KR20210153022A - 전도성 재료로 이루어진 쥬얼리 또는 시계학을 위한 외부 엘리먼트 또는 다이얼 - Google Patents
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- 239000004020 conductor Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 108
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 108
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 106
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 106
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 100
- 238000005034 decoration Methods 0.000 claims abstract description 73
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 62
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 58
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 50
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims abstract description 45
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 25
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 96
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 40
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 27
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 15
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 11
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 11
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 10
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims description 9
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 9
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 53
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 8
- 238000010329 laser etching Methods 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 3
- 238000010943 off-gassing Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- GLGNXYJARSMNGJ-VKTIVEEGSA-N (1s,2s,3r,4r)-3-[[5-chloro-2-[(1-ethyl-6-methoxy-2-oxo-4,5-dihydro-3h-1-benzazepin-7-yl)amino]pyrimidin-4-yl]amino]bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxamide Chemical compound CCN1C(=O)CCCC2=C(OC)C(NC=3N=C(C(=CN=3)Cl)N[C@H]3[C@H]([C@@]4([H])C[C@@]3(C=C4)[H])C(N)=O)=CC=C21 GLGNXYJARSMNGJ-VKTIVEEGSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 2
- 229940125758 compound 15 Drugs 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 2
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001260 Pt alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010431 corundum Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000010938 white gold Substances 0.000 description 1
- 229910000832 white gold Inorganic materials 0.000 description 1
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- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
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Abstract
전도성 재료로 이루어진 쥬얼리 또는 시계학을 위한 외부 엘리먼트 또는 다이얼
전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법:
- 기재 (1) 는 전도성 재료로 이루어진다;
- 기재는 희생 금속 보호 재료의 제 1 층 (2; 21; 22) 으로 코팅된다;
- 리세스된 장식 (3) 은 기계적으로 또는 레이저에 의해 에칭된다;
- 제 1 의 리세스된 장식 (3) 및 제 1 층 (2; 2; 22) 의 나머지 부분은 제 2 금속 및/또는 착색된 장식 처리층 (4; 41; 42) 으로 코팅된다;
- 각각의 제 1 희생 금속 보호층 (2; 21; 22) 은 화학적 수단에 의해 제거되어, 제 2 층 (4; 41; 42) 의 나머지 부분에 의해 형성된 제 1 장식을 포함하는 블랭크 (10) 를 획득한다.
전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법:
- 기재 (1) 는 전도성 재료로 이루어진다;
- 기재는 희생 금속 보호 재료의 제 1 층 (2; 21; 22) 으로 코팅된다;
- 리세스된 장식 (3) 은 기계적으로 또는 레이저에 의해 에칭된다;
- 제 1 의 리세스된 장식 (3) 및 제 1 층 (2; 2; 22) 의 나머지 부분은 제 2 금속 및/또는 착색된 장식 처리층 (4; 41; 42) 으로 코팅된다;
- 각각의 제 1 희생 금속 보호층 (2; 21; 22) 은 화학적 수단에 의해 제거되어, 제 2 층 (4; 41; 42) 의 나머지 부분에 의해 형성된 제 1 장식을 포함하는 블랭크 (10) 를 획득한다.
Description
본 발명은 전도성 재료로 이루어진 쥬얼리 또는 시계학을 위한 외부 엘리먼트 또는 다이얼을 제조하기 위한 방법에 관한 것이다.
본 발명은 또한 이러한 방법에 의해 제작된 외부 엘리먼트 및/또는 다이얼을 포함하는 시계에 관한 것이다.
본 발명은 시계학을 위한 외부 또는 디스플레이 컴포넌트들의 분야 및 쥬얼리 분야에 관한 것이다.
2-착색된 (coloured) 컴포넌트들을 제조하기 위해, 다음으로 구성된 알려진 방법이 있다:
- 블랭크의 전체 표면 상에 희생 보호층 (감광성 수지, 바니시, 접착제, 폴리머 필름) 을 배치하는 것;
- 보호층을 선택적으로 에칭하고, 또한 가능하게는 기판을 에칭하는 것;
- 장식 처리 (전기도금, 진공 증착 (deposition), 바니시, 래커) 를 수행하는 것;
- 보호층을 제거하는 것 (화학적 에칭, 용해, 이온 충격, 기계적 작용).
감광성 수지가 사용되지 않으면, 윤곽의 정의가 매우 양호하지 않다.
게다가, 희생 보호층의 재료는 임의의 후속 진공 처리 동안, 특히 금속화 공정에 의한 장식 처리를 수행하기 위해 탈기 (degassing) 현상을 나타낼 수도 있다.
SEIKO EPSON Corp. 명의의 JP 특허 출원 제 H05156425A 호는 건식 필름 형성 공정에 의해, 소결된 경질 합금, 플래티늄 또는 백금 (white gold) 의 합금, 또는 세라믹과 같은 기재 재료의 표면 상에, 착색된 필름으로 코팅된, 할로우 글자 (hollow letter) 또는 보다 일반적으로는 패턴의 형성을 개시한다. 재료의 표면은 제 1 층으로서 착색된 필름으로 코팅되고, 제 1 층의 두께보다 더 큰 깊이를 갖는 할로우 패턴은 레이저 빔 가공에 의해 관련된 부분 상에 형성되며, 제 1 층과는 상이한 조성을 갖는 착색된 필름이 건식 필름 형성 공정에 의해 제 2 층으로서 도포된 다음, 패턴을 포함하는 영역을 제외하고 제 1 층 및 제 2 층이 제거된다.
SEIKO 명의의 JP 특허 제 H04160154 호는 스테인레스 스틸 장식 엘리먼트의 표면을 마스킹하고, 특정 부분을 레이저 빔으로 가공하여 리세스된 패턴을 형성한 다음, 특히 이온 도금에 의한 필름의 형성에서 그레이/블랙 코팅을 형성하는 것에 의해 장식적 품질 및 안정화된 품질을 갖는 장식 엘리먼트를 생성하기 위한 경제적인 방법을 개시한다. 그 후, 마스킹 필름은 에칭에 의해 제거된다. 따라서, 리세스된 그레이/블랙 패턴 또는 피처가 안정화된 품질로 효율적으로 형성된다.
SEIKO 명의의 JP 특허 제 H04136188 호는 스테인레스 스틸 장식 엘리먼트의 표면을 이온 도금에 의해 티타늄-기재 필름으로 코팅하고, 레이저 빔 가공에 의해 원하는 부분 상에 리세스된 문자를 형성한 다음, 에칭에 의해 필름을 제거하기 전에 전기도금에 의해 금 도금을 적용하는 것에 의해, 리세스된 금 문자를 질적으로 효과적으로 장식하는 방법을 개시한다.
SWATCH GROUP RESEARCH & DEVELOPMENT Ltd. 명의의 EP 특허 제 3181006 호는 제 1 컬러를 갖는 제 1 세라믹 재료로 이루어진 외부 엘리먼트를 개시하고, 이 외부 엘리먼트의 표면은 제 1 컬러와 상이한 컬러로 적어도 하나의 변형을 겪도록 적어도 부분적으로 처리된다.
RUBATTEL AND WEYERMANN 명의의 EP 특허 제 3336614 호는 비전도성 재료로부터 외부 엘리먼트 또는 타임피스 다이얼을 제조하기 위한 방법을 개시하며, 여기서 다음의 단계들을 포함하는 기본 사이클이 적어도 한번 수행된다:
- 비전도성, 또는 세라믹, 또는 유리 또는 사파이어 기판으로부터 기재를 제작하는 단계;
- 기재를 적어도 제 1 희생 금속 보호층으로 건식 코팅하는 단계;
- 피코초 레이저 또는 펨토초 레이저 타입의 초단 펄스 레이저에 의해, 적어도 제 1 희생 금속 보호층의 국부적 두께와 동일한 깊이로, 장식을 에칭하는 단계;
- 제 1 희생 금속 보호층의 장식 및 나머지 부분을 적어도 제 2 금속 및/또는 착색된 장식 처리층으로 건식 코팅하는 단계;
- 각각의 제 1 희생 금속 보호층을 화학적으로 제거하는 단계.
