KR20230045561A - Extended-type mask integrated frame and producing method thereof - Google Patents

Abstract

The present invention relates to an expandable frame-integrated mask and a manufacturing method thereof. An embodiment of the present invention provides an expandable frame-integrated mask, which is an expandable frame-integrated mask in which a plurality of masks are connected to an expansion frame unit supporting the masks. The expansion frame unit includes: an edge frame unit; and a mask cell sheet unit attached to the edge frame unit and including a plurality of unit grid bars, wherein both ends of the unit grid bar are connected to the edge frame unit, and the unit grid bar includes at least: a first grid sheet unit of the mask cell sheet unit; and a second grid sheet unit formed in the direction perpendicular to the first grid sheet unit. A plurality of masks are connected on a plurality of mask cell areas of the mask cell sheet unit. Manufacturing time can be remarkably reduced and yield rate can be remarkably increased.

Description

확장형 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법 {EXTENDED-TYPE MASK INTEGRATED FRAME AND PRODUCING METHOD THEREOF}Extended frame integrated mask and its manufacturing method {EXTENDED-TYPE MASK INTEGRATED FRAME AND PRODUCING METHOD THEREOF}

본 발명은 확장형 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 마스크의 변형없이 안정적으로 지지 및 이동이 가능하고, 각 마스크 간의 얼라인(align)을 명확하게 할 수 있는 프레임 일체형 마스크의 프레임 및 마스크 셀 시트부들을 모듈화 함에 따라, 확장이 가능하고 생산성을 대폭 향상시킬 수 있는 확장형 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an extended frame integrated mask and a manufacturing method thereof. More specifically, expansion is possible by modularizing the frame and mask cell sheet parts of a frame-integrated mask that can be stably supported and moved without mask deformation and clear alignment between each mask. It relates to an expandable frame-integrated mask capable of significantly improving productivity and a manufacturing method thereof.

OLED 제조 공정에서 화소를 형성하는 기술로, 박막의 금속 마스크(Shadow Mask)를 기판에 밀착시켜서 원하는 위치에 유기물을 증착하는 FMM(Fine Metal Mask) 법이 주로 사용된다.As a technology for forming pixels in the OLED manufacturing process, the FMM (Fine Metal Mask) method, which deposits organic materials on a desired location by attaching a thin metal shadow mask to the substrate, is mainly used.

기존의 OLED 제조 공정에서는 마스크를 스틱 형태, 플레이트 형태 등으로 제조한 후, 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용한다. 마스크 하나에는 디스플레이 하나에 대응하는 셀이 여러개 구비될 수 있다. 또한, 대면적 OLED 제조를 위해서 여러 개의 마스크를 OLED 화소 증착 프레임에 고정시킬 수 있는데, 프레임에 고정하는 과정에서 각 마스크가 평평하게 되도록 인장을 하게 된다. 마스크의 전체 부분이 평평하게 되도록 인장력을 조절하는 것은 매우 어려운 작업이다. 특히, 각 셀들을 모두 평평하게 하면서, 크기가 수 내지 수십 ㎛에 불과한 마스크 패턴을 정렬하기 위해서는, 마스크의 각 측에 가하는 인장력을 미세하게 조절하면서, 정렬 상태를 실시간으로 확인하는 고도의 작업이 요구된다.In the existing OLED manufacturing process, a mask is manufactured in a stick shape, plate shape, etc., and then the mask is welded and fixed to the OLED pixel deposition frame. A plurality of cells corresponding to one display may be provided in one mask. In addition, several masks can be fixed to the OLED pixel deposition frame for manufacturing large-area OLEDs. In the process of fixing to the frame, each mask is tensioned so that it is flat. It is a very difficult task to adjust the tension so that the entire part of the mask is flat. In particular, in order to flatten each cell and align a mask pattern that is only a few to several tens of μm in size, a high level of work is required to check the alignment in real time while finely adjusting the tensile force applied to each side of the mask. do.

그럼에도 불구하고, 여러 개의 마스크를 하나의 프레임에 고정시키는 과정에서 마스크 상호간에, 그리고 마스크 셀들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 있었다. 또한, 마스크를 프레임에 용접 고정하는 과정에서 마스크 막의 두께가 너무 얇고 대면적이기 때문에 하중에 의해 마스크가 쳐지거나 뒤틀어지는 문제점, 용접 과정에서 용접 부분에 발생하는 주름, 번짐(burr) 등에 의해 마스크 셀의 정렬이 엇갈리게 되는 문제점 등이 있었다.Nevertheless, in the process of fixing a plurality of masks to one frame, there is a problem in that alignment between masks and between mask cells is not good. In addition, in the process of fixing the mask to the frame by welding, the thickness of the mask film is too thin and has a large area, so the mask is sagging or distorted by the load, and wrinkles and burrs generated at the welded part during the welding process cause the mask cell to deteriorate. There was a problem with the alignment being staggered.

초고화질의 OLED의 경우, 현재 QHD 화질은 500~600 PPI(pixel per inch)로 화소의 크기가 약 30~50㎛에 이르며, 4K UHD, 8K UHD 고화질은 이보다 높은 ~860 PPI, ~1600 PPI 등의 해상도를 가지게 된다. 이렇듯 초고화질의 OLED의 화소 크기를 고려하여 각 셀들간의 정렬 오차를 수 ㎛ 정도로 감축시켜야 하며, 이를 벗어나는 오차는 제품의 실패로 이어지게 되므로 수율이 매우 낮아지게 될 수 있다. 그러므로, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고, 정렬을 명확하게 할 수 있는 기술, 마스크를 프레임에 고정하는 기술 등의 개발이 필요한 실정이다.In the case of ultra-high-definition OLED, the current QHD picture quality is 500 to 600 PPI (pixel per inch), with a pixel size of about 30 to 50 μm, and 4K UHD and 8K UHD high-definition are higher than this, such as ~860 PPI and ~1600 PPI. has a resolution of In this way, considering the pixel size of ultra-high-definition OLED, the alignment error between each cell must be reduced to about several micrometers, and an error that deviate from this can lead to failure of the product, so the yield can be very low. Therefore, there is a need to develop a technology capable of preventing deformation such as drooping or twisting of the mask and clarifying the alignment, a technology of fixing the mask to the frame, and the like.

또한, 대면적화 되어가는 기판에 대응하도록 마스크, 또는 프레임 일체형 마스크 간의 정렬을 쉽게 제어할 수 있는 기술의 개발이 필요한 실정이다.In addition, there is a need to develop a technology capable of easily controlling alignment between masks or frame-integrated masks in order to cope with substrates that are becoming larger in area.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 마스크를 변형없이 안정적으로 지지 및 이동이 가능하고, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 프레임 일체형 마스크의 프레임 및 마스크 셀 시트부들을 모듈화 하는 확장형 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Therefore, the present invention has been made to solve the various problems of the prior art as described above, and it is possible to stably support and move the mask without deformation, prevent deformation such as sagging or twisting the mask, and clear alignment. An object of the present invention is to provide an expandable frame-integrated mask that modularizes frame and mask cell sheet portions of a frame-integrated mask and a manufacturing method thereof.

또한, 본 발명은 프레임 일체형 마스크들을 모듈화 함에 따라, 대화면 공정을 수행할 수 있게 확장이 가능하고 생산성을 대폭 향상시킬 수 있는 확장형 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide an expandable frame-integrated mask and a method for manufacturing the same, which can be expanded to perform a large-screen process and significantly improve productivity by modularizing frame-integrated masks.

또한, 본 발명은 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시킨 확장형 프레임 일체형 마스크 및 그 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, an object of the present invention is to provide an expandable frame-integrated mask and a method for manufacturing the same, which significantly reduce manufacturing time and significantly increase yield.

본 발명의 상기의 목적은, 복수의 마스크와 마스크를 지지하는 확장 프레임부가 연결된 확장형 프레임 일체형 마스크로서, 확장 프레임부는, 테두리 프레임부; 및 상기 테두리 프레임부에 부착되며 복수의 단위 그리드 바를 포함하는 마스크 셀 시트부;를 포함하고, 상기 단위 그리드 바의 양단은 상기 테두리 프레임부에 연결되며, 상기 단위 그리드 바는 적어도 상기 마스크 셀 시트부의 제1 그리드 시트부 및 제1 그리드 시트부에 수직한 방향으로 형성되는 제2 그리드 시트부를 구성하고, 복수의 마스크가 마스크 셀 시트부의 복수의 마스크 셀 영역 상에 연결되는, 확장형 프레임 일체형 마스크에 의해 달성된다.The above object of the present invention is an extended frame-integrated mask in which a plurality of masks and an extended frame unit supporting the mask are connected, wherein the extended frame unit includes: an edge frame unit; and a mask cell sheet portion attached to the edge frame portion and including a plurality of unit grid bars, wherein both ends of the unit grid bar are connected to the edge frame portion, and the unit grid bar is at least part of the mask cell sheet portion. An expandable frame-integrated mask constituting a first grid sheet portion and a second grid sheet portion formed in a direction perpendicular to the first grid sheet portion, wherein a plurality of masks are connected on a plurality of mask cell regions of the mask cell sheet portion. is achieved

상기 제1 그리드 시트부를 구성하는 X축 단위 그리드 바 및 상기 제2 그리드 시트부를 구성하는 Y축 단위 그리드 바가 교차되는 부분에 홈이 형성될 수 있다.Grooves may be formed at intersections of X-axis unit grid bars constituting the first grid sheet portion and Y-axis unit grid bars constituting the second grid sheet portion.

단위 그리드 바가 교차되는 부분에 형성된 홈은 상기 X축 단위 그리드 바, 상기 Y축 단위 그리드 바 중 적어도 어느 하나에 형성될 수 있다.The groove formed at the intersection of unit grid bars may be formed in at least one of the X-axis unit grid bar and the Y-axis unit grid bar.

상기 X축 단위 그리드 바와 상기 Y축 단위 그리드 바는 동일한 상부면을 공유할 수 있다.The X-axis unit grid bar and the Y-axis unit grid bar may share the same top surface.

상기 X축 단위 그리드 바, 상기 Y축 단위 그리드 바를 순차적으로 인장하며 상기 테두리 프레임부에 연결하여 상기 마스크 셀 시트부를 구성할 수 있다.The mask cell sheet portion may be formed by sequentially stretching the X-axis unit grid bar and the Y-axis unit grid bar and connecting them to the edge frame portion.

상기 마스크 셀 시트부는, 상기 단위 그리드 바가 상기 테두리 프레임부의 테두리에 대응하게 연결되어 테두리 시트부를 더 구성하고, 상기 테두리 시트부에 상기 제1 그리드 시트부 및 상기 제2 그리드 시트부의 양단 부분이 연결될 수 있다.In the mask cell sheet part, the unit grid bars are connected correspondingly to the edges of the edge frame part to further configure an edge sheet part, and both ends of the first grid sheet part and the second grid sheet part may be connected to the edge sheet part. there is.

상기 확장 프레임부는, 양단이 상기 테두리 프레임부에 연결되어 복수의 시트 영역을 구분하는 그리드 프레임부를 더 포함할 수 있다.The extended frame unit may further include a grid frame unit having both ends connected to the border frame unit to divide a plurality of seat areas.

상기 그리드 프레임부는 상기 테두리 프레임부와 동일한 두께를 가지고 상기 테두리 프레임부와 연결될 수 있다.The grid frame part may have the same thickness as the edge frame part and be connected to the edge frame part.

상기 테두리 프레임부와 상기 그리드 프레임부는 속이 빈 각관을 상호 용접한 형태일 수 있다.The edge frame part and the grid frame part may be formed by mutually welding hollow square tubes.

상기 확장 프레임부의 크기는 가로 X 세로가 적어도 1,500mm X 1,800mm보다 클 수 있다.The size of the expansion frame unit may be greater than at least 1,500 mm X 1,800 mm in width X length.

상기 테두리 프레임부, 상기 그리드 프레임부 중 적어도 어느 하나에는 Z축 방향으로 리프트 핀이 통과할 수 있는 통과홀이 형성될 수 있다.At least one of the frame frame part and the grid frame part may have a through hole through which lift pins pass in a Z-axis direction.

상기 리프트 핀은 6G 풀 사이즈보다 큰 면적의 증착 대상 기판의 하부면을 지지할 수 있다.The lift pins may support a lower surface of a deposition target substrate having an area larger than a 6G full size.

