KR20210016903A - Apparatus for supplying chemical and method for supplying chemical - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 약액 공급 장치 및 약액 공급 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게 본 발명은 약액을 토출하는 토출 노즐 등과 같은 부재에 약액을 공급하기 위한 약액 공급 장치 및 약액 공급 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a chemical liquid supply device and a chemical liquid supply method. In more detail, the present invention relates to a chemical liquid supply device and a chemical liquid supply method for supplying a chemical liquid to a member such as a discharge nozzle that discharges the chemical liquid.
반도체 소자, 디스플레이 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에서는 집적회로 소자로 제하기 위한 기판을 대상으로 다양한 종류의 약액들을 토출하는 토출 공정 등을 수행할 수 있다.In manufacturing an integrated circuit device such as a semiconductor device or a display device, a discharging process of discharging various kinds of chemicals to a substrate for removing as an integrated circuit device may be performed.
언급한 약액 토출 공정은 기판을 향하여 약액을 토출하는 토출 노즐 등과 같은 약액 토출부를 포함하는 약액 공급 장치를 사용함에 의해 달성할 수 있다.The aforementioned chemical liquid discharging process can be achieved by using a chemical liquid supplying device including a chemical liquid discharging portion such as a discharge nozzle for discharging the chemical liquid toward the substrate.
그리고 집적회로 소자의 제조에 있어서 약액에 대한 온도는 중요한 공정 스펙으로 작용하고 있다. 이에, 약액 공급 장치에서의 약액의 온도 또한 중요하게 관리하고 있다.And in the manufacture of integrated circuit devices, the temperature of the chemical solution acts as an important process specification. Accordingly, the temperature of the chemical liquid in the chemical liquid supply device is also importantly managed.
그러나 종래에는 약액을 저장하는 약액 저장부(약액 탱크)에서의 약액의 온도를 기준으로 약액 공급 장치 전체에서의 약액의 온도를 관리하고 있기 때문에 약액 저장부로부터 약액 토출부로 약액이 공급됨에 따른 온도 손실을 전혀 보상하지 못하고 있는 실정이다.However, in the past, since the temperature of the chemical solution in the entire chemical solution supply device is managed based on the temperature of the chemical solution in the chemical solution storage unit (chemical solution tank) that stores the chemical solution, the temperature is lost due to the supply of the chemical solution from the chemical solution storage unit to the chemical solution discharge unit. There is no compensation at all.
본 발명은 일 목적은 약액의 공급에 따른 약액의 온도 손실을 용이하게 보상할 수 있는 약액 공급 장치를 제공하는데 있다.An object of the present invention is to provide a chemical solution supply device capable of easily compensating for a temperature loss of a chemical solution due to the supply of the chemical solution.
본 발명은 다른 목적은 약액의 공급에 따른 약액의 온도 손실을 용이하게 보상할 수 있는 약액 공급 방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is to provide a method of supplying a chemical solution capable of easily compensating for a temperature loss of a chemical solution due to the supply of the chemical solution.
언급한 일 목적을 달성하기 위한 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치는 약액을 저장하는 약액 저장부, 상기 약액을 토출하는 약액 토출부, 및 상기 약액 저장부로부터 상기 약액 토출부로 상기 약액이 플로우되도록 상기 약액 저장부와 상기 약액 토출부 사이를 연결하는 약액 플로우부를 포함할 수 있고, 그리고 제1 센싱부, 제2 센싱부, 제어부를 포함할 수 있다. 상기 제1 센싱부는 상기 약액 저장부에 저장되는 약액의 온도를 센싱할 수 있다. 상기 제2 센싱부는 상기 약액 토출부로부터 토출되는 약액의 온도를 센싱할 수 있다. 상기 제어부는 상기 제1 센싱부, 및 상기 제2 센싱부 각각으로부터 센싱하는 약액의 온도를 입력받고, 상기 약액을 토출하는 토출 공정 이전이면 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 저장부에서의 약액의 온도를 갖도록 제어하고, 상기 토출 공정을 수행하는 도중이면 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 토출부에서의 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있다.A chemical solution supplying device according to exemplary embodiments of the present invention for achieving the aforementioned object includes a chemical solution storage unit for storing a chemical solution, a chemical solution discharge unit for discharging the chemical solution, and the chemical solution discharge unit from the chemical solution storage unit to the chemical solution discharge unit. It may include a chemical liquid flow unit connecting between the chemical liquid storage unit and the chemical liquid discharge unit so that the chemical liquid flows, and may include a first sensing unit, a second sensing unit, and a control unit. The first sensing unit may sense a temperature of the chemical solution stored in the chemical solution storage unit. The second sensing unit may sense a temperature of the chemical liquid discharged from the chemical liquid discharge unit. The control unit receives the temperature of the chemical liquid sensed from each of the first sensing unit and the second sensing unit, and before a discharging process of discharging the chemical liquid, the chemical liquid storage unit, the chemical liquid discharge unit, and the chemical liquid flow unit The temperature of the chemical solution in both is controlled to have the temperature of the chemical solution in the chemical solution storage unit, and when the discharge process is in progress, the temperature of the chemical solution in all of the chemical solution storage unit, the chemical solution discharge unit, and the chemical solution flow unit Can be controlled to have a temperature of the chemical liquid in the chemical liquid discharge part.