KR20220041679A - 광학 적층체 및 이를 포함하는 광학표시장치 - Google Patents
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Abstract
편광자 및 상기 편광자의 광 입사면에 적층된 제1 보호층 및 위상차층을 포함하는 광학 적층체로서, 상기 위상차층은 적어도 포지티브 C 층을 포함하고, 상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 광탄성 계수가 2 x 10-13 cm2/dyne 이하이고, 상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 상기 광학 적층체 중 상기 편광자의 흡수축 방향에서 측정된 모듈러스가 2000MPa 내지 4000MPa인 것인, 광학 적층체 및 이를 포함하는 광학표시장치가 제공된다.
Description
본 발명은 광학 적층체 및 이를 포함하는 광학표시장치에 관한 것이다.
액정표시장치의 하나로서 IPS(in plane switching) 모드의 액정표시장치가 있다. IPS 모드의 액정표시장치는 전계가 존재하지 않는 상태에서 호모지니어스(homogeneous) 배향시킨 네마틱 액정을 횡전계에 의해 구동시켜 화상을 표시하는 것이다. IPS 모드의 액정표시장치는 다른 구동 모드의 액정표시 장치에 비해 시야각이 넓다는 장점이 있다.
IPS 모드의 액정표시장치는 액정의 기울어짐으로 인하여 대각에서의 명암비가 낮아진다는 문제점이 있다. 이에, IPS 모드의 액정표시장치는 포지티브 C 층을 시인측 편광판에 포함시켜 대각에서의 명암비를 개선하는 방법이 고려되고 있다. 한편, 시인측 편광판을 액정 패널에 조립하는 과정은 시인측 편광판을 액정 패널의 광 출사면에 점착시킨 다음 시인측 편광판의 상부면에서 응력을 가하여 합지하는 과정을 포함한다. 이 과정에서 무라가 발생하여 광학표시장치의 화면 품질을 저하시킬 수 있다.
본 발명의 배경기술은 일본공개특허 제2006-251659호 등에 개시되어 있다.
본 발명의 목적은 광학표시장치의 패널에 적용시 대각에서의 명암비를 개선하고 빛샘을 개선하는 광학 적층체를 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 광학표시장치의 패널에 조립시 적용되는 응력에 의한 무라 발생을 최소화하는 광학 적층체를 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 휨 발생을 최소화하는 광학 적층체를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 관점은 광학 적층체이다.
1.광학 적층체는 편광자 및 상기 편광자의 광 입사면에 적층된 제1 보호층 및 위상차층을 포함하고, 상기 위상차층은 적어도 포지티브 C 층을 포함하고, 상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 광탄성 계수가 2 x 10-13 cm2/dyne 이하이고, 상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 상기 광학 적층체 중 상기 편광자의 흡수축 방향에서 측정된 모듈러스가 2000MPa 내지 4000MPa이다.
2.1에서, 상기 편광자의 광 입사면으로부터 상기 제1보호층, 상기 위상차층이 순차적으로 적층된 것일 수 있다.
3.1-2에서, 상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 하기 식 1의 모듈러스 변화율이 -3% 이상 0% 이하일 수 있다:
[식 1]
모듈러스 변화율 = {(B - A)/A} x 100
(상기 식 1에서, A는 제1보호층과 위상차층의 적층체의 광학 적층체 중 편광자의 흡수축 방향에서의 모듈러스,
B는 제1보호층과 위상차층의 적층체를 105℃에서 1시간 방치한 후 광학 적층체 중 편광자의 흡수축 방향에서의 모듈러스).
4.1-3에서, 상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -200nm 이상 0nm 이하일 수 있다.
5.1-4에서, 상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 파장 550nm에서 면내 위상차가 20nm 이하일 수 있다.
6.1-5에서, 상기 포지티브 C 층은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차 Rth가 -200nm 이상 0nm 이하일 수 있다.
7.1-6에서, 상기 포지티브 C 층은 파장 550nm에서 면내 위상차가 20nm 이하일 수 있다.
8.1-7에서, 상기 포지티브 C 층은 액정층 또는 비액정성 코팅층을 포함할 수 있다.
9.8에서, 상기 비액정성 코팅층은 셀룰로스 에스테르계 화합물 또는 그의 중합체, 방향족계 화합물 또는 이들의 중합체 중 1종 이상을 포함할 수 있다.
10.1-9에서, 상기 제1보호층은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -5nm 이하일 수 있다.
11.1-10에서, 상기 제1보호층은 파장 550nm에서 면내 방향 위상차가 0nm 내지 20nm일 수 있다.
12.1-11에서, 상기 제1보호층은 트리아세틸셀룰로스 수지 또는 아크릴계 수지 필름일 수 있다.
13.1-12에서, 상기 편광자의 흡수축과 상기 제1보호층의 지상축(slow axis)이 이루는 각도는 80° 내지 95°일 수 있다.
14.13에서, 상기 제1보호층의 지상축은 상기 제1보호층의 TD일 수 있다.
15.1-14에서, 상기 편광자의 광 출사면에 적층된 제2보호층을 더 포함할 수 있다.
16.15에서, 상기 제2보호층은 파장 550nm에서 면내 위상차가 5000nm 이상일 수 있다.
17.1-16에서, 상기 편광자의 광 입사면에 적층된 제3보호층을 더 포함할 수 있다.
18.17에서, 상기 제3보호층은 포지티브 A 광학 특성을 가질 수 있다.
19.17에서, 상기 제3보호층은 보호 필름, 보호 코팅층, 액정 패널 중 1종 이상을 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 관점은 광학표시장치이다.
광학표시장치는 본 발명의 광학 적층체를 포함한다.
본 발명은 광학표시장치의 패널에 적용시 대각에서의 명암비를 개선하고 빛샘을 개선하는 광학 적층체를 제공하였다.
본 발명은 패널에 조립시 적용되는 응력에 의한 무라 발생을 최소화하는 광학 적층체를 제공하였다.
본 발명은 휨 발생을 최소화하는 광학 적층체를 제공하였다.
도 1은 본 발명 일 실시예의 광학 적층체의 단면도이다.
도 2는 본 발명 다른 실시예의 광학 적층체의 단면도이다.
도 2는 본 발명 다른 실시예의 광학 적층체의 단면도이다.
첨부한 도면을 참고하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명을 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계 없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 도면에서 각 구성 요소의 길이, 크기는 본 발명을 설명하기 위한 것으로 본 발명이 도면에 기재된 각 구성 요소의 길이, 크기에 제한되는 것은 아니다.
본 명세서에서 "상부"와 "하부"는 도면을 기준으로 정의한 것으로서, 시 관점에 따라 "상부"가 "하부"로 "하부"가 "상부"로 변경될 수 있고, "위(on)" 또는 "상(on)"으로 지칭되는 것은 바로 위뿐만 아니라 중간에 다른 구조를 개재한 경우도 포함할 수 있다. 반면, "직접 위(directly on)", "바로 위" 또는 "직접적으로 형성" 또는 "직접적으로 접하여 형성"으로 지칭되는 것은 중간에 다른 구조를 개재하지 않은 것을 의미한다.
본 명세서에서 "면내 방향 위상차(Re)", "두께 방향 위상차(Rth)", "이축성 정도(NZ)"는 하기 식 A, 식 B, 식 C로 표시된다:
[식 A]
Re = (nx - ny) x d
[식 B]
Rth = ((nx + ny)/2 - nz) x d
[식 C]
NZ = (nx - nz)/(nx - ny)
(상기 식 A, 식 B, 식 C에서, nx, ny, nz는 측정 파장에서 각각 해당 광학 소자의 x축 방향, 광학 소자의 y축 방향, 두께 방향의 굴절률이고, d는 해당 광학 소자의 두께(단위:nm)이다).