그리고, 본 발명의 상기의 목적은, 복수의 마스크와 마스크를 지지하는 확장 프레임부가 연결된 확장형 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서, (a) 테두리 프레임부를 제공하는 단계; (b) 제1 방향 및 제2 방향을 따라 복수의 단위 그리드 바를 연결하여 복수의 마스크 셀 영역이 형성된 마스크 셀 시트부를 제공하는 단계; (c) 상기 마스크 셀 시트부를 상기 테두리 프레임부에 부착하여 확장 프레임부를 제조하는 단계; (d) 상기 마스크 셀 시트부의 복수의 마스크 셀 영역 상에 복수의 마스크를 각각 부착하는 단계;를 포함하는, 확장형 프레임 일체형 마스크의 제조 방법에 의해 달성된다.And, the above object of the present invention is a method of manufacturing an extended frame-integrated mask in which a plurality of masks and an extended frame unit supporting the mask are connected, comprising the steps of (a) providing an edge frame unit; (b) providing a mask cell sheet portion in which a plurality of mask cell regions are formed by connecting a plurality of unit grid bars along a first direction and a second direction; (c) manufacturing an extended frame by attaching the mask cell sheet to the frame; (d) attaching a plurality of masks on a plurality of mask cell regions of the mask cell sheet portion, respectively;

제1 방향 또는 제2 방향으로 형성된 상기 단위 그리드 바 중 적어도 어느 하나의 길이는 1,040mm보다 길 수 있다.The length of at least one of the unit grid bars formed in the first direction or the second direction may be longer than 1,040 mm.

상기와 같이 구성된 본 발명에 따르면, 마스크를 변형없이 안정적으로 지지 및 이동이 가능하고, 마스크가 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형을 방지하고 정렬을 명확하게 할 수 있는 마스크들을 모듈화 하는 효과가 있다.According to the present invention configured as described above, there is an effect of modularizing masks capable of stably supporting and moving the mask without deformation, preventing deformation such as sagging or twisting the mask, and clear alignment.

또한, 본 발명에 따르면, 프레임 일체형 마스크의 프레임 및 마스크 셀 시트부들을 모듈화 함에 따라, 대화면 공정을 수행할 수 있게 확장이 가능하고 생산성을 대폭 향상시킬 수 있는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, as the frame and mask cell sheet portions of the frame-integrated mask are modularized, it is possible to expand to perform a large screen process and greatly improve productivity.

또한, 본 발명에 따르면, 제조시간을 현저하게 감축시키고, 수율을 현저하게 상승시키는 효과가 있다.In addition, according to the present invention, there is an effect of significantly reducing the manufacturing time and significantly increasing the yield.

도 1은 종래의 마스크를 프레임에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임을 나타내는 정면도 및 측단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 나타내는 개략도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크가 템플릿에 접착된 마스크 지지 템플릿을 나타내는 개략도이다.
도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 템플릿을 프레임 상에 로딩하여 마스크를 프레임의 셀 영역에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임에 부착한 후 마스크와 템플릿을 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크를 프레임의 셀 영역에 부착한 상태를 나타내는 개략도이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 확장형 프레임 일체형 마스크를 나타내는 개략도이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 확장형 프레임 일체형 마스크를 나타내는 개략도이다.
도 11은 마스크 셀 시트부의 원재료 코일을 나타내는 개략도이다.
도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 셀 시트부를 제조하기 위한 단위 그리드 바를 나타내는 개략도이다.
도 13 및 도 14는 본 발명의 여러 실시예에 따른 확장형 프레임 일체형 마스크의 확장 프레임부를 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a conventional process of attaching a mask to a frame.
2 is a front view and a side cross-sectional view illustrating a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.
3 is a front view and a side cross-sectional view showing a frame according to an embodiment of the present invention.
4 is a schematic diagram showing a mask according to an embodiment of the present invention.
5 is a schematic diagram illustrating a mask support template in which a mask is adhered to the template according to an embodiment of the present invention.
6 is a schematic diagram illustrating a state in which a mask corresponds to a cell region of a frame by loading a template onto a frame according to an embodiment of the present invention.
7 is a schematic diagram illustrating a process of separating a mask and a template after attaching a mask to a frame according to an embodiment of the present invention.
8 is a schematic diagram illustrating a state in which a mask according to an embodiment of the present invention is attached to a cell region of a frame.
9 is a schematic diagram illustrating an extended frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention.
10 is a schematic diagram illustrating an extended frame integrated mask according to another embodiment of the present invention.
11 is a schematic diagram showing raw material coils of a mask cell sheet part.
12 is a schematic diagram showing unit grid bars for manufacturing a mask cell sheet part according to an embodiment of the present invention.
13 and 14 are schematic diagrams illustrating an extended frame portion of an extended frame integrated mask according to various embodiments of the present invention.

후술하는 본 발명에 대한 상세한 설명은, 본 발명이 실시될 수 있는 특정 실시예를 예시로서 도시하는 첨부 도면을 참조한다. 이들 실시예는 당업자가 본 발명을 실시할 수 있기에 충분하도록 상세히 설명된다. 본 발명의 다양한 실시예는 서로 다르지만 상호 배타적일 필요는 없음이 이해되어야 한다. 예를 들어, 여기에 기재되어 있는 특정 형상, 구조 및 특성은 일 실시예에 관련하여 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 다른 실시예로 구현될 수 있다. 또한, 각각의 개시된 실시예 내의 개별 구성요소의 위치 또는 배치는 본 발명의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서 변경될 수 있음이 이해되어야 한다. 따라서, 후술하는 상세한 설명은 한정적인 의미로서 취하려는 것이 아니며, 본 발명의 범위는, 적절하게 설명된다면, 그 청구항들이 주장하는 것과 균등한 모든 범위와 더불어 첨부된 청구항에 의해서만 한정된다. 도면에서 유사한 참조부호는 여러 측면에 걸쳐서 동일하거나 유사한 기능을 지칭하며, 길이 및 면적, 두께 등과 그 형태는 편의를 위하여 과장되어 표현될 수도 있다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The detailed description of the present invention which follows refers to the accompanying drawings which illustrate, by way of illustration, specific embodiments in which the present invention may be practiced. These embodiments are described in sufficient detail to enable one skilled in the art to practice the present invention. It should be understood that the various embodiments of the present invention are different from each other but are not necessarily mutually exclusive. For example, specific shapes, structures, and characteristics described herein may be implemented in one embodiment in another embodiment without departing from the spirit and scope of the invention. Additionally, it should be understood that the location or arrangement of individual components within each disclosed embodiment may be changed without departing from the spirit and scope of the invention. Accordingly, the detailed description set forth below is not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention, if properly described, is limited only by the appended claims, along with all equivalents as claimed by those claims. Similar reference numerals in the drawings indicate the same or similar functions in various aspects, and the length, area, thickness, and the like may be exaggerated for convenience.

이하에서는, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 하기 위하여, 본 발명의 바람직한 실시예들에 관하여 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily practice the present invention.

도 1은 종래의 마스크(10)를 프레임(20)에 부착하는 과정을 나타내는 개략도이다.1 is a schematic diagram showing a process of attaching a conventional mask 10 to a frame 20.

종래의 마스크(10)는 스틱형(Stick-Type) 또는 판형(Plate-Type)이며, 도 1의 스틱형 마스크(10)는 스틱의 양측을 OLED 화소 증착 프레임에 용접 고정시켜 사용할 수 있다. 마스크(10)의 바디(Body)[또는, 마스크 막(11)]에는 복수의 디스플레이 셀(C)이 구비된다. 하나의 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응한다. 셀(C)에는 디스플레이의 각 화소에 대응하도록 화소 패턴(P)이 형성된다.The conventional mask 10 is a stick-type or plate-type, and the stick-type mask 10 of FIG. 1 can be used by welding both sides of the stick to the OLED pixel deposition frame. A plurality of display cells C are provided on the body of the mask 10 (or the mask layer 11 ). One cell C corresponds to one display of a smartphone or the like. A pixel pattern P is formed in the cell C to correspond to each pixel of the display.

도 1의 (a)를 참조하면, 스틱 마스크(10)의 장축 방향으로 인장력(F)을 가하여 편 상태로 사각틀 형태의 프레임(20) 상에 스틱 마스크(10)를 로딩한다. 스틱 마스크(10)의 셀(C1~C6)들은 프레임(20)의 틀 내부 빈 영역 부분에 위치하게 된다.Referring to (a) of FIG. 1 , the stick mask 10 is loaded on the frame 20 in the form of a square frame in an extended state by applying a tensile force F in the direction of the long axis of the stick mask 10 . The cells C1 to C6 of the stick mask 10 are positioned in the blank area inside the frame 20 .

도 1의 (b)를 참조하면, 스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F)을 미세하게 조절하면서 정렬을 시킨 후, 스틱 마스크(10) 측면의 일부를 용접(W)함에 따라 스틱 마스크(10)와 프레임(20)을 상호 연결한다. 도 1의 (c)는 상호 연결된 스틱 마스크(10)와 프레임의 측단면을 나타낸다.Referring to (b) of FIG. 1, after aligning the tension (F) applied to each side of the stick mask 10 finely, welding (W) a part of the side of the stick mask 10 stick The mask 10 and the frame 20 are interconnected. 1(c) shows a cross-sectional side view of the frame and the stick mask 10 connected to each other.

스틱 마스크(10)의 각 측에 가하는 인장력(F)을 미세하게 조절함에도 불구하고, 마스크 셀(C1~C6)들의 상호간에 정렬이 잘 되지 않는 문제점이 나타난다. 가령, 셀(C1~C6)들의 패턴 간에 거리가 상호 다르게 되거나, 패턴(P)들이 비뚤어지는 것이 그 예이다. 스틱 마스크(10)는 복수의 셀(C1~C6)을 포함하는 대면적이고, 수십 ㎛ 수준의 매우 얇은 두께를 가지기 때문에, 하중에 의해 쉽게 쳐지거나 뒤틀어지게 된다. 또한, 각 셀(C1~C6)들을 모두 평평하게 하도록 인장력(F)을 조절하면서, 각 셀(C1~C6)들간의 정렬 상태를 현미경을 통해 실시간으로 확인하는 것은 매우 어려운 작업이다. 크기가 수 내지 수십 ㎛인 마스크 패턴(P)이 초고화질 OLED의 화소 공정에 악영향을 미치지 않도록 하기 위해서는, 정렬 오차가 3㎛를 초과하지 않는 것이 바람직하다. 이렇게 인접하는 셀 사이의 정렬 오차를 PPA(pixel position accuracy)라 지칭한다.Although the tensile force F applied to each side of the stick mask 10 is finely adjusted, there is a problem in that the mask cells C1 to C6 are not well aligned with each other. For example, an example is that the distances between the patterns of the cells C1 to C6 are different from each other or the patterns P are distorted. Since the stick mask 10 has a large area including a plurality of cells C1 to C6 and has a very thin thickness of several tens of μm, it is easily hit or distorted by a load. In addition, it is very difficult to check the alignment between the cells C1 to C6 in real time through a microscope while adjusting the tensile force F to flatten each cell C1 to C6. In order to prevent the mask pattern P having a size of several to several tens of μm from adversely affecting the pixel process of the ultra-high-definition OLED, it is preferable that the alignment error does not exceed 3 μm. This alignment error between adjacent cells is referred to as pixel position accuracy (PPA).

OLED 화소 형성을 위한 대상 기판의 크기가 증가하면서, 스틱 마스크(10)의 크기가 증가하며, 고해상도를 구현하기 위해 스틱 마스크(10)의 두께도 얇아지면서 스틱 마스크(10)를 인장하여 용접하기가 점점 어려워지고 있다. 이에 더하여, 복수의 스틱 마스크(10)들을 프레임(20) 하나에 각각 연결하면서, 복수의 스틱 마스크(10)들간에, 그리고 스틱 마스크(10)의 복수의 셀(C~C6)들간에 정렬 상태를 명확히 하는 것도 매우 어려운 작업이고, 정렬에 따른 공정 시간이 증가할 수밖에 없게 되어 생산성을 감축시키는 중대한 이유가 된다.As the size of the target substrate for forming OLED pixels increases, the size of the stick mask 10 increases, and as the thickness of the stick mask 10 becomes thinner to realize high resolution, it is difficult to tension and weld the stick mask 10 It's getting harder. In addition to this, while connecting the plurality of stick masks 10 to one frame 20, respectively, a state of alignment between the plurality of stick masks 10 and between the plurality of cells C to C6 of the stick mask 10 It is also a very difficult task to clarify, and the process time for alignment inevitably increases, which is a significant reason for reducing productivity.

