSn을 갖도록 제조하였다. XPS를 사용하여 샘플 기판을 분석하였다. 제2 샘플 기판은 유리 위에 SiAlON 차단 필름을 갖고, SiAlON 차단 필름 위에 ZnSn을 갖도록 제조하였다. XPS를 사용하여 샘플 기판을 분석하였다. 베이스라인 기판에서는, 아연은 기판 깊숙이 이동했고 칼슘은 코팅으로 이동하였다. 샘플 기판에서는, 유리 기판을 향한 아연의 이동이 감소하였고, 유리 기판에서 코팅 스택으로의 칼슘, 마그네슘 및 나트륨의 이동이 감소하였다.
실시예 5
모놀리식 유리 및 절연 유리 유닛(IGU)은 본 발명의 코팅 및 베이스라인 이중, 삼중, 또는 사중 은 로우 e-코팅을 사용하여 (차단층 없이) 제조하였다.
베이스라인 로우 e-코팅은 하기 일반적인 구조를 갖는다: 유리 / 유전체 / 금속층 + 프라이머층 / 유전체층. 베이스라인 로우 e-코팅의 금속층은 연속적인 금속층이며, 적어도 1개의 프라이머층을 갖거나 2개의 프라이머층을 가질 수 있다.
실시예 7의 모놀리식 유리의 경우, 본 발명의 코팅을 투명한 유리 기판 상에 적용하였다. 비교 실시예 8의 모놀리식 유리의 경우, 베이스라인 코팅을 투명한 유리 기판 상에 적용하였다.
실시예 8의 IGU는 하기 구조를 갖는다:
투명 유리
에어 갭
3번 표면 상에 본 발명의 코팅을 갖는 투명 유리.
비교 실시예 9의 IGU는 하기 구조를 갖는다:
투명 유리
에어 갭
3번 표면 상에 베이스라인 코팅을 갖는 유리.
실시예 9의 IGU는 하기 구조를 갖는다:
2번 표면 상에 베이스라인 코팅을 갖는 투명 유리.
에어 갭
4번 표면 상에 본 발명의 코팅을 갖는 유리.
비교 실시예 10의 IGU는 하기 구조를 갖는다:
2번 표면 상에 베이스라인 코팅을 갖는 투명 유리.
에어 갭
4번 표면 상에 베이스라인 코팅을 갖는 유리.
베이스라인 모놀리식 유리 및 IGU의 생성된 색상 특성은 표 7에서 확인할 수 있다.
[표 7]
실시예 6
예시적인 본 발명의 코팅된 물품을 표 8에서 확인할 수 있다.
[표 8]
실시예 7
예시적인 본 발명의 코팅된 물품을 표 9에서 확인할 수 있다.
[표 9]
실시예 8
예시적인 본 발명의 코팅된 물품을 표 10에서 확인할 수 있다.
[표 10]
실시예 9
예시적인 본 발명의 코팅된 물품을 표 11에서 확인할 수 있다.
[표 11]
실시예 10
예시적인 본 발명의 코팅된 물품을 표 12에서 확인할 수 있다.
[표 12]
실시예 11
유리 기판을 차단층으로 코팅하였으며, 이때 차단층은 차단 필름, 제2 필름으로서 아연 주석산염, 및 제3 필름으로서 아연 산화물을 가졌다. 차단 필름은 SiAlN(150 Å, 200 Å, 또는 300 Å의 두께) 또는 SiAlON(150 Å 또는 300 Å의 두께) 중 하나였다. 코팅된 기판을 가열하고, 습윤 마찰 허용성을 측정하였다. 150 Å 및 200 Å 두께의 SiAlN 차단 필름으로 코팅된 유리 기판은, 가열 후 습윤 마찰 허용성이 감소하였다. 300 Å 두께의 SiAlN 차단 필름으로 코팅된 유리 기판은, 가열 전 및 후 100%의 습윤 마찰 허용성을 가졌다. 150 Å 두께의 SiAlON 차단 필름으로 코팅된 유리 기판은, 가열 후 100%의 습윤 마찰 허용성을 가졌다. 300 Å 두께의 SiAlON 차단 필름으로 코팅된 유리 기판은, 가열 전 및 후 100%의 습윤 마찰 허용성을 가졌다.
