KR20220015549A - 필터 장치 - Google Patents

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KR20220015549A
KR20220015549A KR1020200095676A KR20200095676A KR20220015549A KR 20220015549 A KR20220015549 A KR 20220015549A KR 1020200095676 A KR1020200095676 A KR 1020200095676A KR 20200095676 A KR20200095676 A KR 20200095676A KR 20220015549 A KR20220015549 A KR 20220015549A
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최대규
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(주) 엔피홀딩스
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Abstract

본 발명은 필터 장치를 제공한다. 본 발명의 필터 장치는 처리 유체가 유입되는 제1포트 및 필터링된 처리 유체가 배출되는 제2포트를 갖는 하우징; 상기 제1포트와 상기 제2포트 사이에 위치되도록 상기 하우징 내에 설치되고, 처리 유체의 이물질을 필터링 하는 필터; 및 이물질이 상기 필터 표면으로부터 탈리되도록 상기 필터에 진동을 제공하는 진동 생성 수단을 포함할 수 있다.

Description

필터 장치{filter device}
본 발명은 필터 장치에 관한 것이다.
일반적으로 필터는 흡입구에 장착되어 작은 입자인 기체는 통과시키고 먼지나 분말 등의 큰 입자인 이물질은 걸러내는 역할을 한다.
이러한 필터를 이용한 여과 장치는 다양한 산업 분야에서 사용되고 있다. 예를 들면, 엔진 흡입관이나 차량용 공기조화기, 차량용 배기가스, 연료 분사장치 등의 자동차 분야, 반도체 제조 공정에서 배기되는 유체를 처리하는 가스 스크러버 등의 반도체 제조 분야 그리고 그 이외에도 에어컨, 의류건조기 등에도 적용될 수 있다.
그런데, 이러한 필터는 사용 기간이 길어지면 다량의 이물질이 필터 표면에 부착하게 되고, 이에 따라 필터가 막혀 여과 성능이 저하되는 현상이 발생할 수 있다. 이를 방지하기 위해서는 필터를 적정한 시기에 교환하거나 청소하여야 하는데, 이러한 유지 보수를 수행하는 동안에는 장비 가동이 정지되어야 하는 문제점이 있다.
본 발명의 일 과제는, 필터 표면에 달라붙는 이물질의 탈리가 용이하고, 이물질에 의한 필터의 눈막힘 현상을 개선할 수 있는 필터 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 일 과제는, 챔버 내벽에 이물질 고착을 예방할 수 있는 필터 장치를 제공하는데 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 처리 유체가 유입되는 제1포트 및 필터링된 처리 유체가 배출되는 제2포트를 갖는 하우징; 상기 제1포트와 상기 제2포트 사이에 위치되도록 상기 하우징 내에 설치되고, 처리 유체의 이물질을 필터링 하는 필터; 및 이물질이 상기 필터 표면으로부터 탈리되도록 상기 필터에 진동을 제공하는 진동 생성 수단을 포함하는 필터 장치가 제공될 수 있다.
또한, 상기 진동 생성 수단은 처리 유체의 기류에 의해 상기 필터가 요동하도록 상기 필터를 상기 하우징 상에서 탄성 지지하는 지지체를 포함할 수 있다.
또한, 상기 지지체는 벨로우즈 형태의 연결관을 포함할 수 있다.
또한, 상기 진동 생성 수단은 상기 필터에 진동을 부여하는 바이브레이터를 포함할 수 있다.
또한, 상기 바이브레이터는 상기 하우징 외부에 설치되고, 상기 바이브레이터로부터 진동을 상기 필터에 전달하는 진동 전달바를 포함할 수 있다.
또한, 상기 필터 표면에 달라붙은 이물질을 제거하기 위한 브러쉬를 더 포함하되; 상기 브러쉬는 외부 동력 또는 처리 유체의 기류에 의해 회전하면서 상기 필터 표면을 크리닝할 수 있다.
또한, 상기 하우징은 상기 필터 아래에 위치되고, 처리 유체를 회전시켜 처리 유체 중에 포함된 이물질을 분리시키는 사이클론 챔버를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 사이클론 챔버는 내벽면에 이물질의 퇴적을 최소화하기 위해 내부면에 연속적으로 배열된 복수개의 리블렛을 포함할 수 있다.
또한, 상기 사이클론 챔버는 내벽면에 이물질의 퇴적을 최소화하기 위해 내벽면에 길이방향으로 연속적으로 배치되는 원형파이프들을 포함할 수 있다.