*ROLEX 명의의 EP 특허 출원 제 3067220A1 호는 펨토초 레이저를 사용하여 장식될 엘리먼트 표면의 깊은 에칭; 및 장식될 타임피스 엘리먼트 표면의 표면 구조화로, 타임피스 엘리먼트를 장식하기 위한 방법을 개시하며, 이들 2 개의 장식들은 적어도 부분적으로 서로 중첩된다.
발명은 금속화된 및/또는 착색된 에칭 장식들을 획득하기 위해서, 전도성 재료, 특히 세라믹 또는 유사한 것으로 이루어진 쥬얼리 또는 시계학을 위한 외부 엘리먼트 또는 다이얼을 제조하기 위한 방법을 개발하기 위해 제안한다.
이를 위해, 발명은 청구항 1 에 따른 방법에 관련된다.
본 발명은 또한 이러한 방법에 의해 제작된 외부 엘리먼트 및/또는 다이얼을 포함하는 시계에 관련된다.
제안된 절차는 전도성 기판들 상의 고 선명 장식들을 획득하는 것을 가능하게 한다.
또한, 발명은 후속 진공 금속화 공정 동안 탈기를 나타낼 수 있는 유기 보호층들의 사용을 피한다.
최종적으로, 제공된 솔루션은 고가의 포토리소그래피 장비 (스핀 코터, 마스크 정렬기, 옐로우 룸) 의 취득을 요구하지 않으며, 일반적인 기계적 에칭 장비, 또는 특히 레이저 에칭 장비로 수행될 수 있다.
발명의 다른 피처들 및 장점들은 첨부 도면들을 참조하여 다음의 상세한 설명을 읽을 시 나타날 것이다.
- 도 1 은 기재의 제작, 기재를 제 1 희생 금속 보호층으로 코팅, 장식 에칭, 제 2 장식 금속 및/또는 착색된 처리층을 성막, 및 제 1 희생 금속 보호층 제거를 포함하는, 발명의 방법의 기본 사이클의 작업 순서의 개략적인 단면도를 나타낸다.
- 도 2 는 도 1 과 유사한 방식으로, 모든 에칭들이 기재의 기판에 도달하는 단일 에칭 단계를 나타낸다.
- 도 3 은 도 1 과 유사한 방식으로, 제 1 희생 금속 보호층을 제거하기 전에, 제 1 희생 금속 보호층 및 제 2 장식 처리층을 기계적으로 레벨링하는 선택적 단계를 나타낸다.
- 도 4 는 도 3 과 유사한 방식으로, 제 1 희생 금속 보호층을 제거한 후, 제 2 장식 처리층을 기계적으로 레벨링하는 선택적 단계를 나타낸다.
- 도 5 는 도 1 과 유사한 방식으로, 2 개의 중첩된 희생 금속 보호층들로, 제 1 희생 금속 보호층을 성막하는 단일 단계를 나타낸다.
- 도 6 은 도 1 과 유사한 방식으로, 2 개의 중첩된 장식 처리층들로, 제 2 금속 및/또는 착색된 장식 처리층을 성막하는 단일 단계를 나타낸다.
- 도 7 은 단일 또는 중첩된 원추형 에칭들, 및 단일 또는 중첩된 피라미드 에칭들을 포함하는 에칭 상세들을 나타낸다.
- 도 8 은 도 1 과 유사한 방식으로, 2 개의 상이한 장식들을 포함하는 컴포넌트를 제조하기 위한 9 개의 작업들의 순서를 나타내며, 처음 5 개의 작업들에서, 도 1 에서와 같이 블랭크가 연속적으로 제작되고, 그 후 이 블랭크가 코팅되는데, 여기 특정 변형에 있어서는, 먼저 건식 공정에서 성막된 층으로 코팅된 다음 전해 또는 전기도금 공정에서 성막된 층으로 코팅되며, 그 후 전체가 표면층으로 코팅되기 전에 제 2 할로우 에칭이 행해진 다음, 희생 금속 보호층들이 제거되어 장식들을 드러낸다.
- 도 9 는 도 1 과 유사한 방식으로, 도 8 의 제 2 할로우 에칭의 변형을 나타내며, 이 에칭은 직선 에지들로 행해진다.
- 도 10 은 도 1 과 유사한 방식으로, 최종 표면의 레벨링 또는 폴리싱 처리를 갖는 도 9 의 변형을 나타낸다.
- 도 11 은 발명의 방법에 의해 생성되고 장식된, 세라믹으로 이루어진 베젤 및 다이얼을 포함하는 시계를 나타낸다.
- 도 1 은 기재의 제작, 기재를 제 1 희생 금속 보호층으로 코팅, 장식 에칭, 제 2 장식 금속 및/또는 착색된 처리층을 성막, 및 제 1 희생 금속 보호층 제거를 포함하는, 발명의 방법의 기본 사이클의 작업 순서의 개략적인 단면도를 나타낸다.
- 도 2 는 도 1 과 유사한 방식으로, 모든 에칭들이 기재의 기판에 도달하는 단일 에칭 단계를 나타낸다.
- 도 3 은 도 1 과 유사한 방식으로, 제 1 희생 금속 보호층을 제거하기 전에, 제 1 희생 금속 보호층 및 제 2 장식 처리층을 기계적으로 레벨링하는 선택적 단계를 나타낸다.
- 도 4 는 도 3 과 유사한 방식으로, 제 1 희생 금속 보호층을 제거한 후, 제 2 장식 처리층을 기계적으로 레벨링하는 선택적 단계를 나타낸다.
- 도 5 는 도 1 과 유사한 방식으로, 2 개의 중첩된 희생 금속 보호층들로, 제 1 희생 금속 보호층을 성막하는 단일 단계를 나타낸다.
- 도 6 은 도 1 과 유사한 방식으로, 2 개의 중첩된 장식 처리층들로, 제 2 금속 및/또는 착색된 장식 처리층을 성막하는 단일 단계를 나타낸다.
- 도 7 은 단일 또는 중첩된 원추형 에칭들, 및 단일 또는 중첩된 피라미드 에칭들을 포함하는 에칭 상세들을 나타낸다.
- 도 8 은 도 1 과 유사한 방식으로, 2 개의 상이한 장식들을 포함하는 컴포넌트를 제조하기 위한 9 개의 작업들의 순서를 나타내며, 처음 5 개의 작업들에서, 도 1 에서와 같이 블랭크가 연속적으로 제작되고, 그 후 이 블랭크가 코팅되는데, 여기 특정 변형에 있어서는, 먼저 건식 공정에서 성막된 층으로 코팅된 다음 전해 또는 전기도금 공정에서 성막된 층으로 코팅되며, 그 후 전체가 표면층으로 코팅되기 전에 제 2 할로우 에칭이 행해진 다음, 희생 금속 보호층들이 제거되어 장식들을 드러낸다.
- 도 9 는 도 1 과 유사한 방식으로, 도 8 의 제 2 할로우 에칭의 변형을 나타내며, 이 에칭은 직선 에지들로 행해진다.
- 도 10 은 도 1 과 유사한 방식으로, 최종 표면의 레벨링 또는 폴리싱 처리를 갖는 도 9 의 변형을 나타낸다.
- 도 11 은 발명의 방법에 의해 생성되고 장식된, 세라믹으로 이루어진 베젤 및 다이얼을 포함하는 시계를 나타낸다.