당업자는 전술한 설명에 개시된 개념을 벗어나지 않으면서 본 발명에 대한 수정이 이루어질 수 있음을 쉽게 이해할 것이다. 따라서, 본 명세서에 상세히 기술된 특정 실시양태는 단지 설명을 위한 것이고, 첨부된 청구범위의 전체 범위 및 그의 임의의 및 모든 등가물로 주어진 본 발명의 범위를 제한하지 않는다.
Claims (15)
- 제1 표면 및 상기 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 기판; 및
상기 제1 표면 또는 상기 제2 표면 위에 적용되는 기능성 코팅
을 포함하는 코팅된 물품으로서,
이때 상기 기능성 코팅이,
상기 기판의 적어도 일부 위의 차단층;
상기 차단층의 적어도 일부 위의 금속층; 및
상기 금속층의 적어도 일부 위의 상부층
을 포함하고,
이때 상기 차단층이 제1 필름, 제2 필름 및 제3 필름을 포함하고; 상기 차단층의 제1 필름이 차단 필름이고; 상기 차단 필름이 규소 산화물, 규소 알루미늄 산화물, 규소 산질화물, 규소 알루미늄 산질화물, 또는 이들의 조합을 포함하고;
상기 코팅된 물품이 템퍼링 가능한(temperable), 코팅된 물품. - 제1항에 있어서,
차단 필름이 0% 내지 50% 산소 대 100% 내지 50% 질소의, 산소 대 질소 비율을 갖는, 코팅된 물품. - 제1항에 있어서,
차단 필름이 1 중량% 내지 25 중량%의 알루미늄 및 99 중량% 내지 75 중량%의 규소를 포함하는, 코팅된 물품. - 제1항에 있어서,
차단 필름의 광학 굴절률이 1.4 이상 및 2.3 이하인, 코팅된 물품. - 제1항에 있어서,
차단 필름이 50 Å 내지 350 Å의 총 두께를 포함하는, 코팅된 물품. - 제1항에 있어서,
제2 필름이 차단 필름의 적어도 일부 위에 아연 주석산염(zinc stannate)을 포함하는, 코팅된 물품. - 제1항에 있어서,
제3 필름이 제2 필름의 적어도 일부 위에 아연 산화물을 포함하는 코팅된 물품. - 제1항에 있어서,
금속층이 은, 금, 팔라듐, 구리, 이들의 합금, 이들의 혼합물, 또는 이들의 조합을 포함하는, 코팅된 물품. - 제1항에 있어서,
금속층 위에 형성된 제1 프라이머층을 추가로 포함하고,
이때 상기 프라이머층이 티타늄, 규소, 이산화규소, 규소 질화물, 규소 산질화물(silicon oxynitride), 니켈, 지르코늄, 아연, 알루미늄, 코발트, 크롬, 알루미늄, 이들의 합금 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는, 코팅된 물품. - 제1항에 있어서,
보호층을 포함하는 최외곽 보호 코팅을 추가로 포함하고, 이때 상기 보호층이 Si3N4, SiAlN, SiAlON, TiAlO, 티타니아, 알루미나, 실리카, 지르코니아, 또는 이들의 조합 중 적어도 하나를 포함하는, 코팅된 물품. - 제1항에 있어서,
상기 표면 위에 적용되는 기능성 코팅이,
금속층의 적어도 일부 위의 제1 중간층;
상기 중간층의 적어도 일부 위의 제2 금속층; 및
제2 금속층의 적어도 일부 위의 임의적인 제2 프라이머층
을 추가로 포함하고,
이때 상부층이 제2 금속층 또는 임의적인 제2 프라이머층의 적어도 일부 위에 있는, 코팅된 물품. - 제1항에 있어서,
상기 표면 위에 적용되는 기능성 코팅이,
금속층의 적어도 일부 위의 제1 중간층;
제1 중간층의 적어도 일부 위의 제2 금속층;
제2 금속층의 적어도 일부 위의 제2 중간층;
제2 중간층의 적어도 일부 위의 제3 금속층; 및
제3 금속층의 적어도 일부 위의 임의적인 제3 프라이머층
을 추가로 포함하고,
이때 상부층이 제3 금속층 또는 임의적인 제3 프라이머층의 적어도 일부 위에 있는, 코팅된 물품. - 제1항에 있어서,
상기 표면 위에 적용되는 코팅이,
금속층의 적어도 일부 위의 제1 중간층;
제1 중간층의 적어도 일부 위의 제2 금속층;
제2 금속층의 적어도 일부 위의 제2 중간층;
제2 중간층의 적어도 일부 위의 제3 금속층;
제3 금속층의 적어도 일부 위의 제3 중간층;
제3 중간층의 적어도 일부 위의 제4 금속층; 및
제4 금속층의 적어도 일부 위의 임의적인 제4 프라이머층
을 추가로 포함하고,
이때 상부층이 제4 금속층 또는 임의적인 제4 프라이머층의 적어도 일부 위에 있는, 코팅된 물품. - 코팅된 물품의 제조 방법으로서, 상기 제조 방법이
제1 표면 및 상기 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 코팅된 물품을 제공하는 단계로서, 상기 코팅된 물품이 상기 제1 표면 또는 상기 제2 표면의 적어도 일부 위의 차단층; 상기 차단층의 적어도 일부 위의 금속층; 및 상기 금속층의 적어도 일부 위의 상부층을 포함하는, 코팅된 물품을 제공하는 단계; 및