또한, 상기 사이클론 챔버에서 분리된 이물질과 상기 필터로부터 털려진 이물질이 저장되는 이물질 수거 챔버를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 진동 생성 수단에 의해 이물질이 필터 표면에 달라붙는 것을 예방하고, 이물질에 의한 필터의 눈막힘 현상을 개선함으로써 이물질 포집 효율을 높일 수 있다.
본 발명의 실시예에 의하면, 챔버 내벽에 이물질 고착을 예방함으로써 이물질 포집 효율을 높일 수 있다.
본 발명의 효과가 상술한 효과들로 제한되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본 명세서 및 첨부된 도면으로부터 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 전체 기판 처리 시스템을 도시한 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 필터 장치의 사시도이다.
도 3 및 도 4는 도 2에 도시된 필터 장치의 측면도 및 단면도이다.
도 5는 도 3에 표시된 A-A선을 따라 절취한 단면도이다.
도 6은 필터 장치에서의 작용 효과를 설명하기 위한 도면이다.
도 7은 필터 장치의 다른 예를 보여주는 도면이다.
도 8은 필터 장치의 또 다른 예를 보여주는 도면이다.
도 9는 도 3에 도시된 사이클론 챔버의 다른예를 보여주는 도면이다.
도 10 및 도 11은 도 3에 도시된 사이클론 챔버의 다른예를 보여주는 도면들이다.
도 12는 본 발명의 또 다른 예를 보여주는 도면이다.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어 도면 부호에 상관없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시 예에 따른 전체 기판 처리 시스템을 도시한 도면이다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 시스템(1)은 기판에 대한 공정이 진행되는 공정 처리부(10)와, 프로세스 챔버(110)에서 공정이 완료된 후 배기가스를 배기하는 배기부(20)를 포함할 수 있다.
공정 처리부(10)는 프로세스 챔버(110)와, 프로세스 챔버(110)에서 공정이 진행되도록 공정용 플라즈마를 공급하는 공정용 플라즈마공급부(120)를 포함할 수 있다.
프로세스 챔버(110)는 다양한 기판 프로세싱 작동들을 수행하도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 포토레지스트를 제거하는 애싱(ashing) 챔버일 수 있고, 절연막을 증착시키도록 구성된 CVD(Chemical Vapor Deposition)챔버일 수 있고, 인터커넥트 구조들을 형성하기 위해 절연막에 애퍼쳐(aperture)들이나 개구들을 에칭하도록 구성된 에칭 챔버일 수 있다. 또는, 기판에 각각의 반응물을 분리 주입하여 반응물(reactant)이 화학적으로 기판 표면에 포화 흡착되는 반응 사이클을 수차례 반복하여 박막을 형성하는 원자층 증착(Atomic Layer Depositioin : ALD) 챔버일 수 있다.
공정용 플라즈마공급부(120)는 프로세스 챔버(110)에서 기판 처리공정이 진행되도록 플라즈마를 생성하여 공급할 수 있다. 본 발명의 제1실시예에 따른 공정용 플라즈마공급부(120)는 프로세스 챔버(110)의 외부에 구비되어 원격에서 플라즈마를 생성하여 공급하는 RPG(remote plasma generator)의 형태로 제공될 수 있으며, 이러한 플라즈마 소스는 공지된 사항으로 상세한 설명은 생략한다.
프로세스 챔버(110)는 피처리 기판(114)이 적재되는 기판지지대(112)를 구비하며, 공정용 플라즈마공급부(120)로부터 플라즈마를 공급받는 공급구(미도시)와, 공정이 완료된 후 배기가스가 배기되는 배출구(미도시)를 포함할 수 있다.
프로세스 챔버(110)로부터 배기되는 배기가스에는 가스들의 미반응 가스를 포함하여 각종 반응 부산물이나 더스트 등의 미립자가 다량 함유될 수 있으며, 또한, 진공 배기 라인을 통과하는 과정에서 온도 등의 변화에 의해 미립자(이하 파우더라고 함)가 생성될 수 있다. 이러한 파우더를 다량 함유한 배기 가스가 진공 펌프로 유입될 경우 진공 펌프의 성능 저하의 원인이 되는데, 본 실시예에서는 파우더 제거 모듈을 통해 이러한 파우더를 1차적으로 제거할 수 있다.
배기부(20)는 진공 배기 라인(2100), 파우더 제거 모듈(300), 진공 펌프(2200) 그리고 트랩 스크러버(2300)을 포함할 수 있다.
파우더 제거 모듈(300)은 진공 배기 라인(2100)상에 설치될 수 있다. 파우더 제거 모듈(300)은 진공 배기 라인(2100)을 통해 배기되는 배기 가스 내의 파우더를 진공 배기 라인(2100)의 진공을 유지한 상태에서 제거할 수 있다.
