KR20210012652A - 열교환기 세정 시스템 및 열교환기 세정 방법 - Google Patents

열교환기 세정 시스템 및 열교환기 세정 방법 Download PDF

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KR20210012652A KR1020190090749A KR20190090749A KR20210012652A KR 20210012652 A KR20210012652 A KR 20210012652A KR 1020190090749 A KR1020190090749 A KR 1020190090749A KR 20190090749 A KR20190090749 A KR 20190090749A KR 20210012652 A KR20210012652 A KR 20210012652A
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Abstract

열교환기 세정 시스템은 회전축을 중심으로 회전하는 표적 회전체, 표적 회전체 상의 제1 기체가 유입되는 제1 입구, 및 제1 입구 내부 공간에 위치하며 제1 물질이 분사되는 제1 분사구 및 제2 물질이 분사되는 제2 분사구를 포함하는 제1 수트 블로워를 포함하고, 제1 분사구의 회전축으로부터 이격된 제1 거리는 제2 분사구의 회전축으로부터 이격된 제2 거리와 실질적으로 동일하다.
열교환기 세정 시스템을 이용한 열교환기의 세정 방법은 제1 수트 블로워를 위치시키는 단계, 제1 물질 및 제2 물질을 동시에 분사시키는 단계, 및 이물질을 제거하는 단계를 포함한다.

Description

열교환기 세정 시스템 및 열교환기 세정 방법{SYSTEM FOR CLEANING HEAT EXCHANGE AND METHOD OF CLEANING HEAT EXCHANGE}
본 발명은 열교환기 세정 시스템 및 열교환기 세정 방법에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 열교환기의 일 구성인 표적 회전체의 세정 효율이 향상된 열교환기 세정 시스템 및 열교환기 세정 방법에 관한 것이다.
보일러 등의 연소기관으로부터 배출되는 배기가스 내에는 질소산화물(NOx)이 포함되어 있으며, 이러한 질소산화물은 공해를 유발하므로 대기 중으로 배출되기 전에 제거할 필요가 있다. 배기가스 내에 포함된 질소산화물을 제거하기 위한 하나의 방법으로서 선택적촉매환원법(SCR: selective catalytic reduction)이 주로 이용되고 있다. 한편, 배기가스가 SCR 장치를 통과하게 되면 배기가스 내 삼산화황의 농도가 증가하며, SCR 장치의 촉매반응에 이용되는 암모니아(NH3)는 삼산화황 및 배기가스 내 포함되어 있는 수분(H2O)과 반응하여 황산수소암모늄(NH4HSO4: ammonium hydrogen sulfate) - 중황산암모늄(ammonium bisulfate)이라고도 함 - 을 형성한다. SCR 장치 후단에 설치되는 열교환기(GAH(gas air heater) 또는 GGH(gas gas heater))를 장시간 연속 운전하게 되면, 열교환기 내부에 황산수소암모늄을 포함한 이물질이 축적되어 열교환기 내의 통풍이 저하되는 문제가 있다.
이러한 문제를 해소하기 위해, 열교환기 상부 및/또는 하부에 열교환기 세정 장치(수트 블로어)를 설치하여, 열교환기 내부에 축적된 이물질을 제거할 수 있다.
종래에는 열교환기 내부로 고온 증기나 고압수를 분사함으로써 이물질을 제거하는 방법이 이용되었으나, 고압수를 분사하는 경우 배기가스 내 수분의 농도가 높아져 열교환기 후단에 설치된 장치(예를 들면, 집진기)의 성능과 수명을 저하시키는 문제가 있으며, 이로 인해 발생되는 다량의 폐수를 회수하기 위한 장치를 별도로 구비해야 할 필요가 있다.
한국 등록특허 제10-1555227호(특허문헌 1)는 종래 고압수를 분사하는 방식 대신 드라이아이스 펠렛을 이용하는 건식 세정 방법을 개시한다. 이 방법은 황산수소암모늄만이 이물질로서 존재하는 경우에는 유효하나, 연료질의 저하 등으로 다양한 성분의 조합으로 이루어진 이물질을 제거하기는 어렵고, 특히 대기의 온도가 매우 낮아 이물질이 동결된 경우에는 상기 건식 세정 방법만으로는 이물질을 효과적으로 제거할 수 없는 문제가 있다.
한국 등록특허 제10-1387024호(특허문헌 2)는 열교환기 내부에 고온 증기 및 드라이 아이스 펠렛을 분사함으로써, 열교환기 내부로부터 이물질을 제거하는 방법을 개시한다. 이 방법에 따르면, 열교환기의 입구 측에 배치된 세정장치로부터 공급공기 및/또는 배기가스의 흐름 방향으로 고온 증기 및 드라이아이스 펠렛이 분사된다. 하지만 배기가스가 유입되는 열교환기의 입구에서의 온도가 높기 때문에 드라이아이스 펠렛의 승화속도가 가속될 수 있고 그로 인해 오히려 세정 효과가 감소될 수 있다. 공급공기가 유입되는 열교환기의 입구에 배치된 세정장치로부터 분사된 고온 증기가 보일러 내부로 유입될 경우에는 보일러의 손상이 유발될 수 있고 그로 인해 보일러의 열 효율도 저하될 수 있다. 또한, 고온 증기와 드라이아이스 펠렛을 분사하더라도 표적은 회전하고 있으며 세정기도 움직이기 있기 때문에 특정 표적 지점에서의 세정 효과가 저하될 수 있는 문제가 있다.
특허문헌 1: 한국 등록특허 제10-1555227호 특허문헌 2: 한국 등록특허 제10-1387024호
본 발명의 목적은 열교환기의 일 구성인 표적 회전체의 세정 효율이 향상된 열교환기 세정 시스템 및 열교환기 세정 방법에 관한 것이다.
본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템은, 일 방향으로 연장된 가상의 회전축을 중심으로 회전하는 표적 회전체, 상기 표적 회전체 상부에 위치하는 제1 입구, 상기 표적 회전체 하부에 상기 제1 입구와 대향하여 위치하는 제1 출구, 상기 표적 회전체 하부에 상기 제1 출구와 이격되어 위치하는 제2 입구, 상기 표적 회전체 상부에 상기 제2 입구와 대향하여 위치하는 제2 출구, 및 상기 제1 입구 내부 공간에 위치하는 제1 수트 블로워를 포함할 수 있다.