발명은 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트, 특히 외부 엘리먼트 또는 다이얼을 제조하기 위한 방법에 관련되며, 기본 사이클은 다음의 단계들을 순서대로 포함하여 적어도 한번 수행된다:
- 초기 단계 (100) 에서, 기재 (1) 의 상부층 (101) 을 정의하는, 금속 또는 세라믹 또는 유기 또는 복합재인, 전도성 재료로 이루어진 기판으로부터 기재 (1) 를 생성하는 단계;
- 제 1 코팅 작업 (200) 에서, 특히 그러나 배타적으로는 아닌, 건식 공정에서, 기재 (1) 를 제 1 희생 금속 보호 재료의 적어도 제 1 층 (2) 으로 코팅하는 단계;
- 제 1 에칭 작업 (300) 에서, 기계적으로 또는 피코초 레이저 또는 펨토초 레이저 타입의 초단 펄스 레이저에 의해, 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 국부적 두께와 적어도 동일한 깊이로, 제 1 리세스된 장식 (3) 을 에칭하는 단계;
- 제 2 코팅 작업 (400) 에서, 특히 그러나 배타적으로는 아닌, 건식 공정에서, 제 2 금속 장식 처리 및/또는 착색된 장식 처리 재료의 적어도 제 2 층 (4) 으로 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 제 1 리세스된 장식 (3) 및 나머지 부분을 코팅하여, 제 1 중간 화합물 (5) 을 형성하는 단계;
- 제 1 화학적 제거 작업 (500) 에서, 특히 화학적 수단에 의해, 각각의 제 1 희생 금속 보호층 (2)을 제거하여, 제 2 층 (4) 의 나머지 부분에 의해 형성된 제 1 장식을 포함하는 제 1 블랭크 (10) 를 획득하고, 제 1 블랭크 (10) 를 피니싱하는 것에 의해 또는 제 1 블랭크 (10) 의 형태로 직접 타임피스 컴포넌트를 제작하는 단계.
특히, 상기 제 1 코팅 작업 (200) 동안, 코팅은 50 나노미터 초과의 제 1 두께로 도포된다.
변형에서, 제 1 코팅 작업 (200) 동안, 기재 (1) 는 적어도 제 1 희생 금속 보호층 (2) 으로 건식 코팅된다. 특히, 제 1 건식 코팅은 PVD 또는 CVD 또는 ALD 진공 증착에 의해 도포된다.
다른 변형에서, 제 1 코팅 작업 (200) 동안, 기재 (1) 는 적어도 제 1 희생 금속 보호층 (2) 으로 전해 또는 전기화학 수단에 의해 코팅된다.
특히, 적어도 제 2 금속 및/또는 착색된 장식 처리층 (4) 에 의한 코팅의 제 2 코팅 작업 (400) 동안, 코팅은 50 나노미터와 1,000 나노미터 사이에 포함된 제 2 두께로 도포된다.
변형에서, 제 2 코팅 작업 (400) 동안, 기재 (1) 는 적어도 제 2 금속 장식 처리 및/또는 착색된 장식 처리층 (4) 으로 건식 코팅된다. 특히, 제 2 건식 코팅 작업 (400) 은 PVD 또는 CVD 또는 ALD 진공 증착에 의해 도포된다.
다른 변형에서, 제 2 코팅 작업 (400) 동안, 기재 (1) 는 적어도 제 2 금속 장식 처리 및/또는 착색된 장식 처리층 (4) 으로 전해 또는 전기화학 수단에 의해 코팅된다.
특히, 제 1 리세스된 장식 (3) 을 에칭하는 작업 (300) 동안, 에칭은 기재 (1) 의 기판에 이르기까지 모든 곳에서 수행된다.
특히, 제 1 코팅 작업 (200) 동안, 제 1 코팅은, 한편으로는 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 제 1 리세스된 장식 (3) 및 나머지 부분을 코팅하는 단계 (4) 에서 도포될 제 2 금속 및/또는 착색된 장식 처리층 (4) 의 제 2 두께와, 다른 한편으로 제 1 리세스된 장식 (3) 을 에칭하는 작업 (300) 동안 기재 (1) 의 기판에서의 에칭 깊이 사이의 차이 이상인 제 1 두께로 도포된다.
특히, 에칭 작업 (300) 동안, 에칭은 깊은 원추형 또는 피라미드형 리세스들의 병치 (juxtaposition) 를 형성하도록 수행된다.
특히, 에칭 작업 (300) 동안, 에칭은 20 나노미터와 기재 (1) 의 총 두께 사이에 포함된 기재 (1) 에서의 깊이로 수행된다.
변형에서, 제 1 코팅 작업 (200) 동안, 코팅은 상이한 타입들의 수개의 제 1 층들 (2, 21, 22) 의 중첩으로, 건식 공정에서 완전히 또는 건식 공정에서 적어도 부분적으로 도포된다.
다른 변형에서, 제 1 코팅 작업 (200) 동안, 코팅은 상이한 타입들의 수개의 제 1 층들 (2, 21, 22) 의 중첩으로, 전해 또는 전기화학 수단에 의해 완전히 또는 전해 또는 전기화학 수단에 의해 적어도 부분적으로 도포된다.
또 다른 변형에서, 층들의 일부는 건식 공정에서 성막되고, 일부 다른 층들은 전해 또는 전기화학 수단에 의해 성막된다.
특정 변형에서, 도 6 에서 보여지는 바와 같이, 적어도 제 2 금속 및/또는 착색된 장식 처리층 (4) 으로, 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 리세스된 장식 (3) 및 나머지 부분을 코팅하는 단계 (400) 에서, 코팅은 상이한 타입들의 수개의 제 2 층들 (4) 의 중첩으로 도포된다.
변형에서, 제 2 코팅 작업 (400) 동안, 코팅은 상이한 타입들의 수개의 제 2 층들 (4, 41, 42) 의 중첩으로, 건식 공정에서 완전히 또는 건식 공정에서 적어도 부분적으로 도포된다.
다른 변형에서, 제 2 코팅 작업 (400) 동안, 코팅은 상이한 타입들의 수개의 제 2 층들 (4, 41, 42) 의 중첩으로, 전해 또는 전기화학 수단에 의해 완전히 또는 전해 또는 전기화학 수단에 의해 적어도 부분적으로 도포된다.
또 다른 변형에서, 층들의 일부는 건식 공정에서 성막되고, 일부 다른 층들은 전해 또는 전기화학 수단에 의해 성막된다.
특히, 수개의 제 2 층들 (4, 41, 42) 은 적어도, 50 내지 250 나노미터의 크롬층 (41) 및 50 내지 150 나노미터의 금층 (42) 으로 중첩된다. 특히, 약 200 나노미터의 두꺼운 크롬층 및 약 100 나노미터의 두꺼운 금층이 중첩으로 성막된다.
도 1 은 실현하기에는 더 어려운 변형 (410) 을 나타내며, 여기서 작업 (400) 은 제 2 장식 처리층 레벨을 제 1 희생 금속 보호층 (2) 로 성막함으로써 수정된다.
전도성의, 금속화된 및/또는 착색된 에칭 다이얼들을 제작하기 위한 특정 애플리케이션들에 대해, 발명의 유리한 작업 순서는 다음의 특정 파라미터들을 포함한다:
- 200: 희생 금속 보호층: 바람직하게 그러나 배타적으로는 아닌, 알루미늄, 또는 크롬, 또는 구리를 성막하는 것. 이 희생 금속 보호층은 건식 공정, 특히 PVD, CVD, ALD 또는 유사한 것에서 생성될 수 있으며; 또한 전해 또는 전기화학 또는 다른 수단에 의해 생성될 수 있다.