한편, 스틱 마스크(10)를 프레임(20)에 연결 고정시킨 후에는, 스틱 마스크(10)에 가해졌던 인장력(F)이 프레임(20)에 역으로 장력(tension)을 작용할 수 있다. 이러한 장력이 프레임(20)을 미세하게 변형시킬 수 있고, 복수의 셀(C1~C6)들간에 정렬 상태가 틀어지는 문제가 발생할 수 있다.Meanwhile, after the stick mask 10 is connected and fixed to the frame 20 , the tensile force F applied to the stick mask 10 may act as a reverse tension to the frame 20 . Such tension may deform the frame 20 minutely, and a problem in which an alignment state is distorted between the plurality of cells C1 to C6 may occur.

이에, 본 발명은 마스크(100)가 프레임(200)과 일체형 구조를 이룰 수 있게 하는 프레임(200) 및 프레임 일체형 마스크를 제안한다. 또한, 본 발명은 긴 스틱 마스크(100)를 프레임(200)과 일체를 이루도록 할 수 있는 프레임 일체형 마스크의 제조 방법을 제안한다. 프레임(200)에 일체로 형성되는 마스크(100)는 쳐지거나 뒤틀리는 등의 변형이 방지되고, 프레임(200)에 명확히 정렬될 수 있다.Accordingly, the present invention proposes a frame 200 and a frame-integrated mask enabling the mask 100 to form an integral structure with the frame 200 . In addition, the present invention proposes a method of manufacturing a frame-integrated mask capable of integrally forming the long stick mask 100 with the frame 200 . The mask 100 integrally formed with the frame 200 can be prevented from deformation such as sagging or twisting, and can be clearly aligned with the frame 200 .

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임 일체형 마스크를 나타내는 정면도[도 2의 (a)] 및 측단면도[도 2의 (b)]이다. 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 프레임(200)을 나타내는 정면도[도 3의 (a)] 및 측단면도[도 3의 (b)]이다.2 is a front view (FIG. 2 (a)) and a side cross-sectional view (FIG. 2 (b)) showing a frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention. Figure 3 is a front view (Fig. 3 (a)) and a side cross-sectional view (Fig. 3 (b)) showing a frame 200 according to an embodiment of the present invention.

본 명세서에서는 아래에서 프레임 일체형 마스크의 구성을 간단히 설명하나, 프레임 일체형 마스크의 구조, 제조 과정은 한국특허출원 제2018-0016186호의 내용이 전체로서 산입된 것으로 이해될 수 있다.In this specification, the configuration of the frame-integrated mask is briefly described below, but it can be understood that the structure and manufacturing process of the frame-integrated mask are incorporated in the Korean Patent Application No. 2018-0016186 as a whole.

도 2 및 도 3을 참조하면, 프레임 일체형 마스크는, 복수의 마스크(100) 및 하나의 프레임(200)을 포함할 수 있다. 다시 말해, 복수의 마스크(100)들을 각각 하나씩 프레임(200)에 부착한 형태이다. 이하에서는, 설명의 편의상 사각 형태의 마스크(100)를 예로 들어 설명하나, 마스크(100)들은 프레임(200)에 부착되기 전에는 양측에 클램핑되는 돌출부를 구비한 스틱 마스크 형태일 수 있으며, 프레임(200)에 부착된 후에 돌출부가 제거될 수 있다.Referring to FIGS. 2 and 3 , the frame-integrated mask may include a plurality of masks 100 and one frame 200 . In other words, it is a form in which a plurality of masks 100 are attached to the frame 200 one by one. Hereinafter, for convenience of description, a square mask 100 will be described as an example, but the masks 100 may be in the form of a stick mask having protrusions clamped on both sides before being attached to the frame 200, and the frame 200 ), then the protrusion can be removed.

각각의 마스크(100)에는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성되며, 하나의 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있다. 하나의 마스크 셀(C)은 스마트폰 등의 디스플레이 하나에 대응할 수 있다.A plurality of mask patterns P may be formed on each mask 100 , and one cell C may be formed on one mask 100 . One mask cell C may correspond to one display of a smartphone or the like.

마스크(100)는 인바(invar), 슈퍼 인바(super invar), 니켈(Ni), 니켈-코발트(Ni-Co) 등의 재질일 수도 있다. 마스크(100)는 압연(rolling) 공정 또는 전주 도금(electroforming)으로 생성한 금 시트(sheet)를 사용할 수 있다.The mask 100 may be made of a material such as invar, super invar, nickel (Ni), or nickel-cobalt (Ni-Co). The mask 100 may use a gold sheet produced by a rolling process or electroforming.

프레임(200)은 복수의 마스크(100)를 부착시킬 수 있도록 형성된다. 프레임(200)은 열변형을 고려하여 마스크와 동일한 열팽창계수를 가지는 인바, 슈퍼 인바, 니켈, 니켈-코발트 등의 재질로 구성되는 것이 바람직하다. 프레임(200)은 대략 사각 형상, 사각틀 형상의 테두리 프레임부(210)를 포함할 수 있다. 테두리 프레임부(210)의 내부는 중공 형태일 수 있다.The frame 200 is formed to attach a plurality of masks 100 thereto. The frame 200 is preferably made of a material such as invar, super invar, nickel, or nickel-cobalt having the same coefficient of thermal expansion as that of the mask in consideration of thermal deformation. The frame 200 may include an edge frame portion 210 having a substantially rectangular shape or a rectangular frame shape. The inside of the edge frame unit 210 may be hollow.

이에 더하여, 프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하며, 테두리 프레임부(210)에 연결되는 마스크 셀 시트부(220)를 포함할 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)로 구성될 수 있다. 테두리 시트부(221) 및 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)는 동일한 시트에서 구획된 각 부분을 지칭하며, 이들은 상호간에 일체로 형성된다.In addition, the frame 200 may include a plurality of mask cell regions CR, and may include a mask cell sheet portion 220 connected to the edge frame portion 210 . The mask cell sheet portion 220 may include an edge sheet portion 221 and first and second grid sheet portions 223 and 225 . The edge sheet portion 221 and the first and second grid sheet portions 223 and 225 refer to portions partitioned from the same sheet, and are integrally formed with each other.

테두리 프레임부(210)의 두께는 마스크 셀 시트부(220)의 두께보다 두꺼운 수mm 내지 수cm의 두께로 형성될 수 있다. 마스크 셀 시트부(220)는 테두리 프레임부(210)의 두께보다는 얇지만, 마스크(100)보다는 두꺼운 약 0.1mm 내지 1mm 정도로 두께일 수 있다. 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)의 폭은 약 1~5mm 정도로 형성될 수 있다.The edge frame portion 210 may be formed to a thickness of several mm to several cm thicker than the thickness of the mask cell sheet portion 220 . The mask cell sheet portion 220 may have a thickness of about 0.1 mm to 1 mm, which is thinner than the thickness of the edge frame portion 210 but thicker than the mask 100 . The first and second grid sheet portions 223 and 225 may have a width of about 1 to 5 mm.

평면의 시트에서 테두리 시트부(221), 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)가 점유하는 영역을 제외하여, 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)이 제공될 수 있다. In the flat sheet, a plurality of mask cell regions CR (CR11 to CR56) may be provided except for regions occupied by the edge sheet portion 221 and the first and second grid sheet portions 223 and 225 .

프레임(200)은 복수의 마스크 셀 영역(CR)을 구비하고, 각각의 마스크(100)는 각각 하나의 마스크 셀(C)이 마스크 셀 영역(CR)에 대응되도록 부착될 수 있다. 마스크 셀(C)은 프레임(200)의 마스크 셀 영역(CR)에 대응하고, 더미의 일부 또는 전부가 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 부착될 수 있다. 이에 따라, 마스크(100)와 프레임(200)이 일체형 구조를 이룰 수 있게 된다.The frame 200 includes a plurality of mask cell regions CR, and each mask 100 may be attached such that one mask cell C corresponds to the mask cell region CR. The mask cell C corresponds to the mask cell region CR of the frame 200, and part or all of the dummy may be attached to the frame 200 (mask cell sheet portion 220). Accordingly, the mask 100 and the frame 200 can form an integral structure.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 나타내는 개략도이다.4 is a schematic diagram showing a mask 100 according to an embodiment of the present invention.

마스크(100)는 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크 셀(C) 및 마스크 셀(C) 주변의 더미(DM)를 포함할 수 있다. 압연 공정, 전주 도금 등으로 생성한 금속 시트로 마스크(100)를 제조할 수 있고, 마스크(100)에는 하나의 셀(C)이 형성될 수 있다. 더미(DM)는 셀(C)을 제외한 마스크 막(110)[마스크 금속막(110)] 부분에 대응하고, 마스크 막(110)만을 포함하거나, 마스크 패턴(P)과 유사한 형태의 소정의 더미 패턴이 형성된 마스크 막(110)을 포함할 수 있다. 더미(DM)는 마스크(100)의 테두리에 대응하여 더미(DM)의 일부 또는 전부가 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 부착될 수 있다.The mask 100 may include mask cells C on which a plurality of mask patterns P are formed and dummy DMs around the mask cells C. The mask 100 may be manufactured from a metal sheet produced through a rolling process, electroplating, or the like, and one cell C may be formed in the mask 100 . The dummy DM corresponds to a portion of the mask film 110 (mask metal film 110) excluding the cell C, and includes only the mask film 110 or a predetermined dummy having a shape similar to that of the mask pattern P. A patterned mask layer 110 may be included. A part or all of the dummy DM may be attached to the frame 200 (mask cell sheet portion 220) corresponding to the edge of the mask 100.

마스크 패턴(P)의 폭은 40㎛보다 작게 형성될 수 있고, 마스크(100)의 두께는 약 5~20㎛로 형성될 수 있다. 프레임(200)이 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 구비하므로, 각각의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 대응하는 마스크 셀(C: C11~C56)을 가지는 마스크(100)도 복수개 구비할 수 있다.The width of the mask pattern P may be less than 40 μm, and the thickness of the mask 100 may be about 5 μm to 20 μm. Since the frame 200 includes a plurality of mask cell regions (CR: CR11 to CR56), the mask 100 has mask cells (C: C11 to C56) corresponding to each of the mask cell regions (CR: CR11 to CR56). ) may also be provided with a plurality.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크가 템플릿에 접착된 마스크 지지 템플릿을 나타내는 개략도이다.5 is a schematic diagram illustrating a mask support template in which a mask is adhered to the template according to an embodiment of the present invention.

본 명세서에서는 아래에서 마스크 지지 템플릿의 구성을 간단히 설명하나, 마스크 지지 템플릿의 구조, 제조 과정은 한국특허출원 제10-2018-0122020호의 내용이 전체로서 산입된 것으로 이해될 수 있다.Although the configuration of the mask support template is briefly described below in this specification, it can be understood that the structure and manufacturing process of the mask support template are incorporated in Korean Patent Application No. 10-2018-0122020 as a whole.

템플릿(50)은 마스크(100)가 일면 상에 부착되어 지지된 상태로 이동시킬 수 있는 매개체이다. 템플릿(50)의 일면은 평평한 마스크(100)를 지지하여 이동시킬 수 있도록 평평한 것이 바람직하다. The template 50 is a medium that allows the mask 100 to be attached to one surface and moved in a supported state. One surface of the template 50 is preferably flat so as to support and move the flat mask 100 .

템플릿(50)은 템플릿(50)의 상부에서 조사하는 레이저(L)가 마스크(100)의 용접부(용접을 수행할 영역; WP, 도 4 참조)에까지 도달할 수 있도록, 템플릿(50)에는 레이저 통과공(51)이 형성될 수 있다. 일 예로, 용접부(WP)는 마스크(100)의 양측(좌측/우측) 더미(DM) 부분에 소정 간격을 따라 복수개 배치되어 있으므로, 레이저 통과공(51)도 템플릿(50)이 양측(좌측/우측)에 소정 간격을 따라 복수개 형성될 수 있다. 템플릿(50)이 레이저가 통과되는 재질이라면 레이저 통과공(51)은 구비하지 않을 수도 있다.The template 50 has a laser beam on the template 50 so that the laser L irradiated from the top of the template 50 can reach the welded portion of the mask 100 (region to be welded; WP, see FIG. 4). A through hole 51 may be formed. For example, since the plurality of welding parts WP are disposed along a predetermined interval on the dummy DM on both sides (left/right) of the mask 100, the laser pass-through hole 51 also has the template 50 on both sides (left/right). right side) may be formed in plurality at predetermined intervals. If the template 50 is made of a material through which a laser passes, the laser passage hole 51 may not be provided.