진공 펌프(2200)는 프로세스 챔버(110)에 진공을 인가하도록 제공될 수 있으며, 진공 배기 라인(2100)은 프로세스 챔버(110)와 진공 펌프(2200)를 연결한다.
트랩 스크러버(2300)는 토치 스크러버(2310)와 필터장치(200)를 포함할 수 있다. 토치 스크러버(2310)는 배기가스가 통과되도록 하여 직,간접적으로 연소시키는 버닝(burning) 방식으로 토치를 포함할 수 있다.
필터장치(200)는 토치 스크러버(2310)에 의해 배기가스가 분해되는 과정에서 발생한 파우더 및 가스를 효과적으로 배출 및 포집하기 위해 제공된다. 필터 장치(200)는 토치 스크러버의 배출단에 연결된다. 필터 장치(200)에 대해서는 아래에서 좀 더 구체적으로 설명한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 필터 장치의 사시도이고, 도 3 및 도 4는 도 2에 도시된 필터 장치의 측면도 및 단면도이며, 도 5는 도 3에 표시된 A-A선을 따라 절취한 단면도이다.
도 2 내지 도 5를 참조하면, 필터 장치(200)는 하우징(210), 필터(230), 진동 생성 수단(250) 그리고 이물질 수거 챔버(290)를 포함할 수 있다.
하우징(210)은 상부 챔버(211)와 하부 챔버(이하 사이클론 챔버라고 함)(220)를 포함할 수 있다. 상부 챔버(211)는 토치 스크러버(2310)에서 버닝 방식으로 처리된 처리 유체(배기가스 및 분해 과정에서 생성된 파우더 등)가 유입되는 제1포트(212)와 필터링된 처리 유체가 배출되는 제2포트(213)를 포함할 수 있다. 제1포트(212)는 상부 챔버의 일측에 제공되고, 제2포트(213)는 상부 챔버의 상부에 제공될 수 있다. 상부 챔버는 그 내부에 필터가 위치되는 내부 공간을 제공한다. 사이클론 챔버(220)는 상부 챔버(211) 아래에 위치된다. 제1포트(212)는 토치 스크러버(2310)와 연결될 수 있다.
상부 챔버(211)는 외통(211a)과 내통(211b)을 포함하는 이중 구조로 이루어지며, 필터(230)는 내통(211b)에 의해 둘러싸인 내측 공간에 제공된다. 상부 챔버(211)는 원통형의 형상으로 형성되고, 사이클론 챔버(220)는 깔대기 형상으로 형성된다.
토치 스크러버(2310)에서 처리된 처리유체는 제1포트(212)를 통해 외통(211a)과 내통(211b) 사이의 외측 공간으로 사선 유입되어 선회기류를 형성하게 된다.
필터(230)는 제1포트(212)와 제2포트(213) 사이에 위치되도록 상부 챔버(211)의 내측 공간에 설치된다. 필터(230)는 토치 스크러버(2310)에서 분해 과정 중에 발생한 이물질(파우더)을 필터링한다. 예컨대, 제1포트(212)를 통해 유입되는 처리 유체는 파우더나 파티클 등과 같은 입자가 큰 이물질이 포함되어 있을 수 있다.
진동 생성 수단(250)은 이물질이 필터(230) 표면으로부터 탈리되도록 필터(230)에 진동을 제공할 수 있다. 진동 생성 수단(250)은 처리 유체의 기류에 의해 필터(230)가 요동(진동)하도록 필터(230)를 상부 챔버(211) 상에서 탄성 지지하는 지지체(252)를 포함할 수 있다. 본 실시예에서 지지체(252)는 벨로우즈 연결관 형태로 제공될 수 있다.
따라서, 필터 장치(200)는 처리 유체로부터 이물질을 필터링하는 동안 기류에 의해 필터(230)에 불규칙한 미세한 떨림이 발생됨으로써 필터(230) 표면에 이물질이 달라붙는 것을 최소화할 수 있고, 달라붙은 이물질은 용이하게 탈리될 수 있다. 이렇게 필터(230)에 의해 분리된 이물질은 사이클론 챔버(220)로 떨어지게 된다.
사이클론 챔버(220)는 상부에서 하부로 갈수록 좁아지는 깔대기 형상으로 이루어진다. 사이클론 챔버(220)의 하단은 이물질 수거 챔버(290)와 연결되며, 사이클론 챔버(220)와 이물질 수거 챔버(290) 사이에는 개폐 밸브(280)가 설치된다.
상술한 구성을 갖는 필터 장치에서의 작용 효과를 설명하면 다음과 같다.