상기 제1 입구는 제1 기체가 상기 표적 회전체를 향하여 유입되는 통로일 수 있다. 상기 제1 출구는 상기 표적 회전체를 통과한 상기 제1 기체가 배출되는 통로일 수 있다. 상기 제2 입구는 상기 제1 기체보다 온도가 낮은 제2 기체가 상기 표적 회전체를 향하여 유입되는 통로일 수 있다. 상기 제2 출구는 상기 표적 회전체를 통과한 상기 제2 기체가 배출되는 통로일 수 있다.
상기 제1 수트 블로워는, 제1 물질이 상기 표적 회전체를 향하여 분사되는 제1 분사구 및 제2 물질이 상기 표적 회전체를 향하여 분사되는 제2 분사구를 포함할 수 있다. 상기 제2 분사구는 상기 제1 분사구로부터 일정간격 이격되어 위치할 수 있다.
상기 제1 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제1 거리는 상기 제2 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제2 거리와 실질적으로 동일할 수 있다.
상기 제1 분사구와 상기 제2 분사구 각각은, 상기 표적 회전체의 일 동심원의 원주 상에 위치하며 서로 이격되어 위치하는 표적 지점들 각각에 마주보며 위치할 수 있다.
상기 제1 물질 및 상기 제2 물질은 상기 표적 회전체가 상기 가상의 회전축을 중심으로 회전함에 따라 상기 표적 회전체의 일 표적 지점에 순차적으로 분사될 수 있다.
상기 제1 물질은 고온 증기이며, 상기 제2 물질은 드라이 아이스 펠렛일 수 있다.
상기 제1 수트 블로워는 상기 제2 출구에 인접하게 위치할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템은 상기 제1 출구 내부 공간에 위치하는 제2 수트 블로워를 더 포함할 수 있다.
상기 제2 수트 블로워는, 상기 제1 물질이 상기 표적 회전체를 향하여 분사되는 제3 분사구 및 상기 제2 물질이 상기 표적 회전체를 향하여 분사되는 제4 분사구를 포함할 수 있다. 상기 제4 분사구는 상기 제3 분사구로부터 일정간격 이격되어 위치할 수 있다.
상기 제3 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제3 거리는 상기 제4 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제4 거리와 실질적으로 동일할 수 있다.
상기 제3 분사구와 상기 제4 분사구 각각은, 상기 표적 회전체의 일 동심원의 원주 상에 위치하며 서로 이격되어 위치하는 표적 지점들 각각에 마주보며 위치할 수 있다.
상기 제2 수트 블로워는 상기 제2 입구에 인접하게 위치할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템은 상기 제1 수트 블로워 및 상기 제2 수트 블로워의 위치를 조절하는 구동부를 더 포함할 수 있다.
상기 구동부는 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 멀어지거나 가까워지도록 상기 제1 수트 블로워 및 상기 제2 수트 블로워를 이동시킬 수 있다. 상기 구동부는 상기 제1 분사구 및 상기 제2 분사구 사이의 이격된 거리를 조절하여 상기 제1 거리와 상기 제2 거리가 실질적으로 서로 동일하도록 상기 제1 수트 블로워를 배치시킬 수 있다. 상기 구동부는 상기 제3 분사구와 상기 제4 분사구 사이의 이격된 거리를 조절하여 상기 제3 거리와 상기 제4 거리가 실질적으로 서로 동일하도록 상기 제2 수트 블로워를 배치시킬 수 있다.
상기 표적 회전체가 회전하는 동안 상기 제1 물질 및 상기 제2 물질은 동시에 연속적으로 분사될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 상기 열교환기 세정 시스템을 이용한 열교환기의 세정 방법은, 상기 제1 입구의 내부 공간에 상기 제1 수트 블로워를 위치시키는 단계, 상기 표적 회전체가 회전하는 동안 상기 표적 회전체를 향하여 상기 제1 수트 블로워의 상기 제1 분사구를 통해 상기 제1 물질을, 상기 제1 수트 블로워의 상기 제2 분사구를 통해 상기 제2 물질을 동시에 분사시키는 단계, 및 상기 표적 회전체의 일 지점에 상기 제1 물질 및 상기 제2 물질이 순차적으로 도달하여 이물질을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 제1 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 상기 제1 거리는 상기 제2 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 상기 제2 거리와 실질적으로 동일할 수 있다.
상기 제1 물질은 고온 증기이며, 상기 제2 물질은 드라이 아이스 펠렛일 수 있다.
상기 제1 수트 블로워를 위치시키는 단계에 있어서, 상기 제2 출구에 인접하게 상기 제1 수트 블로워를 위치시킬 수 있다. 또한, 상기 제1 분사구와 상기 제2 분사구 각각이, 상기 표적 회전체의 일 동심원의 원주 상에 위치하며 서로 이격되어 위치하는 표적 지점들 각각에 마주하도록 위치시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기의 세정 방법은, 상기 제1 출구의 내부 공간에 제2 수트 블로워를 위치시키는 단계 및 상기 표적 회전체가 회전하는 동안 상기 표적 회전체를 향하여 상기 제2 수트 블로워의 제3 분사구를 통해 상기 제1 물질을, 상기 제4 분사구를 통해 상기 제2 물질을 동시에 분사시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
여기서, 상기 제3 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제3 거리는 상기 제4 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제4 거리와 실질적으로 동일할 수 있다.