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 약액 플로우부를 따라 플로우되는 약액의 온도를 센싱하는 제3 센싱부를 더 포함할 수 있고, 상기 제어부는 상기 토출 공정 이전과 상기 토출 공정을 수행하는 사이의 상기 토출 공정의 수행을 위한 대기 중에 있으면 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 플로우부를 따라 플로우되는 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있다.In exemplary embodiments, a third sensing unit for sensing a temperature of the chemical liquid flowing along the chemical liquid flow unit may be further included, and the control unit is the discharge process between before the discharge process and performing the discharge process. When in the air for performing the chemical solution, the temperature of the chemical solution in all of the chemical solution storage unit, the chemical solution discharge unit, and the chemical solution flow unit may be controlled to have a temperature of the chemical solution flowing along the chemical solution flow unit.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 제3 센싱부는 상기 약액 토출부와 연결되는 상기 약액 플로우부의 단부에서 플로우되는 약액의 온도를 센싱하도록 구비되고, 상기 제어부는 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 플로우부의 단부에서 플로우되는 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있다.In example embodiments, the third sensing unit is provided to sense a temperature of a chemical liquid flowing from an end of the chemical liquid flow part connected to the chemical liquid discharge part, and the control part comprises the chemical liquid storage part, the chemical liquid discharge part, And it is possible to control the temperature of the chemical liquid in both the chemical liquid flow part to have the temperature of the chemical liquid flowing from the end of the chemical liquid flow part.
언급한 다른 목적을 달성하기 위한 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 방법은 약액을 저장하는 약액 저장부, 상기 약액을 토출하는 약액 토출부, 및 상기 약액 저장부로부터 상기 약액 토출부로 상기 약액이 플로우되도록 상기 약액 저장부와 상기 약액 토출부 사이를 연결하는 약액 플로우부를 사용하는 것으로써, 상기 약액 저장부에 저장되는 약액의 온도를 센싱하고, 상기 약액 토출부로부터 토출되는 약액의 온도를 센싱한 후, 상기 약액을 토출하는 토출 공정 이전이면 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 저장부에서의 약액의 온도를 갖도록 제어하고, 상기 토출 공정을 수행하는 도중이면 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 토출부에서의 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있다.A method of supplying a chemical solution according to exemplary embodiments of the present invention for achieving the aforementioned other object includes a chemical solution storage unit for storing a chemical solution, a chemical solution discharge unit for discharging the chemical solution, and the chemical solution from the chemical solution storage unit to the chemical solution discharge unit. By using a chemical liquid flow part connecting the chemical liquid storage part and the chemical liquid discharge part so that the chemical liquid flows, the temperature of the chemical liquid stored in the chemical liquid storage part is sensed, and the temperature of the chemical liquid discharged from the chemical liquid discharge part is controlled. After sensing, and before the discharging process of discharging the chemical, the temperature of the chemical liquid in all of the chemical liquid storage, the chemical liquid discharge, and the chemical liquid flow part is controlled to have the temperature of the chemical liquid in the chemical liquid storage, and the During the discharging process, the temperature of the chemical liquid in all of the chemical liquid storage part, the chemical liquid discharge part, and the chemical liquid flow part may be controlled to have the temperature of the chemical liquid in the chemical liquid discharge part.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 약액 플로우부를 따라 플로우되는 약액의 온도를 센싱한 후, 상기 토출 공정 이전과 상기 토출 공정을 수행하는 사이의 상기 토출 공정의 수행을 위한 대기 중에 있으면 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 플로우부를 따라 플로우되는 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있다.In example embodiments, after sensing the temperature of the chemical liquid flowing along the chemical liquid flow part, the chemical liquid storage part is in the standby for performing the discharge process between before the discharge process and between performing the discharge process. The temperature of the chemical liquid in both the chemical liquid discharge part and the chemical liquid flow part may be controlled to have a temperature of the chemical liquid flowing along the chemical liquid flow part.