도 6을 참조하면, 토치 스크러버(2310)에서 처리된 처리 유체는 제1포트(212)를 통해 하우징(210)의 상부 챔버(211)로 유입된다. 제1포트(212)를 통해 유입된 처리 유체는 상부 챔버(211)의 반경 반향으로 선회류를 형성하게 되면서 사이클론 챔버(220)로 흐르게 되고, 사이클론 챔버(220)에서 사이클론 현상에 의해 처리 유체로부터 이물질이 분리되고, 이렇게 분리된 이물질은 사이클론 챔버(220)의 하단으로 낙하되어 쌓이게 된다. 한편, 처리유체는 상부 챔버(211)의 내측 공간에 위치한 필터(230)를 통해 제2포트(213)로 배기된다. 이 과정에서, 사이클론 챔버(220)에서 분리되지 않은 이물질은 필터(230)에 의해 필터링된다. 그리고, 필터(230)는 처리 유체로부터 이물질을 필터링하는 동안 기류에 의한 불규칙한 미세한 떨림이 발생됨으로써 필터(230) 표면에 이물질이 달라붙는 것을 최소화할 수 있고, 달라붙은 이물질은 용이하게 탈리될 수 있다. 이렇게 필터(230)에 의해 분리된 이물질은 사이클론 챔버(220)로 떨어지게 된다. 그리고, 사이클론 챔버(220) 아래에 쌓이는 이물질은 이물질 수거 챔버(290)로 수거될 수 있다.
도 7은 필터 장치의 다른 예를 보여주는 도면이다.
도 7을 참조하면, 다른 예에 따른 필터 장치(200a)는 하우징(210a), 필터(230a), 진동 생성 수단(250a) 그리고 이물질 수거 챔버(도면 편의상 생략함)를 포함하며, 이들은 도 3에 도시된 하우징(210), 필터(230), 진동 생성 수단(250) 그리고 이물질 수거 챔버(290)와 대체로 유사한 구성과 기능으로 제공되며, 다만, 진동 생성 수단(250a)이 동력으로 작동된다는 점에서 그 차이점이 있다.
진동 생성 수단(250a)은 필터(230a)에 진동을 부여하는 바이브레이터(255)를 포함할 수 있다.
바이브레이터(255)는 하우징(210a) 외부에 설치될 수 있다. 좀 더 구체적으로는 바이브레이터(255)는 제2포트(213) 외부에 설치될 수 있다. 바이브레이터(255)의 진동은 진동 전달바(256)를 통해 필터(230a)에 전달될 수 있다. 진동 전달바(256)의 일단은 바이브레이터(255)에 연결되고 타단은 필터(230a)에 연결될 수 있다.
상기와 같이, 진공 생성 수단이 바이브레이터를 구비함으로써, 첫번째 실시예에 보다 현저하게 향상된 이물질 탈리 효과를 기대할 수 있다.
도 8은 필터 장치의 또 다른 예를 보여주는 도면이다.
도 8을 참조하면, 또 다른 예에 따른 필터 장치(200b)는 하우징(210b), 필터(230b), 진동 생성 수단(250b) 그리고 이물질 수거 챔버(도면 편의상 생략함)를 포함하며, 이들은 도 3에 도시된 하우징(210), 필터(230), 진동 생성 수단(250) 그리고 이물질 수거 챔버(290)와 대체로 유사한 구성과 기능으로 제공되며, 다만, 브러쉬(260)를 포함한다는 점에서 그 차이점이 있다.
브러쉬(260)는 필터(230) 표면에 달라붙은 이물질을 제거하기 위해 제공된다. 브러쉬(260)는 외부 동력 또는 처리 유체의 기류에 의해 회전하면서 필터(230) 표면에 달라붙은 이물질을 털어내게 된다.
상기와 같이, 필터 장치(200b)가 브러쉬(260)를 구비함으로써, 첫번째 실시예에 보다 현저하게 향상된 이물질 탈리 효과를 기대할 수 있다.
도 9는 도 3에 도시된 사이클론 챔버의 다른예를 보여주는 도면이다.
도 9를 참조하면, 사이클론 챔버(220a)는 내벽면에 이물질 고착을 최소화하기 위해 내부면에 연속적으로 배열된 미세 돌기 형태의 리블렛(224)(Riblet)들을 포함할 수 있다.
상기와 같이, 사이클론 챔버(220a)의 내부면에 리블렛(224)들을 형성함으로써 리블렛(224) 끝에서 발생하는 와류가 윤활제 역할을 해서 내부면과의 마찰력을 감소시키고, 와류를 경계로 유동이 분리되어 점성 저항에 의한 사이클론 유속 저하를 방지하여 입자(이물질)가 가지는 원심력 증대로 이물질 분리를 용이하게 하고, 내부면에 이물질이 고착되는 현상을 예방할 수 있다.