본 명세서에서 "광탄성계수"는 25℃ 및 파장 550nm에서 측정된 값일 수 있다.
본 명세서에서 "모듈러스"는 25℃에서의 인장 모듈러스를 의미한다. 인장 모듈러스의 측정 방법은 하기 실험예에서 상세하게 기술되어 있다.
본 명세서에서 "(메트)아크릴"은 아크릴 및/또는 메타아크릴을 의미한다.
본 명세서에서 수치 범위 기재시 "X 내지 Y"는 X 이상 Y 이하를 의미한다.
본 발명의 광학 적층체는 광학표시장치의 패널 특히 IPS 모드의 액정 패널에 적용시 대각에서의 명암비를 개선하고 빛샘을 개선할 수 있다. 본 발명의 광학 적층체는 광학표시장치의 패널에 조립하는 과정에서 상기 패널에 대해 수직 방향으로 응력을 적용하는 경우 무라 발생을 최소화할 수 있으며 고온에서의 휨 발생을 억제할 수 있다. 특히, 본 발명의 광학 적층체는 대면적의 광학표시장치에서도 상술 효과를 구현할 수 있다.
본 발명의 광학 적층체는 편광자 및 상기 편광자의 광 입사면에 적층된 제1 보호층 및 위상차층을 포함하고, 상기 위상차층은 적어도 포지티브 C 층을 포함하고, 상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 광탄성 계수가 2 x 10-13 cm2/dyne 이하이고, 상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 상기 광학 적층체 중 상기 편광자의 흡수축 방향에서 측정된 모듈러스가 2000MPa 내지 4000MPa이다.
이하, 도 1을 참고하여 본 발명 일 실시예의 광학 적층체를 설명한다.
도 1을 참고하면, 광학 적층체는 편광자(10), 제1보호층(20), 위상차층(30), 제2보호층(40)을 포함한다.
편광자(10)의 하부면(편광자의 광 입사면)에는 제1보호층(20), 위상차층(30)이 순차적으로 적층되어 있다. 편광자(10)의 상부면(편광자의 광 출사면)에는 제2보호층(40)이 적층되어 있다.
도 1은 편광자(10)의 하부면(편광자의 광 입사면)에 제1보호층(20), 위상차층(30)이 순차적으로 적층된 경우를 도시하였으나, 편광자의 하부면에 위상차층, 제1보호층이 순차적으로 형성된 경우도 본 발명의 범위에 포함될 수 있다.
도 1에서 도시되지 않았지만 광학 적층체는 광학표시장치의 패널에 적층시 광학표시장치의 패널의 광 출사면에 배치되어 시인측 광학 적층체로 사용될 수 있다.
위상차층(30)
위상차층(30)은 적어도 포지티브 C 층을 포함한다. 이를 통해, 광학 적층체는 광학표시장치의 패널 구체적으로 IPS 모드의 패널에 적용시 대각에서의 명암비를 개선하고 빛샘을 개선할 수 있다.
포지티브 C 층은 nx와 ny가 실질적으로 동일한 양의 1축성으로서 법선 방향의 광학축을 갖는 층을 의미한다. 포지티브 C 층은 굴절률로 나타내면 nz > nx ≒ ny(nx, ny, nz는 각각 포지티브 C 층의 파장 550nm에서의 지상축, 진상축 및 두께 방향의 굴절률)의 관계를 갖는 위상차층이다.
포지티브 C 층은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차 Rth가 -200nm 이상 0nm 이하, 구체적으로 -200nm 이상 0nm 미만, 구체적으로 -180nm 내지 -5nm, 더 구체적으로 -150nm 내지 -50nm, 가장 구체적으로 -90nm 내지 -75nm가 될 수 있다. 상기 범위에서 대각에서의 명암비와 빛샘을 개선할 수 있다.
포지티브 C 층은 파장 550nm에서 면내 위상차 Re가 20nm 이하, 구체적으로 0nm 내지 20nm, 더 구체적으로 0nm 내지 10nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 상기 두께 방향 위상차에 쉽게 도달될 수 있다.
포지티브 C 층은 두께가 0㎛ 초과 20㎛ 이하, 구체적으로 0.001㎛ 내지 20㎛, 구체적으로 0.01㎛ 내지 20㎛, 더 구체적으로 1㎛ 내지 10㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 광학 적층체에 사용될 수 있다.
포지티브 C 층은 상술 광학 특성을 나타내는 한, 그 재료 및 형태에서 특별한 제한을 두지 않는다. 본 발명에서는 광학 적층체의 박형화, 상술 두께 방향 위상차의 구현 등을 위하여, 포지티브 C 층은 투명 지지체 상에 저분자 또는 고분자의 비액정성 화합물 또는 이를 포함하는 조성물을 도포 및 경화시켜 형성된 코팅층이거나 또는 투명 지지체 상에 저분자 또는 고분자의 액정성 화합물을 도포 또는 전사함으로써 형성된 액정층이 될 수 있다. 바람직하게는, 두께 방향 위상차의 구현의 용이함, 본 발명의 포지티브 C 층의 제조 용이성을 위하여, 포지티브 C 층은 비액정성의 코팅층이 될 수 있다.
상기 비액정성 조성물로 형성된 코팅층을 위한 저분자 또는 고분자는 비액정성으로서 상술 두께 방향 위상차를 구현할 수 있다면 특별히 제한되지 않는다.
일 구체예에서, 비액정성 저분자 또는 고분자는 하기 상술되는, 셀룰로스 에스테르계 화합물 또는 그의 중합체, 방향족계 화합물 또는 이들의 중합체 중 1종 이상의 화합물을 함유하는 조성물로 형성될 수 있다. 포지티브 C 층은 하기 상술되는, 셀룰로스 에스테르계 화합물 또는 그의 중합체, 방향족계 화합물 또는 이들의 중합체 중 1종 이상의 화합물을 함유할 수 있다. 하기 상술되는 셀룰로스 에스테르계 화합물 또는 그의 중합체, 방향족계 화합물 또는 이들의 중합체는 본 발명의 포티지브 C 층의 제조에 적합할 수 있다.
셀룰로스 에스테르계 화합물은 셀룰로스 에스테르계 수지, 셀룰로스 에스테르계 올리고머, 셀룰로스 에스테르계 모노머 중 1종 이상을 포함한다.
셀룰로스 에스테르계 화합물은 셀룰로스 상의 하이드록실기와 카복실산 또는 카복실산 무수물의 반응으로부터의 축합 반응 생성물을 포함할 수 있다.
셀룰로스 에스테르계 화합물은 위치 선택적으로 또는 랜덤(random)하게 치환될 수 있다. 위치 선택성은 탄소 13 NMR에 의해 셀룰로스 에스테르 상의 C6, C3, C2에서의 상대적인 치환도를 결정함으로써 측정할 수 있다. 셀룰로스 에스테르는 원하는 치환도 및 중합도를 가진 셀룰로스 에스테르를 제공하기에 충분한 접촉 시간 동안 셀룰로스 용액과 하나 이상의 C1 내지 C20의 아실화제를 접촉시킴으로써 통상적인 방법에 의해 제조될 수 있다.