예시적인 실시예들에 있어서, 상기 약액 플로우부에서의 약액의 온도 센싱이 상기 약액 토출부와 연결되는 상기 약액 플로우부의 단부에서 이루어질 경우, 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 플로우부의 단부에서 플로우되는 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있다.In exemplary embodiments, when sensing the temperature of the chemical liquid in the chemical liquid flow part at an end of the chemical liquid flow part connected to the chemical liquid discharge part, the chemical liquid storage part, the chemical liquid discharge part, and the chemical liquid flow part The temperature of the chemical liquid in all can be controlled to have the temperature of the chemical liquid flowing from the end of the chemical liquid flow part.
본 발명의 약액 공급 장치 및 약액 공급 방법에 따르면 약액 저장부, 약액 플로우부, 약액 토출부 전체에 걸쳐 약액의 온도를 센싱함과 아울러 공정 진행 여부에 따라 약액의 온도를 제어하기 위한 기준을 달리함으로써 약액의 공급시 약액의 온도가 손실되는 것을 충분히 보상할 수 있을 것이다.According to the chemical solution supplying device and the chemical solution supply method of the present invention, the temperature of the chemical solution is sensed across the chemical solution storage unit, the chemical solution flow unit, and the chemical solution discharge unit, and by varying the standard for controlling the temperature of the chemical solution according to the progress of the process. When the chemical solution is supplied, it will be able to sufficiently compensate for the temperature loss of the chemical solution.
이에, 본 발명의 약액 공급 장치 및 약액 공급 방법은 약액의 공급에 따라 약액의 온도가 손실되는 것을 보상할 수 있기 때문에 약액의 온도 편차로 인하여 발생하는 공정 불량을 최소화할 수 있을 것이다.Accordingly, since the chemical solution supplying device and the chemical solution supply method of the present invention can compensate for the loss of the temperature of the chemical solution according to the supply of the chemical solution, it is possible to minimize process defects caused by temperature variation of the chemical solution.
따라서 본 발명의 약액 공급 장치 및 약액 공급 방법은 집적회로 소자의 제조에 따른 공정 신뢰도의 향상을 기대할 수 있을 것이다.Accordingly, the chemical liquid supply device and the chemical liquid supply method of the present invention can be expected to improve process reliability in the manufacture of an integrated circuit device.
다만, 본 발명의 과제 및 효과는 상기 언급한 바에 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위에서 다양하게 확장될 수 있을 것이다.However, the subject and effect of the present invention are not limited to those mentioned above, and may be variously extended without departing from the spirit and scope of the present invention.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.
도 2는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 방법을 설명하기 위한 개략적인 도면이다.1 is a schematic view for explaining a chemical solution supplying apparatus according to exemplary embodiments of the present invention.
2 is a schematic diagram illustrating a method of supplying a chemical solution according to exemplary embodiments of the present invention.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 실시예를 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조 부호를 유사한 구성 요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성 요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성 요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성 요소를 다른 구성 요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "이루어진다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성 요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야한다.In the present invention, various modifications can be made and various forms can be obtained, and embodiments will be described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to a specific form of disclosure, it is to be understood as including all changes, equivalents, or substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing each drawing, similar reference numerals are used for similar components. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. These terms are only used for the purpose of distinguishing one component from another component. The terms used in the present application are only used to describe specific embodiments, and are not intended to limit the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In the present application, terms such as "comprise" or "consist of" are intended to designate the presence of features, numbers, steps, actions, elements, parts, or combinations thereof described in the specification, but one or more other features. It is to be understood that the possibility of the presence or addition of elements or numbers, steps, actions, components, parts or combinations thereof is not preliminarily excluded.