상기 제2 수트 블로워를 위치시키는 단계에 있어서, 상기 제2 입구에 인접하게 상기 제2 수트 블로워를 위치시킬 수 있다. 또한, 상기 제3 분사구와 상기 제4 분사구 각각이, 상기 표적 회전체의 일 동심원의 원주 상에 위치하며 서로 이격되어 위치하는 표적 지점들 각각에 마주하도록 위치시킬 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기의 세정 방법은, 상기 표적 회전체가 회전하는 동안 상기 제1 수트 블로워 및 상기 제2 수트 블로워와 연결된 구동부에 의해 상기 제1 수트 블로워 및 상기 제2 수트 블로워 각각의 위치가 조절되는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제1 수트 블로워 및 상기 제2 수트 블로워 각각의 위치가 조절되는 단계에 있어서, 상기 제1 수트 블로워 및 상기 제2 수트 블로워 각각은 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 멀어지거나 가까워지도록 이동될 수 있다. 또한, 상기 제1 거리와 상기 제2 거리가 실질적으로 서로 동일하도록 상기 제1 수트 블로워의 상기 제1 분사구 및 상기 제2 분사구 사이의 이격된 거리가 조절될 수 있다. 또한, 상기 제3 거리와 상기 제4 거리가 실질적으로 서로 동일하도록 상기 제2 수트 블로워의 상기 제3 분사구 및 상기 제4 분사구 사이의 이격된 거리가 조절될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템 및 열교환기 세정 방법은 고온 증기 및 드라이 아이스 펠렛이 표적 회전체의 동일 지점에 분사됨에 따라 표적 회전체로부터 이물질을 효과적으로 제거할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 개략적인 모식도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 일 부분에 대한 사시도이다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 일 부분에 대한 평면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 일 부분에 대한 저면도이다.
도 5 및 도 6은 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 일 부분에 대한 사시도이다.
도 7 및 도 8은 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 일 부분에 대한 평면도이다.
도 9 및 도 10은 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 일 부분에 대한 저면도이다.
본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예를 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.
본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서 상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 어떤 구성(또는 부분)이 다른 구성(또는 부분) "위에"(또는 "상부에") 있다고 할 경우, 이는 다른 구성(또는 부분) "바로 위에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 구성(또는 부분)이 있는 경우도 포함한다. 마찬가지로 어떤 구성(또는 부분)이 다른 구성(또는 부분) "아래에" (또는 "하부에") 있다고 할 경우, 이는 다른 구성(또는 부분) "바로 아래에" 있는 경우뿐만 아니라 그 중간에 또 다른 구성(또는 부분)이 있는 경우도 포함한다. 또한 상기 "위"(또는 "상부") 및 "아래"(또는 "하부")는 수평 상태의 열교환기를 측면(관점에 따라 정면 또는 배면이라 지칭할 수도 있음)에서 바라보았을 때의 위치를 지칭한다(본 출원의 도 1 참고). 따라서, 열교환기의 사용 상태에 따라 기울여지거나 뒤집혀 배치되더라도 본 발명을 이해함에 있어서는 열교환기가 원래의 수평 상태에 있다고 가정하여 각 구성(또는 부분)의 위치를 파악해야 한다.
각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성요소들은 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 다수의 표현을 포함한다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 보다 상세히 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 개략적인 모식도(관점에 따라 정면도, 측면도 또는 배면도로 지칭할 수도 있음)이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 일 부분에 대한 사시도이다.
먼저, 도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템은 표적 회전체(10), 제1 기체(G1)가 이동하는 제1 입구(20) 및 제2 출구(23), 제2 기체(G2)가 이동하는 제2 입구(30) 및 제2 출구(33), 수트 블로워(100), 및 구동부(50)를 포함할 수 있다.
상기 표적 회전체(10)는 제1 방향(DR1)으로 연장된 가상의 회전축(1)을 중심으로 회전할 수 있다. 상기 표적 회전체(10)는 상기 가상의 회전축(1)을 중심으로 회전하는 동안 상기 표적 회전체(10)를 통과한 고온의 기체와 저온의 기체 간에 상호 열교환이 이루어지도록 하는 장치로서, 예를 들어, 공기 예열기(air preheater) 또는 가스 예열기(gas preheater)일 수 있다.
상기 표적 회전체(10)는 외부 프레임(11), 내부 프레임(13), 및 열교환 플레이트(15)를 포함할 수 있다.
상기 외부 프레임(11)은 상기 제1 방향(DR1)으로 연장된 소정의 높이를 가지며, 상기 제1 방향(DR1)과 교차하며 서로 교차하는 제2 방향(DR2) 및 제3 방향(DR3)에 의해 이루어지는 평면에 대응하는 내부 공간을 갖는 환형의 프레임일 수 있다.
상기 내부 프레임(13)은 상기 외부 프레임(11)의 상기 내부 공간을 반경 방향 및 원주 방향으로 구획하는 프레임일 수 있다.
상기 열교환 플레이트(15)는 상기 외부 프레임(11)과 상기 내부 프레임(13)에 의해 구획된 영역 내에 구비될 수 있다. 상기 열교환 플레이트(15)는 격자 형상 또는 주름진 형상의 금속 플레이트들일 수 있다.
상기 제1 입구(20)는 상기 표적 회전체(10) 상부에 위치할 수 있다. 상기 제1 입구(20)는 상기 제1 기체(G1)가 상기 표적 회전체(10)를 향하여 유입되는 통로일 수 있다. 여기서, 상기 제1 입구(20)는 보일러와 같은 설비(미도시)에 연결될 수 있으며, 이때, 상기 제1 기체(G1)는 상기 설비(미도시) 내부로부터 배출된 고온의 기체일 수 있고, 예를 들어, 상기 제1 기체(G1)는 실질적으로 배기가스일 수 있다.
상기 제1 출구(23)는 상기 표적 회전체(10) 하부에 배치될 수 있다. 상기 제1 출구(23)는 상기 표적 회전체(10)를 사이에 두고 상기 제1 입구(20)와 대향하여 위치할 수 있다. 상기 제1 출구(23)는 상기 제1 입구(20)로 유입된 상기 제1 기체(G1)가 상기 표적 회전체(10)를 통과한 후, 외부로 배출되는 통로일 수 있다. 상기 제1 출구(23)를 통해 배출된 상기 제1 기체(G1)의 온도는 상기 제1 입구(20)를 통해 유입된 상기 제1 기체(G1)의 온도보다 낮을 수 있다.
상기 제2 입구(30)는 상기 표적 회전체(10) 하부에 위치할 수 있다. 상기 제2 입구(30)는 상기 제1 출구(23)와 이격되어 위치할 수 있다. 상기 제2 입구(30)는 상기 제2 기체(G2)가 상기 표적 회전체(10)를 향하여 유입되는 통로일 수 있다. 여기서, 상기 제2 기체(G2)는 상기 제1 기체(G1)보다 온도가 낮은 기체로서, 예를 들어, 외부로부터 공급된 공기일 수 있다.
상기 제2 출구(33)는 상기 표적 회전체(10) 상부에 위치할 수 있다. 상기 제2 출구(33)는 상기 제1 입구(20)와 이격되어 위치할 수 있다. 상기 제2 출구(33)는 상기 표적 회전체(10)를 사이에 두고 상기 제2 입구(30)와 대향하여 위치할 수 있다. 상기 제2 출구(33)는 상기 제2 입구(30)를 통해 유입된 상기 제2 기체(G2)가 상기 표적 회전체(10)를 통과한 후, 배출되는 통로일 수 있다. 상기 제2 출구(33)를 통해 배출된 상기 제2 기체(G2)의 온도는 상기 제2 입구(30)를 통해 유입된 상기 제2 기체(G2)의 온도보다 높을 수 있다. 또한, 상기 제2 출구(33)를 통해 배출된 상기 제2 기체(G2)의 온도는 상기 제1 입구(20)를 통해 유입된 상기 제1 기체(G1)의 온도보다 낮을 수 있다.
상기 제2 출구(33)는 상기 설비(미도시)에 연결될 수 있으며, 이때, 상기 제2 기체(G2)는 상기 설비(미도시) 내부로 공급될 수 있다.
상기 수트 블로워(100)는 상기 표적 회전체(10)를 세정하기 위한 장치로서, 상기 표적 회전체(10)의 상부 및/또는 하부의 일 영역에 위치할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 수트 블로워(100)는 제1 수트 블로워(101) 및 제2 수트 블로워(102)를 포함할 수 있다.
상기 제1 수트 블로워(101)는 상기 표적 회전체(10) 상부의 일 영역에 위치하며, 상기 제1 입구(20)의 내부 공간에 배치될 수 있다.
상기 제2 수트 블로워(102)는 상기 표적 회전체(10) 하부의 일 영역에 위치하며, 상기 제1 출구(23)의 내부 공간에 배치될 수 있다. 상기 제2 수트 블로워(102)는 상기 제1 수트 블로워(101)와 대향하여 위치할 수 있다.
상기 제1 수트 블로워(101) 및 상기 제2 수트 블로워(102)는 보다 구체적으로 후술한다.
상기 구동부(50)는 상기 제1 수트 블로워(101) 및 상기 제2 수트 블로워(102)의 위치를 함께/동시에 또는 각각 조절할 수 있다. 상기 구동부(50)는 상기 제1 수트 블로워(101) 및 상기 제2 수트 블로워(102)의 위치를 상기 가상의 회전축(1)으로부터 멀어지거나 가까워지도록 조절할 수 있다. 여기서, 상기 제1 수트 블로워(101) 및 상기 제2 수트 블로워(101)는 상기 표적 회전체(10)로부터 일정간격 이격된 거리를 유지하며 상기 제2 방향(DR2) 및 상기 제3 방향(DR3)이 이루는 평면에 평행한 방향으로 이동될 수 있다.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 일 부분에 대한 평면도이고, 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 일 부분에 대한 저면도이다. 도 5 및 도 6은 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 일 부분에 대한 사시도이다. 이하, 도 3 내지 도 6을 참조하여, 상기 제1 수트 블로워(101) 및 상기 제2 수트 블로워(102)를 자세히 설명한다.
먼저, 도 3 및 도 5를 참조하면, 상기 제1 수트 블로워(101)는 상기 표적 회전체(10)의 제1 영역(R1)에 중첩하여 위치할 수 있다. 여기서, 상기 제1 영역(R1)은 상기 표적 회전체(10) 상에 상기 제1 입구(20)가 배치되는 영역일 수 있다. 상기 제1 수트 블로워(101)는 상기 표적 회전체(10)가 회전하는 동안 상기 표적 회전체(10) 상부의 이물질을 제거할 수 있다.
상기 제1 수트 블로워(101)는 제1 물질(M1)이 공급되는 제1 공급부(110) 및 제2 물질(M2)이 공급되는 제2 공급부(120)를 포함할 수 있다. 본 발명의 일 실시예에서, 상기 제1 물질(M1)은 고온 증기일 수 있으며, 상기 제2 물질(M2)은 드라이 아이스 펠렛일 수 있다.
상기 제1 공급부(110)는 상기 제1 물질(M1)이 이동하는 제1 공급로(111) 및 상기 제1 물질(M1)이 분사되는 제1 분사구(113)를 포함할 수 있다. 상기 제1 분사구(113)는 상기 가상의 회전축(1)으로부터 제1 거리(D1)만큼 이격되어 위치할 수 있다.
상기 제2 공급부(120)는 상기 제2 물질(M2)이 이동하는 제2 공급로(121) 및 상기 제2 물질(M2)이 분사되는 제2 분사구(123)를 포함할 수 있다. 상기 제2 분사구(123)는 상기 제1 분사구(113)로부터 일정간격 이격되어 위치할 수 있다. 상기 제2 분사구(123)는 상기 가상의 회전축(1)으로부터 제2 거리(D2)만큼 이격되어 위치할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제1 분사구(113)와 상기 제2 분사구(123)가 각각 상기 제2 방향(DR2) 및 상기 제3 방향(DR3)에 의해 이루어지는 평면에 실질적으로 평행한 평면에 위치할 때, 상기 제1 거리(D1)와 상기 제2 거리(D2)는 실질적으로 동일할 수 있다. 즉, 상기 제1 분사구(113)와 상기 제2 분사구(123)는 각각 상기 표적 회전체(10)의 일 동심원의 원주 상에 위치하며 서로 이격되어 위치하는 표적 지점들 각각에 마주보며 위치할 수 있다.
상기 표적 회전체(10)가 회전하는 동안, 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)이 동시에 연속적으로 분사될 수 있다. 이로써, 상기 표적 회전체(10)의 일 동심원 상에 있어서, 상기 제1 물질(M1)이 분사된 일 지점에 상기 제2 물질(M2)이 순차적으로 도달되는 것이 가능하다.
상기 제1 수트 블로워(101)는 상기 표적 회전체(10) 상에 상기 제2 출구(33)가 배치되는 영역인 제2 영역(R2)에 인접하게 위치할 수 있다.
상기 제1 기체(G1)가 고온의 상태로 상기 제1 입구(20)로 유입되는 경우, 상기 제1 입구(20)의 내부 공간의 온도는 상기 제1 기체(G1)의 온도와 유사하게 고온의 상태로 유지될 수 있다. 상기 제1 수트 블로워(101)가 상기 제1 입구(20)의 내부 공간에서 상기 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)을 분사하는 경우, 상기 제1 입구(20)의 내부 공간의 온도에 의해 상기 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)이 상기 표적 회전체(10) 상에 도달하기 어려울 수 있다. 특히, 상기 제2 물질(M2)이 상기 드라이아이스 펠렛으로 제공되는 경우, 고온 상태의 상기 제1 입구(20)의 내부 공간의 온도에 의해 상기 드라이아이스 펠렛이 승화될 수 있다.
이에, 상기 제1 수트 블로워(101)는 상기 제1 영역(R1) 내에서도 상대적으로 온도가 낮은 곳에 위치할 수 있다. 즉, 상기 제1 수트 블로워(101)는 상기 제1 영역(R1) 내에서도 최대한 상기 제2 영역(R2)에 가깝게 위치함으로써, 상기 드라이아이스 펠렛이 승화되는 양을 최대한 줄일 수 있다.
도 3에 있어서, 상기 제1 수트 블로워(101)는 상기 제1 공급부(110)가 상기 제2 공급부(120) 보다 상기 제2 영역(R2)에 더 가깝게 위치하는 것을 도시하여 설명하였으나, 이에 한정되지 않으며, 상기 제1 수트 블로워(101)는 상기 제2 공급부(120)가 상기 제1 공급부(110) 보다 상기 제2 영역(R2)에 더 가깝게 위치할 수 있다.
도 3에 있어서, 상기 제1 수트 블로워(101) 내에 상기 제1 공급부(110)와 상기 제2 공급부(120)가 일체로 형성된 것을 도시하였으나, 이에 한정되지 않는다. 상기 제1 공급부(110)와 상기 제2 공급부(120)는 서로 분리되어 일정간격 이격되어 위치할 수도 있다.
도 4를 참조하면, 상기 제2 수트 블로워(102)는 상기 표적 회전체(10)의 제3 영역(R3)에 중첩하여 위치할 수 있다. 여기서, 상기 제3 영역(R3)은 상기 표적 회전체(10) 하부에 상기 제1 출구(23)가 배치되는 영역일 수 있다. 상기 제2 수트 블로워(102)는 상기 표적 회전체(10)가 회전하는 동안 상기 표적 회전체(10) 하부의 이물질을 제거할 수 있다.
상기 제2 수트 블로워(102)는 상기 제1 물질(M1)이 공급되는 제3 공급부(130) 및 상기 제2 물질(M2)이 공급되는 제4 공급부(140)를 포함할 수 있다.
상기 제3 공급부(130)는 상기 제1 물질(M1)이 이동하는 제3 공급로(131) 및 상기 제1 물질(M1)이 분사되는 제3 분사구(133)를 포함할 수 있다. 상기 제3 분사구(133)는 상기 가상의 회전축(1)으로부터 제3 거리(D3)만큼 이격되어 위치할 수 있다.
상기 제4 공급부(140)는 상기 제2 물질(M2)이 이동하는 제4 공급로(141) 및 상기 제2 물질(M2)이 분사되는 제4 분사구(143)를 포함할 수 있다. 상기 제4 분사구(143)는 상기 제3 분사구(133)로부터 일정간격 이격되어 위치할 수 있다. 상기 제4 분사구(143)는 상기 가상의 회전축(1)으로부터 제4 거리(D4)만큼 이격되어 위치할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 제3 분사구(133)와 상기 제4 분사구(143)가 각각 상기 제2 방향(DR2) 및 상기 제3 방향(DR3)에 의해 이루어지는 평면에 실질적으로 평행한 평면에 위치할 때, 상기 제3 거리(D3)와 상기 제4 거리(D4)는 실질적으로 동일할 수 있다. 즉, 상기 제3 분사구(133)와 상기 제4 분사구(143)는 각각 상기 표적 회전체(10)의 일 동심원의 원주 상에 위치하며 서로 이격되어 위치하는 표적 지점들 각각에 마주보며 위치할 수 있다.
상기 표적 회전체(10)가 회전하는 동안, 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)이 동시에 연속적으로 분사될 수 있다. 이에, 상기 표적 회전체(10)의 일 동심원 상에 있어서, 상기 제1 물질(M1)이 분사된 일 지점에 상기 제2 물질(M2)이 순차적으로 도달되는 것이 가능하다.
상기 제2 수트 블로워(102)는 상기 표적 회전체(10) 하부에 상기 제2 입구(30)가 배치되는 영역인 제4 영역(R4)에 인접하게 위치할 수 있다.
상기 표적 회전체(10)를 통과한 후 상기 제1 출구(23)를 통해 배출된 상기 제1 기체(G1)의 온도는 상기 제1 입구(20)를 통해 유입된 상기 제1 기체(G1)의 온도보다 낮으나, 상기 제2 입구(30)를 통해 유입되는 상기 제2 기체(G2)의 온도보다 높을 수 있다.
이에, 상기 제2 수트 블로워(102)는 상기 제3 영역(R3) 내에서 최대한 상기 제4 영역(R4)에 가깝게 위치함으로써, 상기 제2 물질(M2)인, 상기 드라이아이스 펠렛이 승화되는 양을 최대한 줄일 수 있다.
또한, 상기 제2 수트 블로워(102)는 상기 제1 수트 블로워(102)보다 많은 양의 상기 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)을 분사할 수 있다.
상기 제1 출구(23)를 통해 상기 제1 기체(G1)가 배출되는 방향과 반대되는 방향으로 상기 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)이 분사됨에 따라, 상기 제2 수트 블로워(102)에서 분사된 상기 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)이 상기 표적 회전체(10)에 도달하기 어려울 수 있다.
이는, 상기 제2 수트 블로워(102)에서 분사되는 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)의 양을 증가시킴으로써, 상기 표적 회전체(10) 하부의 이물질을 용이하게 제거하는 것이 가능하다.
도 4에 있어서, 상기 제2 수트 블로워(102)는 상기 제3 공급부(130)가 상기 제4 공급부(140) 보다 상기 제2 영역(R2)에 더 가깝게 위치하는 것을 도시하여 설명하였으나, 이에 한정되지 않으며, 상기 제2 수트 블로워(102)는 상기 제3 공급부(130)가 상기 제4 공급부(140) 보다 상기 제4 영역(R4)에 더 가깝게 위치할 수 있다.
종래에는 상기 제2 수트 블로워(102)를 상기 제4 영역(R4)에 중첩하게 위치시켰으나, 이 경우, 상기 제2 수트 블로워(102)에서 분사된 상기 제1 물질(M2) 및 상기 제2 물질(M2)이 상기 설비(미도시) 내부로 유입되어 설비 특성이 저하되는 문제가 발생하였다. 그러나, 본 발명의 일 실시예는 상기 제2 수트 블로워(102)를 상기 제3 영역(R3)에 중첩하게 위치시킴으로써, 상기 제2 수트 블로워(102)에서 분사된 상기 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)이 상기 설비(미도시) 내부로 유입되는 것을 방지할 수 있다. 즉, 본 발명에 있어서는 예를 들어 외부로부터 공급되는 공기가 유입되어 통과하는 제2 영역(R2) 및 제4 영역(R4)에는 수트 블로워를 배치하지 않는다.
도 4에 있어서, 상기 제2 수트 블로워(102) 내에 상기 제3 공급부(130)와 상기 제4 공급부(140)가 일체로 형성된 것을 도시하였으나, 이에 한정되지 않는다. 상기 제3 공급부(130)와 상기 제4 공급부(140)는 서로 분리되어 일정간격 이격되어 위치할 수도 있다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 상기 표적 회전체(10)는 상기 가상의 회전축(1, 도 1 참고)을 중심으로 시계 반대 방향으로 회전할 수 있다. 상기 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)은 상기 표적 회전체(10)가 회전하는 동안 상기 표적 회전체(10)를 향하여 동시에 연속적으로 분사될 수 있다.
상기 표적 회전체(10)의 일 지점에 상기 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)이 순차적으로 도달함으로써, 상기 표적 회전체(10)의 이물질이 용이하게 제거될 수 있다.
먼저, 상기 제1 물질(M1)이 상기 표적 회전체(10)의 제1 지점(P1)에 도달될 수 있다. 상기 표적 회전체(10)가 시계 반대 방향으로 회전함에 따라, 상기 제1 지점(P1)이 시계 반대 방향으로 이동되고, 상기 제1 물질(M1)은 새로운 제2 지점(P2)에 도달되고, 상기 제2 물질(M2)은 상기 제1 지점(P1)에 도달될 수 있다.
이에, 상기 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)이 순차적으로 도달된 상기 제1 지점(P1)으로부터 이물질을 용이하게 제거하는 것이 가능하다.
도 7 및 도 8은 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 일 부분에 대한 평면도이다. 이하, 도 7 및 8을 참조하여, 상기 구동부(50)에 의해 상기 제1 수트 블로워(101)의 위치가 조절되는 것을 설명한다.
도 1 및 도 7을 참조하면, 상기 제1 수트 블로워(101)의 위치는 상기 구동부(50)에 의해 상기 가상의 회전축(1)으로부터 멀어지거나 가까워지도록 조절될 수 있다. 상기 제1 수트 블로워(101)의 위치가 조절되는 동안, 상기 제1 거리(D1)와 상기 제2 거리(D2)는 실질적으로 동일한 간격을 유지할 수 있다.
도 8을 참조하면, 상기 제1 수트 블로워(101)의 상기 제1 분사구(113)와 제2 분사구(123) 사이의 이격된 거리인, 제5 거리(D5)는 상기 구동부(50)에 의해 조절될 수 있다. 상기 제5 거리(D5)는 상기 표적 회전체(10)의 회전 속도에 따라 짧아지거나 길어질 수 있다.
도 9 및 도 10은 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 시스템의 일 부분에 대한 저면도이다. 이하, 도 9 및 10을 참조하여, 상기 구동부(50)에 의해 상기 제2 수트 블로워(102)의 위치가 조절되는 것을 설명한다.
도 1 및 도 9를 참조하면, 상기 제2 수트 블로워(102)의 위치는 상기 구동부(50)에 의해 상기 가상의 회전축(1)으로부터 멀어지거나 가까워지도록 조절될 수 있다. 상기 제2 수트 블로워(102)의 위치가 조절되는 동안, 상기 제3 거리(D3)와 상기 제4 거리(D4)는 실질적으로 동일한 간격을 유지할 수 있다.
도 10을 참조하면, 상기 제2 수트 블로워(102)의 상기 제3 분사구(133)와 제4 분사구(143) 사이의 이격된 거리인, 제6 거리(D6)는 상기 구동부(50)에 의해 조절될 수 있다. 상기 제6 거리(D6)는 상기 표적 회전체(10)의 회전 속도에 따라 짧아지거나 길어질 수 있다.
이하, 상기 열교환기 세정 시스템을 이용하여 상기 표적 회전체(10)를 세정하는 열교환기 세정 방법에 대해 설명한다. 설명의 편의를 위해, 전술한 상기 열교환기 세정 시스템의 설명과 중복되는 설명은 생략한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 방법은, 상기 제1 입구(20)의 내부 공간에 상기 제1 수트 블로워(101)를 위치시키는 단계, 상기 표적 회전체(10)가 회전하는 동안 상기 표적 회전체(10)를 향하여 상기 제1 수트 블로워(101)의 상기 제1 분사구(113)를 통해 상기 제1 물질(M1)을, 상기 제1 수트 블로워(101)의 상기 제2 분사구(123)를 통해 상기 제2 물질(M2)을 동시에 분사시키는 단계, 및 상기 표적 회전체(10)의 일 지점에 상기 제1 물질(M1) 및 상기 제2 물질(M2)이 순차적으로 도달하여 이물질을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.
여기서, 상기 제1 분사구(113)의 상기 표적 회전체(10)의 상기 가상의 회전축(1)으로부터 이격된 상기 제1 거리(D1)는 상기 제2 분사구(123)의 상기 표적 회전체(10)의 상기 가상의 회전축(1)으로부터 이격된 상기 제2 거리(D2)와 실질적으로 동일할 수 있다.
상기 제1 물질(M1)은 고온 증기이며, 상기 제2 물질(M2)은 드라이 아이스 펠렛일 수 있다.
상기 제1 수트 블로워(101)를 위치시키는 단계에 있어서, 상기 제1 수트 블로워(101)는 상기 표적 회전체(10) 상부의 상기 제2 출구(33)에 인접하게 위치될 수 있다.
상기 제1 분사구(113)의 상기 표적 회전체(10)의 상기 가상의 회전축(1)으로부터 이격된 제1 거리(D1)는 상기 제2 분사구(123)의 상기 표적 회전체(10)의 상기 가상의 회전축(1)으로부터 이격된 제2 거리(D2)와 실질적으로 동일할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 방법은, 상기 표적 회전체(10) 하부의 상기 제1 출구(23)의 내부 공간에 상기 제2 수트 블로워(102)를 위치시키는 단계 및 상기 표적 회전체(10)가 회전하는 동안 상기 표적 회전체(10)를 향하여 상기 제2 수트 블로워(102)의 상기 제3 분사구(133)를 통해 상기 제1 물질(M1)을, 상기 제2 수트 블로워(102)의 상기 제4 분사구(143)를 통해 상기 제2 물질(M2)을 동시에 분사시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제3 분사구(133)의 상기 표적 회전체(10)의 상기 가상의 회전축(1)으로부터 이격된 상기 제3 거리(D3)는 상기 제4 분사구(143)의 상기 표적 회전체(10)의 상기 가상의 회전축(1)으로부터 이격된 상기 제4 거리(D4)와 실질적으로 동일할 수 있다.
상기 제2 수트 블로워(102)를 위치시키는 단계에 있어서, 상기 제2 수트 블로워(102)는 상기 표적 회전체(10) 하부의 상기 제2 입구(30)에 인접하게 위치될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 열교환기 세정 방법은, 상기 표적 회전체(10)가 회전하는 동안 상기 제1 수트 블로워(101) 및 상기 제2 수트 블로워(102)와 연결된 구동부(50)에 의해 상기 제1 수트 블로워(101) 및 상기 제2 수트 블로워(102) 각각의 위치가 조절되는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 제1 수트 블로워(101) 및 상기 제2 수트 블로워(102) 각각은 상기 표적 회전체(10)의 상기 가상의 회전축(1)으로부터 멀어지거나 가까워지도록 이동될 수 있다. 이때, 상기 제1 거리(D1)와 상기 제2 거리(D2)가 실질적으로 서로 동일하도록 상기 제1 수트 블로워(101)의 상기 제1 분사구(113) 및 상기 제2 분사구(123) 사이의 이격된 거리가 조절되고, 상기 제3 거리(D3)와 상기 제4 거리(D4)가 실질적으로 서로 동일하도록 상기 제2 수트 블로워(102)의 상기 제3 분사구(133) 및 상기 제4 분사구(143) 사이의 이격된 거리가 조절될 수 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 기준하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술 분야에 통상의 지식을 갖는 자라면, 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.
10: 표적 회전체 20: 제1 입구
23: 제1 출구 30: 제2 입구
33: 제2 출구 101: 제1 수트 블로워
102: 제2 수트 블로워 50: 구동부
113: 제1 분사구 123: 제2 분사구
133: 제3 분사구 143: 제4 분사구
M1: 제1 물질 M2: 제2 물질

Claims (18)

  1. 일 방향으로 연장된 가상의 회전축을 중심으로 회전하는 표적 회전체;
    상기 표적 회전체 상부에 위치하며, 제1 기체가 상기 표적 회전체를 향하여 유입되는 제1 입구;
    상기 표적 회전체 하부에 상기 제1 입구와 대향하여 위치하고, 상기 표적 회전체를 통과한 상기 제1 기체가 배출되는 제1 출구;
    상기 표적 회전체 하부에 상기 제1 출구와 이격되어 위치하며, 상기 제1 기체보다 온도가 낮은 제2 기체가 상기 표적 회전체를 향하여 유입되는 제2 입구;
    상기 표적 회전체 상부에 상기 제2 입구와 대향하여 위치하고, 상기 표적 회전체를 통과한 상기 제2 기체가 배출되는 제2 출구; 및
    상기 제1 입구 내부 공간에 위치하는 제1 수트 블로워를 포함하며,
    상기 제1 수트 블로워는,
    제1 물질이 상기 표적 회전체를 향하여 분사되는 제1 분사구; 및 상기 제1 분사구로부터 일정간격 이격되어 위치하며 제2 물질이 상기 표적 회전체를 향하여 분사되는 제2 분사구를 포함하며,
    상기 제1 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제1 거리는 상기 제2 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제2 거리와 실질적으로 동일한 열교환기 세정 시스템.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 물질 및 상기 제2 물질은 상기 표적 회전체가 상기 가상의 회전축을 중심으로 회전함에 따라 상기 표적 회전체의 일 표적 지점에 순차적으로 분사되는 열교환기 세정 시스템.
  3. 제2 항에 있어서,
    상기 제1 물질은 고온 증기이며, 상기 제2 물질은 드라이 아이스 펠렛인 열교환기 세정 시스템.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 수트 블로워는 상기 제2 출구에 인접하게 위치하는 열교환기 세정 시스템.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 분사구와 상기 제2 분사구 각각은, 상기 표적 회전체의 일 동심원의 원주 상에 위치하며 서로 이격되어 위치하는 표적 지점들 각각에 마주보며 위치하는 열교환기 세정 시스템.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 제1 출구 내부 공간에 위치하는 제2 수트 블로워를 더 포함하며,
    상기 제2 수트 블로워는,
    상기 제1 물질이 상기 표적 회전체를 향하여 분사되는 제3 분사구; 및
    상기 제3 분사구로부터 일정간격 이격되어 위치하며 상기 제2 물질이 상기 표적 회전체를 향하여 분사되는 제4 분사구를 포함하며,
    상기 제3 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제3 거리는 상기 제4 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제4 거리와 실질적으로 동일한 열교환기 세정 시스템.
  7. 제6 항에 있어서,
    상기 제2 수트 블로워는 상기 제2 입구에 인접하게 위치하는 열교환기 세정 시스템.
  8. 제6 항에 있어서,
    상기 제3 분사구와 상기 제4 분사구 각각은, 상기 표적 회전체의 일 동심원의 원주 상에 위치하며 서로 이격되어 위치하는 표적 지점들 각각에 마주보며 위치하는 열교환기 세정 시스템.
  9. 제6 항에 있어서,
    상기 제1 수트 블로워 및 상기 제2 수트 블로워의 위치를 조절하는 구동부를 더 포함하며,
    상기 구동부는 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 멀어지거나 가까워지도록 상기 제1 수트 블로워 및 상기 제2 수트 블로워를 이동시키며,
    상기 제1 분사구 및 상기 제2 분사구 사이의 이격된 거리를 조절하여 상기 제1 거리와 상기 제2 거리가 실질적으로 서로 동일하도록 상기 제1 수트 블로워를 배치시키고, 상기 제3 분사구와 상기 제4 분사구 사이의 이격된 거리를 조절하여 상기 제3 거리와 상기 제4 거리가 실질적으로 서로 동일하도록 상기 제2 수트 블로워를 배치시키는 열교환기 세정 시스템.
  10. 제1 항에 있어서,
    상기 표적 회전체가 회전하는 동안 상기 제1 물질 및 상기 제2 물질은 동시에 연속적으로 분사되는 열교환기 세정 시스템.
  11. 일 방향으로 연장된 가상의 회전축을 중심으로 회전하는 표적 회전체;
    상기 표적 회전체 상부에 위치하며, 제1 기체가 상기 표적 회전체를 향하여 유입되는 제1 입구;
    상기 표적 회전체 하부에 상기 제1 입구와 대향하여 위치하고, 상기 표적 회전체를 통과한 상기 제1 기체가 배출되는 제1 출구;
    상기 표적 회전체 하부에 상기 제1 출구와 이격되어 위치하며, 상기 제1 기체보다 온도가 낮은 제2 기체가 상기 표적 회전체를 향하여 유입되는 제2 입구; 및
    상기 표적 회전체 상부에 상기 제2 입구와 대향하여 위치하고, 상기 표적 회전체를 통과한 상기 제2 기체가 배출되는 제2 출구를 포함하는 열교환기의 세정 방법으로서,
    상기 제1 입구의 내부 공간에 제1 수트 블로워를 위치시키는 단계;
    상기 표적 회전체가 회전하는 동안 상기 표적 회전체를 향하여 상기 제1 수트 블로워의 제1 분사구를 통해 제1 물질을, 상기 제1 수트 블로워의 상기 제1 분사구로부터 일정간격 이격되어 위치하는 제2 분사구를 통해 제2 물질을 동시에 분사시키는 단계; 및
    상기 표적 회전체의 일 지점에 상기 제1 물질 및 상기 제2 물질이 순차적으로 도달하여 이물질을 제거하는 단계를 포함하며,
    상기 제1 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제1 거리는 상기 제2 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제2 거리와 실질적으로 동일한 열교환기의 세정 방법.
  12. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 물질은 고온 증기이며, 상기 제2 물질은 드라이 아이스 펠렛인 열교환기의 세정 시스템.
  13. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 수트 블로워를 위치시키는 단계에 있어서,
    상기 제2 출구에 인접하게 상기 제1 수트 블로워를 위치시키는 열교환기의 세정 방법.
  14. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 수트 블로워를 위치시키는 단계에 있어서,
    상기 제1 분사구와 상기 제2 분사구 각각이, 상기 표적 회전체의 일 동심원의 원주 상에 위치하며 서로 이격되어 위치하는 표적 지점들 각각에 마주하도록 위치시키는 열교환기의 세정 방법.
  15. 제11 항에 있어서,
    상기 제1 출구의 내부 공간에 제2 수트 블로워를 위치시키는 단계; 및
    상기 표적 회전체가 회전하는 동안 상기 표적 회전체를 향하여 상기 제2 수트 블로워의 제3 분사구를 통해 상기 제1 물질을, 상기 제2 수트 블로워의 상기 제3 분사구로부터 일정간격 이격되어 위치하는 제4 분사구를 통해 상기 제2 물질을 동시에 분사시키는 단계를 더 포함하며,
    상기 제3 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제3 거리는 상기 제4 분사구의 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 이격된 제4 거리와 실질적으로 동일한 열교환기의 세정 방법.
  16. 제15 항에 있어서,
    상기 제2 수트 블로워를 위치시키는 단계에 있어서,
    상기 제2 입구에 인접하게 상기 제2 수트 블로워를 위치시키는 열교환기의 세정 방법.
  17. 제15 항에 있어서,
    상기 제2 수트 블로워를 위치시키는 단계에 있어서,
    상기 제3 분사구와 상기 제4 분사구 각각이, 상기 표적 회전체의 일 동심원의 원주 상에 위치하며 서로 이격되어 위치하는 표적 지점들 각각에 마주하도록 위치시키는 열교환기 세정 시스템.
  18. 제15 항에 있어서,
    상기 표적 회전체가 회전하는 동안 상기 제1 수트 블로워 및 상기 제2 수트 블로워와 연결된 구동부에 의해 상기 제1 수트 블로워 및 상기 제2 수트 블로워 각각의 위치가 조절되는 단계를 더 포함하며,
    상기 제1 수트 블로워 및 상기 제2 수트 블로워 각각의 위치가 조절되는 단계에 있어서,
    상기 제1 수트 블로워 및 상기 제2 수트 블로워 각각은 상기 표적 회전체의 상기 가상의 회전축으로부터 멀어지거나 가까워지도록 이동되며,
    상기 제1 거리와 상기 제2 거리가 실질적으로 서로 동일하도록 상기 제1 수트 블로워의 상기 제1 분사구 및 상기 제2 분사구 사이의 이격된 거리가 조절되고,
    상기 제3 거리와 상기 제4 거리가 실질적으로 서로 동일하도록 상기 제2 수트 블로워의 상기 제3 분사구 및 상기 제4 분사구 사이의 이격된 거리가 조절되는 열교환기의 세정 방법.
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