템플릿(50)의 일면에는 임시접착부(55)가 형성될 수 있다. 임시접착부(55)는 마스크(100)가 프레임(200)에 부착되기 전까지 마스크(100)[또는, 마스크 금속막(110)]이 임시로 템플릿(50)의 일면에 접착되어 템플릿(50) 상에 지지되도록 할 수 있다.A temporary adhesive portion 55 may be formed on one surface of the template 50 . The temporary adhesive portion 55 temporarily attaches the mask 100 (or the mask metal film 110 ) to one surface of the template 50 until the mask 100 is attached to the frame 200 , and can be supported.

임시접착부(55)는 열을 가함에 따라 분리가 가능한 접착제, UV 조사에 의해 분리가 가능한 접착제를 사용할 수 있다.The temporary adhesive portion 55 may use an adhesive that can be separated by applying heat or an adhesive that can be separated by UV irradiation.

일 예로, 임시접착부(55)는 액체 왁스(liquid wax)를 사용할 수 있다. 액체 왁스인 임시접착부(55)는 85℃~100℃보다 높은 온도에서는 점성이 낮아지고, 85℃보다 낮은 온도에서 점성이 커지고 고체처럼 일부 굳을 수 있어, 마스크 금속막(110')과 템플릿(50)을 고정 접착할 수 있다.For example, the temporary adhesive part 55 may use liquid wax. The temporary adhesive portion 55, which is liquid wax, has lower viscosity at a temperature higher than 85°C to 100°C, increases viscosity at a temperature lower than 85°C, and may be partially hardened like a solid, so that the mask metal film 110' and the template 50 ) can be fixedly bonded.

임시접착부(55)가 형성된 템플릿(50) 상에 마스크 금속막(110)을 접착할 수 있다. 또는, 복수의 마스크 패턴(P)이 형성된 마스크(100)를 템플릿(50) 상에 접착할 수 있다.The mask metal film 110 may be adhered to the template 50 on which the temporary adhesive portion 55 is formed. Alternatively, the mask 100 on which the plurality of mask patterns P are formed may be adhered to the template 50 .

마스크 금속막(110) 또는 마스크(100)를 템플릿(50) 상에 접착할 때, 마스크 금속막(110) 또는 마스크(100)의 측면 방향으로 인장력을 가한 상태로 템플릿(50)에 접착할 수 있다. 이후, 마스크 금속막(110)은 인장력이 가해진 상태로 템플릿(50) 상에 접착되어 마스크 패턴(P) 형성 공정이 더 수행될 수 있다. 이에 따라, 마스크 금속막(110) 또는 마스크(100)는 그 자체에 인장력(IT)을 보유한 상태로 템플릿(50) 상에 접착 고정될 수 있다. 이 잔존 인장력(IT)은 마스크 금속막(110) 또는 마스크(100)가 템플릿(50)과 분리되기 전까지 유지될 수 있다. When attaching the mask metal film 110 or the mask 100 onto the template 50, the mask metal film 110 or the mask 100 may be adhered to the template 50 with tensile force applied in a lateral direction of the mask metal film 110 or the mask 100. there is. Thereafter, the mask metal film 110 may be adhered to the template 50 with a tensile force applied thereto, and a process of forming the mask pattern P may be further performed. Accordingly, the mask metal film 110 or the mask 100 may be adhered and fixed on the template 50 while retaining the tensile force IT. This residual tensile force IT may be maintained until the mask metal film 110 or the mask 100 is separated from the template 50 .

템플릿(50)에 마스크 금속막(110)[또는, 마스크(100)]을 접착한 후에 마스크 금속막(110)의 일면을 평탄화 할 수도 있다. 압연 공정으로 제조된 마스크 금속막(110)은 평탄화 공정으로 두께를 감축시킬 수 있다. 그리고, 전주 도금 공정으로 제조된 마스크 금속막(110)도 표면 특성, 두께의 제어를 위해 평탄화 공정이 수행될 수 있다. 템플릿(50)에 접착 전에, 마스크 금속막(110)의 평탄화 공정을 수행할 수도 있다. 마스크 금속막(110)은 두께가 약 5㎛ 내지 20㎛일 수 있다.After attaching the mask metal film 110 (or the mask 100 ) to the template 50 , one surface of the mask metal film 110 may be planarized. The thickness of the mask metal layer 110 manufactured through the rolling process may be reduced through a planarization process. In addition, a planarization process may be performed on the mask metal film 110 manufactured through the electroplating process to control the surface characteristics and thickness. A planarization process of the mask metal layer 110 may be performed prior to adhesion to the template 50 . The mask metal layer 110 may have a thickness of about 5 μm to about 20 μm.

그리고, 마스크 금속막(110)을 식각하여 마스크 패턴(P)을 형성할 수 있다. 포토리소그래피 공정 등 공지의 마스크 패턴(P) 공정을 사용할 수 있다.Then, the mask pattern P may be formed by etching the mask metal layer 110 . A known mask pattern (P) process such as a photolithography process can be used.

한편, 마스크 금속막(11)을 식각하여 마스크 패턴(P)을 형성할 때, 식각액이 마스크 금속막(110)과 임시접착부(55)의 계면까지 진입하여 임시접착부(55)/템플릿(50)을 손상시키고, 마스크 패턴(P)의 식각 오차를 발생시키는 것을 방지할 필요가 있다. 이에 따라, 마스크 금속막(110)의 일면 상에 절연부(미도시)를 형성한 상태로 템플릿(50)의 상부면에 마스크 금속막(110)을 접착할 수 있다. 절연부는 경화성 네거티브 포토레지스트, 에폭시를 포함하는 네거티브 포토레지스트 등의 식각액에 식각되지 않는 포토레지스트 재질로 프린팅 방법 등을 사용하여 마스크 금속막(110) 상에 형성될 수 있다.Meanwhile, when the mask pattern P is formed by etching the mask metal film 11, the etchant enters the interface between the mask metal film 110 and the temporary bonding portion 55 to form the temporary bonding portion 55/template 50. , and it is necessary to prevent an etching error of the mask pattern P from occurring. Accordingly, the mask metal film 110 may be adhered to the upper surface of the template 50 in a state in which an insulating portion (not shown) is formed on one surface of the mask metal film 110 . The insulating portion may be formed on the mask metal layer 110 by using a photoresist material that is not etched by an etchant such as a curable negative photoresist or a negative photoresist containing epoxy by using a printing method or the like.

상기 절연부의 재질 특성에 의해 복수의 후속적인 식각 공정이 수행되더라도 내식각성이 강화된다. 만약에, 절연부가 없으면, 식각액이 손상된 임시접착부(55)와 마스크 금속막(110)의 계면 사이로 진입할 수 있고, 마스크 패턴(P)의 하부를 더 식각하게 됨에 따라 패턴의 크기를 과다하게 크게 형성하거나, 국부적인 부정형의 결함을 유발할 수 있다.Even if a plurality of subsequent etching processes are performed due to the material characteristics of the insulating part, the etching resistance is enhanced. If there is no insulating part, the etchant may enter between the interface between the damaged temporary adhesive part 55 and the mask metal film 110 and further etch the lower part of the mask pattern P, thereby increasing the size of the pattern excessively. formation, or cause local irregular defects.

프레임(200)이 복수의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)을 구비하므로, 각각의 마스크 셀 영역(CR: CR11~CR56)에 대응하는 마스크 셀(C: C11~C56)을 가지는 마스크(100)도 복수개 구비할 수 있다. 또한, 복수개의 마스크(100)의 각각을 지지하는 복수의 템플릿(50)을 구비할 수 있다.Since the frame 200 includes a plurality of mask cell regions (CR: CR11 to CR56), the mask 100 has mask cells (C: C11 to C56) corresponding to each of the mask cell regions (CR: CR11 to CR56). ) may also be provided with a plurality. In addition, a plurality of templates 50 supporting each of the plurality of masks 100 may be provided.

도 6은 본 발명의 일 실시예에 따른 템플릿(50)을 프레임(200) 상에 로딩하여 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 대응시키는 상태를 나타내는 개략도이다. 도 6에는 하나의 마스크(100)를 셀 영역(CR)에 대응/부착하는 것이 예시되나, 복수의 마스크(100)를 동시에 각각 모든 셀 영역(CR)에 대응시켜서 마스크(100)를 프레임(200)에 부착하는 과정을 수행할 수도 있다. 이 경우, 복수개의 마스크(100)의 각각을 지지하는 복수의 템플릿(50)을 구비할 수 있다.6 is a schematic diagram illustrating a state in which the mask 100 corresponds to the cell region CR of the frame 200 by loading the template 50 on the frame 200 according to an embodiment of the present invention. Although FIG. 6 illustrates that one mask 100 corresponds to/attached to the cell region CR, a plurality of masks 100 are simultaneously corresponded to all the cell regions CR, so that the mask 100 is applied to the frame 200. ) may be performed. In this case, a plurality of templates 50 supporting each of the plurality of masks 100 may be provided.

템플릿(50)은 진공 척(90)에 의해 이송될 수 있다. 진공 척(90)으로 마스크(100)가 접착된 템플릿(50) 면의 반대 면을 흡착하여 이송할 수 있다. 진공 척(90)이 템플릿(50)을 흡착하여 플립한 후, 프레임(200) 상으로 템플릿(50)을 이송하는 과정에서도, 마스크(100)의 접착 상태 및 정렬 상태에는 영향이 없게 된다. Template 50 may be transferred by vacuum chuck 90 . A surface opposite to the surface of the template 50 to which the mask 100 is attached may be suctioned and transferred by the vacuum chuck 90 . Even in the process of transferring the template 50 onto the frame 200 after the vacuum chuck 90 adsorbs and flips the template 50, the adhesive state and alignment state of the mask 100 are not affected.

다음으로, 마스크(100)를 프레임(200)의 하나의 마스크 셀 영역(CR)에 대응할 수 있다. 템플릿(50)을 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)] 상에 로딩하는 것으로 마스크(100)를 마스크 셀 영역(CR)에 대응시킬 수 있다. 템플릿(50)/진공 척(90)의 위치를 제어하면서, 현미경을 통해 마스크(100)가 마스크 셀 영역(CR)에 대응하는지 살펴볼 수 있다. 템플릿(50)이 마스크(100)를 압착하므로, 마스크(100)와 프레임(200)은 긴밀히 맞닿을 수 있다.Next, the mask 100 may correspond to one mask cell region CR of the frame 200 . By loading the template 50 onto the frame 200 (or the mask cell sheet portion 220), the mask 100 may correspond to the mask cell region CR. While controlling the positions of the template 50/vacuum chuck 90, it may be observed whether the mask 100 corresponds to the mask cell region CR through a microscope. Since the template 50 compresses the mask 100, the mask 100 and the frame 200 may closely contact each other.

한편, 하부 지지체(70)를 프레임(200) 하부에 더 배치할 수도 있다. 하부 지지체(70)는 마스크(100)가 접촉하는 마스크 셀 영역(CR)의 반대면을 압착할 수 있다. 동시에, 하부 지지체(70)와 템플릿(50)이 상호 반대되는 방향으로 마스크(100)의 테두리 및 프레임(200)[또는, 마스크 셀 시트부(220)]를 압착하게 되므로, 마스크(100)의 정렬 상태가 흐트러지지 않고 유지될 수 있게 된다.Meanwhile, the lower support 70 may be further disposed under the frame 200 . The lower support 70 may compress the opposite surface of the mask cell region CR, which the mask 100 contacts. At the same time, since the lower support 70 and the template 50 compress the edge of the mask 100 and the frame 200 (or the mask cell sheet portion 220) in opposite directions, Alignment can be maintained without being disturbed.

이어서, 마스크(100)에 레이저(L)를 조사하여 레이저 용접에 의해 마스크(100)를 프레임(200)에 부착할 수 있다. 레이저 용접된 마스크의 용접부 부분에는 용접 비드(WB)가 생성되고, 용접 비드(WB)는 마스크(100)/프레임(200)과 동일한 재질을 가지고 일체로 연결될 수 있다.Subsequently, the mask 100 may be irradiated with a laser L to attach the mask 100 to the frame 200 by laser welding. A welding bead WB is generated at the weld portion of the laser-welded mask, and the welding bead WB has the same material as the mask 100/frame 200 and may be integrally connected.

도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 프레임(200)에 부착한 후 마스크(100)와 템플릿(50)을 분리하는 과정을 나타내는 개략도이다.7 is a schematic diagram illustrating a process of separating the mask 100 and the template 50 after attaching the mask 100 to the frame 200 according to an embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 마스크(100)를 프레임(200)에 부착한 후, 마스크(100)와 템플릿(50)을 분리(debonding)할 수 있다. 마스크(100)와 템플릿(50)의 분리는 임시접착부(55)에 열 인가(ET), 화학적 처리(CM), 초음파 인가(US), UV 인가(UV) 중 적어도 어느 하나를 통해 수행할 수 있다. 마스크(100)는 프레임(200)에 부착된 상태를 유지하므로, 템플릿(50)만을 들어올릴 수 있다. 일 예로, 85℃~100℃보다 높은 온도의 열을 인가(ET)하면 임시접착부(55)의 점성이 낮아지게 되고, 마스크(100)와 템플릿(50)의 접착력이 약해지게 되어, 마스크(100)와 템플릿(50)이 분리될 수 있다. 다른 예로, IPA, 아세톤, 에탄올 등의 화학 물질에 임시접착부(55)를 침지(CM)함으로서 임시접착부(55)를 용해, 제거 등의 방식으로 마스크(100)와 템플릿(50)이 분리될 수 있다. 다른 예로, 초음파를 인가(US)하거나, UV를 인가(UV)하면 마스크(100)와 템플릿(50)의 접착력이 약해지게 되어, 마스크(100)와 템플릿(50)이 분리될 수 있다.Referring to FIG. 7 , after attaching the mask 100 to the frame 200 , the mask 100 and the template 50 may be debonded. Separation of the mask 100 and the template 50 may be performed by at least one of heat application (ET), chemical treatment (CM), ultrasonic application (US), and UV application (UV) to the temporary adhesive portion 55. there is. Since the mask 100 remains attached to the frame 200, only the template 50 can be lifted. For example, when heat at a temperature higher than 85° C. to 100° C. is applied (ET), the viscosity of the temporary adhesive portion 55 is lowered, and the adhesive force between the mask 100 and the template 50 is weakened. ) and the template 50 may be separated. As another example, the mask 100 and the template 50 may be separated by dissolving or removing the temporary adhesive portion 55 by immersing (CM) the temporary adhesive portion 55 in a chemical such as IPA, acetone, or ethanol. there is. As another example, when ultrasound is applied (US) or UV is applied (UV), the adhesive force between the mask 100 and the template 50 is weakened, and thus the mask 100 and the template 50 may be separated.

마스크(100)로부터 템플릿(50)이 분리되면, 마스크(100)에 작용하던 인장력(IT)이 해제되면서 마스크(100)의 양측을 팽팽하게 하는 장력(TS)으로 전환될 수 있다. 이에 따라, 프레임(200)[마스크 셀 시트부(220)]에 장력(TS)을 인가하여 마스크(100)가 팽팽한 상태로 부착될 수 있다.When the template 50 is separated from the mask 100, the tensile force IT acting on the mask 100 is released and converted to the tension TS that tightens both sides of the mask 100. Accordingly, the mask 100 may be attached in a taut state by applying tension TS to the frame 200 (mask cell sheet portion 220).

도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크(100)를 프레임(200)에 부착한 상태를 나타내는 개략도이다. 도 8에서는 모든 마스크(100)를 프레임(200)의 셀 영역(CR)에 부착한 상태를 나타낸다. 하나씩 마스크(100)를 부착한 후 템플릿(50)을 분리할 수 있지만, 모든 마스크(100)를 부착한 후 모든 템플릿(50)을 분리할 수 있다.8 is a schematic diagram showing a state in which the mask 100 is attached to the frame 200 according to an embodiment of the present invention. 8 shows a state in which all the masks 100 are attached to the cell region CR of the frame 200 . Although the templates 50 may be separated after attaching the masks 100 one by one, all templates 50 may be separated after attaching all the masks 100 .

종래의 도 1의 마스크(10)는 셀 6개(C1~C6)를 포함하므로 긴 길이를 가지는데 반해, 본 발명의 마스크(100)는 셀 1개(C)를 포함하여 짧은 길이를 가지므로 PPA(pixel position accuracy)가 틀어지는 정도가 작아질 수 있다. 또한, 본 발명은 마스크(100)의 하나의 셀(C)을 대응시키고 정렬 상태를 확인하기만 하면 되므로, 복수의 셀(C: C1~C6)을 동시에 대응시키고 정렬 상태를 모두 확인하여야 하는 종래의 방법[도 1 참조]보다, 제조시간을 현저하게 감축시킬 수 있다.The conventional mask 10 of FIG. 1 includes 6 cells (C1 to C6) and thus has a long length, whereas the mask 100 of the present invention includes 1 cell (C) and has a short length. The degree to which pixel position accuracy (PPA) is distorted may be reduced. In addition, since the present invention only needs to match one cell (C) of the mask 100 and check the alignment, a plurality of cells (C: C1 to C6) must be simultaneously matched and the alignment must be checked. Compared to the method [see FIG. 1], the manufacturing time can be significantly reduced.

각각의 마스크(100)들이 모두 대응되는 마스크 셀 영역(CR) 상에 부착된 후에 템플릿(50)과 마스크(100)들이 분리되면, 복수의 마스크(100)들이 상호 반대방향으로 수축되는 장력(TS)을 인가하기 때문에, 그 힘이 상쇄되어 마스크 셀 시트부(220)의 제1, 2 그리드 시트부(223, 225)에는 변형이 일어나지 않게 된다. 예를 들어, CR11 셀 영역에 부착된 마스크(100)와 CR12 셀 영역에 부착된 마스크(100) 사이의 제1 그리드 시트부(223)는 CR11 셀 영역에 부착된 마스크(100)의 우측 방향으로 작용하는 장력(TS)과 CR12 셀 영역에 부착된 마스크(100)의 좌측 방향으로 작용하는 장력(TS)이 상쇄될 수 있다.When the template 50 and the masks 100 are separated after each mask 100 is attached to the corresponding mask cell region CR, the tension (TS) by which the plurality of masks 100 contract in opposite directions to each other ) is applied, the force is offset so that deformation does not occur in the first and second grid sheet portions 223 and 225 of the mask cell sheet portion 220 . For example, the first grid sheet portion 223 between the mask 100 attached to the CR11 cell area and the mask 100 attached to the CR12 cell area extends to the right of the mask 100 attached to the CR11 cell area. The tension TS acting and the tension TS acting in the left direction of the mask 100 attached to the CR12 cell region may be offset.

도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 확장형 프레임 일체형 마스크를 나타내는 개략도이다. 도 9에서는 이해의 편의를 위해 용접 비드(WB)의 도시 및 마스크 셀 시트부(1200)의 마스크 셀 영역(CR)에 부착된 마스크(100)들의 도시는 생략한다.9 is a schematic diagram illustrating an extended frame-integrated mask according to an embodiment of the present invention. In FIG. 9 , for convenience of understanding, the illustration of the weld bead WB and the illustration of the masks 100 attached to the mask cell region CR of the mask cell sheet portion 1200 are omitted.

OLED 디스플레이의 대면적화 및 대량 생산이 가능하도록, 도 2에서 상술한 프레임(200)[테두리 프레임부(210)]이 대형화 될 수 있다. 도 9를 참조하면, 확장형 프레임 일체형 마스크는 도 2 및 도 3보다 약 2배 이상 커진 확장 프레임부(1100)를 포함할 수 있다. 도 2 및 도 3에서는 마스크 셀 시트부(220)가 6 X 5로 총 30개의 마스크 셀 영역(CR)이 형성하고 있으나, 도 9의 마스크 셀 시트부(1200)는 10 X 6으로 총 60개의 마스크 셀 영역(CR: CR11, CR12, ... CR69, CR610)을 포함할 수 있다. 각각의 마스크 셀 영역(CR)의 크기는 도 2 및 도 3과 동일하거나 클 수 있다.The frame 200 described above in FIG. 2 (the border frame portion 210) may be enlarged to enable large-area and mass production of OLED displays. Referring to FIG. 9 , the extended frame integrated mask may include an extended frame portion 1100 that is about twice as large as those of FIGS. 2 and 3 . In FIGS. 2 and 3, the mask cell sheet portion 220 has a total of 30 mask cell regions CR formed in a 6 X 5 area, but the mask cell sheet portion 1200 in FIG. 9 has a total of 60 mask cell regions CR in a 10 X 6 area. A mask cell region (CR: CR11, CR12, ... CR69, CR610) may be included. The size of each mask cell region CR may be the same as or greater than that of FIGS. 2 and 3 .

테두리 프레임부(1110)는 도 2 및 도 3에서 상술한 테두리 프레임부(210)와 동일한 재질을 사용할 수 있으나, 보다 커진 크기에 대응하도록 넓은 중공 영역을 가지는 형태를 가질 수 있고, 큰 강성을 가지도록 두께도 더 두꺼워 질 수 있다.The edge frame unit 1110 may use the same material as the edge frame unit 210 described above with reference to FIGS. 2 and 3, but may have a shape having a wide hollow area to correspond to a larger size and have high rigidity. It can also be made thicker.

테두리 프레임부(1110) 상에는 마스크 셀 시트부(1200)가 연결될 수 있다. 용접 부착 등을 통해 테두리 프레임부(1110) 상에 마스크 셀 시트부(1200)가 연결될 수 있다. 마스크 셀 시트부(1200)는 테두리 시트부(1210), 제1 그리드 시트부(1220), 제2 그리드 시트부(1230)를 포함할 수 있다.A mask cell sheet portion 1200 may be connected to the edge frame portion 1110 . The mask cell sheet portion 1200 may be connected to the edge frame portion 1110 by welding or the like. The mask cell sheet portion 1200 may include an edge sheet portion 1210 , a first grid sheet portion 1220 , and a second grid sheet portion 1230 .

테두리 시트부(1210)는 테두리 프레임부(1110)의 테두리에 대응하게 연결될 수 있다. 테두리 시트부(1210)의 가로 길이(OL1) X 세로 길이(OL2)는 6G 풀(약 1,800mm X 1,500mm), 7G, 8G 급 이상에 대응할 수 있다. 테두리 시트부(1210)의 각 변은 단위 그리드 바가 연결되어 구성될 수 있다. 예를 들어, 4개의 단위 그리드 바가 사각형 형태로 연결되어 테두리 시트부(1210)가 구성될 수 있다.The edge sheet unit 1210 may be connected to correspond to the edge of the edge frame unit 1110 . The horizontal length (OL1) X the vertical length (OL2) of the edge sheet portion 1210 may correspond to 6G pool (approximately 1,800 mm X 1,500 mm), 7G, and 8G class or higher. Each side of the edge sheet portion 1210 may be configured by connecting unit grid bars. For example, the edge sheet portion 1210 may be formed by connecting four unit grid bars in a rectangular shape.

제1 그리드 시트부(1220)는 제1 방향(X축 방향)으로 연장 형성될 수 있다. 제1 그리드 시트부(1220)의 양단은 테두리 시트부(1210) 또는 테두리 프레임부(1110)에 연결될 수 있다. 제1 그리드 시트부(1220)의 각 변은 단위 그리드 바로 구성될 수 있다. 예를 들어, 도 9와 같이 5개의 단위 그리드 바가 제1 방향에 평행하게 배치되어 제1 그리드 시트부(1220)가 구성될 수 있다. 제1 그리드 시트부(1220)를 구성하는 단위 그리드 바의 길이는 가로 길이(OL1)에 대응될 수 있다.The first grid sheet portion 1220 may extend in a first direction (X-axis direction). Both ends of the first grid sheet part 1220 may be connected to the edge sheet part 1210 or the edge frame part 1110 . Each side of the first grid sheet portion 1220 may be configured as a unit grid bar. For example, as shown in FIG. 9 , five unit grid bars may be disposed parallel to the first direction to form the first grid sheet portion 1220 . The length of the unit grid bar constituting the first grid sheet portion 1220 may correspond to the horizontal length OL1.

제2 그리드 시트부(1230)는 제1 방향에 수직하는 제2 방향(Y축 방향)으로 연장 형성될 수 있다. 제2 그리드 시트부(1230)의 양단은 테두리 시트부(1210) 또는 테두리 프레임부(1110)에 연결될 수 있다. 제2 그리드 시트부(1230)의 각 변은 단위 그리드 바로 구성될 수 있다. 예를 들어, 도 9와 같이 9개의 단위 그리드 바가 제2 방향에 평행하게 배치되어 제2 그리드 시트부(1230)가 구성될 수 있다. 제2 그리드 시트부(1230)를 구성하는 단위 그리드 바의 길이는 세로 길이(OL2)에 대응될 수 있다.The second grid sheet portion 1230 may extend in a second direction (Y-axis direction) perpendicular to the first direction. Both ends of the second grid sheet unit 1230 may be connected to the edge sheet unit 1210 or the edge frame unit 1110 . Each side of the second grid sheet portion 1230 may be configured as a unit grid bar. For example, as shown in FIG. 9 , nine unit grid bars may be disposed parallel to the second direction to form the second grid sheet portion 1230 . The length of the unit grid bar constituting the second grid sheet portion 1230 may correspond to the vertical length OL2 .

제1 그리드 시트부(1220) 및 제2 그리드 시트부(1230)는 상호 교차할 수 있다. 제1 그리드 시트부(1220) 및 제2 그리드 시트부(1230)가 교차하는 부분 및 테두리 시트부(1210) 또는 테두리 프레임부(1110)에 연결되는 부분을 제외한 빈 부분이 마스크 셀 영역(CR)으로 제공될 수 있다.The first grid sheet portion 1220 and the second grid sheet portion 1230 may cross each other. The blank portion excluding the portion where the first grid sheet portion 1220 and the second grid sheet portion 1230 intersect and the portion connected to the edge sheet portion 1210 or the border frame portion 1110 is the mask cell region CR. can be provided as

도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 확장형 프레임 일체형 마스크를 나타내는 개략도이다. 도 10에서는 이해의 편의를 위해 용접 비드(WB)의 도시 및 마스크 셀 시트부(1200')의 마스크 셀 영역(CR)에 부착된 마스크(100)들의 도시는 생략한다.10 is a schematic diagram illustrating an extended frame integrated mask according to another embodiment of the present invention. In FIG. 10 , for convenience of understanding, the illustration of the weld bead WB and the illustration of the masks 100 attached to the mask cell region CR of the mask cell sheet portion 1200' are omitted.

도 10을 참조하면, 마스크 셀 시트부(1200')는 테두리 시트부(1210)[도 9 참조]를 포함하지 않고, 제1 그리드 시트부(1220') 및 제2 그리드 시트부(1230')만포함할 수 있다. 제1, 2 그리드 시트부(1220', 1230')는 도 9의 제1, 2 그리드 시트부(1220, 1230)와 실질적으로 동일하므로 구체적인 설명은 생략한다. 다만, 제1, 2 그리드 시트부(1220', 1230')의 양단은 테두리프레임부(1110)에 연결될 수 있다.Referring to FIG. 10 , the mask cell sheet portion 1200' does not include the edge sheet portion 1210 (see FIG. 9 ), and the first grid sheet portion 1220' and the second grid sheet portion 1230' can contain only Since the first and second grid sheet portions 1220' and 1230' are substantially the same as the first and second grid sheet portions 1220 and 1230 of FIG. 9, a detailed description thereof will be omitted. However, both ends of the first and second grid sheet parts 1220' and 1230' may be connected to the frame frame part 1110.

도 11은 마스크 셀 시트부의 원재료 코일을 나타내는 개략도이다.11 is a schematic diagram showing raw material coils of a mask cell sheet part.

OLED 디스플레이의 대면적화 및 대량 생산이 가능하도록, 프레임(200)[테두리 프레임부(210)]이 대형화 될 수 있다. 도 9 및 도 10의 확장 프레임부(1100)처럼 테두리 프레임부(1110)가 커짐에 따라 마스크 셀 시트부(1200)도 커져야한다. 기존의 마스크 셀 시트부(220)[도 3 참조]는 인바 금속 시트와 같은 얇은 금속 시트를 기초로 만들어진다. 도 11과 같이 금속 시트들의 원재료는 코일(MC) 형태로 권취되어 공급될 수 있다. 금속 시트는 코일(MC) 형태로 감겨져 있기 때문에 가로 길이(CL1)에 있어서는 길이의 제한을 받지 않고 제작이 가능한 반면, 세로 길이(CL2)는 코일(MC) 폭에 대응하기 때문에 그 길이에 제한을 받게 된다. 통상 유통되는 코일(MC)의 폭(CL2)은 약 1,040mm가 최대치이다.The frame 200 (the border frame portion 210) can be enlarged to enable large-area and mass production of OLED displays. Like the extended frame portion 1100 of FIGS. 9 and 10 , the mask cell sheet portion 1200 should also increase as the frame frame portion 1110 increases. The existing mask cell sheet portion 220 (see FIG. 3 ) is made based on a thin metal sheet such as an invar metal sheet. As shown in FIG. 11, the raw material of the metal sheets may be wound and supplied in the form of a coil (MC). Since the metal sheet is wound in the form of a coil (MC), the horizontal length (CL1) can be manufactured without any length restrictions, while the vertical length (CL2) corresponds to the width of the coil (MC), so there is no limit to its length. You will receive. The maximum width CL2 of the normally distributed coil MC is about 1,040 mm.

기존의 마스크 셀 시트부(220)는 코일(MC)의 일부 부분을 커팅하여 사용하기 때문에, 기존의 마스크 셀 시트부(220)의 일변은 코일(MC)의 폭(CL2)에 대응하게 최대치가 약 1,040mm로 제한될 수 밖에 없다. 이 마스크 셀 시트부(220)를 이용하면 가로 X 세로 크기가 약 1,500mm X 900mm의 크기인 6G 하프까지는 제조가 가능하다. 다만, 이보다 큰 크기인 6G 풀(약 1,800mm X 1,500mm), 7G, 8G 급 이상의 크기로는 제조가 불가능하다. 다시 말해, 도 9 및 도 10에서 상술한 확장 프레임부(1100)를 구성할 수 있는, 6G 풀 이상의 크기를 가지는 마스크 셀 시트부(1200, 1200')는 코일(MC)의 일부 부분을 커팅한 것으로 제조가 불가능하다. 다시 말해, 도 9 및 도 10의 가로 길이(OL1), 세로 길이(OL2)는 코일(MC)의 폭(CL2)보다 크므로, 코일(MC)의 일부 부분으로는 마스크 셀 시트부(1200, 1200')에 곧바로 적용이 불가능하다.Since the existing mask cell sheet portion 220 is used by cutting a portion of the coil MC, one side of the existing mask cell sheet portion 220 has a maximum value corresponding to the width CL2 of the coil MC. It is bound to be limited to about 1,040 mm. Using this mask cell sheet portion 220, it is possible to manufacture up to a 6G half having a width X length of about 1,500 mm X 900 mm. However, it is impossible to manufacture 6G pools (approximately 1,800mm X 1,500mm), 7G, and 8G sizes that are larger than this. In other words, the mask cell sheet parts 1200 and 1200' having a size equal to or larger than 6G pool, which can constitute the extended frame part 1100 described above in FIGS. 9 and 10, are obtained by cutting a portion of the coil MC. It is impossible to manufacture as In other words, since the horizontal length OL1 and the vertical length OL2 of FIGS. 9 and 10 are greater than the width CL2 of the coil MC, some portions of the coil MC include the mask cell sheet portion 1200, 1200') is not immediately applicable.

따라서, 본 발명은 단위 그리드 바를 이용하여 대면적의 마스크 셀 시트부(1200, 1200')를 제조하는 것을 특징으로 한다.Accordingly, the present invention is characterized by manufacturing large-area mask cell sheet portions 1200 and 1200' using unit grid bars.

도 12는 본 발명의 일 실시예에 따른 마스크 셀 시트부(1200, 1200')를 제조하기 위한 단위 그리드 바를 나타내는 개략도이다.12 is a schematic diagram showing unit grid bars for manufacturing the mask cell sheet portions 1200 and 1200' according to an embodiment of the present invention.

X축 단위 그리드 바는 제1 그리드 시트부(1220), Y축 단위 그리드 바는 제2 그리드 시트부(1230)에 대응할 수 있다. X축 단위 그리드 바의 길이(XL1)은 상기 가로 길이(OL1)에 대응할 수 있고, Y축 단위 그리드 바의 길이(YL1)은 상기 세로 길이(OL1)에 대응할 수 있다. 일 예로, 6G 풀 사이즈는 약 1,800mm X 1,500mm이므로, XL1은 약 1,800mm, YL1은 약 1,500mm에 대응할 수 있다. 이 길이 XL1, YL1은 모두 코일(MC)의 폭(CL2)보다 크다. 일 예로, X축/Y축 단위 그리드 바의 길이는 1,040mm보다 클 수 있다. 따라서, X축, Y축 단위 그리드 바를 제조하기 위해서는 권취된 코일(MC)을 펼쳐서 코일(MC)의 가로 길이(CL1)[도 11 참조] 방향을 기준으로 추출하여야 한다. 가로 길이(CL1)는 권취된 코일(MC)의 길이만큼으로 거의 제한이 없으므로, 단위 그리드 바를 제조할 수 있는 길이를 제공할 수 있다.The X-axis unit grid bar may correspond to the first grid sheet portion 1220 and the Y-axis unit grid bar may correspond to the second grid sheet portion 1230 . The length XL1 of the X-axis unit grid bar may correspond to the horizontal length OL1, and the length YL1 of the Y-axis unit grid bar may correspond to the vertical length OL1. For example, since the full size of 6G is approximately 1,800 mm X 1,500 mm, XL1 may correspond to approximately 1,800 mm and YL1 may correspond to approximately 1,500 mm. Both of these lengths XL1 and YL1 are larger than the width CL2 of the coil MC. For example, the length of the X-axis/Y-axis unit grid bar may be greater than 1,040 mm. Therefore, in order to manufacture the X-axis and Y-axis unit grid bars, the wound coil MC should be unfolded and extracted based on the direction of the horizontal length CL1 (see FIG. 11) of the coil MC. Since the horizontal length CL1 is almost unlimited as long as the length of the wound coil MC, it is possible to provide a length capable of manufacturing a unit grid bar.

도 12의 (a)를 참조하면, 권취된 코일(MC)의 가로 길이(CL1)에 평행하도록 절단하여 X축 단위 그리드 바(1220), Y축 단위 그리드바(1230)를 제조할 수 있다. X축 단위 그리드 바(1220), Y축 단위 그리드바(1230)가 교차되는 부분에는 홈(GV1, GV2)이 형성될 수 있다. 홈(GV1, GV2)의 깊이(XL4, YL4)는 동일한 것이 바람직하다. 또한, 홈(GV1, GV2)의 가로 길이(XL3, YL3), 세로 길이(XL5, YL5) 역시 동일한 것이 바람직하지만, 깊이(XL4, YL4)가 동일한 범위 내에서 상호 연결이 가능하다면 홈(GV1, GV2)의 가로 길이(XL3, YL3), 세로 길이(XL5, YL5)가 반드시 동일할 필요는 없다.Referring to (a) of FIG. 12 , the X-axis unit grid bar 1220 and the Y-axis unit grid bar 1230 may be manufactured by cutting parallel to the horizontal length CL1 of the wound coil MC. Grooves GV1 and GV2 may be formed at portions where the X-axis unit grid bar 1220 and the Y-axis unit grid bar 1230 intersect. Depths XL4 and YL4 of the grooves GV1 and GV2 are preferably the same. In addition, it is preferable that the horizontal lengths (XL3, YL3) and vertical lengths (XL5, YL5) of the grooves (GV1, GV2) are the same, but if the depths (XL4, YL4) can be interconnected within the same range, the grooves (GV1, YL4) can be interconnected. The horizontal lengths (XL3, YL3) and the vertical lengths (XL5, YL5) of GV2) do not necessarily need to be the same.

일 예로, 200㎛의 두께를 가진 단위 그리드 바라면, 에칭, 폴리싱 등의 공정으로 X축/Y축 단위 그리드 바의 교차하는 부분에 약 100㎛ 깊이로 홈(GV1, GV2)을 형성할 수 있다. 그리고, 홈(GV1, GV2) 부분을 상호 끼워맞춰서 X축/Y축 단위 그리드 바의 평탄도를 맞출 수 있다. 만약, 홈(GV1, GV2)의 깊이가 상이하여 상부면이 평평하지 않은 경우에는, 표면(상부면)에 대해 폴리싱 등의 공정을 더 수행하여 마스크 셀 시트부(1200, 1200')의 상부면을 평평하게 할 수 있다. 다시 말해, X축 단위 그리드 바(1220), Y축 단위 그리드바(1230)가 동일한 상부면을 공유하도록 할 수 있다.For example, in the case of a unit grid bar having a thickness of 200 μm, grooves GV1 and GV2 with a depth of about 100 μm may be formed at the intersection of the X-axis/Y-axis unit grid bars through processes such as etching and polishing. . In addition, the flatness of the X-axis/Y-axis unit grid bars may be adjusted by fitting the grooves GV1 and GV2 to each other. If the upper surfaces of the grooves GV1 and GV2 are not flat due to different depths, a process such as polishing is further performed on the surfaces (upper surfaces) to obtain the upper surfaces of the mask cell sheet portions 1200 and 1200'. can be flattened. In other words, the X-axis unit grid bar 1220 and the Y-axis unit grid bar 1230 may share the same top surface.

도 12의 (b)를 참조하면, X축 단위 그리드 바(1220), Y축 단위 그리드바(1230) 중 어느 하나에만 홈(GV1)을 형성할 수 있다. 이때, Y축 단위 그리드(1230)의 두께(YL2)는 홈(GV1)의 깊이(XL4)에 대응할 수 있다. 또한, Y축 단위 그리드(1230)의 가로 길이(YL3)와 홈(GV1)의 가로 깊이(XL3) 역시 동일한 것이 바람직하지만, 깊이(XL4)와 두께(YL2)가 동일한 범위 내에서 상호 연결이 가능하다면 Y축 단위 그리드(1230)의 가로 길이(YL3)와 홈(GV1)의 가로 깊이(XL3)가 반드시 동일할 필요는 없다.Referring to (b) of FIG. 12 , the groove GV1 may be formed in only one of the X-axis unit grid bar 1220 and the Y-axis unit grid bar 1230 . In this case, the thickness YL2 of the Y-axis unit grid 1230 may correspond to the depth XL4 of the groove GV1. In addition, it is preferable that the horizontal length (YL3) of the Y-axis unit grid 1230 and the horizontal depth (XL3) of the groove (GV1) are the same, but interconnection is possible within the same range as the depth (XL4) and thickness (YL2). If so, the horizontal length YL3 of the Y-axis unit grid 1230 and the horizontal depth XL3 of the groove GV1 need not necessarily be the same.

일 예로, 200㎛의 두께를 가진 X축 단위 그리드 바라면, 에칭, 폴리싱 등의 공정으로 X축 단위 그리드 바의 교차하는 부분에 약 100㎛ 깊이로 홈(GV1)을 형성할 수 있다. Y축 단위 그리드 바는 두께를 약 100㎛로 형성할 수 있다. 그리고, 홈(GV1) 부분에 Y축 단위 그리드 바를 끼워맞춰서 X축/Y축 단위 그리드 바의 평탄도를 맞출 수 있다. 만약, 홈(GV1)의 깊이와 Y축 단위 그리드 바의 두께(YL2)가 상이하여 상부면이 평평하지 않은 경우에는, 표면(상부면)에 대해 폴리싱 등의 공정을 더 수행하여 마스크 셀 시트부(1200, 1200')의 상부면을 평평하게 할 수 있다. 다시 말해, X축 단위 그리드 바(1220), Y축 단위 그리드바(1230)가 동일한 상부면을 공유하도록 할 수 있다.For example, in the case of an X-axis unit grid bar having a thickness of 200 μm, a groove GV1 may be formed to a depth of about 100 μm at an intersection of the X-axis unit grid bars through a process such as etching or polishing. The Y-axis unit grid bar may have a thickness of about 100 μm. In addition, the flatness of the X-axis/Y-axis unit grid bars may be adjusted by fitting the Y-axis unit grid bars into the groove GV1. If the upper surface is not flat because the depth of the groove GV1 and the thickness YL2 of the Y-axis unit grid bar are different, a process such as polishing is further performed on the surface (upper surface) to form the mask cell sheet portion. The upper surfaces of (1200, 1200') can be flattened. In other words, the X-axis unit grid bar 1220 and the Y-axis unit grid bar 1230 may share the same top surface.

위와 같이, X축 단위 그리드 바(1220), Y축 단위 그리드바(1230)가 동일한 상부면을 공유하므로, 마스크 셀 시트부(1200, 1200')의 상부면에 부착되는 마스크(100)들의 정렬에 영향이 없다.As described above, since the X-axis unit grid bar 1220 and the Y-axis unit grid bar 1230 share the same upper surface, the alignment of the masks 100 attached to the upper surfaces of the mask cell sheet parts 1200 and 1200' has no effect on

마스크 셀 시트부(1200, 1200')의 단위 그리드 바는 각각 순차적으로 인장되어 양단이 테두리 프레임부(1110)에 부착될 수 있다. 또는, 마스크 셀 시트부(1200)처럼 테두리 시트부(1210)에 제1, 2 그리드 시트부(1220, 1230)가 연결된 후, 테두리 시트부(1210)의 특정 부분이 인장되어 테두리 시트부(1210)가 테두리 프레임부(1110)에 부착될 수 있다.The unit grid bars of the mask cell sheet portions 1200 and 1200' may be sequentially stretched and both ends may be attached to the edge frame portion 1110. Alternatively, after the first and second grid sheet parts 1220 and 1230 are connected to the edge sheet part 1210 like the mask cell sheet part 1200, a specific part of the edge sheet part 1210 is stretched to form the edge sheet part 1210. ) may be attached to the border frame unit 1110.

마스크 셀 시트부(1200, 1200')가 테두리 프레임부(1110)에 모두 부착된 후에는 복수의 마스크 셀 영역(CR)이 제공되고, 마스크 셀 영역(CR)의 각각에 마스크(100)들이 부착될 수 있게 된다.After the mask cell sheet portions 1200 and 1200' are attached to the edge frame portion 1110, a plurality of mask cell regions CR are provided, and the masks 100 are attached to each of the mask cell regions CR. can become

도 13 및 도 14는 본 발명의 여러 실시예에 따른 확장형 프레임 일체형 마스크의 확장 프레임부를 나타내는 개략도이다. 도 13 (b), (c)는 도 13 (a)의 H-H' 개략 단면도이고, 도 14 (b)는 도 14 (a)의 I-I' 개략 단면도이다. 도 13 및 도 14에서는 설명의 편의상 마스크 셀 시트부(1200), 마스크(100)의 도시를 생략하고 확장 프레임부(1100)만 도시한다.13 and 14 are schematic diagrams illustrating an extended frame portion of an extended frame integrated mask according to various embodiments of the present invention. 13 (b) and (c) are H-H' schematic cross-sectional views of FIG. 13 (a), and FIG. 14 (b) is a II' schematic cross-sectional view of FIG. 14 (a). In FIGS. 13 and 14 , for convenience of description, illustration of the mask cell sheet portion 1200 and the mask 100 are omitted, and only the extension frame portion 1100 is shown.

도 9에서 상술한 바와 같이, 6G 풀, 8G 급 이상에서 사용하는 확장 프레임부(1100)는 6G 하프 공정에서 사용하는 프레임(200)[도 3 참조]과 대비하여 무거워지고 커지게 된다. 그리하여, 확장 프레임부(1100)를 이동하기 위한 장치의 구성이 어려워지고, 확장 프레임부(1100)이 자중에 의해 틀어지게 되는 문제가 발생할 수 있다.As described above in FIG. 9 , the extension frame unit 1100 used in 6G full, 8G or higher is heavier and larger than the frame 200 used in the 6G half process (see FIG. 3 ). Thus, the configuration of a device for moving the extension frame unit 1100 becomes difficult, and a problem in that the extension frame unit 1100 is distorted by its own weight may occur.

이에 따라, 도 13 (a)와 같이, 테두리 프레임부(1110)에 그리드 프레임부(1120, 1130)가 더 연결되어 확장 프레임부(1100)가 구성될 수 있다. 그리드 프레임부(1120, 1130)는 보강 프레임으로 기능하 확장 프레임부(110)의 강성을 보강할 수 있다. 도 13에는 하나의 그리드 프레임부(1120, 1130)을 테두리 프레임부(1110)에 연결한 것을 도시하나, 확장 프레임부(110)의 크기, 무게 등을 고려하여 복수의 그리드 프레임부(1120, 1130)를 연결할 수도 있다.Accordingly, as shown in FIG. 13 (a), the grid frame units 1120 and 1130 may be further connected to the border frame unit 1110 to form the extended frame unit 1100. The grid frame parts 1120 and 1130 may reinforce the rigidity of the extended frame part 110 by functioning as a reinforcing frame. 13 shows that one grid frame unit 1120 or 1130 is connected to the frame frame unit 1110, but considering the size and weight of the extended frame unit 110, a plurality of grid frame units 1120 or 1130 ) can be connected.

도 13 (b)와 같이, 그리드 프레임부(1120, 1130)는 테두리 프레임부(1110)와 동일한 두께 및 동일한 재질을 가지고 테두리 프레임부(1110)와 연결될 수 있다. 또는 확장 프레임부(1100)의 제작 초기부터 테두리 프레임부(1110)와 그리드 프레임부(1120, 1130)가 일체로 구성될 수도 있다.As shown in (b) of FIG. 13 , the grid frame parts 1120 and 1130 may have the same thickness and the same material as the frame frame part 1110 and be connected to the frame part 1110 . Alternatively, the edge frame unit 1110 and the grid frame units 1120 and 1130 may be integrally formed from the initial stage of manufacturing the extended frame unit 1100 .

도 13 (c)와 같이, 그리드 프레임부(1120, 1130) 및/또는 테두리 프레임부(1110)는 중량을 낮출 수 있도록 속이 빈 각관을 상호 용접한 형태일 수도 있다. 이 경우 프레임의 무게가 가벼워지므로 프레임이 대형화 되더라도 틀어짐이 발생되는 것이 억제된다. 테두리 프레임부(1110), 그리드 프레임부(1120, 1130)의 각 모서리는 대각선 형태로 잘라진 두개의 각관이 상호 연결된 형태일 수 있다. 다만, 각관 형태를 연결할 수 있는 목적의 범위라면 각관의 연결 형태에 대해서는 제한이 없다.As shown in FIG. 13 (c), the grid frame parts 1120 and 1130 and/or the frame frame part 1110 may be formed by welding hollow square tubes to each other to reduce weight. In this case, since the weight of the frame is lightened, even if the frame is enlarged, the occurrence of distortion is suppressed. Each corner of the frame frame unit 1110 and the grid frame units 1120 and 1130 may have a form in which two square tubes cut in a diagonal shape are connected to each other. However, there is no limit on the connection form of each pipe if the scope of the purpose that can connect each pipe form.

그리드 프레임부(1120, 1130)가 테두리 프레임부(1110)의 중공 영역을 분할하여 복수의 시트 영역(OR)을 구분할 수 있다. 각 시트 영역(OR) 또는 복수의 시트 영역(OR) 상에는 도 9 및 도 10에서 상술한 마스크 셀 시트부(1200, 1200')이 연결될 수 있다.The grid frame parts 1120 and 1130 divide the hollow area of the edge frame part 1110 to divide a plurality of seat areas OR. The mask cell sheet parts 1200 and 1200' described above with reference to FIGS. 9 and 10 may be connected to each sheet area OR or the plurality of sheet areas OR.

도 14의 (a), (b)를 참조하면, 확장 프레임부(1100)의 테두리 프레임부(1110), 그리드 프레임부(1120, 1130) 중 적어도 어느 하나에는 수직 방향(Z축 방향)으로 복수의 통과홀(1140)이 형성될 수 있다. 통과홀(1140)은 확장 프레임부(1100)의 크기에 따라 개수, 홀의 직경 등이 변경될 수 있다.Referring to (a) and (b) of FIG. 14 , at least one of the frame frame unit 1110 and the grid frame units 1120 and 1130 of the extended frame unit 1100 has a plurality of vertical lines (Z-axis direction). A through hole 1140 of may be formed. The number of through holes 1140 and the diameter of the hole may be changed according to the size of the expansion frame unit 1100 .

도 14의 (c)를 참조하면, 통과홀(1140)은 증착 대상 기판(1400)을 지지할 수 있는 리프트 핀(1310)이 통과되는 통로를 제공할 수 있다. 본 발명의 확장형 프레임 일체형 마스크는 6G 풀 이상의 대면적의 증착 대상 기판(1400)과 접하여 유기물 증착 공정을 수행할 때 사용하는 것인데, 증착 대상 기판(1400)이 증착 장치 내부에 정렬될때 그 자중에 의해서 휘어지게 될 수 있다. 따라서, 증착 대상 기판(1400)을 증착 장치 내부에 정렬하는 과정에서 확장형 프레임 일체형 마스크의 하부에 증착 대상 기판(1400)의 하부를 지지할 수 있는 리프트 핀(1310)들이 설치된 기판 지지부(1300)를 배치할 수 있다. 기판 지지부(1300)가 승강하면서 리프트 핀(1310)들이 확장 프레임부(110)의 핀 통과홀(1140)을 통과하여 리프트 핀(1310)의 상단이 증착 대상 기판(1400)의 하부면을 지지할 수 있다. 증착 대상 기판(1400)이 기판 지지 로봇(미도시) 또는 지지 수단(미도시)(일 예로, 정전 척)에 고정 설치되기 전까지 리프트 핀(1310)들은 증착 대상 기판(1400)의 하부면을 지지하여 처짐을 방지할 수 있게 된다. 또는, 증착 대상 기판(1400)에 OLED 화소 형성 공정을 마친 후에도, 증착 대상 기판(1400)이 언로딩되기 전에 리프트 핀(1310)들이 증착 대상 기판(1400)의 처짐을 방지할 수도 있다.Referring to (c) of FIG. 14 , the passage hole 1140 may provide a passage through which the lift pin 1310 capable of supporting the deposition target substrate 1400 passes. The extended frame-integrated mask of the present invention is used when an organic material deposition process is performed in contact with a large-area deposition target substrate 1400 having a size of 6G pool or more. may be bent Therefore, in the process of arranging the deposition target substrate 1400 inside the deposition apparatus, the substrate support 1300 is installed with lift pins 1310 capable of supporting the lower portion of the deposition target substrate 1400 under the extended frame-integrated mask. can be placed As the substrate support 1300 moves up and down, the lift pins 1310 pass through the pin passage holes 1140 of the extension frame 110 so that the top of the lift pins 1310 supports the lower surface of the substrate 1400 to be deposited. can The lift pins 1310 support the lower surface of the deposition target substrate 1400 until the deposition target substrate 1400 is fixedly installed to a substrate support robot (not shown) or a supporting means (not shown) (eg, an electrostatic chuck). This will prevent sagging. Alternatively, the lift pins 1310 may prevent the deposition target substrate 1400 from sagging before the deposition target substrate 1400 is unloaded even after the OLED pixel formation process is completed on the deposition target substrate 1400 .

본 발명은 확장형 프레임 일체형 마스크의 제조가 가능하고, 6G 하프의 크기를 넘어서 6G 풀, 7G, 8G 등과 같은 차세대 초대면적에 대한 OLED 화소 형성 공정을 수행할 수 있게 되어, 초대면적 디스플레이 구현하거나 복수의 디스플레이에 대한 생산성을 현저히 증대시킬 수 있게 된다.The present invention is capable of manufacturing an extensible frame-integrated mask, and beyond the size of a 6G half, it is possible to perform an OLED pixel formation process for next-generation super-areas such as 6G full, 7G, and 8G, realizing a super-area display or a plurality of Productivity for the display can be remarkably increased.

본 발명은 상술한 바와 같이 바람직한 실시예를 들어 도시하고 설명하였으나, 상기 실시예에 한정되지 아니하며 본 발명의 정신을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변형과 변경이 가능하다. 그러한 변형예 및 변경예는 본 발명과 첨부된 특허청구범위의 범위 내에 속하는 것으로 보아야 한다.Although the present invention has been shown and described with preferred embodiments as described above, it is not limited to the above embodiments, and various variations can be made by those skilled in the art within the scope of not departing from the spirit of the present invention. Transformation and change are possible. Such modifications and variations are to be regarded as falling within the scope of this invention and the appended claims.

100: 마스크
200: 프레임
210: 테두리 프레임부
220: 마스크 셀 시트부
1100: 확장 프레임부
1110: 테두리 프레임부
1120, 1130: 그리드 프레임부
1200: (확장 프레임부에 포함되는) 마스크 셀 시트부
1210: 테두리 시트부
1220: 제1 그리드 시트부, X축 단위 그리드 바
1230: 제2 그리드 시트부, Y축 단위 그리드 바
C: 셀, 마스크 셀
CR: 마스크 셀 영역
OL1, OL2 : 마스크 셀 시트부의 가로 길이, 세로 길이
OR: 시트 영역100: mask
200: frame
210: border frame part
220: mask cell sheet portion
1100: extension frame unit
1110: border frame unit
1120, 1130: grid frame part
1200: mask cell sheet part (included in the extension frame part)
1210: border seat portion
1220: first grid sheet portion, X-axis unit grid bar
1230: second grid sheet unit, Y-axis unit grid bar
C: cell, mask cell
CR: mask cell area
OL1, OL2: Horizontal length and vertical length of the mask cell sheet part
OR: sheet area

Claims (14)

복수의 마스크와 마스크를 지지하는 확장 프레임부가 연결된 확장형 프레임 일체형 마스크로서,
확장 프레임부는,
테두리 프레임부; 및
상기 테두리 프레임부에 부착되며 복수의 단위 그리드 바를 포함하는 마스크 셀 시트부;
를 포함하고,
상기 단위 그리드 바의 양단은 상기 테두리 프레임부에 연결되며, 상기 단위 그리드 바는 적어도 상기 마스크 셀 시트부의 제1 그리드 시트부 및 제1 그리드 시트부에 수직한 방향으로 형성되는 제2 그리드 시트부를 구성하고,
복수의 마스크가 마스크 셀 시트부의 복수의 마스크 셀 영역 상에 연결되는, 확장형 프레임 일체형 마스크.An extended frame integrated mask in which a plurality of masks and an extended frame unit supporting the mask are connected,
extension frame,
border frame part; and
a mask cell sheet portion attached to the edge frame portion and including a plurality of unit grid bars;
including,
Both ends of the unit grid bar are connected to the edge frame portion, and the unit grid bar constitutes at least a first grid sheet portion of the mask cell sheet portion and a second grid sheet portion formed in a direction perpendicular to the first grid sheet portion. do,
An expandable frame-integrated mask, wherein a plurality of masks are connected on a plurality of mask cell regions of a mask cell sheet portion. 제1항에 있어서,
상기 제1 그리드 시트부를 구성하는 X축 단위 그리드 바 및 상기 제2 그리드 시트부를 구성하는 Y축 단위 그리드 바가 교차되는 부분에 홈이 형성된, 확장형 프레임 일체형 마스크.According to claim 1,
An expandable frame-integrated mask having grooves formed at intersections of X-axis unit grid bars constituting the first grid sheet portion and Y-axis unit grid bars constituting the second grid sheet portion. 제2항에 있어서,

단위 그리드 바가 교차되는 부분에 형성된 홈은 상기 X축 단위 그리드 바, 상기 Y축 단위 그리드 바 중 적어도 어느 하나에 형성되는, 확장형 프레임 일체형 마스크.According to claim 2,

The expandable frame-integrated mask, wherein the groove formed at the intersection of the unit grid bars is formed on at least one of the X-axis unit grid bar and the Y-axis unit grid bar. 제2항에 있어서,
상기 X축 단위 그리드 바와 상기 Y축 단위 그리드 바는 동일한 상부면을 공유하는, 확장형 프레임 일체형 마스크.According to claim 2,
The X-axis unit grid bar and the Y-axis unit grid bar share the same upper surface, an expandable frame-integrated mask. 제1항에 있어서,
상기 X축 단위 그리드 바, 상기 Y축 단위 그리드 바를 순차적으로 인장하며 상기 테두리 프레임부에 연결하여 상기 마스크 셀 시트부를 구성하는, 확장형 프레임 일체형 마스크.According to claim 1,
The expandable frame-integrated mask comprising the mask cell sheet portion by sequentially stretching and connecting the X-axis unit grid bar and the Y-axis unit grid bar to the edge frame portion. 제1항에 있어서,
상기 마스크 셀 시트부는, 상기 단위 그리드 바가 상기 테두리 프레임부의 테두리에 대응하게 연결되어 테두리 시트부를 더 구성하고,
상기 테두리 시트부에 상기 제1 그리드 시트부 및 상기 제2 그리드 시트부의 양단 부분이 연결되는, 확장형 프레임 일체형 마스크.According to claim 1,
The mask cell sheet part further constitutes an edge sheet part by connecting the unit grid bar correspondingly to the edge of the edge frame part,
An expandable frame-integrated mask in which both ends of the first grid sheet portion and the second grid sheet portion are connected to the edge sheet portion. 제1항에 있어서,
상기 확장 프레임부는, 양단이 상기 테두리 프레임부에 연결되어 복수의 시트 영역을 구분하는 그리드 프레임부를 더 포함하는, 확장형 프레임 일체형 마스크.According to claim 1,
The extended frame unit further includes a grid frame unit having both ends connected to the edge frame unit to divide a plurality of sheet areas. 제7항에 있어서,
상기 그리드 프레임부는 상기 테두리 프레임부와 동일한 두께를 가지고 상기 테두리 프레임부와 연결되는, 확장형 프레임 일체형 마스크.According to claim 7,
The grid frame part has the same thickness as the edge frame part and is connected to the edge frame part, an expandable frame-integrated mask. 제8항에 있어서,
상기 테두리 프레임부와 상기 그리드 프레임부는 속이 빈 각관을 상호 용접한 형태인, 확장형 프레임 일체형 마스크.According to claim 8,
The rim frame part and the grid frame part are mutually welded hollow square tubes, an expandable frame integrated mask. 제1항에 있어서,
상기 확장 프레임부의 크기는 가로 X 세로가 적어도 1,500mm X 1,800mm보다 큰, 확장형 프레임 일체형 마스크.According to claim 1,
The size of the extended frame portion is greater than at least 1,500 mm X 1,800 mm in width X length, an expandable frame integrated mask. 제10항에 있어서,
상기 테두리 프레임부, 상기 그리드 프레임부 중 적어도 어느 하나에는 Z축 방향으로 리프트 핀이 통과할 수 있는 통과홀이 형성된, 확장형 프레임 일체형 마스크.According to claim 10,
At least one of the edge frame portion and the grid frame portion is formed with a through hole through which a lift pin can pass in a Z-axis direction, an expandable frame integrated mask. 제11항에 있어서,
상기 리프트 핀은 6G 풀 사이즈보다 큰 면적의 증착 대상 기판의 하부면을 지지하는, 확장형 프레임 일체형 마스크.According to claim 11,
The lift pins support a lower surface of a substrate to be deposited with an area larger than 6G full size, an expandable frame-integrated mask. 복수의 마스크와 마스크를 지지하는 확장 프레임부가 연결된 확장형 프레임 일체형 마스크의 제조 방법으로서,
(a) 테두리 프레임부를 제공하는 단계;
(b) 제1 방향 및 제2 방향을 따라 복수의 단위 그리드 바를 연결하여 복수의 마스크 셀 영역이 형성된 마스크 셀 시트부를 제공하는 단계;
(c) 상기 마스크 셀 시트부를 상기 테두리 프레임부에 부착하여 확장 프레임부를 제조하는 단계;
(d) 상기 마스크 셀 시트부의 복수의 마스크 셀 영역 상에 복수의 마스크를 각각 부착하는 단계;
를 포함하는, 확장형 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.A method of manufacturing an expandable frame-integrated mask in which a plurality of masks and an extension frame supporting the mask are connected,
(a) providing a border frame portion;
(b) providing a mask cell sheet portion in which a plurality of mask cell regions are formed by connecting a plurality of unit grid bars along a first direction and a second direction;
(c) manufacturing an extended frame by attaching the mask cell sheet to the frame;
(d) attaching a plurality of masks on a plurality of mask cell regions of the mask cell sheet portion, respectively;
Including, the manufacturing method of the extended frame integrated mask. 제13항에 있어서,
제1 방향 또는 제2 방향으로 형성된 상기 단위 그리드 바 중 적어도 어느 하나의 길이는 1,040mm보다 긴, 확장형 프레임 일체형 마스크의 제조 방법.According to claim 13,
The method of manufacturing an expandable frame-integrated mask, wherein the length of at least one of the unit grid bars formed in the first direction or the second direction is longer than 1,040 mm.

Images