다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.Unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which the present invention belongs. Terms as defined in a commonly used dictionary should be interpreted as having a meaning consistent with the meaning in the context of the related technology, and should not be interpreted as an ideal or excessively formal meaning unless explicitly defined in this application. Does not.
그리고 첨부한 도면들을 참조하여 예시적인 실시예들을 보다 상세하게 설명하고자 한다. 도면상의 동일한 구성 요소에 대해서는 동일한 참조 부호를 사용하고 동일한 구성 요소에 대해서 중복된 설명은 생략한다.In addition, exemplary embodiments will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. The same reference numerals are used for the same components in the drawings, and duplicate descriptions for the same components are omitted.
도 1은 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치를 설명하기 위한 개략적인 도면이다.1 is a schematic diagram for explaining a chemical solution supplying apparatus according to exemplary embodiments of the present invention.
도 1을 참조하면, 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치(100)는 반도체 소자, 디스플레이 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에서 기판을 대상으로 공정을 수행할 때 약액을 공급하기 위한 것이다.Referring to FIG. 1, a chemical
예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치(100)는 약액 저장부(11), 약액 토출부(13), 약액 플로우부(15) 등을 포함할 수 있다.The chemical
약액 저장부(11)는 약액을 저장하기 위한 것으로써, 예를 들면 약액 탱크 등을 들 수 있다.The chemical
약액 토출부(13)는 기판을 대상으로 공정의 수행시 기판을 향하여 약액을 토출하기 위한 것으로써, 예를 들면 토출 노즐, 스프레이 등을 들 수 있다.The chemical
그리고 본 발명에서는 약액 토출부(13)를 기판을 향하여 약액을 토출하기 것에 대해서만 설명하고 있지만 이에 한정되지 않는다. 따라서 본 발명에서의 약액 토출부(13)는 기판의 딥핑이 이루어지도록 약액을 수용하는 딥핑 배스 등을 포함하는 구성을 가질 수도 있다.In addition, in the present invention, only the discharge of the chemical liquid from the chemical
그러므로 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치(100)는 집적회로 소자의 제조에 있어 습식 공정 모두에 적용할 수 있을 것이다.Therefore, the chemical
언급한 토출 노즐, 스프레이, 딥핑 배스 등과 같은 약액 토출부(13)는 약액 저장부(11)에 저장되는 약액을 공급받도록 구비될 수 있다.The chemical
따라서 약액 플로우부(15)는 약액 저장부(11)와 약액 토출부(13) 사이를 연결하도록 구비될 수 있다. 약액 플로우부(15)의 예로서는 약액 저장부(11)로부터 약액 토출부(13)로 약액을 플로우시킬 수 있는 파이프 등을 들 수 있다.Accordingly, the chemical
이에, 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치(100)는 약액 저장부(11)에 저장되는 약액을 약액 플로우부(15)를 통하여 약액 토출부(13)로 공급함에 의해 기판을 대상으로 하는 습식 공정을 수행할 수 있다.Accordingly, the chemical
그리고 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치(100)를 사용하는 습식 공정의 수행에서는 약액 공급 장치(100) 전체에 걸쳐 약액의 온도를 센싱하고, 이를 근거로 약액의 온도가 조정되도록 제어해야 할 것이다.And in the performance of the wet process using the chemical
따라서 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치(100)는 제1 센싱부(17), 제2 센싱부(19), 제3 센싱부(21), 제어부(23) 등을 포함할 수 있다.Accordingly, the chemical
제1 센싱부(17)는 약액 저장부(11)에 저장되는 약액의 온도를 센싱하도록 구비될 수 있고, 제2 센싱부(19)는 약액 토출부(13)로부터 토출되는 약액의 온도를 센싱하도록 구비될 수 있고, 제3 센싱부(21)는 약액 플로우부(15)를 따라 플로우되는 약액의 온도를 센싱하도록 구비될 수 있다.The