- 300: (피코초 레이저 또는 펨토초 레이저 타입의) 초단 펄스 레이저로 또는 나노초 레이저, 또는 다른 극도에서 아토초 레이저로, 희생 금속 보호층 (2) 의 선택적 애블레이션 (ablation) 으로 장식을 레이저 에칭하는 것, 그리고 가능하게는 도면들에서 보여지는 바와 같이, 하부 에칭 (GI) 으로 칭하는 기판 (1) 의 에칭;
- 400: 건식 공정에서, 특히 PVD, CVD, ALD 또는 유사한 것에서, 또는 전해 또는 전기화학 처리 또는 다른 것에 의해 생성된, 장식 금속 (금, 로듐, 크롬, 실리콘 또는 다른 것) 또는 착색된 (산화물, 예를 들어, 실리콘 이산화물, 또는 강옥 또는 다른 것, 금속 질화물 및 탄화물 및 이들의 임의의 층 조합) 처리;
- 500: 화학적 수단 (알루미늄용 NaOH 타입 알칼리성 용액, 그러나 또한 가능하게는 크롬용 산 또는 다른 것) 에 의한 보호층의 제거.
재료들의 선택은 작업 순서의 제약들에 의해 직접 정의된다.
실제로, 각각의 희생층 및 각각의 장식층의 성질은 다음과 같이 되도록 선택되어야 한다:
- 박리 용액이 장식 코팅을 열화시키지 않으면서 보호층을 제거;
- 보호층이 에칭 동안, 특히 레이저 에칭 동안 (특히 피코초 레이저 또는 펨토초 레이저 타입의 초단 펄스 레이저 뿐만 아니라 나노초 레이저 또는 다른 것), 정의된 에칭 영역 이외의 장소들에서 열화되지 않음 (에칭에 근접하는 가능한 열화, 백열성 입자들의 프로젝션);
- 보호층이 임의의 중간 세정 작업들에 견뎌야 함.
단계 (200) 에서, 희생 금속 보호층의 선택은 임의의 탈기를 회피한다. 실제로, 이 희생 금속 보호층은 단계 (400) 에서의 장식 처리 동안 직면되는 압력 (P = 1.10-8 mbar 만큼 낮을 수도 있음) 및 온도 (통상적으로 T ≤ 300 ℃) 의 조건들에서 불활성인 재료로 구성되며, 이는 장식 처리의 품질 및/또는 미학을 손상시킬 수 있는, 탈기 및/또는 부분적 분해의, 이러한 조건들에서의 결점을 갖는 종래 기술에서 사용된 래커/바니스와는 다르다.
바람직하게, 적어도 제 1 희생 금속 보호층 (2) 으로 코팅 기재 (1) 의 단계 (200) 를 수행하기 전에, 세제 및/또는 용매를 사용하여, 초음파 유/무, 기계적 응력 유/무, 온도 유/무로, 세정 작업이 수행되어, 표면이 깨끗한 것을 보장하고 따라서 희생 금속 보호층의 양호한 접착력을 보장한다.
특정 변형에서, 제 1 리세스된 장식 (3) 을 에칭하는 작업 (300) 동안, 에칭은 도 2 에서 보여지는 바와 같이, 기재 (1) 의 기판의 모든 곳에서 수행된다.
본질적으로, 블랭크는 에칭 작업 후, 특히 PVD 또는 CVD 또는 ALD 에 의한 장식 처리 재료의 제 2 성막으로의 진행 전에 세정되어야 한다. 이는 (세제 및/또는 용매를 사용하여, 초음파 유/무, 기계적 응력 유/무, 온도 유/무로의) 종래의 세정 작업이지만, 희생 금속 보호를 저하시키지 않아야 한다. 특히, 희생 금속 보호가 알루미늄을 포함하는 경우, 너무 염기성인 pH 레벨을 갖는 세정 용액들은 배제되어야 한다.
발명의 변형에서는, (단계 500 에서) 각각의 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 화학적 제거 전 또는 후에, (단계 550 에서) 이에 따라 기재 (1) 의 상부 레벨 상에 형성된 화합물은 기계적으로 레벨링된다.
특정 변형에서, 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 리세스된 장식 (3) 및 나머지 부분이 적어도 제 2 금속 및/또는 착색된 장식 처리층 (4) 으로 코팅되는, 코팅 단계 (400) 후에, 이에 따라 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 상부 레벨 상에 형성된 화합물은 단계 (450) 에서 기계적으로 레벨링된다.
다른 특정 변형에서, 각각의 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 화학적 제거 전에, 이에 따라 기재 (1) 의 상부 레벨 상에 형성된 화합물은 단계 (550) 에서 기계적으로 레벨링된다.
다른 특정 변형에서, 각각의 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 화학적 제거 후에, 이에 따라 기재 (1) 의 상부 레벨 상에 형성된 화합물은 단계 (550) 에서 기계적으로 레벨링된다.
변형에서, 적어도 제 1 희생 금속 보호층 (2) 으로 기재 (1) 를 코팅하는 단계 (200) 에서, 이러한 건식 코팅은 PVD 또는 CVD 또는 ALD 진공 증착에 의해 도포되고; 진공 증발, 진공 스퍼터링, PECVD 또는 다른 것의 다양한 방법들이 또한 적합할 수도 있다. 다른 변형에서, 이 코팅은 전해 또는 전기화학 수단에 의해 도포된다.
특정 변형에서, 적어도 제 1 희생 금속 보호층 (2) 으로 기재 (1) 를 코팅하는 단계 (200) 에서, 이 코팅은 50 나노미터 초과의 제 1 두께로 도포된다.
유리한 변형에서, 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 리세스된 장식 (3) 및 나머지 부분을 적어도 제 2 금속 및/또는 착색된 장식 처리층 (4) 으로 코팅하는 단계 (400) 에서, 이 코팅은 건식 공정에서, 특히 PVD 진공 증착 (상이한 방법들: 진공 증발, 진공 스퍼터링, CVD, ALD 또는 다른 것이 적합할 수도 있음) 에 의해, 또는 전해 또는 전기화학 수단에 의해 도포될 수 있다.
보다 구체적으로, 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 리세스된 장식 (3) 및 나머지 부분을 적어도 제 2 금속 및/또는 착색된 장식 처리층 (4) 으로 코팅하는 단계 (400) 에서, 이 코팅은 50 나노미터와 2,000 나노미터 사이, 특히 50 나노미터와 1,000 나노미터 사이에 포함된 제 2 두께로 도포된다.
바람직하게, 기재 (1) 를 적어도 제 1 희생 금속 보호층 (2) 으로 코팅하는 단계 (200) 에서, 코팅은 한편으로는 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 리세스된 장식 (3) 및 나머지 부분을 코팅하는 단계 (400) 에서 제 2 금속 및/또는 착색된 장식 처리층 (4) 의 제 2 두께와, 다른 한편으로 리세스된 장식 (3) 을 에칭하는 작업 (30) 동안 기재 (1) 의 기판에서의 에칭 깊이 사이의 차이 이상인 제 1 두께로 도포된다.
유리한 변형에서, 리세스된 장식 (3) 을 에칭하는 단계 (30) 에서, 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 국부적 두께와 적어도 동일한 깊이로, 에칭이 기계적으로 또는 레이저, 특히 나노초, 피코초, 또는 펨토초 레이저에 의해 수행된다.
발명에 대한 대안으로서, 유사한 절차로, 이 에칭을 레이저, 툴 가공, 이온 충격, 화학적 에칭 등의 상이한 수단에 의해, 단독으로 또는 조합으로 수행하는 것이 가능하다.
특정 변형에서, 리세스된 장식 (3) 을 에칭하는 단계 (300) 에서, 제 1 희생 금속 보호층 (2) 의 국부적 두께와 적어도 동일한 깊이로, 깊은 원추형 또는 피라미드형 리세스들의 병치를 형성하도록 에칭이 수행된다.
특히, 이 에칭 (300) 은 20 나노미터와 기재 (1) 의 총 두께 사이에 포함된 기재 (1) 에서의 깊이로 수행된다.
따라서, 예를 들어, 다이얼의 전체 두께에 걸쳐, 예를 들어 밀리미터 정도의 두께에 걸쳐 매우 깊은 원추형 리세스를 형성하는 것이 가능하다.