바람직한 아실화제는 하나 이상의 C1 내지 C20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬 또는 아릴 카르복실산 무수물, 카르복실산 할라이드, 다이케톤, 또는 아세토아세트산 에스테르이다. 카복실산의 무수물의 예는 아세트산 무수물, 프로피온산 무수물, 부티르산 무수물, 이소부티르산 무수물, 발레르산 무수물, 헥사노산 무수물, 2-에틸헥사노산 무수물, 노나노산 무수물, 라우르산 무수물, 팔미트산 무수물, 스테아르산 무수물, 벤조산 무수물, 치환된 벤조산 무수물, 프탈산 무수물, 이소프탈산 무수물을 포함할 수 있다. 카르복실산 할라이드의 예는 아세틸, 프로피오닐, 부티릴, 헥사노일, 2-에틸헥사노일, 라우로일, 팔미토일, 벤조일, 치환된 벤조일, 및 스테아로일 클로라이드를 포함한다. 아세토아세트산 에스테르의 예는 메틸아세토아세테이트, 에틸아세토아세테이트, 프로필아세토아세테이트, 부틸아세토아세테이트, 3급부틸아세토아세테이트를 포함할 수 있다. 가장 바람직한 아실화제는 아세트산 무수물, 프로피온산 무수물, 부티르산 무수물, 2-에틸헥사노산 무수물, 노나논산 무수물, 스테아르산 무수물 등의 C2 내지 C9 직쇄 또는 분지쇄 알킬 카르복실산 무수물이다.
셀룰로스 에스테르계 화합물의 바람직한 예는 셀룰로스 아세테이트(CA), 셀룰로스 아세테이트 프로피오네이트(CAP), 셀룰로스 아세테이트 부티레이트(CAB)를 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
일 구체예에서, 셀룰로스 에스테르계 화합물은 2개의 서로 다른 아실기의 치환기를 가질 수 있다. 상기 아실기 중 적어도 1개 이상은 방향족 치환기를 포함하고, 셀룰로스 에스테르계 화합물은 상대적 치환도(RDS, relative degree of substitution)가 C6>C2>C3이 될 수 있다. C6은 셀룰로스 에스테르 중 탄소 6번에서의 치환도, C2는 셀룰로스 에스테르 중 탄소 2번에서 치환도, C3은 셀룰로스 에스테르 중 탄소 3번에서 치환도를 의미한다. 상기 방향족계 화합물은 벤조에이트, 또는 치환된 벤조에이트를 포함할 수 있다.
다른 구체예에서, 셀룰로스 에스테르계 화합물은 하기 (a), (b)를 갖는 위치 선택적으로(regioselective) 치환된 셀룰로스 에스테르 화합물을 포함하고,
(a)복수 개의 크로모포어-아실 치환기,
(b)복수개의 피발로일 치환기,
상기 셀룰로스 에스테르계 화합물은 약 0.1 내지 약 1.2의 수산기 치환도를 가지고, 상기 셀룰로스 에스테르계 화합물은 약 0.4 내지 약 1.6의 크로모포어 아실 치환도를 가지고, 셀룰로스 에스테르계 화합물 중 탄소 2번에서의 크로모포어 아실 치환도와 탄소 3번에서의 크로모포어 아실 치환도의 총 합과 탄소 6번에서의 크로모포어 아실 치환도의 차이는 약 0.1 내지 약 1.6이고, 상기 크로모포어-아실은 하기 (i), (ii), (iii), (iv)으로부터 선택될 수 있다:
(i)(C6-20)아릴-아실, 이때, 아릴은 비치환되거나 또는 1개 내지 5의 R1으로 치환된 아릴이고,
(ii)헤테로 아릴, 이때 헤테로 아릴은 N, O, S로부터 선택되는 1개 내지 4개의 헤테로 원자를 갖는 5원 내지 10원의 고리이고, 상기 헤테로 아릴은 비치환되거나 또는 1개 내지 5개의 R1으로 치환되고
상기 아릴은 C1-6 아릴,
상기 아릴은 비치환되거나 또는 1개 내지 5개의 R1으로 치환되고,
상기 헤테로아릴은 N, O, S로부터 선택되는 1개 내지 4개의 헤테로원자를 갖는 5원 내지 10원의 고리고, 상기 헤테로아릴은 비치환되거나 또는 1개 내지 5개의 R1으로 치환되고,
상기 각각의 R1은 독립적으로, 니트로, 시아노, (C1-6)알킬, 할로(C1-6)알킬, (C6-20)아릴-CO2-, (C6-20)아릴, (C1-6)알콕시, 할로(C1-6)알콕시, 할로, N,O,S로부터 선택되는 1개 내지 4개의 헤테로원자를 갖는5원 내지 10원의 헤테로아릴, 또는 이다.
일 실시예에서, 상기 크로모포어-아실은 비치환 또는 치환된 벤조일, 비치환 또는 치환된 나프틸일 수 있다.
일 실시예에서, 상기 크로모포어-아실은 하기의 군으로부터 선택될 수 있다.:
이때, *은 셀룰로스 에스테르의 산소에 대한 크로모포어-아실 치환기의 결합 부위를 나타낸다.
또 다른 구체예에서, 셀룰로스 에스테르계 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 바와 같이 셀룰로스를 이루는 당 단량체의 수산기[C2의 수산기, C3의 수산기 또는 C6의 수산기] 중 적어도 일부가 비치환 또는 치환된 아실 단위를 갖는 에스테르 중합체를 포함할 수 있다.
[화학식 1]
(상기 화학식 1에서, n은 1 이상의 정수)
셀룰로스 에스테르계 중합체 또는 아실을 위한 치환기는 각각 할로겐, 니트로, 알킬(예: 탄소수 1 내지 탄소수 20의 알킬기), 알케닐(예: 탄소수 2 내지 20의 알케닐기), 시클로알킬(예: 탄소수 3 내지 탄소수 10의 시클로알킬기), 아릴(예: 탄소수 6 내지 탄소수 20의 아릴기), 헤테로 아릴(예: 탄소수 3 내지 탄소수 10의 아릴기), 알콕시(예: 탄소수 1 내지 탄소수 20의 알콕시기), 아실, 할로겐 함유 작용기 중 1종 이상을 포함할 수 있다. 치환기는 동일하거나 다를 수 있다.
상기 "아실"은 당업자에게 알려진 바와 같이 R-C(=O)-*(*은 연결 부호, R은 탄소수 1 내지 탄소수 20의 알킬기, 탄소수 3 내지 탄소수 20의 시클로알킬, 탄소수 6 내지 탄소수 20의 아릴 또는 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬)이 될 수 있다. 상기 "아실"은 셀룰로스에서 에스테르 결합을 통해(산소 원자를 통해) 셀룰로스의 고리에 결합된다.
상기 "알킬", "알케닐", "시클로알킬", "아릴", "헤테로아릴", "알콕시", "아실"은 각각 편의상 할로겐을 포함하지 않는 비-할로겐계이다. 제2위상차층용 조성물은 상기 셀룰로스 에스테르계 단독 또는 상기 셀룰로스 에스테르계가 혼합되어 포함될 수도 있다.
상기 "할로겐"은 플루오린(F), Cl, Br 또는 I를 의미하고, 바람직하게는 F를 의미한다.
상기 "할로겐 함유 작용기"는 1개 이상의 할로겐을 함유하는 유기 작용기로서, 방향족, 지방족 또는 지환족 작용기를 포함할 수 있다. 예를 들면, 할로겐 함유 작용기는 할로겐 치환된 탄소수 1 내지 탄소수 20의 알킬기, 할로겐 치환된 탄소수 2 내지 탄소수 20의 알케닐기, 할로겐 치환된 탄소수 2 내지 20의 알키닐기, 할로겐 치환된 탄소수 3 내지 탄소수 10의 시클로알킬기, 할로겐 치환된 탄소수 1 내지 탄소수 20 알콕시기, 할로겐 치환된 아실기, 할로겐 치환된 탄소수 6 내지 탄소수 20의 아릴기, 또는 할로겐 치환된 탄소수 7 내지 탄소수 20의 아릴알킬기를 의미할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
상기 "할로겐 치환된 아실기"는 R'-C(=O)-*(*은 연결 부호, R'은 할로겐 치환된 탄소수 1 내지 탄소수 20의 알킬기, 할로겐 치환된 탄소수 3 내지 탄소수 20의 시클로알킬, 할로겐 치환된 탄소수 6 내지 탄소수 20의 아릴 또는 할로겐 치환된 탄소수 7 내지 20의 아릴알킬)이 될 수 있다. 상기 "할로겐 치환된 아실기"는 셀룰로스에서 에스테르 결합을 통해(산소 원자를 통해) 셀룰로스의 고리에 결합된다.