특히, 약액 토출부(13)가 토출 노즐일 경우 제2 센싱부(19)는 토출 노즐로부터 토출되는 약액의 온도를 센싱하도록 구비될 수 있고, 약액 토출부(13)가 스프레이일 경우 제2 센싱부(19)는 스프레이로부터 분사되는 약액의 온도를 센싱하도록 구비될 수 있고, 약액 토출부(13)가 딥핑 배스일 경우 제2 센싱부(19)는 딥핑 배스에 수용되는 약액의 온도를 센싱하도록 구비될 수 있다.In particular, when the chemical
그리고 제3 센싱부(21)는 약액 플로우부(15) 중에서도 약액 토출부(13)와 연결되는 단부 쪽에서 약액의 온도를 센싱하도록 구비될 수 있다. 즉, 제3 센싱부(21)는 약액 토출부(13)와 연결되는 약액 플로우부(15)의 단부에서 플로우되는 약액의 온도를 센싱하도록 구비될 수 있는 것이다.In addition, the
또한, 도시하지는 않았지만 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치(100)는 약액을 외부로 배출할 수 있는 약액 배출부와 함께 약액 배출부를 따라 플로우되는 약액의 온도를 센싱할 수 있는 센싱부, 약액 배출부로부터 배출되는 약액의 온도를 센싱할 있는 센싱부 등을 더 포함할 수도 있다.In addition, although not shown, the chemical
제어부(23)는 제1 센싱부(17), 제2 센싱부(19), 제3 센싱부(21) 각각으로부터 약액의 온도를 입력받도록 구비될 수 있다. 즉, 제어부(23)는 제1 센싱부(17), 제2 센싱부(19), 제3 센싱부(21) 각각이 센싱하는 약액의 온도를 입력받도록 구비될 수 있는 것이다.The
따라서 제어부(23)는 제1 센싱부(17), 제2 센싱부(19), 제3 센싱부(21) 각각으로부터 약액의 온도를 입력받음에 의해 약액 저장부(11)에서의 약액의 온도, 약액 플로우부(15)에서의 약액의 온도, 약액 토출부(13)에서의 약액의 온도를 확인할 수 있을 것이다.Therefore, the
그리고 제어부(23)는 약액 공급 장치(100)에서 이루어지는 토출 공정이 어디에 해당하는 가를 확인하도록 구비될 수 있다. 즉, 제어부(23)는 약액의 토출하는 토출 공정 이전인가, 약액을 토출하는 토출 공정 수행 도중인가, 아니면 토출 공정 이전과 토출 공정을 수행하는 사이의 토출 공정의 수행을 위한 대기 중인가를 확인하도록 구비될 수 있는 것이다.In addition, the
이에, 제어부(23)는 약액을 토출하는 토출 공정 이전이면 약액 저장부(11), 약액 토출부(13), 및 약액 플로우부(15) 모두에서의 약액의 온도를 약액 저장부(11)에서의 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있고, 토출 공정을 수행하는 도중이면 약액 저장부(11), 약액 토출부(13), 및 약액 플로우부(15) 모두에서의 약액의 온도를 약액 토출부(13)에서의 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있게 구비될 수 있다.Accordingly, the
또한, 제어부(23)는 토출 공정의 수행을 위한 대기 중에 있으면 약액 저장부(11), 약액 토출부(13), 및 약액 플로우부(15) 모두에서의 약액의 온도를 약액 플로우부(15)를 따라 플로우되는 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있게 구비될 수 있고, 특히 약액 플로우부(15)의 단부에서 플로우되는 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있게 구비될 수 있다.In addition, the
언급한 토출 공정의 수행을 위한 대기 중에 해당하는 시간은 주로 토출 공정 진행 약 3분전일 수 있지만, 이에 한정되지는 않는다.The time corresponding to the waiting time for performing the aforementioned discharge process may be mainly about 3 minutes before the discharge process proceeds, but is not limited thereto.
예시적인 실시예들에 따른 제어부(23)는 PID 제어(Proportional Integral Derivative Control)를 통하여 기판에 약액을 토출하는 토출 공정에서의 약액의 온도를 최적화하도록 구비될 수 있다. The
따라서 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치(100)는 약액 저장부(11), 약액 플로우부(15), 약액 토출부(13) 전체에 걸쳐 약액의 온도를 센싱함과 아울러 공정 진행 여부에 따라 약액의 온도를 제어하기 위한 기준을 달리하여 약액의 온도를 관리함으로써 약액의 공급시 약액의 온도가 손실되는 것을 충분히 보상할 수 있을 것이고, 그 결과 약액 저장부(11), 약액 플로우부(15), 약액 토출부(13)에서의 약액의 온도 편차로 인하여 발생하는 공정 불량을 최소화할 수 있을 것이다.Therefore, the chemical
이하, 언급한 약액 공급 장치를 사용하는 약액 공급 방법에 대하여 설명하기로 한다.Hereinafter, a method of supplying a chemical solution using the aforementioned chemical solution supply device will be described.