도 10 및 도 11은 도 3에 도시된 사이클론 챔버의 다른예를 보여주는 도면들이다.
도 10 및 도 11을 참조하면, 사이클론 챔버(220b)는 내벽면에 이물질의 고착을 최소화하기 위해 내벽면에 길이방향으로 연속적으로 배치되는 원형파이프(226)들을 포함한다는데 그 특징이 있다. 원형파이프(226)들은 짧은 파이프들과 긴 파이프들을 포함하며, 이들은 서로 교호적으로 배치될 수 있다. 이로 인해 사이클론 챔버(220b)의 상부 구간에서의 원형파이프들 간의 간격과 사이클론 챔버의 하부 구간에서의 원형파이프들 간의 간격을 어느 정도 확보할 수 있다.
상기와 같이, 사이클론 챔버(220a)의 내벽면에 원형파이프들을 배치함으로써, 원형 파이프들 사이 공간에서 와류가 발생되고, 이 와류가 윤활제 역할을 하여 내벽면과의 마찰력을 감소시키고, 와류를 경계로 유동이 분리되어 점성 저항에 의한 사이클론 유속 저하를 방지하여 입자(이물질)가 가지는 원심력 증대로 이물질 분리를 용이하게 하고, 내부면에 이물질이 고착되는 현상을 예방할 수 있다.
도 12는 본 발명의 또 다른 예를 보여주는 도면이다.
도 12에서와 같이, 토치 스크러버(2310a)는 필터 장치의 제2포트(231)에 연결되도록 제공될 수 있다. 즉, 토치 스크러버(2310a)는 필터 장치(200)를 통과하면서 필터링된 처리 유체(파우더가 제거된 배기가스)를 버닝(burning) 방식으로 분해 처리할 수 있다.
이상의 설명은 본 발명의 기술 사상을 예시적으로 설명한 것에 불과한 것으로서, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 다양한 수정 및 변형이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시 예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시 예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
200: 필터 장치 210 : 하우징
220 : 사이클론 챔버 230 :필터
250 : 진동 생성 수단 290 : 이물질 수거 챔버

Claims (11)

  1. 처리 유체가 유입되는 제1포트 및 필터링된 처리 유체가 배출되는 제2포트를 갖는 하우징;
    상기 제1포트와 상기 제2포트 사이에 위치되도록 상기 하우징 내에 설치되고, 처리 유체의 이물질을 필터링 하는 필터; 및
    이물질이 상기 필터 표면으로부터 탈리되도록 상기 필터에 진동을 제공하는 진동 생성 수단을 포함하는 필터 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 진동 생성 수단은
    처리 유체의 기류에 의해 상기 필터가 요동하도록 상기 필터를 상기 하우징 상에서 탄성 지지하는 지지체를 포함하는 필터 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 지지체는
    벨로우즈 형태의 연결관을 포함하는 필터 장치.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 진동 생성 수단은
    상기 필터에 진동을 부여하는 바이브레이터를 포함하는 필터 장치.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 바이브레이터는
    상기 하우징 외부에 설치되고,
    상기 바이브레이터로부터 진동을 상기 필터에 전달하는 진동 전달아암을 포함하는 필터 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 필터 표면에 달라붙은 이물질을 제거하기 위한 브러쉬를 더 포함하되;
    상기 브러쉬는 외부 동력 또는 처리 유체의 기류에 의해 회전하면서 상기 필터 표면을 크리닝하는 필터 장치.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 하우징은
    상기 필터 아래에 위치되고, 처리 유체를 회전시켜 처리 유체 중에 포함된 이물질을 분리시키는 사이클론 챔버를 더 포함하는 필터 장치.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 사이클론 챔버는
    내벽면에 이물질의 퇴적을 최소화하기 위해 내부면에 연속적으로 배열된 복수개의 리블렛을 포함하는 필터 장치.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 사이클론 챔버는
    내벽면에 이물질의 퇴적을 최소화하기 위해 내벽면에 길이방향으로 연속적으로 배치되는 원형파이프들을 포함하는 필터 장치.
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 사이클론 챔버에서 분리된 이물질과 상기 필터로부터 털려진 이물질이 저장되는 이물질 수거 챔버를 더 포함하는 필터 장치.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 제1포트에 연결되고, 처리 유체가 상기 하우징으로 유입되기 전에 처리 유체를 연소시키는 버닝 방식의 토치 스크러버를 더 포함하는 필터 장치.
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