KR20230020510A

KR20230020510A - 난시 치료를 위한 비대칭 투사 렌즈

Info

Publication number: KR20230020510A
Application number: KR1020237000258A
Authority: KR
Inventors: 필립 엠 부세미; 료 구보타
Original assignee: 어큐셀라 인코포레이티드
Priority date: 2020-06-08
Filing date: 2021-06-07
Publication date: 2023-02-10
Also published as: US20210379399A1; AU2021288457A1; US11497931B2; CA3179939A1; US20230026567A1; EP4162317A1; JP2023529875A; CN115698832A

Abstract

자극은 근시 치료와 독립적으로 또는 근시 치료와 조합하여 망막 두께의 변화로 난시를 치료하도록 구성된다. 일부 실시예에서, 자극 패턴이 눈의 난시축에 대해 배열되어 난시축과 관련하여 안구 성장을 감소시킨다. 일부 실시예에서, 장치는 눈의 난시축과 관련하여 황반 외부의 망막 영역에 광을 지향시키도록 구성된다. 일부 실시예에서, 강도는 효과를 제공하도록 조절된다. 콘택트 렌즈 또는 안경 렌즈와 같은 렌즈는, 함께 작동하여 중심와에 대해 편심인 위치에서 망막 위로 디포커싱된 이미지를 전방 또는 후방으로 투사하는 광원 및 포커싱 광학계(focusing optic)를 갖는 투사 유닛과 같은 복수의 광원으로 구성된다.

Description

난시 치료를 위한 비대칭 투사 렌즈

본 출원은 "난시 치료를 위한 비대칭 투사 렌즈"라는 명칭으로 2020년 6월 8일에 출원된 미국 가특허 출원 번호 제63/036,170호의 35U.S.C. §119(e) 하의 이익을 주장하며, 상기 출원은 그 전체가 참조로 통합된다.

본 출원의 주제는 "근시 진행을 감소시키는 전자 콘택트 렌즈"라는 명칭으로 2019년 7월 26일에 출원되고 WO 2020/028177A1로 공개된 국제특허출원 PCT/US2019/043692에 관련된 것이고, 또 "망막에 이미지를 투사하기 위한 디바이스"라는 명칭으로 2019년 10월 25일에 출원된 미국 출원 번호 제62/925,948호에 관련된 것으로서, 이들 출원의 개시 내용 전체가 본원에 참조로 통합된다.

눈은 빛을 굴절시켜 이미지를 눈의 망막에 포커싱하여 시각을 제공한다. 그러나, 어떤 경우에는, 빛의 굴절이 이상적이지 않아 눈의 굴절 이상을 유발할 수 있다. 눈의 굴절 이상은 눈의 길이와 각막의 곡률과 관련될 수 있다. 예를 들어, 안축장(axial length)이 더 긴 눈은 근시(예컨대, 가까운 것을 보는)가 되는 경향이 있고, 안축장이 더 짧은 눈은 원시(예컨대, 먼 것을 보는)가 되는 경향이 있다. 불규칙한 모양의 각막을 가진 눈은 난시가 있는 경향이 있다.

난시는 일반적으로 눈의 각막 또는 수정체의 곡률의 결함과 관련이 있다. 난시가 없는 눈에서, 각막과 수정체는 종종 모든 방향에서 실질적으로 동등하게 만곡된다. 그러나, 난시가 있는 눈에서, 각막은 각막의 다른 경선(meridian)을 따라 다르게 만곡되는 경우가 많다. 적절하게 만곡된 수정체와 각막은 광선이 눈 뒤쪽에서 망막에 뚜렷이 포커싱되도록 도와준다.

각막이 모든 방향으로 동등하게 만곡되지 않은 것과 같이, 불규칙한 모양, 예컨대 토릭(toric) 모양을 가진 경우, 환자는 각막 난시가 있을 수 있다. 난시는 가까운 물체와 먼 물체 모두에 대해 환자의 시야를 흐릿하게 하거나 왜곡시킬 수 있다.

본 개시와 관련된 연구는 인간을 포함한 많은 종의 망막이 디포커스로 인한 블러(blur)를 감소시키기 위해, 디포커싱된 이미지에 반응하고 성장하는 것을 제안한다. 성장 신호의 생성 메커니즘은 여전히 연구 중이지만, 성장 신호에 대한 망막 조직의 반응의 한 가지 관찰 가능한 현상은 맥락막(choroid)의 두께의 변화이다. 디포커싱된 이미지는 맥락막 두께를 변화시킬 수 있으며, 이는 눈의 안축장의 변화 및 각막과 수정체에 대한 망막의 위치 변화와 관련될 수 있다.

난시, 근시, 원시는 굴절 렌즈와 수술로 교정할 수 있는 눈의 굴절 이상이다. 그러나, 이러한 접근 방식 중 적어도 일부는 적어도 일부 측면에서 이상적이지 않을 수 있다. 예를 들어, 일부 환자는 콘택트 렌즈나 안경에 불내성일 수 있으며 굴절 수술은 위험을 나타낼 수 있다. 교정되지 않은 난시는 학교, 스포츠 및 기타 활동을 성취하고 그것에 완전히 참여하는 개인의 능력에 영향을 미칠 수 있다. 난시와 같은 눈의 굴절 이상을 치료하기 위해 안경 렌즈, 콘택트 렌즈 및 굴절 수술을 이용할 수 있지만, 이러한 디바이스는 굴절 이상을 교정하기 위해 착용해야 하며, 수술에는 감염 및 시력 저하와 같은 위험이 따른다. 이러한 종래의 기법은 통상적으로 환자가 나이가 들면서 망막 박리와 같은 망막 질환과 관련될 수 있는 안구의 길이를 다루지 않고 있다.

이미지의 디포커스가 맥락막 두께와 눈의 안축장의 변화에 역할을 할 수 있지만, 종래의 방법 및 장치는 난시를 해결하는 데 이상적으로 적합하지는 않다. 예컨대, 안축장 성장과 관련된 근시를 치료하기 위해 약제학적 치료법이 제안되었지만, 이러한 치료법은 적어도 일부 경우에 이상적인 결과보다 낮을 수 있다. 빛이 굴절 이상의 변화를 줄이기 위한 자극으로 제안되었지만, 종래 디바이스는 적어도 일부 경우에서 망막 두께의 변화로 난시를 치료하는 데 이상적으로 적합하지 않을 수 있다.

따라서, 눈의 난시 굴절 이상을 치료하기 위해서는 새로운 기법이 필요하다.

본원에 개시된 방법 및 장치는 망막 자극으로 난시를 치료할 수 있다. 일부 실시예에서, 자극은 근시에 대한 치료와 독립적으로 또는 그와 조합하여, 망막 두께의 변화로 난시를 치료하도록 구성된다. 일부 실시예에서, 자극 패턴이 눈의 난시축에 대해 배열되어 난시축과 관련하여 안구 성장을 감소시킨다. 일부 실시예에서, 장치는 눈의 난시축과 관련하여 황반 외부의 망막 영역에 광을 지향시키도록 구성된다. 일부 실시예에서, 자극 강도는 효과를 제공하도록 변조된다. 자극은 많은 방식으로 제공될 수 있지만, 일부 실시예에서, 콘택트 렌즈 또는 안경 렌즈와 같은 렌즈는, 함께 작동하여 디포커싱된 이미지를 중심와(fovea)에 대해 편심인 위치에서 망막 위로 디포커싱된 이미지를 전방 또는 후방으로 투사하는 광원 및 포커싱 광학계를 갖는 투사 유닛과 같은 복수의 광원으로 구성된다. 일부 실시예에서, 자극은 맥락막 성장을 촉진하는데, 이는 아동 및 청년에서 자극된 위치 근처의 공막(sclera)의 성장을 늦출 수 있다. 일부 실시예에서, 차별적 성장 속도는 안구 성장이 환자의 난시를 감소시키는 방식으로 눈을 성장시킨다.

본원에서 참조되고 식별된 모든 특허, 출원 및 간행물은 그 전체가 참조로 본원에 통합되며, 본 출원의 다른 곳에서 언급되더라도 참조로 완전히 통합된 것으로 간주된다.

본 발명의 특징, 이점 및 원리에 대한 더 나은 이해는 예시적으로 제시하는 다음의 상세한 설명 및 첨부 도면을 참조하여 얻어질 것이다.
도 1은 일부 실시예에 따른 소프트 콘택트 렌즈를 도시한다.
도 2는 일부 실시예에 따라 착용자의 망막 주변에 디포커스를 갖는 이미지를 투사하기 위한 임베디드 광원, 광학계 및 전자장치를 갖는 소프트 콘택트 렌즈를 도시한다.
도 3은 도 2에서와 같은 렌즈의 구성요소의 기능을 기계적으로 통합한 것을 도시한다.
도 4a는 일부 실시예에 따라, 2개의 미러로 광학 경로를 접음으로써 광학 경로 길이가 증가되는 광학 구성을 도시한다.
도 4b는 일부 실시예에 따라, 도 4a에 도시된 광학 구성의 광선 추적 시뮬레이션을 도시한다.
도 5a는 일부 실시예에 따라, 빛을 망막에 포커싱하는 렌즈를 포함하는 광학 구성을 도시한다.
도 5b는 일부 실시예에 따라, 도 5a에 도시된 광학 구성의 광선 추적 시뮬레이션을 도시한다.
도 6a는 일부 실시예에 따른 광 파이프를 도시한다.
도 6b는 일부 실시예에 따라, 도 6a에 도시된 광학 구성의 광선 추적 시뮬레이션을 도시한다.
도 7a는 일부 실시예에 따라, 디스플레이, 및 근안 디스플레이를 동작하기 위한 전자장치를 수용하는 하우징을 포함하는 안경 렌즈 기반 망막 자극 디바이스를 도시한다.
도 7b는 일부 실시예에 따라, 눈이 움직였고 다른 디스플레이 요소가 눈의 움직임에 응답하여 활성화된 도 10a에서와 같은 안경 렌즈 기반 망막 자극 디바이스를 도시한다.
도 8은 일부 실시예에 따라, 눈의 굴절 이상을 치료하는 방법을 도시한다.
도 9a는 일부 실시예에 따라, 착용자의 망막 주변에 디포커스를 갖는 이미지를 투사하기 위한 임베디드 광원, 광학계 및 전자장치를 갖는 소프트 콘택트 렌즈를 도시한다.
도 9b는 일부 실시예에 따라, 착용자의 망막 주변에 디포커스를 갖는 이미지를 투사하기 위한 임베디드 광원, 광학계 및 전자장치를 갖는 소프트 콘택트 렌즈를 도시한다.
도 10은 일부 실시예에 따라, 픽셀 그룹이 난시를 치료하기 위해 축에 대해 대칭적으로 배향되는 안경 렌즈를 도시한다.

다음의 상세한 설명은 본원에 개시된 실시예에 따라 본 개시에 기재된 본 발명의 특징 및 이점에 대한 더 나은 이해를 제공한다. 상세한 설명은 많은 특정 실시예를 포함하지만, 이들은 단지 예로서 제공되며 본원에 개시된 발명의 범위를 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다.

본원에 개시된 방법 및 장치는 본원에 기재된 바와 같이 망막 자극을 제공하기 위해 다양한 방식으로 구성될 수 있다. 본원에 개시된 방법 및 장치는 안과용 디바이스, TV 스크린, 컴퓨터 스크린, 핸드헬드 모바일 컴퓨팅 디바이스, 태블릿 컴퓨팅 디바이스, 스마트폰, 웨어러블 디바이스, 안경 렌즈 프레임, 안경 렌즈, 근안 디스플레이, 헤드 마운트 디스플레이, 고글, 콘택트 렌즈, 이식형 디바이스, 각막 온레이(corneal onlay), 각막 인레이, 각막 보철물 또는 안내 렌즈(intraocular lens) 중 하나 이상과 같이, 많은 종래의 디바이스와 조합하기에 매우 적합하다. 안경 및 콘택트 렌즈에 대한 특정 참조가 이루어지지만, 본원에 개시된 방법 및 장치는 전술한 디바이스 중 임의의 것과 함께 사용하기에 매우 적합하며, 당업자는 본원에 개시된 구성요소 중 하나 이상이, 본원에 개시된 교시에 기초하여, 디바이스 사이에서 어떻게 상호 교환될 수 있는지를 쉽게 이해할 것이다.

본 개시와 관련된 작업은 자극에 응답하여 맥락막 두께의 변화가 자극된 영역 근처의 영역에 국소화될 수 있고, 이는 일부 실시예에 따라 다소 국소화된 반응을 제공할 수 있음을 시사한다. 일부 실시예에서, 맥락막 또는 공막 중 하나 이상에 대한 변화는 차별적 변화(differential change)를 포함하며, 이 변화에서 맥락막 또는 공막 중 하나 이상에 대한 변화는 자극으로부터 떨어진 상응하는 영역(예를 들어 자극 영역으로부터 90도 축에서의 해당 위치)에서보다 자극 영역 근처에서 더 크다.

도 1 및 도 2는 맥락막 두께의 변화를 자극하기 위해 황반을 포함하는 중심 필드로부터 떨어진 망막 상에 디포커싱된 이미지를 투사하도록 구성된 콘택트 렌즈(10)와 같은 렌즈를 도시한다. 콘택트 렌즈를 참조하지만, 렌즈(10)는 프로젝터, 안과용 장비, TV 스크린, 컴퓨터 스크린, 스마트폰과 같은 핸드헬드 디바이스, 안경 렌즈, 근안 디스플레이, 헤드 마운트 디스플레이, 고글, 콘택트 렌즈, 각막 온레이, 각막 인레이, 각막 보철물 또는 안내 렌즈와 같은 웨어러블 디바이스 중 하나 이상의 렌즈를 포함할 수 있다.

일부 실시예에서, 콘택트 렌즈(10)는 제1 난시축(astigmatic axis)(80) 및 제2 난시축(81)을 포함한다. 투사 유닛(12)과 같은 복수의 광원은 주변 망막의 상이한 영역에 상이한 양의 자극을 제공하도록 상기 난시축에 대해 배치된다. 일부 실시예에서, 투사 유닛(12)과 같은 광원은 난시축을 따라 위치하지만, 광원은 다른 곳에 위치할 수 있다. 광원은 눈의 굴절 이상에 따라 주변 망막에 상이한 양의 자극을 제공하도록 구성될 수 있다. 일부 실시예에서, 광원은 본원에 기재된 안축장의 상이한 변화에 상응하는 맥락막 및 공막 조직의 상이한 변화를 촉진하기 위해 상이한 축을 따라 상이한 양의 조명을 제공하도록 구성된다. 콘택트 렌즈는 회전적으로 안정화된 콘택트 렌즈를 포함할 수 있고, 광원은 예를 들어 렌즈가 눈에서 안정화될 때 눈의 난시축에 대응하도록 콘택트 렌즈 상에 위치될 수 있다. 콘택트 렌즈는 제1 축(80) 및 제2 축(81)에 따라 난시 굴절 이상을 교정하도록 구성된 광학 구역을 포함할 수 있다.

이 콘택트 렌즈(10)는 임베디드 전자장치 및 광학계를 포함하는 베이스 또는 캐리어 콘택트 렌즈를 포함한다. 베이스 소프트 콘택트 렌즈(10)는 지속 착용에 편안하도록 설계된 하이드로겔 또는 실리콘 하이드로겔 폴리머와 같은 생체적합성 재료로 제조된다. 콘택트 렌즈는 최대 전체 거리 폭, 예컨대 직경(13)을 포함한다. 생체적합성 재료는 소프트 콘택트 렌즈(10)의 구성요소를 봉입(encapsulate)할 수 있다. 일부 실시예에서, 콘택트 렌즈(10)는 많은 조명 조건 하에서 착용자의 동공을 덮도록 설계된 중심 광학 구역(14)을 구비한다. 일부 실시예에서, 광학 구역은 반경(15)으로 정의된 원형 구역을 포함한다. 일부 실시예에서, 복수의 투사 유닛(12)이 광학 구역의 중심으로부터 거리(17)에 위치된다. 복수의 투사 유닛(12) 각각은 거리 폭(19)을 포함한다. 일부 실시예에서, 투사 유닛 사이의 거리는 망막의 주변 영역을 자극하기 위해 투사 유닛을 광학 구역 외부에 배치하도록 크기가 정해지지만, 투사 유닛은 본원에 기재된 바와 같이 주변 망막을 자극하기 위해 광학 영역 내부에 배치될 수도 있다.

광학 구역(14)은 눈의 동공 및 치료 동안의 조명 조건에 대해 적절히 크기가 정해질 수 있다. 일부 실시예에서, 광학 구역은 예를 들어 콘택트 렌즈가 낮 동안 사용하도록 구성되는 경우 6 ㎜의 직경을 포함한다. 광학 구역(14)은 6 ㎜ 내지 9 ㎜ 범위, 예를 들어 7.0 ㎜ 내지 8.0 ㎜ 범위 내의 직경을 가질 수 있다. 중심 광학 구역(14)은 착용자에게 정시 교정(e㎜etropic correction) 또는 다른 적절한 교정을 제공하도록 설계되고, 구면 교정 및 난시 교정 모두가 제공될 수 있다. 중심 광학 구역(14)은 2.5 ㎜ 내지 3.0 ㎜ 범위의 폭을 갖는 주변 구역(16)과 같은 외측 환형 구역에 의해 둘러싸여 있다. 종종 블렌드 구역으로 지칭되는 주변 구역(16)은 주로, 우수한 중심화(centration) 및 최소의 탈중심화(decentration)를 비롯하여, 각막에 우수한 적합성을 제공하도록 설계된다. 외측 환형 구역은 0.5 ㎜ 내지 1.0 ㎜ 범위의 폭을 갖는 최외측 가장자리 구역(18)에 의해 둘러싸여 있다. 광학 구역(14)은 굴절 교정을 제공하도록 구성되고, 예를 들어 시력이 20/20 이상인 구면, 토릭 또는 다초점 설계일 수 있다. 광학 구역(14) 주변의 외측 환형 구역은 각막 곡률에 맞도록 구성되고, 병진 및 회전 안정성을 위한 회전 안정화 구역을 포함할 수 있으며, 깜박임에 이어 눈에서 콘택트 렌즈(10)의 움직임을 허용한다. 가장자리 구역(18)은 0.05 ㎜ 내지 0.15 ㎜ 범위 내의 두께를 포함할 수 있고, 웨지 형상으로 끝날 수 있다. 소프트 콘택트 렌즈(10)의 전체 직경(13)은 12.5 ㎜ 내지 15.0 ㎜ 범위, 예를 들어 13.5 ㎜ 내지 14.8 ㎜ 범위 내일 수 있다.

콘택트 렌즈(10)는 복수의 임베디드 투사 유닛(12)을 포함한다. 복수의 투사 유닛(12) 각각은 본원에 기재된 바와 같이, 망막 앞에 광을 포커싱하는 하나 이상의 광학계 및 광원을 포함한다. 각각의 광학계는 미러, 복수의 미러, 렌즈, 복수의 렌즈, 회절 광학계, 프레넬 렌즈, 광 파이프 또는 도파관 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 콘택트 렌즈(10)는 배터리(20) 및 센서(22)를 포함할 수 있다. 콘택트 렌즈(10)는 플렉스 인쇄 회로 기판(PCB)(24)을 포함할 수 있고, 프로세서가 플렉스 PCB(24) 상에 장착될 수 있다. 프로세서는 PCB(24) 상에 장착될 수 있고 센서(22) 및 복수의 광원(30)에 커플링될 수 있다. 소프트 콘택트 렌즈(10)는 또한 전자 통신을 위한 그리고 콘택트 렌즈(10)의 배터리(20)를 유도 충전하기 위한 무선 통신 회로 및 하나 이상의 안테나(41)를 포함할 수 있다. 배터리(20)를 참조하지만, 콘택트 렌즈(10)는 임의의 적합한 에너지 저장 디바이스를 포함할 수 있다.

투사 유닛(12)은 본원에 기재된 바와 같이 망막의 주변부에 디포커싱된 이미지를 제공하도록 구성될 수 있고, 광원 및 투사 광학계를 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 하나 이상의 투사 광학계는 맥락막 두께의 증가 또는 감소와 같은 맥락막 두께의 변화를 자극하기 위해 황반을 포함하는 중심 시야로부터 떨어진 주변 망막 위에 광원으로부터 디포커싱된 이미지를 투사하도록 광원과 함께 구성된다. 하나 이상의 투사 유닛(12)은 중심 시야 및 망막의 중심와 또는 황반 영역 중 하나 이상에 형성된 대응 이미지를 열화시키지 않으면서 망막을 자극하도록 구성될 수 있다. 일부 실시예에서, 하나 이상의 투사 광학계는 착용자의 굴절 이상을 교정하도록 규정된 시력 교정 광학계의 이미지 형성 특성을 감소시키지 않는다. 이 구성은 착용자가 본원에 기재된 바와 같이 디포커싱된 이미지로부터 치료를 받으면서 양호한 시력을 갖도록 할 수 있다.

일부 실시예에서, 투사 유닛(12)의 광원으로부터의 광은 본원에 기재된 바와 같이, 하나 이상의 투사 광학계에 의해 칼럼화되고(columnated) 포커싱된다. 광원 및 투사 광학계의 기능은 광원에 의해 방출된 빛을 실질적으로 시준하고, 이를 맥락막 두께의 변화를 자극하기 위해 적절한 디포커스를 제공하도록 망막의 앞 또는 뒤에 있도록 설계된 초점에 포커싱하는 것이다. 근시 디포커스의 경우, 포커싱된 이미지는 주변 망막의 전방 약 1.5 ㎜ 내지 2.5 ㎜에, 약 2.0D 내지 5.0D, 예컨대 약 2.0D 내지 4.0D, 또는 바람직하게는 예를 들면 2.5D 내지 3.5D 만큼 근시로 나타날 수 있다. 원시 디포커스의 경우, 포커싱된 이미지는, 약 -2.0D 내지 -5.0D, 예를 들면 -2.0D 내지 -4.0D, 또는 바람직하게는 예를 들면 -2.5D 내지 -3.5D만큼 원시가 되도록, 주변 망막의 약 1.5 ㎜ 내지 2.5 ㎜ 뒤에 나타날 수 있다.

일부 실시예에 따르면, 소프트 콘택트 렌즈(10)는 광원으로서 마이크로-디스플레이 및 투사 광학계를 포함하는 투사 유닛을 포함한다. 마이크로-디스플레이는 OLED(유기 발광 다이오드) 또는 마이크로 LED 어레이를 포함할 수 있다. 이러한 디스플레이에서 방출되는 빛은 Lambertian일 수 있다. 일부 실시예에서, 마이크로-디스플레이는 마이크로-디스플레이로부터 방출되는 광을 실질적으로 시준하고 포커싱하는 마이크로-광학 어레이에 광학적으로 커플링된다. 마이크로-디스플레이는 하나 이상의 소형화된 픽셀을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 마이크로-디스플레이는 픽셀 크기 및 픽셀 피치를 특징으로 하는 확장된 픽셀 어레이를 형성하며, 여기서 픽셀 크기 및 픽셀 피치는 함께 마이크로-디스플레이의 필 팩터(fill factor)에 대응한다. 본원에 기재된 바와 같이, 각각의 픽셀은 약 2 ㎛ 내지 약 100 ㎛ 범위 내의 크기를 가질 수 있고, 픽셀 피치는 예를 들어 10 ㎛ 내지 1.0 ㎜ 범위일 수 있다. 해당 필 팩터의 범위는 0.1% 내지 10% 범위일 수 있다. 일부 실시예에서, 픽셀 어레이는 픽셀로부터의 광을 실질적으로 시준하고 포커싱하기 위해 마이크로-광학 어레이와 광학적으로 커플링된다.

이러한 디스플레이에 의해 생성된 이미지는 디포커스되고, 시야 또는 눈의 4개 사분면(예컨대, 하측 비강(nasal-inferior), 상측 비강(nasal-superior), 하측 관자(temporal-inferior) 및 상측 관자(temporal-superior))에 대칭적으로 배치될 수 있다. 마이크로 디스플레이는 1.5 ㎜ 내지 4.0 ㎜, 바람직하게는 2.5 ㎜ 내지 3.5 ㎜ 범위 내의 거리만큼 렌즈의 광학 중심으로부터 떨어져 위치될 수 있다. 콘택트 렌즈의 광학 중심은 착용자를 정시로 가져오도록 선택될 수 있으며, 3.0 내지 5.0 ㎜ 범위 내의 직경을 가질 수 있다. 각각의 마이크로-디스플레이는 원형, 직사각형 또는 아치형일 수 있고 0.01 ㎜² 내지 8.0 ㎟ 범위 내, 예를 들어 0.04 ㎟ 내지 8.0 ㎟ 범위 내, 예를 들어 1 ㎟ 내지 8 ㎟ 범위 내, 또는 바람직하게는 일부 실시예에서 1.0 ㎟ 내지 4.0 ㎟의 범위 내의 면적을 가질 수 있다.

마이크로-디스플레이는 예를 들어 콘택트 렌즈 또는 안경 렌즈, 증강 현실("AR") 헤드셋 또는 가상 현실("VR") 헤드셋과 같은 교정 광학계의 본체에 커플링되어 지지될 수 있다. 일부 실시예에서, 마이크로-디스플레이는 안내 렌즈, 각막 보철물, 각막 온레이 또는 각막 인레이 중 하나 이상에 커플링되어 지지된다. 콘택트 렌즈를 참조하여 본원에 기재한 광학 구성은 예를 들어 안내 렌즈, 각막 보철물, 각막 온레이 또는 각막 인레이 중 하나 이상과 유사하게 사용될 수 있다.

일부 실시예에서, 마이크로-디스플레이 및 마이크로-광학 어레이는, 본원에 기재한 바와 같이 망막 상의 원하는 위치에 디포커싱된 이미지를 형성하는 배향에서 눈의 동공에 광선 다발을 투사하기 위해, 동일한 교정 광학계 상에서 고정된 거리만큼 분리되어 서로 바로 인접하여 장착된다. 일부 실시예에서, 상기 하나 이상의 투사 광학계는 상기 하나 이상의 교정 광학계 상에 또는 그 안에 장착되어, 투사 광학계로부터의 광선이 교정 광학계를 통해 굴절된다. 교정 광학계는 투사 광학계로부터 광선을 굴절시켜 명확한 시야에 도움이 되도록 수렴 또는 발산하게 하고, 이로써 마이크로 광학 어레이는, 원하는 디포커스의 크기 및 부호에 따라, 플러스 또는 마이너스일 수 있는 원하는 크기의 추가 굴절력을 제공할 수 있다. 마이크로-디스플레이는 예를 들어 단색 또는 다색일 수 있다.

일부 실시예에서, 투사된 디포커싱된 이미지는 LCD 스크린, OLEDS(유기 발광 다이오드), TOLEDS, AMOLEDS, PMOLEDS, 또는 QLEDS에 의해 구동되는 스크린 중 하나 이상을 포함하는 스크린을 포함하는 마이크로-디스플레이에 의해 제공될 수 있다. 스크린은 예를 들어 적어도 6 m 이상의 먼 거리에 있는 피사체에게 나타날 수 있다.

도 3은 도 2에서와 같은 콘택트 렌즈(10)와 같은 망막 자극 디바이스의 구성요소의 기능을 기계적으로 통합한 것을 도시한다. 콘택트 렌즈와의 기계적 통합을 참조하지만, 본원에 기재된 바와 같이, 임의의 시각 디바이스와 유사한 통합을 수행할 수 있다. 이러한 구성요소는 PCB(24)로 지지될 수 있다. 예를 들어, 배터리(20)와 같은 전원은 PCB(24)에 실장되고 전원 기능(21)을 제공하기 위해 다른 구성요소에 커플링될 수 있다. 센서(22)는 활성화 기능(23)을 제공하도록 구성될 수 있다. 센서(22)는 콘택트 렌즈(10)의 제어 기능(25)을 제공하기 위해 PCB(24)에 실장된 프로세서에 커플링될 수 있다. 제어 기능(25)은 광 강도 설정(27) 및 광 스위치(29)를 포함할 수 있다. 프로세서는 강도 증가, 강도 감소에 대응하는 센서(22)로부터의 신호, 또는 센서(22)로부터의 온/오프 신호를 예를 들어 센서(22)로부터의 코딩된 신호 시퀀스로 검출하도록 구성될 수 있다. 프로세서는 투사 기능(31)을 제공하기 위해 광원(30) 및 광학계(32)를 포함할 수 있는 광 투사 유닛(12)에 커플링된다. 예를 들어, 프로세서는 센서(22)에 대한 사용자 입력에 응답하여 각각의 광원(30)을 제어하기 위해 복수의 광원(30)에 커플링될 수 있다.

망막 자극 디바이스는 착용자의 위치를 결정하기 위한 GPS(Global Positioning System) 회로, 및 머리 움직임과 같은 신체 움직임을 측정하는 가속도계를 포함할 수 있다. 망막 자극 디바이스는 GPS 또는 가속도계 중 하나 이상에 커플링되어 측정된 데이터를 수신하고 저장하는 프로세서를 포함할 수 있다. 망막 자극 디바이스는, 그 디바이스로부터 클라우드 기반 데이터 저장 시스템과 같은 원격 서버에 데이터를 전송하기 위해, 무선 통신 회로(예컨대 Bluetooth 또는 WiFi) 또는 유선 통신 회로(예컨대, USB)와 같은 통신 회로를 포함할 수 있다. 데이터를 원격 서버에 전송하면 착용자의 치료 및 순응을 원격으로 모니터링할 수 있다. 일부 실시예에서, 프로세서는 그래픽 처리 장치(GPU)를 포함한다. GPU는 본원에 기재한 것과 같이 자극을 형성함에 있어서 웹으로부터의 콘텐츠를 활용하기 위해 웹의 콘텐츠를 효율적이고 신속하게 처리하는 데 사용될 수 있다.

본원에 기재된 바와 같은 망막 자극을 위한 방법 및 장치는 많은 방식으로 구성될 수 있고, 사용자가 치료를 받도록 권장하는 하나 이상의 속성을 포함할 수 있다. 예를 들어, 본원에 기재된 바와 같은 망막 자극은 사용자가 치료 디바이스를 착용하도록 권장하는 게임의 디스플레이와 조합될 수 있다. 일부 실시예에서, 망막 자극은 예를 들어 이모지(예컨대, 웃는 얼굴)와 같은 또 다른 자극과 조합되어 사용자가 치료용 디바이스를 착용하도록 권장할 수 있다. 시스템의 구성요소는 게임 또는 자극으로 망막 자극을 용이하게 하기 위해 게임 또는 기타 자극과 통신하거나 그로부터 정보를 수신할 수 있다.

도 4a를 참조하면, 일부 실시예에서, 광학 구성(32)은, 도 4b에 도시한 바와 같이, 편심 망막 이미지를 형성하기 위해, 마이크로-디스플레이(12)에 의해 방출된 광을 수집한 다음 광 빔을 눈(11)의 동공으로 향하게 하도록 구성된 복수의 미러를 포함한다. 미러는 광 빔을 실질적으로 시준할 수 있고, 또는 광 빔을 망막(33)에 포커싱하기 위해 적절한 양안전도(vergence)로 망막(33)을 향하여 광 빔을 지향시킬 수 있다.

도 4a 및 도 4b에 도시된 광학 구성이 콘택트 렌즈와 같은 렌즈를 지칭하지만, 유사한 광학 구성이 프로젝터, 안과용 장비, TV 스크린, 컴퓨터 스크린, 스마트폰과 같은 핸드헬드 디바이스, 안경 렌즈, 근안 디스플레이, 헤드 마운트 디스플레이, AR 디스플레이, VR 디스플레이, 고글, 콘택트 렌즈, 각막 온레이, 각막 인레이, 각막 보철물, 또는 안내 렌즈와 같은 웨어러블 디바이스 중 하나 이상의 렌즈와 함께 이용될 수 있다. 또한, 근시 디포커스를 참조하지만, 디포커스는 원시 디포커스, 망막에 포커싱된 이미지, 또는 예를 들어 본원에 설명된 것과 같이 굴절 이상 교정을 위한 다른 디포커스를 포함할 수 있다.

도 4a에 도시된 미러 어셈블리는, 1D 미만인 초점 심도(depth of focus)를 달성하도록 구성될 수 있어, 적용된 디포커스 2.0-4.0D가 특정된 편심도(예컨대, 20도 내지 30도 범위 내)에서 주변 망막(33)에 의해 명확하게 인식될 수 있게 한다.

도 5a 및 도 5b에 도시한 바와 같이, 또 다른 실시예는 광원(30)과 광학적으로 커플링된 수렴 또는 시준 렌즈를 포함하는 광학계(32)를 포함한다. 이 구성에서, 단일 렌즈를 포함할 수 있는 렌즈(34)는, 자극원으로부터의 광 출력을 실질적으로 시준하고 그것을 콘택트 렌즈(10)와 같은 렌즈를 통해 각막(37)으로 향하게 하는데 사용된다. 콘택트 렌즈를 참조하지만, 렌즈는 프로젝터, 안과용 장비, TV 스크린, 컴퓨터 스크린, 스마트폰과 같은 핸드헬드 디바이스, 안경 렌즈, 근안 디스플레이, 헤드 마운트 디스플레이, VR 디스플레이, AR 디스플레이, 고글, 콘택트 렌즈, 각막 온레이, 각막 인레이, 각막 보철물 또는 안내 렌즈와 같은 웨어러블 디바이스 중 하나 이상의 렌즈를 포함할 수 있다.

시준 렌즈(34)의 유효성은 그 굴절률에 의존하고, 렌즈 물질과 기판으로 기능하는 콘택트 렌즈(10)의 물질 사이에 상당한 굴절률 차이를 생성하기 위해 충분히 높아야 한다. 이 예에서, 임베디드 렌즈(34)의 굴절률은 2.02(예를 들어, 란타늄 플루오로실리케이트 유리(LaSF5)의 굴절률)인 것으로 가정하였지만, 다른 재료가 사용될 수 있다.

다른 실시예는 도 6a 및 도 6b에 도시된 바와 같이 광 파이프(36)를 포함한다. 광 파이프(36)는 일부 실시예에 따라, 망막에 투사된 이미지에 더 높은 공간 주파수를 제공하기 위해, 증가된 광경로 길이를 제공하여 이미지 배율 및 망막 이미지 크기를 감소시킬 수 있다.

콘택트 렌즈에서 발생하는 것처럼 각막(37) 상의 광 파이프(36)를 참조하지만, 광 파이프(36)와 조합된 렌즈는 프로젝터, 안과용 장비, TV 스크린, 컴퓨터 스크린, 스마트폰과 같은 핸드헬드 디바이스, 안경 렌즈, 근안 디스플레이, 헤드 마운트 디스플레이, VR 디스플레이, AR 디스플레이, 고글, 콘택트 렌즈, 각막 온레이, 각막 인레이, 각막 보철물 또는 안내 렌즈와 같은 웨어러블 디바이스 중 하나 이상의 렌즈를 포함할 수 있다.

포인트 소스와 함께 마이크로 렌즈 어레이를 사용하는 것, 더 얇은 렌즈를 사용하기 위해 회절 광학계를 사용하는 것, 단일 포인트 소스 및 광학 처리 유닛을 이용하여 다중 망막 이미지를 생성하는 것을 비롯하여, 수많은 다른 광학 구성이 이용될 수 있다. 모든 경우에, 위에서 나열한 3가지 특성은 특정 디자인의 적합성을 평가하기 위한 메트릭으로 사용될 수 있다.

도 7a 및 도 7b는 구면 및 난시 굴절 이상과 같은 눈의 굴절 이상을 치료하기 위한 안경(70)을 도시한다. 안경을 참조하지만, 광원은 난시를 치료하기 위해 본원에 기재된 임의의 시각 디바이스에 제공될 수 있다. 일부 실시예에서, 안경은 제1 난시축(80) 및 제2 난시축(81)을 포함한다. 눈의 난시축에 따라 난시를 치료하기 위해 복수의 광원이 배치된다. 복수의 광원은 예를 들어 마이크로 디스플레이 또는 투사 유닛과 같은 본원에 기재된 바와 같은 임의의 적합한 광원을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 광원은 본원에 기재된 안축장의 상이한 변화에 상응하는 맥락막 및 공막 조직의 상이한 변화를 촉진하기 위해 상이한 축을 따라 상이한 양의 조명을 제공하도록 구성된다. 렌즈는 제1 축(80) 및 제2 축(81)에 따라 난시 굴절 이상을 교정하도록 구성된 광학적 성질, 예컨대 굴절 성질을 갖는 광학 구역을 포함할 수 있다. 이러한 난시의 굴절 치료는 본원에 기재된 바와 같은 망막 자극과 조합될 수 있다.

안경(70)은 시판되는 증강 현실 안경의 하나 이상의 구성요소를 포함할 수 있다. 안경(70)은 망막 자극을 위한 하나 이상의 디스플레이(72)를 포함할 수 있다. 근안 디스플레이(72)는 렌즈(74)에 장착될 수 있다. 렌즈(74)는 안경테(76)에 의해 지지되는 안경 렌즈일 수 있다. 렌즈(74)는 교정 또는 무교정 렌즈일 수 있다. 렌즈(74)는 플라노(plano) 렌즈, 구면 교정 렌즈, 난시 교정 렌즈 또는 프리즘 교정 렌즈일 수 있다. 일부 실시예에서, 근안 디스플레이는 명확한 중심 시야를 제공하기 위해 광학 구역으로부터 떨어져 위치된다. 광축은 환자의 시선의 대상으로부터 렌즈(74)를 통해 눈의 중심와까지 시선을 따라 연장될 수 있다. 일부 실시예에서, 안경(70)은 본 발명에 따른 통합에 적합한 아이 트래커를 포함한다. 근안 디스플레이(72)는 본원에 기재된 바와 같이, 망막에 주변 자극을 제공하기 위해 픽셀(94)을 선택적으로 활성화하도록 프로그램될 수 있다. 일부 실시예에서, 망막에서 원하는 수준의 디포커스 및 자극을 생성하기 위해, 마이크로 렌즈를 담지하는 플라스틱 기판의 층이 마이크로-디스플레이에 부착된다. 선택적으로 활성화 가능한 픽셀은 함께 선택적으로 활성화될 수 있는 픽셀 그룹, 예컨대 제1 그룹의 픽셀(94a), 제2 그룹의 픽셀(94B), 제3 그룹의 픽셀(94C) 및 제4 그룹의 픽셀(94D)을 포함할 수 있다. 픽셀 그룹은 본원에 기재된 바와 같이 주변 망막 자극을 제공하기 위해, 환자의 시선에 대해 적절한 편심을 제공하도록 배치될 수 있다.

일부 실시예에서, 근안 디스플레이(72)는 마이크로-디스플레이와 마이크로- 광학계의 조합을 포함한다. 일부 실시예에서, 마이크로 광학계는 마이크로-디스플레이로부터 방출되는 광선을 수집하고, 실질적으로 시준하고, 포커싱하도록 구성된다. 일부 실시예에서, 마이크로-광학계는 본원에 기재된 바와 같이 망막 전방 또는 후방에 이미지를 형성하도록 구성된다. 일부 실시예에서, 눈의 입사 동공으로부터의 근안 디스플레이의 거리는 약 10 ㎜ 내지 약 30 ㎜ 범위 내, 예를 들어 약 15 ㎜이다. 마이크로-디스플레이는 안경(70)의 렌즈(74)의 전면 또는 후면과 같은 투명 기판 상에 배치될 수 있다. 마이크로-디스플레이가 렌즈(74)의 전면에 배치되면, 마이크로-디스플레이의 초점은 렌즈(74)의 후면의 원주 교정에 의해 영향을 받을 수 있다.

일부 실시예에서, 마이크로-디스플레이 내의 픽셀의 초점은, 렌즈(74) 상의 픽셀의 위치 및 그 영역에서 렌즈에 의해 제공되는 굴절 교정에 기초하여 변할 수 있다. 일부 실시예에서, 픽셀의 초점은 고정될 수 있다. 일부 실시예에서, 픽셀의 초점은 각막의 감지된 위치에 기초하여 변하여, 눈의 수정체 및 각막의 굴절을 고려할 수 있다. 일부 실시예에서, 픽셀은 디포커스되어, 망삭 상에 직경이 약 1 ㎜의 디포커싱된 스폿을 생성한다.

근안 디스플레이의 마이크로-디스플레이 내의 픽셀(94)에 의해 방출된 광은 눈의 동공으로 향하기 전에 실질적으로 시준되거나 포커싱된 것 중 하나 이상일 수 있다. 일부 실시예에서, 마이크로 렌즈 어레이는 근안 디스플레이의 픽셀에 정렬되어, 근안 디스플레이로부터의 광선이 동공에 들어가 망막 전방 또는 후방에 이미지를 형성할 수 있다. 일부 실시예에서, 근안 디스플레이의 폭은 환자의 시야에 대응한다. 일부 실시예에서, 근안 디스플레이의 범위는 안경(70)의 렌즈(74)의 범위와 실질적으로 유사할 수 있다.

일부 실시예에서, 디바이스는 착용자의 삶의 질과 시력의 질이 악영향을 받지 않도록, 손상되지 않은 중심 시야를 제공한다. 일부 실시예에서, 중심 시야는 +/-12.5도의 시야를 포함하여 황반을 덮는 한편, 고정 시야를 위해 사용되는 중심와 시야는 +/-2.0도의 시야를 갖는다. 일부 실시예에서, 디포커싱된 이미지는 예를 들어 중심와에 대해 15도 내지 40도의 편심도 범위 내에서 망막의 외측 부분에서 망막의 주변을 향해 투사되고, 20도 내지 30도의 범위 내에 있을 수 있다. 일부 실시예에서, 마이크로-디스플레이(72)는 중심 시야 시계를 방해하지 않는다. 일부 실시예에서, 픽셀(94)은 중심 시야 시계를 방해하지 않는다.

일부 실시예에서, 마이크로-디스플레이 및 광학계는 중심와로부터 충분히 멀리 떨어진 망막의 외측 영역에 빛을 투사하도록 구성되어, 조명은 눈의 움직임에도 실질적으로 고정된 상태로 유지된다. 일부 실시예에서, 주시점(point of regard)이 모니터링되고, 마이크로-디스플레이 상에서 활성화될 픽셀의 원하는 위치가, 예컨대 프로세서를 이용한 계산에 의해 결정되어, 이미지가 망막 상의 원하는 위치에 투사되어 동일한 망막 위치에서 지속적인 자극을 가능케 한다. 일부 실시예에서, 안경 평면 또는 마이크로-디스플레이의 평면 상의 주시점은 1차 위치에 대한 눈의 수평, 수직 및 비틀림 변위를 모니터링함으로써 계산된다.

주시점은 많은 방법으로, 예를 들어 자기 센서 또는 광학 센서와 같은 눈 위치 센서를 이용하여 결정될 수 있다. 일부 실시예에서, 안경테에 임베드된 검색 코일이 눈의 움직임을 추적하는 데 사용된다. 안경테에 임베드된 코일은 콘택트 렌즈 상의 코일, 눈에 이식된 코일, 콘택트 렌즈 상의 자기 재료 또는 눈에 이식된 자기 재료 중 하나 이상과 같이 눈에 배치된 자기 구조에 커플링될 수 있다. 일부 실시예에서, 센서는 눈의 위치를 광학적으로 측정하기 위한 위치 감지 검출기 또는 어레이 센서와 같은 광학 센서를 포함한다. 광학 센서는 많은 방식으로 눈의 위치를 측정하도록 구성될 수 있으며, 예를 들어 광원으로부터의 각막 반사, 동공, 각막윤부(limbus) 또는 공막 중 하나 이상의 위치를 측정하도록 구성될 수 있다. 안경테는 예를 들어 각막 반사를 생성하기 위해 눈을 비추는 추가 광원을 지지할 수 있다. 센서로부터의 데이터는 동축 시계 각막광("CSCLR")의 위치를 제공할 수 있고, 따라서 시축(visual axis)의 방향과 중심와의 위치를 제공할 수 있다. 일부 실시예에서, 프로세서는 안구 위치 센서를 사용하여, 눈의 움직임에 응답하여 망막의 자극된 위치의 움직임을 줄이기 위해 마이크로-디스플레이 내의 픽셀과 같은 광학계를 조정하도록 구성될 수 있다. 일부 실시예에서, 주변 이미지의 표적 위치는 눈 위치 센서로부터의 정보에 기초하여 중심와의 위치로부터 계산되고, 실시간 광선 추적 계산은 마이크로-디스플레이에서 활성화될 픽셀의 위치를 제공한다. 눈의 움직임에 응답하여 제2 복수의 픽셀로 선택적으로 전환하는 시간은 100 ㎳ 미만, 예를 들어 20 ㎳ 미만일 수 있다.

일부 실시예에서, 망막 주변을 향하여 외측 이미지를 형성하기 위해 활성화될 마이크로-디스플레이 내의 픽셀의 위치는 안경 광학계의 광학 중심으로부터 참조되는데, 그 이유는 그것이 1차 시선에서의 주시점이기 때문이다. 일부 실시예에서, 주시점의 위치는 1차 시선에서의 눈의 위치에 대한 눈의 움직임을 고려함으로써 그리고 새로운 주시점을 참조하여 활성화될 픽셀의 위치를 계산함으로써 계산된다. 예를 들어, 도 7a는 환자가 수평 및 전방을 바라볼 때, 소위 1차 시선일 때 활성 픽셀(94)을 도시하는 반면, 도 7b는 환자가 왼쪽을 올려다보고 있을 때 활성 픽셀(94)을 보여준다. 이러한 경우 픽셀 어레이의 모양은 동일할 수 있지만, 위쪽 및 왼쪽으로 이동될 수 있고, 또는 어레이의 모양이 변할 수 있다. 일부 실시예에서, 복수의 광원, 예를 들어 능동 픽셀(94)은 예를 들어 제1 난시축(80) 및 제2 난시축(81)이 평행 이동될 때 눈에 대한 제1 난시축(80) 및 제2 난시축(81)의 정렬을 유지하도록, 변경하도록 구성된다. 이러한 평행 이동 및 정렬은 눈의 움직임 및 제1 난시축(80) 및 제2 난시축(81)에 따라 픽셀을 선택적으로 활성화하도록 구성된 프로세서 명령을 이용하여 제공될 수 있다.

일부 실시예에서, 디바이스는 양안용이고, 마이크로-디스플레이 및 착용자의 각 눈을 위한 광학계를 포함한다. 마이크로-디스플레이는, 동공에 들어가기 전에 마이크로-디스플레이의 픽셀에 의해 생성되어 수속하게 되는 조명을 실질적으로 시준하도록 설계된 하나 이상의 마이크로-광학 구성요소와 광학적으로 커플링될 수 있다.

일부 실시예에서, 디스플레이(72)는 근안 디스플레이가 +/- 40도 이상의 시야를 제공할 수 있도록 안경 렌즈의 외측에 장착되고 그 안경 렌즈 광학계와 정렬됨으로써, 마이크로-디스플레이는, 통상적으로, 독서할 때 또는 근방 물체를 볼 때 아래쪽을 향해 보는 것을 포함하여, 측방으로 +/-15도, 수직으로 +10 내지 -20도의 눈의 움직임의 정상 범위에 대해 주변 망막 자극을 계속 제공할 수 있다. 일부 실시예에서, 마이크로-디스플레이로부터의 광은 안경 렌즈 광학계를 통해 투과되어, 착용자의 굴절 교정이 제공된다.

일부 실시예에서, 광학 시스템은 망막 전방에 이미지를 형성하도록 구성되고, 단일 마이크로 렌즈(렌즈렛(lenslet)), 복수의 마이크로 렌즈(렌즈렛 어레이), Gabor 렌즈와 같은 복합 렌즈, 마이크로-프리즘, 마이크로-미러, 또는 이들의 조합 중 하나 이상을 포함한다. 일부 실시예에서, 광 배플 및 마이크로-미러는, 미광(stray light) 및 디스플레이의 전면측으로부터 빠져나가는 광을 감소시키기 위해, 마이크로-광학계에 의해 포집되지 않은 광의 양이 실질적으로 감소되도록, 즉 최소화되는 것을 확실히 하도록 배치된다.

일부 실시예에서, 10%(0.1) 미만의 픽셀 필 팩터는 중심와 및 황반 이미지의 선명한 뷰를 제공하도록 충분히 희박하다. 일부 실시예에서, 필 팩터는 0.01 내지 0.3 범위에 있고, 0.05 내지 0.20 범위에 있을 수 있다. 예를 들어, 픽셀 크기가 5 ㎛이고 픽셀 피치가 20 ㎛인 픽셀 어레이는 필 팩터가 0.06이 된다. 낮은 필 팩터는 또한 제조 공정의 복잡성을 줄이고 이러한 마이크로-광학 디스플레이의 비용을 줄일 수 있다.

일부 실시예에서, 마이크로-광학 어레이는 디스플레이와 광학적으로 정렬되도록 설계되어, 단일 또는 복수의 픽셀(94)로부터의 광이 수집되고, 시준되고, 포커싱되어 1차 시선에서 착용자의 동공으로 지향될 수 있다. 이러한 마이크로-광학 요소의 밀도는 근안 디스플레이의 전체 가시성을 제어할 수 있다. 일부 실시예에서, 마이크로-광학계는, 근안 디스플레이를 통한 전체 광 투과가 착용자에게 용인 가능하고 환자가 물체를 시인하는 것을 가능케 하도록, 낮은 필 팩터(바람직하게는 0.1 이하)를 갖는다.

일부 실시예에서, 디바이스는 예를 들어, 한 굴절률에서 다른 굴절률로 또는 한 편광에서 다른 편광으로 전환될 수 있는 액정 또는 LC 기반 재료를 이용하는 전기-광학 구성요소에 의해 플라노(무굴절력) 상태와 활성화된 상태 사이에서 전환될 수 있는 스위칭 가능한 마이크로-광학 어레이를 포함한다. 일부 실시예에서, 마이크로-광학 어레이는 활성화되지 않은 경우 빛을 산란시키지 않고 또는 현실 세계의 이미지를 왜곡하지 않는다.

일부 실시예에서, 망막 주변을 향하여 외측 이미지를 형성하기 위해 활성화될 마이크로-디스플레이 내의 픽셀의 위치는 안경 광학계의 광학 중심으로부터 참조되는데, 그 이유는 그것이 1차 시선에서의 주시점이기 때문이다. 일부 실시예에서, 주시점의 위치는 1차 시선에서의 눈의 위치에 대한 눈의 움직임을 고려함으로써 그리고 새로운 주시점을 참조하여 활성화될 픽셀의 위치를 계산함으로써 계산된다.

일부 실시예에서, 마이크로-광학계에 의해 결상되는 광원을 형성하기 위해 복수의 픽셀이 활성화된다. 마이크로-광학계의 광학 설계 및 마이크로-디스플레이로부터의 그 분리는, 이미지 전달 시스템의 초점 거리, 망막 상에 투사되는 이미지의 이미지 확대율, 및 광학 전달 시스템의 에어리(Airy) 디스크 직경으로서 측정되는 것과 같은 회절에 의해 야기되는 블러를 제공하도록 구성될 수 있다.

본 개시와 관련된 연구는, 망막이 디포커스의 부호에 민감한 종방향 색수차(LCA), 보다 고차의 구면수차, 난시 등을 비롯하여, 디포커싱된 이미지에 존재하는 보다 고차의 수차(구면 디포커스 외에도)로 인한 이미지 블러의 변화를 지각한다는 것을 시사한다. 본원에 제공된 교시에 기초하여, 당업자는 디바이스의 초점 심도가 디포커스의 크기보다 크거나 거의 같을 때 망막이 원시 블러로부터 근시 블러를 인식할 수 있는지 여부를 결정하기 위한 실험을 수행할 수 있다. 본원에 기재된 디바이스는 예를 들어 적절한 위치에서 적절한 양의 디포커스를 제공하도록 적절하게 구성될 수 있다.

디바이스는 적절한 이미지 확대율, 적용된 근시성 디포커스의 크기와 관련하여 이미지 해상도 및 초점 심도를 제한하는 회절, 및 디포커스의 크기의 함수로서 이미지 블러 또는 이미지 선명도 구배의 변화율을 제공하도록 구성될 수 있다.

일부 실시예에서, 근안 디스플레이는 편안한 시력을 위해 중심와 및 황반 이미지의 명확하고 실질적으로 왜곡되지 않은 시야를 제공하도록 구성된다. 일부 실시예에서, 중심 이미지의 시야는 적어도 +/- 12도이고, 상이한 착용자의 동공간 거리(IPD)의 차이를 고려하기 위해 더 클 수 있다. 실제 이미지의 이미지 품질 및 시야는 실질적으로 투명한 근안 투명 디스플레이를 이용하여 또 마이크로-디스플레이 내의 발광 픽셀의 필 팩터를 감소시킴으로써 제공될 수 있다. 일부 실시예에서, 10%(0.1) 미만의 필 팩터는 중심와 및 황반 이미지의 선명한 뷰를 제공하기에 충분히 희박하다. 일부 실시예에서, 필 팩터는 0.01 내지 0.3 범위에 있고, 0.05 내지 0.20 범위에 있을 수 있다. 예를 들어, 픽셀 크기가 5 ㎛이고 픽셀 피치가 20 ㎛인 픽셀 어레이는 필 팩터가 0.06이 된다. 낮은 필 팩터는 또한 제조 공정의 복잡성을 줄이고 이러한 마이크로-광학 디스플레이의 비용을 줄일 수 있다.

일부 실시예에서, 마이크로-광학 어레이는 디스플레이와 광학적으로 정렬되도록 설계되어, 단일 또는 복수의 픽셀로부터의 광이 수집되고, 시준되고, 포커싱되어 1차 시선에서 착용자의 동공으로 지향될 수 있다. 이러한 마이크로-광학 요소의 밀도는 근안 디스플레이의 전체 가시성을 제어할 수 있다. 일부 실시예에서, 마이크로-광학계는, 근안 디스플레이를 통한 전체 광 투과가 착용자에게 용인 가능하도록, 낮은 필 팩터(바람직하게는 0.1 이하)를 갖는다.

위에서 논의된 시스템 및 장치는 예를 들어 근시 또는 원시 치료와 독립적으로 또는 조합하여 난시 치료에 사용될 수 있다. 도 8은 환자의 눈(들)의 굴절 이상을 치료하기 위한 방법(800)을 도시한다. 단계(810)에서, 환자의 눈의 굴절 이상을 결정한다.

눈의 난시는 여러 가지 방법으로 결정할 수 있다. 눈의 난시를 결정하기 위한 적합한 기법은 포롭터를 이용한 현성 굴절(manifest refraction), 자동 굴절, 검영법(retinoscopy), 각막 토포그래피, 파면 측정, 샤임플러그 이미징(Scheimpflug imaging), 광간섭 단층계(optical coherence tomography), 하트만 샥 파면 수차계(Hartmann Shack wavefront aberrometry), 및 당업자에게 공지된 것과 같은 난시 측정을 위한 다른 기법 중 하나 이상을 포함한다.

단계(810)에서 난시 이상이 발견되면, 단계(820)에서 환자 눈의 난시 이상을 교정한다. 단계(810)에서 구면 이상(spherical error)이 발견되면, 단계(830)에서 환자의 눈의 구면 이상을 교정한다. 일부 실시예에서, 단계(820) 및 단계(830)에서의 이상 교정은 병행하여 또는 순차로 일어날 수 있다. 예를 들어, 일부 실시예에서, 단계(820)에서의 난시 이상의 교정은 단계(830)에서의 구면 이상의 교정 이전에 일어날 수 있다. 일부 실시예에서, 치료는 역전될 수 있는데, 단계(830)에서의 구면 이상의 교정은 단계(820)에서의 난시 이상의 교정 전에 일어날 수 있다. 여전히, 다른 실시예에서, 단계(830)에서의 구면 이상의 치료 및 단계(820)에서의 난시 이상의 치료는 동시에, 예를 들어 동시에, 또는 병행하여 발생할 수 있다.

보다 상세하게는, 단계(810)에서 굴절 평가가 수행될 수 있다. 굴절 평가는 자동 굴절기에 의해 수행되는 자동화된 평가이거나 포롭터를 이용하는 수동 평가일 수 있다. 어느 경우이든지, 평가 결과는 환자 눈의 굴절 특성을 결정하는 것이다. 특징으로는 근시나 원시에 대한 구면 교정, 난시를 위한 원주 교정, 난시 교정을 위한 원주 축의 배향이 있다. 일부 실시예에서, 단계(810)에서, 굴절 처방값 또는 이전에 수행된 굴절 평가의 결과가 수신될 수 있다.

[표 1] 굴절 평가

표 1은 일부 실시예에 따라, 환자에 대한 예시적인 굴절 평가의 결과를 보여준다. 평가는 환자가 -2 디옵터의 난시를 가진 1 디옵터("D") 근시임을 보여준다. 난시를 위한 원주 교정에서는, 제로-굴절력 축(zero-power axis)이 원주 축을 따라 연장되는 원주 렌즈가 사용되며, 원주 렌즈의 굴절력은 원주 축에 대해 90도로 배향된다. 원주 축은 검안 또는 안과 분야의 당업자에게 공지된 바와 같이 양쪽 눈의 수평으로부터 반시계 방향으로 측정된다.

원주 축이 90도로 배열된 교정 원주의 -2D의 예시적인 축으로, 원주의 굴절력은, 180도로 배향된 각막의 가파른 경선을 교정하기 위해 180도로 경선을 따라 위치된다. 본 예에서, 각막은 내측-외측(mesial-lateral) 방향을 따라 더 가파르게 만곡되고(더 가파른 경선) 상하(superior-inferior) 방향을 따라 덜 가파르게 만곡되거나 더 평평해진다(더 평평한 경선).

마이너스 "-" 굴절력을 갖는 원주를 참조하지만, 굴절은 당업자에게 명백한 바와 같이 플러스 원주 굴절력으로 제공될 수 있다. 위의 예시적 굴절에서, 양의 원주 표기를 이용한 굴절은 -3(구) + 2(원주) × 180(도)이다.

굴절 이상을 이용하는 것을 참조하지만, 눈의 난시축을 결정하고, 눈의 각막의 난시축과 관련하여 망막에 대한 자극을 제공하기 위해, 각막 토포그래피 시스템을 이용하여 눈의 각막 난시 및 각막의 상응하는 더 가파르고 더 평평한 경선을 결정할 수 있다.

난시축과 관련하여 치료를 참조하지만, 난시축은 더 평평한 축 또는 더 가파른 축을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 난시축은 양의 원주 표기를 갖는 원주 축에 대응한다. 대안적으로, 난시축은 음의 원주 표기를 갖는 원주 축에 대응한다. 또한, 원주 축은 원주 렌즈의 평평한 경선, 또는 평평한 경선에 수직인 곡선 경선과 같은 원주 렌즈의 곡선 경선에 대응할 수 있다.

일단 환자의 굴절 이상이 알려지면, 프로세스는 단계(820 및 830) 중 하나 또는 둘 모두로 진행될 수 있고 축에 대한 하나 이상의 자극의 배향이 결정될 수 있다.

단계(820)에서, 난시 이상은 경선을 따라 눈의 맥락막 두께의 변화를 자극함으로써 교정될 수 있다. 표 1에 제공된 예에서, 환자의 눈은 환자의 난시축과 관련하여 자극될 수 있다. 일부 실시예에서, 원주 굴절 이상을 교정하기 위해, 자극되지 않은 위치에서의 눈의 망막의 맥락막 두께에 비해, 눈의 망막의 증가된 맥락막 두께를 자극하기 위해 90도 축의 양측에서 본원에 기재된 바와 같은 광 자극이 제공된다. 눈의 맥락막 두께의 변화는 자극되지 않은 위치 또는 덜 자극된 위치와 비교하여 자극된 위치에서 공막의 감소된 성장을 초래할 수 있다. 일부 실시예에서, 디포커싱된 이미지와 같은 자극은 예를 들어 중심와에 대해 15도 내지 40도의 편심 범위 내에서 망막의 외측 부분에서 망막의 주변을 향해 투사되고, 중심와에 대해 20도 내지 30도의 편심 범위 내에 있을 수 있다.

맥락막의 증가된 두께 및 관련된 공막 성장 감소는 임의의 적절한 기법에 의해 제공될 수 있다. 일부 실시예에서, 맥락막 두께의 차별적 변화는 공막 길이의 차별적 변화를 제공하고, 이는 눈의 난시의 변화를 제공한다. 눈의 맥락막 두께의 변화는, 각막의 상이한 난시 경선에 대응하는 공막의 상이한 성장을 제공하기 위해, 자극되지 않은(또는 덜 자극된 위치)에 비해 자극된(또는 더 큰 자극을 받은) 위치에서 공막의 감소된 성장을 초래할 수 있다.

망막 상의 자극 위치 및 맥락막 및 망막에 대한 관련 변화는 각막의 더 가파르고 더 평평한 경선과 관련하여 참조될 수 있다. 더 가파른 경선에 대응하는 눈의 위치는 각막으로부터 눈의 공막과 망막을 통해 연장되는 각막의 더 가파른 경선에 의해 정의된 평면에 대응하는 눈의 위치를 포함할 수 있다. 각막의 더 평평한 경선에 대응하는 눈의 위치는 각막으로부터 눈의 공막과 망막을 통해 연장되는 각막의 더 평평한 경선에 의해 정의된 평면에 대응하는 눈의 위치를 포함할 수 있다.

임의의 특정 이론에 얽매이지 않으면서, 난시를 치료하기 위한 맥락막 두께 및 공막 길이의 차별적 변화가 대안적인 메커니즘에 의해 제공될 수 있다. 일부 실시예에서, 더 가파른 경선(더 가파른 경선 자극, "SMS")에 대응하는 위치에서 공막의 성장을 감소시킴으로써 더 가파른 경선에 대응하는 위치에서 눈의 성장을 감소시키고 난시를 감소시키기 위해, 자극은 각막의 더 가파른 경선에 대응하는 위치에서 제공된다. 대안적인 실시예에서, 더 평평한 경선에 대응하는 위치에서 공막의 성장을 감소시킴으로써 더 평평한 경선에 대응하는 위치에서 눈의 성장을 감소시키고 난시를 감소시키기 위해, 자극은 각막의 더 평평한 경선(더 평평한 경선 자극 "FMS")에 대응하는 위치에서 제공된다. FMS 기법의 실시예에서, 더 가파른 경선을 따른 공막의 증가된 성장은 각막에 대한 장력을 감소시키고 더 가파른 경선을 따라 각막을 이완시켜 더 가파른 경선을 평평하게 하고 난시를 감소시킨다. 당업자는 예컨대 본 개시에 따라 임상 시험을 수행함으로써 과도한 실험 없이 이들 대체 기법 중 어느 것이 더 나은 결과를 제공하는지 결정하기 위해 실험을 수행할 수 있다.

일부 실시예에서, 자극은 난시를 감소시키기 위해 눈의 안축장의 차별적 변화를 제공하도록 구성된다. 일부 SMS 실시예에서, 원주 굴절 이상을 교정하기 위해, 광 자극은 각막의 가파른 경선에 대응하는 중심와에 대해 편심된 위치에 제공되어, 증가된 맥락막 두께를 자극하고, 더 평평한 경선에 대응하는 위치에서의 공막의 성장에 비해, 가파른 경선에 대응하는 위치에서 공막의 성장을 감소시켜, 난시를 줄이기 위해 눈의 안축장에 차별적 변화를 제공하게 된다. 일부 실시예에서, 자극은 난시를 감소시키기 위해 눈의 안축장의 차별적 변화를 제공하도록 구성된다. 일부 FMS 실시예에서, 원주 굴절 이상을 교정하기 위해, 광 자극은 각막의 더 평평한 경선에 대응하는 중심와에 대대 편심된 위치에 제공되어, 증가된 맥락막 두께를 자극하고, 더 가파른 경선에 대응하는 위치에서의 공막의 성장에 비해, 더 평평한 경선에 대응하는 위치에서 공막의 성장을 감소시켜, 예컨대 각막의 이완으로 난시를 줄이기 위해 눈의 안축장에 차별적 변화를 제공하게 된다.

난시 교정을 위해, 난시의 경선을 따라 초점은 주변 망막의 뒤 약 1.5-2.5 ㎜(예를 들면, 약 2.0D 내지 5.0D, 예를 들어 2.0D 내지 4.0D, 또는 바람직하게는 2.5D 내지 3.5D) 및 주변 망막의 앞 약 1.5-2.5 ㎜(예를 들면, 약 -2.0D 내지 -5.0D, 예를 들면 -2.0D 내지 -4.0D, 또는 바람직하게는 -2.5D 내지 -3.5D) 사이만큼 변할 수 있다. 일부 실시예에서, 자극은, 중심 시야를 유지하면서, 난시 경선을 따라, 망막 주변에서 한 쌍의 2.0-5.0D 근시로 디포커싱된 이미지이다. 일부 실시예에서, 중심 시야는 +/-12.5도의 시야를 포함하여 황반을 덮는 한편, 고정 시야를 위해 사용되는 중심와 시야는 +/-2.0도의 시야를 갖는다.

위에서 논의된 예에서, 환자의 난시 디포커싱된 이미지가 굴절 이상에 대응하는 디포커스에서 제공되지만, 일부 실시예에서, 디포커스는 환자의 굴절 이상보다 클 수 있다. 예를 들어, -3 디옵터 디포커싱된 이미지는 -2 디옵터 난시 환자의 망막을 자극하는 데 이용될 수 있다.

본원에 개시된 디바이스 및 시스템은 원하는 자극을 제공하는 데 이용될 수 있다. 디바이스는, 난시 경선을 따라 중심와 외부, 예컨대 황반 외부에 있는 망막에 하나 이상의 자극을 제공하도록 구성된다. 자극은 눈의 안축장 또는 맥락막 두께 중 하나 이상의 변화를 촉진하도록 구성될 수 있다. 자극은 정적 이미지, 또는 예를 들어 10 ㎐ 내지 200 ㎐의 범위 내의 리프레시 레이트(refresh rate)를 갖는 동적일 수 있다. 광은 단색 또는 다색 광을 포함할 수 있다. 하나 이상의 이미지는, 공간 주파수와 연관된 이미지의 정보 또는 콘텐츠에 대응하는 이미지 구조로 다양한 방식으로 구성될 수 있다. 일부 실시예에서, 하나 이상의 이미지는 예를 들어 1사이클/도 내지 180 사이클/도 범위 내의 공간 주파수, 및 예를 들어 99.9% 내지 2.5% 범위 내의 콘트라스트를 포함한다. 투사된 이미지는 중심와와 관련하여 어떤 편심도로 망막에 투사될 수 있으며, 편심도는 예를 들어 5도 내지 40도 범위 내일 수 있다. 투사된 이미지는 특정된 편심도 범위 내에서 난시 경선을 따라 망막의 일부를 덮을 수 있다. 예를 들어 투사된 이미지는 난시 경선에 90도 경선을 중심으로 미러링되는 작은 아크 길이에 걸친 환형 섹터 또는 아크일 수 있다. 아크 길이는 90도 미만, 60도 미만, 45도 미만, 30도 미만, 15도 미만, 10도 미만, 5도 미만일 수 있다. 대안적으로 또는 조합하여, 아크 길이는 예를 들어 1도 내지 45도 범위 내, 또는 10도 내지 35도 범위 내일 수 있다. 아크 길이를 참조하지만, 자극은 여러 가지 방식으로 구성될 수 있다.

일부 실시예에서, 단일 광원 또는 광원 그룹이, 난시 경선과 관련하여, 예를 들어 난시 경선을 따라 스폿 또는 스폿들로 망막을 조명하여 자극할 수 있다. 예를 들어, 단일 광원은 원하는 난시의 변화에 따라, 더 가파른 경선 또는 더 평평한 경선의 양쪽에 2 디옵터의 근시로 디포커싱된 스폿을 제공할 수 있다. 스폿은 본원에서 논의된 바와 같은 직경을 갖는 원형일 수 있다. 일부 실시예에서, 자극은 본원에서 논의된 바와 같이 마이크로-디스플레이에 의해 방출된 빛에 의해 제공된다. 망막 자극은 본원에 기재된 바와 같이 광 투사 시스템 또는 투사 유닛을 사용하여 적용될 수 있다.

일부 실시예에서, 마이크로-디스플레이의 픽셀과 같은 복수의 광원이 본원에서 논의된 바와 같이 더 가파른 경선 또는 더 평평한 경선에 대응하는 이미지 또는 이미지들로 망막을 조명하여 자극할 수 있다. 예를 들어, 단일 마이크로-디스플레이가 더 편평한 경선의 양쪽에 2 디옵터의 근시로 디포커싱된 이미지를 제공할 수 있다. 대안적으로, 단일 마이크로-디스플레이가 더 가파른 경선의 양쪽에 2 디옵터의 근시로 디포커싱된 이미지를 제공할 수 있다. 이미지는 본원에서 논의된 바와 같이 원형 또는 다른 형상일 수 있다. 망막 자극은 광 투사 시스템 또는 투사 유닛을 이용하여 적용될 수 있다.

자극은 연속적이거나 주기적이거나 비주기적일 수 있다. 주기적인 경우, 자극은 1초 내지 24시간 범위 내에서 지속될 수 있다. 자극은 피험자가 깨어 있거나 자고 있을 때 및 이들의 조합으로 적용될 수 있다.

난시 교정을 위한 환자의 눈 자극은 환자 눈의 원주 이상이 교정될 때까지 계속될 수 있다. 위의 예에서, 난시 교정을 적용하여 -2 디옵터 난시를 0으로 줄일 수 있다.

일부 실시예에서, 환자 눈의 난시가 교정된 후, 프로세스(800)는 환자 눈의 구면 굴절 이상이 교정되는 단계(830)로 진행할 수 있다. 표 1의 예에서, 환자 눈의 구면 굴절 이상은 -1 디옵터이다. 이 구면 굴절 이상을 교정하기 위해, 투사 유닛의 광원으로부터의 광이 본원에서 설명된 바와 같이 하나 이상의 투사 광학계에 의해 포커싱된다.

단계(830)에서, 구면 이상은 중심와에 대해 편심된 눈의 안축장의 변화를 자극함으로써 교정될 수 있다. 일부 실시예에서, 구면 굴절 이상을 교정하기 위해, 각막의 두 경선을 통해 자극이 제공되어 눈의 맥락막 두께의 성장 및 구면 굴절 이상의 변화에 상응하는 눈의 안축장의 변화를 자극한다. 일부 실시예에서, 디포커싱된 이미지와 같은 자극은 예를 들어 중심와에 대해 15도 내지 40도의 편심 범위 내에서 망막의 외측 부분에서 망막의 주변을 향해 투사되고, 20도 내지 30도의 범위 내에 있을 수 있다.

본원에 개시된 디바이스 및 시스템은 원하는 자극을 제공하는 데 이용될 수 있다. 디바이스는 중심와에 대해 편심된 망막에 자극을 제공하도록 구성된다. 구면 자극은 눈의 안축장 또는 맥락막 두께의 변화를 촉진하도록 구성될 수 있다. 자극은 정적 자극을 포함할 수 있고, 또는 예를 들어 본원에서 논의한 것과 같은 리프레시 레이트를 갖는 또는 동적일 수 있다. 이미지의 빛은 단색 또는 다색의 빛을 포함할 수 있다. 하나 이상의 이미지는, 공간 주파수와 연관된 이미지의 정보 또는 콘텐츠에 대응하는 이미지 구조로 다양한 방식으로 구성될 수 있다. 일부 실시예에서, 하나 이상의 이미지는 예를 들어 1 사이클/도 내지 180 사이클/도, 또는 1 사이클/도 내지 60 사이클/도 범위 내의 공간 주파수, 및 예를 들어 99.9% 내지 2.5% 범위 내의 콘트라스트를 포함한다. 투사된 이미지는 중심와와 관련하여 어떤 편심도로 망막에 투사될 수 있으며, 편심도는 5도 내지 40도 범위 내에 있을 수 있다. 투사된 이미지는 특정된 편심도 범위 내에서 망막의 일부를 덮을 수 있다. 예를 들어 투사된 이미지는 중심와에 대해 5도 내지 40도, 15도 내지 40도, 또는 20도 내지 40도의 편심 범위 내에서 연장되는 환형 형상일 수 있다.

구면 굴절 이상을 교정하기 위한 환자 눈의 자극은 환자 눈의 원주 이상이 교정될 때까지 계속될 수 있다. 위의 예에서, 구면 교정을 적용하여 -1 디옵터 구면 굴절을 약 0으로 줄일 수 있다.

위의 프로세스는 단계(830)의 작용 전에 발생하는 단계(820)의 작용을 설명하지만, 일부 실시예에서 단계(830)의 작용은 단계(820)의 작용 전에 발생할 수 있다. 예를 들어, 난시 굴절 이상이 -2로부터 약 0으로 교정되기 전에 눈의 구면 굴절 이상이 -1로부터 약 0으로 교정될 수 있다. 일부 실시예에서, 단계(820 및 830)의 작용은 생략될 수 있다. 예를 들어, 단계(820)에 따라 -2로부터 -1로의 부분 난시 교정이 수행될 수 있고, 이어서 -1로부터 -0.5로의 부분 구면 교정, 이어서 -1로부터 0으로의 제2 부분 난시 교정, 그리고 -0.5로부터 0으로의 제2 부분 구면 교정이 이어진다. 부분 교정은 4개의 상호 배치된 단계로 설명하지만, 환자의 굴절 이상을 교정하기 위해 임의의 수의 상호 배치된 단계를 이용할 수 있다.

일부 실시예에서, 단계(820) 및 단계(830)가 조합될 수 있고 눈의 구면 및 난시 굴절 이상이 동시에 교정될 수 있다. 예를 들어, 환자의 난시가 발생하는 가파른 경선 주위에서 눈을 자극하는 동시에 중심와 주위로 편심된 더 편평한 경선을 통해 눈을 자극할 수 있다.

일부 실시예에서, 구면 및 난시 굴절 이상의 동시 교정을 위해 망막에 제공되는 자극은 별도의 교정 단계 동안 제공되는 것과 상이할 수 있지만, 빛의 강도 또는 이미지는 두 영역에 대해 동일하다. 예를 들어, 동시 교정의 일부 실시예에서, 굴절 교정은 난시 교정을 위해 자극된 영역에서 구면 교정에 부가적일 수 있다.

일부 실시예에서, 구면 및 난시 굴절 이상은 디포커스의 양을 동일하게 유지하면서 빛 또는 이미지의 강도를 변경함으로써 교정될 수 있다. 예를 들어, 이미지와 같은 자극은 중심와에 대해 편심된 -2 디옵터 디포커스에서 망막에 제공되어 눈의 맥락막 두께의 성장과 중심와 주위의 주변 영역에서 눈의 안축장의 변화를 자극할 수 있다. 그러나, 구면 이상과 난시 이상을 동시에 치료하기 위하여, 빛은 2배 이상의 강도로 또는 2개 이상의 상이한 간격으로 제공될 수 있다. 예를 들어, 난시 영역을 치료하기 위한 자극광 또는 이미지의 강도를 제1 강도로 제공하고, 구면 이상만을 치료하기 위한 영역에서 자극광 또는 이미지의 강도를 제2 강도로 제공할 수 있다. 더 평평한 경선에 대응하는 위치로부터 떨어진 위치에서 공막의 성장 속도보다 느린 속도로 난시의 더 가파른 경선을 따라 공막의 성장의 변화 및 눈의 맥락막 두께의 성장을 자극하기 위해 제1 강도는 제2 강도보다 클 수 있다.

일부 실시예에서, 자극의 지속 시간은 변동될 수 있다. 예컨대, 자극은 매일 또는 다른 시간 기반으로 적용될 수 있다. 이러한 실시예에서, 상이한 양의 난시 및 구면 굴절 이상을 갖는 환자는 그 이상을 치료하기 위해 상이한 시간 기반의 자극을 받을 수 있다. 예를 들어, 눈에 구면 및 원주 굴절 이상이 있는 환자는 하루에 4시간 동안 난시 자극을 받고 하루에 2시간 동안 구면 자극을 받을 수 있다.

일부 실시예에서, 눈의 난시 및 구면 굴절 이상의 동시 치료는 강도, 디포커스 및 주기적인 자극 중 하나 이상이 변동할 수 있다. 예를 들어, 구면 굴절 이상 교정은 굴절 자극에 의해 자극되지 않는 영역에서 중심와에 대해 편심된, -1 디옵터 디포커싱된 제1 강도의 이미지 또는 빛일 수 있는 반면, 난시 굴절 이상 교정은 더 가파른 경선을 따른 제2 강도의 -3 디옵터일 수 있다. 제1 강도는 제2 강도보다 크거나 작을 수 있다. 디포커스의 양에 따라 강도의 차이가 변동될 수 있다. 예를 들어, 더 적은 디포커스가 더 큰 강도의 빛 및 더 많은 시간 기반의 주기적 치료와 조합하여 이용될 수 있고, 또는 더 많은 디포커스가 더 낮은 강도의 빛 및 더 적은 시간 기반의 주기적 치료와 조합하여 이용될 수 있다.

도 9a 및 도 9b는, 맥락막 두께의 변화를 자극하기 위해, 환자의 난시의 경선에 대응하고 중심 시야로부터 떨어진, 예컨대 황반에서 떨어진 위치에서 망막 상에 투사된 디포커싱된 이미지와 같이, 난시를 치료하기 위한 자극을 제공하도록 구성된 콘택트 렌즈(10)를 도시한다. 콘택트 렌즈를 참조하지만, 렌즈(10)는 프로젝터, 안경 렌즈, 안과용 장비, 콘택트 렌즈, 각막 온레이, 각막 인레이, 각막 보철물 또는 안내 렌즈 중 하나 이상의 렌즈를 포함할 수 있다. 예를 들어, 렌즈는 본원에 기재된 바와 같이 난시를 치료하는 주변 자극을 제공하기 위해, 난시의 축과 관련하여 위치된 광원을 갖는 안경 렌즈를 포함할 수 있다.

렌즈(10)는 많은 방식으로 구성될 수 있고, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 콘택트 렌즈의 하나 이상의 구성요소를 포함할 수 있다. 렌즈(10)는 축(80)을 포함한다. 콘택트 렌즈(10)는 본원에 기재된 바와 같이 굴절 난시축 또는 각막의 경선 중 하나 이상과 같은 눈의 난시축과 축(80)을 정렬하도록 구성된다. 콘택트 렌즈의 광학 구역은 구면 및 원주 굴절 이상을 교정하도록 구성된 광학 구역, 예를 들어 난시축(80)과 정렬된 토릭 광학 구역을 포함할 수 있다. 콘택트 렌즈는, 전체적으로 제1 축(80)을 가로질러 연장되는 제2 난시축(81)을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 제2 난시축(81)은, 예를 들어 제1 난시축의 약 80도 내지 100도 범위의 각도로 제1 난시축에 실질적으로 수직이다. SMS 실시예에서, 난시축(80)은 각막의 더 평평한 경선에 대응하고 축(81)은 각막의 더 가파른 경선에 대응한다. 투사 유닛(12a, 12b)과 같은 광원은 눈의 난시축에 대응하는 위치에서 망막에 자극을 제공하도록 구성된다. 일부 실시예에서, 제1 광원 및 제2 광원은 제1 난시축 또는 경선에 대응하는 위치에서 망막 자극으로 난시를 치료하기 위해 난시축 또는 경선의 양측에 위치하며, 이들 광원은 제2 경선에 대응하는 위치에서 감소된 조명을 제공하도록 구성될 수 있다.

일부 실시예에서, 난시를 교정하기 위한 눈의 자극은 난시 경선을 따라 일어난다. 콘택트 렌즈(10)와 같은 렌즈는 눈에 대해 안정화될 수 있는데, 예를 들어 눈에서 안정화될 수 있다. 예를 들어, 일부 실시예에서, 렌즈는 눈에서 안정화되어 렌즈를 아래-위 방향으로 배향한다. 일부 SMS 실시예에서, 투사 유닛(12)이 각막의 더 평평한 경선의 양측에 배치(예를 들어, 대칭적으로 배치)되고 각막의 가파른 경선에 대응하는 난시 또는 가파른 축을 따라 위치되도록 렌즈가 안정화된다. 대안적인 실시예(예를 들어, FMS 실시예)에서, 투사 유닛(12)이 각막의 더 가파른 경선의 양측에 배치(예를 들어, 대칭적으로 배치)되고 각막의 더 평평한 경선에 대응하는 난시 또는 평평한 축을 따라 위치하도록 렌즈가 안정화된다. 일부 실시예에서, 축(80)은 투사 유닛(12a, 12b)이 대칭적으로 위치하는 대칭 축을 포함한다. 투사 유닛(12a, 12b)은 다양한 방식으로 크기가 정해지고 성형될 수 있지만, 일부 실시예에서, 투사 유닛은 환형 자극을 망막에 제공하기 위해 환형의 세그먼트에 대응하는 아치형 형상 프로파일을 포함한다. 일부 실시예에서, 자극으로부터의 빛은 눈의 광축을 가로질러 눈의 양측에서 망막의 아치형 영역을 조명한다.

표 1에서 논의된 예에서, 교정 원주의 축은 90도이고, 따라서 콘택트 렌즈(10)는 렌즈(10)의 난시축(80)이 각막의 더 평평한 경선일 수 있는 규정된 난시축(80)과 실질적으로 정렬되거나 평행하도록 눈에서 안정화될 수 있고, 상기 투사 유닛은, 렌즈(10)가 아래-위 방향으로 안정화되면, 난시 경선을 따라서와 같이 각막의 난시 경선에 대한 위치에 이미지를 투사한다.

콘택트 렌즈(10)는 밸러스트(ballast) 또는 웨이트(weight)를 포함할 수 있고, 이 밸러스트 또는 웨이트는, 중력이 밸러스트 또는 웨이트에 작용하여, 그것을 콘택트 렌즈를 안정화시키고 렌즈 및 그 투사 유닛을 난시 경선과 정렬시키는 방향으로 아래로 끌어당기도록 비대칭이다. 일부 실시예에서, 콘택트 렌즈(10)는 깜박임이 안정화되도록 성형될 수 있어, 환자의 자연스러운 깜박임이 콘택트 렌즈의 형상에 작용하여 렌즈를 환자의 눈에서 안정화하고 배향한다. 일부 실시예에서, 다른 안정화 방법을 이용하여 렌즈(10) 및 그 난시축을 눈과 정렬시킬 수 있다.

일부 실시예에서, 콘택트 렌즈(10)는 콘택트 렌즈(10)에 대해 비대칭인 투사 유닛을 구비할 수 있다. 이러한 실시예에서, 콘택트 렌즈(10) 상의 투사 유닛은 대칭축을 갖지 않을 수 있지만, 투사 유닛(12)이 난시 경선에 대응하는 위치에서 눈을 자극하도록 여전히 눈과 정렬될 수 있다.

콘택트 렌즈(10)에서, 배터리(20), PCB(24), 센서(22) 또는 콘택트 렌즈(10)의 다른 구성요소 중 하나 이상은, 콘택트 렌즈를 안정화하고 자극을 눈의 난시 경선과 정렬시키기 위한 밸러스트로서 작용할 수 있다. 표 1의 예에서, 규정된 원주 축은 환자의 신체에 대해 수직인 90도이다. 도 9a에 도시된 바와 같이, 밸러스트로서 작용하는 배터리(20)는 콘택트 렌즈의 대칭축(80)과 정렬되어 대칭축(80)을 수평 180도 난시 경선과 정렬시킨다.

일부 실시예에서, 난시 원주 교정 축은 90도 이외의 각도일 수 있다. 예를 들어, 환자는 80도의 난시 원주 교정 축(80)과 170도의 축(81)을 구비할 수 있다. 도 9b는 축(80)이 80도 난시 원주 교정 축과 정렬하는 것과 같이 투사 유닛(12)의 난시축(80)으로부터 오프셋 위치된 밸러스트를 갖는 콘택트 렌즈(10)를 도시한다. 일부 실시예에서, 깜박임 또는 다른 유형의 안정화를 가능하게 하는 콘택트 렌즈의 형상은, 콘택트 렌즈(10)가 환자의 눈에서 안정화될 때 투사 유닛이 난시 경선을 따라 위치하도록 투사 유닛의 대칭축으로부터 오프셋될 수 있다. 도 9b는 또한 환형 세그먼트 형태의 마이크로-디스플레이(12)를 도시한다.

일부 실시예에 따르면, 소프트 콘택트 렌즈(10)는 본원에 기재된 바와 같은 투사 유닛을 포함한다.

렌즈(10) 상의 프로세서는 근시 및 난시 중 하나 또는 모두를 치료하기 위해 망막 상의 복수의 위치에 빛을 투사하도록 투사 광학계를 선택적으로 조명하기 위한 명령으로 프로그래밍되거나 그렇지 않으면 구성될 수 있다. 선택적 조명 및 이에 수반되는 자극 및 치료는 도 8 및 단계(820, 830)와 관련하여 논의된 바와 같이 수행될 수 있다. 예를 들어, 난시 치료에 있어서, 도 9a 및 도 9b에 도시된 것과 같은 렌즈 내의 프로세서는 이미지를 망막에 비추고 투사하도록 선택적으로 제어될 수 있다. 도 2에 도시한 콘택트 렌즈와 같은 일부 실시예에서, 각막의 가파른 경선을 따라 배열된 것과 같은 제1 광학계 그룹이 가파른 경선을 따라 망막의 선택된 위치에서 난시 및 근시 중 하나 또는 둘 모두를 치료하기 위해 선택적으로 조명될 수 있는 반면, 각막의 더 평평한 경선을 따라 배열된 것과 같은 제2 광학계 그룹이 더 평평한 경선을 따라 망막의 선택된 위치에서 근시를 치료하기 위해 선택적으로 조명될 수 있다.

도 10은 굴절 난시의 치료를 위해 구성된 도 7a 및 도 7b에서와 같은 안경(70)을 도시한다. 안경(70)은 본원에 기재된 바와 같은 제1 난시축(80) 및 제2 난시축(81)을 포함한다. 안경은 본원에 설명된 바와 같이 가파른 경선 자극(SMS) 또는 평평한 경선 자극(FMS)을 위해 구성될 수 있다. 안경은 예를 들어 프로세서 제어 하에서 적절한 광원을 선택하여 굴절 이상을 치료하기 위한 자극을 제공하도록 프로그램될 수 있다.

마이크로-디스플레이와 광학계는 망막의 외측 영역에 주변을 향해 적절한 자극을 제공하기 위해 여러 가지 방식으로 구성될 수 있다. 예를 들어, 도 10은 픽셀(94)의 4개의 그룹(94a, 94b, 94c, 94d)을 도시한다. 표 1을 참조하여 위에서 논의된 바와 같은 굴절 이상이 있는 환자의 경우, 그룹(94a, 94b)은 난시 이상 치료를 위한 자극을 제공할 수 있다. 대안적으로 또는 조합하여, 그룹(94a, 94b, 94c, 94d)은 구면 이상 치료를 위한 자극을 제공할 수 있다.

예를 들어, 일부 실시예에서, 단계(820)에서, 원주 굴절 이상을 교정하기 위해, 그룹(94a, 94b)에 의해 축(80)의 양쪽의 디포커스에 광 또는 이미지가 제공되어, 본원에 기재된 바와 같이, 눈의 맥락막 두께의 성장을 자극하고 눈의 차별적 공막 성장을 제공한다.

일부 실시예에서, 단계(830)에서, 구면 굴절 이상을 교정하기 위해, 그룹(94a, 94b, 94c, 94d)에 의해 중심와에 대해 편심된 망막에 이미지와 같은 자극이 제공되어, 본원에 기재된 바와 같이, 눈의 맥락막 두께의 성장을 자극하고, 중심와 주위의 주변 영역에서 눈의 안축장의 증감을 자극한다.

원주 이상과 구면 이상을 교정하기 위한 자극은 별도로 또는 동시에 제공될 수 있다. 예를 들어, 일부 실시예에서, 원주 굴절 이상을 교정하기 위해, 이미지와 같은 자극이 그룹(94a, 94b)에 의해 축(80)의 양쪽에 제공되어 눈의 맥락막 두께의 증가를 자극하고, 눈의 안축장에 대응하는 공막의 차별적 성장과 같은 차별적 공막 성장을 제공한다. 본원에 기재된 바와 같이, 축(80)은 각막의 더 가파른 경선 또는 각막의 더 평평한 경선에 대응할 수 있다. 일부 실시예에서, 그룹(94c, 94d)은 그룹(94a, 94b)보다 덜 활성화된다.

도 8, 도 9a 및 도 9b와 관련하여 위에서 논의된 바와 같이, 난시 이상 및 구면 이상을 교정하기 위한 자극은 상이한 강도, 디포커스 양 및 상이한 시간 기반 주기적 치료로 제공될 수 있다.

안경은 근시 및 난시 중 하나 또는 모두를 치료하기 위해 망막 상의 복수의 위치에 빛을 투사하도록 투사 광학계를 선택적으로 조명하기 위한 명령으로 프로그램되거나 그렇지 않으면 구성될 수 있는 하나 이상의 프로세서를 포함할 수 있다. 안경은 도 3에서 언급된 기계적 통합 기능의 하나 이상의 구성요소를 포함할 수 있다. 선택적 조명 및 이에 수반되는 자극 및 치료는 도 8 및 단계(820, 830)와 관련하여 논의된 바와 같이 수행될 수 있다. 예를 들어, 난시의 치료에서, 프로세서는 하나 이상의 픽셀의 그룹을 선택적으로 제어하여 망막에 이미지를 조명하고 투사할 수 있다. 일부 실시예에서, 프로세서는, 각막의 가파른 경선을 따라 배열된 것과 같은 제1 픽셀 그룹이 가파른 경선을 따라 망막의 선택된 위치에서 난시 및 근시 중 하나 또는 둘 모두를 치료하기 위해 선택적으로 조명되도록 제어할 수 있는 반면, 각막의 더 평평한 경선을 따라 배열된 것과 같은 하나 이상의 픽셀의 제2 그룹이 더 평평한 경선을 따라 망막의 선택된 위치에서 근시를 치료하기 위해 선택적으로 조명될 수 있다.

도 10은 각 그룹(94a, 94b, 94c, 94d)에서 둘 이상의 활성 픽셀을 갖는 마이크로-디스플레이를 도시하지만, 일부 실시예에서 각 그룹은 단일 픽셀을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 예를 들어, 난시 굴절 이상을 치료하기 위해, 더 가파른 경선을 따라 더 평평한 경선의 각 측에서 자극을 위해 단일 픽셀 또는 광원만이 사용될 수도 있다.

표 1의 예는 90도에서 난시 굴절 이상을 포함하지만, 일부 실시 예에서 굴절 이상은 다른 각도에 있을 수 있다. 도 10은 제1 난시축(80)이 80도에 있고 제2 난시축이 170도인 실시예를 도시한다. 일부 실시예에서, 픽셀(94)의 그룹(94a, 94b)은 난시축(80)에 대해 대칭적으로 배향되어 디포커싱된 이미지를 축을 가로질러 투사하여 환자의 난시를 교정하는 한편, 그룹(94c, 94d) 역시 디포커싱된 이미지와 같은 자극을 제공하여 눈의 구면 이상을 교정하기 위해 회전될 수 있다.

일부 실시예에서, 활성화된 픽셀의 강도 및 지속 기간은 치료 난시축에 대응하도록 구성된다. 예를 들어, 복수의 그룹(94a, 94b, 94c, 94d) 각각은 난시축(80)으로부터의 상이한 거리를 보상하기 위해 상이한 강도 또는 지속 기간을 갖는 픽셀을 포함할 수 있다. 일부 실시예에서, 복수의 그룹 각각은 난시축(80)으로부터 제1 거리에서 제1 강도 및 제1 지속 시간을 갖는 제1 자극 및 난시축으로부터 제2 거리에서 제2 강도 및 제2 지속 기간을 갖는 제2 측에 제2 자극을 포함한다. 일부 실시예에서, 복수의 그룹(94a, 94b, 94c, 94d) 각각에 대해, 제2 강도 또는 제2 지속 시간 중 하나 이상은 제1 강도 또는 제1 지속 기간 중 하나 이상과 상이하여 제1 거리가 제2 거리와 상이한 것을 보상한다. 이는 치료의 정확도를 높이고 픽셀 해상도를 낮출 수 있는 이점이 있다.

예를 들어, 안경 처방은 각도가 75도인 처방 난시축을 갖는 -2.00D 원주를 포함할 수 있다. 그러한 원주의 굴절력은 처방 축으로부터 90도, 예컨대 165도에 있다. 자극은 예를 들어 165도에서 치료하기 위해 각각 180도 및 150도에 위치할 수 있다.　 두 자극 모두 동일한 강도 및 지속 시간 값을 제공하는 경우, 벡터는 -2.00 × 75도의 처방에 대응하는 165도의 마이너스 2도 굴절력 경선에 있게 된다. 대안적으로, 자극의 강도 또는 기간 중 하나 이상을 조절하여 상이한 축, 예를 들어 164도에 상응하는 치료를 제공할 수 있다. 예를 들어, 축에 더 가까운 제1 자극은 축에서 더 멀리 있는 제2 자극의 강도 또는 지속 시간보다 작은 강도 또는 지속 시간 중 하나 이상을 포함할 수 있다.

난시를 치료하기 위해 망막에 이미지를 투사하는 것을 참조하지만 자극은 여러 가지 방법으로 제공될 수 있다. 예를 들어, 자극은 이미지를 눈에 투사하지 않고 망막에 빛을 제공하는 조명원으로 제공될 수 있다. 일부 실시예에서, 자극은 산란 매질을 통과하는 산란광을 포함한다. 광 산란 매질은 투사 유닛을 참조하여 본원에서 설명한 위치와 유사하게 렌즈와 관련하여 위치될 수 있다. 대안적으로, 자극은 난시를 치료하기 위한 자극을 제공하기 위해 디스플레이에 도시된 패턴, 예를 들어 본원에 기재된 바와 같은 아치형 투사 유닛(12a, 12b)과 유사하게 디스플레이 상의 아치형 패턴을 포함할 수 있다.

난시 교정을 제공하기 위한 망막의 외측 위치 상의 조명의 양 및 위치는 본원에 개시된 교시에 따라 과도한 실험 없이 당업자에 의해 결정될 수 있다.

본원에 설명한 바와 같이, 본원에 설명 및/또는 도시한 컴퓨팅 디바이스 및 시스템은 본원에 설명한 모듈 내에 포함된 것과 같은 컴퓨터 판독 가능 명령을 실행할 수 있는 임의의 유형 또는 형태의 컴퓨팅 디바이스 또는 시스템을 광범위하게 나타낸다. 가장 기본적인 구성에서, 이러한 컴퓨팅 디바이스(들)는 각각 적어도 하나의 메모리 디바이스 및 적어도 하나의 물리적 프로세서를 포함할 수 있다.

본원에서 사용되는 용어 "메모리" 또는 "메모리 디바이스"는 일반적으로, 데이터 및/또는 컴퓨터 판독 가능 명령어를 저장할 수 있는 임의의 유형 또는 형태의 휘발성 또는 비휘발성 저장 디바이스 또는 매체를 나타낸다. 일 예에서, 메모리 디바이스는 본원에 설명된 하나 이상의 모듈을 저장, 로드 및/또는 유지할 수 있다. 메모리 디바이스의 예는 RAM(Random Access Memory), ROM(Read Only Memory), 플래시 메모리, HDD(Hard Disk Drive), SSD(Solid-State Drive), 광학 디스크 드라이브, 캐시, 이들 중 하나 이상의 변형 또는 조합, 또는 임의의 다른 적절한 저장 메모리를 포함하지만, 이에 제한되지 않는다.

또한, 본원에서 사용되는 "프로세서" 또는 "물리적 프로세서"라는 용어는 일반적으로, 컴퓨터 판독 가능 명령을 해석 및/또는 실행할 수 있는 임의의 유형 또는 형태의 하드웨어 구현 처리 유닛을 지칭한다. 일 예에서, 물리적 프로세서는 상기한 메모리 디바이스에 저장된 하나 이상의 모듈을 액세스 및/또는 수정할 수 있다. 물리적 프로세서의 예는 마이크로프로세서, 마이크로컨트롤러, 중앙 처리 장치(CPU), 소프트코어 프로세서를 구현하는 FPGA(Field-Progra㎜able Gate Arrays), ASIC(Application-Specific Integrated Circuits), 이들 중 하나 이상의 일부, 이들 중 하나 이상의 변형 또는 조합, 또는 임의의 다른 적절한 물리적 프로세서를 포함하지만, 이에 제한되지 않는다. 프로세서는 분산 프로세서 시스템, 예컨대 병렬 구동 프로세서, 또는 서버와 같은 원격 프로세서 및 이들의 조합을 포함할 수 있다.

별도의 요소로서 도시되어 있지만, 본원에 설명 및/또는 도시된 방법 단계는 단일 애플리케이션의 일부를 나타낼 수 있다. 또한, 일부 실시예에서, 이러한 단계 중 하나 이상은, 컴퓨팅 디바이스에 의해 실행되면, 컴퓨팅 디바이스가 방법 단계와 같은 하나 이상의 작업을 수행하도록 할 수 있는 하나 이상의 소프트웨어 애플리케이션 또는 프로그램을 나타내거나 이에 대응할 수 있다.

또한, 본원에 설명된 디바이스 중 하나 이상은 데이터, 물리적 디바이스 및/또는 물리적 디바이스의 표현을 한 형태에서 다른 형태로 변환할 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 본원에서 언급된 하나 이상의 모듈은 컴퓨팅 디바이스 상에서 실행하고, 컴퓨팅 디바이스 상에 데이터를 저장하고, 및/또는 그렇지 않으면 컴퓨팅 디바이스와 상호작용함으로써, 프로세서, 휘발성 메모리, 비휘발성 메모리, 및/또는 물리적 컴퓨팅 디바이스의 임의의 다른 부분을 한 형태의 컴퓨팅 디바이스로부터 다른 형태의 컴퓨팅 디바이스로 변환할 수 있다.

본원에 사용된 용어 "컴퓨터 판독 가능 매체"는 일반적으로, 컴퓨터 판독 가능 명령을 저장하거나 전달할 수 있는 임의의 형태의 장치, 캐리어 또는 매체를 지칭한다. 컴퓨터 판독 가능 매체의 예는 반송파와 같은 전송 유형 매체 및 자기 저장 매체(예: 하드 디스크 드라이브, 테이프 드라이브 및 플로피 디스크)와 같은 비일시적 유형 매체, 광학 저장 매체(예: 컴팩트 디스크(CD), 디지털 비디오 디스크(DVD) 및 BLU-RAY 디스크), 전자 저장 매체(예: 솔리드 스테이트 드라이브 및 플래시 매체) 및 기타 배포 시스템을 포함하지만 이에 제한되지 않는다.

당업자는 본원에 개시된 임의의 프로세스 또는 방법이 다양한 방식으로 수정될 수 있음을 인식할 것이다. 본원에 설명 및/또는 도시된 단계의 공정 파라미터 및 순서는 단지 예로서 제공된 것이며, 원하는 대로 변경될 수 있다. 예를 들어, 본원에 예시 및/또는 설명된 단계가 특정 순서로 도시되거나 논의될 수 있지만, 이들 단계가 반드시 도시되거나 논의된 순서로 수행될 필요는 없다.

본원에 설명 및/또는 도시된 다양한 예시적인 방법은 또한 본원에 설명되거나 도시된 단계 중 하나 이상을 생략하거나 개시된 것에 추가하여 추가 단계를 포함할 수 있다. 또한, 본원에 개시된 것과 같은 임의의 방법의 단계는 본원에 개시된 것과 같은 임의의 다른 방법의 임의의 하나 이상의 단계와 조합될 수 있다.

본원에 설명된 것과 같은 프로세서는 본원에 설명된 임의의 방법의 하나 이상의 단계를 수행하도록 구성될 수 있다. 대안적으로 또는 조합하여, 프로세서는 본원에 개시된 것과 같은 하나 이상의 방법의 하나 이상의 단계를 조합하도록 구성될 수 있다.

달리 명시되지 않는 한, 명세서 및 청구범위에 사용된 바와 같은 용어 "연결된" 및 "커플링된"(및 이들의 파생어)은 직접 및 간접(즉, 다른 요소 또는 구성요소를 통해) 연결을 모두 허용하는 것으로 해석되어야 한다. 또한, 명세서 및 특허청구범위에서 사용된 바와 같은 부정관사는 "~ 중 적어도 하나"를 의미하는 것으로 해석되어야 한다. 마지막으로, 사용의 편의를 위해, 명세서 및 청구범위에 사용된 바와 같은 용어 "구비하는" 및 "갖는"(및 그 파생어)은 "포함하는"이라는 단어와 상호 교환 가능하고 동일한 의미를 갖는다.

본원에 개시된 바와 같은 프로세서는 본원에 개시된 바와 같은 임의의 방법의 임의의 하나 이상의 단계를 수행하기 위한 명령으로 구성될 수 있다.

용어 "제1", "제2", "제3" 등은 이벤트의 특정 순서 또는 순차를 지칭하지 않으면서 다양한 층, 요소, 구성요소, 영역 또는 섹션을 설명하기 위해 본원에서 사용될 수 있음을 이해할 것이다. 이러한 용어는 단지 하나의 층, 요소, 구성요소, 영역 또는 섹션을 다른 층, 요소, 구성요소, 영역 또는 섹션과 구별하는 데 사용된다. 본원에 기재된 바와 같은 제1 층, 요소, 구성요소, 영역 또는 섹션은 본 개시의 교시를 벗어나지 않으면서 제2 층, 요소, 구성요소, 영역 또는 섹션으로서 지칭될 수 있다.

본원에 사용된 바와 같이, 용어 "또는"은 대안 및 조합으로 항을 지칭하기 위해 포괄적으로 사용된다.

본원에 사용된 바와 같이, 숫자와 같은 문자는 유사한 요소를 지칭한다.

본 개시는 다음의 번호가 매겨진 항을 포함한다.

항 1. 눈의 망막 자극으로 눈의 난시를 치료하는 장치로서, 안구의 망막에 자극을 제공하도록 구성된 광원을 포함하고, 상기 자극은 눈의 난시축에 대해 정렬되어 눈의 난시를 치료하도록 구성되는 것인, 장치.

항 2. 항 1에 있어서, 상기 자극은 상기 난시축의 제1 측 상의 제1 광 자극 및 상기 난시축의 제2 측 상의 제2 광 자극을 포함하는 것인, 장치.

항 3. 항 2에 있어서, 상기 제1 자극은 상기 난시축으로부터 제1 거리에서 제1 강도 및 제1 지속 기간을 포함하고, 상기 제2 측 상의 제2 자극은 상기 난시축으로부터 제2 거리에서 제2 강도 및 제2 지속 기간을 포함하고, 상기 제2 강도 또는 상기 제2 지속 기간 중 하나 이상은 상기 제1 강도 또는 상기 제1 방향 중 하나 이상과 상이하여, 상기 제1 거리가 상기 제2 거리와 상이한 것을 보상하는 것인 장치.

항 4. 항 2에 있어서, 상기 눈은 제2 난시축을 포함하고, 상기 제1 광 자극 및 제2 광 자극은 상기 제1 축을 따라 난시를 감소시키기 위해 상기 제2 난시축을 따라 망막을 조명하도록 배치되는 것인, 장치.

항 5. 항 1에 있어서, 상기 광원은 상기 난시축의 제1 측 상의 제1 광 자극 및 상기 난시축의 제2 측 상의 제2 광 자극으로 상기 망막을 조명하도록 구성되는 것인, 장치.

항 6. 항 5에 있어서, 상기 광원은 상기 제1 자극 및 제2 자극으로 황반의 조명을 억제하도록 구성되는 것인, 장치.

항 7. 항 1에 있어서, 상기 광원은 황반 외부의 주변 망막의 제1 영역 및 상기 황반 외부의 주변 망막의 제2 영역에 광을 제공하도록 배치되고, 상기 제2 영역은 상기 제1 영역과 반대쪽에 있고 상기 망막의 황반이 상기 제1 영역과 제2 영역 사이에 위치된 것인, 장치.

항 8. 항 7에 있어서, 상기 망막은 상기 황반의 제1 측 상의 상기 제1 영역과 제2 영역 사이의 제3 영역 및 상기 황반의 제2 측 상의 상기 제1 영역과 제2 영역 사이의 제4 영역을 포함하고, 상기 광원은 상기 제3 영역 및 제4 영역에보다 상기 제1 영역 및 제2 영역에 더 많은 양의 광을 제공하도록 구성되는 것인, 장치.

항 9. 항 8에 있어서, 상기 4개의 영역 각각은 상기 망막의 사분면을 포함하고, 상기 제1 영역은 제1 사분면에 대응하고, 상기 제2 영역은 제2 사분면에 대응하고, 상기 제3 영역은 제3 사분면에 대응하고, 상기 제4 영역은 제4 사분면에 대응하는 것인, 장치.

항 10. 항 1에 있어서, 눈이 물체를 보기 위한 광학 구역을 포함하는 렌즈; 및 상기 광학 구역 주위에 배치되어 상기 눈의 중심와 또는 황반 중 하나 이상의 외부의 복수의 위치에서 상기 눈의 망막 전방에 복수의 이미지를 투사하고, 상기 눈의 난시 경선에 대해 배치된 복수의 광학계를 더 포함하는 장치.

항 11. 항 10에 있어서, 상기 복수의 광학계에 커플링된 프로세서를 더 포함하고, 상기 프로세서는 광을 상기 복수의 위치에 투사하기 위한 명령으로 구성되는 것인, 장치.

항 12. 항 11에 있어서, 상기 복수의 광학계는 제1 복수의 광학계로 난시를 치료하고 제2 복수의 광학계 및 상기 제1 복수의 광학계로 근시 및 난시를 치료하도록 배치되고, 상기 프로세서는 난시를 치료하기 위해 제1 복수의 광학계를 조명하고 근시를 치료하기 위해 제1 복수의 광학계 및 제2 복수의 광학계를 조명하기 위한 명령으로 구성되는 것인, 장치.

항 13. 항 12에 있어서, 상기 제1 복수의 광학계는 각막의 가파른 경선에 대응하는 난시를 치료하는 광량을 전달하도록 구성되고, 상기 제2 복수의 광학계는 각막의 가파른 경선으로부터 90도에 위치한 각막의 더 편평한 경선에 대응하는 근시를 치료하도록 구성되는 것인, 장치.

항 14. 항 13에 있어서, 상기 제1 복수의 광학계는 상기 제2 복수의 광학계보다 각막의 더 가파른 영역을 통과하도록 구성되는 것인, 장치.

항 15. 항 13에 있어서, 상기 제1 복수의 광학계는 상기 제2 복수의 광학계보다 각막의 더 편평한 영역을 통과하도록 구성되는 것인, 장치.

항 16. 항 14에 있어서, 상기 제1 복수의 광학계 및 제2 복수의 광학계 각각은 상기 렌즈의 광축을 가로질러 광을 투과시켜 상기 광축의 반대측 상의 망막 전방에 이미지를 투사하도록 구성되는 것인, 장치.

항 17. 항 12에 있어서, 상기 프로세서는 근시 및 난시를 순차적으로 치료하도록 구성되는 것인, 장치.

항 18. 항 12에 있어서, 상기 프로세서는 상기 제1 복수의 광학계 및 제2 복수의 광학계 각각을 선택적으로 조명하기 위한 명령으로 구성되는 것인, 장치.

항 19. 항 12에 있어서, 상기 프로세서는 상기 눈의 난시 경선과 관련하여 상기 제2 복수의 광학계를 선택적으로 조명하기 위한 명령으로 프로그래밍 가능하고, 상기 렌즈는 상기 눈 앞에 배치될 때 안정화되는 것인, 장치.

항 20. 항 10에 있어서, 상기 난시 경선은 각막의 더 평평한 경선의 곡률보다 더 가파른 곡률을 갖는 각막의 경선에 대응하고, 상기 복수의 광학계는 더 가파른 경선에 대응하는 공막의 위치에서 공막 성장을 감소시켜 눈의 난시를 감소시키도록 구성되는 것인, 장치.

항 21. 항 20에 있어서, 상기 각막의 가파른 경선은 상기 망막을 따른 라인에 대응하고, 상기 라인은 상기 복수의 위치를 통과하여 연장되는 것인, 장치.

항 22. 항 21에 있어서, 상기 복수의 광학계는 상기 가파른 경선에 대응하는 위치로부터 떨어진 위치에서 공막의 성장과 관련하여 상기 가파른 경선에 대응하는 위치에서 공막의 성장을 감소시키도록 구성되는 것인, 장치.

항 23. 항 20에 있어서, 상기 각막의 더 평평한 경선은 상기 망막을 따른 라인에 대응하고, 상기 라인은 상기 복수의 위치를 통과하여 연장되는 것인, 장치.

항 24. 항 23에 있어서, 상기 복수의 광학계는 상기 더 평평한 경선에 대응하는 위치로부터 떨어진 위치에서 공막의 성장과 관련하여 상기 더 평평한 경선에 대응하는 위치에서 공막의 성장을 감소시키도록 구성되는 것인, 장치.

항 25. 항 10에 있어서, 상기 난시 경선은 각막의 더 평평한 경선의 곡률보다 더 가파른 곡률을 갖는 각막의 경선에 대응하고, 상기 복수의 광학계는 더 가파른 경선에 대응하는 공막의 위치에서 공막 성장을 감소시켜 눈의 난시를 감소시키도록 구성되는 것인, 장치.

항 26. 항 10에 있어서, 상기 복수의 광학계는 상기 난시를 치료하기 위해 눈의 안축장 또는 맥락막 두께 중 하나 이상의 변화를 촉진하도록 구성되는 것인, 장치.

항 27. 항 10에 있어서, 상기 복수의 광학계는 상기 렌즈의 광축을 가로질러 광을 투과시켜 상기 광축의 반대측 상의 망막 전방에 이미지를 투사하도록 구성되는 것인, 장치.

항 28. 항 10에 있어서, 상기 눈의 난시 경선은 상기 눈의 각막의 가파른 경선을 포함하고, 상기 망막의 복수의 위치는 상기 가파른 경선에 대응하는 것인, 장치.

항 29. 항 28에 있어서, 상기 렌즈의 광축은 물체로부터 광학 구역을 통과하여 눈의 중심와까지 연장되고, 상기 복수의 광학계로부터의 광은 상기 광축을 가로질러 상기 복수의 위치까지 연장되는 것인, 장치.

항 30. 항 29에 있어서, 상기 복수의 광학계 각각으로부터의 광은 상기 망막 상의 대응하는 위치까지 연장되고 상기 광축을 가로지르는 것인, 장치.

항 31. 항 10에 있어서, 상기 렌즈는 상기 눈을 따라 아래 위 방향으로 렌즈를 배향시키는 안정화를 포함하고, 상기 복수의 광학계는 상기 아래 위 방향으로 눈에서 안정화된 렌즈로 상기 난시 경선에 대해 빛을 지향시키도록 배치되는 것인, 장치.

항 32. 항 31에 있어서, 상기 렌즈는 콘택트 렌즈를 포함하고, 상기 콘택트 렌즈는 콘택트 렌즈 안정화를 포함하는 것인, 장치.

항 33. 항 31에 있어서, 상기 렌즈는 안경 렌즈를 포함하고, 상기 안경 렌즈는 안경테로 지지되는 것인, 장치.

항 34. 항 10에 있어서, 상기 복수의 광학계 각각은 난시를 치료하기 위해 대응하는 망막 위치의 전방 또는 후방 위치에서 이미지를 투사하도록 구성되는 것인, 장치.

항 35. 항 10에 있어서, 상기 복수의 광학계 각각은 대응하는 망막 위치에서 망막 전방에 이미지를 투사하도록 구성되는 것인, 장치.

항 36. 항 35에 있어서, 상기 렌즈는 안경 렌즈를 포함하고, 상기 복수의 광학계는 상기 망막 전방의 이미지 형성 위치에 대한 난시의 영향을 감소시키도록 조정된 것인, 장치.

항 37. 항 10에 있어서, 상기 렌즈는 안경 렌즈를 포함하고, 눈 위치 센서가 눈의 움직임에 응답하여 망막 상의 복수의 위치의 움직임을 감소시키도록 복수의 광학계를 조정하도록 구성되는 것인, 장치.

항 38. 항목 10에 있어서, 상기 렌즈는 플라노 렌즈, 구면 교정 렌즈, 난시 교정 렌즈 또는 프리즘 교정 렌즈 중 하나 이상을 포함하는 것인, 장치.

항 39. 눈의 난시를 치료하는 방법으로서, 눈의 난시를 치료하기 위해 눈의 난시축에 대해 정렬된 자극을 눈의 망막에 제공하는 단계를 포함하는 방법.

항 40. 항 39에 있어서, 상기 자극은 상기 난시축의 제1 측 상의 제1 광 자극 및 상기 난시축의 제2 측 상의 제2 광 자극을 포함하는 것인, 방법.

항 41. 항 40에 있어서, 상기 제1 자극은 상기 난시축으로부터 제1 거리에서 제1 강도 및 제1 지속 기간을 포함하고, 상기 제2 측 상의 제2 자극은 상기 난시축으로부터 제2 거리에서 제2 강도 및 제2 지속 기간을 포함하고, 상기 제2 강도 또는 상기 제2 지속 기간 중 하나 이상은 상기 제1 강도 또는 상기 제1 지속 기간 중 하나 이상과 상이하여, 상기 제1 거리가 상기 제2 거리와 상이한 것을 보상하는 것인, 방법.

항 42. 항 40에 있어서, 상기 눈은 제2 난시축을 포함하고, 상기 제1 광 자극 및 제2 광 자극은 상기 제1 축을 따라 난시를 감소시키기 위해 상기 제2 난시축을 따라 배치되는 것인, 방법.

항 43. 항 39에 있어서, 상기 자극은 상기 제1 자극 및 제2 자극으로 황반의 조명을 억제하도록 구성되는 것인, 방법.

항 44. 항 39에 있어서, 상기 자극은 황반 외부의 주변 망막의 제1 영역 및 상기 황반 외부의 주변 망막의 제2 영역에 광을 제공하도록 배치되고, 상기 제2 영역은 상기 제1 영역과 반대쪽에 있고 상기 망막의 황반이 상기 제1 영역과 제2 영역 사이에 위치된 것인, 방법.

항 45. 항 44에 있어서, 상기 망막은 상기 황반의 제1 측 상의 상기 제1 영역과 제2 영역 사이의 제3 영역 및 상기 황반의 제2 측 상의 상기 제1 영역과 제2 영역 사이의 제4 영역을 포함하고, 상기 자극은 상기 제3 영역 및 제4 영역에보다 상기 제1 영역 및 제2 영역에 더 많은 양의 광을 제공하는 것인, 방법.

항 46. 항 45에 있어서, 상기 4개의 영역 각각은 상기 망막의 사분면을 포함하고, 상기 제1 영역은 제1 사분면에 대응하고, 상기 제2 영역은 제2 사분면에 대응하고, 상기 제3 영역은 제3 사분면에 대응하고, 상기 제4 영역은 제4 사분면에 대응하는 것인, 방법.

항 47. 선행 항 중 어느 하나의 방법 또는 장치로서, 상기 난시축은 플러스 원주 표기를 갖는 원주 축에 대응하는 것인, 방법 또는 장치.

항 48. 선행 항 중 어느 하나의 방법 또는 장치로서, 상기 난시축은 마이너스 원주 표기를 갖는 원주 축에 대응하는 것인, 방법 또는 장치.

본 개시의 실시예는 본원에 기재된 바와 같이 도시되고 설명되었으며, 단지 예로서 제공된다. 당업자는 본 개시의 범위를 벗어나지 않으면서 다양한 적합화, 변경, 변형 및 대체를 인식할 것이다. 본원에 개시된 실시예의 여러 대안 및 조합이 본 개시 및 본원에 개시된 발명의 범위를 벗어나지 않으면서 이용될 수 있다. 따라서, 현재 개시된 발명의 범위는 첨부된 청구범위 및 그 균등물의 범위에 의해서만 한정된다.

Claims

눈의 망막 자극으로 눈의 난시를 치료하는 장치로서,
안구의 망막에 자극을 제공하도록 구성된 광원
을 포함하고, 상기 자극은 눈의 난시축에 대해 정렬되어 눈의 난시를 치료하도록 구성되어 있는 것인 장치.
제1항에 있어서, 상기 자극은 상기 난시축의 제1 측 상의 제1 광 자극 및 상기 난시축의 제2 측 상의 제2 광 자극을 포함하는 것인 장치.
제2항에 있어서, 상기 제1 자극은 상기 난시축으로부터 제1 거리에서 제1 강도 및 제1 지속 기간을 포함하고, 상기 제2 측 상의 제2 자극은 상기 난시축으로부터 제2 거리에서 제2 강도 및 제2 지속 기간을 포함하고, 상기 제2 강도 또는 상기 제2 지속 기간 중 하나 이상은 상기 제1 강도 또는 상기 제1 지속 기간 중 하나 이상과 상이하여, 상기 제2 거리와 상이한 상기 제1 차이를 보상하는 것인 장치.
제2항에 있어서, 상기 눈은 제2 난시축을 포함하고, 상기 제1 광 자극 및 제2 광 자극은 상기 제1 축을 따라 난시를 감소시키기 위해 상기 제2 난시축을 따라 망막을 조명하도록 배치되는 것인 장치.
제1항에 있어서, 상기 광원은 상기 난시축의 제1 측 상의 제1 광 자극 및 상기 난시축의 제2 측 상의 제2 광 자극으로 상기 망막을 조명하도록 구성되는 것인 장치.
제5항에 있어서, 상기 광원은 상기 제1 자극 및 제2 자극으로 황반의 조명을 억제하도록 구성되는 것인 장치.
제1항에 있어서, 상기 광원은 황반 외부의 주변 망막의 제1 영역 및 상기 황반 외부의 주변 망막의 제2 영역에 광을 제공하도록 배치되고, 상기 제2 영역은 상기 제1 영역과 반대쪽에 있고 상기 망막의 황반이 상기 제1 영역과 제2 영역 사이에 위치된 것인 장치.
제7항에 있어서, 상기 망막은 상기 황반의 제1 측 상의 상기 제1 영역과 제2 영역 사이의 제3 영역 및 상기 황반의 제2 측 상의 상기 제1 영역과 제2 영역 사이의 제4 영역을 포함하고, 상기 광원은 상기 제3 영역 및 제4 영역에보다 상기 제1 영역 및 제2 영역에 더 많은 양의 광을 제공하도록 구성되는 것인 장치.
제8항에 있어서, 상기 4개의 영역 각각은 상기 망막의 사분면을 포함하고, 상기 제1 영역은 제1 사분면에 대응하고, 상기 제2 영역은 제2 사분면에 대응하고, 상기 제3 영역은 제3 사분면에 대응하고, 상기 제4 영역은 제4 사분면에 대응하는 것인 장치.
제1항에 있어서, 눈이 물체를 보기 위한 광학 구역을 포함하는 렌즈; 및
상기 광학 구역 주위에 배치되어 상기 눈의 중심와 또는 황반 중 하나 이상의 외부의 복수의 위치에서 상기 눈의 망막 전방에 복수의 이미지를 투사하는 복수의 광학계
를 더 포함하고, 상기 복수의 광학계는 눈의 난시 경선에 대해 배치된 것인 장치.
제10항에 있어서, 상기 복수의 광학계에 커플링된 프로세서를 더 포함하고, 상기 프로세서는 광을 상기 복수의 위치에 투사하기 위한 명령으로 구성되는 것인 장치.
제11항에 있어서, 상기 복수의 광학계는 제1 복수의 광학계로 난시를 치료하고 제2 복수의 광학계 및 상기 제1 복수의 광학계로 근시 및 난시를 치료하도록 배치되고, 상기 프로세서는 난시를 치료하기 위해 제1 복수의 광학계를 조명하고 근시를 치료하기 위해 제1 복수의 광학계 및 제2 복수의 광학계를 조명하기 위한 명령으로 구성되는 것인 장치.
제12항에 있어서, 상기 제1 복수의 광학계는 각막의 가파른 경선에 대응하는 난시를 치료하는 광량을 전달하도록 구성되고, 상기 제2 복수의 광학계는 각막의 가파른 경선으로부터 90도에 위치한 각막의 더 편평한 경선에 대응하는 근시를 치료하도록 구성되는 것인 장치.
제13항에 있어서, 상기 제1 복수의 광학계는 상기 제2 복수의 광학계보다 각막의 더 가파른 영역을 통과하도록 구성되는 것인 장치.
제13항에 있어서, 상기 제1 복수의 광학계는 상기 제2 복수의 광학계보다 각막의 더 편평한 영역을 통과하도록 구성되는 것인 장치.
제14항에 있어서, 상기 제1 복수의 광학계 및 제2 복수의 광학계 각각은 상기 렌즈의 광축을 가로질러 광을 투과시켜 상기 광축의 반대측 상의 망막 전방에 이미지를 투사하도록 구성되는 것인 장치.
제12항에 있어서, 상기 프로세서는 근시 및 난시를 순차적으로 치료하도록 구성되는 것인 장치.
제12항에 있어서, 상기 프로세서는 상기 제1 복수의 광학계 및 제2 복수의 광학계 각각을 선택적으로 조명하기 위한 명령으로 구성되는 것인 장치.
제12항에 있어서, 상기 프로세서는 상기 눈의 난시 경선과 관련하여 상기 제2 복수의 광학계를 선택적으로 조명하기 위한 명령으로 프로그래밍 가능하고, 상기 렌즈는 눈 앞에 배치될 때 안정화되는 것인 장치.
제10항에 있어서, 상기 난시 경선은 각막의 더 평평한 경선의 곡률보다 더 가파른 곡률을 갖는 각막의 경선에 대응하고, 상기 복수의 광학계는 더 가파른 경선에 대응하는 공막의 위치에서 공막 성장을 감소시켜 눈의 난시를 감소시키도록 구성되는 것인 장치.
제20항에 있어서, 상기 각막의 가파른 경선이 상기 망막을 따른 라인에 대응하고, 상기 라인은 상기 복수의 위치를 통과하여 연장되는 것인 장치.
제21항에 있어서, 상기 복수의 광학계는 상기 가파른 경선에 대응하는 위치로부터 떨어진 위치에서의 공막의 성장과 관련하여 상기 가파른 경선에 대응하는 위치에서의 공막의 성장을 감소시키도록 구성되는 것인 장치.
제20항에 있어서, 상기 각막의 더 평평한 경선은 상기 망막을 따른 라인에 대응하고, 상기 라인은 상기 복수의 위치를 통과하여 연장되는 것인 장치.
제23항에 있어서, 상기 복수의 광학계는 상기 더 평평한 경선에 대응하는 위치로부터 떨어진 위치에서의 공막의 성장과 관련하여 상기 더 평평한 경선에 대응하는 위치에서의 공막의 성장을 감소시키도록 구성되는 것인 장치.
제10항에 있어서, 상기 난시 경선은 각막의 더 평평한 경선의 곡률보다 더 가파른 곡률을 갖는 각막의 경선에 대응하고, 상기 복수의 광학계는 더 가파른 경선에 대응하는 공막의 위치에서의 공막 성장을 감소시켜 눈의 난시를 감소시키도록 구성되는 것인 장치.
제10항에 있어서, 상기 복수의 광학계는 상기 난시를 치료하기 위해 눈의 안축장 또는 맥락막 두께 중 하나 이상의 변화를 촉진하도록 구성되는 것인 장치.
제10항에 있어서, 상기 복수의 광학계는 상기 렌즈의 광축을 가로질러 광을 투과시켜 상기 광축의 반대측 상의 망막 전방에 이미지를 투사하도록 구성되는 것인 장치.
제10항에 있어서, 상기 눈의 난시 경선은 상기 눈의 각막의 가파른 경선을 포함하고, 상기 망막의 복수의 위치는 상기 가파른 경선에 대응하는 것인 장치.
제28항에 있어서, 상기 렌즈의 광축은 물체로부터 광학 구역을 통과하여 눈의 중심와까지 연장되고, 상기 복수의 광학계로부터의 광은 상기 광축을 가로질러 상기 복수의 위치까지 연장되는 것인 장치.
제29항에 있어서, 상기 복수의 광학계 각각으로부터의 광은 상기 망막 상의 대응하는 위치까지 연장되고 상기 광축을 가로지르는 것인 장치.
제10항에 있어서, 상기 렌즈는 상기 눈을 따라 아래 위 방향으로 렌즈를 배향시키는 안정화를 포함하고, 상기 복수의 광학계는 상기 아래 위 방향으로 눈에서 안정화된 렌즈로 상기 난시 경선에 대해 빛을 지향시키도록 배치되는 것인 장치.
제31항에 있어서, 상기 렌즈는 콘택트 렌즈를 포함하고, 상기 콘택트 렌즈는 콘택트 렌즈 안정화를 포함하는 것인 장치.
제31항에 있어서, 상기 렌즈는 안경 렌즈를 포함하고, 상기 안경 렌즈는 안경테로 지지되는 것인 장치.
제10항에 있어서, 상기 복수의 광학계 각각은 난시를 치료하기 위해 대응하는 망막 위치의 전방 또는 후방 위치에서 이미지를 투사하도록 구성되는 것인 장치.
제10항에 있어서, 상기 복수의 광학계 각각은 대응하는 망막 위치에서 망막 전방에 이미지를 투사하도록 구성되는 것인 장치.
제35항에 있어서, 상기 렌즈는 안경 렌즈를 포함하고, 상기 복수의 광학계는 상기 망막 전방의 이미지 형성 위치에 대한 난시의 영향을 감소시키도록 조정된 것인 장치.
제10항에 있어서, 상기 렌즈는 안경 렌즈를 포함하고, 눈 위치 센서가 눈의 움직임에 응답하여 망막 상의 복수의 위치의 움직임을 감소시키도록 복수의 광학계를 조정하도록 구성되는 것인 장치.
제10항에 있어서, 상기 렌즈는 플라노 렌즈, 구면 교정 렌즈, 난시 교정 렌즈 또는 프리즘 교정 렌즈 중 하나 이상을 포함하는 것인 장치.
눈을 치료하는 방법으로서,
눈의 망막에 자극을 제공하는 단계
를 포함하고, 상기 자극은 눈의 난시를 치료하기 위해 눈의 난시축에 대해 정렬된 것인 방법.
제39항에 있어서, 상기 자극은 상기 난시축의 제1 측 상의 제1 광 자극 및 상기 난시축의 제2 측 상의 제2 광 자극을 포함하는 것인 방법.
제40항에 있어서, 상기 제1 자극은 상기 난시축으로부터 제1 거리에서 제1 강도 및 제1 지속 기간을 포함하고, 상기 제2 측 상의 제2 자극은 상기 난시축으로부터 제2 거리에서 제2 강도 및 제2 지속 기간을 포함하고, 상기 제2 강도 또는 상기 제2 지속 기간 중 하나 이상은 상기 제1 강도 또는 상기 제1 지속 기간 중 하나 이상과 상이하여, 상기 제1 거리가 상기 제2 거리와 상이한 것을 보상하는 것인 방법.
제40항에 있어서, 상기 눈은 제2 난시축을 포함하고, 상기 제1 광 자극 및 제2 광 자극은 상기 제1 축을 따라 난시를 감소시키기 위해 상기 제2 난시축을 따라 배치되는 것인 방법.
제39항에 있어서, 상기 자극은 상기 제1 자극 및 제2 자극으로 황반의 조명을 억제하도록 구성되는 것인 방법.
제39항에 있어서, 상기 자극은 황반 외부의 주변 망막의 제1 영역 및 상기 황반 외부의 주변 망막의 제2 영역에 광을 제공하도록 배치되고, 상기 제2 영역은 상기 제1 영역과 반대쪽에 있고 상기 망막의 황반이 상기 제1 영역과 제2 영역 사이에 위치된 것인 방법.
제44항에 있어서, 상기 망막은 상기 황반의 제1 측 상의 상기 제1 영역과 제2 영역 사이의 제3 영역 및 상기 황반의 제2 측 상의 상기 제1 영역과 제2 영역 사이의 제4 영역을 포함하고, 상기 자극은 상기 제3 영역 및 제4 영역에보다 상기 제1 영역 및 제2 영역에 더 많은 양의 광을 제공하는 것인 방법.
제45항에 있어서, 상기 4개의 영역 각각은 상기 망막의 사분면을 포함하고, 상기 제1 영역은 제1 사분면에 대응하고, 상기 제2 영역은 제2 사분면에 대응하고, 상기 제3 영역은 제3 사분면에 대응하고, 상기 제4 영역은 제4 사분면에 대응하는 것인 방법.
제1항 내지 제46항 중 어느 한 항에 따른 방법 또는 장치로서, 상기 난시축은 플러스 원주 표기를 갖는 원주 축에 대응하는 것인 방법 또는 장치.
제1항 내지 제47항 중 어느 한 항에 따른 방법 또는 장치로서, 상기 난시축은 마이너스 원주 표기를 갖는 원주 축에 대응하는 것인 방법 또는 장치.