도 2는 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 방법을 설명하기 위한 개략적인 도면이다.2 is a schematic diagram illustrating a method for supplying a chemical solution according to exemplary embodiments of the present invention.
도 2를 참조하면, 제1 센싱부(17)를 사용하여 약액 저장부(11)에 저장되는 약액의 온도를 센싱할 수 있다.(S21 단계) 그리고 제1 센싱부(17)에 의해 센싱되는 약액 저장부(11)에서의 약액의 온도는 제어부(23)로 전송되어 입력될 수 있다.Referring to FIG. 2, the temperature of the chemical liquid stored in the
제3 센싱부(21)를 사용하여 약액 플로우부(15)를 따라 플로우되는 약액의 온도를 센싱할 수 있다.(S23 단계) 그리고 제3 센싱부(21)에 의해 센싱되는 약액 플로우부(15)에서의 약액의 온도는 제어부(23)로 전송되어 입력될 수 있다.The temperature of the chemical liquid flowing along the chemical
특히, 약액 플로우부(15) 중에서도 약액 토출부(13)와 연결되는 약액 플로우부(15)의 단부 쪽에서 플로우되는 약액의 온도를 센싱할 수 있고, 약액 플로우부(15)의 단부에서의 약액의 온도가 제어부(23)로 전송되어 입력될 수 있다.In particular, it is possible to sense the temperature of the chemical liquid flowing from the end of the chemical
제2 센싱부(19)를 사용하여 약액 토출부(13)로부터 토출되는 약액의 온도를 센싱할 수 있다.(S25 단계) 그리고 제2 센싱부(19)에 의해 센싱되는 약액 토출부(13)에서의 약액의 온도는 제어부(23)로 전송되어 입력될 수 있다.The temperature of the chemical liquid discharged from the chemical
이와 함께, 제어부(23)는 약액 공급 장치(100)에서 이루어지는 토출 공정이 어디에 해당하는가, 즉 약액의 토출하는 토출 공정 이전인가, 약액을 토출하는 토출 공정 수행 도중인가, 아니면 토출 공정 이전과 토출 공정을 수행하는 사이의 토출 공정의 수행을 위한 대기 중인가를 확인할 수 있다.In addition, the
이에, 약액을 토출하는 토출 공정 이전으로 확인되면 제어부(23)는 약액 저장부(11), 약액 토출부(13), 및 약액 플로우부(15) 모두에서의 약액의 온도를 약액 저장부(11)에서의 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있다.(S27 단계) 즉, 약액을 토출하는 토출 공정 이전의 경우 약액 토출부(13) 쪽으로 약액이 지속적으로 플로우되지 않기 때문에 약액 토출부(13), 및 약액 플로우부(15) 모두에서의 약액의 온도까지도 약액 저장부(11)에서의 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있는 것이다.Accordingly, if it is confirmed that the discharging process of discharging the chemical liquid is before, the
그리고 약액을 토출하는 토출 공정을 수행하는 도중으로 확인되면 제어부(23)는 약액 저장부(11), 약액 토출부(13), 및 약액 플로우부(15) 모두에서의 약액의 온도를 약액 토출부(13)에서의 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있다.(S29 단계) 즉, 약액을 토출하는 토출 공정일 경우 약액 토출부(13)로부터 약액이 토출되고 있기 때문에 약액 저정부, 및 약액 플로우부(15) 모두에서의 약액의 온도까지도 약액 토출부(13)에서의 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있는 것이다.And when it is confirmed that the discharging process of discharging the chemical liquid is being performed, the
또한, 토출 공정의 수행을 위한 대기 중으로 확인되면 제어부(23)는 약액 저장부(11), 약액 토출부(13), 및 약액 플로우부(15) 모두에서의 약액의 온도를 약액 플로우부(15)를 따라 플로우되는 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있다.(S31 단계) 특히, 약액 플로우부(15)의 단부에서 플로우되는 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있다. 즉, 토출 공정의 수행을 위한 대기 중일 경우 약액 플로우부(15)를 따라 약액이 플로우되고 있기 때문에 약액 저정부, 및 약액 토출부(13) 모두에서의 약액의 온도까지도 약액 플로우부(15)에서의 약액의 온도를 갖도록 제어할 수 있는 것이다.In addition, when it is confirmed that it is in the air for performing the discharge process, the
이와 같이, 본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 방법에서는 공정이 진행되는 시점에 따라 약액의 온도를 달리 갖도록 제어할 수 있기 때문에 약액의 공급시 약액의 온도가 손실되는 것을 충분히 보상할 수 있을 것이다. 다시 말해, 약액이 공급되는 시점에 따라 약액 저장부(11), 약액 플로우부(15), 및 약액 토출부(13)로 온도 제어를 위한 기준점을 달리할 수 있기 때문에 약액의 공급시 약액의 온도가 손실되는 것을 충분히 보상할 수 있을 것이다.As described above, in the method of supplying the chemical solution according to exemplary embodiments of the present invention, since the temperature of the chemical solution can be controlled to be different depending on the time point at which the process is performed, it is possible to sufficiently compensate for the loss of the temperature of the chemical solution when the chemical solution is supplied. There will be. In other words, since the reference point for temperature control to the chemical
본 발명의 예시적인 실시예들에 따른 약액 공급 장치 및 약액 공급 방법은 반도체 소자, 디스플레이 소자 등과 같은 집적회로 소자의 제조에 적용할 수 있는 것으로써, 특히 미세 공정을 수행하여야만 수득할 수 있는 최근의 OLED/QLED 등과 같은 디스플레이 소자의 제조에 보다 적극적으로 적용할 수 있을 것이다.The chemical liquid supply device and the chemical liquid supply method according to exemplary embodiments of the present invention are applicable to the manufacture of integrated circuit devices such as semiconductor devices, display devices, and the like, and can be obtained only by performing microprocessing. It will be able to be applied more actively to the manufacture of display devices such as OLED/QLED.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the above has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention described in the following claims. You will understand that you can.
11 : 약액 저장부 13 : 약액 토출부
15 : 약액 플로우부 17 : 제1 센싱부
19 : 제2 센싱부 21 : 제3 센싱부
23 : 제어부 100 : 약액 공급 장치11: chemical liquid storage part 13: chemical liquid discharge part
15: chemical liquid flow unit 17: first sensing unit
19: second sensing unit 21: third sensing unit
23: control unit 100: chemical liquid supply device
Claims (6)
상기 약액 저장부에 저장되는 약액의 온도를 센싱하는 제1 센싱부;
상기 약액 토출부로부터 토출되는 약액의 온도를 센싱하는 제2 센싱부; 및
상기 제1 센싱부, 및 상기 제2 센싱부 각각으로부터 센싱하는 약액의 온도를 입력받고, 상기 약액을 토출하는 토출 공정 이전이면 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 저장부에서의 약액의 온도를 갖도록 제어하고, 상기 토출 공정을 수행하는 도중이면 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 토출부에서의 약액의 온도를 갖도록 제어하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.A chemical solution storage unit for storing a chemical solution, a chemical solution discharge unit for discharging the chemical solution, and a chemical solution flow unit connecting the chemical solution storage unit and the chemical solution discharge unit so that the chemical solution flows from the chemical solution storage unit to the chemical solution discharge unit. In the chemical liquid supply device,
A first sensing unit sensing the temperature of the chemical liquid stored in the chemical liquid storage unit;
A second sensing unit sensing a temperature of the chemical liquid discharged from the chemical liquid discharge unit; And
When the temperature of the chemical liquid to be sensed is input from each of the first sensing unit and the second sensing unit, and before the discharging process of discharging the chemical liquid, in all of the chemical liquid storage unit, the chemical liquid discharge unit, and the chemical liquid flow unit The temperature of the chemical liquid is controlled to have the temperature of the chemical liquid in the chemical liquid storage part, and when the discharge process is being performed, the temperature of the chemical liquid in all of the chemical liquid storage part, the chemical liquid discharge part, and the chemical liquid flow part is adjusted to the chemical liquid. And a control unit for controlling the temperature of the chemical solution in the discharge unit.
상기 약액 플로우부를 따라 플로우되는 약액의 온도를 센싱하는 제3 센싱부를 더 포함하고,
상기 제어부는 상기 토출 공정 이전과 상기 토출 공정을 수행하는 사이의 상기 토출 공정의 수행을 위한 대기 중에 있으면 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 플로우부를 따라 플로우되는 약액의 온도를 갖도록 제어하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 1,
Further comprising a third sensing unit for sensing the temperature of the chemical liquid flowing along the chemical liquid flow part,
When the control unit is in the standby for performing the discharge process between before and during the discharge process, the control unit adjusts the temperature of the chemical solution in all of the chemical solution storage unit, the chemical solution discharge unit, and the chemical solution flow unit. A chemical liquid supplying device, characterized in that controlling to have a temperature of the chemical liquid flowing along the flow part.
상기 제3 센싱부는 상기 약액 토출부와 연결되는 상기 약액 플로우부의 단부에서 플로우되는 약액의 온도를 센싱하도록 구비되고,
상기 제어부는 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 플로우부의 단부에서 플로우되는 약액의 온도를 갖도록 제어하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 장치.The method of claim 2,
The third sensing unit is provided to sense a temperature of the chemical liquid flowing from the end of the chemical liquid flow part connected to the chemical liquid discharge part,
The control unit controls the temperature of the chemical liquid in all of the chemical liquid storage unit, the chemical liquid discharge unit, and the chemical liquid flow unit to have a temperature of the chemical liquid flowing from the end of the chemical liquid flow unit.
상기 약액 저장부에 저장되는 약액의 온도를 센싱하는 단계;
상기 약액 토출부로부터 토출되는 약액의 온도를 센싱하는 단계; 및
상기 약액을 토출하는 토출 공정 이전이면 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 저장부에서의 약액의 온도를 갖도록 제어하고, 상기 토출 공정을 수행하는 도중이면 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 토출부에서의 약액의 온도를 갖도록 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 방법.Using a chemical liquid storage part for storing a chemical liquid, a chemical liquid discharge part for discharging the chemical liquid, and a chemical liquid flow part connecting the chemical liquid storage part and the chemical liquid discharge part so that the chemical liquid flows from the chemical liquid storage part to the chemical liquid discharge part. In the method of supplying a chemical solution,
Sensing the temperature of the chemical liquid stored in the chemical liquid storage unit;
Sensing the temperature of the chemical liquid discharged from the chemical liquid discharge part; And
Before the discharge process of discharging the chemical liquid, the temperature of the chemical liquid in all of the chemical liquid storage part, the chemical liquid discharge part, and the chemical liquid flow part is controlled to have the temperature of the chemical liquid in the chemical liquid storage part, and the discharge process is performed. And controlling the temperature of the chemical liquid in all of the chemical liquid storage part, the chemical liquid discharge part, and the chemical liquid flow part to have a temperature of the chemical liquid in the chemical liquid discharge part while the chemical liquid is in the middle.
상기 약액 플로우부를 따라 플로우되는 약액의 온도를 센싱하는 단계; 및
상기 토출 공정 이전과 상기 토출 공정을 수행하는 사이의 상기 토출 공정의 수행을 위한 대기 중에 있으면 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 플로우부를 따라 플로우되는 약액의 온도를 갖도록 제어하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 방법.The method of claim 4,
Sensing the temperature of the chemical liquid flowing along the chemical liquid flow part; And
When in the standby for performing the discharge process between before the discharge process and performing the discharge process, the temperature of the chemical solution in all of the chemical solution storage unit, the chemical solution discharge unit, and the chemical solution flow unit is adjusted along the chemical solution flow unit. The method of supplying a chemical solution further comprising the step of controlling to have a temperature of the flowing chemical solution.
상기 약액 플로우부에서의 약액의 온도 센싱이 상기 약액 토출부와 연결되는 상기 약액 플로우부의 단부에서 이루어질 경우, 상기 약액 저장부, 상기 약액 토출부, 및 상기 약액 플로우부 모두에서의 약액의 온도를 상기 약액 플로우부의 단부에서 플로우되는 약액의 온도를 갖도록 제어하는 것을 특징으로 하는 약액 공급 방법.The method of claim 5,
When the temperature of the chemical liquid in the chemical liquid flow part is sensed at the end of the chemical liquid flow part connected to the chemical liquid discharge part, the temperature of the chemical liquid in all of the chemical liquid storage part, the chemical liquid discharge part, and the chemical liquid flow part is measured. A method for supplying a chemical solution, characterized in that controlling to have a temperature of the chemical solution flowing from the end of the chemical solution flow unit.
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