특히, 다른 애플리케이션들, 특히 디스플레이 애플리케이션들에 대해, 대략 20 ㎛ 의 깊이로 실질적으로 평탄한 레이저 에칭이 수행된다.
다른 변형에서, 더 깊은 레이저 에칭이 예를 들어, 리세스 또는 경사진 날짜 개구 (bevelled date aperture) 를 정의하기 위해 수행된다. 발명은 다른 수단에 의해 형성하는 것이 매우 어려운, 매우 미세한 2-착색된 경사진 개구를 생성할 수 있다.
특정 변형에서, 도 5 에 보여진 바와 같이, 적어도 제 1 희생 금속 보호층 (2) 으로 기재 (1) 를 코팅하는 단계 (200) 에서, 코팅은 상이한 타입들 (21, 22) 의 수개의 제 1 층들 (2) 의 중첩으로 도포된다.
사용될 수 있는 재료들의 선택은 상당히 넓다:
- 전도성 기판에 대해, 많은 상이한 재료들이 사용될 수 있다;
- 희생 금속 보호에 대해, 예를 들어 알루미늄 또는 크롬:
o 알루미늄을 함유하는 희생 금속 보호에 대해, 장식 처리는 다음을 포함할 수도 있다: Au, Cr, Rh, Ti, Si 및/또는 합금 및/또는 산화물 및/또는 질화물 및/또는 탄화물 및/또는 이들 금속의 조합;
o 크롬을 함유하는 희생 금속 보호에 대해, 장식 처리는 다음을 포함할 수도 있다: Au, Rh, Ti, Si 및/또는 합금 및/또는 산화물 및/또는 질화물 및/또는 탄화물 및/또는 이들 금속의 조합;
변형에서, 제 1 화학적 제거 작업 (500) 후, 제 3 코팅 작업 (600) 에서, 제 1 블랭크 (10) 는 제 1 희생 금속 보호 재료 또는 다른 희생 금속 보호 재료의 적어도 표면층 (7) 으로, 전기도금 공정에서 코팅된다. 그러나, 전기도금 공정은 전도성 기판에 적용되어야 한다.
다른 변형에서, 제 1 화학적 제거 작업 (500) 후, 제 3 코팅 작업 (600) 에서, 제 1 블랭크 (10) 는 제 1 희생 금속 보호 재료 또는 다른 희생 금속 보호 재료의 적어도 제 3 층 (6) 으로, 건식 공정에서, 특히 PVD, CVD, ALD 또는 유사한 것에 의해 코팅된다. 이 코팅 모드는 기판의 성질과 무관하다.
또 다른 변형에서, 코팅 작업 (600) 동안, 이러한 제 3 층 (6) 이 일단 생성되면, 그 다음 상기 제 3 층 (6) 이 제 1 희생 금속 보호 재료 또는 제 3 층 (6) 의 희생 금속 보호 재료, 또는 다른 희생 금속 보호 재료의 적어도 표면층 (7) 으로, 전기도금 공정에서 코팅된다. 전도성 제 3 층 (6) 을 선택하면 표면층 (7) 을 형성하기 위한 전기도금 방법을 적용하는 것이 가능하다. 제 3 층 (6) 의 재료가 표면층 (7) 의 재료, 예를 들어 구리와 동일한 것을 방지하는 것은 없다.
특히, 제 3 코팅 작업 (600) 후, 제 2 에칭 작업 (700) 이 수행되며, 여기서 제 2 리세스된 장식 (8) 은 기계적으로 또는 레이저에 의해, 제 3 코팅 작업 (600) 동안 제 1 블랭크 (600) 상에 성막된 층들의 조합된 두께와 적어도 동일한 깊이로 에칭되어, 제 2 중간 화합물 (15) 을 생성한다.
특히 여전히, 이 제 2 에칭 작업 (700) 후, 제 4 코팅 작업 (800) 이 수행되며, 제 4 코팅 작업 (800) 동안, 제 2 리세스된 장식 (8) 및 제 2 중간 화합물 (15) 의 최표면은 제 5 금속 장식 처리 및/또는 착색된 장식 처리 재료의 적어도 제 5 층 (9) 으로 코팅되어, 제 3 중간 화합물을 획득한다.
특히 여전히, 제 4 코팅 작업 (800) 후, 제 2 화학적 제거 작업 (900) 이 수행되며, 여기서 모든 희생 금속 보호층이 화학적 수단에 의해 제거되어, 제 2 층 (4) 의 나머지 부분에 의해 형성된 제 1 장식, 및 제 5 층 (9) 의 나머지 부분에 의해 형성된 제 2 장식을 포함하는 제 2 블랭크 (20) 를 획득하고, 타임피스 컴포넌트는 제 2 블랭크 (20) 를 피니싱하는 것에 의해 또는 제 2 블랭크 (20) 의 형태로 직접 제작된다.
특히, 적어도 제 6 금속 장식 처리 및/또는 착색 장식 처리 재료가 선택되고, 동일한 희생 금속 보호 재료들 또는 다른 유사한 희생 금속 보호 재료들로 블랭크를 제작하기 위해, 제 3 코팅 작업 (600), 제 2 에칭 작업 (700), 제 4 코팅 작업 (800) 및 제 2 화학적 제거 작업 (900) 을 순서 조합하는 것이 반복되어, 제 1 장식 및 제 2 장식에 부가하여 적어도 하나의 다른 장식을 생성한다.
특히, 제 4 코팅 작업 (800) 후 및 제 2 화학적 제거 작업 (900) 전에, 중간 에칭 작업 (810) 이 수행되며, 중간 에칭 작업 (810) 동안, 제 3 리세스된 장식 (81) 이 기계적으로 또는 레이저에 의해 에칭된다.
특히, 희생 금속 보호층을 화학적으로 제거하는 작업 전 또는 후에, 기계적 레벨링 작업 (550 또는 910) 이 수행되고, 따라서 기계적 레벨링 작업 (550 또는 910) 동안, 형성된 화합물이 기재 (1) 의 상부 레벨 (101) 상에서, 또는 상부 레벨 (101) 아래에서 레벨링되어, 컴포넌트의 나머지 부분의 상부 레벨 (411) 상에 가시적인 장식 표면을 형성한다. 따라서, 제 1 기본 사이클 및 세정의 완료 후, 에칭 작업 및/또는 장식 처리의 선택을 위해 수정된 파라미터들로 적어도 하나의 다른 기본 사이클이 수행된다.
발명은 기재 (1) 를 제작하는 단계 (100) 에서, 세라믹 기판이 사용되는 바람직한 경우에 특히 적합하다.
특히, 구리 또는 알루미늄 또는 금 또는 플래티늄인, 적어도 하나의 희생 금속 보호 재료가 사용된다.
특히, 타임피스 컴포넌트는 외부 엘리먼트 또는 다이얼을 형성하기 위해 제조된다.
따라서, 특히 발명에 따른 방법은 전도성 재료, 특히 세라믹 또는 유사한 것으로 이루어진, 예를 들어 팔찌 또는 보석의 쥬얼리 컴포넌트, 또는 쥬얼리 또는 시계학을 위한 케이스, 베젤, 플랜지 또는 다이얼과 같은 외부 엘리먼트의 제조에 적합하여, 금속화된 및/또는 착색된 에칭 장식들을 획득하는 것을 가능하게 한다.
발명은 2-착색된 또는 다-착색된 컴포넌트들을 제작하는 것을 가능하게 한다.
실제로, 방법은 상이한 에칭 장식들 및/또는 상이한 장식 처리들로 반복될 수 있다.
따라서, 페이즈 (500) 의 실행 및 제 1 기본 사이클의 완료 후, 그리고 세정의 완료 후에, 에칭 작업 및/또는 장식 처리의 선택을 위해 수정된 파라미터들로 적어도 하나의 다른 기본 사이클이 수행될 수 있다.
