KR20220000512A - Display apparatus - Google Patents

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KR20220000512A
KR20220000512A KR1020200078250A KR20200078250A KR20220000512A KR 20220000512 A KR20220000512 A KR 20220000512A KR 1020200078250 A KR1020200078250 A KR 1020200078250A KR 20200078250 A KR20200078250 A KR 20200078250A KR 20220000512 A KR20220000512 A KR 20220000512A
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display device
display
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substrate
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KR1020200078250A
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조현진
김봉철
이응창
김지훈
박경섭
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엘지디스플레이 주식회사
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Abstract

A display device according to an embodiment of the present invention includes: a first flexible substrate; a second flexible substrate disposed on the first flexible substrate and including at least one opening hole; and a display part disposed on the second flexible substrate and consisting of a transistor and a thin film transistor. The opening hole may be disposed to overlap a light emitting area, which is an area where a display element emits light. Accordingly, the present invention can minimize the polarization phenomenon of a polymer substrate and solve the problem of poor driving of the display area by forming an opening in the polymer substrate.

Description

표시 장치{DISPLAY APPARATUS}display device {DISPLAY APPARATUS}

본 명세서는 표시 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플렉서빌리티(flexibility) 및 강성이 모두 우수한 플렉서블 기판을 포함하는 표시 장치에 관한 것이다.The present specification relates to a display device, and more particularly, to a display device including a flexible substrate excellent in both flexibility and rigidity.

최근, 본격적인 정보화 시대로 접어듦에 따라 전기적 정보 신호를 시각적으로 표현하는 디스플레이 분야가 급속도로 발전해 왔고, 이에 부응하여 박형화, 경량화, 저 소비전력화의 우수한 성능을 지닌 여러 가지 다양한 표시 장치(Display Apparatus)가 개발되고 있다. 이와 같은 표시 장치의 구체적인 예로는 액정 표시 장치(LCD), 유기 발광 표시 장치(OLED) 및 퀀텀닷 발광 표시 장치(QLED)와 같은 전계 발광 표시 장치(Electroluminescence Display)등을 들 수 있다.Recently, as we enter the information age in earnest, the field of display that visually expresses electrical information signals has developed rapidly, and in response to this, various display devices (Display Apparatus) with excellent performance of thinness, light weight, and low power consumption have been developed. is being developed Specific examples of such a display device include an electroluminescence display such as a liquid crystal display (LCD), an organic light emitting display (OLED), and a quantum dot light emitting display (QLED).

표시 장치는 컴퓨터의 모니터 및 TV 뿐만 아니라 개인 휴대 기기까지 그 적용 범위가 다양해지고 있으며, 넓은 표시 면적을 가지면서도 감소된 부피 및 무게를 갖는 표시 장치에 대한 연구가 진행되고 있다.Display devices are being applied to personal portable devices as well as computer monitors and TVs, and research on a display device having a reduced volume and weight while having a large display area is in progress.

또한, 최근에는 플렉서블(flexible)하거나 스트레쳐블(stretchable)한 소재로 이루어진 기판에 표시부, 배선 등을 형성하여, 일정 방향으로 늘어나거나, 종이처럼 휘어지거나, 돌돌 말아도 화상 표시가 가능한 차세대 표시 장치가 개발되고 있다.In addition, in recent years, a display unit, wiring, etc. is formed on a substrate made of a flexible or stretchable material, and an image display is possible even if it is stretched in a certain direction, bent like paper, or rolled up. is being developed

본 발명이 해결하고자 하는 과제는 높은 신뢰성을 갖는 플렉서블 기판을 포함하는 표시 장치를 제공하는 것이다.SUMMARY An object of the present invention is to provide a display device including a flexible substrate having high reliability.

본 발명이 해결하고자 하는 다른 과제는 강성과 플렉서빌리티를 동시에 만족시킬 수 있는 플렉서블 기판을 포함하는 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a display device including a flexible substrate capable of simultaneously satisfying rigidity and flexibility.

본 발명이 해결하고자 하는 또 다른 과제는 감광성 고분자 기재에 개구홀을 형성하여, 광 또는 전계에 의해 야기되는 불량을 최소화할 수 있는 표시 장치를 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a display device capable of minimizing defects caused by light or an electric field by forming an opening in a photosensitive polymer substrate.

본 발명의 과제들은 이상에서 언급한 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The problems of the present invention are not limited to the problems mentioned above, and other problems not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.

전술한 바와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 제1 플렉서블 기재, 제1 플렉서블 기재 상에 배치되고, 적어도 하나의 개구홀을 포함하는 제2 플렉서블 기재 및 제2 플렉서블 기재 상에 배치되고, 트랜지스터 및 박막 트랜지스터로 구성되는 표시부를 포함하고, 개구홀은 표시 소자가 발광하는 영역인 발광 영역에 중첩하여 배치될 수 있다. In order to solve the above problems, a display device according to an exemplary embodiment of the present invention includes a first flexible substrate, a second flexible substrate disposed on the first flexible substrate, the second flexible substrate including at least one opening hole, and a second It may be disposed on a flexible substrate, and may include a display unit including a transistor and a thin film transistor, and the opening may be disposed to overlap a light emitting area that is an area in which the display element emits light.

전술한 바와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치는, 화상을 표시하는 표시 영역 및 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역이 정의된 플렉서블 기판 및 플렉서블 기판 상에 뱅크에 의해 구획된 개구 영역에 배치된 표시 소자를 포함하고, 플렉서블 기판은, 글라스 기재 및 글라스 기재 상의 감광성 고분자(photosensitive polymer) 기재를 포함하고, 감광성 고분자 기재에는 개구 영역에 대응되도록 개구부가 형성될 수 있다.In order to solve the above problems, a display device according to another embodiment of the present invention includes a flexible substrate in which a display area for displaying an image and a non-display area surrounding the display area are defined, and the flexible substrate is partitioned by a bank. a display device disposed in the open area, the flexible substrate may include a glass substrate and a photosensitive polymer substrate on the glass substrate, and an opening may be formed in the photosensitive polymer substrate to correspond to the opening region.

기타 실시예의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.Details of other embodiments are included in the detailed description and drawings.

본 발명은 강성과 플렉서빌리티를 동시에 만족시킬 수 있는 플렉서블 기판을 제공할 수 있다.The present invention may provide a flexible substrate capable of simultaneously satisfying rigidity and flexibility.

본 발명은 고분자 기재에 개구홀을 형성함으로써, 고분자 기재의 분극 현상을 최소화하여 표시 영역의 구동 불량 문제를 해결할 수 있다.According to the present invention, by forming an opening in the polymer substrate, the polarization phenomenon of the polymer substrate can be minimized, thereby solving the problem of poor driving of the display area.

본 발명은 고분자 기재에 개구홀을 형성함으로써, 빛의 위상 지연이 발생하지 않아, 위상 보상 필름이 불필요함으로써, 표시 장치의 박형화를 도모할 수 있다.According to the present invention, since an opening hole is formed in the polymer substrate, a phase delay of light does not occur, and a phase compensation film is not required, thereby reducing the thickness of the display device.

본 발명에 따른 효과는 이상에서 예시된 내용에 의해 제한되지 않으며, 더욱 다양한 효과들이 본 발명 내에 포함되어 있다.The effect according to the present invention is not limited by the contents exemplified above, and more various effects are included in the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 평면도이다.
도 2는 도 1의 II-II'에 따른 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 3은 도 1의 III-III'에 따른 표시 장치의 개략적인 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 플렉서블 기판에 대한 개략적인 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제2 플렉서블 기재의 두께와 표시 장치의 타격 강성과의 관계를 나타내는 그래프이다.
도 6a는 종래의 표시 장치의 표시 영역의 일부를 나타내는 도면이다.
도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 표시 영역의 일부를 나타내는 도면이다.1 is a schematic plan view of a display device according to an exemplary embodiment.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a display device taken along line II-II' of FIG. 1 .
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a display device taken along line III-III′ of FIG. 1 .
4 is a schematic plan view of a flexible substrate of a display device according to an exemplary embodiment.
5 is a graph illustrating a relationship between a thickness of a second flexible substrate of a display device and a striking rigidity of the display device according to an exemplary embodiment of the present invention.
6A is a diagram illustrating a part of a display area of a conventional display device.
6B is a diagram illustrating a portion of a display area of a display device according to an exemplary embodiment.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나, 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 제한되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.Advantages and features of the present invention and methods of achieving them will become apparent with reference to the embodiments described below in detail in conjunction with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be embodied in various different forms, and only these embodiments allow the disclosure of the present invention to be complete, and common knowledge in the technical field to which the present invention pertains It is provided to fully inform those who have the scope of the invention, and the present invention is only defined by the scope of the claims.

본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 제한되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 발명 상에서 언급된 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.The shapes, sizes, proportions, angles, numbers, etc. disclosed in the drawings for explaining the embodiments of the present invention are illustrative and the present invention is not limited to the illustrated matters. Like reference numerals refer to like elements throughout. In addition, in describing the present invention, if it is determined that a detailed description of a related known technology may unnecessarily obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. When 'includes', 'have', 'consists of', etc. mentioned in the present invention are used, other parts may be added unless 'only' is used. When a component is expressed in the singular, cases including the plural are included unless otherwise explicitly stated.

구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다. In interpreting the components, it is construed as including an error range even if there is no separate explicit description.

위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.In the case of a description of the positional relationship, for example, when the positional relationship of two parts is described as 'on', 'on', 'on', 'beside', etc., 'right' Alternatively, one or more other parts may be positioned between two parts unless 'directly' is used.

