KR20230086381A - Mask pattern for high-level etching and manufacturing method of 3d flash memory using the same - Google Patents
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Abstract
Description
아래의 실시예들은 3차원 플래시 메모리의 제조 방법에서 사용되는 마스크 패턴에 관한 것으로, 보다 상세하게는 고단 식각을 위한 마스크 패턴 및 이를 이용한 3차원 플래시 메모리의 제조 방법에 대한 기술이다.The following embodiments relate to a mask pattern used in a method of manufacturing a 3D flash memory, and more particularly, to a mask pattern for high-stage etching and a method of manufacturing a 3D flash memory using the mask pattern.
플래시 메모리 소자는 F-N 터널링(Fowler-Nordheimtunneling) 또는 열전자 주입(Hot electron injection)에 의해 전기적으로 데이터의 입출력을 제어하여 전기적으로 프로그램 및 소거가 가능한 판독 전용 메모리(Electrically Erasable Programmable Read Only Memory; EEPROM)로서, 컴퓨터, 디지털 카메라, MP3 플레이어, 게임 시스템, 메모리 스틱(Memory stick) 등에 공통적으로 이용될 수 있다.A flash memory device is an electrically erasable programmable read only memory (EEPROM) by electrically controlling input and output of data by Fowler-Nordheimtunneling or hot electron injection. , can be commonly used in computers, digital cameras, MP3 players, game systems, memory sticks, and the like.
이러한 플래시 메모리 소자에서는 소비자가 요구하는 우수한 성능 및 저렴한 가격을 충족시키기 위해 집적도를 증가시키는 것이 요구된 바, 메모리 셀 트랜지스터들이 수직 방향으로 배열되어 셀 스트링을 구성하는 3차원 구조가 제안되었다.In such a flash memory device, a three-dimensional structure in which memory cell transistors are arranged in a vertical direction to form a cell string has been proposed to increase the degree of integration in order to meet the excellent performance and low price demanded by consumers.
최근 3차원 플래시 메모리는 집적화된 구조를 구현하기 위해 원 형태의 채널 홀들이 어긋나며 배치되는 Staggered 형상을 갖도록 제조되고 있다.Recently, 3D flash memory has been manufactured to have a staggered shape in which circular channel holes are staggered and arranged to realize an integrated structure.
이러한 Staggered 형상의 기존 3차원 플래시 메모리는, 채널 홀들 각각으로 식각용 가스가 내부로 유입되기 힘들어 식각 프로파일을 확보하기 힘든 문제점을 갖는다.The conventional 3D flash memory of such a staggered shape has a problem in that it is difficult to secure an etching profile because it is difficult for an etching gas to flow into each of the channel holes.
따라서, 아래의 실시예들은 설명된 문제점을 해결하는 기술을 제안하고자 한다.Accordingly, the embodiments below seek to propose a technique that solves the described problem.
일 실시예들은 채널 홀들 각각으로 식각용 가스가 내부로 유입되기 힘들어 식각 프로파일을 확보하기 힘든 문제점을 해결하고자, 채널 홀들을 서로 연결시키는 적어도 하나의 수직 연결 트렌치를 이용하여 식각 프로파일을 확보하는 3차원 플래시 메모리, 이의 제조 방법을 제안한다.In one embodiment, in order to solve the problem that it is difficult to secure an etching profile because it is difficult for an etching gas to flow into each of the channel holes, a three-dimensional etch profile is secured using at least one vertical connection trench connecting the channel holes to each other. A flash memory and a manufacturing method thereof are proposed.
이 때, 일 실시예들은 적어도 하나의 수직 연결 트렌치를 매립하는 공정의 단순화를 도모하고자, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 연장 형성되는 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 채널 홀들 내에 연장 형성되는 수직 채널 구조체들과 동일한 공정을 통해 동시에 형성되는 3차원 플래시 메모리, 이의 제조 방법을 제안한다.At this time, in order to simplify the process of filling the at least one vertical connection trench, one embodiment is a vertical channel structure in which at least one vertical connection pattern extending in the at least one vertical connection trench is formed to extend in the channel holes. A three-dimensional flash memory formed simultaneously through the same process as and a method for manufacturing the same is proposed.
특히, 일 실시예들은 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 수직 채널 구조체들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 라운딩(Rounding) 형상 부분이 포함됨에 따라 발생되는 쇼트 등의 문제를 해결하고자, 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치를 형성하는데 형상이 변경된 마스크 패턴을 사용하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법, 상기 마스크 패턴을 제안한다.Particularly, in one embodiment, in order to solve problems such as a short circuit caused by the inclusion of a rounded portion at an edge where at least one vertical connection pattern contacts each of the vertical channel structures, channel holes and at least A method of fabricating a three-dimensional flash memory using a mask pattern whose shape is changed to form one vertical connection trench, and the mask pattern is proposed.
또한, 일 실시예들은 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 수직 채널 구조체들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 라운딩(Rounding) 형상 부분이 포함됨에 따라 발생되는 쇼트 등의 문제를 해결하고자, 적어도 하나의 수직 연결 패턴 내에 형성된 심(Seam)을 제거하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 제안한다.In addition, in order to solve a problem such as a short circuit caused by including a rounding portion at an edge where at least one vertical connection pattern comes into contact with each of the vertical channel structures, at least one vertical channel structure A method of manufacturing a three-dimensional flash memory by removing a seam formed in a connection pattern is proposed.
다만, 본 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제들은 상기 과제로 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있다.However, the technical problems to be solved by the present invention are not limited to the above problems, and can be variously expanded without departing from the technical spirit and scope of the present invention.
일 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리에서 수직 방향으로 연장 형성된 수직 채널 구조체들-상기 수직 채널 구조체들 각각은 상기 수직 방향으로 연장 형성된 수직 채널 패턴 및 상기 수직 채널 패턴의 외측벽을 둘러싸며 형성된 데이터 저장 패턴을 포함함- 및 상기 수직 채널 구조체들을 수평 평면 상에서 서로 연결시키며 상기 수직 방향으로 연장 형성된 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 형성하는데 사용되는 마스크 패턴은, 상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 상기 수직 채널 구조체들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.According to an embodiment, vertical channel structures extending in a vertical direction in a 3D flash memory—each of the vertical channel structures extending in the vertical direction and surrounding an outer wall of the vertical channel pattern and storing data formed therein and a mask pattern used to connect the vertical channel structures to each other on a horizontal plane and form at least one vertical connection pattern extending in the vertical direction, wherein the at least one vertical connection pattern is the vertical channel structure. It may be characterized in that a serif-shaped portion is included in an area corresponding to an edge contacting each of the .
일 측면에 따르면, 상기 마스크 패턴은, 상기 마스크 패턴이 사용되는 과정에서의 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 상기 세리프 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.According to one aspect, the mask pattern may include the serif-shaped portion in consideration of Optical Proximity Correction (OPC) in the process of using the mask pattern.
다른 일 측면에 따르면, 상기 마스크 패턴은, 상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 상기 수직 채널 구조체들 각각과 접촉되는 에지에 라운딩(Rounding) 형상 부분이 포함되지 않도록 상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 상기 수직 채널 구조체들 각각과 접촉되는 에지에 대응하는 영역에 상기 세리프 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.According to another aspect, the mask pattern is such that the at least one vertical connection pattern does not include a rounding portion at an edge where the at least one vertical connection pattern contacts each of the vertical channel structures. The serif-shaped portion may be included in a region corresponding to an edge contacting each of the channel structures.
일 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은, 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 워드 라인들을 포함하는 반도체 구조체를 준비하는 단계; 상기 반도체 구조체의 상면에 배치된 마스크 패턴을 이용한 식각 공정을 통해, 상기 반도체 구조체에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계; 상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계; 및 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계를 포함하고, 상기 마스크 패턴은, 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치가 상기 채널 홀들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.According to one embodiment, a method of manufacturing a 3D flash memory includes preparing a semiconductor structure extending in a horizontal direction and including interlayer insulating films and word lines that are alternately stacked in a vertical direction; Through an etching process using a mask pattern disposed on the upper surface of the semiconductor structure, channel holes and at least one vertical connection trench in the vertical direction are formed in the semiconductor structure - the at least one vertical connection trench forms the channel holes on a horizontal plane. Connecting each other - forming an extension; extending and forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes; and extending and forming at least one vertical connection pattern in the vertical direction within the at least one vertical connection trench, wherein the mask pattern includes an edge at which the at least one vertical connection trench contacts each of the channel holes ( It may be characterized by including a serif-shaped part in an area corresponding to Edge.
일 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은, 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 워드 라인들을 각각 포함하는 스택 구조체들을 준비하는 단계; 상기 스택 구조체들 각각의 상면에 배치된 마스크 패턴을 이용한 식각 공정을 통해, 상기 스택 구조체들 각각에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계; 상기 스택 구조체들을 상기 수직 방향으로 적층하는 단계; 상기 스택 구조체들이 상기 수직 방향으로 적층된 반도체 구조체에서 상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계; 및 상기 반도체 구조체에서 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계를 포함하고, 상기 마스크 패턴은, 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치가 상기 채널 홀들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.According to one embodiment, a method of manufacturing a 3D flash memory includes preparing stack structures extending in a horizontal direction and including interlayer insulating films and word lines that are alternately stacked in a vertical direction, respectively; Through an etching process using a mask pattern disposed on the upper surface of each of the stack structures, channel holes and at least one vertical connection trench in the vertical direction are formed in each of the stack structures - the at least one vertical connection trench is the channel hole connecting them to each other on a horizontal plane; stacking the stack structures in the vertical direction; forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes in the semiconductor structure in which the stack structures are stacked in the vertical direction; and forming at least one vertical connection pattern extending in the vertical direction within the at least one vertical connection trench in the semiconductor structure, wherein the mask pattern comprises: the at least one vertical connection trench is connected to each of the channel holes; It may be characterized in that a serif-shaped portion is included in an area corresponding to a contacted edge.
일 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은, 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 희생층들을 포함하는 반도체 구조체를 준비하는 단계; 상기 반도체 구조체의 상면에 배치된 마스크 패턴을 이용한 식각 공정을 통해, 상기 반도체 구조체에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계; 상기 희생층들을 제거하여 상기 희생층들이 제거된 공간들에 워드 라인들을 형성하는 단계; 상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계; 및 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계를 포함하고, 상기 마스크 패턴은, 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치가 상기 채널 홀들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.According to one embodiment, a method of manufacturing a three-dimensional flash memory includes preparing a semiconductor structure extending in a horizontal direction and including interlayer insulating films and sacrificial layers that are alternately stacked in a vertical direction; Through an etching process using a mask pattern disposed on the upper surface of the semiconductor structure, channel holes and at least one vertical connection trench in the vertical direction are formed in the semiconductor structure - the at least one vertical connection trench forms the channel holes on a horizontal plane. Connecting each other - forming an extension; removing the sacrificial layers to form word lines in spaces where the sacrificial layers are removed; extending and forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes; and extending and forming at least one vertical connection pattern in the vertical direction within the at least one vertical connection trench, wherein the mask pattern includes an edge at which the at least one vertical connection trench contacts each of the channel holes ( It may be characterized by including a serif-shaped part in an area corresponding to Edge.
일 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은, 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 희생층들을 각각 포함하는 스택 구조체들을 준비하는 단계; 상기 스택 구조체들 각각의 상면에 배치된 마스크 패턴을 이용한 식각 공정을 통해, 상기 스택 구조체들 각각에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계; 상기 스택 구조체들을 상기 수직 방향으로 적층하는 단계; 상기 희생층들을 제거하여 상기 희생층들이 제거된 공간들에 워드 라인들을 형성하는 단계; 상기 스택 구조체들이 상기 수직 방향으로 적층된 반도체 구조체에서 상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계; 및 상기 반도체 구조체에서 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계를 포함하고, 상기 마스크 패턴은, 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치가 상기 채널 홀들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.According to one embodiment, a method of manufacturing a 3D flash memory includes preparing stack structures extending in a horizontal direction and including interlayer insulating films and sacrificial layers that are alternately stacked in a vertical direction, respectively; Through an etching process using a mask pattern disposed on the upper surface of each of the stack structures, channel holes and at least one vertical connection trench in the vertical direction are formed in each of the stack structures - the at least one vertical connection trench is the channel hole connecting them to each other on a horizontal plane; stacking the stack structures in the vertical direction; removing the sacrificial layers to form word lines in spaces where the sacrificial layers are removed; forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes in the semiconductor structure in which the stack structures are stacked in the vertical direction; and forming at least one vertical connection pattern extending in the vertical direction within the at least one vertical connection trench in the semiconductor structure, wherein the mask pattern comprises: the at least one vertical connection trench is connected to each of the channel holes; It may be characterized in that a serif-shaped portion is included in an area corresponding to a contacted edge.
일 측에 따르면, 상기 마스크 패턴은, 상기 마스크 패턴이 사용되는 과정에서의 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 상기 세리프 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 할 수 있다.According to one aspect, the mask pattern may include the serif-shaped portion in consideration of Optical Proximity Correction (OPC) in the process of using the mask pattern.
실 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은, 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 워드 라인들을 포함하는 반도체 구조체를 준비하는 단계; 상기 반도체 구조체에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계; 상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계; 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계; 및 상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴 내에 상 심(Seam)이 형성된 깊이까지 상기 반도체 구조체의 상면을 식각하는 단계를 포함할 수 있다.According to an embodiment, a method of manufacturing a three-dimensional flash memory includes preparing a semiconductor structure extending in a horizontal direction and including interlayer insulating films and word lines that are alternately stacked in a vertical direction; extending and forming channel holes and at least one vertical connection trench in the semiconductor structure in the vertical direction, wherein the at least one vertical connection trench connects the channel holes to each other on a horizontal plane; extending and forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes; extending and forming at least one vertical connection pattern in the vertical direction within the at least one vertical connection trench; and etching an upper surface of the semiconductor structure to a depth at which a seam is formed in the at least one vertical connection pattern.
일 실시예예 따르면, 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은, 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 워드 라인들을 각각 포함하는 스택 구조체들을 준비하는 단계; 상기 스택 구조체들 각각에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계; 상기 스택 구조체들을 상기 수직 방향으로 적층하는 단계; 상기 스택 구조체들이 상기 수직 방향으로 적층된 반도체 구조체에서 상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계; 상기 반도체 구조체에서 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계; 및 상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴 내에 심(Seam)이 형성된 깊이까지 상기 반도체 구조체의 상면을 식각하는 단계를 포함할 수 있다.According to one embodiment, a method of manufacturing a 3D flash memory includes preparing stack structures extending in a horizontal direction and including interlayer insulating films and word lines, respectively, which are alternately stacked in a vertical direction; extending and forming channel holes and at least one vertical connection trench in each of the stack structures in the vertical direction, wherein the at least one vertical connection trench connects the channel holes to each other on a horizontal plane; stacking the stack structures in the vertical direction; forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes in the semiconductor structure in which the stack structures are stacked in the vertical direction; forming at least one vertical connection pattern extending in the vertical direction within the at least one vertical connection trench in the semiconductor structure; and etching an upper surface of the semiconductor structure to a depth at which a seam is formed in the at least one vertical connection pattern.
일 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은, 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 희생층들을 포함하는 반도체 구조체를 준비하는 단계; 상기 반도체 구조체에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계; 상기 희생층들을 제거하여 상기 희생층들이 제거된 공간들에 워드 라인들을 형성하는 단계; 상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계; 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계; 및 상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴 내에 상 심(Seam)이 형성된 깊이까지 상기 반도체 구조체의 상면을 식각하는 단계를 포함할 수 있다.According to one embodiment, a method of manufacturing a three-dimensional flash memory includes preparing a semiconductor structure extending in a horizontal direction and including interlayer insulating films and sacrificial layers that are alternately stacked in a vertical direction; extending and forming channel holes and at least one vertical connection trench in the semiconductor structure in the vertical direction, wherein the at least one vertical connection trench connects the channel holes to each other on a horizontal plane; removing the sacrificial layers to form word lines in spaces where the sacrificial layers are removed; extending and forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes; extending and forming at least one vertical connection pattern in the vertical direction within the at least one vertical connection trench; and etching an upper surface of the semiconductor structure to a depth at which a seam is formed in the at least one vertical connection pattern.
일 실시예에 따르면, 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은, 수평 방향으로 연장 형성되며 수직 방향으로 교대로 적층된 층간 절연막들 및 희생층들을 각각 포함하는 스택 구조체들을 준비하는 단계; 상기 스택 구조체들 각각에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계; 상기 스택 구조체들을 상기 수직 방향으로 적층하는 단계; 상기 희생층들을 제거하여 상기 희생층들이 제거된 공간들에 워드 라인들을 형성하는 단계; 상기 스택 구조체들이 상기 수직 방향으로 적층된 반도체 구조체에서 상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계; 상기 반도체 구조체에서 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계; 및 상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴 내에 상 심(Seam)이 형성된 깊이까지 상기 반도체 구조체의 상면을 식각하는 단계를 포함할 수 있다.According to one embodiment, a method of manufacturing a 3D flash memory includes preparing stack structures extending in a horizontal direction and including interlayer insulating films and sacrificial layers that are alternately stacked in a vertical direction, respectively; extending and forming channel holes and at least one vertical connection trench in each of the stack structures in the vertical direction, wherein the at least one vertical connection trench connects the channel holes to each other on a horizontal plane; stacking the stack structures in the vertical direction; removing the sacrificial layers to form word lines in spaces where the sacrificial layers are removed; forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes in the semiconductor structure in which the stack structures are stacked in the vertical direction; forming at least one vertical connection pattern extending in the vertical direction within the at least one vertical connection trench in the semiconductor structure; and etching an upper surface of the semiconductor structure to a depth at which a seam is formed in the at least one vertical connection pattern.
일 측에 따르면, 상기 반도체 구조체의 상면을 식각하는 단계는, 상기 심에 채워진 상기 수직 채널 패턴이 제거되도록 상기 반도체 구조체의 상면을 식각하는 단계인 것을 특징으로 할 수 있다.In one embodiment, the etching of the upper surface of the semiconductor structure may include etching the upper surface of the semiconductor structure to remove the vertical channel pattern filled in the shim.
일 실시예들은 채널 홀들 각각으로 식각용 가스가 내부로 유입되기 힘들어 식각 프로파일을 확보하기 힘든 문제점을 해결하고자, 채널 홀들을 서로 연결시키는 적어도 하나의 수직 연결 트렌치를 이용하여 식각 프로파일을 확보하는 3차원 플래시 메모리, 이의 제조 방법을 제안할 수 있다.In one embodiment, in order to solve the problem that it is difficult to secure an etching profile because it is difficult for an etching gas to flow into each of the channel holes, a three-dimensional etch profile is secured using at least one vertical connection trench connecting the channel holes to each other. A flash memory and a manufacturing method thereof may be proposed.
이 때, 일 실시예들은 적어도 하나의 수직 연결 트렌치를 매립하는 공정의 단순화를 도모하고자, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 연장 형성되는 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 채널 홀들 내에 연장 형성되는 수직 채널 구조체들과 동일한 공정을 통해 동시에 형성되는 3차원 플래시 메모리, 이의 제조 방법을 제안할 수 있다.At this time, in order to simplify the process of filling the at least one vertical connection trench, one embodiment is a vertical channel structure in which at least one vertical connection pattern extending in the at least one vertical connection trench is formed to extend in the channel holes. It is possible to propose a three-dimensional flash memory formed simultaneously through the same process and a manufacturing method thereof.
특히, 일 실시예들은 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 수직 채널 구조체들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 라운딩(Rounding) 형상 부분이 포함됨에 따라 발생되는 쇼트 등의 문제를 해결하고자, 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치를 형성하는데 형상이 변경된 마스크 패턴을 사용하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법, 상기 마스크 패턴을 제안할 수 있다.Particularly, in one embodiment, in order to solve problems such as a short circuit caused by the inclusion of a rounded portion at an edge where at least one vertical connection pattern contacts each of the vertical channel structures, channel holes and at least A method of manufacturing a 3D flash memory using a mask pattern whose shape is changed to form one vertical connection trench, and the mask pattern may be proposed.
또한, 일 실시예들은 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 수직 채널 구조체들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 라운딩(Rounding) 형상 부분이 포함됨에 따라 발생되는 쇼트 등의 문제를 해결하고자, 적어도 하나의 수직 연결 패턴 내에 형성된 심(Seam)을 제거하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 제안할 수 있다.In addition, in order to solve a problem such as a short circuit caused by including a rounding portion at an edge where at least one vertical connection pattern comes into contact with each of the vertical channel structures, at least one vertical channel structure A method of manufacturing a 3D flash memory in which a seam formed in a connection pattern is removed may be proposed.
다만, 본 발명의 효과는 상기 효과들로 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 기술적 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있다.However, the effects of the present invention are not limited to the above effects, and can be variously extended without departing from the technical spirit and scope of the present invention.
도 1은 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 어레이를 도시한 간략 회로도이다.
도 2는 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 평면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 2를 A-A'선으로 자른 단면에 해당된다.
도 4는 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 수직 채널 구조체들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 라운딩(Rounding) 형상 부분이 포함되는 구조의 3차원 플래시 메모리를 도시한 평면도이다.
도 5a 내지 5d는 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하는 과정에서 사용되는 마스크 패턴을 도시한 평면도이다.
도 6은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 게이트 퍼스트 방식을 적용한 일 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.
도 7a 내지 7e는 도 6에 도시된 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 설명하기 위해 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 평면도이다.
도 8a 내지 8e는 도 7a 내지 7e에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 7a 내지 7e를 A-A'선으로 자른 단면에 해당된다.
도 9a 내지 9e는 도 7a 내지 7e에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 7a 내지 7e를 B-B'선으로 자른 단면에 해당된다.
도 10은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 게이트 퍼스트 방식에 더해 스택 방식을 적용한 일 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.
도 11은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 워드 라인 리플레이스먼트 방식을 적용한 일 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.
도 12는 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 워드 라인 리플레이스먼트 방식에 더해 스택 방식을 적용한 일 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.
도 13은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 게이트 퍼스트 방식을 적용한 다른 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.
도 14a 내지 14e는 도 13에 도시된 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 설명하기 위해 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 평면도이다.
도 15a 내지 15e는 도 14a 내지 14e에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 14a 내지 14e를 A-A'선으로 자른 단면에 해당된다.
도 16a 내지 16e는 도 14a 내지 14e에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 14a 내지 14e를 B-B'선으로 자른 단면에 해당된다.
도 17은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 게이트 퍼스트 방식에 더해 스택 방식을 적용한 다른 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.
도 18은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 워드 라인 리플레이스먼트 방식을 적용한 다른 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.
도 19는 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 워드 라인 리플레이스먼트 방식에 더해 스택 방식을 적용한 다른 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.1 is a simplified circuit diagram illustrating an array of three-dimensional flash memories according to one embodiment.
2 is a plan view illustrating the structure of a 3D flash memory according to an exemplary embodiment.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the structure of the 3D flash memory shown in FIG. 2, and corresponds to a cross-section of FIG. 2 taken along the line A-A'.
FIG. 4 is a plan view illustrating a 3D flash memory having a structure in which a rounding portion is included at an edge where at least one vertical connection pattern contacts each of the vertical channel structures.
5A to 5D are plan views illustrating mask patterns used in a process of manufacturing the 3D flash memory shown in FIGS. 2 to 3 .
FIG. 6 is a flow chart illustrating a manufacturing method according to an embodiment in which a gate first method is applied to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
7A to 7E are plan views illustrating the structure of a 3D flash memory to explain a manufacturing method of the 3D flash memory shown in FIG. 6 .
8A to 8E are cross-sectional views illustrating the structure of the 3D flash memory shown in FIGS. 7A to 7E, and correspond to cross-sections taken along the line A-A' in FIGS. 7A to 7E.
9A to 9E are cross-sectional views illustrating the structure of the 3D flash memory shown in FIGS. 7A to 7E, and correspond to cross-sections taken along the line BB' in FIGS. 7A to 7E.
FIG. 10 is a flow chart illustrating a manufacturing method according to an embodiment in which a stack method is applied in addition to the gate first method to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
FIG. 11 is a flow chart illustrating a manufacturing method according to an embodiment in which a word line replacement method is applied to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
FIG. 12 is a flow chart illustrating a manufacturing method according to an embodiment in which a stack method is applied in addition to a word line replacement method to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
FIG. 13 is a flowchart illustrating a manufacturing method according to another embodiment in which a gate first method is applied to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
14A to 14E are plan views illustrating the structure of a 3D flash memory to explain a manufacturing method of the 3D flash memory shown in FIG. 13 .
15A to 15E are cross-sectional views illustrating the structure of the 3D flash memory shown in FIGS. 14A to 14E, and correspond to cross-sections taken along line A-A' in FIGS. 14A to 14E.
16A to 16E are cross-sectional views illustrating the structure of the 3D flash memory shown in FIGS. 14A to 14E, and correspond to cross-sections taken along the line BB' in FIGS. 14A to 14E.
FIG. 17 is a flow chart illustrating a manufacturing method according to another embodiment in which a stack method is applied in addition to the gate first method to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
FIG. 18 is a flow chart illustrating a manufacturing method according to another embodiment in which a word line replacement method is applied to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
FIG. 19 is a flowchart illustrating a manufacturing method according to another embodiment in which a stack method is applied in addition to a word line replacement method to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited or limited by the examples. Also, like reference numerals in each figure denote like members.
또한, 본 명세서에서 사용되는 용어(Terminology)들은 본 발명의 바람직한 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 시청자, 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다. 예컨대, 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 또한, 본 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 또한, 본 명세서에서 제1, 제2 등의 용어가 다양한 영역, 방향, 형상 등을 기술하기 위해서 사용되었지만, 이들 영역, 방향, 형상이 이 같은 용어들에 의해서 한정되어서는 안 된다. 이들 용어들은 단지 어느 소정 영역, 방향 또는 형상을 다른 영역, 방향 또는 형상과 구별시키기 위해서 사용되었을 뿐이다. 따라서, 어느 한 실시예에서 제1 부분으로 언급된 부분이 다른 실시예에서는 제2 부분으로 언급될 수도 있다.In addition, terms used in this specification (terminology) are terms used to appropriately express preferred embodiments of the present invention, which may vary according to the intention of a viewer or operator or customs in the field to which the present invention belongs. Therefore, definitions of these terms will have to be made based on the content throughout this specification. For example, in this specification, singular forms also include plural forms unless specifically stated otherwise in a phrase. Also, as used herein, "comprises" and/or "comprising" means that a referenced component, step, operation, and/or element is one or more other components, steps, operations, and/or elements. The presence or addition of elements is not excluded. In addition, although terms such as first and second are used in this specification to describe various regions, directions, shapes, etc., these regions, directions, and shapes should not be limited by these terms. These terms are only used to distinguish one area, direction or shape from another area, direction or shape. Accordingly, a portion referred to as a first portion in one embodiment may be referred to as a second portion in another embodiment.
또한, 본 발명의 다양한 실시 예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 기술적 사상 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시 예로 구현될 수 있다. 또한, 제시된 각각의 실시예 범주에서 개별 구성요소의 위치, 배치, 또는 구성은 본 발명의 기술적 사상 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다.Also, it should be understood that the various embodiments of the present invention are different from each other but are not necessarily mutually exclusive. For example, specific shapes, structures, and characteristics described herein may be implemented in one embodiment in another embodiment without departing from the spirit and scope of the present invention. In addition, it should be understood that the location, arrangement, or configuration of individual components in the scope of each embodiment presented may be changed without departing from the spirit and scope of the present invention.
이하, 도면들을 참조하여 실시예들에 따른 3차원 플래시 메모리, 이의 동작 방법 및 이를 포함하는 전자 시스템에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a 3D flash memory according to embodiments, an operating method thereof, and an electronic system including the same will be described in detail with reference to the drawings.
도 1은 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 어레이를 도시한 간략 회로도이다.1 is a simplified circuit diagram illustrating an array of three-dimensional flash memories according to one embodiment.
도 1을 참조하면, 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 어레이는 공통 소스 라인(CSL), 복수의 비트 라인들(BL0, BL1, BL2) 및 공통 소스 라인(CSL)과 비트 라인들(BL0, BL1, BL2) 사이에 배치되는 복수의 셀 스트링들(CSTR)을 포함할 수 있다.Referring to FIG. 1 , a three-dimensional flash memory array according to an embodiment includes a common source line CSL, a plurality of bit lines BL0, BL1, and BL2, and the common source line CSL and bit lines BL0. , BL1, and BL2) may include a plurality of cell strings CSTR.
비트 라인들(BL0, BL1, BL2)은 제2 방향(D2)으로 연장 형성된 채 제1 방향(D1)을 따라 서로 이격되며 2차원적으로 배열될 수 있다. 여기서, 제1 방향(D1), 제2 방향(D2) 및 제3 방향(D3) 각각은 서로 직교하며 X, Y, Z축으로 정의되는 직각 좌표계를 형성할 수 있다.The bit lines BL0 , BL1 , and BL2 may be two-dimensionally arranged while being spaced apart from each other along the first direction D1 while extending in the second direction D2 . Here, each of the first direction D1 , the second direction D2 , and the third direction D3 are orthogonal to each other and may form a rectangular coordinate system defined by X, Y, and Z axes.
비트 라인들(BL0, BL1, BL2) 각각에는 복수의 셀 스트링들(CSTR)이 병렬로 연결될 수 있다. 셀 스트링들(CSTR)은 비트 라인들(BL0, BL1, BL2)과 하나의 공통 소스 라인(CSL) 사이에 제공된 채 공통 소스 라인(CSL)에 공통으로 연결될 수 있다. 이 때, 공통 소스 라인(CSL)은 복수 개로 제공될 수 있으며, 복수의 공통 소스 라인들(CSL)은 제1 방향(D1)으로 연장 형성된 채 제2 방향(D2)을 따라 서로 이격되며 2차원적으로 배열될 수 있다. 복수의 공통 소스 라인들(CSL)에는 전기적으로 동일한 전압이 인가될 수 있으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 복수의 공통 소스 라인들(CSL) 각각이 전기적으로 독립적으로 제어됨으로써 서로 다른 전압이 인가될 수도 있다.A plurality of cell strings CSTR may be connected in parallel to each of the bit lines BL0 , BL1 , and BL2 . The cell strings CSTR may be connected in common to the common source line CSL while being provided between the bit lines BL0 , BL1 , and BL2 and one common source line CSL. In this case, a plurality of common source lines CSL may be provided, and the plurality of common source lines CSL are spaced apart from each other along the second direction D2 while extending in the first direction D1 and have a two-dimensional can be arranged sequentially. The same voltage may be electrically applied to the plurality of common source lines CSL, but different voltages may be applied as each of the plurality of common source lines CSL is electrically independently controlled without being limited or limited thereto. there is.
셀 스트링들(CSTR)은 제3 방향(D3)으로 연장 형성된 채 비트 라인별로 제2 방향(D2)을 따라 서로 이격되며 배열될 수 있다. 실시예에 따르면, 셀 스트링들(CSTR) 각각은 공통 소스 라인(CSL)에 접속하는 접지 선택 트랜지스터(GST), 비트 라인들(BL0, BL1, BL2)에 접속하며 직렬 연결된 제1 및 제2 스트링 선택 트랜지스터들(SST1, SST2), 접지 선택 트랜지스터(GST)와 제1 및 제2 스트링 선택 트랜지스터들(SST1, SST2) 사이에 배치된 채 직렬 연결된 메모리 셀 트랜지스터들(MCT) 및 소거 제어 트랜지스터(ECT)로 구성될 수 있다. 또한, 메모리 셀 트랜지스터들(MCT) 각각은 데이터 저장 요소(Data storage element)를 포함할 수 있다.The cell strings CSTR may be spaced apart from each other along the second direction D2 for each bit line while extending in the third direction D3 and may be arranged. According to an embodiment, each of the cell strings CSTR includes a ground select transistor GST connected to the common source line CSL and first and second strings connected in series to bit lines BL0, BL1, and BL2. Select transistors SST1 and SST2, memory cell transistors MCT connected in series while being disposed between the ground select transistor GST and the first and second string select transistors SST1 and SST2, and an erase control transistor ECT ) can be configured. Also, each of the memory cell transistors MCT may include a data storage element.
일 예로, 각각의 셀 스트링들(CSTR)은 직렬 연결된 제1 및 제2 스트링 선택 트랜지스터들(SST1, SST2)을 포함할 수 있으며, 제2 스트링 선택 트랜지스터(SST2)는 비트 라인들(BL0, BL1, BL2) 중 하나에 접속될 수 있다. 그러나 이에 제한되거나 한정되지 않고, 각각의 셀 스트링들(CSTR)은 하나의 스트링 선택 트랜지스터를 포함할 수도 있다. 다른 예로, 각각의 셀 스트링들(CSTR)에서 접지 선택 트랜지스터(GST)는, 제1 및 제2 스트링 선택 트랜지스터들(SST1, SST2)와 유사하게, 직렬 연결된 복수 개의 모스 트랜지스터들로 구성될 수도 있다.For example, each of the cell strings CSTR may include first and second string select transistors SST1 and SST2 connected in series, and the second string select transistor SST2 may include bit lines BL0 and BL1 , BL2). However, without being limited thereto, each of the cell strings CSTR may include one string select transistor. As another example, the ground select transistor GST in each of the cell strings CSTR may be composed of a plurality of MOS transistors connected in series similarly to the first and second string select transistors SST1 and SST2. .
하나의 셀 스트링(CSTR)은 공통 소스 라인들(CSL)로부터의 거리가 서로 다른 복수 개의 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)로 구성될 수 있다. 즉, 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)은 제1 스트링 선택 트랜지스터(SST1)와 접지 선택 트랜지스터(GST) 사이에서 제3 방향(D3)을 따라 배치된 채 직렬 연결될 수 있다. 소거 제어 트랜지스터(ECT)는 접지 선택 트랜지스터(GST)와 공통 소스 라인들(CSL) 사이에 연결될 수 있다. 셀 스트링들(CSTR) 각각은 제1 스트링 선택 트랜지스터(SST1)와 메모리 셀 트랜지스터들(MCT) 중 최상위의 것 사이 및 접지 선택 트랜지스터(GST)와 메모리 셀 트랜지스터들(MCT) 중 최하위의 것 사이에 각각 연결된 더미 셀 트랜지스터들(DMC)을 더 포함할 수 있다.One cell string CSTR may include a plurality of memory cell transistors MCT having different distances from the common source lines CSL. That is, the memory cell transistors MCT may be connected in series while being disposed along the third direction D3 between the first string select transistor SST1 and the ground select transistor GST. The erase control transistor ECT may be connected between the ground select transistor GST and the common source lines CSL. Each of the cell strings CSTR is formed between the first string select transistor SST1 and the uppermost one of the memory cell transistors MCT and between the ground select transistor GST and the lowermost one of the memory cell transistors MCT. Dummy cell transistors DMC connected to each other may be further included.
실시예에 따르면, 제1 스트링 선택 트랜지스터(SST1)는 제1 스트링 선택 라인들(SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3)에 의해 제어될 수 있으며, 제2 스트링 선택 트랜지스터(SST2)는 제2 스트링 선택 라인들(SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3)에 의해 제어될 수 있다. 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)은 복수의 워드 라인들(WL0-WLn)에 의해 각각 제어 될 수 있으며, 더미 셀 트랜지스터들(DMC)은 더미 워드 라인(DWL)에 의해 각각 제어될 수 있다. 접지 선택 트랜지스터(GST)는 접지 선택 라인들(GSL0, GSL1, GSL2)에 의해 제어될 수 있으며, 소거 제어 트랜지스터(ECT)는 소거 제어 라인(ECL)에 의해 제어될 수 있다. 소거 제어 트랜지스터(ECT)는 복수 개로 제공될 수 있다. 공통 소스 라인들(CSL)은 소거 제어 트랜지스터들(ECT)의 소스들에 공통으로 연결될 수 있다.According to an embodiment, the first string select transistor SST1 may be controlled by the first string select lines SSL1-1, SSL1-2, and SSL1-3, and the second string select transistor SST2 may be It can be controlled by 2 string select lines (SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3). The memory cell transistors MCT may be respectively controlled by a plurality of word lines WL0 - WLn, and the dummy cell transistors DMC may be respectively controlled by a dummy word line DWL. The ground select transistor GST may be controlled by the ground select lines GSL0 , GSL1 , and GSL2 , and the erase control transistor ECT may be controlled by the erase control line ECL. A plurality of erasure control transistors ECT may be provided. Common source lines CSL may be commonly connected to sources of erase control transistors ECT.
공통 소스 라인들(CSL)로부터 실질적으로 동일한 거리에 제공되는, 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)의 게이트 전극들은 워드 라인들(WL0-WLn, DWL) 중의 하나에 공통으로 연결되어 등전위 상태에 있을 수 있다. 그러나 이에 제한되거나 한정되지 않고, 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)의 게이트 전극들이 공통 소스 라인들(CSL)로부터 실질적으로 동일한 레벨에 제공되더라도, 서로 다른 행 또는 열에 제공되는 게이트 전극들이 독립적으로 제어될 수도 있다.Gate electrodes of the memory cell transistors MCT, which are provided at substantially the same distance from the common source lines CSL, may be connected in common to one of the word lines WL0 - WLn and DWL to be in an equipotential state. . However, without being limited thereto, even if the gate electrodes of the memory cell transistors MCT are provided at substantially the same level from the common source lines CSL, the gate electrodes provided in different rows or columns may be independently controlled. there is.
접지 선택 라인들(GSL0, GSL1, GSL2), 제1 스트링 선택 라인들(SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3) 및 제2 스트링 선택 라인들(SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3)은 제1 방향(D1)을 따라 연장되며, 제2 방향(D2)으로 서로 이격되며 2차원적으로 배열될 수 있다. 공통 소스라인들(CSL)로부터 실질적으로 동일한 레벨에 제공되는 접지 선택 라인들(GSL0, GSL1, GSL2), 제1 스트링 선택 라인들(SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3) 및 제2 스트링 선택 라인들(SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3)은 전기적으로 서로 분리될 수 있다. 또한, 서로 다른 셀 스트링들(CSTR)의 소거 제어 트랜지스터들(ECT)은 공통의 소거 제어 라인(ECL)에 의해 제어될 수 있다. 소거 제어 트랜지스터들(ECT)은 메모리 셀 어레이의 소거 동작 시 게이트 유도 드레인 누설(Gate Induced Drain Leakage; 이하 GIDL)을 발생시킬 수 있다. 일부 실시예들에서, 메모리 셀 어레이의 소거 동작시 비트 라인들(BL0, BL1, BL2) 및/또는 공통 소스 라인들(CSL)에 소거 전압이 인가될 수 있으며, 스트링 선택 트랜지스터(SST) 및/또는 소거 제어 트랜지스터들(ECT)에서 게이트 유도 누설 전류가 발생될 수 있다.Ground select lines (GSL0, GSL1, GSL2), first string select lines (SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3) and second string select lines (SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3) ) may extend along the first direction D1, be spaced apart from each other in the second direction D2, and be two-dimensionally arranged. ground selection lines GSL0, GSL1, and GSL2 provided at substantially the same level from the common source lines CSL, first string selection lines SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3, and a second string The selection lines SSL2-1, SSL2-2, and SSL2-3 may be electrically separated from each other. Also, erase control transistors ECT of different cell strings CSTR may be controlled by a common erase control line ECL. The erase control transistors ECT may generate gate induced drain leakage (GIDL) during an erase operation of the memory cell array. In some embodiments, an erase voltage may be applied to the bit lines BL0 , BL1 , and BL2 and/or the common source lines CSL during an erase operation of the memory cell array, and the string select transistor SST and/or Alternatively, gate induced leakage current may be generated in the erasure control transistors ECT.
이상 설명된 스트링 선택 라인(SSL)은 상부 선택 라인(USL)으로 표현될 수 있으며, 접지 선택 라인(GSL)은 하부 선택 라인으로 표현될 수도 있다.The above-described string selection line SSL may be expressed as an upper selection line USL, and the ground selection line GSL may be expressed as a lower selection line.
도 2는 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 평면도이고, 도 3은 도 2에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 2를 A-A'선으로 자른 단면에 해당된다.FIG. 2 is a plan view showing the structure of a 3D flash memory according to an exemplary embodiment, and FIG. 3 is a cross-sectional view showing the structure of the 3D flash memory shown in FIG. 2 , taken along line A-A'. pertains to the section.
도 2 및 도 3을 참조하면, 기판(SUB)은 실리콘 기판, 실리콘-게르마늄 기판, 게르마늄 기판 또는 단결정(Monocrystalline) 실리콘 기판에 성장된 단결정 에피택시얼 층(Epitaxial layer) 등의 반도체 기판일 수 있다. 기판(SUB)에는 제1 도전형 불순물(예컨대, P형의 불순물)이 도핑될 수 있다.Referring to FIGS. 2 and 3 , the substrate SUB may be a semiconductor substrate such as a silicon substrate, a silicon-germanium substrate, a germanium substrate, or a monocrystalline epitaxial layer grown on a monocrystalline silicon substrate. . The substrate SUB may be doped with first conductivity-type impurities (eg, P-type impurities).
기판(SUB) 상에는 적층 구조체들(ST)이 배치될 수 있다. 적층 구조체들(ST)은 제1 방향(D1)으로 연장 형성된 채 제2 방향(D2)을 따라 2차원적으로 배치될 수 있다. 또한, 적층 구조체들(ST)은 제2 방향(D2)으로 서로 이격될 수 있다.Stacked structures ST may be disposed on the substrate SUB. The stacked structures ST may be two-dimensionally disposed along the second direction D2 while extending in the first direction D1. In addition, the stacked structures ST may be spaced apart from each other in the second direction D2.
적층 구조체들(ST) 각각은 기판(SUB)의 상면에 수직한 수직 방향(예컨대 제3 방향(D3))으로 교대로 적층된 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3), 층간 절연막들(ILD)을 포함할 수 있다. 적층 구조체들(ST)은 실질적으로 평탄한 상면을 가질 수 있다. 즉, 적층 구조체들(ST)의 상면은 기판(SUB)의 상면과 평행할 수 있다. 이하, 수직 방향은 제3 방향(D3) 또는 제3 방향(D3)의 역방향을 의미한다.Each of the stacked structures ST includes gate electrodes EL1 , EL2 , and EL3 alternately stacked in a vertical direction perpendicular to the upper surface of the substrate SUB (eg, in the third direction D3 ), and interlayer insulating films ILD. can include The stacked structures ST may have substantially flat upper surfaces. That is, top surfaces of the stacked structures ST may be parallel to the top surface of the substrate SUB. Hereinafter, the vertical direction means the third direction D3 or a direction opposite to the third direction D3.
다시 도 1을 참조하면, 각각의 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3)은 기판(SUB) 상에 차례로 적층된 소거 제어 라인(ECL), 접지 선택 라인들(GSL0, GSL1, GSL2), 워드 라인들(WL0-WLn, DWL), 제1 스트링 선택 라인들(SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3) 및 제2 스트링 선택 라인들(SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3) 중 하나일 수 있다.Referring back to FIG. 1 , each of the gate electrodes EL1 , EL2 , and EL3 includes an erase control line ECL, ground select lines GSL0 , GSL1 , and GSL2 sequentially stacked on the substrate SUB, and a word line. (WL0-WLn, DWL), one of the first string selection lines (SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3) and the second string selection lines (SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3) can be
게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 각각은 제1 방향(D1)으로 연장 형성된 채 실질적으로 동일한 제3 방향(D3)으로의 두께를 가질 수 있다. 이하에서, 두께는 제3 방향(D3)으로의 두께를 의미한다. 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 각각은, 도전성 물질로 형성될 수 있다. 예컨대, 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 각각은 도핑된 반도체(ex, 도핑된 실리콘 등), 금속(ex, W(텅스텐), Cu(구리), Al(알루미늄), Ti(티타늄), Ta(탄탈륨), Mo(몰리브덴), Ru(루테늄), Au(금) 등) 또는 도전성 금속질화물(ex, 질화티타늄, 질화탄탈늄 등) 등에서 선택된 적어도 하나를 포함할 수 있다. 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 각각은 설명된 금속 물질 이외에도 ALD로 형성 가능한 모든 금속 물질 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.Each of the gate electrodes EL1 , EL2 , and EL3 may have substantially the same thickness in the third direction D3 while extending in the first direction D1 . Hereinafter, the thickness means the thickness in the third direction D3. Each of the gate electrodes EL1 , EL2 , and EL3 may be formed of a conductive material. For example, each of the gate electrodes EL1 , EL2 , EL3 may be a doped semiconductor (ex, doped silicon, etc.), a metal (ex, W (tungsten), Cu (copper), Al (aluminum), Ti (titanium), It may include at least one selected from Ta (tantalum), Mo (molybdenum), Ru (ruthenium), Au (gold), etc.) or conductive metal nitride (ex, titanium nitride, tantalum nitride, etc.). Each of the gate electrodes EL1 , EL2 , and EL3 may include at least one of all metal materials that can be formed by ALD in addition to the metal material described above.
보다 구체적으로, 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3)은 최하부의 제1 게이트 전극(EL1), 최상부의 제3 게이트 전극(EL3) 및 제1 게이트 전극(EL1)과 제3 게이트 전극(EL3) 사이의 복수의 제2 게이트 전극들(EL2)을 포함할 수 있다. 제1 게이트 전극(EL1) 및 제3 게이트 전극(EL3)은 각각 단수로 도시 및 설명되었으나, 이는 예시적인 것으로 이에 제한되지 않으며, 필요에 따라 제1 게이트 전극(EL1) 및 제3 게이트 전극(EL3)은 복수로 제공될 수도 있다. 제1 게이트 전극(EL1)은 도 1에 도시된 접지 선택 라인들(GSL0, GSL1, GLS2) 중 어느 하나에 해당될 수 있다. 제2 게이트 전극(EL2)은 도 1에 도시된 워드 라인들(WL0-WLn, DWL) 중 어느 하나에 해당될 수 있다. 제3 게이트 전극(EL3)은 도 1에 도시된 도 1의 제1 스트링 선택 라인들(SSL1-1, SSL1-2, SSL1-3) 중 어느 하나 또는 제2 스트링 선택 라인들(SSL2-1, SSL2-2, SSL2-3) 중 어느 하나에 해당될 수 있다.More specifically, the gate electrodes EL1 , EL2 , and EL3 include a lowermost first gate electrode EL1 , an uppermost third gate electrode EL3 , and the first and third gate electrodes EL1 and EL3 . A plurality of second gate electrodes EL2 may be included therebetween. Although each of the first gate electrode EL1 and the third gate electrode EL3 is shown and described in the singular number, this is exemplary and not limited thereto, and the first gate electrode EL1 and the third gate electrode EL3 may be used as necessary. may be provided in plural. The first gate electrode EL1 may correspond to one of the ground selection lines GSL0 , GSL1 , and GLS2 shown in FIG. 1 . The second gate electrode EL2 may correspond to one of the word lines WL0 - WLn and DWL shown in FIG. 1 . The third gate electrode EL3 includes any one of the first string select lines SSL1-1, SSL1-2 and SSL1-3 of FIG. 1 shown in FIG. 1 or the second string select lines SSL2-1 and SSL2-1. SSL2-2, SSL2-3) may correspond to any one.
도시되지 않았으나, 적층 구조체들(ST) 각각의 단부는 제1 방향(D1)을 따라 계단 구조(Stepwise structure)를 가질 수 있다. 보다 구체적으로, 적층 구조체들(ST)의 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3)은 기판(SUB)으로부터 멀어질수록 제1 방향(D1)으로의 길이가 감소할 수 있다. 제3 게이트 전극(EL3)은 제1 방향(D1)으로의 길이가 가장 작을 수 있고, 기판(SUB)과 제3 방향(D3)으로 이격되는 거리가 가장 클 수 있다. 제1 게이트 전극(EL1)은 제1 방향(D1)으로의 길이가 가장 클 수 있고, 기판(SUB)과 제3 방향(D3)으로 이격되는 거리가 가장 작을 수 있다. 계단식 구조에 의해, 적층 구조체들(ST) 각각은 후술하는 수직 채널 구조체들(VS) 중 최외각의 것(Outer-most one)으로부터 멀어질수록 두께가 감소할 수 있고, 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3)의 측벽들은, 평면적 관점에서, 제1 방향(D1)을 따라 일정 간격으로 이격될 수 있다.Although not shown, an end of each of the stacked structures ST may have a stepwise structure along the first direction D1. More specifically, the lengths of the gate electrodes EL1 , EL2 , and EL3 of the stack structures ST in the first direction D1 may decrease as the distance from the substrate SUB increases. The third gate electrode EL3 may have the smallest length in the first direction D1 and the largest distance from the substrate SUB in the third direction D3. The first gate electrode EL1 may have the longest length in the first direction D1 and the shortest distance from the substrate SUB in the third direction D3. Due to the stepped structure, the thickness of each of the stacked structures ST may decrease as the distance from the outermost one of the vertical channel structures VS described later increases, and the gate electrodes EL1, Sidewalls of EL2 and EL3 may be spaced apart at regular intervals along the first direction D1 when viewed in plan.
층간 절연막들(ILD) 각각은 서로 다른 두께를 가질 수 있다. 일 예로, 층간 절연막들(ILD) 중 최하부의 것 및 최상부의 것은 다른 층간 절연막들(ILD)보다 작은 두께를 가질 수 있다. 다만, 이는 예시적인 것으로 이에 제한되지 않으며, 층간 절연막들(ILD) 각각의 두께는 반도체 장치의 특성에 따라 서로 다른 두께를 갖거나, 모두 동일하게 설정될 수도 있다. 층간 절연막들(ILD)으로는 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 사이의 절연을 위해 절연 물질로 형성될 수 있다. 일 예로, 층간 절연막들(ILD)은 실리콘 산화물로 형성될 수 있다.Each of the interlayer insulating layers ILD may have different thicknesses. For example, the lowermost and uppermost interlayer insulating layers ILD may have a smaller thickness than other interlayer insulating layers ILD. However, this is illustrative and not limited thereto, and the thickness of each of the interlayer insulating layers ILD may be different from each other according to the characteristics of the semiconductor device or all may be set to be the same. The interlayer insulating layers ILD may be formed of an insulating material to insulate between the gate electrodes EL1 , EL2 , and EL3 . For example, the interlayer insulating layers ILD may be formed of silicon oxide.
적층 구조체들(ST) 및 기판(SUB)의 일부를 관통하는 복수 개의 채널 홀들(CH)이 제공될 수 있다. 채널 홀들(CH) 내에는 수직 채널 구조체들(VS)이 제공될 수 있다. 수직 채널 구조체들(VS)은 도 1에 도시된 복수의 셀 스트링들(CSTR)로서, 기판(SUB)과 연결된 채 제3 방향(D3)으로 연장 형성될 수 있다. 수직 채널 구조체들(VS)이 기판(SUB)과 연결되는 것은, 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 일부가 하면이 기판(SUB)의 상면과 맞닿음으로써 이루어질 수 있으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 기판(SUB) 내부에 매립되어 이루어질 수도 있다. 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 일부가 기판(SUB) 내부에 매립되는 경우, 수직 채널 구조체들(VS)의 하면은 기판(SUB)의 상면보다 낮은 레벨에 위치할 수 있다.A plurality of channel holes CH penetrating portions of the stacked structures ST and the substrate SUB may be provided. Vertical channel structures VS may be provided in the channel holes CH. The vertical channel structures VS are the plurality of cell strings CSTR shown in FIG. 1 , and may extend in the third direction D3 while being connected to the substrate SUB. The connection of the vertical channel structures VS with the substrate SUB may be achieved by contacting the lower surface of each of the vertical channel structures VS with the upper surface of the substrate SUB, but is not limited or limited thereto. It may be formed by being embedded in the substrate SUB. When portions of each of the vertical channel structures VS are buried in the substrate SUB, lower surfaces of the vertical channel structures VS may be positioned at a lower level than the upper surface of the substrate SUB.
적층 구조체들(ST) 중 어느 하나를 관통하는 수직 채널 구조체들(VS)의 열들은 복수로 제공될 수 있다. 예를 들어, 도 2에 도시된 바와 같이, 3개의 수직 채널 구조체들(VS)의 열들이 적층 구조체들(ST) 중 하나를 관통할 수 있다. 그러나 이에 제한되거나 한정되지 않고, 2개의 수직 채널 구조체들(VS)의 열들이 적층 구조체들(ST) 중 하나를 관통하거나, 4개 이상의 수직 채널 구조체들(VS)의 열들이 적층 구조체들(ST) 중 하나를 관통할 수 있다. 인접한 한 쌍의 열들에 있어서, 하나의 열에 해당하는 수직 채널 구조체들(VS)은 이에 인접한 다른 하나의 열에 해당하는 수직 채널 구조체들(VS)로부터 제1 방향(D1)으로 시프트(shift)될 수 있다. 평면적 관점에서, 수직 채널 구조체들(VS)은 제1 방향(D1)을 따라서 지그재그 형태로 배열될 수 있다. 그러나 이에 제한되거나 한정되지 않고, 수직 채널 구조체들(VS)은 로우(Row) 및 컬럼(Column)으로 나란히 배치되는 배열을 형성할 수도 있다.A plurality of columns of vertical channel structures VS passing through any one of the stacked structures ST may be provided. For example, as shown in FIG. 2 , columns of three vertical channel structures VS may pass through one of the stacked structures ST. However, it is not limited or limited thereto, and two columns of vertical channel structures VS pass through one of the stacked structures ST, or four or more columns of vertical channel structures VS pass through the stacked structures ST. ) can penetrate one of them. In a pair of adjacent columns, the vertical channel structures VS corresponding to one column may be shifted in the first direction D1 from the vertical channel structures VS corresponding to the other adjacent column. there is. When viewed from a plan view, the vertical channel structures VS may be arranged in a zigzag shape along the first direction D1. However, without being limited thereto, the vertical channel structures VS may form an array arranged side by side in rows and columns.
특히, 수직 채널 구조체들(VS)은 적어도 2개 이상이 한 쌍을 이루며 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 통해 수평 평면 상에서 서로 연결됨으로써, 도면에 도시된 바와 같이 피넛(Peanut) 형상을 이룰 수 있다.In particular, at least two or more vertical channel structures VS form a pair and are connected to each other on a horizontal plane through at least one vertical connection pattern VP, thereby forming a peanut shape as shown in the drawing. can
수직 채널 구조체들(VS) 각각은 기판(SUB)으로부터 제3 방향(D3)으로 연장 형성될 수 있다. 도면에는 수직 채널 구조체들(VS) 각각이 상단과 하단의 너비가 동일한 기둥 형상을 갖는 것으로 도시되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 제3 방향(D3)으로 갈수록 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)으로의 폭이 증가되는 형상을 가질 수 있다. 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 상면은 원 형상, 타원 형상, 사각 형상 또는 바(Bar) 형상을 가질 수 있다.Each of the vertical channel structures VS may extend from the substrate SUB in the third direction D3. In the drawing, each of the vertical channel structures VS is shown as having a column shape having the same width at the top and bottom, but is not limited thereto, and is not limited thereto. It may have a shape in which the width to (D2) is increased. The upper surface of each of the vertical channel structures VS may have a circular shape, an elliptical shape, a rectangular shape, or a bar shape.
수직 채널 구조체들(VS) 각각은 데이터 저장 패턴(DSP), 수직 채널 패턴(VCP), 수직 반도체 패턴(VSP) 및 도전 패드(PAD)를 포함할 수 있다. 수직 채널 구조체들(VS) 각각에서 데이터 저장 패턴(DSP)은 하단이 오픈된(Opened) 파이프 형태 또는 마카로니 형태를 가질 수 있고, 수직 채널 패턴(VCP)은 하단이 닫힌(Closed) 파이프 형태 또는 마카로니 형태를 가질 수 있다. 수직 반도체 패턴(VSP)은 수직 채널 패턴(VCP) 및 도전 패드(PAD)로 둘러싸인 공간을 채울 수 있다.Each of the vertical channel structures VS may include a data storage pattern DSP, a vertical channel pattern VCP, a vertical semiconductor pattern VSP, and a conductive pad PAD. In each of the vertical channel structures VS, the data storage pattern DSP may have a pipe shape or macaroni shape with an open bottom, and the vertical channel pattern VCP may have a pipe shape or macaroni shape with a closed bottom. can have a shape. The vertical semiconductor pattern VSP may fill a space surrounded by the vertical channel pattern VCP and the conductive pad PAD.
데이터 저장 패턴(DSP)은 채널 홀들(CH) 각각의 내측벽을 덮은 채, 내측으로는 수직 채널 패턴(VCP)의 외측벽을 둘러싸며 외측으로는 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3)의 측벽들과 접촉할 수 있다. 이에, 데이터 저장 패턴(DSP) 중 제2 게이트 전극들(EL2)에 대응하는 영역들은 수직 채널 패턴(VCP) 중 제2 게이트 전극들(EL2)에 대응하는 영역들과 함께, 제2 게이트 전극들(EL2)을 통해 인가되는 전압에 의해 메모리 동작(프로그램 동작, 판독 동작 또는 소거 동작)이 수행되는 메모리 셀들을 구성할 수 있다. 메모리 셀들은 도 1에 도시된 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)에 해당된다. 즉, 데이터 저장 패턴(DSP)은 제2 게이트 전극들(EL2)을 통해 인가되는 전압에 의한 전하 또는 홀을 트랩하거나, 전하들의 상태(예컨대, 전하들의 분극 상태)를 유지함으로써 3차원 플래시 메모리에서 데이터 저장소의 역할을 할 수 있다. 예를 들어, 데이터 저장 패턴(DSP)으로는 ONO(터널 산화막(Oxide)-전하 저장막(Nitride)-블로킹 산화막(Oxide))층 또는 강유전체층이 사용될 수 있다. 이와 같은 데이터 저장 패턴(DSP)은 트랩된 전하 또는 홀의 변화로 이진 데이터 값 또는 다치화된 데이터 값을 나타내거나, 전하들의 상태 변화로 이진 데이터 값 또는 다치화된 데이터 값을 나타낼 수 있다.The data storage pattern DSP covers the inner walls of each of the channel holes CH, innerly surrounds the outer walls of the vertical channel pattern VCP, and outerly surrounds the sidewalls of the gate electrodes EL1, EL2, and EL3. can come into contact with Accordingly, the regions corresponding to the second gate electrodes EL2 of the data storage pattern DSP are the second gate electrodes along with the regions corresponding to the second gate electrodes EL2 of the vertical channel pattern VCP. Memory cells in which a memory operation (program operation, read operation, or erase operation) is performed by a voltage applied through EL2 may be configured. The memory cells correspond to the memory cell transistors MCT shown in FIG. 1 . That is, the data storage pattern DSP traps charges or holes by a voltage applied through the second gate electrodes EL2 or maintains a state of charges (eg, a polarization state of charges) in a 3D flash memory. It can act as a data repository. For example, an ONO (tunnel oxide-charge storage layer (Nitride)-blocking oxide layer) layer or a ferroelectric layer may be used as the data storage pattern DSP. Such a data storage pattern DSP may represent binary data values or multi-valued data values with changes in trapped charges or holes, or represent binary data values or multi-valued data values with changes in states of charges.
수직 채널 패턴(VCP)은 데이터 저장 패턴(DSP)의 내측벽을 덮을 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)은 제1 부분(VCP1) 및 제1 부분(VCP1) 상의 제2 부분(VCP2)을 포함할 수 있다.The vertical channel pattern VCP may cover an inner wall of the data storage pattern DSP. The vertical channel pattern VCP may include a first portion VCP1 and a second portion VCP2 on the first portion VCP1.
수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)은 채널 홀들(CH) 각각의 하부에 제공될 수 있고, 기판(SUB)과 접촉할 수 있다. 이러한 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)은 수직 채널 구조체들(VS) 각각에서의 누설 전류를 차단, 억제 또는 최소화하는 용도 및/또는 에피택시얼 패턴의 용도로 사용될 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)의 두께는, 예를 들어, 제1 게이트 전극(EL1)의 두께보다 클 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)의 측벽은 데이터 저장 패턴(DSP)으로 둘러싸일 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)의 상면은 제1 게이트 전극(EL1)의 상면보다 높은 레벨에 위치할 수 있다. 보다 구체적으로, 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)의 상면은 제1 게이트 전극(EL1)의 상면과 제2 게이트 전극들(EL2) 중 최하부의 것의 하면 사이에 위치할 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)의 하면은 기판(SUB)의 최상면(즉, 층간 절연막들(ILD) 중 최하부의 것의 하면)보다 낮은 레벨에 위치할 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)의 일부는 제1 게이트 전극(EL1)과 수평 방향으로 중첩될 수 있다. 이하에서, 수평 방향은 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)과 나란한 평면 상에서 연장되는 임의의 방향을 의미한다.The first portion VCP1 of the vertical channel pattern VCP may be provided under each of the channel holes CH and may contact the substrate SUB. The first portion VCP1 of the vertical channel pattern VCP may be used to block, suppress, or minimize leakage current in each of the vertical channel structures VS and/or to form an epitaxial pattern. A thickness of the first portion VCP1 of the vertical channel pattern VCP may be greater than, for example, a thickness of the first gate electrode EL1. A sidewall of the first part VCP1 of the vertical channel pattern VCP may be surrounded by the data storage pattern DSP. A top surface of the first portion VCP1 of the vertical channel pattern VCP may be positioned at a higher level than a top surface of the first gate electrode EL1. More specifically, the top surface of the first part VCP1 of the vertical channel pattern VCP may be positioned between the top surface of the first gate electrode EL1 and the bottom surface of the lowermost one of the second gate electrodes EL2. A lower surface of the first portion VCP1 of the vertical channel pattern VCP may be positioned at a lower level than an uppermost surface of the substrate SUB (ie, a lower surface of a lowermost one of the interlayer insulating layers ILD). A portion of the first portion VCP1 of the vertical channel pattern VCP may overlap the first gate electrode EL1 in a horizontal direction. Hereinafter, the horizontal direction refers to an arbitrary direction extending on a plane parallel to the first and second directions D1 and D2.
수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)은 제1 부분(VCP1)의 상면으로부터 제3 방향(D3)으로 연장될 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)은 데이터 저장 패턴(DSP)과 수직 반도체 패턴(VSP) 사이에 제공될 수 있으며, 제2 게이트 전극들(EL2)에 대응될 수 있다. 이에, 수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)은 전술된 바와 같이 데이터 저장 패턴(DSP) 중 제2 게이트 전극들(EL2)에 대응하는 영역들과 함께, 메모리 셀들을 구성할 수 있다.The second portion VCP2 of the vertical channel pattern VCP may extend in the third direction D3 from the upper surface of the first portion VCP1. The second portion VCP2 of the vertical channel pattern VCP may be provided between the data storage pattern DSP and the vertical semiconductor pattern VSP, and may correspond to the second gate electrodes EL2. Accordingly, the second portion VCP2 of the vertical channel pattern VCP may form memory cells together with regions corresponding to the second gate electrodes EL2 of the data storage pattern DSP, as described above. .
수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)의 상면은 수직 반도체 패턴(VSP)의 상면과 실질적으로 공면을 이룰 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)의 상면은 제2 게이트 전극들(EL2) 중 최상부의 것의 상면보다 높은 레벨에 위치할 수 있다. 보다 구체적으로, 수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)의 상면은 제3 게이트 전극(EL3)의 상면과 하면 사이에 위치할 수 있다.A top surface of the second part VCP2 of the vertical channel pattern VCP may be substantially coplanar with a top surface of the vertical semiconductor pattern VSP. A top surface of the second part VCP2 of the vertical channel pattern VCP may be positioned at a level higher than a top surface of an uppermost one of the second gate electrodes EL2 . More specifically, the upper surface of the second portion VCP2 of the vertical channel pattern VCP may be positioned between the upper and lower surfaces of the third gate electrode EL3 .
수직 채널 패턴(VCP)은 데이터 저장 패턴(DSP)으로 전하 또는 홀을 전달하는 구성요소로서, 인가되는 전압에 의해 채널을 형성하거나 부스팅되도록 단결정질의 실리콘 또는 폴리 실리콘으로 형성될 수 있다. 그러나 이에 제한되거나 한정되지 않고 수직 채널 패턴(VCP)은 누설 전류를 차단, 억제 또는 최소화할 수 있는 산화물 반도체 물질로 형성될 수 있다. 예컨대, 수직 채널 패턴(VCP)은 누설 전류 특성이 우수한 In, Zn 또는 Ga 중 적어도 어느 하나를 포함하는 산화물 반도체 물질 또는 4족 반도체 물질 등으로 형성될 수 있다. 수직 채널 패턴(VCP)은, 예를 들어, AZO, ZTO, IZO, ITO, IGZO 또는 Ag-ZnO 등을 포함하는 ZnOx 계열의 물질로 형성될 수 있다. 따라서, 수직 채널 패턴(VCP)은 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 또는 기판(SUB)으로의 누설 전류를 차단, 억제 또는 최소화할 수 있고, 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 중 적어도 어느 하나의 트랜지스터 특성(예를 들어, 문턱 전압 산포 및 프로그램/판독 동작의 속도)을 개선할 수 있어, 결과적으로 3차원 플래시 메모리의 전기적 특성을 향상시킬 수 있다.The vertical channel pattern VCP is a component that transfers charges or holes to the data storage pattern DSP, and may be formed of monocrystalline silicon or polysilicon to form a channel or to be boosted by an applied voltage. However, without being limited thereto, the vertical channel pattern VCP may be formed of an oxide semiconductor material capable of blocking, suppressing, or minimizing leakage current. For example, the vertical channel pattern VCP may be formed of an oxide semiconductor material including at least one of In, Zn, and Ga having excellent leakage current characteristics, or a Group 4 semiconductor material. The vertical channel pattern VCP may be formed of, for example, a ZnOx-based material including AZO, ZTO, IZO, ITO, IGZO, or Ag-ZnO. Accordingly, the vertical channel pattern VCP may block, suppress, or minimize leakage current to the gate electrodes EL1 , EL2 , and EL3 or the substrate SUB, and at least one of the gate electrodes EL1 , EL2 , and EL3 Any one transistor characteristic (eg, threshold voltage distribution and program/read speed) may be improved, and consequently, electrical characteristics of the 3D flash memory may be improved.
수직 반도체 패턴(VSP)은 수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)으로 둘러싸일 수 있다. 수직 반도체 패턴(VSP)의 상면은 도전 패드(PAD)와 접촉할 수 있고, 수직 반도체 패턴(VSP)의 하면은 수직 채널 패턴(VCP)의 제1 부분(VCP1)과 접촉할 수 있다. 수직 반도체 패턴(VSP)은 기판(SUB)과 제3 방향(D3)으로 이격될 수 있다. 다시 말하면, 수직 반도체 패턴(VSP)은 기판(SUB)으로부터 전기적으로 플로팅될 수 있다.The vertical semiconductor pattern VSP may be surrounded by the second portion VCP2 of the vertical channel pattern VCP. An upper surface of the vertical semiconductor pattern VSP may contact the conductive pad PAD, and a lower surface of the vertical semiconductor pattern VSP may contact the first portion VCP1 of the vertical channel pattern VCP. The vertical semiconductor pattern VSP may be spaced apart from the substrate SUB in the third direction D3. In other words, the vertical semiconductor pattern VSP may be electrically floated from the substrate SUB.
수직 반도체 패턴(VSP)은 수직 채널 패턴(VCP)에서의 전하 또는 홀의 확산을 돕는 물질로 형성될 수 있다. 보다 상세하게, 수직 반도체 패턴(VSP)은 전하, 홀 이동도(Hole mobility)가 우수한 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 수직 반도체 패턴(VSP)은 불순물이 도핑된 반도체 물질, 불순물이 도핑되지 않은 상태의 진성 반도체(Intrinsic semiconductor) 물질 또는 다결정(Polycrystalline) 반도체 물질로 형성될 수 있다. 보다 구체적인 예를 들면, 수직 반도체 패턴(VSP)은 기판(SUB)과 동일한 제1 도전형 불순물(예컨대, P형의 불순물)이 도핑된 폴리 실리콘으로 형성될 수 있다. 즉, 수직 반도체 패턴(VSP)은 3차원 플래시 메모리의 전기적 특성을 개선시켜 메모리 동작의 속도를 향상시킬 수 있다.The vertical semiconductor pattern VSP may be formed of a material that helps diffusion of charges or holes in the vertical channel pattern VCP. More specifically, the vertical semiconductor pattern VSP may be formed of a material having excellent charge and hole mobility. For example, the vertical semiconductor pattern VSP may be formed of a semiconductor material doped with impurities, an intrinsic semiconductor material not doped with impurities, or a polycrystalline semiconductor material. For a more specific example, the vertical semiconductor pattern VSP may be formed of polysilicon doped with impurities of the same first conductivity type as the substrate SUB (eg, P-type impurities). That is, the vertical semiconductor pattern VSP can improve the electrical characteristics of the 3D flash memory to increase the speed of memory operation.
다시 도 1을 참조하면, 수직 채널 구조체들(VS)은 소거 제어 트랜지스터(ECT), 제1 및 제2 스트링 선택 트랜지스터들(SST1, SST2) 및 접지 선택 트랜지스터(GST) 및 메모리 셀 트랜지스터들(MCT)의 채널들에 해당할 수 있다.Referring back to FIG. 1 , the vertical channel structures VS include an erase control transistor ECT, first and second string select transistors SST1 and SST2 , a ground select transistor GST, and memory cell transistors MCT. ) may correspond to channels of
수직 채널 패턴(VCP)의 제2 부분(VCP2)의 상면 및 수직 반도체 패턴(VSP)의 상면 상에 도전 패드(PAD)가 제공될 수 있다. 도전 패드(PAD)는 수직 채널 패턴(VCP)의 상부 및 수직 반도체 패턴(VSP)의 상부와 연결될 수 있다. 도전 패드(PAD)의 측벽은 데이터 저장 패턴(DSP)으로 둘러싸일 수 있다. 도전 패드(PAD)의 상면은 적층 구조체들(ST) 각각의 상면(즉, 층간 절연막들(ILD) 중 최상부의 것의 상면)과 실질적으로 공면을 이룰 수 있다. 도전 패드(PAD)의 하면은 제3 게이트 전극(EL3)의 상면보다 낮은 레벨에 위치할 수 있다. 보다 구체적으로, 도전 패드(PAD)의 하면은 제3 게이트 전극(EL3)의 상면과 하면 사이에 위치할 수 있다. 즉, 도전 패드(PAD)의 적어도 일부는 제3 게이트 전극(EL3)과 수평 방향으로 중첩될 수 있다.Conductive pads PAD may be provided on top surfaces of the second portion VCP2 of the vertical channel pattern VCP and on top surfaces of the vertical semiconductor pattern VSP. The conductive pad PAD may be connected to an upper portion of the vertical channel pattern VCP and an upper portion of the vertical semiconductor pattern VSP. A sidewall of the conductive pad PAD may be surrounded by the data storage pattern DSP. A top surface of the conductive pad PAD may be substantially coplanar with a top surface of each of the stack structures ST (ie, a top surface of an uppermost one of the interlayer insulating layers ILD). A lower surface of the conductive pad PAD may be positioned at a lower level than an upper surface of the third gate electrode EL3 . More specifically, the lower surface of the conductive pad PAD may be positioned between the upper and lower surfaces of the third gate electrode EL3 . That is, at least a portion of the conductive pad PAD may overlap the third gate electrode EL3 in a horizontal direction.
도전 패드(PAD)는 불순물이 도핑된 반도체 또는 도전성 물질로 형성될 수 있다. 예를 들어, 도전 패드(PAD)는 수직 반도체 패턴(VSP)과 다른 불순물(보다 정확하게 제1 도전형(예컨대, P형)과 다른 제2 도전형(예컨대, N형)의 불순물)이 도핑된 반도체 물질로 형성될 수 있다.The conductive pad PAD may be formed of a semiconductor doped with impurities or a conductive material. For example, the conductive pad PAD is doped with an impurity different from that of the vertical semiconductor pattern VSP (more precisely, an impurity of a second conductivity type (eg, N-type) different from the first conductivity type (eg, P-type)). It may be formed of a semiconductor material.
도전 패드(PAD)는 후술하는 비트 라인(BL)과 수직 채널 패턴(VCP)(또는 수직 반도체 패턴(VSP)) 사이의 접촉 저항을 줄일 수 있다.The conductive pad PAD may reduce contact resistance between the bit line BL and the vertical channel pattern VCP (or vertical semiconductor pattern VSP), which will be described later.
이상, 수직 채널 구조체들(VS)이 도전 패드(PAD)를 포함하는 구조인 것으로 설명되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 도전 패드(PAD)를 생략한 구조를 가질 수도 있다. 이러한 경우, 수직 채널 구조체들(VS)에서 도전 패드(PAD)가 생략됨에 따라, 수직 채널 패턴(VCP) 및 수직 반도체 패턴(VSP) 각각의 상면이 적층 구조체들(ST) 각각의 상면(즉, 층간 절연막들(ILD) 중 최상부의 것의 상면)과 실질적으로 공면을 이루도록 수직 채널 패턴(VCP) 및 수직 반도체 패턴(VSP) 각각이 제3 방향(D3)으로 연장 형성될 수 있다. 또한, 이러한 경우, 후술되는 비트 라인 콘택 플러그(BLPG)는, 도전 패드(PAD)를 통해 수직 채널 패턴(VCP)과 간접적으로 전기적으로 연결되는 대신에, 수직 채널 패턴(VCP)과 직접적으로 접촉하며 전기적으로 연결될 수 있다.Although the vertical channel structures VS have been described as having a structure including the conductive pad PAD, it is not limited thereto and may have a structure in which the conductive pad PAD is omitted. In this case, as the conductive pad PAD is omitted from the vertical channel structures VS, the upper surfaces of each of the vertical channel pattern VCP and the vertical semiconductor pattern VSP are the upper surfaces of each of the stacked structures ST (ie, Each of the vertical channel pattern VCP and the vertical semiconductor pattern VSP may extend in the third direction D3 so as to be substantially coplanar with the top surface of the uppermost one of the interlayer insulating layers ILD. Also, in this case, the bit line contact plug BLPG, which will be described later, directly contacts the vertical channel pattern VCP instead of being indirectly electrically connected to the vertical channel pattern VCP through the conductive pad PAD. can be electrically connected.
또한, 이상 수직 채널 구조체들(VS)에 수직 반도체 패턴(VSP)이 포함되는 것으로 설명되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 수직 반도체 패턴(VSP)이 생략될 수도 있다.Also, although it has been described that the vertical channel structures VS include the vertical semiconductor pattern VSP, the vertical semiconductor pattern VSP may be omitted without being limited or limited thereto.
또한, 이상 수직 채널 패턴(VCP)가 제1 부분(VCP1) 및 제2 부분(VCP2)을 포함하는 구조인 것으로 설명되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 제1 부분(VCP1)이 배제된 구조를 가질 수 있다. 예를 들어, 수직 채널 패턴(VCP)은 기판(SUB)까지 연장 형성된 수직 반도체 패턴(VSP) 및 데이터 저장 패턴(DSP) 사이에 제공되며 기판(SUB)과 접촉하도록 기판(SUB)까지 연장 형성될 수 있다. 이러한 경우 수직 채널 패턴(VCP)의 하면은 기판(SUB)의 최상면(층간 절연막들(ILD) 중 최하부의 것의 하면)보다 낮은 레벨에 위치할 수 있으며, 수직 채널 패턴(VCP)의 상면은 수직 반도체 패턴(VSP)의 상면과 실질적으로 공면을 이룰 수 있다.In addition, although the vertical channel pattern VCP has been described as having a structure including the first part VCP1 and the second part VCP2, it is not limited thereto and may have a structure excluding the first part VCP1. can For example, the vertical channel pattern VCP is provided between the vertical semiconductor pattern VSP and the data storage pattern DSP and extends to the substrate SUB to contact the substrate SUB. can In this case, the lower surface of the vertical channel pattern VCP may be positioned at a lower level than the uppermost surface of the substrate SUB (the lower surface of the lowermost one of the interlayer insulating films ILD), and the upper surface of the vertical channel pattern VCP may be located at a level lower than that of the upper surface of the substrate SUB. A top surface of the pattern VSP may be substantially coplanar.
적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)은 수직 채널 구조체들(VS)을 수평 평면 상에서 서로 연결시키며 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 연장 형성될 수 있다. 이하, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS)을 수평 평면 상에서 서로 연결시킨다는 것은, 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 측면들 전체를 서로 연결시키는 것을 의미한다.At least one vertical connection pattern VP connects the vertical channel structures VS to each other on a horizontal plane and may extend in a vertical direction (eg, the third direction D3). Hereinafter, when at least one vertical connection pattern VP connects the vertical channel structures VS to each other on a horizontal plane, it means to connect entire side surfaces of each of the vertical channel structures VS to each other.
이 때, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)은 수직 채널 구조체들(VS)과 동일한 공정을 통해 동시에 형성될 수 있다. 보다 상세하게, 수직 채널 구조체들(VS)의 데이터 저장 패턴(DSP)이 형성되는 공정을 통해 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 동시에 형성될 수 있다. 이에, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)은 데이터 저장 패턴(DSP)만으로 형성될 수 있다. 예컨대, 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 데이터 저장 패턴(DSP)이 ONO층으로 구현되는 경우, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)은 ONO층 중 전하 저장막(Nitride) 및 블로킹 산화막(Oxide)으로 형성될 수 있다.In this case, at least one vertical connection pattern VP may be simultaneously formed through the same process as the vertical channel structures VS. More specifically, at least one vertical connection pattern VP may be simultaneously formed through a process of forming the data storage pattern DSP of the vertical channel structures VS. Accordingly, at least one vertical connection pattern VP may be formed only of the data storage pattern DSP. For example, when the data storage pattern (DSP) of each of the vertical channel structures (VS) is implemented as an ONO layer, at least one vertical connection pattern (VP) includes a charge storage layer (Nitride) and a blocking oxide layer (Oxide) of the ONO layer. can be formed as
또한, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)은 후술되는 채널 홀들(CH)로 식각용 가스를 원활히 유입시키는 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)의 최소 제한 크기보다 큰 조건 아래, 수평 평면 상 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 크기(L1)보다 작은 크기(L2)로 형성됨으로써, 3차원 플래시 메모리 내에서 차지하는 면적이 최소화될 수 있다.In addition, the at least one vertical connection pattern VP is a vertical channel on a horizontal plane under the condition that the size of the at least one vertical connection trench VT is larger than the minimum limit size of the at least one vertical connection trench VT that smoothly flows the etching gas into the channel holes CH, which will be described later. Since each of the structures VS is formed to have a smaller size L2 than the size L1, the area occupied within the 3D flash memory can be minimized.
또한, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 형성되는 크기(L1)는, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)에 의해 서로 연결되는 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 채널이 서로 연결되지 않도록 하는 조건을 만족시키는 값으로 결정될 수 있다. 즉, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)은 데이터 저장 패턴(DSP)만으로 형성되는 조건을 만족시키는 크기(L1)로 형성될 수 있다. 예컨대, 데이터 저장 패턴(DSP)으로 ONO층이 사용되는 경우, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)은 ONO층만으로 형성될 수 있도록 16nm 두께의 ONO층이 양쪽 내측벽에 증착될 수 있는 35nm 내의 크기(L1)로 형성될 수 있다.In addition, the size L1 at which the at least one vertical connection pattern VP is formed is such that each channel of the vertical channel structures VS connected to each other by the at least one vertical connection pattern VP is not connected to each other. It can be determined as a value that satisfies the condition. That is, at least one vertical connection pattern VP may be formed to a size L1 that satisfies a condition of being formed only of the data storage pattern DSP. For example, when an ONO layer is used as a data storage pattern (DSP), at least one vertical connection pattern (VP) has a size within 35 nm in which a 16 nm thick ONO layer can be deposited on both inner walls so that only the ONO layer can be formed. (L1).
이처럼 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)가 작은 크기(L1)로 형성됨에 따라, 수직 채널 구조체들(VS)은 GAA(Gate All Around) 구조를 유지할 수 있으며, 셀 스트링(CSTR)에 가해지는 필드 특성 역시 GAA 구조와 동일하게 유지할 수 있다.As at least one vertical connection pattern VP is formed in a small size L1, the vertical channel structures VS can maintain a gate all around (GAA) structure, and the field applied to the cell string CSTR The characteristics can also be maintained the same as the GAA structure.
이와 같은 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)은 내부가 매립되기 이전에, 수직 채널 구조체들(VS)이 형성되는 채널 홀들(CH)을 식각하는 과정에서 식각용 가스를 채널 홀들(CH)로 유입시키는 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)로서 이용될 수 있다. 따라서, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 식각 프로파일이 확보될 수 있다.In the process of etching the channel holes CH in which the vertical channel structures VS are formed, before the inside of the at least one vertical connection pattern VP is buried, an etching gas is introduced into the channel holes CH. can be used as at least one vertical connection trench (VT). Accordingly, an etch profile may be secured through the at least one vertical connection trench VT.
또한, 설명된 바와 같이 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에 연장 형성되는 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이, 채널 홀들(CH) 내에 연장 형성되는 수직 채널 구조체들(VS)과 동일한 공정을 통해 동시에 형성됨으로써(채널 홀들(CH) 내에 증착되는 데이터 저장 패턴(DSP)이 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에 매립되어 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 연장 형성됨), 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)의 매립 공정이 단순화될 수 있다.In addition, as described above, the at least one vertical connection pattern VP extending in the at least one vertical connection trench VT is formed through the same process as the vertical channel structures VS extending in the channel holes CH. (the data storage pattern DSP deposited in the channel holes CH is buried in the at least one vertical connection trench VT so that the at least one vertical connection pattern VP is formed to extend), at least one vertical A filling process of the connection trench VT may be simplified.
적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)은 도면에 도시된 바와 같이 하나의 열에 포함되는 두 개의 수직 채널 구조체들(VS)을 연결시키는 것에 그치지 않고, 하나의 열에 포함되는 세 개 이상의 수직 채널 구조체들(VS)을 연결시킬 수 있다.As shown in the drawing, the at least one vertical connection pattern VP not only connects two vertical channel structures VS included in one column, but also three or more vertical channel structures included in one column ( VS) can be connected.
또한, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)은 다른 열에 포함되는 두 개 이상의 수직 채널 구조체들(VS)을 연결시킬 수도 있다. 즉, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)은 수직 채널 구조체들(VS)의 열과 무관하게 적어도 두 개 이상의 수직 채널 구조체들(VS)(예컨대, 서로 대각 위치에 배치되는 적어도 두 개 이상의 수직 채널 구조체들(VS))을 수평 평면 상 연결하는 것을 특징으로 한다.Also, at least one vertical connection pattern VP may connect two or more vertical channel structures VS included in different columns. That is, the at least one vertical connection pattern VP is formed by at least two or more vertical channel structures VS (eg, at least two or more vertical channel structures arranged at opposite angles to each other) regardless of the columns of the vertical channel structures VS. It is characterized in that the (VS)) is connected on a horizontal plane.
도면에는 도시되지 않았지만, 서로 인접한 적층 구조체들(ST) 사이에는 제1 방향(D1)으로 연장되는 분리 트렌치(TR)가 제공될 수 있다. 공통 소스 영역(CSR)은 분리 트렌치(TR)에 의해 노출되는 기판(SUB) 내부에 제공될 수 있다. 공통 소스 영역(CSR)은 기판(SUB) 내에서 제1 방향(D1)으로 연장될 수 있다. 공통 소스 영역(CSR)은, 제2 도전형의 불순물(예컨대, N형의 불순물)이 도핑된 반도체 물질로 형성될 수 있다. 공통 소스 영역(CSR)은 도 1의 공통 소스 라인(CSL)에 해당할 수 있다.Although not shown in the drawing, an isolation trench TR extending in the first direction D1 may be provided between the stacked structures ST adjacent to each other. The common source region CSR may be provided inside the substrate SUB exposed by the isolation trench TR. The common source region CSR may extend in the first direction D1 within the substrate SUB. The common source region CSR may be formed of a semiconductor material doped with impurities of the second conductivity type (eg, N-type impurities). The common source region CSR may correspond to the common source line CSL of FIG. 1 .
공통 소스 플러그(CSP)는 분리 트렌치(TR) 내에 제공될 수 있다. 공통 소스 플러그(CSP)는 공통 소스 영역(CSR)과 연결될 수 있다. 공통 소스 플러그(CSP)의 상면은 적층 구조체들(ST) 각각의 상면(즉, 층간 절연막들(ILD) 중 최상부의 것의 상면)과 실질적으로 공면을 이룰 수 있다. 공통 소스 플러그(CSP)는 제1 방향(D1) 및 제3 방향(D3)으로 연장되는 플레이트(Plate) 형상을 가질 수 있다. 이 때 공통 소스 플러그(CSP)는, 제3 방향(D3)으로 갈수록 제2 방향(D2)으로의 폭이 증가되는 형상을 가질 수 있다.A common source plug CSP may be provided in the isolation trench TR. The common source plug CSP may be connected to the common source region CSR. A top surface of the common source plug CSP may be substantially coplanar with a top surface of each of the stacked structures ST (ie, a top surface of an uppermost one of the interlayer insulating layers ILD). The common source plug CSP may have a plate shape extending in the first and third directions D1 and D3. In this case, the common source plug CSP may have a shape in which a width in the second direction D2 increases toward the third direction D3.
공통 소스 플러그(CSP)와 적층 구조체들(ST) 사이에는 절연 스페이서들(SP)이 개재될 수 있다. 절연 스페이서들(SP)은 서로 인접하는 적층 구조체들(ST) 사이에서 서로 대향하며 제공될 수 있다. 예를 들어 절연 스페이서들(SP)은 실리콘 산화물, 실리콘 질화물, 실리콘 산질화물 또는 낮은 유전 상수를 갖는 low-k 물질로 형성될 수 있다.Insulation spacers SP may be interposed between the common source plug CSP and the stacked structures ST. Insulation spacers SP may be provided to face each other between adjacent stacked structures ST. For example, the insulating spacers SP may be formed of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, or a low-k material having a low dielectric constant.
적층 구조체들(ST), 수직 채널 구조체들(VS) 및 공통 소스 플러그(CSP) 상에 캡핑 절연막(CAP)이 제공될 수 있다. 캡핑 절연막(CAP)은 층간 절연막들(ILD) 중 최상부의 것의 상면, 도전 패드(PAD)의 상면 및 공통 소스 플러그(CSP)의 상면을 덮을 수 있다. 캡핑 절연막(CAP)은, 층간 절연막들(ILD)과 다른 절연 물질로 형성될 수 있다. 캡핑 절연막(CAP) 내부에 도전 패드(PAD)와 전기적으로 연결되는 비트 라인 콘택 플러그(BLPG)가 제공될 수 있다. 비트 라인 콘택 플러그(BLPG)는, 제3 방향(D3)으로 갈수록 제1 방향(D1) 및 제2 방향(D2)으로의 폭이 증가되는 형상을 가질 수 있다.A capping insulating layer CAP may be provided on the stacked structures ST, the vertical channel structures VS, and the common source plug CSP. The capping insulating layer CAP may cover the top surface of the uppermost one of the interlayer insulating layers ILD, the top surface of the conductive pad PAD, and the top surface of the common source plug CSP. The capping insulating layer CAP may be formed of an insulating material different from that of the interlayer insulating layers ILD. A bit line contact plug BLPG electrically connected to the conductive pad PAD may be provided inside the capping insulating layer CAP. The bit line contact plug BLPG may have a shape in which widths in the first and second directions D1 and D2 increase in the third direction D3.
캡핑 절연막(CAP) 및 비트 라인 콘택 플러그(BLPG) 상에 비트 라인(BL)이 제공될 수 있다. 비트 라인(BL)은 도 1에 도시된 복수의 비트 라인들(BL0, BL1, BL2) 중 어느 하나에 해당되는 것으로, 제2 방향(D2)을 따라 도전성 물질로 연장 형성될 수 있다. 비트 라인(BL)을 구성하는 도전성 물질은 전술된 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3) 각각을 형성하는 도전성 물질과 동일한 물질일 수 있다.A bit line BL may be provided on the capping insulating layer CAP and the bit line contact plug BLPG. The bit line BL corresponds to any one of the plurality of bit lines BL0 , BL1 , and BL2 shown in FIG. 1 , and may be formed of a conductive material to extend along the second direction D2 . The conductive material constituting the bit line BL may be the same material as the conductive material forming each of the gate electrodes EL1 , EL2 , and EL3 described above.
비트 라인(BL)은 비트 라인 콘택 플러그(BLPG)를 통해 수직 채널 구조체들(VS)과 전기적으로 연결될 수 있다. 여기서 비트 라인(BL)이 수직 채널 구조체들(VS)과 연결된다는 것은, 수직 채널 구조체들(VS)에 포함되는 수직 채널 패턴(VCP)과 연결되는 것을 의미할 수 있다.The bit line BL may be electrically connected to the vertical channel structures VS through the bit line contact plug BLPG. Here, that the bit line BL is connected to the vertical channel structures VS may mean that it is connected to the vertical channel pattern VCP included in the vertical channel structures VS.
이와 같은 구조의 3차원 플래시 메모리는, 셀 스트링들(CSTR) 각각에 인가되는 전압, 스트링 선택 라인(SSL)에 인가되는 전압, 워드 라인들(WL0-WLn) 각각에 인가되는 전압, 접지 선택 라인(GSL)에 인가되는 전압 및 공통 소스 라인(CSL)에 인가되는 전압을 기초로, 프로그램 동작, 판독 동작 및 소거 동작을 수행할 수 있다. 예컨대, 3차원 플래시 메모리는, 셀 스트링들(CSTR) 각각에 인가되는 전압, 스트링 선택 라인(SSL)에 인가되는 전압, 워드 라인들(WL0-WLn) 각각에 인가되는 전압, 접지 선택 라인(GSL)에 인가되는 전압 및 공통 소스 라인(CSL)에 인가되는 전압을 기초로, 수직 채널 패턴(VCP)에 채널을 형성하여 전하 또는 홀을 대상 메모리 셀의 데이터 저장 패턴(DSP)으로 전달함으로써 프로그램 동작을 수행할 수 있다.The three-dimensional flash memory having such a structure includes a voltage applied to each of the cell strings CSTR, a voltage applied to the string selection line SSL, a voltage applied to each of the word lines WL0-WLn, and a ground selection line. A program operation, a read operation, and an erase operation may be performed based on the voltage applied to the GSL and the voltage applied to the common source line CSL. For example, the 3D flash memory includes a voltage applied to each of the cell strings CSTR, a voltage applied to the string select line SSL, a voltage applied to each of the word lines WL0 to WLn, and a ground select line GSL. ) and the voltage applied to the common source line (CSL), a channel is formed in the vertical channel pattern (VCP) to transfer charges or holes to the data storage pattern (DSP) of the target memory cell, thereby program operation. can be performed.
또한, 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리는 설명된 구조로 제한되거나 한정되지 않고, 구현 예시에 따라 수직 채널 패턴(VCP), 데이터 저장 패턴(DSP), 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP), 게이트 전극들(EL1, EL2, EL3), 비트 라인(BL), 공통 소스 라인(CSL)을 포함하는 것을 전제로 다양한 구조로 구현될 수 있다.In addition, the 3D flash memory according to an embodiment is not limited or not limited to the described structure, and according to an implementation example, a vertical channel pattern (VCP), a data storage pattern (DSP), at least one vertical connection pattern (VP), It may be implemented in various structures on the assumption that the gate electrodes EL1 , EL2 , and EL3 , the bit line BL, and the common source line CSL are included.
일례로, 3차원 플래시 메모리는 수직 채널 패턴(VCP)의 내측벽에 접촉하는 수직 반도체 패턴(VSP) 대신에, 백 게이트(BG)를 포함하는 구조로 구현될 수 있다. 이러한 경우, 백 게이트(BG)는 메모리 동작을 위한 전압을 수직 채널 패턴(VCP)으로 인가하도록 수직 채널 패턴(VCP)에 의해 적어도 일부분이 감싸진 채 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))을 따라 도핑된 반도체(ex, 도핑된 실리콘 등), 금속(ex, W(텅스텐), Cu(구리), Al(알루미늄), Ti(티타늄), Ta(탄탈륨), Mo(몰리브덴), Ru(루테늄), Au(금) 등) 또는 도전성 금속질화물(ex, 질화티타늄, 질화탄탈늄 등) 등에서 선택된 적어도 하나를 포함하는 도전성 물질로 연장 형성될 수 있다.For example, the 3D flash memory may be implemented with a structure including a back gate BG instead of the vertical semiconductor pattern VSP contacting the inner wall of the vertical channel pattern VCP. In this case, the back gate BG has at least a portion surrounded by the vertical channel pattern VCP to apply a voltage for a memory operation to the vertical channel pattern VCP in the vertical direction (eg, in the third direction D3). Doped semiconductors (ex, doped silicon, etc.), metals (ex, W (tungsten), Cu (copper), Al (aluminum), Ti (titanium), Ta (tantalum), Mo (molybdenum), Ru ( ruthenium), Au (gold), etc.) or a conductive metal nitride (ex, titanium nitride, tantalum nitride, etc.), etc.
도 4는 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 수직 채널 구조체들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 라운딩(Rounding) 형상 부분이 포함되는 구조의 3차원 플래시 메모리를 도시한 평면도이고, 도 5a 내지 5d는 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하는 과정에서 사용되는 마스크 패턴을 도시한 평면도이다.FIG. 4 is a plan view illustrating a 3D flash memory having a structure in which a rounding portion is included at an edge where at least one vertical connection pattern contacts each of the vertical channel structures, and FIGS. 5A to 5D are FIGS. 2 to 3 is a plan view showing a mask pattern used in the process of manufacturing the 3D flash memory.
전술된 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 수직 채널 구조체들(VS) 및 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 형성하는데 사용되는 마스크 패턴이 전술된 피넛 구조의 형상 그대로 구현된다면, 해당 마스크로 제조되는 3차원 플래시 메모리는 도 4에 도시된 바와 같이 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS) 각각과 접촉되는 에지(Edge)(410)에 라운딩(Rounding) 형상 부분(411)을 포함되게 된다.If the mask pattern used to form the vertical channel structures VS and at least one vertical connection pattern VP is implemented as the shape of the above-described peanut structure in order to manufacture the three-dimensional flash memory having the above-described structure, the mask can be manufactured. As shown in FIG. 4, the three-dimensional flash memory having at least one vertical connection pattern (VP) has a rounded portion (411) at an edge (Edge) 410 in contact with each of the vertical channel structures (VS). ) will be included.
이와 같은 라운딩 형상 부분(411)은 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)의 형성 과정에서 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP) 내에 심(Seam)이 발생되도록 하기 때문에, 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 수직 채널 패턴(VCP)이 형성되는 공정에서 심에도 수직 채널 패턴(VCP)을 구성하는 물질이 채워져 쇼트가 발생될 수 있다.Since the rounding
이처럼 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP) 내에 심을 발생시키지 않기 위해서는, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS) 각각과 접촉되는 에지(410)에 라운딩 형상 부분(411)이 포함되지 않도록 하는 마스크 패턴이 사용되어야 한다.In order not to generate a seam in the at least one vertical connection pattern VP, a
이에, 도 2 내지 3에 도시된 바와 같은 3차원 플래시 메모리의 수직 채널 구조체들(VS) 및 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 형성하는데 사용되는 마스크 패턴(500)은, 도 5a 내지 5d에 도시된 바와 같이 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS) 각각과 접촉되는 에지에 대응하는 영역(510)에 세리프(Serif) 형상 부분(511)을 포함함으로써, 해당 마스크 패턴(500)을 통해 형성되는 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP) 및 수직 채널 구조체들(VS)에서는 에지에 라운딩 형상 부분이 포함되지 않을 수 있다.Accordingly, the
즉, 마스크 패턴(500)은 사용되는 과정에서 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 세리프 형상 부분(511)을 포함함을 특징으로 한다.That is, the
이하에서는, 설명된 마스크 패턴(500)을 이용하여 도 2 내지 3에 도시된 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하는 방법에 대해 기재한다.Hereinafter, a method of manufacturing a 3D flash memory having the structure shown in FIGS. 2 and 3 using the
도 6은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 게이트 퍼스트 방식을 적용한 일 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이고, 도 7a 내지 7e는 도 6에 도시된 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 설명하기 위해 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 평면도이며, 도 8a 내지 8e는 도 7a 내지 7e에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 7a 내지 7e를 A-A'선으로 자른 단면에 해당되고, 도 9a 내지 9e는 도 7a 내지 7e에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 7a 내지 7e를 B-B'선으로 자른 단면에 해당된다.6 is a flowchart illustrating a manufacturing method according to an embodiment in which a gate first method is applied to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3, and FIGS. 7A to 7E are the 3D flash memory shown in FIG. 6 8A to 8E are cross-sectional views showing the structure of the 3D flash memory shown in FIGS. 7A to 7E, and FIGS. 7A to 7E are A- Corresponds to a cross-section taken along line A', and FIGS. 9A to 9E are cross-sectional views showing the structure of the 3D flash memory shown in FIGS. 7A to 7E, corresponding to cross-sections taken along line B-B' in FIGS. .
이하, 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은 게이트 퍼스트 방식을 적용하여 도 2 내지 3을 참조로 설명된 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하기 위한 것으로, 자동화 및 기계화된 제조 시스템에 의해 수행됨을 전제로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a 3D flash memory according to an embodiment is for manufacturing a 3D flash memory having the structure described with reference to FIGS. 2 and 3 by applying a gate first method, by an automated and mechanized manufacturing system. assuming it is done.
또한, 이하, 제조 방법은 설명의 편의를 위해 층간 절연막들(ILD), 워드 라인들(WL0-WLn), 수직 채널 구조체들(VS) 및 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 포함하는 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하는 것으로 기재된다. 3차원 플래시 메모리의 각 구성부를 구성하는 구성 물질은, 도 2 내지 3을 참조하여 설명되었으므로, 그 상세한 설명은 생략한다.In addition, hereinafter, a manufacturing method of a structure including interlayer insulating films (ILD), word lines (WL0 - WLn), vertical channel structures (VS) and at least one vertical connection pattern (VP) for convenience of description. It is described as fabricating a three-dimensional flash memory. Since constituent materials constituting each constituent part of the 3D flash memory have been described with reference to FIGS. 2 and 3 , detailed description thereof will be omitted.
단계(S610)에서 제조 시스템은, 도 7a, 8a 및 9a에 도시된 바와 같이, 수평 방향(예컨대, 제3 방향(D2))로 연장 형성되며 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 교대로 적층된 층간 절연막들(ILD) 및 워드 라인들(WL0-WLn)을 포함하는 반도체 구조체(SEMI-STR)를 준비할 수 있다.In step S610, as shown in FIGS. 7A, 8A and 9A, the manufacturing system extends in the horizontal direction (eg, the third direction D2) and is formed in the vertical direction (eg, the third direction D3). A semiconductor structure SEMI-STR including alternately stacked interlayer insulating layers ILD and word lines WL0 -WLn may be prepared.
단계(S620)에서 제조 시스템은, 도 7b, 8b 및 9b에 도시된 바와 같이 반도체 구조체(SEMI-STR)의 상면에 마스크 패턴(MP)을 배치한 뒤, 마스크 패턴(MP)을 이용한 식각 공정을 통해, 도 7c, 8c 및 9c에 도시된 바와 같이 반도체 구조체(SEMI-STR)에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 채널 홀들(CH) 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성할 수 있다. 도 7c, 8c 및 9c는 식각 공정 후 마스크 패턴(MP)이 제거된 상태를 도시하고 있다.In step S620, the manufacturing system disposes a mask pattern MP on the upper surface of the semiconductor structure SEMI-STR as shown in FIGS. 7B, 8B, and 9B, and then performs an etching process using the mask pattern MP. 7c, 8c, and 9c, channel holes CH and at least one vertical connection trench VT are formed in a direction perpendicular to the semiconductor structure SEMI-STR (eg, in the third direction D3). extension can be formed. 7c, 8c, and 9c show states in which the mask pattern MP is removed after the etching process.
여기서, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)는 채널 홀들(CH)을 수평 평면 상에서 서로 연결시키는 위치에 형성될 수 있다.Here, at least one vertical connection trench VT may be formed at a position connecting the channel holes CH to each other on a horizontal plane.
또한, 제조 시스템은 수평 평면 상 채널 홀들(CH) 각각의 크기보다 작은 크기로 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 형성할 수 있다. 이를 통해 후술되는 단계(S630)에서 형성되는 수직 채널 구조체들(VS)은 GAA(Gate All Around) 구조를 유지할 수 있으며, 셀 스트링(CSTR)에 가해지는 필드 특성이 GAA 구조와 동일하게 유지될 수 있다.In addition, the manufacturing system may form at least one vertical connection trench VT with a size smaller than each of the channel holes CH on a horizontal plane. Through this, the vertical channel structures VS formed in step S630 to be described below can maintain a GAA (Gate All Around) structure, and the field characteristics applied to the cell string CSTR can be maintained the same as the GAA structure. there is.
단계(S620)에서 채널 홀들(CH)이 연장 형성되는 것과 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성하는 것은, 단일 공정을 통해 동시에 수행됨을 특징으로 할 수 있다. 이에, 식각용 가스가 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 채널 홀들(CH)로 원활히 유입됨으로써, 식각 프로파일이 확보될 수 있다.In operation S620 , extending and forming the channel holes CH and extending and forming the at least one vertical connection trench VT may be simultaneously performed through a single process. Accordingly, the etching gas may smoothly flow into the channel holes CH through the at least one vertical connection trench VT, thereby ensuring an etching profile.
특히, 단계(S620)에서 전술된 바와 같이 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)가 채널 홀들(CH) 각각과 접촉되는 에지(Edge)(720)에 대응하는 영역(710)에 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 세리프(Serif) 형상 부분(711)을 포함하는 마스크 패턴(700)이 사용됨으로써, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)가 채널 홀들(CH) 각각과 접촉되는 에지(Edge)(720)에는 라운딩 형상 부분이 포함되지 않을 수 있다.In particular, as described above in step S620, the optical proximity correction (OPC) is applied to the
마스크 패턴(700)을 사용한 식각 공정으로는 기존에 공지된 마스크 패턴(700) 기반의 다양한 식각 방식이 활용될 수 있다.As an etching process using the
단계(S630)에서 제조 시스템은, 채널 홀들(CH) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 데이터 저장 패턴(DSP) 및 수직 채널 패턴(VCP)을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들(VS)을 연장 형성할 수 있다.In step S630, the manufacturing system includes vertical channel structures (including the data storage pattern DSP and the vertical channel pattern VCP) in the vertical direction (eg, the third direction D3) in the channel holes CH. VS) can be formed by extension.
보다 상세하게, 단계(S630)는 도 7d, 8d 및 9d에 도시된 바와 같이 채널 홀들(CH)의 내측벽에 데이터 저장 패턴(DSP)을 형성하는 제1 단계 및 도 7e, 8e 및 9e에 도시된 바와 같이 데이터 저장 패턴(DSP)의 내측벽에 수직 채널 패턴(VCP)을 형성하는 제2 단계를 포함할 수 있다(수직 반도체 패턴(VSP)이 포함되는 경우 수직 채널 패턴(VCP)과 함께 수직 반도체 패턴(VSP)도 형성).More specifically, step S630 is the first step of forming the data storage pattern DSP on the inner walls of the channel holes CH as shown in FIGS. 7D, 8D, and 9D, and FIGS. 7E, 8E, and 9E. As described above, a second step of forming a vertical channel pattern VCP on an inner wall of the data storage pattern DSP (when the vertical semiconductor pattern VSP is included, the vertical channel pattern VCP is formed together with the vertical channel pattern VCP). Semiconductor pattern (VSP) is also formed).
단계(S640)에서 제조 시스템은, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다.In operation S640 , the manufacturing system may extend and form at least one vertical connection pattern VP in the vertical direction (eg, the third direction D3 ) in the at least one vertical connection trench VT.
여기서, 단계(S630) 및 단계(S640)는 도 7d, 8d 및 9d에 도시된 바와 같이 동일한 공정을 통해 동시에 수행되는 것을 특징으로 할 수 있다. 보다 상세하게, 제조 시스템은 채널 홀들(CH) 내에 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 데이터 저장 패턴(DSP)를 증착하는 공정을 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에도 데이터 저장 패턴(DSP)을 증착함으로써 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다. 이에, 단계(S640)는 단계(S630)의 제1 단계가 수행됨에 따라 데이터 저장 패턴(DSP)으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 형성하는 단계일 수 있으며, 이를 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 매립하는 공정의 단순화가 도모될 수 있다.Here, steps S630 and S640 may be performed simultaneously through the same process as shown in FIGS. 7D, 8D, and 9D. In more detail, the manufacturing system is a data storage pattern (DSP) in at least one vertical connection trench (VT) through a process of depositing the data storage pattern (DSP) of each of the vertical channel structures (VS) in the channel holes (CH). ), it is possible to extend and form at least one vertical connection pattern (VP). Thus, step S640 may be a step of forming at least one vertical connection pattern VP with the data storage pattern DSP as the first step of step S630 is performed, and through this, at least one vertical connection A process of filling the trench VT may be simplified.
이처럼 단계(S620)에서 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 세리프(Serif) 형상 부분(711)을 포함하는 마스크 패턴(700)이 사용되어 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 및 채널 홀들(CH) 각각이 형성됨으로써, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS) 각각과 접촉되는 에지(Edge)(730)에는 라운딩 형상 부분이 포함되지 않아 쇼트 등의 문제가 미연에 방지될 수 있다.As such, in step S620, a
이상, 3차원 플래시 메모리가 하나의 반도체 구조체를 기반으로 제조되는 것이 설명되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고, 복수의 스택 구조체들이 적층되는 스택 적층 방식으로 제조될 수도 있다. 이에 대한 상세한 설명은 아래의 도 10을 통해 기재하기로 한다.Although it has been described above that the 3D flash memory is manufactured based on one semiconductor structure, it is not limited or limited thereto, and may be manufactured in a stack stacking method in which a plurality of stack structures are stacked. A detailed description thereof will be described with reference to FIG. 10 below.
도 10은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 게이트 퍼스트 방식에 더해 스택 방식을 적용한 일 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.FIG. 10 is a flow chart illustrating a manufacturing method according to an embodiment in which a stack method is applied in addition to the gate first method to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
이하, 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은 게이트 퍼스트 방식을 적용하여 도 2 내지 3을 참조로 설명된 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하기 위한 것으로, 자동화 및 기계화된 제조 시스템에 의해 수행됨을 전제로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a 3D flash memory according to an embodiment is for manufacturing a 3D flash memory having the structure described with reference to FIGS. 2 and 3 by applying a gate first method, by an automated and mechanized manufacturing system. assuming it is done.
또한, 이하, 제조 방법은 설명의 편의를 위해 층간 절연막들(ILD), 워드 라인들(WL0-WLn), 수직 채널 구조체들(VS) 및 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 포함하는 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하는 것으로 기재된다. 3차원 플래시 메모리의 각 구성부를 구성하는 구성 물질은, 도 2 내지 3을 참조하여 설명되었으므로, 그 상세한 설명은 생략한다.In addition, hereinafter, a manufacturing method of a structure including interlayer insulating films (ILD), word lines (WL0 - WLn), vertical channel structures (VS) and at least one vertical connection pattern (VP) for convenience of description. It is described as fabricating a three-dimensional flash memory. Since constituent materials constituting each constituent part of the 3D flash memory have been described with reference to FIGS. 2 and 3 , detailed description thereof will be omitted.
단계(S1010)에서 제조 시스템은, 수평 방향(예컨대, 제3 방향(D2))로 연장 형성되며 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 교대로 적층된 층간 절연막들(ILD) 및 워드 라인들(WL0-WLn)을 각각 포함하는 스택 구조체들(ST-STR)을 준비할 수 있다.In step S1010, the manufacturing system extends in the horizontal direction (eg, the third direction D2) and alternately stacks the interlayer insulating films ILD and the word in the vertical direction (eg, the third direction D3). Stack structures ST-STR each including the lines WL0-WLn may be prepared.
단계(S1020)에서 제조 시스템은, 스택 구조체들(ST-STR) 각각의 상면에 마스크 패턴(MP)을 배치한 뒤, 마스크 패턴(MP)을 이용한 식각 공정을 통해, 스택 구조체들(ST-STR) 각각에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 채널 홀들(CH) 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성할 수 있다.In step S1020, the manufacturing system disposes the mask pattern MP on the upper surface of each of the stack structures ST-STR, and then performs an etching process using the mask pattern MP to form the stack structures ST-STR. ), the channel holes CH and at least one vertical connection trench VT may be formed to extend in a vertical direction (eg, in the third direction D3), respectively.
여기서, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)는 채널 홀들(CH)을 수평 평면 상에서 서로 연결시키는 위치에 형성될 수 있다.Here, at least one vertical connection trench VT may be formed at a position connecting the channel holes CH to each other on a horizontal plane.
또한, 제조 시스템은 수평 평면 상 채널 홀들(CH) 각각의 크기보다 작은 크기로 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 형성할 수 있다. 이를 통해 후술되는 단계(S1040)에서 형성되는 수직 채널 구조체들(VS)은 GAA(Gate All Around) 구조를 유지할 수 있으며, 셀 스트링(CSTR)에 가해지는 필드 특성이 GAA 구조와 동일하게 유지될 수 있다.In addition, the manufacturing system may form at least one vertical connection trench VT with a size smaller than each of the channel holes CH on a horizontal plane. Through this, the vertical channel structures VS formed in step S1040 to be described below can maintain a GAA (Gate All Around) structure, and the field characteristics applied to the cell string CSTR can be maintained the same as the GAA structure. there is.
단계(S1020)에서 채널 홀들(CH)이 연장 형성되는 것과 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성하는 것은, 단일 공정을 통해 동시에 수행됨을 특징으로 할 수 있다. 이에, 식각용 가스가 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 채널 홀들(CH)로 원활히 유입됨으로써, 식각 프로파일이 확보될 수 있다.In operation S1020 , extending and forming the channel holes CH and extending and forming the at least one vertical connection trench VT may be simultaneously performed through a single process. Accordingly, the etching gas may smoothly flow into the channel holes CH through the at least one vertical connection trench VT, thereby ensuring an etching profile.
특히, 단계(S1020)에서 전술된 바와 같이 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)가 채널 홀들(CH) 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 마스크 패턴이 사용됨으로써, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)가 채널 홀들(CH) 각각과 접촉되는 에지(Edge)에는 라운딩 형상 부분이 포함되지 않을 수 있다.In particular, as described above in step S1020, a serif considering OPC (Optical Proximity Correction) is applied to a region corresponding to an edge where at least one vertical connection trench VT contacts each of the channel holes CH. ) shape portion is used, the round shape portion may not be included at an edge where the at least one vertical connection trench VT contacts each of the channel holes CH.
마스크 패턴을 사용한 식각 공정으로는 기존에 공지된 마스크 패턴 기반의 다양한 식각 방식이 활용될 수 있다.As an etching process using a mask pattern, various previously known etching methods based on a mask pattern may be utilized.
단계(S1030)에서 제조 시스템은, 스택 구조체들(ST-STR)을 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적층할 수 있다.In operation S1030 , the manufacturing system may stack the stack structures ST-STR in a vertical direction (eg, in the third direction D3 ).
단계(S1040)에서 제조 시스템은, 스택 구조체들(ST-STR)이 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적층된 반도체 구조체(SEMI-STR)에서 채널 홀들(CH) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 데이터 저장 패턴(DSP) 및 수직 채널 패턴(VCP)을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들(VS)을 연장 형성할 수 있다.In step S1040, the manufacturing system performs a vertical direction (eg, in the channel holes CH in the semiconductor structure SEMI-STR in which the stack structures ST-STR are stacked in the vertical direction (eg, the third direction D3)). For example, vertical channel structures VS each including the data storage pattern DSP and the vertical channel pattern VCP may be extended in the third direction D3 .
보다 상세하게, 단계(S1040)는 채널 홀들(CH)의 내측벽에 데이터 저장 패턴(DSP)을 형성하는 제1 단계 및 데이터 저장 패턴(DSP)의 내측벽에 수직 채널 패턴(VCP)을 형성하는 제2 단계를 포함할 수 있다(수직 반도체 패턴(VSP)이 포함되는 경우 수직 채널 패턴(VCP)과 함께 수직 반도체 패턴(VSP)도 형성).In more detail, step S1040 is a first step of forming data storage patterns DSP on inner walls of channel holes CH and forming vertical channel patterns VCP on inner walls of data storage patterns DSP. A second step may be included (if the vertical semiconductor pattern VSP is included, the vertical semiconductor pattern VSP is also formed together with the vertical channel pattern VCP).
단계(S1050)에서 제조 시스템은, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다.In operation S1050 , the manufacturing system may extend and form at least one vertical connection pattern VP in the vertical direction (eg, the third direction D3 ) within the at least one vertical connection trench VT.
여기서, 단계(S1040) 및 단계(S1050)는 동일한 공정을 통해 동시에 수행되는 것을 특징으로 할 수 있다. 보다 상세하게, 제조 시스템은 채널 홀들(CH) 내에 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 데이터 저장 패턴(DSP)를 증착하는 공정을 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에도 데이터 저장 패턴(DSP)을 증착함으로써 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다. 이에, 단계(S1050)는 단계(S1040)의 제1 단계가 수행됨에 따라 데이터 저장 패턴(DSP)으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 형성하는 단계일 수 있으며, 이를 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 매립하는 공정의 단순화가 도모될 수 있다.Here, steps S1040 and S1050 may be performed simultaneously through the same process. In more detail, the manufacturing system is a data storage pattern (DSP) in at least one vertical connection trench (VT) through a process of depositing the data storage pattern (DSP) of each of the vertical channel structures (VS) in the channel holes (CH). ), it is possible to extend and form at least one vertical connection pattern (VP). Thus, step S1050 may be a step of forming at least one vertical connection pattern VP with the data storage pattern DSP as the first step of step S1040 is performed, and through this, at least one vertical connection A process of filling the trench VT may be simplified.
이처럼 단계(S1020)에서 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 마스크 패턴이 사용되어 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 및 채널 홀들(CH) 각각이 형성됨으로써, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS) 각각과 접촉되는 에지(Edge)에는 라운딩 형상 부분이 포함되지 않아 쇼트 등의 문제가 미연에 방지될 수 있다.As such, in step S1020, at least one vertical connection trench VT and channel holes CH are formed by using a mask pattern including a serif-shaped portion in consideration of OPC (Optical Proximity Correction). Edges where the vertical connection pattern VP of VP contacts each of the vertical channel structures VS do not include a rounded portion, so problems such as short circuits can be prevented in advance.
이상, 3차원 플래시 메모리가 게이트 퍼스트 방식을 기반으로 제조되는 것이 설명되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고, 워드라인 리플레이스먼트 방식을 기반으로 제조될 수도 있다. 이에 대한 상세한 설명은 아래의 도 11 및 12를 통해 기재하기로 한다.Although it has been described above that the 3D flash memory is manufactured based on the gate first method, it is not limited thereto and may be manufactured based on the word line replacement method. A detailed description thereof will be described with reference to FIGS. 11 and 12 below.
도 11은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 워드 라인 리플레이스먼트 방식을 적용한 일 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.FIG. 11 is a flow chart illustrating a manufacturing method according to an embodiment in which a word line replacement method is applied to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
이하, 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은 워드라인 리플레이스먼트 방식을 적용하여 도 2 내지 3을 참조로 설명된 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하기 위한 것으로, 자동화 및 기계화된 제조 시스템에 의해 수행됨을 전제로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a 3D flash memory according to an embodiment is for manufacturing a 3D flash memory having the structure described with reference to FIGS. 2 and 3 by applying a word line replacement method, and manufacturing is automated and mechanized. It is assumed that it is performed by the system.
또한, 이하, 제조 방법은 설명의 편의를 위해 층간 절연막들(ILD), 워드 라인들(WL0-WLn), 수직 채널 구조체들(VS) 및 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 포함하는 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하는 것으로 기재된다. 3차원 플래시 메모리의 각 구성부를 구성하는 구성 물질은, 도 2 내지 3을 참조하여 설명되었으므로, 그 상세한 설명은 생략한다.In addition, hereinafter, a manufacturing method of a structure including interlayer insulating films (ILD), word lines (WL0 - WLn), vertical channel structures (VS) and at least one vertical connection pattern (VP) for convenience of description. It is described as fabricating a three-dimensional flash memory. Since constituent materials constituting each constituent part of the 3D flash memory have been described with reference to FIGS. 2 and 3 , detailed description thereof will be omitted.
단계(S1110)에서 제조 시스템은, 수평 방향(예컨대, 제3 방향(D2))로 연장 형성되며 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 교대로 적층된 층간 절연막들(ILD) 및 희생층들(SAC)을 포함하는 반도체 구조체(SEMI-STR)를 준비할 수 있다.In step S1110, the manufacturing system extends in the horizontal direction (eg, the third direction D2) and alternately stacks the interlayer insulating films ILD and the sacrificial in the vertical direction (eg, the third direction D3). A semiconductor structure SEMI-STR including the layers SAC may be prepared.
단계(S1120)에서 제조 시스템은, 반도체 구조체(SEMI-STR)의 상면에 마스크 패턴(MP)을 배치한 뒤, 마스크 패턴(MP)을 이용한 식각 공정을 통해, 반도체 구조체(SEMI-STR)에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 채널 홀들(CH) 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성할 수 있다.In step S1120, the manufacturing system disposes the mask pattern MP on the upper surface of the semiconductor structure SEMI-STR, and then performs an etching process using the mask pattern MP, perpendicular to the semiconductor structure SEMI-STR. Channel holes CH and at least one vertical connection trench VT may be formed to extend in a direction (eg, the third direction D3 ).
여기서, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)는 채널 홀들(CH)을 수평 평면 상에서 서로 연결시키는 위치에 형성될 수 있다.Here, at least one vertical connection trench VT may be formed at a position connecting the channel holes CH to each other on a horizontal plane.
또한, 제조 시스템은 수평 평면 상 채널 홀들(CH) 각각의 크기보다 작은 크기로 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 형성할 수 있다. 이를 통해 후술되는 단계(S1140)에서 형성되는 수직 채널 구조체들(VS)은 GAA(Gate All Around) 구조를 유지할 수 있으며, 셀 스트링(CSTR)에 가해지는 필드 특성이 GAA 구조와 동일하게 유지될 수 있다.In addition, the manufacturing system may form at least one vertical connection trench VT with a size smaller than each of the channel holes CH on a horizontal plane. Through this, the vertical channel structures VS formed in step S1140 to be described below can maintain a GAA (Gate All Around) structure, and the field characteristics applied to the cell string CSTR can be maintained the same as the GAA structure. there is.
단계(S1120)에서 채널 홀들(CH)이 연장 형성되는 것과 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성하는 것은, 단일 공정을 통해 동시에 수행됨을 특징으로 할 수 있다. 이에, 식각용 가스가 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 채널 홀들(CH)로 원활히 유입됨으로써, 식각 프로파일이 확보될 수 있다.In operation S1120, extending and forming the channel holes CH and extending and forming the at least one vertical connection trench VT may be simultaneously performed through a single process. Accordingly, the etching gas may smoothly flow into the channel holes CH through the at least one vertical connection trench VT, thereby ensuring an etching profile.
특히, 단계(S1120)에서 전술된 바와 같이 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)가 채널 홀들(CH) 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 마스크 패턴이 사용됨으로써, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)가 채널 홀들(CH) 각각과 접촉되는 에지(Edge)에는 라운딩 형상 부분이 포함되지 않을 수 있다.In particular, as described above in step S1120, a serif considering OPC (Optical Proximity Correction) is applied to a region corresponding to an edge where at least one vertical connection trench VT contacts each of the channel holes CH. ) shape portion is used, the round shape portion may not be included at an edge where the at least one vertical connection trench VT contacts each of the channel holes CH.
마스크 패턴을 사용한 식각 공정으로는 기존에 공지된 마스크 패턴 기반의 다양한 식각 방식이 활용될 수 있다.As an etching process using a mask pattern, various previously known etching methods based on a mask pattern may be used.
단계(S1130)에서 제조 시스템은, 희생층들(SAC)을 제거하여 희생층들(SAC)이 제거된 공간들에 워드 라인들(WL0-WLn)을 형성할 수 있다. 희생층들(SAC)이 제거되는 것과 워드 라인들(WL0-WLn)을 형성하고자 도전성 물질이 충진되는 것은, 채널 홀들(CH) 또는 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 이루어질 수 있으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 분리 트렌치(TR)(미도시)를 통해 이루어지거나, 별도의 트렌치(미도시)를 통해 이루어질 수도 있다.In operation S1130 , the manufacturing system may remove the sacrificial layers SAC to form word lines WL0 - WLn in spaces from which the sacrificial layers SAC are removed. The removal of the sacrificial layers SAC and the filling of the conductive material to form the word lines WL0 - WLn may be performed through the channel holes CH or at least one vertical connection trench VT, but this It may be formed through an isolation trench TR (not shown) with or without limitation, or through a separate trench (not shown).
단계(S1140)에서 제조 시스템은, 채널 홀들(CH) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 데이터 저장 패턴(DSP) 및 수직 채널 패턴(VCP)을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들(VS)을 연장 형성할 수 있다.In step S1140, the manufacturing system includes vertical channel structures (including the data storage pattern DSP and the vertical channel pattern VCP) in the vertical direction (eg, the third direction D3) in the channel holes CH. VS) can be formed by extension.
보다 상세하게, 단계(S1140)는 채널 홀들(CH)의 내측벽에 데이터 저장 패턴(DSP)을 형성하는 제1 단계 및 데이터 저장 패턴(DSP)의 내측벽에 수직 채널 패턴(VCP)을 형성하는 제2 단계를 포함할 수 있다(수직 반도체 패턴(VSP)이 포함되는 경우 수직 채널 패턴(VCP)과 함께 수직 반도체 패턴(VSP)도 형성).In more detail, step S1140 is a first step of forming data storage patterns DSP on inner walls of channel holes CH and forming vertical channel patterns VCP on inner walls of data storage patterns DSP. A second step may be included (if the vertical semiconductor pattern VSP is included, the vertical semiconductor pattern VSP is also formed together with the vertical channel pattern VCP).
단계(S1150)에서 제조 시스템은, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다.In operation S1150 , the manufacturing system may extend and form at least one vertical connection pattern VP in the vertical direction (eg, the third direction D3 ) within the at least one vertical connection trench VT.
여기서, 단계(S1140) 및 단계(S1150)는 동일한 공정을 통해 동시에 수행되는 것을 특징으로 할 수 있다. 보다 상세하게, 제조 시스템은 채널 홀들(CH) 내에 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 데이터 저장 패턴(DSP)를 증착하는 공정을 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에도 데이터 저장 패턴(DSP)을 증착함으로써 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다. 이에, 단계(S1150)는 단계(S1140)의 제1 단계가 수행됨에 따라 데이터 저장 패턴(DSP)으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 형성하는 단계일 수 있으며, 이를 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 매립하는 공정의 단순화가 도모될 수 있다.Here, steps S1140 and S1150 may be performed simultaneously through the same process. In more detail, the manufacturing system is a data storage pattern (DSP) in at least one vertical connection trench (VT) through a process of depositing the data storage pattern (DSP) of each of the vertical channel structures (VS) in the channel holes (CH). ), it is possible to extend and form at least one vertical connection pattern (VP). Accordingly, step S1150 may be a step of forming at least one vertical connection pattern VP with the data storage pattern DSP as the first step of step S1140 is performed, through which at least one vertical connection pattern is formed. A process of filling the trench VT may be simplified.
이처럼 단계(S1120)에서 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 마스크 패턴이 사용되어 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 및 채널 홀들 각각이 형성됨으로써, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS) 각각과 접촉되는 에지(Edge)에는 라운딩 형상 부분이 포함되지 않아 쇼트 등의 문제가 미연에 방지될 수 있다.As such, in step S1120, at least one vertical connection trench and channel hole are respectively formed by using a mask pattern including a serif-shaped portion in consideration of OPC (Optical Proximity Correction), thereby forming at least one vertical connection pattern (VP). ) does not include a rounded portion at an edge that comes into contact with each of the vertical channel structures VS, so problems such as a short circuit can be prevented in advance.
이상, 3차원 플래시 메모리가 하나의 반도체 구조체를 기반으로 제조되는 것이 설명되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고, 복수의 스택 구조체들이 적층되는 스택 적층 방식으로 제조될 수도 있다. 이에 대한 상세한 설명은 아래의 도 12를 통해 기재하기로 한다.Although it has been described above that the 3D flash memory is manufactured based on one semiconductor structure, it is not limited or limited thereto, and may be manufactured in a stack stacking method in which a plurality of stack structures are stacked. A detailed description thereof will be described with reference to FIG. 12 below.
도 12는 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 워드 라인 리플레이스먼트 방식에 더해 스택 방식을 적용한 일 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.FIG. 12 is a flow chart illustrating a manufacturing method according to an embodiment in which a stack method is applied in addition to a word line replacement method to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
이하, 일 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은 워드라인 리플레이스먼트 방식을 적용하여 도 2 내지 3을 참조로 설명된 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하기 위한 것으로, 자동화 및 기계화된 제조 시스템에 의해 수행됨을 전제로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a 3D flash memory according to an embodiment is for manufacturing a 3D flash memory having the structure described with reference to FIGS. 2 and 3 by applying a word line replacement method, and manufacturing is automated and mechanized. It is assumed that it is performed by the system.
또한, 이하, 제조 방법은 설명의 편의를 위해 층간 절연막들(ILD), 워드 라인들(WL0-WLn), 수직 채널 구조체들(VS) 및 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 포함하는 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하는 것으로 기재된다. 3차원 플래시 메모리의 각 구성부를 구성하는 구성 물질은, 도 2 내지 3을 참조하여 설명되었으므로, 그 상세한 설명은 생략한다.In addition, hereinafter, a manufacturing method of a structure including interlayer insulating films (ILD), word lines (WL0 - WLn), vertical channel structures (VS) and at least one vertical connection pattern (VP) for convenience of description. It is described as fabricating a three-dimensional flash memory. Since constituent materials constituting each constituent part of the 3D flash memory have been described with reference to FIGS. 2 and 3 , detailed description thereof will be omitted.
단계(S1210)에서 제조 시스템은, 수평 방향(예컨대, 제3 방향(D2))로 연장 형성되며 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 교대로 적층된 층간 절연막들(ILD) 및 워드 라인들(WL0-WLn)을 각각 포함하는 스택 구조체들(ST-STR)을 준비할 수 있다.In step S1210, the manufacturing system extends in the horizontal direction (eg, the third direction D2) and alternately stacks the interlayer insulating films ILD and the word in the vertical direction (eg, the third direction D3). Stack structures ST-STR each including the lines WL0-WLn may be prepared.
단계(S1220)에서 제조 시스템은, 스택 구조체들(ST-STR) 각각의 상면에 마스크 패턴(MP)을 배치한 뒤, 마스크 패턴(MP)을 이용한 식각 공정을 통해, 스택 구조체들(ST-STR) 각각에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 채널 홀들(CH) 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성할 수 있다.In step S1220, the manufacturing system disposes the mask pattern MP on the top surface of each of the stack structures ST-STR, and then performs an etching process using the mask pattern MP to form the stack structures ST-STR. ), the channel holes CH and at least one vertical connection trench VT may be formed to extend in a vertical direction (eg, in the third direction D3), respectively.
여기서, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)는 채널 홀들(CH)을 수평 평면 상에서 서로 연결시키는 위치에 형성될 수 있다.Here, at least one vertical connection trench VT may be formed at a position connecting the channel holes CH to each other on a horizontal plane.
또한, 제조 시스템은 수평 평면 상 채널 홀들(CH) 각각의 크기보다 작은 크기로 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 형성할 수 있다. 이를 통해 후술되는 단계(S1250)에서 형성되는 수직 채널 구조체들(VS)은 GAA(Gate All Around) 구조를 유지할 수 있으며, 셀 스트링(CSTR)에 가해지는 필드 특성이 GAA 구조와 동일하게 유지될 수 있다.In addition, the manufacturing system may form at least one vertical connection trench VT with a size smaller than each of the channel holes CH on a horizontal plane. Through this, the vertical channel structures VS formed in step S1250 to be described below can maintain a GAA (Gate All Around) structure, and the field characteristics applied to the cell string CSTR can be maintained the same as the GAA structure. there is.
단계(S1220)에서 채널 홀들(CH)이 연장 형성되는 것과 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성하는 것은, 단일 공정을 통해 동시에 수행됨을 특징으로 할 수 있다. 이에, 식각용 가스가 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 채널 홀들(CH)로 원활히 유입됨으로써, 식각 프로파일이 확보될 수 있다.In operation S1220, extending and forming the channel holes CH and extending and forming the at least one vertical connection trench VT may be simultaneously performed through a single process. Accordingly, the etching gas may smoothly flow into the channel holes CH through the at least one vertical connection trench VT, thereby ensuring an etching profile.
특히, 단계(S1220)에서 전술된 바와 같이 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)가 채널 홀들(CH) 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 마스크 패턴이 사용됨으로써, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)가 채널 홀들(CH) 각각과 접촉되는 에지(Edge)에는 라운딩 형상 부분이 포함되지 않을 수 있다.In particular, as described above in step S1220, a serif considering OPC (Optical Proximity Correction) is applied to a region corresponding to an edge where at least one vertical connection trench VT contacts each of the channel holes CH. ) shape portion is used, the round shape portion may not be included at an edge where the at least one vertical connection trench VT contacts each of the channel holes CH.
마스크 패턴을 사용한 식각 공정으로는 기존에 공지된 마스크 패턴 기반의 다양한 식각 방식이 활용될 수 있다.As an etching process using a mask pattern, various previously known etching methods based on a mask pattern may be used.
단계(S1230)에서 제조 시스템은, 스택 구조체들(ST-STR)을 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적층할 수 있다.In operation S1230 , the manufacturing system may stack the stack structures ST-STR in a vertical direction (eg, in the third direction D3 ).
단계(S1240)에서 제조 시스템은, 희생층들(SAC)을 제거하여 희생층들(SAC)이 제거된 공간들에 워드 라인들(WL0-WLn)을 형성할 수 있다. 희생층들(SAC)이 제거되는 것과 워드 라인들(WL0-WLn)을 형성하고자 도전성 물질이 충진되는 것은, 채널 홀들(CH) 또는 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 이루어질 수 있으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 분리 트렌치(TR)(미도시)를 통해 이루어지거나, 별도의 트렌치(미도시)를 통해 이루어질 수도 있다.In operation S1240 , the manufacturing system may remove the sacrificial layers SAC to form word lines WL0 - WLn in spaces where the sacrificial layers SAC are removed. The removal of the sacrificial layers SAC and the filling of the conductive material to form the word lines WL0 - WLn may be performed through the channel holes CH or at least one vertical connection trench VT, but this It may be formed through an isolation trench TR (not shown) with or without limitation, or through a separate trench (not shown).
단계(S1250)에서 제조 시스템은, 스택 구조체들(ST-STR)이 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적층된 반도체 구조체(SEMI-STR)에서 채널 홀들(CH) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 데이터 저장 패턴(DSP) 및 수직 채널 패턴(VCP)을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들(VS)을 연장 형성할 수 있다.In operation S1250, the manufacturing system performs a vertical direction (eg, in the channel holes CH in the semiconductor structure SEMI-STR in which the stack structures ST-STR are stacked in the vertical direction (eg, the third direction D3)). For example, vertical channel structures VS each including the data storage pattern DSP and the vertical channel pattern VCP may be extended in the third direction D3 .
보다 상세하게, 단계(S1250)는 채널 홀들(CH)의 내측벽에 데이터 저장 패턴(DSP)을 형성하는 제1 단계 및 데이터 저장 패턴(DSP)의 내측벽에 수직 채널 패턴(VCP)을 형성하는 제2 단계를 포함할 수 있다(수직 반도체 패턴(VSP)이 포함되는 경우 수직 채널 패턴(VCP)과 함께 수직 반도체 패턴(VSP)도 형성).In more detail, step S1250 is a first step of forming data storage patterns DSP on inner walls of channel holes CH and forming vertical channel patterns VCP on inner walls of data storage patterns DSP. A second step may be included (if the vertical semiconductor pattern VSP is included, the vertical semiconductor pattern VSP is also formed together with the vertical channel pattern VCP).
단계(S1260)에서 제조 시스템은, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다.In operation S1260 , the manufacturing system may extend and form at least one vertical connection pattern VP in the vertical direction (eg, the third direction D3 ) in the at least one vertical connection trench VT.
여기서, 단계(S1250) 및 단계(S1260)는 동일한 공정을 통해 동시에 수행되는 것을 특징으로 할 수 있다. 보다 상세하게, 제조 시스템은 채널 홀들(CH) 내에 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 데이터 저장 패턴(DSP)를 증착하는 공정을 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에도 데이터 저장 패턴(DSP)을 증착함으로써 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다. 이에, 단계(S1260)는 단계(S1250)의 제1 단계가 수행됨에 따라 데이터 저장 패턴(DSP)으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 형성하는 단계일 수 있으며, 이를 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 매립하는 공정의 단순화가 도모될 수 있다.Here, steps S1250 and S1260 may be performed simultaneously through the same process. In more detail, the manufacturing system is a data storage pattern (DSP) in at least one vertical connection trench (VT) through a process of depositing the data storage pattern (DSP) of each of the vertical channel structures (VS) in the channel holes (CH). ), it is possible to extend and form at least one vertical connection pattern (VP). Accordingly, step S1260 may be a step of forming at least one vertical connection pattern VP with the data storage pattern DSP as the first step of step S1250 is performed, and through this, at least one vertical connection A process of filling the trench VT may be simplified.
이처럼 단계(S1220)에서 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 마스크 패턴이 사용되어 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 및 채널 홀들(CH) 각각이 형성됨으로써, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS) 각각과 접촉되는 에지(Edge)에는 라운딩 형상 부분이 포함되지 않아 쇼트 등의 문제가 미연에 방지될 수 있다.As such, in step S1220, a mask pattern including a serif-shaped portion considering optical proximity correction (OPC) is used to form at least one vertical connection trench VT and channel holes CH, respectively. Edges where the vertical connection pattern VP of VP contacts each of the vertical channel structures VS do not include a rounded portion, so problems such as short circuits can be prevented in advance.
이상, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS) 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 라운딩 형상 부분이 포함됨에 따라 발생되는 쇼트 등의 문제를 해결하고자, 3차원 플래시 메모리가 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 세리프 형상 부분을 포함하는 마스크 패턴을 이용하여 제조하는 방법에 대해 설명되었으나, 상기 문제는 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP) 내에 발생된 심(SEAM)을 제거하는 방법으로도 해결될 수 있다. 이에 대한 상세한 설명은 아래 13 내지 19를 참조하여 기재하기로 한다.As described above, in order to solve problems such as a short circuit caused by the rounding portion included in the edge where at least one vertical connection pattern VP comes into contact with each of the vertical channel structures VS, a three-dimensional flash memory is A method of manufacturing using a mask pattern including a serif-shaped portion in consideration of OPC (Optical Proximity Correction) has been described, but the problem is a method of removing a seam (SEAM) generated in at least one vertical connection pattern (VP). can also be solved with A detailed description thereof will be described with reference to 13 to 19 below.
도 13은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 게이트 퍼스트 방식을 적용한 다른 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이고, 도 14a 내지 14e는 도 13에 도시된 3차원 플래시 메모리의 제조 방법을 설명하기 위해 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 평면도이며, 도 15a 내지 15e는 도 14a 내지 14e에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 14a 내지 14e를 A-A'선으로 자른 단면에 해당되고, 도 16a 내지 16e는 도 14a 내지 14e에 도시된 3차원 플래시 메모리의 구조를 도시한 단면도로, 도 14a 내지 14e를 B-B'선으로 자른 단면에 해당된다.13 is a flowchart illustrating a manufacturing method according to another embodiment in which a gate first method is applied to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3, and FIGS. 14A to 14E are the 3D flash memory shown in FIG. 13 15A to 15E are cross-sectional views showing the structure of the 3D flash memory shown in FIGS. 14A to 14E, and FIGS. 14A to 14E are A- 16a to 16e are cross-sectional views showing the structure of the 3D flash memory shown in FIGS. 14a to 14e, and correspond to cross-sections taken along line B-B' in FIGS. 14a to 14e. .
이하, 다른 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은 게이트 퍼스트 방식을 적용하여 도 2 내지 3을 참조로 설명된 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하기 위한 것으로, 자동화 및 기계화된 제조 시스템에 의해 수행됨을 전제로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a 3D flash memory according to another embodiment is for manufacturing a 3D flash memory having the structure described with reference to FIGS. 2 and 3 by applying a gate first method, by an automated and mechanized manufacturing system. assuming it is done.
또한, 이하, 제조 방법은 설명의 편의를 위해 층간 절연막들(ILD), 워드 라인들(WL0-WLn), 수직 채널 구조체들(VS) 및 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 포함하는 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하는 것으로 기재된다. 3차원 플래시 메모리의 각 구성부를 구성하는 구성 물질은, 도 2 내지 3을 참조하여 설명되었으므로, 그 상세한 설명은 생략한다.In addition, hereinafter, a manufacturing method of a structure including interlayer insulating films (ILD), word lines (WL0 - WLn), vertical channel structures (VS) and at least one vertical connection pattern (VP) for convenience of description. It is described as fabricating a three-dimensional flash memory. Since constituent materials constituting each constituent part of the 3D flash memory have been described with reference to FIGS. 2 and 3 , detailed description thereof will be omitted.
단계(S1310)에서 제조 시스템은, 도 14a, 15a 및 16a에 도시된 바와 같이, 수평 방향(예컨대, 제3 방향(D2))로 연장 형성되며 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 교대로 적층된 층간 절연막들(ILD) 및 워드 라인들(WL0-WLn)을 포함하는 반도체 구조체(SEMI-STR)를 준비할 수 있다.In step S1310, the manufacturing system extends in the horizontal direction (eg, the third direction D2) and extends in the vertical direction (eg, the third direction D3), as shown in FIGS. 14A, 15A, and 16A. A semiconductor structure SEMI-STR including alternately stacked interlayer insulating layers ILD and word lines WL0 -WLn may be prepared.
단계(S1320)에서 제조 시스템은, 도 14b, 15b 및 16b에 도시된 바와 같이 반도체 구조체(SEMI-STR)에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 채널 홀들(CH) 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성할 수 있다.In step S1320, the manufacturing system, as shown in FIGS. 14B, 15B, and 16B, channel holes CH and at least one of the channel holes CH in a direction perpendicular to the semiconductor structure SEMI-STR (eg, in the third direction D3). The vertical connection trench VT may be extended and formed.
여기서, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)는 채널 홀들(CH)을 수평 평면 상에서 서로 연결시키는 위치에 형성될 수 있다.Here, at least one vertical connection trench VT may be formed at a position connecting the channel holes CH to each other on a horizontal plane.
또한, 제조 시스템은 수평 평면 상 채널 홀들(CH) 각각의 크기보다 작은 크기로 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 형성할 수 있다. 이를 통해 후술되는 단계(S1330)에서 형성되는 수직 채널 구조체들(VS)은 GAA(Gate All Around) 구조를 유지할 수 있으며, 셀 스트링(CSTR)에 가해지는 필드 특성이 GAA 구조와 동일하게 유지될 수 있다.In addition, the manufacturing system may form at least one vertical connection trench VT with a size smaller than each of the channel holes CH on a horizontal plane. Through this, the vertical channel structures VS formed in step S1330 to be described below can maintain a GAA (Gate All Around) structure, and the field characteristics applied to the cell string CSTR can be maintained the same as the GAA structure. there is.
단계(S1320)에서 채널 홀들(CH)이 연장 형성되는 것과 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성하는 것은, 단일 공정을 통해 동시에 수행됨을 특징으로 할 수 있다. 이에, 식각용 가스가 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 채널 홀들(CH)로 원활히 유입됨으로써, 식각 프로파일이 확보될 수 있다.In operation S1320, extending and forming the channel holes CH and extending and forming the at least one vertical connection trench VT may be simultaneously performed through a single process. Accordingly, the etching gas may smoothly flow into the channel holes CH through the at least one vertical connection trench VT, thereby ensuring an etching profile.
단계(S1330)에서 제조 시스템은, 채널 홀들(CH) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 데이터 저장 패턴(DSP) 및 수직 채널 패턴(VCP)을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들(VS)을 연장 형성할 수 있다.In step S1330, the manufacturing system includes vertical channel structures (including the data storage pattern DSP and the vertical channel pattern VCP) in the vertical direction (eg, in the third direction D3) in the channel holes CH. VS) can be formed by extension.
보다 상세하게, 단계(S1330)는 도 14c, 15c 및 16c에 도시된 바와 같이 채널 홀들(CH)의 내측벽에 데이터 저장 패턴(DSP)을 형성하는 제1 단계 및 도 14d, 15d 및 16d에 도시된 바와 같이 데이터 저장 패턴(DSP)의 내측벽에 수직 채널 패턴(VCP)을 형성하는 제2 단계를 포함할 수 있다(수직 반도체 패턴(VSP)이 포함되는 경우 수직 채널 패턴(VCP)과 함께 수직 반도체 패턴(VSP)도 형성).In more detail, step S1330 is the first step of forming the data storage pattern DSP on the inner walls of the channel holes CH as shown in FIGS. 14C, 15C and 16C and FIGS. 14D, 15D and 16D. As described above, a second step of forming a vertical channel pattern VCP on an inner wall of the data storage pattern DSP (when the vertical semiconductor pattern VSP is included, the vertical channel pattern VCP is formed together with the vertical channel pattern VCP). Semiconductor pattern (VSP) is also formed).
단계(S1340)에서 제조 시스템은, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다.In operation S1340 , the manufacturing system may extend and form at least one vertical connection pattern VP in the vertical direction (eg, the third direction D3 ) within the at least one vertical connection trench VT.
여기서, 단계(S1330) 및 단계(S1340)는 도 14c, 15c 및 16c에 도시된 바와 같이 동일한 공정을 통해 동시에 수행되는 것을 특징으로 할 수 있다. 보다 상세하게, 제조 시스템은 채널 홀들(CH) 내에 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 데이터 저장 패턴(DSP)를 증착하는 공정을 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에도 데이터 저장 패턴(DSP)을 증착함으로써 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다. 이에, 단계(S1340)는 단계(S1330)의 제1 단계가 수행됨에 따라 데이터 저장 패턴(DSP)으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 형성하는 단계일 수 있으며, 이를 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 매립하는 공정의 단순화가 도모될 수 있다.Here, steps S1330 and S1340 may be performed simultaneously through the same process as shown in FIGS. 14c, 15c, and 16c. In more detail, the manufacturing system is a data storage pattern (DSP) in at least one vertical connection trench (VT) through a process of depositing the data storage pattern (DSP) of each of the vertical channel structures (VS) in the channel holes (CH). ), it is possible to extend and form at least one vertical connection pattern (VP). Accordingly, step S1340 may be a step of forming at least one vertical connection pattern VP with the data storage pattern DSP as the first step of step S1330 is performed, and through this, at least one vertical connection A process of filling the trench VT may be simplified.
다른 실시예에 따른 제조 방법에서는 도 4 내지 12를 참조하여 설명된 구조의 마스크 패턴이 사용되지 않기 때문에, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS) 각각과 접촉되는 에지에는 라운딩 형상 부분(미도시)이 포함될 수 있다. 이는 도 15c에 도시된 바와 같이 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)에 심(Seam)을 야기하고, 단계(S1330)의 제2 단계가 수행됨에 따라 심에 수직 채널 패턴(VCP)이 충진되도록 한다.Since the mask pattern having the structure described with reference to FIGS. 4 to 12 is not used in the manufacturing method according to another embodiment, at an edge where at least one vertical connection pattern VP contacts each of the vertical channel structures VS, A round shaped portion (not shown) may be included. This causes a seam in at least one vertical connection pattern (VP) as shown in FIG. 15C, and as the second step of step S1330 is performed, the vertical channel pattern (VCP) is filled in the seam. .
따라서, 다른 실시예에 따른 제조 방법에서는, 단계(S1350)를 통해 제조 시스템이 수직 채널 패턴(VCP)이 충진된 심을 제거함으로써, 수직 채널 패턴(VCP)이 충진된 심에 의한 쇼트 등의 문제를 미연에 방지할 수 있다.Therefore, in the manufacturing method according to another embodiment, the manufacturing system removes the seams filled with the vertical channel patterns (VCP) through step S1350, thereby solving problems such as short circuit caused by the seams filled with the vertical channel patterns (VCP). can be prevented in advance.
보다 상세하게, 단계(S1340) 이후의 단계(S1350)에서 제조시스템은, 도 14e, 15e 및 16e에 도시된 바와 같이 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP) 내에 심(Seam)이 형성된 깊이(D1)까지 반도체 구조체(SEMI-STR)의 상면을 식각할 수 있다.More specifically, in the step S1350 after step S1340, the manufacturing system determines the depth D1 at which a seam is formed in at least one vertical connection pattern VP, as shown in FIGS. 14e, 15e and 16e. The upper surface of the semiconductor structure (SEMI-STR) may be etched until.
이상, 3차원 플래시 메모리가 하나의 반도체 구조체를 기반으로 제조되는 것이 설명되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고, 복수의 스택 구조체들이 적층되는 스택 적층 방식으로 제조될 수도 있다. 이에 대한 상세한 설명은 아래의 도 17을 통해 기재하기로 한다.Although it has been described above that the 3D flash memory is manufactured based on one semiconductor structure, it is not limited or limited thereto, and may be manufactured in a stack stacking method in which a plurality of stack structures are stacked. A detailed description thereof will be described with reference to FIG. 17 below.
도 17은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 게이트 퍼스트 방식에 더해 스택 방식을 적용한 다른 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.FIG. 17 is a flow chart illustrating a manufacturing method according to another embodiment in which a stack method is applied in addition to the gate first method to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
이하, 다른 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은 게이트 퍼스트 방식을 적용하여 도 2 내지 3을 참조로 설명된 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하기 위한 것으로, 자동화 및 기계화된 제조 시스템에 의해 수행됨을 전제로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a 3D flash memory according to another embodiment is for manufacturing a 3D flash memory having the structure described with reference to FIGS. 2 and 3 by applying a gate first method, by an automated and mechanized manufacturing system. assuming it is done.
또한, 이하, 제조 방법은 설명의 편의를 위해 층간 절연막들(ILD), 워드 라인들(WL0-WLn), 수직 채널 구조체들(VS) 및 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 포함하는 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하는 것으로 기재된다. 3차원 플래시 메모리의 각 구성부를 구성하는 구성 물질은, 도 2 내지 3을 참조하여 설명되었으므로, 그 상세한 설명은 생략한다.In addition, hereinafter, a manufacturing method of a structure including interlayer insulating films (ILD), word lines (WL0 - WLn), vertical channel structures (VS) and at least one vertical connection pattern (VP) for convenience of description. It is described as fabricating a three-dimensional flash memory. Since constituent materials constituting each constituent part of the 3D flash memory have been described with reference to FIGS. 2 and 3 , detailed description thereof will be omitted.
단계(S1710)에서 제조 시스템은, 수평 방향(예컨대, 제3 방향(D2))로 연장 형성되며 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 교대로 적층된 층간 절연막들(ILD) 및 워드 라인들(WL0-WLn)을 각각 포함하는 스택 구조체들(ST-STR)을 준비할 수 있다.In step S1710, the manufacturing system extends in the horizontal direction (eg, the third direction D2) and alternately stacks the interlayer insulating films ILD and the word in the vertical direction (eg, the third direction D3). Stack structures ST-STR each including the lines WL0-WLn may be prepared.
단계(S1720)에서 제조 시스템은, 스택 구조체들(ST-STR) 각각에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 채널 홀들(CH) 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성할 수 있다.In operation S1720, the manufacturing system extends channel holes CH and at least one vertical connection trench VT in a vertical direction (eg, in the third direction D3) to each of the stack structures ST-STR. can do.
여기서, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)는 채널 홀들(CH)을 수평 평면 상에서 서로 연결시키는 위치에 형성될 수 있다.Here, at least one vertical connection trench VT may be formed at a position connecting the channel holes CH to each other on a horizontal plane.
또한, 제조 시스템은 수평 평면 상 채널 홀들(CH) 각각의 크기보다 작은 크기로 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 형성할 수 있다. 이를 통해 후술되는 단계(S1740)에서 형성되는 수직 채널 구조체들(VS)은 GAA(Gate All Around) 구조를 유지할 수 있으며, 셀 스트링(CSTR)에 가해지는 필드 특성이 GAA 구조와 동일하게 유지될 수 있다.In addition, the manufacturing system may form at least one vertical connection trench VT with a size smaller than each of the channel holes CH on a horizontal plane. Through this, the vertical channel structures VS formed in step S1740 to be described later can maintain a GAA (Gate All Around) structure, and the field characteristics applied to the cell string CSTR can be maintained the same as the GAA structure. there is.
단계(S1720)에서 채널 홀들(CH)이 연장 형성되는 것과 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성하는 것은, 단일 공정을 통해 동시에 수행됨을 특징으로 할 수 있다. 이에, 식각용 가스가 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 채널 홀들(CH)로 원활히 유입됨으로써, 식각 프로파일이 확보될 수 있다.In operation S1720, extending and forming the channel holes CH and extending and forming the at least one vertical connection trench VT may be simultaneously performed through a single process. Accordingly, the etching gas may smoothly flow into the channel holes CH through the at least one vertical connection trench VT, thereby ensuring an etching profile.
단계(S1730)에서 제조 시스템은, 스택 구조체들(ST-STR)을 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적층할 수 있다.In operation S1730 , the manufacturing system may stack the stack structures ST-STR in a vertical direction (eg, in the third direction D3 ).
단계(S1740)에서 제조 시스템은, 스택 구조체들(ST-STR)이 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적층된 반도체 구조체(SEMI-STR)에서 채널 홀들(CH) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 데이터 저장 패턴(DSP) 및 수직 채널 패턴(VCP)을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들(VS)을 연장 형성할 수 있다.In step S1740, the manufacturing system performs a vertical direction (eg, in the channel holes CH in the semiconductor structure SEMI-STR in which the stack structures ST-STR are stacked in the vertical direction (eg, the third direction D3)). For example, vertical channel structures VS each including the data storage pattern DSP and the vertical channel pattern VCP may be extended in the third direction D3 .
보다 상세하게, 단계(S1740)는 채널 홀들(CH)의 내측벽에 데이터 저장 패턴(DSP)을 형성하는 제1 단계 및 데이터 저장 패턴(DSP)의 내측벽에 수직 채널 패턴(VCP)을 형성하는 제2 단계를 포함할 수 있다(수직 반도체 패턴(VSP)이 포함되는 경우 수직 채널 패턴(VCP)과 함께 수직 반도체 패턴(VSP)도 형성).In more detail, step S1740 is a first step of forming data storage patterns DSP on inner walls of channel holes CH and forming vertical channel patterns VCP on inner walls of data storage patterns DSP. A second step may be included (if the vertical semiconductor pattern VSP is included, the vertical semiconductor pattern VSP is also formed together with the vertical channel pattern VCP).
단계(S1750)에서 제조 시스템은, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다.In operation S1750 , the manufacturing system may extend and form at least one vertical connection pattern VP in the vertical direction (eg, the third direction D3 ) within the at least one vertical connection trench VT.
여기서, 단계(S1740) 및 단계(S1750)는 동일한 공정을 통해 동시에 수행되는 것을 특징으로 할 수 있다. 보다 상세하게, 제조 시스템은 채널 홀들(CH) 내에 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 데이터 저장 패턴(DSP)를 증착하는 공정을 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에도 데이터 저장 패턴(DSP)을 증착함으로써 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다. 이에, 단계(S1750)는 단계(S1740)의 제1 단계가 수행됨에 따라 데이터 저장 패턴(DSP)으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 형성하는 단계일 수 있으며, 이를 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 매립하는 공정의 단순화가 도모될 수 있다.Here, steps S1740 and S1750 may be performed simultaneously through the same process. In more detail, the manufacturing system is a data storage pattern (DSP) in at least one vertical connection trench (VT) through a process of depositing the data storage pattern (DSP) of each of the vertical channel structures (VS) in the channel holes (CH). ), it is possible to extend and form at least one vertical connection pattern (VP). Accordingly, step S1750 may be a step of forming at least one vertical connection pattern VP with the data storage pattern DSP as the first step of step S1740 is performed, through which at least one vertical connection pattern is formed. A process of filling the trench VT may be simplified.
다른 실시예에 따른 제조 방법에서는 도 4 내지 12를 참조하여 설명된 구조의 마스크 패턴이 사용되지 않기 때문에, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS) 각각과 접촉되는 에지에는 라운딩 형상 부분(미도시)이 포함될 수 있다. 이는 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)에 심(Seam)을 야기하고, 단계(S1740)의 제2 단계가 수행됨에 따라 심에 수직 채널 패턴(VCP)이 충진되도록 한다.Since the mask pattern having the structure described with reference to FIGS. 4 to 12 is not used in the manufacturing method according to another embodiment, at an edge where at least one vertical connection pattern VP contacts each of the vertical channel structures VS, A round shaped portion (not shown) may be included. This causes a seam in at least one vertical connection pattern (VP), and allows the vertical channel pattern (VCP) to be filled in the seam as the second step of step S1740 is performed.
따라서, 다른 실시예에 따른 제조 방법에서는, 단계(S1760)를 통해 제조 시스템이 수직 채널 패턴(VCP)이 충진된 심을 제거함으로써, 수직 채널 패턴(VCP)이 충진된 심에 의한 쇼트 등의 문제를 미연에 방지할 수 있다.Therefore, in the manufacturing method according to another embodiment, the manufacturing system removes the seam filled with the vertical channel pattern (VCP) through step S1760, thereby solving problems such as short circuit caused by the seam filled with the vertical channel pattern (VCP). can be prevented in advance.
보다 상세하게, 단계(S1750) 이후의 단계(S1760)에서 제조시스템은, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP) 내에 심(Seam)이 형성된 깊이(D1)까지 반도체 구조체(SEMI-STR)의 상면을 식각할 수 있다.More specifically, in step S1760 after step S1750, the manufacturing system manufactures the upper surface of the semiconductor structure SEMI-STR to a depth D1 at which a seam is formed in at least one vertical connection pattern VP. can be etched.
이상, 3차원 플래시 메모리가 게이트 퍼스트 방식을 기반으로 제조되는 것이 설명되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고, 워드라인 리플레이스먼트 방식을 기반으로 제조될 수도 있다. 이에 대한 상세한 설명은 아래의 도 18 및 19를 통해 기재하기로 한다.Although it has been described above that the 3D flash memory is manufactured based on the gate first method, it is not limited thereto and may be manufactured based on the word line replacement method. A detailed description thereof will be described with reference to FIGS. 18 and 19 below.
도 18은 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 워드 라인 리플레이스먼트 방식을 적용한 다른 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.FIG. 18 is a flowchart illustrating a manufacturing method according to another embodiment in which a word line replacement method is applied to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
이하, 다른 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은 워드라인 리플레이스먼트 방식을 적용하여 도 2 내지 3을 참조로 설명된 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하기 위한 것으로, 자동화 및 기계화된 제조 시스템에 의해 수행됨을 전제로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a 3D flash memory according to another embodiment is for manufacturing a 3D flash memory having the structure described with reference to FIGS. 2 and 3 by applying a word line replacement method, and is automated and mechanized manufacturing. It is assumed that it is performed by the system.
또한, 이하, 제조 방법은 설명의 편의를 위해 층간 절연막들(ILD), 워드 라인들(WL0-WLn), 수직 채널 구조체들(VS) 및 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 포함하는 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하는 것으로 기재된다. 3차원 플래시 메모리의 각 구성부를 구성하는 구성 물질은, 도 2 내지 3을 참조하여 설명되었으므로, 그 상세한 설명은 생략한다.In addition, hereinafter, a manufacturing method of a structure including interlayer insulating films (ILD), word lines (WL0 - WLn), vertical channel structures (VS) and at least one vertical connection pattern (VP) for convenience of description. It is described as fabricating a three-dimensional flash memory. Since constituent materials constituting each constituent part of the 3D flash memory have been described with reference to FIGS. 2 and 3 , detailed description thereof will be omitted.
단계(S1810)에서 제조 시스템은, 수평 방향(예컨대, 제3 방향(D2))로 연장 형성되며 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 교대로 적층된 층간 절연막들(ILD) 및 희생층들(SAC)을 포함하는 반도체 구조체(SEMI-STR)를 준비할 수 있다.In step S1810, the manufacturing system extends in the horizontal direction (eg, the third direction D2) and alternately stacks the interlayer insulating films ILD and the sacrificial in the vertical direction (eg, the third direction D3). A semiconductor structure SEMI-STR including the layers SAC may be prepared.
단계(S1820)에서 제조 시스템은, 반도체 구조체(SEMI-STR)에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 채널 홀들(CH) 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성할 수 있다.In operation S1820, the manufacturing system may extend and form channel holes CH and at least one vertical connection trench VT in the semiconductor structure SEMI-STR in a vertical direction (eg, in the third direction D3). there is.
여기서, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)는 채널 홀들(CH)을 수평 평면 상에서 서로 연결시키는 위치에 형성될 수 있다.Here, at least one vertical connection trench VT may be formed at a position connecting the channel holes CH to each other on a horizontal plane.
또한, 제조 시스템은 수평 평면 상 채널 홀들(CH) 각각의 크기보다 작은 크기로 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 형성할 수 있다. 이를 통해 후술되는 단계(S1840)에서 형성되는 수직 채널 구조체들(VS)은 GAA(Gate All Around) 구조를 유지할 수 있으며, 셀 스트링(CSTR)에 가해지는 필드 특성이 GAA 구조와 동일하게 유지될 수 있다.In addition, the manufacturing system may form at least one vertical connection trench VT with a size smaller than each of the channel holes CH on a horizontal plane. Through this, the vertical channel structures VS formed in step S1840 to be described below can maintain a GAA (Gate All Around) structure, and the field characteristics applied to the cell string CSTR can be maintained the same as the GAA structure. there is.
단계(S1820)에서 채널 홀들(CH)이 연장 형성되는 것과 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성하는 것은, 단일 공정을 통해 동시에 수행됨을 특징으로 할 수 있다. 이에, 식각용 가스가 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 채널 홀들(CH)로 원활히 유입됨으로써, 식각 프로파일이 확보될 수 있다.In operation S1820, extending and forming the channel holes CH and extending and forming the at least one vertical connection trench VT may be simultaneously performed through a single process. Accordingly, the etching gas may smoothly flow into the channel holes CH through the at least one vertical connection trench VT, thereby ensuring an etching profile.
단계(S1830)에서 제조 시스템은, 희생층들(SAC)을 제거하여 희생층들(SAC)이 제거된 공간들에 워드 라인들(WL0-WLn)을 형성할 수 있다. 희생층들(SAC)이 제거되는 것과 워드 라인들(WL0-WLn)을 형성하고자 도전성 물질이 충진되는 것은, 채널 홀들(CH) 또는 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 이루어질 수 있으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 분리 트렌치(TR)(미도시)를 통해 이루어지거나, 별도의 트렌치(미도시)를 통해 이루어질 수도 있다.In operation S1830 , the manufacturing system may remove the sacrificial layers SAC to form word lines WL0 - WLn in spaces from which the sacrificial layers SAC are removed. The removal of the sacrificial layers SAC and the filling of the conductive material to form the word lines WL0 - WLn may be performed through the channel holes CH or at least one vertical connection trench VT, but this It may be formed through an isolation trench TR (not shown) with or without limitation, or through a separate trench (not shown).
단계(S1840)에서 제조 시스템은, 채널 홀들(CH) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 데이터 저장 패턴(DSP) 및 수직 채널 패턴(VCP)을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들(VS)을 연장 형성할 수 있다.In step S1840, the manufacturing system includes vertical channel structures (including the data storage pattern DSP and the vertical channel pattern VCP) in the vertical direction (eg, the third direction D3) in the channel holes CH. VS) can be formed by extension.
보다 상세하게, 단계(S1840)는 채널 홀들(CH)의 내측벽에 데이터 저장 패턴(DSP)을 형성하는 제1 단계 및 데이터 저장 패턴(DSP)의 내측벽에 수직 채널 패턴(VCP)을 형성하는 제2 단계를 포함할 수 있다(수직 반도체 패턴(VSP)이 포함되는 경우 수직 채널 패턴(VCP)과 함께 수직 반도체 패턴(VSP)도 형성).In more detail, step S1840 is a first step of forming data storage patterns DSP on inner walls of channel holes CH and forming vertical channel patterns VCP on inner walls of data storage patterns DSP. A second step may be included (if the vertical semiconductor pattern VSP is included, the vertical semiconductor pattern VSP is also formed together with the vertical channel pattern VCP).
단계(S1850)에서 제조 시스템은, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다.In operation S1850 , the manufacturing system may extend and form at least one vertical connection pattern VP in the at least one vertical connection trench VT in a vertical direction (eg, in the third direction D3 ).
여기서, 단계(S1840) 및 단계(S1850)는 동일한 공정을 통해 동시에 수행되는 것을 특징으로 할 수 있다. 보다 상세하게, 제조 시스템은 채널 홀들(CH) 내에 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 데이터 저장 패턴(DSP)를 증착하는 공정을 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에도 데이터 저장 패턴(DSP)을 증착함으로써 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다. 이에, 단계(S1850)는 단계(S1840)의 제1 단계가 수행됨에 따라 데이터 저장 패턴(DSP)으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 형성하는 단계일 수 있으며, 이를 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 매립하는 공정의 단순화가 도모될 수 있다.Here, steps S1840 and S1850 may be performed simultaneously through the same process. In more detail, the manufacturing system is a data storage pattern (DSP) in at least one vertical connection trench (VT) through a process of depositing the data storage pattern (DSP) of each of the vertical channel structures (VS) in the channel holes (CH). ), it is possible to extend and form at least one vertical connection pattern (VP). Accordingly, step S1850 may be a step of forming at least one vertical connection pattern VP with the data storage pattern DSP as the first step of step S1840 is performed, through which at least one vertical connection pattern is formed. A process of filling the trench VT may be simplified.
다른 실시예에 따른 제조 방법에서는 도 4 내지 12를 참조하여 설명된 구조의 마스크 패턴이 사용되지 않기 때문에, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS) 각각과 접촉되는 에지에는 라운딩 형상 부분(미도시)이 포함될 수 있다. 이는 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)에 심(Seam)을 야기하고, 단계(S1840)의 제2 단계가 수행됨에 따라 심에 수직 채널 패턴(VCP)이 충진되도록 한다.Since the mask pattern having the structure described with reference to FIGS. 4 to 12 is not used in the manufacturing method according to another embodiment, at an edge where at least one vertical connection pattern VP contacts each of the vertical channel structures VS, A round shaped portion (not shown) may be included. This causes a seam in at least one vertical connection pattern (VP), and allows the vertical channel pattern (VCP) to be filled in the seam as the second step of step S1840 is performed.
따라서, 다른 실시예에 따른 제조 방법에서는, 단계(S1860)를 통해 제조 시스템이 수직 채널 패턴(VCP)이 충진된 심을 제거함으로써, 수직 채널 패턴(VCP)이 충진된 심에 의한 쇼트 등의 문제를 미연에 방지할 수 있다.Therefore, in the manufacturing method according to another embodiment, the manufacturing system removes the seam filled with the vertical channel pattern (VCP) through step S1860, thereby solving problems such as short circuit caused by the seam filled with the vertical channel pattern (VCP). can be prevented in advance.
보다 상세하게, 단계(S1850) 이후의 단계(S1860)에서 제조시스템은, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP) 내에 심(Seam)이 형성된 깊이(D1)까지 반도체 구조체(SEMI-STR)의 상면을 식각할 수 있다.In more detail, in step S1860 after step S1850, the manufacturing system manufactures the upper surface of the semiconductor structure SEMI-STR to a depth D1 at which a seam is formed in at least one vertical connection pattern VP. can be etched.
이상, 3차원 플래시 메모리가 하나의 반도체 구조체를 기반으로 제조되는 것이 설명되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고, 복수의 스택 구조체들이 적층되는 스택 적층 방식으로 제조될 수도 있다. 이에 대한 상세한 설명은 아래의 도 19를 통해 기재하기로 한다.Although it has been described above that the 3D flash memory is manufactured based on one semiconductor structure, it is not limited or limited thereto, and may be manufactured in a stack stacking method in which a plurality of stack structures are stacked. A detailed description thereof will be described with reference to FIG. 19 below.
도 19는 도 2 내지 3에 도시된 3차원 플래시 메모리를 제조하고자 워드 라인 리플레이스먼트 방식에 더해 스택 방식을 적용한 다른 실시예에 따른 제조 방법을 도시한 플로우 차트이다.19 is a flowchart illustrating a manufacturing method according to another embodiment in which a stack method is applied in addition to a word line replacement method to manufacture the 3D flash memory shown in FIGS. 2 and 3 .
이하, 다른 실시예에 따른 3차원 플래시 메모리의 제조 방법은 워드라인 리플레이스먼트 방식을 적용하여 도 2 내지 3을 참조로 설명된 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하기 위한 것으로, 자동화 및 기계화된 제조 시스템에 의해 수행됨을 전제로 한다.Hereinafter, a method of manufacturing a 3D flash memory according to another embodiment is for manufacturing a 3D flash memory having the structure described with reference to FIGS. 2 and 3 by applying a word line replacement method, and is automated and mechanized manufacturing. It is assumed that it is performed by the system.
또한, 이하, 제조 방법은 설명의 편의를 위해 층간 절연막들(ILD), 워드 라인들(WL0-WLn), 수직 채널 구조체들(VS) 및 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 포함하는 구조의 3차원 플래시 메모리를 제조하는 것으로 기재된다. 3차원 플래시 메모리의 각 구성부를 구성하는 구성 물질은, 도 2 내지 3을 참조하여 설명되었으므로, 그 상세한 설명은 생략한다.In addition, hereinafter, a manufacturing method of a structure including interlayer insulating films (ILD), word lines (WL0 - WLn), vertical channel structures (VS) and at least one vertical connection pattern (VP) for convenience of description. It is described as fabricating a three-dimensional flash memory. Since constituent materials constituting each constituent part of the 3D flash memory have been described with reference to FIGS. 2 and 3 , detailed description thereof will be omitted.
단계(S1910)에서 제조 시스템은, 수평 방향(예컨대, 제3 방향(D2))로 연장 형성되며 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 교대로 적층된 층간 절연막들(ILD) 및 워드 라인들(WL0-WLn)을 각각 포함하는 스택 구조체들(ST-STR)을 준비할 수 있다.In step S1910, the manufacturing system extends in the horizontal direction (eg, the third direction D2) and alternately stacks the interlayer insulating films ILD and the word in the vertical direction (eg, the third direction D3). Stack structures ST-STR each including the lines WL0-WLn may be prepared.
단계(S1920)에서 제조 시스템은, 스택 구조체들(ST-STR) 각각에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 채널 홀들(CH) 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성할 수 있다.In step S1920, the manufacturing system extends and forms channel holes CH and at least one vertical connection trench VT in the vertical direction (eg, the third direction D3) in each of the stack structures ST-STR. can do.
여기서, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)는 채널 홀들(CH)을 수평 평면 상에서 서로 연결시키는 위치에 형성될 수 있다.Here, at least one vertical connection trench VT may be formed at a position connecting the channel holes CH to each other on a horizontal plane.
또한, 제조 시스템은 수평 평면 상 채널 홀들(CH) 각각의 크기보다 작은 크기로 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 형성할 수 있다. 이를 통해 후술되는 단계(S1250)에서 형성되는 수직 채널 구조체들(VS)은 GAA(Gate All Around) 구조를 유지할 수 있으며, 셀 스트링(CSTR)에 가해지는 필드 특성이 GAA 구조와 동일하게 유지될 수 있다.In addition, the manufacturing system may form at least one vertical connection trench VT with a size smaller than each of the channel holes CH on a horizontal plane. Through this, the vertical channel structures VS formed in step S1250 to be described below can maintain a GAA (Gate All Around) structure, and the field characteristics applied to the cell string CSTR can be maintained the same as the GAA structure. there is.
단계(S1920)에서 채널 홀들(CH)이 연장 형성되는 것과 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 연장 형성하는 것은, 단일 공정을 통해 동시에 수행됨을 특징으로 할 수 있다. 이에, 식각용 가스가 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 채널 홀들(CH)로 원활히 유입됨으로써, 식각 프로파일이 확보될 수 있다.In operation S1920, extending and forming the channel holes CH and extending and forming the at least one vertical connection trench VT may be simultaneously performed through a single process. Accordingly, the etching gas may smoothly flow into the channel holes CH through the at least one vertical connection trench VT, thereby ensuring an etching profile.
단계(S1930)에서 제조 시스템은, 스택 구조체들(ST-STR)을 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적층할 수 있다.In operation S1930 , the manufacturing system may stack the stack structures ST-STR in a vertical direction (eg, in the third direction D3 ).
단계(S1940)에서 제조 시스템은, 희생층들(SAC)을 제거하여 희생층들(SAC)이 제거된 공간들에 워드 라인들(WL0-WLn)을 형성할 수 있다. 희생층들(SAC)이 제거되는 것과 워드 라인들(WL0-WLn)을 형성하고자 도전성 물질이 충진되는 것은, 채널 홀들(CH) 또는 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 통해 이루어질 수 있으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고 분리 트렌치(TR)(미도시)를 통해 이루어지거나, 별도의 트렌치(미도시)를 통해 이루어질 수도 있다.In operation S1940 , the manufacturing system may remove the sacrificial layers SAC to form word lines WL0 - WLn in spaces where the sacrificial layers SAC are removed. The removal of the sacrificial layers SAC and the filling of the conductive material to form the word lines WL0 - WLn may be performed through the channel holes CH or at least one vertical connection trench VT, but this It may be formed through an isolation trench TR (not shown) with or without limitation, or through a separate trench (not shown).
단계(S1950)에서 제조 시스템은, 스택 구조체들(ST-STR)이 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적층된 반도체 구조체(SEMI-STR)에서 채널 홀들(CH) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 데이터 저장 패턴(DSP) 및 수직 채널 패턴(VCP)을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들(VS)을 연장 형성할 수 있다.In step S1950, the manufacturing system performs a vertical direction (eg, in the channel holes CH in the semiconductor structure SEMI-STR in which the stack structures ST-STR are stacked in the vertical direction (eg, the third direction D3)). For example, vertical channel structures VS each including the data storage pattern DSP and the vertical channel pattern VCP may be extended in the third direction D3 .
보다 상세하게, 단계(S1950)는 채널 홀들(CH)의 내측벽에 데이터 저장 패턴(DSP)을 형성하는 제1 단계 및 데이터 저장 패턴(DSP)의 내측벽에 수직 채널 패턴(VCP)을 형성하는 제2 단계를 포함할 수 있다(수직 반도체 패턴(VSP)이 포함되는 경우 수직 채널 패턴(VCP)과 함께 수직 반도체 패턴(VSP)도 형성).In more detail, step S1950 is a first step of forming data storage patterns DSP on inner walls of channel holes CH and forming vertical channel patterns VCP on inner walls of data storage patterns DSP. A second step may be included (if the vertical semiconductor pattern VSP is included, the vertical semiconductor pattern VSP is also formed together with the vertical channel pattern VCP).
단계(S1960)에서 제조 시스템은, 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에 수직 방향(예컨대, 제3 방향(D3))으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다.In operation S1960 , the manufacturing system may extend and form at least one vertical connection pattern VP in the at least one vertical connection trench VT in a vertical direction (eg, in the third direction D3 ).
여기서, 단계(S1950) 및 단계(S1960)는 동일한 공정을 통해 동시에 수행되는 것을 특징으로 할 수 있다. 보다 상세하게, 제조 시스템은 채널 홀들(CH) 내에 수직 채널 구조체들(VS) 각각의 데이터 저장 패턴(DSP)를 증착하는 공정을 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT) 내에도 데이터 저장 패턴(DSP)을 증착함으로써 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 연장 형성할 수 있다. 이에, 단계(S1960)는 단계(S1950)의 제1 단계가 수행됨에 따라 데이터 저장 패턴(DSP)으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)을 형성하는 단계일 수 있으며, 이를 통해 적어도 하나의 수직 연결 트렌치(VT)를 매립하는 공정의 단순화가 도모될 수 있다.Here, steps S1950 and S1960 may be performed simultaneously through the same process. In more detail, the manufacturing system is a data storage pattern (DSP) in at least one vertical connection trench (VT) through a process of depositing the data storage pattern (DSP) of each of the vertical channel structures (VS) in the channel holes (CH). ), it is possible to extend and form at least one vertical connection pattern (VP). Thus, step S1960 may be a step of forming at least one vertical connection pattern VP with the data storage pattern DSP as the first step of step S1950 is performed, and through this, at least one vertical connection A process of filling the trench VT may be simplified.
다른 실시예에 따른 제조 방법에서는 도 4 내지 12를 참조하여 설명된 구조의 마스크 패턴이 사용되지 않기 때문에, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)이 수직 채널 구조체들(VS) 각각과 접촉되는 에지에는 라운딩 형상 부분(미도시)이 포함될 수 있다. 이는 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP)에 심(Seam)을 야기하고, 단계(S1950)의 제2 단계가 수행됨에 따라 심에 수직 채널 패턴(VCP)이 충진되도록 한다.Since the mask pattern having the structure described with reference to FIGS. 4 to 12 is not used in the manufacturing method according to another embodiment, at an edge where at least one vertical connection pattern VP contacts each of the vertical channel structures VS, A round shaped portion (not shown) may be included. This causes a seam in at least one vertical connection pattern (VP), and allows the vertical channel pattern (VCP) to be filled in the seam as the second step of step S1950 is performed.
따라서, 다른 실시예에 따른 제조 방법에서는, 단계(S1970)를 통해 제조 시스템이 수직 채널 패턴(VCP)이 충진된 심을 제거함으로써, 수직 채널 패턴(VCP)이 충진된 심에 의한 쇼트 등의 문제를 미연에 방지할 수 있다.Therefore, in the manufacturing method according to another embodiment, the manufacturing system removes the seam filled with the vertical channel pattern (VCP) through step S1970, thereby solving problems such as short circuit caused by the seam filled with the vertical channel pattern (VCP). can be prevented in advance.
보다 상세하게, 단계(S1960) 이후의 단계(S1970)에서 제조시스템은, 적어도 하나의 수직 연결 패턴(VP) 내에 심(Seam)이 형성된 깊이(D1)까지 반도체 구조체(SEMI-STR)의 상면을 식각할 수 있다.More specifically, in step S1970 after step S1960, the manufacturing system manufactures the upper surface of the semiconductor structure SEMI-STR to a depth D1 at which a seam is formed in at least one vertical connection pattern VP. can be etched.
이상, 수직 채널 패턴(VCP)이 충진된 심을 제거하는 공정을 포함하는 다른 실시예에 따른 제조 방법이, 세리프 형상 부분을 포함하는 마스크 패턴을 이용하는 공정을 포함하는 일 실시예에 따른 제조 방법과 독립적인 것으로 설명되었으나 이에 제한되거나 한정되지 않고, 수직 채널 패턴(VCP)이 충진된 심을 제거하는 공정은 세리프 형상 부분을 포함하는 마스크 패턴을 이용하는 공정을 포함하는 일 실시예에 따른 제조 방법에서도 수행될 수 있다.As described above, a manufacturing method according to another embodiment including a process of removing a seam filled with a vertical channel pattern (VCP) is independent of a manufacturing method according to an embodiment including a process of using a mask pattern including serif-shaped portions. Although it has been described as being, but is not limited thereto, the process of removing the seam filled with the vertical channel pattern (VCP) may also be performed in a manufacturing method according to an embodiment including a process of using a mask pattern including a serif-shaped portion. there is.
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.As described above, although the embodiments have been described with limited examples and drawings, those skilled in the art can make various modifications and variations from the above description. For example, the described techniques may be performed in an order different from the method described, and/or components of the described system, structure, device, circuit, etc. may be combined or combined in a different form than the method described, or other components may be used. Or even if it is replaced or substituted by equivalents, appropriate results can be achieved.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.Therefore, other implementations, other embodiments, and equivalents of the claims are within the scope of the following claims.
Claims (13)
상기 마스크 패턴은,
상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 상기 수직 채널 구조체들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴.Vertical channel structures extending in a vertical direction in a 3D flash memory, each of the vertical channel structures including a vertical channel pattern extending in the vertical direction and a data storage pattern formed surrounding an outer wall of the vertical channel pattern, and In the mask pattern used to connect the vertical channel structures to each other on a horizontal plane and form at least one vertical connection pattern extending in the vertical direction,
The mask pattern,
The mask pattern, characterized in that the at least one vertical connection pattern comprises a serif-shaped portion in a region corresponding to an edge (Edge) in contact with each of the vertical channel structures.
상기 마스크 패턴은,
상기 마스크 패턴이 사용되는 과정에서의 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 상기 세리프 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴.According to claim 1,
The mask pattern,
The mask pattern comprising the serif-shaped portion in consideration of OPC (Optical Proximity Correction) in the process of using the mask pattern.
상기 마스크 패턴은,
상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 상기 수직 채널 구조체들 각각과 접촉되는 에지에 라운딩(Rounding) 형상 부분이 포함되지 않도록 상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴이 상기 수직 채널 구조체들 각각과 접촉되는 에지에 대응하는 영역에 상기 세리프 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크 패턴.According to claim 2,
The mask pattern,
The at least one vertical connection pattern corresponds to an edge contacting each of the vertical channel structures so that the at least one vertical connection pattern does not include a rounding shape at the edge contacting each of the vertical channel structures. A mask pattern comprising the serif-shaped portion in an area.
상기 반도체 구조체의 상면에 배치된 마스크 패턴을 이용한 식각 공정을 통해, 상기 반도체 구조체에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계;
상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계; 및
상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계
를 포함하고,
상기 마스크 패턴은,
상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치가 상기 채널 홀들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법.preparing a semiconductor structure that extends in the horizontal direction and includes interlayer insulating films and word lines that are alternately stacked in the vertical direction;
Through an etching process using a mask pattern disposed on the upper surface of the semiconductor structure, channel holes and at least one vertical connection trench in the vertical direction are formed in the semiconductor structure - the at least one vertical connection trench forms the channel holes on a horizontal plane. Connecting each other - forming an extension;
extending and forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes; and
forming at least one vertical connection pattern extending in the vertical direction within the at least one vertical connection trench;
including,
The mask pattern,
The method of manufacturing a three-dimensional flash memory, characterized in that the at least one vertical connection trench comprises a serif-shaped portion in a region corresponding to an edge contacting each of the channel holes.
상기 스택 구조체들 각각의 상면에 배치된 마스크 패턴을 이용한 식각 공정을 통해, 상기 스택 구조체들 각각에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계;
상기 스택 구조체들을 상기 수직 방향으로 적층하는 단계;
상기 스택 구조체들이 상기 수직 방향으로 적층된 반도체 구조체에서 상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계; 및
상기 반도체 구조체에서 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계
를 포함하고,
상기 마스크 패턴은,
상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치가 상기 채널 홀들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법.preparing stack structures extending in the horizontal direction and including interlayer insulating films and word lines, respectively, which are alternately stacked in the vertical direction;
Through an etching process using a mask pattern disposed on the upper surface of each of the stack structures, channel holes and at least one vertical connection trench in the vertical direction are formed in each of the stack structures - the at least one vertical connection trench is the channel hole connecting them to each other on a horizontal plane;
stacking the stack structures in the vertical direction;
forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes in the semiconductor structure in which the stack structures are stacked in the vertical direction; and
forming at least one vertical connection pattern extending in the vertical direction in the at least one vertical connection trench in the semiconductor structure;
including,
The mask pattern,
The method of manufacturing a three-dimensional flash memory, characterized in that the at least one vertical connection trench comprises a serif-shaped portion in a region corresponding to an edge contacting each of the channel holes.
상기 반도체 구조체의 상면에 배치된 마스크 패턴을 이용한 식각 공정을 통해, 상기 반도체 구조체에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계;
상기 희생층들을 제거하여 상기 희생층들이 제거된 공간들에 워드 라인들을 형성하는 단계;
상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계; 및
상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계
를 포함하고,
상기 마스크 패턴은,
상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치가 상기 채널 홀들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법.Preparing a semiconductor structure that extends in the horizontal direction and includes interlayer insulating films and sacrificial layers that are alternately stacked in the vertical direction;
Through an etching process using a mask pattern disposed on the upper surface of the semiconductor structure, channel holes and at least one vertical connection trench in the vertical direction are formed in the semiconductor structure - the at least one vertical connection trench forms the channel holes on a horizontal plane. Connecting each other - forming an extension;
removing the sacrificial layers to form word lines in spaces where the sacrificial layers are removed;
extending and forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes; and
forming at least one vertical connection pattern extending in the vertical direction within the at least one vertical connection trench;
including,
The mask pattern,
The method of manufacturing a three-dimensional flash memory, characterized in that the at least one vertical connection trench comprises a serif-shaped portion in a region corresponding to an edge contacting each of the channel holes.
상기 스택 구조체들 각각의 상면에 배치된 마스크 패턴을 이용한 식각 공정을 통해, 상기 스택 구조체들 각각에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계;
상기 스택 구조체들을 상기 수직 방향으로 적층하는 단계;
상기 희생층들을 제거하여 상기 희생층들이 제거된 공간들에 워드 라인들을 형성하는 단계;
상기 스택 구조체들이 상기 수직 방향으로 적층된 반도체 구조체에서 상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계; 및
상기 반도체 구조체에서 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계
를 포함하고,
상기 마스크 패턴은,
상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치가 상기 채널 홀들 각각과 접촉되는 에지(Edge)에 대응하는 영역에 세리프(Serif) 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법.preparing stack structures extending in the horizontal direction and including interlayer insulating films and sacrificial layers that are alternately stacked in the vertical direction, respectively;
Through an etching process using a mask pattern disposed on the upper surface of each of the stack structures, channel holes and at least one vertical connection trench in the vertical direction are formed in each of the stack structures - the at least one vertical connection trench is the channel hole connecting them to each other on a horizontal plane;
stacking the stack structures in the vertical direction;
removing the sacrificial layers to form word lines in spaces where the sacrificial layers are removed;
forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes in the semiconductor structure in which the stack structures are stacked in the vertical direction; and
forming at least one vertical connection pattern extending in the vertical direction in the at least one vertical connection trench in the semiconductor structure;
including,
The mask pattern,
The method of manufacturing a three-dimensional flash memory, characterized in that the at least one vertical connection trench comprises a serif-shaped portion in a region corresponding to an edge contacting each of the channel holes.
상기 마스크 패턴은,
상기 마스크 패턴이 사용되는 과정에서의 OPC(Optical Proximity Correction)를 고려한 상기 세리프 형상 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법.According to any one of claims 4 to 7,
The mask pattern,
The method of manufacturing a three-dimensional flash memory comprising the serif-shaped portion in consideration of OPC (Optical Proximity Correction) in the process of using the mask pattern.
상기 반도체 구조체에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계;
상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계;
상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계; 및
상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴 내에 상 심(Seam)이 형성된 깊이까지 상기 반도체 구조체의 상면을 식각하는 단계
를 포함하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법.preparing a semiconductor structure that extends in the horizontal direction and includes interlayer insulating films and word lines that are alternately stacked in the vertical direction;
extending and forming channel holes and at least one vertical connection trench in the semiconductor structure in the vertical direction, wherein the at least one vertical connection trench connects the channel holes to each other on a horizontal plane;
extending and forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes;
extending and forming at least one vertical connection pattern in the vertical direction within the at least one vertical connection trench; and
Etching the upper surface of the semiconductor structure to a depth at which a seam is formed in the at least one vertical connection pattern.
Method of manufacturing a three-dimensional flash memory comprising a.
상기 스택 구조체들 각각에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계;
상기 스택 구조체들을 상기 수직 방향으로 적층하는 단계;
상기 스택 구조체들이 상기 수직 방향으로 적층된 반도체 구조체에서 상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계;
상기 반도체 구조체에서 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계; 및
상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴 내에 심(Seam)이 형성된 깊이까지 상기 반도체 구조체의 상면을 식각하는 단계
를 포함하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법.preparing stack structures extending in the horizontal direction and including interlayer insulating films and word lines, respectively, which are alternately stacked in the vertical direction;
extending and forming channel holes and at least one vertical connection trench in each of the stack structures in the vertical direction, wherein the at least one vertical connection trench connects the channel holes to each other on a horizontal plane;
stacking the stack structures in the vertical direction;
forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes in the semiconductor structure in which the stack structures are stacked in the vertical direction;
forming at least one vertical connection pattern extending in the vertical direction within the at least one vertical connection trench in the semiconductor structure; and
Etching the upper surface of the semiconductor structure to a depth at which a seam is formed in the at least one vertical connection pattern.
Method of manufacturing a three-dimensional flash memory comprising a.
상기 반도체 구조체에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계;
상기 희생층들을 제거하여 상기 희생층들이 제거된 공간들에 워드 라인들을 형성하는 단계;
상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계;
상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계; 및
상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴 내에 상 심(Seam)이 형성된 깊이까지 상기 반도체 구조체의 상면을 식각하는 단계
를 포함하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법.Preparing a semiconductor structure that extends in the horizontal direction and includes interlayer insulating films and sacrificial layers that are alternately stacked in the vertical direction;
extending and forming channel holes and at least one vertical connection trench in the semiconductor structure in the vertical direction, wherein the at least one vertical connection trench connects the channel holes to each other on a horizontal plane;
removing the sacrificial layers to form word lines in spaces where the sacrificial layers are removed;
extending and forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes;
extending and forming at least one vertical connection pattern in the vertical direction within the at least one vertical connection trench; and
Etching the upper surface of the semiconductor structure to a depth at which a seam is formed in the at least one vertical connection pattern.
Method of manufacturing a three-dimensional flash memory comprising a.
상기 스택 구조체들 각각에 상기 수직 방향으로 채널 홀들 및 적어도 하나의 수직 연결 트렌치-상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치는 상기 채널 홀들을 수평 평면 상에서 서로 연결시킴-를 연장 형성하는 단계;
상기 스택 구조체들을 상기 수직 방향으로 적층하는 단계;
상기 희생층들을 제거하여 상기 희생층들이 제거된 공간들에 워드 라인들을 형성하는 단계;
상기 스택 구조체들이 상기 수직 방향으로 적층된 반도체 구조체에서 상기 채널 홀들 내에 상기 수직 방향으로 데이터 저장 패턴 및 수직 채널 패턴을 각각 포함하는 수직 채널 구조체들을 연장 형성하는 단계;
상기 반도체 구조체에서 상기 적어도 하나의 수직 연결 트렌치 내에 상기 수직 방향으로 적어도 하나의 수직 연결 패턴을 연장 형성하는 단계; 및
상기 적어도 하나의 수직 연결 패턴 내에 상 심(Seam)이 형성된 깊이까지 상기 반도체 구조체의 상면을 식각하는 단계
를 포함하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법.preparing stack structures extending in the horizontal direction and including interlayer insulating films and sacrificial layers that are alternately stacked in the vertical direction, respectively;
extending and forming channel holes and at least one vertical connection trench in each of the stack structures in the vertical direction, wherein the at least one vertical connection trench connects the channel holes to each other on a horizontal plane;
stacking the stack structures in the vertical direction;
removing the sacrificial layers to form word lines in spaces where the sacrificial layers are removed;
forming vertical channel structures each including a data storage pattern and a vertical channel pattern in the vertical direction within the channel holes in the semiconductor structure in which the stack structures are stacked in the vertical direction;
forming at least one vertical connection pattern extending in the vertical direction within the at least one vertical connection trench in the semiconductor structure; and
Etching the upper surface of the semiconductor structure to a depth at which a seam is formed in the at least one vertical connection pattern.
Method of manufacturing a three-dimensional flash memory comprising a.
상기 반도체 구조체의 상면을 식각하는 단계는,
상기 심에 채워진 상기 수직 채널 패턴이 제거되도록 상기 반도체 구조체의 상면을 식각하는 단계인 것을 특징으로 하는 3차원 플래시 메모리의 제조 방법.According to any one of claims 9 or 12,
Etching the upper surface of the semiconductor structure,
and etching an upper surface of the semiconductor structure to remove the vertical channel pattern filled in the core.
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Legal Events
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| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right |