따라서, 반복들의 수를 제한하지 않으면서, 다음에 의해, 수정된 파라미터들로 기본 사이클의 전체 작업 순서를 재개하는 것이 가능하다:
- 희생 금속 보호를 성막하는 것;
- 다른 장식을, 예를 들어 기판 상의 다른 곳에서 및/또는 이전 페이즈에서 이미 수행된 에칭에 적어도 부분적으로 기초하여 에칭하는 것;
- 다른 장식 처리를 성막하는 것;
- 희생 금속 보호를 용해하는 것.
이 사이클은 수 회 반복되어, 예를 들어 Au, Ti, Si, Rh 또는 다른 것으로 이루어진 상이한 외관을 갖는 부분들을 갖는, 다-착색된 컴포넌트들을 획득할 수 있다.
특정 에칭된 텍스쳐는 또한 적용된 장식 처리, 예를 들어 사틴 (satin), 반 매트 (semi-matt), 브릴리언트 또는 다른 것의 특정 피니시 또는 반사들을 생성하는, 거칠기, 밀도 및 에칭 깊이에 의존하여, 특정 시각적 외관을 제공할 수 있다.
발명은 또한 특히 세라믹으로 이루어진, 베젤, 케이스 또는 유사한 것과 같은 외부 엘리먼트 (110) 를 포함하고 및/또는 특히 세라믹으로 이루어진 다이얼 (120) 을 포함하는, 본 발명에 따른 방법에 의해 제작된, 시계 (1000) 에 관련된다.
이 절차는 매우 고 선명의 장식들을 획득하기 위해 고가의 포토리소그래피 장비의 사용을 피한다.
또한, 희생 금속 보호층의 사용은 금속 및/또는 착색된 장식 처리층의 도포를 위한 바람직한 진공 처리 동안 임의의 문제성 탈기를 회피한다.
발명은 전도성 다이얼, 전도성 결정, 시계 케이스, 시계 미들, 베젤, 크라운 및 다른 것과 같은 전도성 컴포넌트들의 장식에 아주 적합하다. 귀금속으로 이루어질 수 있는 장식들의 품질, 섬세함 및 콘트라스트는, 럭셔리 시계와 호환가능한 고도로 개량된 장식, 특히 예를 들어, 고 해상도 달 페이즈 표시기들과 같은, 컴플리케이션들을 위한 엘리먼트들의 장식을 허용한다. 이 방법을 구현하기 위한 합리적인 비용은 또한 보다 널리 사용되는 타임피스 컴포넌트들에서의 그 사용을 허용한다.
본질적으로, 발명은 시계학 또는 쥬얼리 컴포넌트들 뿐만 아니라, 보석 또는 쥬얼리 컴포넌트들 또는 스펙터클 또는 패션 아이템에 대해 유리하다.
실제로, 발명은 혁신적인 장식들로, 사용자에게 직접적으로 가시적인 컴포넌트들의 외관을 변화시키고 실질적으로 강화시키는 것을 가능하게 하며, 브랜드 및 제품의 프로모션에 기여한다. 특히, 발명은 식별 마킹 및/또는 위조 방지 마킹을 위해 사용될 수 있다.
Claims (33)
- 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법으로서,
기본 사이클이 다음의 단계들:
- 초기 단계 (100) 에서, 기재 (1) 의 상부층 (101) 을 정의하는, 금속 또는 세라믹 또는 유기 또는 복합재인, 전도성 재료로 이루어진 기판으로부터 상기 기재 (1) 를 생성하는 단계;
- 제 1 코팅 작업 (200) 에서, 상기 기재 (1) 를 제 1 희생 금속 보호 재료의 적어도 제 1 층 (2; 21; 22) 으로 코팅하는 단계;
- 제 1 에칭 작업 (300) 에서, 기계적으로 또는 피코초 레이저 또는 펨토초 레이저 타입의 초단 펄스 레이저에 의해, 상기 제 1 층 (2; 21; 22) 의 국부적 두께와 적어도 동일한 깊이로, 제 1 리세스된 장식 (3) 을 에칭하는 단계;
- 제 2 코팅 작업 (400) 에서, 제 2 금속 장식 처리 및/또는 착색된 장식 처리 재료의 적어도 제 2 층 (4; 41; 42) 으로 상기 제 1 층 (2; 21; 22) 의 상기 제 1 리세스된 장식 (3) 및 나머지 부분을 코팅하여, 제 1 중간 화합물 (5) 을 형성하는 단계;
- 제 1 화학적 제거 작업 (500) 에서, 각각의 상기 제 1 층 (2; 21; 22) 을 화학적 수단에 의해 제거하여, 상기 제 2 층 (4; 41; 42) 의 나머지 부분에 의해 형성된 제 1 장식을 포함하는 제 1 블랭크 (10) 를 획득하는 단계;
- 및 상기 제 1 블랭크 (10) 의 형태로 직접 또는 상기 제 1 블랭크 (10) 를 피니싱함으로써 상기 타임피스 컴포넌트를 제작하는 단계
를 순서대로 포함하여, 적어도 한번 수행되고,
- 상기 제 1 코팅 작업 (200) 동안 또는 상기 제 2 코팅 작업 (400) 동안 또는 각각, 상기 코팅이 수개의 상기 제 1 층들 (2; 21; 22) 또는 상이한 타입들의 수개의 상기 제 2 층들 (4; 41; 42) 의 중첩으로, 각각 전해 또는 전기화학 수단에 의해 적어도 부분적으로 또는 건식 공정에서 적어도 부분적으로 도포되거나,
- 또는 상기 제 1 화학적 제거 작업 (500) 후, 제 3 코팅 작업 (600) 에 있어서, 전기도금 공정에서 상기 제 1 희생 금속 보호 재료 또는 다른 희생 금속 보호 재료의 적어도 표면층 (7) 으로, 또는 건식 공정에서 상기 제 1 희생 금속 보호 재료 또는 다른 희생 금속 보호 재료의 적어도 제 3 층 (6) 으로, 상기 제 1 블랭크 (10) 를 코팅하거나;
- 또는 상기 제 1 코팅 작업 (200) 동안 동시에 또는 상기 제 2 코팅 작업 (400) 동안 동시에 또는 각각, 상기 코팅이 수개의 상기 제 1 층들 (2; 21; 22) 또는 상이한 타입들의 수개의 상기 제 2 층들 (4; 41; 42) 의 중첩으로, 각각 전해 또는 전기화학 수단에 의해 적어도 부분적으로 또는 건식 공정에서 적어도 부분적으로 도포되고, 상기 제 1 화학적 제거 작업 (500) 후, 제 3 코팅 작업 (600) 에 있어서, 전기도금 공정에서 상기 제 1 희생 금속 보호 재료 또는 다른 희생 금속 보호 재료의 적어도 표면층 (7) 으로, 또는 건식 공정에서 상기 제 1 희생 금속 보호 재료 또는 다른 희생 금속 보호 재료의 적어도 제 3 층 (6) 으로, 상기 제 1 블랭크 (10) 를 코팅하는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 코팅 작업 (200) 동안, 상기 코팅은 50 나노미터 초과의 제 1 두께로 도포되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 코팅 작업 (200) 동안, 상기 기재 (1) 는 적어도 하나의 상기 제 1 층 (2; 21; 22) 으로 제 1 건식 코팅되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 3 항에 있어서,
상기 제 1 건식 코팅은 PVD 또는 CVD 또는 ALD 진공 증착에 의해 도포되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 코팅 작업 (200) 동안, 상기 기재 (1) 는 적어도 하나의 상기 제 1 층 (2; 21; 22) 으로 전해 또는 전기화학 수단에 의해 코팅되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
적어도 제 2 층 (4; 41; 42) 에 의한 코팅의 상기 제 2 코팅 작업 (400) 동안, 상기 코팅은 50 나노미터와 1,000 나노미터 사이에 포함된 제 2 두께로 도포되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 2 코팅 작업 (400) 동안, 상기 기재 (1) 는 적어도 상기 제 2 층 (4; 41; 42) 으로 제 2 건식 코팅되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 7 항에 있어서,