소자 또는 층이 다른 소자 또는 층 "위 (on)"로 지칭되는 것은 다른 소자 바로 위에 또는 중간에 다른 층 또는 다른 소자를 개재한 경우를 모두 포함한다.Reference to a device or layer “on” another device or layer includes any intervening layer or other device directly on or in the middle of the other device or layer.

또한 제 1, 제 2 등이 다양한 구성 요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성 요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제 1 구성 요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제 2 구성 요소일 수도 있다.Also, although the first, second, etc. are used to describe various components, these components are not limited by these terms. These terms are only used to distinguish one component from another. Accordingly, the first component mentioned below may be the second component within the spirit of the present invention.

명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.Like reference numerals refer to like elements throughout.

도면에서 나타난 각 구성의 크기 및 두께는 설명의 편의를 위해 도시된 것이며, 본 발명이 도시된 구성의 크기 및 두께에 반드시 한정되는 것은 아니다.The size and thickness of each component shown in the drawings are illustrated for convenience of description, and the present invention is not necessarily limited to the size and thickness of the illustrated component.

본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.Each feature of the various embodiments of the present invention may be partially or wholly combined or combined with each other, technically various interlocking and driving are possible, and each of the embodiments may be independently implemented with respect to each other or implemented together in a related relationship. may be

이하에서는 도면을 참조하여 본 발명에 대해 설명하기로 한다. Hereinafter, the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 개략적인 평면도이다. 도 2는 도 1의 II-II'에 따른 표시 장치의 개략적인 단면도이다. 도 3은 도 1의 III-III'에 따른 표시 장치의 개략적인 단면도이다. 설명의 편의 상, 도 1에서는 표시 장치(100)의 다양한 구성요소 중 플렉서블 기판(110)만을 도시하였고, 도 2에서는 표시부(DP)를 개략적으로 도시하였다. 이하에서는, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)가 유기 발광 표시 장치인 것으로 설명하나, 이에 제한되는 것은 아니다. 1 is a schematic plan view of a display device according to an exemplary embodiment. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a display device taken along line II-II' of FIG. 1 . FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a display device taken along line III-III′ of FIG. 1 . For convenience of explanation, only the flexible substrate 110 is illustrated among various components of the display device 100 in FIG. 1 , and the display unit DP is schematically illustrated in FIG. 2 . Hereinafter, the display device 100 according to an exemplary embodiment will be described as an organic light emitting display device, but the present invention is not limited thereto.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 표시 장치(100)는 플렉서블 기판(110), 박막 트랜지스터(130), 표시 소자(140) 및 봉지층(150)을 포함한다.1 to 3 , the display device 100 includes a flexible substrate 110 , a thin film transistor 130 , a display device 140 , and an encapsulation layer 150 .

플렉서블 기판(110)은 표시 장치(100)의 다른 구성요소들을 지지하기 위한 베이스 기재로, 절연 물질로 이루어질 수 있다. 플렉서블 기판(110)은 플렉서빌리티를 갖는 물질을 포함할 수 있다. 이에, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)는 다양한 플렉서블 표시 장치, 예를 들어, 폴더블(foldable) 표시 장치, 롤러블(rollable) 표시 장치, 스트레쳐블(stretchable) 표시 장치에 적용될 수 있다. The flexible substrate 110 is a base material for supporting other components of the display device 100 , and may be made of an insulating material. The flexible substrate 110 may include a material having flexibility. Accordingly, the display device 100 according to an embodiment of the present invention can be applied to various flexible display devices, for example, a foldable display device, a rollable display device, and a stretchable display device. can be applied.

도 1을 참조하면, 플렉서블 기판(110)은 표시 영역(AA) 및 비표시 영역(NA)을 포함한다. Referring to FIG. 1 , the flexible substrate 110 includes a display area AA and a non-display area NA.

표시 영역(AA)은 화소를 구성하는 복수의 서브 화소(SP)가 배치되어 화상을 표시하는 영역이다. 표시 영역(AA)에는 영상을 표시하기 위한 복수의 서브 화소(SP) 및 복수의 서브 화소(SP)를 구동하기 위한 회로부가 형성될 수 있다. 복수의 서브 화소(SP) 각각은 최소 발광 단위로, 예를 들어, 적색 서브 화소, 녹색 서브 화소, 청색 서브 화소 및 백색 서브 화소를 포함할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 회로부는 서브 화소(SP)를 구동하기 위한 다양한 박막 트랜지스터, 커패시터 및 배선을 포함할 수 있다. 예를 들어, 회로부는 구동 박막 트랜지스터, 스위칭 박막 트랜지스터, 스토리지 커패시터, 게이트 배선 및 데이터 배선 등과 같은 다양한 구성요소로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The display area AA is an area in which a plurality of sub-pixels SP constituting a pixel are arranged to display an image. A plurality of sub-pixels SP for displaying an image and a circuit unit for driving the plurality of sub-pixels SP may be formed in the display area AA. Each of the plurality of sub-pixels SP is a minimum emission unit and may include, for example, a red sub-pixel, a green sub-pixel, a blue sub-pixel, and a white sub-pixel, but is not limited thereto. The circuit unit may include various thin film transistors, capacitors, and wires for driving the sub-pixels SP. For example, the circuit unit may include various components such as a driving thin film transistor, a switching thin film transistor, a storage capacitor, a gate line, and a data line, but is not limited thereto.

비표시 영역(NA)은 화상이 표시되지 않는 영역이다. 비표시 영역(NA)에는 표시 영역(AA)의 복수의 서브 화소(SP)를 구동하기 위한 다양한 배선 및 구동 소자가 배치될 수 있고, 예를 들어, 신호를 전달하기 위한 링크 배선, 게이트 구동 회로, 게이트 드라이버 IC, 데이터 드라이버 IC, 플렉서블 필름 등이 배치될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The non-display area NA is an area in which no image is displayed. Various wirings and driving elements for driving the plurality of sub-pixels SP of the display area AA may be disposed in the non-display area NA, for example, a link line for transmitting a signal and a gate driving circuit , a gate driver IC, a data driver IC, a flexible film, etc. may be disposed, but is not limited thereto.

비표시 영역(NA)은 도 1에 도시된 바와 같이 표시 영역(AA)을 둘러싸는 영역일 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 비표시 영역(NA)은 표시 영역(AA)의 적어도 일 측면으로부터 연장되는 영역으로 정의될 수도 있다. The non-display area NA may be an area surrounding the display area AA as shown in FIG. 1 . However, the present invention is not limited thereto, and the non-display area NA may be defined as an area extending from at least one side of the display area AA.

도 2 및 도 3을 참조하면, 플렉서블 기판(110)은 제1 플렉서블 기재(111), 제2 플렉서블 기재(112) 및 버퍼층(113)을 포함한다.2 and 3 , the flexible substrate 110 includes a first flexible substrate 111 , a second flexible substrate 112 , and a buffer layer 113 .

제1 플렉서블 기재(111)는 표시 장치(100)의 다양한 구성요소들을 지지하는 기재이다. 제1 플렉서블 기재(111)는 플렉서빌리티를 갖도록 구현될 수 있다. 또한, 제1 플렉서블 기재(111)는 투명한 물질로 이루어질 수도 있다. 예를 들어, 제1 플렉서블 기재(111)는 글라스(glass)로 이루어질 수 있다. 이때, 제1 플렉서블 기재(111)로 사용되는 글라스 기재는 충분한 플렉서빌리티를 만족시킬 수 있는 박막 글라스(thin glass) 기재일 수 있다. 예를 들어, 제1 플렉서블 기재의 두께는 10㎛ 내지 100㎛일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The first flexible substrate 111 is a substrate that supports various components of the display device 100 . The first flexible substrate 111 may be implemented to have flexibility. Also, the first flexible substrate 111 may be made of a transparent material. For example, the first flexible substrate 111 may be made of glass. In this case, the glass substrate used as the first flexible substrate 111 may be a thin glass substrate capable of satisfying sufficient flexibility. For example, the thickness of the first flexible substrate may be 10 μm to 100 μm, but is not limited thereto.

도 2 및 도 3을 참조하면, 제1 플렉서블 기재(111) 상에 제2 플렉서블 기재(112)가 배치된다. 제2 플렉서블 기재(112)는 제1 플렉서블 기재(111)와 함께 표시 장치(100)의 다양한 구성요소들을 지지하는 기재이다. 제2 플렉서블 기재(112)는 기판의 플렉서빌리티를 향상시킴과 동시에 강성도 보완할 수 있다.2 and 3 , the second flexible substrate 112 is disposed on the first flexible substrate 111 . The second flexible substrate 112 is a substrate that supports various components of the display device 100 together with the first flexible substrate 111 . The second flexible substrate 112 may improve the flexibility of the substrate and at the same time supplement the rigidity.