상기 코팅된 물품을 템퍼링하는 단계
를 포함하고,
이때 상기 코팅된 제품이, 템퍼링 후 ΔEcmc로 측정한 광학적 색상 변이(color shift)가 4.5 이하인, 제조 방법. - 코팅된 물품의 적색 헤이즈(red haze)를 감소시키는 방법으로서, 상기 방법이
제1 표면 및 상기 제1 표면의 반대쪽의 제2 표면을 포함하는 코팅된 물품을 제공하는 단계로서, 상기 코팅된 물품이 상기 제1 표면 또는 상기 제2 표면의 적어도 일부 위의 차단층; 상기 차단층의 적어도 일부 위의 금속층; 및 상기 금속층의 적어도 일부 위의 상부층을 포함하는, 단계, 및
상기 코팅된 물품을 템퍼링하는 단계
를 포함하고,
이때 상기 코팅된 물품이 템퍼링 후에 감소된 적색 헤이즈를 갖는, 방법.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US202063094584P | 2020-10-21 | 2020-10-21 | |
| US63/094,584 | 2020-10-21 | ||
| US17/504,968 US20220119934A1 (en) | 2020-10-21 | 2021-10-19 | Heat-Treatable Coating with Blocking Layer Having Reduced Color Shift |
| US17/504,968 | 2021-10-19 | ||
| PCT/US2021/055802 WO2022087100A1 (en) | 2020-10-21 | 2021-10-20 | Heat-treatable coating with blocking layer having reduced color shift |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20230091954A true KR20230091954A (ko) | 2023-06-23 |
Family
ID=81185033
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020237016878A KR20230091954A (ko) | 2020-10-21 | 2021-10-20 | 색상 변이가 감소된 차단층을 갖는 열처리 가능한 코팅 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220119934A1 (ko) |
| EP (1) | EP4232853A1 (ko) |
| JP (1) | JP2023547100A (ko) |
| KR (1) | KR20230091954A (ko) |
| CN (1) | CN116438477A (ko) |
| AU (1) | AU2021364661A1 (ko) |
| CA (1) | CA3196314A1 (ko) |
| CO (1) | CO2023006488A2 (ko) |
| MX (1) | MX2023004459A (ko) |
| WO (1) | WO2022087100A1 (ko) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023064111A1 (en) * | 2021-10-11 | 2023-04-20 | Vitro Flat Glass Llc | Heat-treatable coating having reduced haze |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2519651C (en) * | 2003-03-28 | 2013-07-02 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Substrates coated with mixtures of titanium and aluminum materials, methods for making the substrates, and cathode targets of titanium and aluminum metal |
| KR101963525B1 (ko) * | 2010-03-01 | 2019-03-28 | 시피필름스 인코포레이션 | 낮은 방사율 및 ｅｍｉ 차폐 창 필름 |
| US8940400B1 (en) * | 2013-09-03 | 2015-01-27 | Guardian Industries Corp. | IG window unit including double silver coating having increased SHGC to U-value ratio, and corresponding coated article for use in IG window unit or other window |
| US10345499B2 (en) * | 2015-02-03 | 2019-07-09 | Vitro Flat Glass LLC.. | Solar control coating with enhanced solar control performance |