상기 제 2 건식 코팅은 PVD 또는 CVD 또는 ALD 진공 증착에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 2 코팅 작업 (400) 동안, 상기 기재 (1) 는 적어도 하나의 상기 제 2 층 (4; 41; 42) 으로 전해 또는 전기화학 수단에 의해 코팅되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 리세스된 장식 (3) 을 에칭하는 상기 작업 (300) 동안, 상기 에칭은 상기 기재 (1) 의 상기 기판에 이르기까지 모든 곳에서 수행되는 것을 특징으로하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 코팅 작업 (200) 동안, 상기 제 1 코팅은, 한편으로는 상기 제 1 층 (2; 21; 22) 의 상기 제 1 리세스된 장식 (3) 및 상기 나머지 부분을 코팅하는 작업 (400) 동안 도포될 제 2 층 (4; 41; 42) 의 제 2 두께와, 다른 한편으로 제 1 리세스된 장식 (3) 을 에칭하는 상기 작업 (300) 동안 상기 기재 (1) 의 상기 기판에서의 에칭 깊이 사이의 차이 이상인 제 1 두께로 도포되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 에칭 작업 (300) 동안, 상기 에칭은 깊은 원추형 또는 피라미드형 리세스들의 병치 (juxtaposition) 를 형성하도록 수행되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 에칭 작업 (300) 동안, 상기 에칭은 20 나노미터와 상기 기재 (1) 의 총 두께 사이에 포함된 상기 기재 (1) 에서의 깊이로 수행되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 코팅 작업 (200) 동안, 상기 코팅은 상이한 타입들의 수개의 상기 제 1 층들 (2, 21, 22) 의 중첩으로, 건식 공정에서 완전히 또는 건식 공정에서 적어도 부분적으로 도포되는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 코팅 작업 (200) 동안, 상기 코팅은 상이한 타입들의 수개의 상기 제 1 층들 (2, 21, 22) 의 중첩으로, 전해 또는 전기화학 수단에 의해 완전히 또는 전해 또는 전기화학 수단에 의해 적어도 부분적으로 도포되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 2 코팅 작업 (400) 동안, 상기 코팅은 상이한 타입들의 수개의 상기 제 2 층들 (4; 41; 42) 의 중첩으로, 건식 공정에서 완전히 또는 건식 공정에서 적어도 부분적으로 도포되는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 2 코팅 작업 (400) 동안, 상기 코팅은 상이한 타입들의 수개의 상기 제 2 층들 (4; 41; 42) 의 중첩으로, 전해 또는 전기화학 수단에 의해 완전히 또는 전해 또는 전기화학 수단에 의해 적어도 부분적으로 도포되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 16 항에 있어서,
수개의 상기 제 2 층들 (4; 41; 42) 의 상기 중첩은 적어도, 50 내지 250 나노미터의 크롬층 (41) 및 50 내지 150 나노미터의 금층 (42) 으로 수행되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 17 항에 있어서,
수개의 상기 제 2 층들 (4; 41; 42) 의 상기 중첩은 적어도, 50 내지 250 나노미터의 크롬층 (41) 및 50 내지 150 나노미터의 금층 (42) 으로 수행되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 화학적 제거 작업 (500) 후, 제 3 코팅 작업 (600) 에서, 상기 제 1 블랭크 (10) 는 상기 제 1 희생 금속 보호 재료 또는 다른 희생 금속 보호 재료의 적어도 표면층 (7) 으로, 전기도금 공정에서 코팅되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 제 1 화학적 제거 작업 (500) 후, 제 3 코팅 작업 (600) 에서, 상기 제 1 블랭크 (10) 는 상기 제 1 희생 금속 보호 재료 또는 다른 희생 금속 보호 재료의 적어도 제 3 층 (6) 으로, 건식 공정에서 코팅되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 21 항에 있어서,
상기 코팅 작업 (600) 동안, 상기 제 3 층 (6) 을 생성한 후, 그 다음 상기 제 3 층 (6) 이 상기 제 1 희생 금속 보호 재료 또는 상기 제 3 층 (6) 의 희생 금속 보호 재료, 또는 다른 희생 금속 보호 재료의 적어도 표면층 (7) 으로, 전기도금 공정에서 코팅되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 20 항에 있어서,
상기 제 3 코팅 작업 (600) 후, 제 2 에칭 작업 (700) 이 수행되며, 여기서 제 2 리세스된 장식 (8) 이 기계적으로 또는 레이저에 의해, 상기 제 3 코팅 작업 (600) 동안 상기 제 1 블랭크 (10) 상에 성막된 층들의 조합된 두께와 적어도 동일한 깊이로 에칭되어, 제 2 중간 화합물 (15) 을 생성하는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 23 항에 있어서,
상기 제 2 에칭 작업 (700) 후, 제 4 코팅 작업 (800) 이 수행되며, 상기 제 4 코팅 작업 (800) 동안, 상기 제 2 리세스된 장식 (8) 및 상기 제 2 중간 화합물 (15) 의 최표면은 제 5 금속 장식 처리 및/또는 착색된 장식 처리 재료의 적어도 제 5 층 (9) 으로 코팅되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 24 항에 있어서,
상기 제 4 코팅 작업 (800) 후, 제 2 화학적 제거 작업 (900) 이 수행되며, 상기 제 2 화학적 제거 작업 (900) 을 통해, 모든 희생 금속 보호 재료가 화학적 수단에 의해 제거되어, 상기 제 2 층 (4; 41; 42) 의 나머지 부분에 의해 형성된 상기 제 1 장식, 및 상기 제 5 층 (9) 의 나머지 부분에 의해 형성된 제 2 장식을 포함하는 제 2 블랭크 (20) 를 획득하고, 상기 타임피스 컴포넌트는 상기 제 2 블랭크 (20) 를 피니싱하는 것에 의해 또는 상기 제 2 블랭크 (20) 의 형태로 직접 제작되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 25 항에 있어서,
적어도 제 6 금속 장식 처리 및/또는 착색된 장식 처리 재료가 선택되고, 상기 제 3 코팅 작업 (600), 상기 제 2 에칭 작업 (700), 상기 제 4 코팅 작업 (800) 및 상기 제 2 화학적 제거 작업 (900) 을 순서 조합하는 것이, 상기 제 1 장식 및 상기 제 2 장식에 부가하여 적어도 하나의 다른 장식을 제작하기 위해서, 동일한 희생 금속 보호 재료들 또는 다른 유사한 희생 금속 보호 재료들로 반복되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 25 항에 있어서,
상기 제 4 코팅 작업 (800) 후 및 상기 제 2 화학적 제거 작업 (900) 전에, 중간 에칭 작업 (810) 이 수행되며, 상기 중간 에칭 작업 (810) 동안, 제 3 리세스된 장식 (81) 이 기계적으로 또는 레이저에 의해 에칭되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
희생 금속 보호 재료를 화학적으로 제거하는 작업 전 또는 후에, 기계적 레벨링 작업 (550; 910) 이 수행되고, 따라서 상기 기계적 레벨링 작업 (550; 910) 동안, 형성된 화합물이 상기 기재 (1) 의 상부 레벨 (101) 상에서, 또는 상기 상부 레벨 (101) 아래에서 기계적으로 레벨링되어, 상기 컴포넌트의 나머지 부분의 상부 레벨 (411) 상에 가시적인 장식 표면을 형성하는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
제 1 의 상기 기본 사이클 및 세정 작업의 완료에 후속하여, 적어도 하나 이상의 상기 기본 사이클이 상기 장식 처리의 선택을 위해 및/또는 상기 에칭 작업을 위해 수정된 파라미터들로 수행되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 기재 (1) 를 생성하는 단계 (100) 동안, 세라믹 기판이 사용되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
구리 또는 알루미늄 또는 금 또는 플래티늄인, 적어도 하나의 희생 금속 보호 재료가 사용되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 있어서,
상기 타임피스 컴포넌트는 외부 엘리먼트 또는 다이얼을 형성하도록 제조되는 것을 특징으로 하는, 전도성 재료로 이루어진 타임피스 컴포넌트를 제조하기 위한 방법. - 제 1 항에 기재된 방법에 의해 제작된 적어도 하나의 타임피스 컴포넌트 (100) 를 포함하는, 시계 (1000).