제2 플렉서블 기재(112)는 복수의 개구홀(H)을 포함한다. 복수의 개구홀(H)은 표시 영역(AA)에서 제2 플렉서블 기재(112)를 패터닝하여, 형성될 수 있다. 구체적으로, 도 3에 도시된 바와 같이, 복수의 개구홀(H)의 단면은 역테이퍼(reversed taper) 형성일 수 있고, 패터닝된 제2 플렉서블 기재(112)의 단면은 테이퍼(taper) 형상일 수 있다. 보다 구체적으로, 제2 플렉서블 기재(112)의 측면은 경사를 갖고, 제2 플렉서블 기재(112)는 하부에서 상부로 갈수록 단면의 면적이 줄어드는 형상을 갖는다. 이와 반대로 개구홀(H)의 측면은 경사를 갖고, 개구홀(H)은 상부에서 하부로 갈수록 단면의 면적이 줄어드는 형상을 갖는다. 다만, 복수의 개구홀(H)의 단면 및 제2 플렉서블 기재(112)의 단면의 형상은 이에 제한되지 않는다.The second flexible substrate 112 includes a plurality of opening holes (H). The plurality of opening holes H may be formed by patterning the second flexible substrate 112 in the display area AA. Specifically, as shown in FIG. 3 , the cross-section of the plurality of opening holes H may be formed in a reversed taper shape, and the cross-section of the patterned second flexible substrate 112 may have a tapered shape. can More specifically, the side surface of the second flexible substrate 112 has a slope, and the second flexible substrate 112 has a shape in which the cross-sectional area decreases from the bottom to the top. On the contrary, the side surface of the opening hole H has a slope, and the opening hole H has a shape in which the area of the cross section decreases from the top to the bottom. However, the cross-section of the plurality of opening holes H and the shape of the cross-section of the second flexible substrate 112 are not limited thereto.

그리고 도 3에 도시된 바와 같이, 복수의 개구홀(H)은 표시 소자(140)가 빛을 상부 또는 하부로 발광하는 영역인 발광 영역(OP)에 대응되도록 형성될 수 있다. 즉, 복수의 개구홀(H)은 표시 소자(140)가 발광 영역(OP)에 중첩하여 배치될 수 있다. 상술한 발광 영역(OP)은 뱅크(124)에 의해 표시 소자(140)가 구획되는 개구 영역(OP)으로도 정의될 수 있다. 따라서, 복수의 개구홀(H)은 뱅크(124)에 의해 구획되는 개구 영역(OP)에 대응되거나 중첩될 수 있다.And, as shown in FIG. 3 , the plurality of opening holes H may be formed to correspond to the light emitting area OP, which is an area in which the display device 140 emits light upward or downward. That is, the plurality of opening holes H may be disposed so that the display device 140 overlaps the light emitting area OP. The above-described light emitting area OP may also be defined as an opening area OP in which the display device 140 is partitioned by the bank 124 . Accordingly, the plurality of opening holes H may correspond to or overlap the opening region OP partitioned by the bank 124 .

제2 플렉서블 기재(112)는 플렉서빌리티를 갖는 플라스틱 물질로 이루어질 수 있다. 이에, 제2 플렉서블 기재(112)는 제1 플렉서블 기재(111)보다 낮은 모듈러스(modulus)를 갖는 물질로 이루어질 수 있다. 또한, 제2 플렉서블 기재(112)는 투명한 물질로 이루어질 수도 있다. 제2 플렉서블 기재(112)는 고분자 물질로 이루어질 수 있으며, 폴리에스터계 고분자, 아크릴계 고분자, 폴리올레핀계 고분자 및 이들의 공중합체 중 어느 하나를 포함할 수 있다. 예를 들어, 제2 플렉서블 기재(112)는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT), 폴리실란(polysilane), 폴리실록산(polysiloxane), 폴리실라잔(polysilazane), 폴리카르보실란(polycarbosilane), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리메타크릴레이트(polymethacrylate), 폴리메틸아크릴레이트(polymethylacrylate), 폴리메틸메타크릴레이트(polymethylmetacrylate), 폴리에틸아크릴레이트(polyethylacrylate), 폴리에틸메타크릴레이트(polyethylmetacrylate), 사이클릭 올레핀 코폴리머(COC), 사이클릭 올레핀 폴리머(COP), 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 폴리이미드(PI), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리스타이렌(PS), 폴리아세탈(POM), 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리에스테르설폰(PES), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 폴리비닐클로라이드(PVC), 폴리카보네이트(PC), 폴리비닐리덴플로라이드(PVDF), 퍼플루오로알킬 고분자(PFA), 스타이렌아크릴나이트릴코폴리머(SAN) 및 이들의 조합으로 이루어질 수 있다. The second flexible substrate 112 may be made of a plastic material having flexibility. Accordingly, the second flexible substrate 112 may be made of a material having a lower modulus than that of the first flexible substrate 111 . In addition, the second flexible substrate 112 may be made of a transparent material. The second flexible substrate 112 may be made of a polymer material, and may include any one of a polyester-based polymer, an acrylic polymer, a polyolefin-based polymer, and a copolymer thereof. For example, the second flexible substrate 112 may include polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polysilane, polysiloxane, polysilazane, polycarbosilane ( polycarbosilane, polyacrylate, polymethacrylate, polymethylacrylate, polymethylmethacrylate, polyethylacrylate, polyethylmethacrylate ), cyclic olefin copolymer (COC), cyclic olefin polymer (COP), polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyimide (PI), polymethyl methacrylate (PMMA), polystyrene (PS), Polyacetal (POM), polyether ether ketone (PEEK), polyester sulfone (PES), polytetrafluoroethylene (PTFE), polyvinyl chloride (PVC), polycarbonate (PC), polyvinylidene fluoride (PVDF) ), perfluoroalkyl polymer (PFA), styrene-acrylnitrile copolymer (SAN), and combinations thereof.

또한, 제2 플렉서블 기재(112)는 감광성 고분자(Photosensitive polymer)로 구성될 수 있다. 즉, 제2 플렉서블 기재(112)는 감광성 고분자 기재로 명명될 수도 있다. 특히, 제2 플렉서블 기재(112)는 내화학성, 내열성 등이 우수하고 플렉서빌리티가 우수한 폴리이미드인 것이 바람직하나, 이에 제한되는 것은 아니다. 따라서, 제2 플렉서블 기재(112)는 포토 공정(Photolithography)을 통해 패터닝됨으로써, 복수의 개구홀(H)을 형성할 수 있다.In addition, the second flexible substrate 112 may be formed of a photosensitive polymer. That is, the second flexible substrate 112 may be referred to as a photosensitive polymer substrate. In particular, the second flexible substrate 112 is preferably a polyimide having excellent chemical resistance and heat resistance and excellent flexibility, but is not limited thereto. Accordingly, the second flexible substrate 112 may be patterned through a photolithography process to form a plurality of opening holes H.

본 발명과 달리, 제2 플렉서블 기재에 개구홀이 형성되지 않을 경우, 표시 장치에 모든 영역에 제2 플렉서블 기재가 배치된다. 이러한 경우, 마찰 현상에 따른 전하와 같은 외부 전하의 영향으로 인해, 제2 플렉서블 기재를 구성하는 물질의 분극 현상이 일어 날 수 있다. 따라서, 분극 현상으로 인해 불필요한 전계가 발생하여, 박막 트랜지스터의 구동 불량이 발생할 수 있는 문제점이 발생할 수 있다. 또한, 표시 소자에서 발광되는 빛이 제2 플렉서블 기재를 통과하게 된다. 따라서, 표시 소자에서 발광되는 빛의 위상은 지연되어, 이를 보상하기 위한 편광판이 추가로 필요하게 된다.Unlike the present invention, when the opening hole is not formed in the second flexible substrate, the second flexible substrate is disposed in all regions of the display device. In this case, polarization of the material constituting the second flexible substrate may occur due to the influence of external charges such as electric charges due to friction phenomena. Accordingly, an unnecessary electric field is generated due to the polarization phenomenon, which may cause a problem in that a driving defect of the thin film transistor may occur. In addition, light emitted from the display element passes through the second flexible substrate. Accordingly, the phase of light emitted from the display device is delayed, and a polarizing plate for compensating for this is additionally required.

그러나 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서, 제2 플렉서블 기재(112)는 발광 영역(OP) 혹은 개구 영역(OP)에 대응되도록 복수의 개구홀(H)을 포함한다. 즉, 제2 플렉서블 기재(112)가 형성되는 영역이 감소될 수 있다. 따라서, 제2 플렉서블 기재(112)에 대한 비용도 절감될 뿐만 아니라 제2 플렉서블 기재(112)를 구성하는 물질의 분극 현상도 감소된다. 이에, 분극 현상으로 인한 불필요한 전계도 감소됨으로써, 박막 트랜지스터의 구동 불량 문제를 방지할 수 있다. 상술한 본원 발명의 박막 트랜지스터의 구동 불량 문제 해결에 대한 효과는 도 6을 참조하여 구체적으로 후술한다.However, in the display device 100 according to an embodiment of the present invention, the second flexible substrate 112 includes a plurality of opening holes H to correspond to the emission region OP or the opening region OP. That is, the area in which the second flexible substrate 112 is formed may be reduced. Accordingly, not only the cost of the second flexible substrate 112 is reduced, but also the polarization of the material constituting the second flexible substrate 112 is reduced. Accordingly, an unnecessary electric field due to the polarization phenomenon is also reduced, thereby preventing a problem of poor driving of the thin film transistor. The above-described effect on solving the problem of driving failure of the thin film transistor of the present invention will be described below in detail with reference to FIG. 6 .

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서, 표시 소자(140)에서 발광되는 빛이 제2 플렉서블 기재(112)를 통과하지 않게 됨으로써, 표시 소자(140)에서 발광되는 빛의 위상 지연이 발생하지 않는다. 따라서, 위상을 보상하기 위한 편광판이 추가로 필요하지 않으므로, 표시 장치(100)의 박형화 및 비용 절감을 도모할 수 있다. 그리고, 표시 장치(100)가 박형화되어, 표시 장치(100)의 플렉서빌리티 또한 향상될 수 있다.In addition, in the display device 100 according to an embodiment of the present invention, light emitted from the display element 140 does not pass through the second flexible substrate 112 , so that the light emitted from the display element 140 is reduced. No phase delay occurs. Accordingly, since an additional polarizing plate for compensating the phase is not required, the display device 100 can be thinned and reduced in cost. In addition, the display device 100 may be thinned, so that flexibility of the display device 100 may also be improved.