| US10942302B2 (en) * | 2015-09-16 | 2021-03-09 | Vitro Flat Glass Llc | Solar mirrors and methods of making solar mirrors having improved properties |
| WO2018117801A1 (es) * | 2016-12-20 | 2018-06-28 | Vidrio Plano De México, S.A. De C.V. | Recubrimiento de baja emisividad para un sustrato de vidrio |
| EP3609967B1 (en) * | 2017-04-14 | 2022-06-01 | 3M Innovative Properties Company | Durable low emissivity window film constructions |
| US20190043640A1 (en) * | 2017-08-04 | 2019-02-07 | Vitro Flat Glass, LLC | Protective Layer Over a Functional Coating |
| US11220455B2 (en) * | 2017-08-04 | 2022-01-11 | Vitro Flat Glass Llc | Flash annealing of silver coatings |
| EP3752659A1 (en) * | 2018-02-15 | 2020-12-23 | Vitro Flat Glass LLC | Coated article having a protective coating containing silicon nitride and/or silicon oxynitride |
| US10752541B2 (en) * | 2018-07-16 | 2020-08-25 | Guardian Glass, LLC | Low-E matchable coated articles having doped seed layer under silver, and corresponding methods |
| WO2020198480A1 (en) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | Vitro Flat Glass Llc | Article having a high visible light reflectance and a neutral color |
-
2021
- 2021-10-19 US US17/504,968 patent/US20220119934A1/en active Pending
- 2021-10-20 WO PCT/US2021/055802 patent/WO2022087100A1/en active Application Filing
- 2021-10-20 EP EP21883790.4A patent/EP4232853A1/en active Pending
- 2021-10-20 MX MX2023004459A patent/MX2023004459A/es unknown
- 2021-10-20 KR KR1020237016878A patent/KR20230091954A/ko unknown
- 2021-10-20 JP JP2023524374A patent/JP2023547100A/ja active Pending
- 2021-10-20 CA CA3196314A patent/CA3196314A1/en active Pending
- 2021-10-20 AU AU2021364661A patent/AU2021364661A1/en active Pending
- 2021-10-20 CN CN202180072070.6A patent/CN116438477A/zh active Pending
-
2023
- 2023-05-16 CO CONC2023/0006488A patent/CO2023006488A2/es unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP4232853A1 (en) | 2023-08-30 |
| MX2023004459A (es) | 2023-06-08 |
| JP2023547100A (ja) | 2023-11-09 |
| CA3196314A1 (en) | 2022-04-28 |
| CO2023006488A2 (es) | 2023-05-29 |
| US20220119934A1 (en) | 2022-04-21 |
| AU2021364661A1 (en) | 2023-05-25 |
| WO2022087100A1 (en) | 2022-04-28 |
| CN116438477A (zh) | 2023-07-14 |
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