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP19162928.6 | 2019-03-14 | ||
| EP19162928.6A EP3708384A1 (fr) | 2019-03-14 | 2019-03-14 | Element d'habillage ou cadran d'horlogerie ou de bijouterie en materiau conducteur |
| KR1020200030639A KR20200110625A (ko) | 2019-03-14 | 2020-03-12 | 전도성 재료로 이루어진 쥬얼리 또는 시계학을 위한 외부 엘리먼트 또는 다이얼 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020200030639A Division KR20200110625A (ko) | 2019-03-14 | 2020-03-12 | 전도성 재료로 이루어진 쥬얼리 또는 시계학을 위한 외부 엘리먼트 또는 다이얼 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20210153022A true KR20210153022A (ko) | 2021-12-16 |
| KR102523685B1 KR102523685B1 (ko) | 2023-04-19 |
Family
ID=65817804
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020200030639A KR20200110625A (ko) | 2019-03-14 | 2020-03-12 | 전도성 재료로 이루어진 쥬얼리 또는 시계학을 위한 외부 엘리먼트 또는 다이얼 |
| KR1020210175063A KR102523685B1 (ko) | 2019-03-14 | 2021-12-08 | 전도성 재료로 이루어진 쥬얼리 또는 시계학을 위한 외부 엘리먼트 또는 다이얼 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020200030639A KR20200110625A (ko) | 2019-03-14 | 2020-03-12 | 전도성 재료로 이루어진 쥬얼리 또는 시계학을 위한 외부 엘리먼트 또는 다이얼 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US11977356B2 (ko) |
| EP (1) | EP3708384A1 (ko) |
| JP (1) | JP7005667B2 (ko) |
| KR (2) | KR20200110625A (ko) |
| CN (1) | CN111694261A (ko) |
| RU (1) | RU2743680C1 (ko) |
| TW (1) | TWI777135B (ko) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7052830B2 (ja) * | 2020-06-30 | 2022-04-12 | セイコーエプソン株式会社 | 時計用文字板の製造方法、時計用文字板、時計 |
| JP7497670B2 (ja) | 2020-10-29 | 2024-06-11 | セイコーエプソン株式会社 | 時計部品の製造方法、及び時計部品 |
| JP2024521676A (ja) * | 2021-05-31 | 2024-06-04 | プティピエール ソシエテ アノニム | マイクロメカニカル部品を機械加工するための工作機械、及び前記工作機械によって実施される機械加工方法 |
| EP4206826A1 (fr) * | 2021-12-30 | 2023-07-05 | Rubattel et Weyermann S.A. | Procédé de fabrication d'appliques sur un cadran |
| EP4327690A1 (fr) * | 2022-08-22 | 2024-02-28 | Comadur S.A. | Composant d'habillage d'une montre ou d'un article de mode, de bijouterie ou de joaillerie et procédé de fabrication d'un tel composant d'habillage |
| EP4338638A1 (fr) * | 2022-09-16 | 2024-03-20 | Comadur S.A. | Procede de fabrication d'un composant d'habillage d'une montre, d'un article de mode ou d'un article de bijouterie ou de joaillerie |
| CN115503383A (zh) * | 2022-09-29 | 2022-12-23 | 黄向文 | 一种外表面具有掐丝图文结构的物品及其加工方法 |
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| EP3336614A1 (fr) * | 2016-12-16 | 2018-06-20 | Rubattel et Weyermann S.A. | Element d'habillage ou cadran d'horlogerie en materiau non conducteur |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| GB1525609A (en) * | 1975-12-04 | 1978-09-20 | Suisse Horlogerie | Watch case and method of manufacture thereof |
| EP0459461B1 (en) * | 1990-05-31 | 1995-08-23 | Toshiba Tungaloy Co. Ltd. | Multi-colored product and process for producing the same |
| JPH04136188A (ja) * | 1990-09-26 | 1992-05-11 | Seiko Epson Corp | 装飾部材の製造方法 |
| JPH04154988A (ja) * | 1990-10-16 | 1992-05-27 | Seiko Epson Corp | 装飾部材の製造方法 |
| JPH04160154A (ja) * | 1990-10-24 | 1992-06-03 | Seiko Epson Corp | 装飾部材の製造方法 |
| JPH05156425A (ja) | 1991-12-03 | 1993-06-22 | Seiko Epson Corp | 装飾部材およびその製造方法 |
| JP3557868B2 (ja) | 1997-01-14 | 2004-08-25 | セイコーエプソン株式会社 | 装飾品の表面処理方法、装飾品および電子機器 |
| JP3477067B2 (ja) | 1998-03-09 | 2003-12-10 | セイコーエプソン株式会社 | 金属部材の表面処理方法および金属部材 |
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| RU2621229C2 (ru) * | 2012-05-30 | 2017-06-01 | Те Свотч Груп Рисерч Энд Дивелопмент Лтд | Керамический элемент, инкрустированный по меньшей мере одним декорированием из композиционной керамики |
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| EP3067220B1 (fr) * | 2015-03-13 | 2018-04-18 | Rolex Sa | Procédé de décoration d'un élément d'horlogerie et élément horloger obtenu par un tel procédé |
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| CH711958A2 (fr) | 2015-12-18 | 2017-06-30 | Swatch Group Res & Dev Ltd | Elément d'habillage en zircone à coloration sélective. |
| FR3059792B1 (fr) * | 2016-12-01 | 2019-05-24 | Lvmh Swiss Manufactures Sa | Dispositif pour piece d'horlogerie, mouvement horloger et piece d'horlogerie comprenant un tel dispositif |
-
2019
- 2019-03-14 EP EP19162928.6A patent/EP3708384A1/fr active Pending
-
2020
- 2020-02-21 TW TW109105615A patent/TWI777135B/zh active
- 2020-03-06 JP JP2020038440A patent/JP7005667B2/ja active Active
- 2020-03-12 KR KR1020200030639A patent/KR20200110625A/ko not_active Application Discontinuation
- 2020-03-12 RU RU2020110364A patent/RU2743680C1/ru active
- 2020-03-12 US US16/816,309 patent/US11977356B2/en active Active
- 2020-03-13 CN CN202010175951.8A patent/CN111694261A/zh active Pending
-
2021
- 2021-12-08 KR KR1020210175063A patent/KR102523685B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0441679A (ja) * | 1990-06-04 | 1992-02-12 | Toshiba Tungaloy Co Ltd | 有色表面物品及びその製造方法 |
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| EP3336614A1 (fr) * | 2016-12-16 | 2018-06-20 | Rubattel et Weyermann S.A. | Element d'habillage ou cadran d'horlogerie en materiau non conducteur |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR102523685B1 (ko) | 2023-04-19 |
| RU2743680C1 (ru) | 2021-02-24 |
| CN111694261A (zh) | 2020-09-22 |
| EP3708384A1 (fr) | 2020-09-16 |
| KR20200110625A (ko) | 2020-09-24 |
| JP7005667B2 (ja) | 2022-01-21 |
| US20200292996A1 (en) | 2020-09-17 |
| TW202040295A (zh) | 2020-11-01 |
| TWI777135B (zh) | 2022-09-11 |
| US11977356B2 (en) | 2024-05-07 |
| JP2020147849A (ja) | 2020-09-17 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A107 | Divisional application of patent | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |