KR20210017577A - 제조 설비 품질에 대한 정량화 진단법 - Google Patents

제조 설비 품질에 대한 정량화 진단법 Download PDF

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KR20210017577A
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Abstract

본 발명은 제조 설비 품질 정량화 진단법에 관한 것으로, 복수의 생산 요소를 갖는 제조 설비의 품질을 정량화하고 이를 한번에 진단하는 것이 가능하다.

Description

제조 설비 품질에 대한 정량화 진단법{QUANTITATIVELY DIAGNOSIS METHOD FOR MANUFACTURING FACILITY}
본 발명은 제조 설비의 품질을 정량화하고 이를 진단하는 방법에 관한 것이다.
최근, 충방전이 가능한 이차전지는 와이어리스 모바일 기기의 에너지원으로 광범위하게 사용되고 있다. 또한, 이차전지는, 화석 연료를 사용하는 기존의 가솔린 차량, 디젤 차량 등의 대기오염 등을 해결하기 위한 방안으로 제시되고 있는 전기자동차(EV), 하이브리드 전기자동차(HEV) 등의 동력원으로서도 주목받고 있다.
따라서, 이차전지를 사용하는 에플리케이션의 종류는 이차전지의 장점으로 인해 매우 다양화되어 가고 있으며, 향후에는 지금보다는 많은 분야와 제품들에 이차전지가 적용될 것으로 예상된다.
소형 모바일 기기들에는 디바이스 1 대당 하나 또는 작은 수의 전지셀들이 사용됨에 반하여, 자동차 등과 같은 중대형 디바이스에는 고출력 대용량의 필요성으로 인해, 다수의 전지셀을 전기적으로 연결한 중대형 전지모듈이 사용된다.
한편, 제조된 이차전지에 대한 품질 검사 결과 불량률이 높아지게 되면, 위의 제조 설비에 대한 진단 및 보완이 요구된다. 그러나, 이차전지를 제조하는 설비는 다양한 생산 요소를 포함한다. 따라서, 제품의 불량을 유발하는 생산 요소를 확인하기 위해서는, 전제 제조 설비에 대한 전반적인 진단이 요구된다. 이는 이차전지에 대한 공정 효율을 저하시키는 원인이 된다.
일본 공개특허공보 제2018-115874호 한국 공개특허공보 제2019-0000826호
본 발명은 종래기술의 문제점과 과거로부터 요청되어온 기술적 과제를 해결하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 목적은, 복수의 생산 요소를 갖는 제조 설비의 품질을 정량화하고 이를 한번에 진단하는 방법에 관한 것이다.
이러한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 따른 제조 설비 품질 정량화 진단법은,
대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득하는 단계;
연속적으로 획득된 검사값을 주파수 대역별로 분리하여 생산 주기당 발현 정도를 나타내는 주파수당 변환 피크를 도출하는 단계;
생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 고유 주파수를 확보하는 단계; 및
생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비하여, 생산 요소별 품질을 진단하는 단계;를 포함한다.
하나의 예에서, 본 발명에 따른 제조 설비 품질 정량화 진단법에서, 대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득하는 단계는, 대상 제품의 특정 요소에 대하여 검사하고, 기준치 대비 검사한 결과치를 대비하여 검사값을 연속적으로 획득하여 수행한다.
구체적으로, 대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득하는 단계는,
대상 제품의 특정 요소에 대하여 검사하되,
검사한 결과치가 기준치를 초과하는 경우에는 양(+)의 수로 정량화하고,
검사한 결과치가 기준치를 미달하는 경우에는 음(-)의 수로 정량화하고,
정량화된 수치들을 연속적으로 획득하여 수행한다.
예를 들어, 대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득하는 단계에서, 상기 대상 제품은 전기화학소자이다. 본 발명에서 전기화학소자란, 전지 또는 커패시터와 같은 단위 셀 뿐만 아니라 전지 모듈 혹은 전지팩을 포함한다. 구체적으로, 상기 전기화학소자는 이차전지, 예를 들어 리튬 이차전지이다.
본 발명의 하나의 예에서, 연속적으로 획득된 검사값을 주파수 대역별로 분리하여 생산 주기당 발현 정도를 나타내는 주파수당 변환 피크를 도출하는 단계는, 고속 푸리에 변환(Fast Fourier Transform, FFT) 기법을 통해 수행한다.
하나의 예에서, 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 고유 주파수를 확보하는 단계는, 대상 제품 생산에 영향을 미치는 생산 요소들을 도출하고, 도출된 각 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 횟수를 기준으로 고유 주파수를 확보한다.
구체적으로, 상기 각 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 횟수는, 각 생산 요소별 영향으로 대상 제품의 특정 요소에 대한 검사값이 기준치를 벗어나는 빈도를 추출한 결과치이다.
또한, 상기 생산 요소는, 대상 제품 생산에 관여하는 설비 요소이다. 예를 들어, 상기 설비 요소는, 전기화학소자 제조 설비 요소이다.
하나의 예에서, 생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비하여, 생산 요소별 품질을 진단하는 단계는, 기 설정된 생산 요소별 고유 주파수별로 주파수당 변환 피크와 대비하여, 변환 피크가 높게 나타나는 주파수에 대응되는 고유 주파수의 생산 요소는 품질 보완 대상으로 선정하는 것을 특징으로 한다.
또 다른 하나의 예에서, 기 설정된 생산 요소별 고유 주파수별로 주파수당 변환 피크와 대비하여, 변환 피크가 특정 수치보다 높게 나타나는 주파수에 대응되는 고유 주파수의 생산 요소는 품질 보완 대상으로 선정하고, 변환 피크가 특정 수치보다 낮게 나타나는 주파수에 대응되는 고유 주파수의 생산 요소는 품질 보완 대상에서 제외하는 것을 특징으로 한다.
또 다른 하나의 예에서, 본 발명은 생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비하여, 생산 요소별 품질을 진단하는 단계 이후에, 품질 보완 대상으로 선정된 생산 요소를 보완 내지 교체하는 단계를 더 포함한다.
본 발명에 따른 제조 설비 품질에 대한 정량화 진단법은, 복수의 생산 요소를 갖는 제조 설비의 품질을 정량화하고 이를 한번에 진단하는 것이 가능하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 제조 설비 품질 정량화 진단법을 개략적으로 도시한 모식도이다.
도 2는 대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 3은 연속적으로 획득된 검사값을 주파수 대역별로 분리하여 생산 주기당 발현 정도를 나타내는 주파수당 변환 피크를 도출한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 4는 생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비한 결과를 나타낸 그래프이다.
이하, 본 발명에 대하여 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 특허청구범위에 사용된 용어 또는 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자는 그 자신의 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다.
본 발명은 제조 설비 품질 정량화 진단법에 관한 것으로,
대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득하는 단계;
연속적으로 획득된 검사값을 주파수 대역별로 분리하여 생산 주기당 발현 정도를 나타내는 주파수당 변환 피크를 도출하는 단계;
생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 고유 주파수를 확보하는 단계; 및
생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비하여, 생산 요소별 품질을 진단하는 단계;를 포함한다.
위의 각 단계에서, 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 고유 주파수를 확보하는 단계는, 다른 단계의 수행 전후에 관계없이 별도로 수행 가능하다. 예를 들어, 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 고유 주파수를 확보하는 단계는, 본 발명에 따른 진단법을 수행하기 전에 미리 각 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 고유 주파수를 확보할 수 있다.
하나의 예에서, 본 발명에 따른 제조 설비 품질 정량화 진단법에서, 대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득하는 단계는, 대상 제품의 특정 요소에 대하여 검사하고, 기준치 대비 검사한 결과치를 대비하여 검사값을 연속적으로 획득하여 수행한다. 본 발명에서는, 대상 제품에 대하여 연속적으로 검사값을 획득한다. 이는 생산 라인의 중간단 혹은 끝단에서 대상 제품에 대한 품질 검사를 연속적으로 수행함을 의미한다. 예를 들어, 대상 제품에 대하여 형상, 크기 또는 물성 등을 지속적으로 검사하고, 이를 데이터로 구축하게 된다. 본 발명에서 검사값을 연속적으로 획득한다는 것은, 대상 제품에 전수 검사를 수행하거나 일정 간격으로 샘플 검사를 수행하는 것을 포함하되, 그 과정이 일정한 간격으로 수행됨을 의미한다.
구체적으로, 대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득하는 단계는, 대상 제품의 특정 요소에 대하여 검사하되, 검사한 결과치가 기준치를 초과하는 경우에는 양(+)의 수로 정량화하고, 검사한 결과치가 기준치를 미달하는 경우에는 음(-)의 수로 정량화하고, 정량화된 수치들을 연속적으로 획득하여 수행한다. 대상 제품에 대한 검사값을 획득하는 방법은, 그 결과를 정량화된 그래프로 얻을 수 있다면 특별히 제한되는 것은 아니다. 하나의 예로서, 대상 제품의 특정 요소, 예를 들어, 특정 부위의 두께 혹은 물성값 등에 대하여 검사값을 획득한다. 이 경우, 정상 제품으로 판별할 수 있는 기준치를 미리 설정하고, 상기 기준치와 대상 제품의 검사값의 델타 값에 (+) 혹은 (-) 부호를 붙여서 정량화 하게 된다.
대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득하는 단계에서, 상기 대상 제품은 전기화학소자이다. 본 발명에서 전기화학소자란, 전지 또는 커패시터와 같은 단위 셀 뿐만 아니라 전지 모듈 혹은 전지팩을 포함한다. 구체적으로, 상기 전기화학소자는 이차전지, 예를 들어 리튬 이차전지이다. 하나의 예에서, 본 발명의 대상이 되는 제조 설비는 이차전지 단위셀 혹은 이차전지 모듈을 제조하는 설비이다. 이 때, 대상 제품에 대한 검사값은, 예를 들어, 전지 사이즈 규격, 저온 혹은 고온 안정성, 충방전 용량 혹은 충방전 싸이클 특성 등을 포함한다.
하나의 예에서, 연속적으로 획득된 검사값을 주파수 대역별로 분리하여 생산 주기당 발현 정도를 나타내는 주파수당 변환 피크를 도출하는 단계는, 고속 푸리에 변환(Fast Fourier Transform, FFT) 기법을 통해 수행한다. 본 발명에서는, 연속적으로 획득된 검사값을 나타낸 그래프로부터 주파수 대역별로 분리할 수 있는 경우라면 그 변환 기법은 다양하게 적용 가능하다. 예로서, 고속 푸리에 변환(FFT)은 시퀀스의 이산 푸리에 변환(DFT) 또는 그 역(IDFT)을 계산하는 알고리즘이다. 푸리에 분석은 신호를 원래 도메인(종종 시간 또는 공간)에서 주파수 도메인의 표현으로, 또는 그 반대로 변환된다. 이산 푸리에 변환(DFT)은 일련의 값들을 다른 주파수의 성분으로 분해함으로써 얻어진다.
고속 푸리에 변환에 대한 개략적인 설명은 다음과 같다. 그러나, 아래의 설명은 고속 푸리에 변환에 대한 일반적인 이해를 위한 것에 불과하며, 본 발명은 이에 한정하여 해석되지 않는다. 또한, 고속 푸리에 변환은 다양한 논문 등을 통해 설명 가능하며, 본 발명은 이를 모두 포함한다.
고속 푸리에 변환은 함수의 근사값을 계산하는 알고리즘으로, 푸리에 변환에 근거하여 근사공식을 이용한 이산 푸리에 변환(Discrete Fourier Transform)을 계산할 때 연산횟수를 줄일 수 있도록 고안되었다.
고속 푸리에 변환은 1960년대 중반 J.W.콜리와 J.W.터키에 의해 일반적으로 알려지게 되었는데, 그보다 20년쯤 전부터 몇몇 사람들에 의해 독립적으로 발견되어 사용되어 왔다.
예를 들어, hm(0≤m≤N－1)이 복소수들의 집합일 때, 수열 {hm}의 이산푸리에변환은 다음과 같다.
[식 1]
Figure pat00001
연속 푸리에 변환에서와 마찬가지 방법으로 이산 변환도 다음과 같이 역변환을 구할 수 있다.
[식 2]
Figure pat00002
hn은 역푸리에 변환 계수라 불린다. 고속 푸리에 변환의 알고리즘은 식 1의 계산을 할 때 직적분해(direct product decomposition)를 이용하여 단계를 나누어 수행할 수 있다는 사실에 근거한다.
N＝N1N2, N1과 N2가 서로 소일 때, 2차원의 푸리에 변환 계수를 예로 들면, 다음과 같다.
Figure pat00003
한 번의 복소곱셈과 복소덧셈을 하나의 기본연산으로 하면, 호너의 방법(Horner's method)을 사용했을 때는 N2, 즉 (N1N2)2의 연산이 필요하나, 직적분해방법을 사용하면 N1N2(N1＋N2)의 연산으로Hn1,n2를 계산할 수 있다. 위 변환에 대응하는 행렬은 N1ХN1과 N2ХN2행렬의 직적(direct product)이므로, 다음 두 단계로 나누어 계산을 수행한다.
첫 단계로, 0≤m1≤N1－1과 0≤n2≤N2－1에 대하여
[식 3]
Figure pat00004
를 계산하고,
다음에 0≤n1≤N1－1과 0≤n2≤N2－1에 대하여
[식 4]
Figure pat00005
를 계산한다.
하나의 예에서, 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 고유 주파수를 확보하는 단계는, 대상 제품 생산에 영향을 미치는 생산 요소들을 도출하고, 도출된 각 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 횟수를 기준으로 고유 주파수를 확보한다. 구체적으로, 상기 각 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 횟수는, 각 생산 요소별 영향으로 대상 제품의 특정 요소에 대한 검사값이 기준치를 벗어나는 빈도를 추출한 결과치이다. 또한, 상기 생산 요소는, 대상 제품 생산에 관여하는 설비 요소이다. 예를 들어, 상기 설비 요소는, 전기화학소자 제조 설비 요소이다. 리튬 이차전지 단위셀을 제조하는 설비에서, 예를 들어, 원료 공급 유닛, 각종 롤러 내지 이송 벨트 등은 각각 생산 요소들이며 이들은 대상 제품의 생산에 영향을 미치게 된다. 이러한 생산 요소들 중에는, 정해진 반복 주기 내에서, 빈번한 횟수 및 짧은 주기로 제품의 특정 부분에 불량을 야기한다. 또 다른 생산 요소는 상대적으로 적은 횟수 및 긴 주기로 제품의 특정 부분에 불량을 야기한다. 본 발명에서 고유 주파수를 확보하는 단계는, 위의 예시된 생산 요소들을 포함하는 다양한 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 고유 주파수를 확보하게 된다.
하나의 예에서, 생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비하여, 생산 요소별 품질을 진단하는 단계는, 기 설정된 생산 요소별 고유 주파수별로 주파수당 변환 피크와 대비하여, 변환 피크가 높게 나타나는 주파수에 대응되는 고유 주파수의 생산 요소는 품질 보완 대상으로 선정한다. 또 다른 하나의 예에서, 기 설정된 생산 요소별 고유 주파수별로 주파수당 변환 피크와 대비하여, 변환 피크가 특정 수치보다 높게 나타나는 주파수에 대응되는 고유 주파수의 생산 요소는 품질 보완 대상으로 선정하고, 변환 피크가 특정 수치보다 낮게 나타나는 주파수에 대응되는 고유 주파수의 생산 요소는 품질 보완 대상에서 제외하는 것이 가능하다. 나아가, 본 발명은 생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비하여, 생산 요소별 품질을 진단하는 단계 이후에, 품질 보완 대상으로 선정된 생산 요소를 보완 내지 교체하는 단계를 더 포함할 수 있다.
이하에서는 도면 등을 통해 본 발명을 보다 구체적으로 설명하나, 이는 본 발명의 구체적인 예시에 불과하며, 본 발명의 범주가 이에 제한되는 것은 아니다.
도 1은 본 발명에 따른 제조 설비 품질 정량화 진단법을 개략적으로 도시한 모식도이다. 도 2는 대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득한 결과를 나타낸 그래프이다. 도 3은 연속적으로 획득된 검사값을 주파수 대역별로 분리하여 생산 주기당 발현 정도를 나타내는 주파수당 변환 피크를 도출한 결과를 나타낸 그래프이다. 또한, 도 4는 6개의 생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비한 결과를 나타낸 그래프이다.
도 1에서, 먼저 제품 검사를 수행하게 된다. 상기 제품 검사는 대상 제품에 대하여 연속적인 제품 검사값을 획득하는 과정이다. 예를 들어, 이차전지 단위셀 제조시, 대상 제품의 특정 요소에 대하여 검사하고, 기준치 대비 검사한 결과치를 대비하여 검사값을 연속적으로 획득하게 된다. 여기서, 대상 제품의 특정 요소는 제품 품질 평가 항목 중에서 선택 가능하며, 어느 하나의 요소이거나 혹은 복수의 요소를 복합적으로 고려하는 것도 가능하다. 도 2를 참조하면, 대상 제품의 특정 요소를 연속적으로 검사하고 이로부터 도출된 제품 검사값을 도시한 것이다.
그런 다음, 획득된 제품 검사 결과에 대해 주파수 분석을 실시한다. 이 경우, 연속적으로 획득된 검사값을 고속 푸리에 변환 등을 이용하여 주파수 대역별로 분리하고, 이로부터 생산 주기당 발현 정도를 나타내는 주파수당 변환 피크를 도출한다. 도 1을 참조하면, 제품 검사 과정에서 도출된 검사값을 주파수 대역별로 분리한다(wave 1 내지 3 참조). 그런 다음, 주파수 대역별로 분리된 그래프로부터 생산 주기당 발현 정도를 나타내는 주파수당 변환 피크를 도출한다. 도 3은, 도 2에 도출된 제품 검사값을 고속 푸리에 변환을 통해 주파수 대역별로 분리한 후, 생산 주기당 발현 정도를 나타내는 주파수당 변환 피크를 도출한 결과이다.
다음으로, 유닛별 고유 주파수와 매칭하는 과정을 거친다. 이는, 생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비하여, 생산 요소별 품질을 진단하는 단계이다. 이 때, 기 설정된 생산 요소별 고유 주파수별로 주파수당 변환 피크와 대비하여, 변환 피크가 높게 나타나는 주파수에 대응되는 고유 주파수의 생산 요소는 품질 보완 대상으로 선정한다.
도 4를 참조하면, 6개의 생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비한 결과를 확인할 수 있다. 이차전지 단위셀을 제조하는 생산 설비에서, 예를 들어, 원료 공급 유닛(Feeder unit), 음극 아이들 롤러(Anode idle roller), 음극 공급 C/V 벨트(Anode feeding C/V belt), 양극 공급 C/V 벨트(Cathode feeding C/V belt), 머지 C/V 벨트(Merge C/V belt) 혹은 얼라인 C/V 벨트(Align C/V belt) 등의 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 생산 요소별 고유 주파수를 미리 확보하였다. 그리고, 이를 생산 주기당 발현 정도를 나타내는 주파수당 변환 피크와 비교하게 된다.
도 4의 결과를 참조하면, 양극 공급 C/V 벨트(Cathode feeding C/V belt)의 경우, 생산 주기당 발현되는 고유 주파수가 약 7.91이며, 발현 정도가 가장 높은 것으로 확인되었다. 이와 반대로, 원료 공급 유닛(Feeder unit)의 경우, 생산 주기당 발현되는 고유 주파수가 약 2이며, 발현 정도가 매우 낮은 것으로 확인되었다. 따라서, 도 4의 설비에서는, 양극 공급 C/V 벨트가 우선 보완 대상이 되고, 원료 공급 유닛은 후순위 보완 대상이 된다. 품질 보완 대상으로 선정된 생산 요소에 대해서는 보완 내지 교체하는 후속 조치를 취하게 된다.

Claims (12)

  1. 대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득하는 단계;
    연속적으로 획득된 검사값을 주파수 대역별로 분리하여 생산 주기당 발현 정도를 나타내는 주파수당 변환 피크를 도출하는 단계;
    생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 생산 요소별 고유 주파수를 확보하는 단계; 및
    생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비하여, 생산 요소별 품질을 진단하는 단계;를 포함하는 제조 설비 품질 정량화 진단법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득하는 단계는,
    대상 제품의 특정 요소에 대하여 검사하고, 기준치 대비 검사한 결과치를 대비하여 검사값을 연속적으로 획득하여 수행하는 것을 특징으로 하는 제조 설비 품질 정량화 진단법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득하는 단계는,
    대상 제품의 특정 요소에 대하여 검사하되,
    검사한 결과치가 기준치를 초과하는 경우에는 양(+)의 수로 정량화하고,
    검사한 결과치가 기준치를 미달하는 경우에는 음(-)의 수로 정량화하고,
    정량화된 수치들을 연속적으로 획득하여 수행하는 것을 특징으로 하는 제조 설비 품질 정량화 진단법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    대상 제품에 대한 연속적인 검사값을 획득하는 단계에서,
    대상 제품은 전기화학소자인 것을 특징으로 하는 제조 설비 품질 정량화 진단법.
  5. 제 1 항에 있어서,
    연속적으로 획득된 검사값을 주파수 대역별로 분리하여 생산 주기당 발현 정도를 나타내는 주파수당 변환 피크를 도출하는 단계는,
    고속 푸리에 변환(Fast Fourier Transform, FFT) 기법을 통해 수행하는 것을 특징으로 하는 제조 설비 품질 정량화 진단법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 고유 주파수를 확보하는 단계는,
    대상 제품 생산에 영향을 미치는 생산 요소들을 도출하고,
    도출된 각 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 횟수를 기준으로 고유 주파수를 확보하는 것을 특징으로 하는 제조 설비 품질 정량화 진단법.
  7. 제 6 항에 있어서,
    각 생산 요소별로 생산 주기당 발현되는 횟수는,
    각 생산 요소별 영향으로 대상 제품의 특정 요소에 대한 검사값이 기준치를 벗어나는 빈도를 추출한 결과치인 것을 특징으로 하는 제조 설비 품질 정량화 진단법.
  8. 제 1 항에 있어서,
    생산 요소는, 대상 제품 생산에 관여하는 설비 요소인 것을 특징으로 하는 제조 설비 품질 정량화 진단법.
  9. 제 8 항에 있어서,
    설비 요소는, 전기화학소자 제조 설비 요소인 것을 특징으로 하는 제조 설비 품질 정량화 진단법.
  10. 제 1 항에 있어서,
    생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비하여, 생산 요소별 품질을 진단하는 단계는,
    기 설정된 생산 요소별 고유 주파수별로 주파수당 변환 피크와 대비하여,
    변환 피크가 높게 나타나는 주파수에 대응되는 고유 주파수의 생산 요소는 품질 보완 대상으로 선정하는 것을 특징으로 하는 제조 설비 품질 정량화 진단법.
  11. 제 1 항에 있어서,
    기 설정된 생산 요소별 고유 주파수별로 주파수당 변환 피크와 대비하여,
    변환 피크가 특정 수치보다 높게 나타나는 주파수에 대응되는 고유 주파수의 생산 요소는 품질 보완 대상으로 선정하고,
    변환 피크가 특정 수치보다 낮게 나타나는 주파수에 대응되는 고유 주파수의 생산 요소는 품질 보완 대상에서 제외하는 것을 특징으로 하는 제조 설비 품질 정량화 진단법.
  12. 제 1 항에 있어서,
    생산 요소별 고유 주파수와 주파수당 변환 피크를 대비하여, 생산 요소별 품질을 진단하는 단계 이후에,
    품질 보완 대상으로 선정된 생산 요소를 보완 내지 교체하는 단계를 더 포함하는 제조 설비 품질 정량화 진단법.
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