바람직하게는, 조성물은 아실, 할로겐 또는 할로겐 함유 작용기로 치환된 셀룰로스 에스테르계 중합체를 포함할 수 있다. 더 바람직하게는 상기 할로겐은 플루오린이 될 수 있다.
상기 셀룰로스 에스테르계 중합체는 당업자에게 알려진 통상의 방법으로 제조되거나 상업적으로 판매되는 제품을 구입하여 포지티브 C 층 제조에 사용될 수 있다. 예를 들면, 치환기로서 아실을 갖는 셀룰로스 에스테르계 중합체는 상술 화학식 1의 셀룰로스를 이루는 당 단량체 또는 당 단량체의 중합체에 트리플루오로아세트산, 트리플루오로아세트산 무수물을 반응시키거나 또는 트리플루오로아세트산, 트리플루오로아세트산 무수물을 반응시킨 다음 아실화제(예를 들면, 카르복실산의 무수물, 또는 카르복실산)를 추가로 반응시키거나, 또는 트리플루오로아세트산 또는 트리플루오로아세트산 무수물 및 아실화제를 함께 반응시켜 제조될 수 있다.
방향족계 화합물은 페닐기를 포함하며, 폴리스타이렌계 화합물, 플루오로벤젠 혹은 디플루오로스티렌 구조를 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 일 구체예에서, 폴리스타이렌계 화합물은 하기 화학식 2의 모이어티를 포함할 수 있다:
[화학식 2]
R1, R2, R3은 각각 독립적으로 수소 원자, 비치환된 알킬기, 치환된 알킬기, 또는 할로겐이고,
R은 각각 독립적으로 스티렌 고리 상의 치환기이며,
n은 스티렌 고리 상의 치환기 개수를 나타내는 0 내지 5의 정수이다).
스티렌 고리 상의 치환기 R의 예는 알킬, 치환된 알킬, 할로겐, 히드록시, 카르복시, 니트로, 알콕시, 아미노, 술포네이트, 포스페이트, 아실, 아실옥시, 페닐, 알콕시카르보닐, 시아노 등을 포함할 수 있다. 상기 알킬기의 치환기는 상술 치환기 중 1종 이상을 포함할 수 있다.
상기 화학식 2의 모이어티는 할로겐을 함유할 수 있다.
일 구체예에서, R1, R2, R3 중 하나 이상은 수소 또는 할로겐 더 바람직하게는 수소 또는 불소일 수 있다.
위상차층(20)은 포지티브 C 층 이외에 광학적 투명 지지층 등을 추가로 포함할 수 있다.
일 구체예에서, 위상차층(20)은 포지티브 C 층만으로 이루어질 수 있다.
다른 구체예에서, 위상차층(20)은 포지티브 C 층 및 포지티브 C 층의 적어도 일면에 적층된 투명 지지층을 포함할 수 있다. 상기 투명 지지층은 당업자에게 알려진 통상의 광학적 투명성 광학 적층체를 포함할 수 있다. 이때, 위상차층(20)은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -200nm 이상 0nm 이하, 구체적으로 -200nm 이상 0nm 미만, 구체적으로 -180nm 내지 -5nm, 더 구체적으로 -150nm 내지 -50nm, 가장 구체적으로 -90nm 내지 -75nm, 파장 550nm에서 면내 위상차가 20nm 이하, 구체적으로 0nm 내지 20nm, 더 구체적으로 0nm 내지 10nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 상술 본 발명의 효과가 잘 구현될 수 있다.
도 1에서 도시되지 않았지만, 위상차층(20)의 하부면에는 점착층 또는 접착층이 형성되어 광학 적층체를 패널 등에 점착시킬 수 있다.
제1보호층(20)과 위상차층(30)의 적층체
상술된 바와 같이 위상차층(30)은 대각에서의 명암비와 빛샘을 개선할 수 있다. 그러나, 코팅층 형태로 제조된 위상차층은 광학 적층체를 광학표시장치의 패널에 조립시 무라를 발생할 수 있다. 즉, 광학표시장치의 패널의 시인측에 광학 적층체를 접합한 후 광학 적층체를 광학표시장치의 패널에 고정시키기 위하여 광학 적층체 쪽에서 패널 쪽으로 응력을 적용하게 된다. 이 과정에서 위상차층은 패널에서의 무라를 발생시킬 수 있다. 위상차층 단독의 광탄성 계수를 조절하는 방법을 고려할 수 있으나 무라 발생 억제에 한계가 있었다.
본 발명은 제1보호층(20)과 위상차층(30)의 적층체의 광탄성 계수가 2 x 10-13 cm2/dyne 이하이고, 제1보호층(20)과 위상차층(30)의 적층체는 광학 적층체 중 편광자의 흡수축 방향에서 측정된 모듈러스가 2000MPa 내지 4000MPa이 되도록 하였다. 상기 광탄성 계수와 모듈러스 범위를 동시에 만족할 때 광학 적층체를 광학표시장치용 패널에 조립시 적용되는 응력 하에서도 무라 발생을 억제하고 고온에서의 휨 발생을 낮출 수 있다.
상기 "편광자의 흡수축 방향"은 편광자의 MD(machine direction)을 의미할 수 있다. 본 발명자는 상기 광탄성 계수를 만족시킴과 동시에 광학 적층체 중 편광자의 흡수축 방향에서 측정된 상기 적층체의 모듈러스가 2000MPa 내지 4000MPa일 때 광학 적층체를 광학표시장치용 패널에 조립시 적용되는 응력 하에서도 무라 발생을 억제할 수 있고 고온에서의 휨을 낮출 수 있음을 확인하였다.
구체적으로, 제1보호층(20)과 위상차층(30)의 적층체의 광탄성 계수는 0 x 10-13 cm2/dyne 내지 2 x 10-13 cm2/dyne, 더 구체적으로 0.1 x 10-13 cm2/dyne 내지 2 x 10-13 cm2/dyne가 될 수 있다. 구체적으로, 제1보호층(20)과 위상차층(30)의 적층체는 광학 적층체 중 편광자의 흡수축 방향에서 측정된 모듈러스는 2000MPa 내지 3500MPa, 더 구체적으로 2000MPa 내지 3000MPa가 될 수 있다.
상기 광탄성 계수와 모듈러스는 위상차층 특히 포지티브 C 층의 재질과 두께, 제1보호층의 재질과 두께 또는 제1보호층의 연신 방향 및 연신비 등을 조절함으로써 구현될 수 있다.
제1보호층(20)과 위상차층(30)의 적층체는 제2보호층(40) 대비 편광자(10)의 다른 일면에 형성되어 고온에서 방치시 휨 발생에 영향을 줄 수 있다. 본 발명에서는 제1보호층(20)과 위상차층(30)의 적층체의 모듈러스 변화율을 낮춤으로써 휨 발생을 더 억제할 수 있다.
일 구체예에서, 제1보호층(20)과 위상차층(30)의 적층체는 하기 식 1의 모듈러스 변화율은 -3% 이상 0% 이하, 구체적으로 -3% 초과 0% 이하, 더 구체적으로 -2% 내지 0%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 광학 적층체 또는 광학 적층체를 적용한 패널에 대해 고온에서의 휨 발생을 낮출 수 있다:
[식 1]
모듈러스 변화율 = {(B - A) / A} x 100
(상기 식 1에서, A는 제1보호층과 위상차층의 적층체의 광학 적층체 중 편광자의 흡수축 방향에서의 모듈러스,
B는 제1보호층과 위상차층의 적층체를 105℃에서 1시간 방치한 후 광학 적층체 중 편광자의 흡수축 방향에서의 모듈러스).