도 2 및 도 3를 참조하면, 제2 플렉서블 기재(112) 상에 버퍼층(113)이 배치된다. 버퍼층(113)은 표시부(DP)와 제2 플렉서블 기재(112) 사이에 배치되어, 표시부(DP)와 고분자 물질로 이루어진 제2 플렉서블 기재(112) 사이의 접착력을 향상시킨다. 버퍼층(113)은 균일하지 못한 제2 플렉서블 기재(112)의 표면을 평탄화할 수 있어, 표시부(DP)와 고분자 물질로 이루어진 제2 플렉서블 기재(112) 사이의 들뜸 현상 또는 박리 현상을 억제할 수 있다. 2 and 3 , a buffer layer 113 is disposed on the second flexible substrate 112 . The buffer layer 113 is disposed between the display unit DP and the second flexible substrate 112 to improve adhesion between the display unit DP and the second flexible substrate 112 made of a polymer material. The buffer layer 113 may planarize the non-uniform surface of the second flexible substrate 112, thereby suppressing a lifting or peeling phenomenon between the display unit DP and the second flexible substrate 112 made of a polymer material. have.

버퍼층(113)은 플렉서블 기판(110)의 투과율 감소를 최소화할 수 있도록 고투과율 물질을 사용하는 것이 바람직하나, 이에 제한되는 것은 아니다. 예를 들어, 버퍼층(113)은 이산화규소(SiO2), 이산화지르코늄(ZrO2), 이산화게르마늄(GeO2), 이산화주석(SnO2), 이산화납(PbO2), 이산화티타늄(TiO2), 이산화망간(MnO2) 및 이들의 조합으로 이루어질 수 있다. The buffer layer 113 is preferably made of a high-transmittance material so as to minimize a decrease in transmittance of the flexible substrate 110 , but is not limited thereto. For example, the buffer layer 113 is silicon dioxide (SiO 2 ), zirconium dioxide (ZrO 2 ), germanium dioxide (GeO 2 ), tin dioxide (SnO 2 ), lead dioxide (PbO 2 ), titanium dioxide (TiO 2 ) , manganese dioxide (MnO 2 ) and combinations thereof.

본 명세서에서는 플렉서블 기판(110)이 제1 플렉서블 기재(111), 제2 플렉서블 기재(112) 및 버퍼층(113)을 모두 포함하는 것으로 정의되었으나, 플렉서블 기판(110)의 구성은 이에 제한되지 않는다. 즉, 플렉서블 기판(110)은 투습을 방지하기 위하여 투습 방지층을 더 포함하거나, 수소 전이를 방지하기 위하여 수소 흡수층을 더 포함하거나, 오염 물질의 침투를 차단하는 배리어층을 더 포함할 수 있다. 상술한 배리어층은 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 단일층 또는 이들의 다중층으로 이루어질 수 있다. 그리고, 배리어층 또한 버퍼층으로 지칭될 수도 있다.In this specification, the flexible substrate 110 is defined as including all of the first flexible substrate 111 , the second flexible substrate 112 , and the buffer layer 113 , but the configuration of the flexible substrate 110 is not limited thereto. That is, the flexible substrate 110 may further include a moisture barrier layer to prevent moisture permeation, a hydrogen absorption layer to prevent hydrogen transfer, or a barrier layer to block penetration of contaminants. The above-described barrier layer may be formed of a single layer of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx) or multiple layers thereof. In addition, the barrier layer may also be referred to as a buffer layer.

도 2를 참조하면, 플렉서블 기판(110) 상에 표시부(DP)가 배치된다. 본 명세서에서 표시부(DP)는 박막 트랜지스터(130) 및 표시 소자(140)로 구성되는 것으로 정의될 수 있다. 도 2에서는 도시의 편의를 위해 박막 트랜지스터(130) 및 표시 소자(140)가 배치되는 표시 영역(AA)의 구성을 표시부(DP)로 개략화하여 도시하였다.Referring to FIG. 2 , the display unit DP is disposed on the flexible substrate 110 . In this specification, the display unit DP may be defined as being composed of the thin film transistor 130 and the display device 140 . In FIG. 2 , the configuration of the display area AA in which the thin film transistor 130 and the display element 140 are disposed is schematically illustrated as a display unit DP for convenience of illustration.

한편, 표시부(DP)에서 발광된 빛이 방출되는 방향에 따라 표시 표시 장치(100)은 탑 에미션(top emission) 또는 바텀 에미션(bottom emission) 방식으로 구성될 수 있다. Meanwhile, the display device 100 may be configured in a top emission method or a bottom emission method according to a direction in which the light emitted from the display unit DP is emitted.

탑 에미션 방식은 표시부(DP)에서 발광된 빛이 표시 장치(100)의 상부로 발광되는 방식이다. 탑 에미션 방식인 경우, 표시부(DP)에서 발광된 빛을 플렉서블 기판(110)의 상부로, 즉, 캐소드(143) 측으로 진행시키기 위해, 애노드(141) 하부에 반사층이 형성될 수 있다. The top emission method is a method in which light emitted from the display unit DP is emitted to an upper portion of the display device 100 . In the case of the top emission method, a reflective layer may be formed under the anode 141 to propagate the light emitted from the display unit DP toward the upper portion of the flexible substrate 110 , that is, toward the cathode 143 .

바텀 에미션 방식은 표시부(DP)에서 발광된 빛이 표시 장치(100)의 하부로 발광되는 방식이다. 바텀 에미션 방식인 경우, 표시부(DP)에서 발광된 빛을 플렉서블 기판(110)의 하부로 진행시키기 위해, 애노드(141)는 투명 도전성 물질로만 이루어질 수 있고, 캐소드(143)가 반사율이 높은 금속 물질로 이루어질 수 있다. The bottom emission method is a method in which light emitted from the display unit DP is emitted to the lower portion of the display device 100 . In the case of the bottom emission method, in order to propagate the light emitted from the display unit DP to the lower portion of the flexible substrate 110 , the anode 141 may be formed of only a transparent conductive material, and the cathode 143 may be formed of a metal having high reflectance. It can be made of material.

이하에서는 설명의 편의를 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)가 바텀 에미션 방식의 표시 장치인 것으로 가정하여 설명하기로 하지만 이에 제한되는 것은 아니다.Hereinafter, for convenience of description, it is assumed that the display device 100 according to an embodiment of the present invention is a bottom emission type display device, but the present invention is not limited thereto.

도 3을 참조하면, 플렉서블 기판(110) 상에 박막 트랜지스터(130)가 배치된다. 박막 트랜지스터(130)는 표시 장치(100)의 구동 소자로 사용될 수 있다. 박막 트랜지스터(130)는 게이트 전극(131), 액티브층(132), 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)을 포함한다. 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서 박막 트랜지스터(130)는 게이트 전극(131) 상에 액티브층(132)이 배치되고, 액티브층(132) 상에 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)이 배치된 구조로, 바텀 게이트(bottom gate) 구조의 박막 트랜지스터인 것으로 도시하였으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 즉, 박막 트랜지스터(130)는 액티브층상에 게이트 전극이 배치되고, 게이트 전극 상에 소스 전극 및 드레인 전극이 배치된 구조인, 탑 게이트(top gate) 구조의 박막 트랜지스터일 수 도 있다.Referring to FIG. 3 , the thin film transistor 130 is disposed on the flexible substrate 110 . The thin film transistor 130 may be used as a driving element of the display device 100 . The thin film transistor 130 includes a gate electrode 131 , an active layer 132 , a source electrode 133 , and a drain electrode 134 . In the display device 100 according to an embodiment of the present invention, in the thin film transistor 130 , an active layer 132 is disposed on a gate electrode 131 , and a source electrode 133 and a drain are disposed on the active layer 132 . Although the electrode 134 is disposed as a thin film transistor having a bottom gate structure, the present invention is not limited thereto. That is, the thin film transistor 130 may be a thin film transistor having a top gate structure, in which a gate electrode is disposed on an active layer, and a source electrode and a drain electrode are disposed on the gate electrode.

박막 트랜지스터(130)의 게이트 전극(131)이 플렉서블 기판(110) 상에 배치된다. 게이트 전극(131)은 다양한 금속 물질, 예를 들어, 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd), 구리(Cu) 또는 둘 이상의 합금으로 이루어진 단일층 또는 이들의 다중층일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.The gate electrode 131 of the thin film transistor 130 is disposed on the flexible substrate 110 . The gate electrode 131 may be formed of various metal materials, for example, molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), or copper. (Cu) or a single layer or a multilayer thereof made of two or more alloys, but is not limited thereto.

게이트 전극(131) 상에 게이트 절연층(121)이 배치된다. 게이트 절연층(121)은 게이트 전극(131)과 액티브층(132)을 전기적으로 절연시키기 위한 층으로, 절연 물질로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 게이트 절연층(121)은 무기물인 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 단일층 또는 질화 실리콘(SiNx) 또는 산화 실리콘(SiOx)의 다중층으로 구성될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.A gate insulating layer 121 is disposed on the gate electrode 131 . The gate insulating layer 121 is a layer for electrically insulating the gate electrode 131 and the active layer 132 and may be made of an insulating material. For example, the gate insulating layer 121 may be formed of a single layer of inorganic silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx) or a multilayer of silicon nitride (SiNx) or silicon oxide (SiOx), but is limited thereto. it is not going to be

게이트 절연층(121) 상에 액티브층(132)이 배치된다. 액티브층(132)은 게이트 전극(131)과 중첩하도록 배치된다. 예를 들어, 액티브층(132)은 산화물 반도체로 형성될 수도 있고, 비정질 실리콘(amorphous silicon, a-Si), 다결정 실리콘(polycrystalline silicon, poly-Si), 또는 유기물(organic) 반도체 등으로 형성될 수 있다. An active layer 132 is disposed on the gate insulating layer 121 . The active layer 132 is disposed to overlap the gate electrode 131 . For example, the active layer 132 may be formed of an oxide semiconductor, amorphous silicon (a-Si), polycrystalline silicon (poly-Si), or an organic semiconductor. can

액티브층(132) 상에 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)이 배치된다. 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)은 동일 층에서 이격되어 배치된다. 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)은 액티브층(132)과 접하는 방식으로 액티브층(132)과 전기적으로 연결될 수 있다. 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)은 다양한 금속 물질, 예를 들어, 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd), 구리(Cu) 또는 둘 이상의 합금으로 이루어진 단일층 또는 이들의 다중층일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.A source electrode 133 and a drain electrode 134 are disposed on the active layer 132 . The source electrode 133 and the drain electrode 134 are spaced apart from each other on the same layer. The source electrode 133 and the drain electrode 134 may be electrically connected to the active layer 132 in a manner in contact with the active layer 132 . The source electrode 133 and the drain electrode 134 may be formed of various metal materials, for example, molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), It may be a single layer or a multilayer thereof made of neodymium (Nd), copper (Cu), or an alloy of two or more, but is not limited thereto.

몇몇 실시예에서, 액티브층(132) 상에서 액티브층(132)과 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134) 사이에 에치 스토퍼가 배치될 수도 있다. 에치 스토퍼는, 에칭 방법으로 소스 전극(133) 및 드레인 전극(134)을 패터닝하여 형성하는 경우 액티브층(132) 표면이 손상되는 것을 방지하기 위해 형성되는 층일 수 있다.In some embodiments, an etch stopper may be disposed on the active layer 132 between the active layer 132 and the source electrode 133 and the drain electrode 134 . The etch stopper may be a layer formed to prevent damage to the surface of the active layer 132 when the source electrode 133 and the drain electrode 134 are patterned by an etching method.

도 3을 참조하면, 플렉서블 기판(110) 상에 컬러 필터(122)가 배치될 수 있다. 그리고, 컬러 필터(122)는 서브 화소(SP)의 발광 영역(OP) 혹은 개구 영역(OP)에 대응되도록 배치되어, 서브 화소(SP)의 색상을 구현할 수 있다. 구체적으로, 컬러 필터(122)는 적색 컬러 필터, 녹색 컬러 필터, 청색 컬러 필터를 포함할 수 있다. 그리고, 적색 컬러 필터는 적색 서브 화소의 발광 영역(OP) 혹은 개구 영역(OP)에 중첩되도록 배치되어, 표시 소자(140)에서 하부로 방출된 광을 적색광으로 변환시킨다. 그리고, 녹색 컬러 필터는 녹색 서브 화소의 발광 영역(OP) 혹은 개구 영역(OP)에 중첩되도록 배치되어, 표시 소자(140)에서 하부로 방출된 광을 녹색광으로 변환시킨다. 그리고, 청색 컬러 필터는 청색 서브 화소의 발광 영역(OP) 혹은 개구 영역(OP)에 중첩되도록 배치되어, 표시 소자(140)에서 하부로 방출된 광을 청색광으로 변환시킨다.Referring to FIG. 3 , a color filter 122 may be disposed on the flexible substrate 110 . In addition, the color filter 122 may be disposed to correspond to the light emitting area OP or the opening area OP of the sub-pixel SP to implement the color of the sub-pixel SP. Specifically, the color filter 122 may include a red color filter, a green color filter, and a blue color filter. In addition, the red color filter is disposed to overlap the emission area OP or the opening area OP of the red sub-pixel to convert light emitted downward from the display device 140 into red light. In addition, the green color filter is disposed to overlap the emission area OP or the opening area OP of the green sub-pixel to convert light emitted downward from the display device 140 into green light. In addition, the blue color filter is disposed to overlap the emission area OP or the opening area OP of the blue sub-pixel to convert light emitted downward from the display device 140 into blue light.

박막 트랜지스터(130) 및 컬러 필터(122) 상에 평탄화층(123)이 배치된다. 평탄화층(123)은 박막 트랜지스터(130) 및 컬러 필터(122)를 보호하고, 플렉서블 기판(110) 상에 배치되는 층들의 단차를 완만하게 하기 위한 절연층이다. 평탄화층(123)은 아크릴계 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 불포화 폴리에스테르계 수지, 폴리페닐렌계 수지, 폴리페닐렌설파이드계 수지, 벤조사이클로부텐 및 포토레지스트 중 하나로 형성될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.A planarization layer 123 is disposed on the thin film transistor 130 and the color filter 122 . The planarization layer 123 is an insulating layer for protecting the thin film transistor 130 and the color filter 122 , and for smoothing a step difference between the layers disposed on the flexible substrate 110 . The planarization layer 123 is selected from among acrylic resin, epoxy resin, phenol resin, polyamide-based resin, polyimide-based resin, unsaturated polyester-based resin, polyphenylene-based resin, polyphenylene sulfide-based resin, benzocyclobutene, and photoresist. It may be formed as one, but is not limited thereto.

평탄화층(123) 상에 표시 소자(140)가 배치된다. 표시 소자(140)는 발광 소자로서, 표시 장치(100)의 종류에 따라 상이하게 정의될 수 있다. 예를 들어, 표시 소자(140)는 유기 발광 소자 또는 액정 표시 소자일 수 있다. 상술한 바와 같이, 표시 장치(100)가 유기 발광 표시 장치인 경우, 표시 소자(140)는 애노드(141), 유기 발광층(142) 및 캐소드(143)를 포함하는 유기 발광 소자일 수 있다. 표시 소자(140)는 각각의 서브 화소(SP)에 배치된 박막 트랜지스터(130)에 의해 구동될 수 있다. The display device 140 is disposed on the planarization layer 123 . The display device 140 is a light emitting device and may be defined differently depending on the type of the display device 100 . For example, the display device 140 may be an organic light emitting device or a liquid crystal display device. As described above, when the display device 100 is an organic light emitting device, the display device 140 may be an organic light emitting device including an anode 141 , an organic light emitting layer 142 , and a cathode 143 . The display device 140 may be driven by the thin film transistor 130 disposed in each sub-pixel SP.

애노드(141)는 평탄화층(123) 상에서 각각의 서브 화소(SP) 별로 분리되어 배치된다. 애노드(141)는 평탄화층(123)에 형성된 컨택홀을 통해 박막 트랜지스터(130)의 드레인 전극(134)에 전기적으로 연결될 수 있다. 도 3에서는 애노드(141)가 박막 트랜지스터(130)의 드레인 전극(134)과 전기적으로 연결되는 것으로 도시되었으나, 애노드(141)는 박막 트랜지스터(130)의 타입에 따라 박막 트랜지스터(130)의 소스 전극(133)과 전기적으로 연결될 수도 있다. The anode 141 is disposed separately for each sub-pixel SP on the planarization layer 123 . The anode 141 may be electrically connected to the drain electrode 134 of the thin film transistor 130 through a contact hole formed in the planarization layer 123 . 3 shows that the anode 141 is electrically connected to the drain electrode 134 of the thin film transistor 130 , but the anode 141 is a source electrode of the thin film transistor 130 depending on the type of the thin film transistor 130 . It may be electrically connected to (133).

애노드(141)는 유기 발광층(142)에 정공을 공급할 수 있는 도전성 물질로 이루어진다. 상술한 바와 같이 표시 장치(100)가 바텀 에미션 방식인 경우, 애노드(141)는 일함수가 높은 도전성 물질로 이루어진 투명 도전층으로 구성될 수 있다. 예를 들어, 애노드(141)는 인듐 주석 산화물(Indium Tin Oxide, ITO), 인듐 아연 산화물(Indium Zinc Oxide, IZO), 인듐 주석 아연 산화물(Indium Tin Zinc Oxide, ITZO), 아연 산화물(Zinc Oxide, ZnO) 및 주석 산화물(Tin Oxide, TO) 계열의 투명 도전성 산화물로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The anode 141 is made of a conductive material capable of supplying holes to the organic emission layer 142 . As described above, when the display device 100 is a bottom emission type, the anode 141 may be formed of a transparent conductive layer made of a conductive material having a high work function. For example, the anode 141 may include indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), indium tin zinc oxide (ITZO), zinc oxide (Zinc Oxide, ZnO) and tin oxide (TO) based transparent conductive oxide may be formed, but is not limited thereto.

애노드(141) 및 평탄화층(123) 상에 뱅크(124)가 배치된다. 뱅크(124)는 인접하는 서브 화소(SP)를 구분하기 위한 절연층이다. 뱅크(124)는 애노드(141)의 일부를 개구시키도록 형성될 수 있다. 뱅크(124)에 의해 애노드(141)가 개구되는 영역에서만, 애노드(141), 유기 발광층(142) 및 캐소드(143)가 접촉될 수 있다. 이에, 뱅크(124)에 의해 애노드(141)가 개구되는 영역인 개구 영역(OP)에서만, 표시 소자(140)가 빛을 발광할 수 있다. 따라서, 뱅크(124)에 의해 구획되는 영역을 개구 영역(OP) 혹은 발광 영역(OP)으로 정의할 수 있다. 전술한 바와 같이, 복수의 개구홀(H)은 뱅크(124)에 의해 구획되는 개구 영역(OP)에 대응되거나 중첩될 수 있다. 이와 같은 취지로, 복수의 개구홀(H)을 제외한 제2 플렉서블 기재(112)는 뱅크(124)와 중첩될 수 있다.A bank 124 is disposed on the anode 141 and the planarization layer 123 . The bank 124 is an insulating layer for separating adjacent sub-pixels SP. The bank 124 may be formed to open a portion of the anode 141 . Only in a region where the anode 141 is opened by the bank 124 , the anode 141 , the organic emission layer 142 , and the cathode 143 may contact each other. Accordingly, the display device 140 may emit light only in the opening region OP, which is a region in which the anode 141 is opened by the bank 124 . Accordingly, the area partitioned by the bank 124 may be defined as the opening area OP or the light emitting area OP. As described above, the plurality of opening holes H may correspond to or overlap the opening region OP partitioned by the bank 124 . To this effect, the second flexible substrate 112 excluding the plurality of opening holes H may overlap the bank 124 .

그리고, 뱅크(124)는 애노드(141)의 엣지를 덮도록 형성된 유기 절연 물질로 이루어질 수 있고, 예를 들면, 뱅크(124)은 폴리이미드, 아크릴 또는 벤조사이클로부텐계 수지로 이루어질 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.In addition, the bank 124 may be made of an organic insulating material formed to cover the edge of the anode 141 . For example, the bank 124 may be made of polyimide, acryl, or benzocyclobutene-based resin. It is not limited.

유기 발광층(142)은 특정 색의 광을 발광하기 위한 층으로서, 백색 발광층으로 구성될 수 있으나, 이에 한정되지 않고 적색 발광층, 녹색 발광층, 청색 발광층 및 백색 발광층 중 적어도 하나를 포함할 수 있다. 유기 발광층(142)은 애노드(141) 및 캐소드(143) 사이에 배치된다. 유기 발광층(142)은 하나의 발광층으로 구성될 수도 있고, 서로 다른 색의 광을 발광하는 복수의 발광층이 적층된 구조일 수 있다. 또한, 유기 발광층(142)은 정공 주입층, 정공 수송층, 전자 수송층, 전자 주입층 등의 유기층을 더 포함할 수 있다. 도 3을 참조하면, 유기 발광층(142)은 플렉서블 기판(110) 전면 상에 배치되어, 각각의 서브 화소(SP)에 배치된 유기 발광층(142)이 서로 연결될 수 있다. 다만, 이에 제한되지 않고, 유기 발광층(142)의 전부 또는 일부는 서브 화소(SP) 별로 분리되어 배치될 수도 있다. The organic light emitting layer 142 is a layer for emitting light of a specific color, and may include a white light emitting layer, but is not limited thereto and may include at least one of a red light emitting layer, a green light emitting layer, a blue light emitting layer, and a white light emitting layer. The organic emission layer 142 is disposed between the anode 141 and the cathode 143 . The organic light emitting layer 142 may be composed of one light emitting layer, or may have a structure in which a plurality of light emitting layers emitting light of different colors are stacked. In addition, the organic emission layer 142 may further include an organic layer such as a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer. Referring to FIG. 3 , the organic emission layer 142 may be disposed on the entire surface of the flexible substrate 110 , and the organic emission layers 142 disposed in each sub-pixel SP may be connected to each other. However, the present invention is not limited thereto, and all or a portion of the organic emission layer 142 may be disposed separately for each sub-pixel SP.

캐소드(143)는 유기 발광층(142) 상에 배치된다. 캐소드(143)는 유기 발광층(142)에 전자를 공급할 수 있는 도전성 물질로 이루어진다. 유기 발광 표시 장치(100)가 바텀 에미션 방식이므로, 캐소드(143)는 은(Ag), 구리(Cu), 마그네슘-은 합금(Mg:Ag) 등과 같은 금속 물질로 이루어질 수도 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. The cathode 143 is disposed on the organic light emitting layer 142 . The cathode 143 is made of a conductive material capable of supplying electrons to the organic light emitting layer 142 . Since the organic light emitting diode display 100 is a bottom emission type, the cathode 143 may be formed of a metal material such as silver (Ag), copper (Cu), or magnesium-silver alloy (Mg:Ag), but is limited thereto. it is not

도 2 및 도 3을 참조하면, 표시 소자(140)를 포함하는 표시부(DP) 상에 봉지층(150)이 배치된다. 봉지층(150)은 표시 소자(140)를 외부의 습기, 공기, 충격 등으로부터 보호하는 밀봉 부재이다. 봉지층(150)은, 예를 들어, 무기층의 단일층 구조 또는 무기층과 유기층이 서로 교대 적층된 구조를 가질 수 있다. 예를 들어, 무기층은 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산화물(SiOx), 알루미늄 산화물(AlOx) 등과 같은 무기물로 이루어질 수 있고, 유기층은 에폭시(Epoxy) 계열 또는 아크릴(Acryl) 계열의 폴리머가 사용될 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.2 and 3 , the encapsulation layer 150 is disposed on the display unit DP including the display element 140 . The encapsulation layer 150 is a sealing member that protects the display element 140 from external moisture, air, impact, and the like. The encapsulation layer 150 may have, for example, a single-layer structure of inorganic layers or a structure in which inorganic layers and organic layers are alternately stacked. For example, the inorganic layer may be made of an inorganic material such as silicon nitride (SiNx), silicon oxide (SiOx), aluminum oxide (AlOx), and the like, and an epoxy-based or acrylic-based polymer may be used for the organic layer. However, the present invention is not limited thereto.

전술한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서, 제2 플렉서블 기재(112)는 발광 영역(OP) 혹은 개구 영역(OP)에 대응되도록 복수의 개구홀(H)을 포함한다. 이에, 제2 플렉서블 기재(112)에 대한 비용도 절감될 뿐만 아니라 제2 플렉서블 기재(112)를 구성하는 물질의 분극 현상도 감소된다. 이에, 분극 현상으로 인한 불필요한 전계도 감소되어, 박막 트랜지스터(130)의 구동 불량 문제를 방지할 수 있다. 또한, 표시 소자(140)에서 발광되는 빛이 제2 플렉서블 기재(112)를 통과하지 않아, 표시 소자(140)에서 발광되는 빛의 위상 지연이 발생하지 않는다. 따라서, 위상을 보상하기 위한 편광판이 추가로 필요하지 않으므로, 표시 장치(100)의 박형화 및 비용 절감을 도모할 수 있다.As described above, in the display device 100 according to an embodiment of the present invention, the second flexible substrate 112 has a plurality of opening holes H to correspond to the emission region OP or the opening region OP. include Accordingly, not only the cost of the second flexible substrate 112 is reduced, but also the polarization of the material constituting the second flexible substrate 112 is reduced. Accordingly, an unnecessary electric field due to the polarization phenomenon is also reduced, thereby preventing the problem of driving failure of the thin film transistor 130 . In addition, since the light emitted from the display device 140 does not pass through the second flexible substrate 112 , a phase delay of the light emitted from the display device 140 does not occur. Accordingly, since an additional polarizing plate for compensating the phase is not required, the display device 100 can be thinned and reduced in cost.

이하에서는 도 4를 참조하여, 본 발명의 플렉서블 기판(100)의 형태에 대해서 구체적으로 설명한다.Hereinafter, the form of the flexible substrate 100 of the present invention will be described in detail with reference to FIG. 4 .

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 플렉서블 기판에 대한 개략적인 평면도이다.4 is a schematic plan view of a flexible substrate of a display device according to an exemplary embodiment.

도 4에 도시된 바와 같이, 복수의 개구홀(H)의 단면은 역테이퍼 형상일 수 있고, 패터닝된 제2 플렉서블 기재(112)의 단면은 테이퍼 형상일 수 있다. 그리고, 버퍼층(113)은 제1 플렉서블 기재(111)와 제2 플렉서블 기재(112)를 컨포멀(conformal)하게 덮도록 배치된다. 이에, 버퍼층(113)은 제2 플렉서블 기재(112)에 형성된 개구홀(H)로 인하여 일부 단차가 형성된다.As shown in FIG. 4 , the cross-section of the plurality of opening holes H may have a reverse tapered shape, and the patterned cross-section of the second flexible substrate 112 may have a tapered shape. In addition, the buffer layer 113 is disposed to conformally cover the first flexible substrate 111 and the second flexible substrate 112 . Accordingly, the buffer layer 113 is partially stepped due to the opening hole H formed in the second flexible substrate 112 .

보다 구체적으로, 제2 플렉서블 기재(112)는 테이퍼 각도(θ)가 0° 내지 45° 일 수 있다. 상술한 테이퍼 각도(θ)라고 함은, 제2 플렉서블 기재(112)의 하면과 측면 사이의 각도를 의미한다.More specifically, the second flexible substrate 112 may have a taper angle θ of 0° to 45°. The above-described taper angle θ refers to an angle between the lower surface and the side surface of the second flexible substrate 112 .

제2 플렉서블 기재(112)는 테이퍼 각도(θ)가 0°보다 커야만 제2 플렉서블 기재(112)는 테이퍼 형상을 이룰 수 있다. 그리고, 제2 플렉서블 기재(112)의 테이퍼 각도(θ)가 45° 이상인 경우, 제2 플렉서블 기재(112) 상에 형성되는 버퍼층(113)이 들뜨는 현상이 발생하므로, 버퍼층(113)상에 형성되는 표시부(DP)가 불안정하여 구동 불량이 발생할 수 있다.The second flexible substrate 112 may have a tapered shape only when the taper angle θ is greater than 0°. And, when the taper angle θ of the second flexible substrate 112 is 45° or more, the buffer layer 113 formed on the second flexible substrate 112 is lifted, and thus the buffer layer 113 is formed on the The display unit DP may be unstable, and thus driving failure may occur.