상기 식 1에서 모듈러스 B는 모듈러스 A보다 동일하거나 작고, 2000MPa 내지 4000MPa, 구체적으로 2000MPa 내지 3500MPa, 더 구체적으로 2000MPa 내지 3000MPa가 될 수 있다.
상기 식 1의 모듈러스 변화율은 제1보호층과 위상차층의 적층체의 모듈러스, 위상차층 즉 포지티브 C 층의 재질과 두께, 제1보호층의 재질과 두께 또는 제1보호층의 연신 방향 및 연신비 등을 조절함으로써 구현될 수 있다.
제1보호층(20)과 위상차층(30)의 적층체는 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -200nm 이상 0nm 이하, 구체적으로 -200nm 이상 0nm 미만, 구체적으로 -180nm 내지 -5nm, 더 구체적으로 -150nm 내지 -50nm, 가장 구체적으로 -90nm 내지 -75nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 대각에서의 명암비를 개선하고 빛샘을 개선할 수 있다.
제1보호층(20)과 위상차층(30)의 적층체는 파장 550nm에서 면내 위상차 Re가 20nm 이하, 구체적으로 0nm 내지 20nm, 더 구체적으로 0nm 내지 10nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 상기 두께 방향 위상차에 쉽게 도달될 수 있다.
제1보호층(20)과 위상차층(30)의 적층체는 두께가 10㎛ 내지 60㎛, 구체적으로 20㎛ 내지 50㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 광학 적층체에 적용될 수 있다.
제1보호층
제1보호층(20)은 위상차층(30)에 직접적으로 형성되어 있다. 상기 "직접적으로 형성"은 제1보호층(20)과 위상차층(30) 사이에 임의의 접착층 또는 점착층이 개재되지 않음을 의미한다.
제1보호층(20)은 연신되어 소정의 두께 방향 위상차와 면내 위상차를 가져 위상차층(30)으로 인한 대각에서의 명암비와 빛샘 개선에 영향을 주지 않으면서 동시에 편광자(10)의 흡수축과의 축 간 배열을 통하여 휨 발생 차단 효과도 제공할 수 있다.
제1보호층(20)은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차 -5nm 이하, 구체적으로 -50nm 내지 -10nm, 더 구체적으로 -30nm 내지 -10nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 위상차층의 기능을 방해하지 않고 좌우 시감 개선 효과를 낼 수 있다.
제1보호층(20)은 파장 550nm에서 면내 방향 위상차가 0nm 내지 20nm, 궤적으로 0nm 내지 10nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 위상차층의 기능을 방해하지 않고 좌우 시감 개선 효과를 낼 수 있다.
광학 적층체 중 편광자의 흡수축과 제1보호층의 지상축(slow axis) 간의 관계를 설명한다.
편광자(10)의 흡수축을 기준으로 제1보호층(20)의 지상축(slow axis)은 실질적으로 직교한다. 이를 통해, 광학 적층체의 휨 발생 억제에 도움을 주면서 상술 위상차 구현에 용이할 수 있다. 상기 "실질적으로 직교"는 편광자의 흡수축과 제1보호층의 지상축이 이루는 각도가 80° 내지 95°, 구체적으로 90°가 됨을 의미한다.
일 구체예에서, 제1보호층(20)의 지상축은 제1보호층(20)의 TD가 될 수 있다. 이를 통해, 편광자의 흡수축과 제1보호층의 MD가 실질적으로 평행하여 제1보호층과 위상차층의 적층체를 롤 투 롤로 제조할 수 있어 제조 공정성과 생산성을 높일 수 있다.
제1보호층(20)은 광학적으로 투명한 수지 필름을 포함할 수 있다. 일 구체예에서, 제1보호층(20)은 트리아세틸셀룰로스 등을 포함하는 셀룰로오스계, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르계, 고리형 폴리올레핀계, 폴리카보네이트계, 폴리에테르술폰계, 폴리술폰계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리올레핀계, 폴리아릴레이트계, 폴리비닐알코올계, 폴리염화비닐계, 폴리염화비닐리덴계, 아크릴계 중 하나 이상의 수지로 된 필름이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 바람직하게는, 제1보호층(20)은 트리아세틸셀룰로스 등을 포함하는 셀룰로스계 또는 아크릴계 수지로 된 필름일 수 있고, 더 바람직하게는 아크릴계 수지 필름일 수 있다.
제1보호층(20)은 두께가 0㎛ 초과 100㎛ 이하, 구체적으로 10㎛ 내지 60㎛, 구체적으로 20㎛ 내지 50㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 광학 적층체에 적용될 수 있다.
제1보호층(20)은 소정의 연신비로 연신된 필름일 수 있다.
일 구체예에서, 제1 보호층(20)은 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 제1 보호층의 기계적 방향(MD, machine direction)이고, 제1보호층의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 제1 보호층의 폭 방향(TD, transverse direction)이 될 수 있다. 이 경우, 제1보호층은 TD 1축 연신 보호 필름 또는 TD 1축 연신 코팅층이 될 수 있다.
다른 구체예에서, 제1보호층(20)은 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 제1 보호층의 폭 방향(TD)이고, 제1 보호층의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 제1 보호층의 기계적 방향(MD)이 될 수 있다. 이 경우, 제1보호층은 MD 1축 연신 보호 필름 또는 MD 1축 연신 코팅층이 될 수 있다.
또 다른 구체예에서, 제1 보호층(20)은 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 제1 보호층의 폭 방향에 대해 대해 경사 방향이 되고, 굴절률이 높은 축은 제1 보호 층의 기계적 방향에 대해 대해 경사 방향이 될 수 있다. 이 경우, 제1보호층은 MD와 TD 2축 연신 필름 또는 MD와 TD 2축 연신 코팅층이 될 수 있다.
바람직하게는, 제1보호층의 면내 방향 중 굴절률이 낮은 축은 제1보호층의 기계적 방향(MD)이고, 제1 보호층의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 제1보호 층의 폭 방향(TD)이 됨으로써 상술된 위상차층 및 편광자와의 축 관계를 고려할 때, 광학 적층체 제조시 롤 투 롤 공정을 가능하게 함으로써 공정성과 경제성을 높일 수 있다. 이에, 이하에서는 위의 경우에 대해서만 설명한다.
일 구체예에서, 제1 보호층은 면내 방향 중 상술한 굴절률이 낮은 축과 굴절률이 높은 축을 갖기 위해 TD 1축 연신 제1보호 필름을 포함할 수 있다.
TD 1축 연신시, 제1보호 필름은 용융 압출된 제1보호 필름용 수지를 TD 방향으로만 상기 최초 수지의 TD 폭에 대해 100% 내지 200%, 바람직하게는 120% 내지 140% 연신하는 단계를 포함하는 제1보호 필름 제조 방법에 의해 제조될 수 있다. 상기 연신비 범위에서 본 발명의 굴절률이 낮은 축과 굴절률이 높은 축을 가질 수 있다.
연신은 건식 연신, 습식 연신 중 하나 이상으로 수행될 수 있고, 연신 온도는 제1보호 필름용 수지의 유리전이온도 Tg를 기준으로 (Tg - 20)℃ 내지 (Tg + 50)℃, 구체적으로 70℃ 내지 250℃, 더 구체적으로 80℃ 내지 200℃가 바람직하고, 보다 더 구체적으로 100℃ 내지 200℃가 될 수 있다. 상기 범위에서, 일률적으로 동일한 연신 효과가 있을 수 있다.
도 1에서 도시되지 않았지만, 편광자(10)와 제1보호층(20)은 접착층에 의해 접착될 수 있다. 접착층은 수계 접착제, 광경화형 접착제 등 당업자에게 알려진 통상의 접착제로 형성될 수 있다.
편광자
편광자(10)는 입사되는 광을 직교하는 2개의 편광 성분으로 분리하여 일방의 편광 성분은 투과시키고 타방의 편광 성분은 흡수하는 기능을 갖는, 광 흡수형 편광자를 포함한다.
일 구체예에서, 편광자의 면내 방향 중 굴절률이 높은 축은 편광자의 흡수축이고, 굴절률이 낮은 축은 편광자의 투과축이 될 수 있다.
일 구체예에서, 편광자의 흡수축은 편광자의 기계적 방향(MD, machine direction)이고, 투과축은 편광자의 폭 방향(TD, transverse direction)이 될 수 있다.
편광자(10)의 광 투과율은 40% 이상, 구체적으로 40% 내지 45%가 될 수 있다. 편광자(10)의 편광도는 95% 이상, 구체적으로 95% 내지 100%, 더 구체적으로 98% 내지 100%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 보다 한 층 정면 명암비가 개선될 수 있으며 내구성을 향상시킬 수 있다.
편광자(10)는 이색성 염료를 함유하고 1축 연신된 편광자를 포함할 수 있다.
구체적으로, 이색성 염료를 함유하는 편광자는 편광자용 기재 필름을 MD 1축 연신하고 이색성 염료(예: 요오드 또는 요오드 함유 물질로서 요오드화칼륨을 포함)로 염색하여 제조된 편광자를 포함할 수 있다. 편광자용 기재 필름은 폴리비닐알코올계 필름 또는 그의 유도체를 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 편광자는 당업자에게 알려진 통상의 방법에 따라 제조될 수 있다.
편광자(10)는 두께가 1㎛ 내지 40㎛, 구체적으로 5㎛ 내지 30㎛, 더 구체적으로 10㎛ 내지 25㎛가 될 수 있다. 상기 범위에서, 광학 적층체에 사용될 수 있다.
도 1에서 도시되지 않았지만, 편광자(10)와 제1보호층(20)은 접착층에 의해 접착될 수 있다. 접착층은 수계 접착제, 광경화형 접착제 등 당업자에게 알려진 통상의 접착제로 형성될 수 있다.
제2보호층
제2 보호층(40)은 편광자(10)의 광 출사면에 배치되어, 편광자로부터 출사되는 광에 작용함으로써 화질을 더 개선하거나 편광자를 보호할 수 있다.
제2보호층(40)은 보호 필름 또는 보호 코팅층을 포함할 수 있다.
보호 필름은 광학적 투명 필름으로서, 예를 들면 트리아세틸셀룰로스(TAC) 등을 포함하는 셀룰로오스계, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트(PET), 폴리부틸렌나프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르계, 고리형 폴리올레핀계, 폴리카보네이트계, 폴리에테르술폰계, 폴리술폰계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리올레핀계, 폴리아릴레이트계, 폴리비닐알코올계, 폴리염화비닐계, 폴리염화비닐리덴계 중 하나 이상의 수지로 된 필름이 될 수 있다. 구체적으로, TAC, PET 필름을 사용할 수 있다. 보호 코팅층은 열경화성 코팅층용 조성물, 광경화성 코팅층용 조성물 중 1종 이상으로 형성될 수 있다.
일 구체예에서, 제2보호층은 파장 550nm에서 면내 위상차(Re)가 5,000nm 이상, 구체적으로 5,000nm 내지 15,000nm, 더 구체적으로 5,000nm 내지 12,000nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 정면 명암비 개선 효과, 무지개 무라 억제 효과 등이 있을 수 있다.
일 구체예에서, 제2보호층은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차(Rth)가 6,000nm 이상, 구체적으로 6,000nm 내지 15,000nm, 더 구체적으로 6,000nm 내지12,000nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 복굴절에 의한 얼룩 제어 효과, 액정 표시 장치에서의 시야각 특성 개선 효과 등이 있을 수 있다.
일 구체예에서, 제2보호층은 파장 550nm에서 이축성 정도(NZ)가 2.5 이하, 구체적으로 1.0 내지 2.2, 더 구체적으로 1.2 내지 2.0, 가장 구체적으로 1.4 내지 1.8이 될 수 있다. 상기 범위에서, 복굴절에 의한 얼룩 제어 효과, 필름의 기계적 강도 유지 효과 등이 있을 수 있다.
제2보호층(40)은 두께가 100㎛ 이하, 구체적으로 0㎛ 초과 70㎛ 이하, 더 구체적으로 5㎛ 내지 70㎛, 구체적으로 15㎛ 내지 80㎛가 될 수 있고, 상기 범위에서 광학 적층체에 사용할 수 있다.
도 1에서 도시되지 않았지만, 제2보호층(40)의 상부면에는 기능성 코팅층이 형성되어 광학 적층체에 추가 기능을 제공할 수 있다. 예를 들면 기능성 코팅층은 하드코팅층, 내지문성층, 반사방지층, 안티글레어층, 저반사층 등이 될 수 있고, 이들은 단독 또는 2종 이상으로 적층되어 형성될 수 있다.
또한, 도 1에서 도시되지 않았지만, 편광자(10)와 제2보호층(40)은 접착층에 의해 접착될 수 있다. 접착층은 수계 접착제, 광경화형 접착제 등 당업자에게 알려진 통상의 접착제로 형성될 수 있다.
일 구체예에서, 광학 적층체는 편광자의 흡수축 방향으로 측정된 모듈러스가 2000MPa 내지 5000MPa, 구체적으로 2000MPa 내지 4000MPa가 될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 효과가 잘 구현될 수 있다.
일 구체예에서, 광학 적층체는 편광자의 투과축 방향으로 측정된 모듈러스가 1000MPa 내지 3000MPa, 구체적으로 1000MPa 내지 2000MPa가 될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 효과가 잘 구현될 수 있다. 상기 '광학 적층체의 모듈러스'는 상기 상술되는 제1보호층(20)과 위상차층(30)의 적층체의 모듈러스 측정과 실질적으로 동일한 방법으로 측정될 수 있다.
본 발명의 광학 적층체는 제3보호층을 더 포함할 수 있다. 일 구체예에서, 제3 보호층은 편광자의 광 입사면에 포함될 수 있다.
이하, 도 2를 참조하여 본 발명 다른 실시예의 광학 적층체를 설명한다.
도 2를 참조하면, 광학 적층체는 편광자(10), 제1보호층(20), 위상차층(30), 제2보호층(40), 제3보호층(50)을 포함한다.
위상차층(30)의 하부면에 제3보호층(50)이 추가로 형성된 점을 제외하고는 본 발명 일 실시예의 광학 적층체와 실질적으로 동일하다. 이에, 제3보호층(50)에 대해서만 설명한다.
제3보호층(50)은 위상차층(30)을 보호하거나 및/또는 대각에서의 명암비와 빛샘을 더 개선할 수 있다.
제3보호층(50)은 포지티브 A 광학 특성(nx > ny ≒ nz, nx, ny, nz는 각각 제3보호층의 파장 550nm에서 지상축, 진상축, 두께 방향 굴절률이다)을 나타낼 수 있다. 본 발명에서는 제3보호층(50)이 포지티브 A 광학 특성을 구현하고 위상차층이 적어도 포지티브 C 층을 포함함으로써 본 발명의 대각에서의 명암비와 빛샘 개선 효과가 더 현저해질 수 있다.
제3보호층(50)은 파장 550nm에서 면내 위상차 Re 가10nm 내지 150nm, 구체적으로 30nm 내지 130nm, 더 구체적으로 50nm 내지 130nm가 될 수 있다 상기 범위에서, 본 발명의 대각에서의 명암비와 빛샘 개선 효과가 우수해질 수 있다.
제3보호층(50)은 보호 필름, 보호 코팅층, 액정 패널 중 1종 이상을 포함할 수 있다.
보호 필름은 광학적 투명 필름으로서, 예를 들면 트리아세틸셀룰로스(TAC) 등을 포함하는 셀룰로오스계, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트(PET), 폴리부틸렌나프탈레이트 등을 포함하는 폴리에스테르계, 고리형 폴리올레핀계, 폴리카보네이트계, 폴리에테르술폰계, 폴리술폰계, 폴리아미드계, 폴리이미드계, 폴리올레핀계, 폴리아릴레이트계, 폴리비닐알코올계, 폴리염화비닐계, 폴리염화비닐리덴계 중 하나 이상의 수지로 된 필름이 될 수 있다. 구체적으로, TAC, PET 필름을 사용할 수 있다.
보호 코팅층은 열경화성 코팅층용 조성물, 광경화성 코팅층용 조성물 중 1종 이상으로 형성될 수 있다.
액정 패널은 전압의 인가 및 무 인가에 따라 액정의 배향이 달라지며, 그에 따라 광원으로부터 출사되는 광을 출사킬 수 있다. 액정 패널은 광학 적층체에 포지티브 A 위상차층을 포함시킬 필요가 없어 액정표시장치의 박형화 효과를 얻을 수 있다.
액정 패널은 한 쌍의 기판과 기판 사이에 포함된 표시 매체로서의 액정층을 포함할 수 있다. 한쪽의 기판(컬러 필터 기판)은 컬러 필터 및 블랙 매트릭스가 마련되고, 다른 한쪽의 기판(활성 매트릭스 기판)은 액정의 전기 광학적 특성을 제어하는 스위칭 소자(예: TFT) 및 스위칭 소자에 게이트 신호를 부여하는 신호선과 화소선이 마련되어 있을 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
일 구체예에서, 액정 패널은 IPS(in plane switching) 모드의 액정을 채용할 수 있다. 이를 통해, 액정표시장치는 시야각 특성 개선 효과를 얻을 수 있다.
액정 패널은 파장 550nm에서 면내 위상차가 60nm 내지 150nm, 구체적으로 70nm 내지 120nm가 될 수 있다. 상기 범위에서, 시야각 특성 개선 효과에 도움을 줄 수 있다.
액정 패널의 파장 550nm에서 면내 위상차는 액정 패널 중 액정층의 두께를 조절하는 방법 등으로 제어될 수 있다.
본 발명의 광학표시장치는 본 발명의 광학 적층체 포함한다. 일 구체예에서, 광학표시장치는 IPS 액정표시장치를 포함할 수 있다.
액정표시장치는 액정 패널, 액정 패널의 광 출사면에 적층되는 본 발명의 광학 적층체, 액정 패널의 광 입사면에 배치되는 편광판(광원측 편광판)을 포함한다. 광 입사면에 배치되는 편광판은 당업자에게 통상적으로 알려진 편광판을 포함할 수 있다. 본 발명의 광학 적층체는 시인측 편광판으로 사용될 수 있다.
액정표시장치는 광원측 편광판의 하부면에 광원을 포함한다. 광원은 연속적인 발광 스펙트럼을 갖는 광원을 포함할 수 있다. 예를 들면, 광원은 백색 LED(White LED) 광원, 양자점(QD, quantum dot) 광원, 금속 불화물 적색 형광체 광원 구체적으로 KSF(K2SiF6:Mn4+) 형광체 또는 KTF(K2TiF6:Mn4+) 형광체 함유 광원 등을 포함할 수 있다. 액정 패널은 수지 배향(VA) 모드 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 상세히 설명하기로 한다. 다만, 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로, 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되지는 않는다.
실시예 1
폴리비닐알코올계 필름(KURARAY社, VF-TS#4500, 두께:45㎛)을 30℃에서 2배로 폴리비닐알코올계 필름의 MD로 1축 연신하고 요오드를 흡착시킨 후 60℃의 붕산 수용액에서 연신하여 편광자(두께: 17㎛)를 제조하였다.
아크릴 필름(효성, 두께:40㎛, 파장 550nm에서 Re: 5nm, Rth: -17nm, TD 1축 연신 필름)의 하부면에 포지티브 C 층용 조성물(EASTMAN社, 셀룰로스 에스테르계)을 소정의 두께로 코팅하고 80℃에서 10분간 건조시켜, 아크릴 필름 하부면에 포지티브 C 층을 형성하였다. 포지티브 C 층은 두께가 5㎛이다. 아크릴 필름과 포지티브 C 층의 적층체의 구체적인 사양을 하기 표 1에 나타내었다.
상기 제조한 편광자의 하부면(광 입사면)에 상기 아크릴 필름의 상부면을 접착시켰다. 상기 제조한 편광자의 상부면(광 출사면)에 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(도요보社, 두께:80㎛, 파장 550nm에서 Re: 8,500nm, Rth: 9,300nm, TD 1축 연신 필름)을 접착시켜 광학 적층체를 제조하였다. 편광자의 흡수축(편광자의 MD)과 아크릴 필름의 TD는 서로 직교한다.
실시예 2 내지 실시예3
실시예 1에서 아크릴 필름과 포지티브 C 층의 적층체의 구체적인 사양을 하기 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 광학 적층체를 제조하였다.
실시예 4
실시예 1에서 포지티브 C 층의 하부면에 포지티브 A 층을 추가로 형성한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 광학 적층체를 제조하였다.
비교예 1 내지 비교예 4
실시예 1에서 아크릴 필름과 포지티브 C 층의 적층체의 구체적인 사양을 하기 표 1과 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 광학 적층체를 제조하였다.
실시예와 비교예의 아크릴 필름과 포지티브 C 층의 적층체에 대해 하기 표 1의 물성을 평가하였다.
(1)광탄성 계수(단위: x 10-13 cm2/dyne): 광탄성 계수는 25℃ 및 파장 550nm에서 측정되었다. 적층체를 아크릴 필름의 MD x TD(15mm x 250mm) 직사각형의 크기로 절단하여 시편을 제조하였다. 제조한 시편에 추를 매달고 추의 무게를 0, 100, 200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000N으로 변화시켜 시편에 적용되는 장력을 변화시키면서 장력(x 축)에 따른 상기 시편의 파장 550nm에서의 면내 위상차(y축, Axoscan에 의해 측정)를 측정하여 그래프를 그렸다. 그런 다음, 기울기 값을 광탄성 계수로 구하였다.
(2)파장 550nm에서 두께 방향 위상차(Rth)(단위: nm): 적층체에 대해 Axoscan에 의해 파장 550nm에서 두께 방향 위상차를 측정하였다.
(3)모듈러스(단위: MPa): 적층체를 아크릴 필름의 MD x TD(25mm x 150mm) 직사각형 크기로 절단하여 시편을 제조하였다. 상기 제조한 시편을 UTM(Universal Testing Machine, Instron®) / Bluehill 를 사용하여 지그 사이의 거리가 100mm에서 인장 파단 실험을 실시하여 x축 인장 변형(Tensile Strain)(%), y축 인장 강도(MPa)로 하였을 때 초기에 나타나는 상승 구간의 기울기를 모듈러스로 계산하였다.
[인장 모듈러스의 측정 조건]
측정 기기: UTM(Universal Testing Machine, Instron®) / Bluehill
측정 조건: 인장 속도: 100mm/min, 측정 온도: 25℃
(4)모듈러스 변화율(단위: %): (3)과 동일한 방법으로 시편을 제조하고, (3)과 동일한 방법으로 모듈러스(A)를 측정하였다. 상기 시편을 105℃에서 1시간 방치한 다음 (3)과 동일한 방법으로 모듈러스(B)를 구하였다. 상기 식 1에 따라 모듈러스 변화율을 계산하였다.
실시예와 비교예의 광학 적층체를 가지고 하기 표 1의 물성을 평가하였다.
(1)패널에서의 무라: 광학 적층체를 편광자의 MD x TD (100mm x 100mm)의 정사각형 크기로 절단하고 유리판(두께: 10mm)의 상부면에 합지하여 유리판의 상부면에 광학 적층체를 시인측 편광판으로 합지하였다. 상기 유리판의 하부면에 트리아세틸셀룰로스 필름-편광자-트리아세틸셀룰로스 필름의 순서로 적층된 광원측 편광판을 합지하였다. 광원측 편광판의 하부면에 백라이트 유닛을 배치시켜 무라 측정을 위한 시편을 제조하였다.
상기 시편 중 광학 적층체의 상부면에 중량 300g의 금속 추를 놓기 전 대비 놓은 후 무라 발생 여부를 육안으로 확인하였다. 패널에서의 무라가 전혀 없는 경우 ⅹ, 패널에서의 무라가 많이 시인되는 경우 ○, 패널에서의 무라가 너무 심해서 화면 품질이 매우 좋지 않은 경우 ◎로 평가하였다.
(2)휨 변화량(단위: mm): 광학 적층체를 편광자의 MD x TD(219.8mm x 124.15mm)의 크기로 절단하고 유리판(가로 x 세로 x 두께: 224.8mm x 129.15mm x 5mm)에 합지하여 시편을 제조하였다. 상기 시편을 바닥이 편평한 바닥면에 상기 시편 중 PET 필름이 최 상부로 가도록 시편을 위치시켰다. 상기 시편 중 12개의 측정 포인트에 대해 상기 바닥면으로부터 휘어지는 높이를 25℃에서 측정하고 이중 최대값 2개의 포인트를 구하여 평균값 내었다. 그런 다음, 상기 시편을 60℃에서 240시간 방치한 후 상기와 동일한 방법으로 평균값을 내었다. 그런 다음 얻은 평균값의 차이를 통해 휨 변화량을 계산하였다. 휨 변화량이 2.50mm 이하이어서 고온에서도 신뢰성이 우수한 경우 ◎, 휨 변화량이 2.50mm 초과 2.60mm 이하로서 신뢰성이 보통인 경우 ○, 휨 변화량이 2.60mm 초과 2.70mm 이하로서 신뢰성이 좋지 않은 경우 △, 휨 변화량이 2.70mm 초과로서 신뢰성이 매우 좋지 않은 경우 x로 평가하였다.
실시예 | 비교예 | |||||||
1 | 2 | 3 | 4 | 1 | 2 | 3 | 4 | |
광탄성계수 | 2 | 1 | 0 | 2 | 9 | 10 | 2 | 3 |
Rth | -70 | -90 | -80 | -70 | -77 | -80 | -80 | -60 |
모듈러스 | 2800 | 2700 | 2500 | 2800 | 4200 | 4300 | 4200 | 2800 |
모듈러스 (105℃에서 1시간 후) |
2760 | 2660 | 2450 | 2760 | 4050 | 4030 | 4050 | 2760 |
모듈러스 변화율 | -1.4 | -1.5 | -2.0 | -1.4 | -3.6 | -6.3 | -3.6 | -1.4 |
무라 | ⅹ | ⅹ | ⅹ | ⅹ | ○ | ◎ | x | ○ |
휨 변화량 | ◎ | ◎ | ◎ | ◎ | △ | ⅹ | △ | ◎ |
상기 표 1에서와 같이, 본 발명의 광학 적층체는 패널에 조립시 적용되는 응력에 의한 무라 발생을 최소화하였고, 휨 변화량을 낮추어 휨 발생을 최소화하였다. 또한, 상기 표 1에서 보여지지 않았지만, 본 발명의 광학 적층체는 광학표시장치의 패널에 적용시 대각에서의 명암비를 개선하고 빛샘을 개선하였다.
반면에, 비교예의 광학 적층체는 본원발명의 구성을 만족하지 못하여 본 발명의 모든 효과를 낼 수 없었다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.
Claims (20)
- 편광자 및 상기 편광자의 광 입사면에 적층된 제1 보호층 및 위상차층을 포함하는 광학 적층체로서,
상기 위상차층은 적어도 포지티브 C 층을 포함하고,
상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 광탄성 계수가 2 x 10-13 cm2/dyne 이하이고,
상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 상기 광학 적층체 중 상기 편광자의 흡수축 방향에서 측정된 모듈러스가 2000MPa 내지 4000MPa인 것인, 광학 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 편광자의 광 입사면으로부터 상기 제1보호층, 상기 위상차층이 순차적으로 적층된 것인, 광학 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 하기 식 1의 모듈러스 변화율이 -3% 이상 0% 이하인 것인, 광학 적층체:
[식 1]
모듈러스 변화율 = {(B - A) / A} x 100
(상기 식 1에서, A는 제1보호층과 위상차층의 적층체의 광학 적층체 중 편광자의 흡수축 방향에서의 모듈러스,
B는 제1보호층과 위상차층의 적층체를 105℃에서 1시간 방치한 후 광학 적층체 중 편광자의 흡수축 방향에서의 모듈러스).
- 제1항에 있어서, 상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -200nm 이상 0nm 이하인 것인, 광학 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 제1보호층과 상기 위상차층의 적층체는 파장 550nm에서 면내 위상차가 20nm 이하인 것인, 광학 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 포지티브 C 층은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차 Rth가 -200nm 이상 0nm 이하인 것인, 광학 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 포지티브 C 층은 파장 550nm에서 면내 위상차가 20nm 이하인 것인, 광학 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 포지티브 C 층은 액정층 또는 비액정성 코팅층을 포함하는 것인, 광학 적층체.
- 제8항에 있어서, 상기 비액정성 코팅층은 셀룰로스 에스테르계 화합물 또는 그의 중합체, 방향족계 화합물 또는 이들의 중합체 중 1종 이상을 포함하는 것인, 광학 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 제1보호층은 파장 550nm에서 두께 방향 위상차가 -5nm 이하인 것인, 광학 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 제1보호층은 파장 550nm에서 면내 방향 위상차가 0nm 내지 20nm인 것인, 광학 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 제1보호층은 트리아세틸셀룰로스 수지 또는 아크릴계 수지 필름인 것인, 광학 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 편광자의 흡수축과 상기 제1보호층의 지상축(slow axis)이 이루는 각도는 80° 내지 95°인 것인, 광학 적층체.
- 제13항에 있어서, 상기 제1보호층의 지상축은 상기 제1보호층의 TD인 것인, 광학 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 편광자의 광 출사면에 적층된 제2보호층을 더 포함하는 것인, 광학 적층체.
- 제15항에 있어서, 상기 제2보호층은 파장 550nm에서 면내 위상차가 5000nm 이상인 것인, 광학 적층체.
- 제1항에 있어서, 상기 편광자의 광 입사면에 적층된 제3보호층을 더 포함하는 것인, 광학 적층체.
- 제17항에 있어서, 상기 제3보호층은 포지티브 A 광학 특성을 갖는 것인, 광학 적층체.
- 제17항에 있어서, 상기 제3보호층은 보호 필름, 보호 코팅층, 액정 패널 중 1종 이상을 포함하는 것인, 광학 적층체.
- 제1항 내지 제19항 중 어느 한 항의 광학 적층체를 포함하는 것인, 광학표시장치.
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