이에, 제2 플렉서블 기재(112)의 테이퍼 각도(θ)는 45°보다 낮아야 한다.Accordingly, the taper angle θ of the second flexible substrate 112 should be lower than 45°.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제2 플렉서블 기재의 두께와 표시 장치의 타격 강성과의 관계를 나타내는 그래프이다.5 is a graph illustrating a relationship between a thickness of a second flexible substrate of a display device and a striking rigidity of the display device according to an exemplary embodiment of the present invention.

제2 플렉서블 기재(112)는 일정 두께(T)를 가짐으로써, 외력에 대한 타격 강성을 확보할 수 있다. 이를 위하여, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)는 0.7μm 내지 2.8 μm일 수 있다. 상술한 타격 강성의 단위는 에너지 단위인 줄(joule; J)을 사용하며, 타격 강성에 해당하는 에너지를 표시 장치(100)에 가했을 때 손상이 일어나는지 여부를 판단하여, 타격 강성을 결정한다.The second flexible substrate 112 may have a predetermined thickness T, thereby securing striking rigidity against an external force. To this end, the thickness T of the second flexible substrate 112 may be 0.7 μm to 2.8 μm. The unit of the above-described hitting stiffness uses a joule (J), which is an energy unit, and determines whether damage occurs when energy corresponding to the hitting stiffness is applied to the display device 100 to determine the impact stiffness.

도 5를 참조하면, 제2 플렉서블 기재(112)가 존재하지 않을 경우(Bare GLS), 표시 장치(100)의 타격 강성은 0.08J이고, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)가 0.3 μm일 경우, 표시 장치(100)의 타격 강성은 0.12J이고, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)가 0.7 μm일 경우, 표시 장치(100)의 타격 강성은 0.75J이고, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)가 1.0 μm일 경우, 표시 장치(100)의 타격 강성은 0.74J이고, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)가 2.0 μm일 경우, 표시 장치(100)의 타격 강성은 0.73J임을 실험적으로 확인하였다.Referring to FIG. 5 , when the second flexible substrate 112 does not exist (bare GLS), the hitting rigidity of the display device 100 is 0.08J, and the thickness T of the second flexible substrate 112 is 0.3 When the thickness T of the second flexible substrate 112 is 0.7 μm, the hitting rigidity of the display device 100 is 0.75J, the second When the thickness T of the flexible substrate 112 is 1.0 μm, the hitting rigidity of the display device 100 is 0.74J, and when the thickness T of the second flexible substrate 112 is 2.0 μm, the display device ( 100) was experimentally confirmed to be 0.73J.

이에, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)가 0.7μm이상일 경우, 기준 타격 강성인 0.24J이상임을 확인 할 수 있다. 따라서, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)가 0.7μm이상 이어야 한다.Accordingly, when the thickness (T) of the second flexible substrate 112 is 0.7 μm or more, it can be confirmed that the standard hitting stiffness is 0.24J or more. Therefore, the thickness (T) of the second flexible substrate 112 should be 0.7 μm or more.

한편, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)가 두꺼워 질수록, 제2 플렉서블 기재(112) 상에 잔 막이 생길 가능성이 매우 높다. 상술한, 제2 플렉서블 기재(112) 상에 잔막이 두껍게 발생할 경우, 제2 플렉서블 기재(112) 상에 형성되는 표시부(DP)가 다소 불안정하게 형성될 수 있다.On the other hand, as the thickness T of the second flexible substrate 112 increases, there is a very high possibility that a residual film is formed on the second flexible substrate 112 . When the remaining film is thickly formed on the second flexible substrate 112 as described above, the display portion DP formed on the second flexible substrate 112 may be slightly unstable.

이와 관련하여, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)가 2.3 μm일 경우, 잔막의 두께(T)는 0.1μm이나, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)가 2.8 μm일 경우, 잔막의 두께(T)가 0.7μm로 증가함을 실험적으로 확인하였다.In this regard, when the thickness T of the second flexible substrate 112 is 2.3 μm, the thickness T of the remaining film is 0.1 μm, but when the thickness T of the second flexible substrate 112 is 2.8 μm , it was experimentally confirmed that the thickness (T) of the remaining film increased to 0.7 μm.

이에, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)가 2.8 μm이상일 경우, 잔막의 두께(T)가 0.7μm 이상으로 현격히 증가하여, 제2 플렉서블 기재(112) 상에 형성되는 표시부(DP)의 불량이 발생할 가능성이 현저히 높아진다. 따라서, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)가 2.8μm이하 이어야 한다.Accordingly, when the thickness T of the second flexible substrate 112 is 2.8 μm or more, the thickness T of the remaining film significantly increases to 0.7 μm or more, and the display portion DP formed on the second flexible substrate 112 . The probability of occurrence of defects is significantly increased. Therefore, the thickness (T) of the second flexible substrate 112 should be 2.8 μm or less.

이를 정리하면, 제2 플렉서블 기재(112)의 두께(T)는 0.7μm 내지 2.8 μm으로 형성함으로써, 기준 타격 강성 이상의 타격 강성을 확보할 수 있을 뿐만 아니라, 제2 플렉서블 기재(112) 상에 형성되는 표시부(DP)의 불량을 저하할 수 있다.In summary, by forming the thickness (T) of the second flexible substrate 112 to be 0.7 μm to 2.8 μm, it is possible to ensure not only hitting rigidity greater than or equal to the standard hitting rigidity, but also formed on the second flexible substrate 112 . Defects of the display unit DP may be reduced.

도 6a는 종래의 표시 장치의 표시 영역의 일부를 나타내는 도면이다.6A is a diagram illustrating a part of a display area of a conventional display device.

도 6b는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 표시 영역의 일부를 나타내는 도면이다.6B is a diagram illustrating a portion of a display area of a display device according to an exemplary embodiment.

구체적으로, 도 6a 및 도 6b 각각은 표시 영역(AA)의 모서리 부분을 확대하여 촬영한 것이다.Specifically, each of FIGS. 6A and 6B is an enlarged photograph of a corner portion of the display area AA.

종래의 표시 장치에서 제2 플렉서블 기재에 개구홀이 형성되지 않아, 표시 장치에 모든 영역에 제2 플렉서블 기재가 배치된다. 이러한 경우, 비표시 영역(NA) 부근에 배치되는 전압 라인으로 인하여, 비표시 영역(NA)에 인접한 표시 영역(AA)의 테두리 영역에 배치된 제2 플렉서블 기재를 구성하는 물질의 분극 현상이 일어 날 수 있다. In the conventional display device, the opening hole is not formed in the second flexible substrate, so that the second flexible substrate is disposed in all regions of the display device. In this case, due to the voltage line disposed near the non-display area NA, polarization of the material constituting the second flexible substrate disposed in the edge area of the display area AA adjacent to the non-display area NA occurs. can fly

따라서, 비표시 영역(NA)에 인접한 표시 영역(AA)의 테두리 영역에 분극 현상으로 인해 불필요한 전계가 발생하여, 박막 트랜지스터의 구동 불량이 발생한다. 이는 도 6a에 비표시 영역(NA)에 인접한 표시 영역(AA)의 테두리 영역에 얼룩으로 확인 할 수 있다.Accordingly, an unnecessary electric field is generated in the edge area of the display area AA adjacent to the non-display area NA due to the polarization phenomenon, thereby causing a driving failure of the thin film transistor. This can be confirmed as a stain in the edge area of the display area AA adjacent to the non-display area NA in FIG. 6A .

이와 달리 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치(100)에서, 제2 플렉서블 기재(112)는 발광 영역(OP) 혹은 개구 영역(OP)에 대응되도록 복수의 개구홀(H)을 포함한다. 즉, 제2 플렉서블 기재(112)가 형성되는 영역이 감소될 수 있다. 따라서, 제2 플렉서블 기재(112)를 구성하는 물질의 분극 현상도 감소된다. 이에, 분극 현상으로 인한 불필요한 전계도 감소됨으로써, 박막 트랜지스터의 구동 불량 문제를 방지할 수 있다. 즉, 도 6b에 도시된 바와 같이, 비표시 영역(NA)에 인접한 표시 영역(AA)의 테두리 영역에 얼룩이 발생하지 않고, 표시 영역(AA)의 모든 부분이 정상적으로 표시되는 것으로 확인할 수 있다.On the other hand, in the display device 100 according to an embodiment of the present invention, the second flexible substrate 112 includes the light emitting area OP or a plurality of opening holes H to correspond to the opening area OP. That is, the area in which the second flexible substrate 112 is formed may be reduced. Accordingly, the polarization phenomenon of the material constituting the second flexible substrate 112 is also reduced. Accordingly, an unnecessary electric field due to the polarization phenomenon is also reduced, thereby preventing a problem of poor driving of the thin film transistor. That is, as shown in FIG. 6B , it can be confirmed that no spots are generated in the edge area of the display area AA adjacent to the non-display area NA, and all portions of the display area AA are normally displayed.

본 발명의 다양한 실시예들에 따른 표시 장치는 다음과 같이 설명될 수 있다.A display device according to various embodiments of the present disclosure may be described as follows.

본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치는, 제1 플렉서블 기재, 제1 플렉서블 기재 상에 배치되고, 적어도 하나의 개구홀을 포함하는 제2 플렉서블 기재 및 제2 플렉서블 기재 상에 배치되고, 트랜지스터 및 박막 트랜지스터로 구성되는 표시부를 포함하고, 개구홀은 표시 소자가 발광하는 영역인 발광 영역에 중첩하여 배치될 수 있다. A display device according to an embodiment of the present invention includes a first flexible substrate, a second flexible substrate disposed on the first flexible substrate, and including at least one opening hole; It may be disposed on the second flexible substrate, and may include a display unit including a transistor and a thin film transistor, and the opening may be disposed to overlap a light emitting area that is an area in which the display element emits light.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 제1 플렉서브 기재는 글라스(glass)로 이루어지고, 제2 플렉서블 기재(112)는 고분자 물질로 이루어질 수 있다.According to another feature of the present invention, the first flexible substrate may be made of glass, and the second flexible substrate 112 may be made of a polymer material.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 상기 제1 플렉서블 기재는 글라스(glass)로 이루어지고, 제2 플렉서블 기재는 폴리이미드(polyimide)로 이루어질 수 있다.According to another feature of the present invention, the first flexible substrate may be made of glass, and the second flexible substrate may be made of polyimide.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제2 플렉서블 기재와 상기 표시부에 사이에 배치되는 버퍼층을 더 포함 할 수 있다.According to another feature of the present invention, it may further include a buffer layer disposed between the second flexible substrate and the display unit.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 개구홀의 단면은 역테이퍼(reversed taper) 형상이고, 제2 플렉서블 기재의 단면은 테이퍼(taper) 형상일 수 있다.According to another feature of the present invention, the cross-section of the opening hole may have a reversed taper shape, and the cross-section of the second flexible substrate may have a taper shape.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 테이퍼 형상의 테이퍼 각도는 0° 내지 45°일 수 있다.According to another feature of the present invention, the taper angle of the tapered shape may be 0° to 45°.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제2 플렉서블 기재의 두께는 0.7μm 내지 2.8 μm일 수 있다.According to another feature of the present invention, the thickness of the second flexible substrate may be 0.7 μm to 2.8 μm.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면 상기 표시 소자는 애노드, 유기 발광층 및 캐소드를 포함하는 유기 발광 소자일 수 있다.According to another feature of the present invention, the display device may be an organic light emitting device including an anode, an organic light emitting layer, and a cathode.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 버퍼층은 테이퍼(taper) 형상을 가질 수 있다.According to another feature of the present invention, the buffer layer may have a tapered shape.

본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 제2 플렉서블 기재는 감광성 고분자(photosensitive polymer) 물질일 수 있다.According to another feature of the present invention, the second flexible substrate may be a photosensitive polymer material.

본 발명의 다른 실시예에 따른 표시 장치는, 화상을 표시하는 표시 영역 및 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역이 정의된 플렉서블 기판 및 플렉서블 기판 상에 뱅크에 의해 구획된 개구 영역에 배치된 표시 소자를 포함하고, 플렉서블 기판은, 글라스 기재 및 글라스 기재 상의 감광성 고분자(photosensitive polymer) 기재를 포함하고, 감광성 고분자 기재에는 개구 영역에 대응되도록 개구부가 형성될 수 있다.A display device according to another embodiment of the present invention includes a flexible substrate in which a display area for displaying an image and a non-display area surrounding the display area are defined, and a display element disposed in an opening area partitioned by a bank on the flexible substrate; The flexible substrate may include a glass substrate and a photosensitive polymer substrate on the glass substrate, and an opening may be formed in the photosensitive polymer substrate to correspond to the opening region.

본 발명의 다른 특징에 따르면, 상기 감광성 고분자 기재는 상기 뱅크와 중첩될 수 있다.According to another feature of the present invention, the photosensitive polymer substrate may overlap the bank.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 제한하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 제한되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 제한적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 아래의 청구범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.Although the embodiments of the present invention have been described in more detail with reference to the accompanying drawings, the present invention is not necessarily limited to these embodiments, and various modifications may be made within the scope without departing from the technical spirit of the present invention. . Therefore, the embodiments disclosed in the present invention are not intended to limit the technical spirit of the present invention, but to explain, and the scope of the technical spirit of the present invention is not limited by these embodiments. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are illustrative in all respects and not restrictive. The protection scope of the present invention should be construed by the following claims, and all technical ideas within the scope equivalent thereto should be construed as being included in the scope of the present invention.

100: 표시 장치
110: 플렉서블 기판
111: 제1 플렉서블 기재
112: 제2 플렉서블 기재
113: 버퍼층
121: 게이트 절연층
122: 컬러 필터
123: 평탄화층
124: 뱅크
DP: 표시부
130: 박막 트랜지스터
131: 게이트 전극
132: 액티브층
133: 소스 전극
134: 드레인 전극
140: 표시 소자
141: 애노드
142: 유기 발광층
143: 캐소드
150: 봉지층100: display device
110: flexible substrate
111: first flexible substrate
112: second flexible substrate
113: buffer layer
121: gate insulating layer
122: color filter
123: planarization layer
124: bank
DP: display
130: thin film transistor
131: gate electrode
132: active layer
133: source electrode
134: drain electrode
140: display element
141: anode
142: organic light emitting layer
143: cathode
150: encapsulation layer

Claims (13)

제1 플렉서블 기재;
상기 제1 플렉서블 기재 상에 배치되고, 적어도 하나의 개구홀을 포함하는 제2 플렉서블 기재;
및 상기 제2 플렉서블 기재 상에 배치되고, 트랜지스터 및 박막 트랜지스터로 구성되는 표시부를 포함하고,
상기 개구홀은 상기 표시 소자가 발광하는 영역인 발광 영역에 중첩하여 배치되는, 표시 장치.
a first flexible substrate;
a second flexible substrate disposed on the first flexible substrate and including at least one opening hole;
and a display unit disposed on the second flexible substrate and composed of a transistor and a thin film transistor,
and the opening hole is disposed to overlap a light emitting area that is an area from which the display element emits light.
 제1항에 있어서,
상기 제1 플렉서블 기재는 글라스(glass)로 이루어지고,
상기 제2 플렉서블 기재는 폴리이미드(polyimide)로 이루어진, 표시 장치.
According to claim 1,
The first flexible substrate is made of glass,
The second flexible substrate is made of polyimide.
 제1항에 있어서,
상기 제2 플렉서블 기재와 상기 표시부에 사이에 배치되는 버퍼층을 더 포함하는, 표시 장치.
According to claim 1,
The display device further comprising a buffer layer disposed between the second flexible substrate and the display unit.
 제1항에 있어서,
상기 개구홀의 단면은 역테이퍼(reversed taper) 형상이고,
상기 제2 플렉서블 기재의 단면은 테이퍼(taper) 형상인, 표시 장치.
According to claim 1,
The cross-section of the opening hole has a reversed taper shape,
A cross-section of the second flexible substrate has a tapered shape.
 제4항에 있어서,
상기 테이퍼 형상의 테이퍼 각도는 0° 내지 45°인, 표시 장치.
5. The method of claim 4,
The display device of claim 1, wherein a taper angle of the tapered shape is in a range of 0° to 45°.
 제1항에 있어서,
상기 제2 플렉서블 기재의 두께는 0.7μm 내지 2.8 μm인, 표시 장치.
According to claim 1,
The thickness of the second flexible substrate is 0.7 μm to 2.8 μm.
 제1항에 있어서,
상기 표시 소자는 애노드, 유기 발광층 및 캐소드를 포함하는 유기 발광 소자인, 표시 장치.
According to claim 1,
The display device is an organic light emitting device including an anode, an organic light emitting layer, and a cathode.
 제1항에 있어서,
상기 제2 플렉서블 기재는 감광성 고분자(photosensitive polymer) 물질인, 표시 장치.
According to claim 1,
The second flexible substrate is a photosensitive polymer material.
 화상을 표시하는 표시 영역 및 표시 영역을 둘러싸는 비표시 영역이 정의된 플렉서블 기판; 및
상기 플렉서블 기판 상에 뱅크에 의해 구획된 개구 영역에 배치된 표시 소자를 포함하고,
상기 플렉서블 기판은,
글라스 기재; 및
상기 글라스 기재 상의 감광성 고분자(photosensitive polymer) 기재를 포함하고,
상기 감광성 고분자 기재에는 개구 영역에 대응되도록 개구부가 형성되는, 표시 장치.
a flexible substrate in which a display area for displaying an image and a non-display area surrounding the display area are defined; and
a display device disposed on the flexible substrate in an opening area partitioned by a bank;
The flexible substrate,
glass substrate; and
and a photosensitive polymer substrate on the glass substrate,
An opening is formed in the photosensitive polymer substrate to correspond to an opening region.
 제9항에 있어서,
상기 개구홀의 단면은 역테이퍼 형상이고,
상기 감광성 고분자 기재의 단면은 테이퍼 형상인, 표시 장치.
10. The method of claim 9,
The cross-section of the opening hole has an inverted taper shape,
A cross section of the photosensitive polymer substrate has a tapered shape.
 제10항에 있어서,
상기 테이퍼 형상의 테이퍼 각도는 0° 내지 45°인, 표시 장치.
11. The method of claim 10,
The display device of claim 1, wherein a taper angle of the tapered shape is in a range of 0° to 45°.
 제9항에 있어서,
상기 감광성 고분자 기재의 두께는 0.7μm 내지 2.8 μm인, 표시 장치.
10. The method of claim 9,
The thickness of the photosensitive polymer substrate is 0.7 μm to 2.8 μm, the display device.
 제9항에 있어서,
상기 감광성 고분자 기재는 상기 뱅크와 중첩되는, 표시 장치.10. The method of claim 9,
and the photosensitive polymer substrate overlaps the bank.
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