KR20200024271A - 아이 메이크업을 제거하기 위한 압전 시스템과 기기 및 관련 방법 - Google Patents

아이 메이크업을 제거하기 위한 압전 시스템과 기기 및 관련 방법 Download PDF

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Abstract

아이 메이크업을 제거하기 위한 압전 시스템과 기기 및 관련 방법이 기재되어 있다.

Description

아이 메이크업을 제거하기 위한 압전 시스템과 기기 및 관련 방법
본 발명의 예들은 메이크업, 특히 신체의 안와 주위(periorbital) 영역에 적용된 아이 메이크업(eye makeup)을 제거하는 것과 관련된 문제들을 다루고자 하는 것이다. 이와 관련하여, 본 명세서에 기재된 예들은 압전 빔에 직접 또는 간접적으로 분리 가능하게 결합되고 애플리케이터를 진동시켜서 신체의 일부로부터 메이크업을 제거하도록 구성된 애플리케이터를 포함하는 시스템에 관한 것이다. 그래서, 본 명세서에 기재된 시스템들은 메이크업을 제거하고, 예를 들면 눈의 감염 또는 다른 손상을 회피하도록 구성된다.
일 양태에서, 본 발명은 일반적으로 레버에 분리 가능하게 결합된 애플리케이터(applicator); 애플리케이터의 반대편에서 레버에 회전 가능하게 결합되고, 레버의 반대편 단부에서 고정되며, 전원에 작동 가능하게 결합된 압전 빔(piezoelectric beam); 및 압전 빔의 일부와 애플리케이터를 진동시키도록 구성된 회로를 포함하는 시스템을 제공한다.
다른 양태에서, 본 발명은 일반적으로 제1 단부 영역에서 고정되고 전원에 작동 가능하게 결합된 압전 빔; 제1 단부 영역 반대편의 압전 빔의 제2 단부 영역에 회전 가능하게 결합된 레버; 압전 빔의 제2 단부 영역의 반대편에서 레버에 분리 가능하게 결합되도록 구성된 애플리케이터; 및 압전 빔의 일부와 애플리케이터를 진동시키도록 구성된 회로를 포함하는 시스템을 제공한다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 레버는 압전 빔의 일부의 진동에 대해 애플리케이터의 진동을 증폭시키도록 구성된다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 시스템은 압전 빔의 일부의 진동을 제한하도록 구성된 쉬드(sheath)를 포함한다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 회로는 안와(ocular cavity)의 공진 진동수를 포함하지 않는 진동수로 압전 빔의 일부 및 애플리케이터를 진동시키도록 또한 구성된다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 회로는 처리 시간(treatment peirod) 후에 햅틱 피드백을 제공하도록 또한 구성된다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 회로는 애플리케이터가 한계를 초과하여 하중을 받을 때 햅틱 피드백을 제공하도록 또한 구성된다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 시스템은 클렌징 유체를 구비한 저장조(reservoir)를 포함하고, 저장조는 압전 빔에 결합되며 압전 빔의 일부의 진동으로 클렌징 유체를 배출하도록 구성된다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 애플리케이터는 생물학적 내오염성이다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 애플리케이터는 각막을 긁는 것을 회피하는 속도 및 지속 시간 동안 진동하도록 구성된다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 애플리케이터는 클렌징 용액을 구비하도록 구성된다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 압전 빔은 바이모프(bimorph) 압전 빔이다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 애플리케이터는 압전 빔의 제2 단부 영역의 반대편에서 레버에 분리 가능하게 결합되도록 구성된 복수의 애플리케이터 중 하나이다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 복수의 애플리케이터는 패키징 내에 개별적으로 구비된다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 애플리케이터는 클렌징 용액 내에 구비된다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 애플리케이터는 멸균 패키지 내에 구비된다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 시스템은 압전 빔에 분리 가능하게 결합하도록 구성된 저장조를 포함하고, 저장조는 클렌징 용액을 구비한다.
다른 양태에서, 본 발명은 일반적으로 애플리케이터를 안와 주위 영역(periorbital region)과 접촉시키는 단계 및 애플리케이터에 결합된 압전 빔에 진동 전압을 인가함으로써 애플리케이터를 진동시키는 단계를 포함하는, 안와 주위 영역을 클리닝하는 방법을 제공한다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 본 방법은 제1 단부 영역에서 압전 빔에 회전 가능하게 결합되고 제2 단부 영역에서 애플리케이터에 분리 가능하게 결합된 레버에 의해, 압전 빔의 진동에 대해 애플리케이터의 진동을 증폭시키는 단계를 포함한다.
본 명세서에 개시된 임의의 실시예에 따르면, 본 방법은 압전 빔에 결합된 저장조로부터 클렌징 용액을 배출하는 단계를 포함하고, 저장조는 압전 빔의 진동에 의해 압축된다.
상기 발명의 개요는 아래의 상세한 설명에서 추가로 설명되는 개념들의 집합을 단순화된 형태로 소개하기 위해 제공된다. 본 발명의 개요는 청구된 주제의 주요 특징들을 특정하기 위한 것이 아닐뿐만 아니라, 청구된 주제의 범위를 결정하는 데 보조로서 사용하기 위한 것도 아니다.
청구된 주제의 상기 양태들 및 수반되는 많은 이점들은 첨부 도면과 연계하여 취해질 때 아래의 상세한 설명을 참조함으로써 보다 잘 이해됨에 따라 보다 용이하게 인식될 것이다.
도 1은 본 발명의 일 양태에 따른 시스템의 측면도이다.
도 2는 본 발명의 일 양태에 따른 다른 시스템의 측면도이다.
도 3a는 본 발명의 일 양태에 따른 다른 시스템의 측면도이다.
도 3b는 애플리케이터들이 패키징에 구비되는, 본 발명의 일 양태에 따른 시스템에 결합 가능한 애플리케이터의 측면도이다.
도 4는 본 발명의 일 양태에 따른 시스템의 개략도의 측면도이다.
도 5는 본 발명의 일 양태에 따른 시스템의 개략도의 평면도이다.
도 6은 도 5의 시스템의 부분 단면의 개략도의 측면도이다.
도 7a는 본 발명의 일 양태에 따른 애플리케이터의 정면도이다.
도 7b는 도 7a의 애플리케이터의 사시도이다.
동일 부재 번호가 동일 요소를 지칭하는 첨부 도면과 연계하여 아래에 기재된 상세한 설명은 개시된 주제의 다양한 실시예의 설명을 위한 것으로서, 유일한 실시예를 나타내기 위한 것은 아니다. 본 명세서에 기재된 각 실시예는 단지 예 또는 예시로서만 제공되는 것으로서, 다른 실시예들보다 바람직하거나 유리한 것으로 해석되어서는 안된다. 본 명세서에 제공된 예시적인 예들은 포괄적이라거나, 청구된 주제를 개시된 정확한 형태로 제한하기 위한 것이 아니다.
본 발명은 일반적으로 핸드헬드 퍼스널 케어 기기(handheld personal care appliances), 시스템, 및 방법에 관한 것이다. 일반적으로 기술하면, 퍼스널 케어 기기는 전형적으로 원하는 기능적 결과를 발생시키기 위해 피부의 일부 또는 신체의 다른 부분을 클리닝 또는 달리 처리하기 위한 엔드 이펙터(end effector) 또는 애플리케이터(applicator)를 포함한다. 이러한 기기의 예들로는 전동 브러시와, 같은 전동 클렌저(powered cleanser)가 포함된다.
메이크업, 특히 아이 메이크업은 피부의 일부에 적용될 때 종종 잔류성을 가지며(persistent) 그래서 제거하기 위해 자주 클렌징 용액 및 교반이 필요하게 된다. 하지만, 아이 메이크업이 자주 적용되는 신체의 안와 주위 영역은 메이크업 제거에 특정 난제를 제시한다. 신체의 안와 주위 영역 및 주변 구역은 민감한데; 눈꺼풀의 피부는 얇고 연약하다. 또한, 더러운 클렌징 장치를 적용하면 눈은 박테리아로 쉽게 감염될 수 있다. 또한, 눈 자체는 예를 들어, 각막을 긁음으로써 쉽게 손상될 수 있다. 게다가, 공진 전자기계식 퍼스널 케어 기기와 관련하여, 안와(ocular cavity)는 공진 진동수를 가지며 안와의 이 공진 진동수의 또는 그 부근의 공진력(resonant force)을 가하면 눈을 손상시키거나 탈구시킬 수 있다.
이를 위해, 이하의 논의는 압전 빔(piezoelectric beam)에 분리 가능하게 결합된 애플리케이터를 포함하는 시스템의 예들을 제공한다. 아래에서 보다 상세히 설명되는 바와 같이, 압전 빔은 진동하도록 구성되며, 이는 다시 애플리케이터를 진동시킨다. 이와 관련하여, 및 아래에서 보다 상세히 설명되는 바와 같이, 압전 빔은 신체의 안와 주위 영역에 적용된 아이 메이크업과 같은, 메이크업을 제거하는데 안전하고 효과적인 방식으로 애플리케이터를 진동시키도록 구성된다.
이하의 설명에서, 본 발명의 하나 이상의 실시예의 온전한 이해를 제공하기 위해 다수의 구체적인 세부 사항들이 설명된다. 하지만, 본 발명의 많은 실시예는 구체적인 세부 사항들 중 일부 또는 전부 없이도 실시될 수 있다는 것이 본 기술분야의 통상의 기술자에게는 명백할 것이다. 몇몇 예에서는, 본 발명의 다양한 양태를 불필요하게 흐리지 않기 위해 잘 알려진 프로세스 단계들은 상세히 설명되지 않는다. 또한, 본 발명의 실시예들은 본 명세서에 기재된 특징들의 임의의 조합을 이용할 수 있다는 것이 이해될 것이다.
도 1은 본 실시예에서는 압전 빔(40) 및 애플리케이터(80)를 포함하는 퍼스널 핸드헬드 기기로서 도시된, 대표적인 시스템(20)을 도시한다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)는 안와 주위 영역에 적용 및 클리닝하도록 구성된다. 애플리케이터(80)의 재료의 비한정적인 예로는 내화학성 재료, 애플리케이터 요소의 압축 및 팽창을 허용하는 탄성 재료, 엘라스토머(예컨대, PVC, PU, EVA, 니트릴, 실리콘, 부틸, SIS, SEBS, EPDM 등), 에틸렌 프로필렌 디엔 고무, 선택적으로 텍스타일 c 재료로 덮인 가요성의 엘라스토머 열 압축 폼(thermo-compressed foam), 플루오로실리콘, 천연 또는 합성 스펀지 재료, 폴리머, 고무 등이 포함된다.
일 실시예에서, 애플리케이터(80)의 적어도 일부는 하나 이상의 스펀지 형성 재료를 포함한다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)의 적어도 일부는 하나 이상의 엘라스토머 재료를 포함한다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)의 적어도 일부는 하나 이상의 폴리머 재료를 포함한다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)의 적어도 일부는 실리콘을 포함한다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)의 적어도 일부는 00 내지 40 범위의 쇼어 00 경도를 갖는 재료로 형성된다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)의 적어도 일부는 00 내지 30 범위의 쇼어 00 경도를 갖는 재료로 형성된다. 예를 들어, 일 실시예에서, 애플리케이터(80)의 적어도 일부는 00 내지 30 범위의 쇼어 00 경도를 갖는 초연질(super soft) 실리콘으로 형성된다.
도시된 바와 같이, 레버(60)는 압전 빔(40)과 애플리케이터(80)를 상호 연결한다. 이와 관련하여, 압전 빔(40)은 애플리케이터(80)의 반대편에서 레버(60)에 회전 가능하게 결합된다. 또한, 도시된 바와 같이, 레버(60) 반대편의 압전 빔(40)의 단부는 단부(42)에 고정된다. 이와 관련하여 및 이하에서 보다 상세히 설명될 바와 같이, 압전 빔(40)은 압전 빔이 진동 전원(oscillating power source)(도시되지 않음)에 작동 가능하게 결합될 때 애플리케이터(80)를 진동시키도록 구성된다.
압전 빔(40)은 압전 효과를 나타내도록 구성된 하나 이상의 압전 재료를 포함하며, 하나 이상의 압전 재료는 그 내부의 전하의 축적에 응답하여 변형된다. 이러한 압전 재료들은 소정 진동수로 진동하기에 적합한 임의의 압전 재료를 포함한다. 적합한 압전 재료는, 예를 들면 압전 결정(piezoelectric crystals), 압전 폴리머, 압전 반도체 등을 포함한다.
일 실시예에서, 레버(60)는 압전 빔(40)에 회전 가능하게 결합된다. 일 실시예에서, 레버(60)는 압전 빔(40)에 대한 레버(60)의 회전을 용이하게 하도록 구성된 힌지(62)를 포함한다. 이와 관련하여, 레버(60)는 단부(42)에 고정되지 않은 압전 빔(40)의 일부의 진동에 대해 애플리케이터(80)의 진동을 증폭시키도록 구성된다. 압전 빔(40)의 일부가 진동함에 따라, 레버(60)는 압전 빔(40)의 그 진동 부분의 진동 한계를 초과하여 자유롭게 회전할 수 있으며, 이에 의해 애플리케이터(80)의 진동을 또한 증폭시킨다.
여전히 도 1을 참조하면, 일 실시예의 시스템(20)은 클렌징 유체(106)를 구비되거나, 포함하거나 또는 달리 연관된 저장조(100)를 포함한다. 도시된 바와 같이, 저장조(100)는 움직이지 않게 고정되며, 압전 빔(40)의 움직임에 의해 저장조(100)가 클렌징 유체(106)를 배출하도록 압전 빔(40)에 대해 위치된다. 일 실시예에서, 저장조(100)는 압전 빔(40)의 진동에 의해 발생된 힘을 저장조(100)에 물리적으로 전달하는 커플러(108)에 의해 압전 빔(40)에 결합된다. 일 실시예에서, 저장조(100)는 압전 빔(40)과 커플러(108)의 진동에 의해 압축되며, 이에 따라 클렌징 유체(106)의 일부를 배출한다.
일 실시예에서, 저장조(100)는 시스템(20)에 분리 가능하게 결합될 수 있다. 이와 관련하여, 저장조(100)는 예를 들어, 클렌징 유체(106)가 저장조(100)로부터 완전히 배출되었을 때 교체될 수 있다.
일 실시예에서, 저장조(100) 및 관련 클렌징 유체(106)를 포함하는 시스템(20)은 애플리케이터(80)의 일부 상으로 클렌징 유체(106)를 배출하도록 구성된다. 이와 관련하여, 일 실시예에서 저장조(100)는 클렌징 유체(106)와 유체 접촉하는 배출구(104)를 포함하고 애플리케이터(80)의 일부 상으로 클렌징 유체(106)를 배출하도록 구성된다. 그 결과, 시스템(20)은 클렌징 유체(106)를 애플리케이터(80)에 제공하도록 구성되며, 애플리케이터(80)가 신체의 안와 주위 영역에 적용될 때, 안와 주위 영역의 클리닝을 돕는다.
일 실시예에서, 시스템(20)은 압전 빔(40)을 포함하고, 압전 빔(40)의 적어도 일부는 진동 전압이 압전 빔(40)에 인가될 때 진동하도록 구성된다. 하지만, 몇몇 실시예에서, 사용되는 압전 재료는 취성일 수 있고 특정 변위를 넘어 변형될 때 파손될 수 있다. 이와 관련하여, 이제 도 2에 주목하면, 압전 빔(40)을 포함하는 시스템(20)의 다른 대표적인 실시예가 도시되어 있다. 도시된 바와 같이, 이 실시예의 시스템(20)은 압전 빔(40)의 진동 변위를 제한하도록 구성된 쉬드(sheath)(44)를 포함한다. 일 실시예에서, 쉬드(44)는 압전 빔(40)의 적어도 일부를 둘러싸며, 그에 따라 그 진동을 제한한다. 일 실시예에서, 압전 빔(40)은 평면 내에서 진동하고 쉬드(44)의 일부는 진동 평면 내에서 압전 빔(40)의 측면에 위치하며, 그에 따라 압전 빔(40)의 진동을 제한한다. 일 실시예에서, 쉬드(44)는 단부(42)에 결합되며 압전 빔(40)의 길이의 일부를 따라 연장된다. 일 실시예에서, 쉬드(44)는 압전 빔(40)의 실질적으로 전체 길이를 따라 연장된다.
일 실시예에서, 시스템(20)은 진동 중에 약 1 미크론 내지 약 15 밀리미터 사이의 범위에서 애플리케이터(80)를 변위시키도록 구성된다. 일 실시예에서, 시스템(20)은 진동 중에 약 5 미크론 내지 약 10 밀리미터 사이의 범위에서 애플리케이터(80)를 변위시키도록 구성된다. 일 실시예에서, 시스템(20)은 진동 중에 약 1 밀리미터 내지 약 5 밀리미터 사이의 범위에서 애플리케이터(80)를 변위시키도록 구성된다. 일 실시예에서, 시스템(20)은 진동 중에 50 미크론 내지 약 100 미크론 사이의 범위에서 애플리케이터(80)를 변위시키도록 구성된다.
압전 빔(40)은 애플리케이터를 적절한 진동수로 진동시키는데 적합한 임의의 길이 및 신체의 안와 주위 영역을 클리닝하는데 적합한 변위를 가질 수 있다. 일 실시예에서, 압전 빔(40)은 약 1 cm 내지 약 10 cm 사이의 길이를 갖는다. 일 실시예에서, 압전 빔(40)은 약 1 cm 내지 약 5 cm 사이의 길이를 갖는다. 일 실시예에서, 압전 빔(40)은 약 2 cm 내지 약 4 cm 사이의 길이를 갖는다.
일 실시예에서, 시스템(20)은 시스템(20)의 하나 이상의 작동을 제어하기 위한 전자장치를 포함한다. 이와 관련하여, 도 4에 주목하면, 본 양태에 따른 시스템(20)의 대표적인 실시예가 개략적으로 도시되어 있다. 도시된 실시예에서, 전자장치는 컴퓨팅 장치(120), 및 컴퓨팅 장치(120)에 작동 가능하게 결합된 충전식 배터리와 같은, 전력 저장 소스(power storage source)(130)를 포함한다. 컴퓨팅 장치(120)는 몇몇 실시예에서, 압전 빔(40)의 작동을 제어하도록 구성 및 배치된 마이크로프로세서(124) 및 메모리(126)와 같은 회로를 포함한다. 몇몇 실시예에서, 메모리(126)는 하나 이상의 프로그램을 포함하며, 하나 이상의 프로그램은 예를 들어, 마이크로프로세서(124)에 의해 실행될 때, 예를 들면 압전 빔에 진동 전압을 인가하고 그에 따라 압전 빔(40)의 일부와 애플리케이터(80)를 진동시킴으로써 압전 빔(40)이 처리 절차 또는 프로토콜에 따라 작동할 수 있게 한다.
일 실시예에서, 회로(122)는 안와의 공진 진동수를 포함하지 않는 진동수로 압전 빔(40)의 일부와 애플리케이터(80)를 진동시키도록 또한 구성된다. 이와 관련하여, 시스템(20)은 시스템(20)의 작동 중에 안와 및/또는 그 안에 포함된 눈의 손상을 회피하도록 구성된다.
일 실시예에서, 시스템(20)은 서브-소닉(sub-sonic) 진동수로 애플리케이터(80)를 진동시키도록 구성된다. 일 실시예에서, 시스템(20)은 약 1 Hz 내지 약 20 Hz 사이의 진동수로 애플리케이터를 진동시키도록 구성된다. 일 실시예에서, 시스템(20)은 음파 진동수로 애플리케이터(80)를 진동시키도록 구성된다. 일 실시예에서, 시스템(20)은 약 20 Hz 내지 약 200 Hz 사이의 진동수로 애플리케이터를 진동시키도록 구성된다. 이와 관련하여, 시스템(20)은 자연스런 문지름(natural rubbing) 진동수를 모방하는 진동수로 애플리케이터를 진동시키도록 구성된다.
일 실시예에서, 회로(122)는 처리 시간 후에 햅틱 피드백을 제공하도록 또한 구성된다. 이와 관련하여, 시스템(20)은 예를 들면, 첫 번째 눈에 대한 권장 처리 시간이 완료되어 사용자에게 두 번째 눈의 클렌징 또는 다른 처리를 시작하도록 제안할 때 사용자에게 신호를 제공하도록 구성된다.
일 실시예에서, 회로(122)는 애플리케이터(80)가 한계를 초과하여 하중을 받을 때 햅틱 피드백을 제공하도록 또한 구성된다. 이와 관련하여, 시스템(20)은 애플리케이터(80)가 예를 들면, 압전 빔(40)을 손상 또는 파손시키거나 안와 주위 영역을 손상시킬 수 있는 권장 한계를 초과하여 하중을 받을 때, 사용자에게 경고하도록 설계된 신호를 제공하도록 구성된다. 일 실시예에서, 회로(122)는 애플리케이터(80)가 약 50 g 내지 약 150 g 사이의 한계를 초과하여 하중을 받을 때 햅틱 피드백을 제공하도록 구성된다.
일 실시예에서, 압전 빔(40)은 바이모프(bimorph) 압전 빔이다. 이와 관련하여, 도 5와 도 6에 주목하면, 바이모프 압전 빔(40)을 포함하는 본 양태에 따른 시스템(20)의 대표적인 실시예들이 도시되어 있다. 몇몇 실시예에서 바이모프 압전 빔(40)은 제1 측면에서 도전성 부분(50)에 도전 결합된 제1 압전 소자(40a)를 포함한다. 또한, 바이모프 압전 소자는 도전성 부분(50)의 제2 측면에 결합된 제2 압전 소자(40b)를 포함한다.
일 실시예에서, 바이모프 압전 빔(40)은 다수의 리드(110, 112, 114)를 통해 컴퓨팅 장치에 작동 가능하게 결합된다. 이와 관련하여, 시스템(20)은 다수의 구동 모드에 따라 작동하도록 구성된다.
일 실시예에서, 시스템(20)은 예를 들면, 리드(114)와 리드(112) 사이에 양(+)의 전압이 인가되고, 그에 의해 제1 압전 소자(40a)에 전하를 축적하고 바이모프 압전 빔(40)의 일부를 제1 방향으로 변위시키는 단일측(single-side) 전압 제어 모드로 작동하도록 구성된다. 마찬가지로, 단일측 전압 제어 모드의 다른 실시예에 따르면, 리드(110)와 리드(112) 사이에 음(-)의 전압이 인가되고, 그에 의해 제2 압전 소자(40b)에 전하를 축적하고 바이모프 압전 빔(40)의 일부를 제2 방향으로 변위시킨다. 특정 실시예에서는, 바이모프 압전 빔(40)의 적어도 일부를 진동시키도록 구성된 바이모프 압전 빔(40)에 변동 전압이 인가된다.
일 실시예에서, 시스템(20)은 바이모프 압전 빔(40)이 제1 방향과 제2 방향 양자 모두에서 제어될 수 있는 차동 전압(differential voltage) 제어 모드로 작동하도록 구성된다. 차동 전압 제어 모드에서, 회로(122)는 예를 들면 리드(114와 110)에 차동 전압을 제공하도록 구성된다. 변동 전압이 예를 들면, 리드(112)에 인가된다. 예를 들면, 리드(114)에는 7.5 V가 인가되고, 리드(110)에는 -7.5 V가 인가된다. 예를 들면 7.5 V와 -7.5 V 사이에서 변하는 전압이 리드(112)에 인가된다. 이와 관련하여, 시스템(20)은 바이모프 압전 빔(40)을 제1 방향과 제2 방향으로 변위시키도록 구성된다. 차동 전압 제어 모드는 단일측 전압 제어 모드와 유사한 변위지만 최대 인가 전압의 약 절반으로 및 그에 따라 특정 방향으로 압전 빔(40)의 변위의 약 절반으로 압전 빔의 일부를 진동시키도록 구성된다. 따라서, 이러한 구동 모드는 소정의 애플리케이터(80)의 변위에 대해 단일측 전압 제어 모드보다 더 적은 압전 빔(40)의 스트레인(strain)을 유발하며, 그래서 특정 실시예에서는 바람직할 수 있다.
상기와 같이, 일 실시예에서 회로(122)는 압전 빔(40)에 변동 전압을 제공하도록 구성된다. 일 실시예에서, 변동 전압은 주기적인 방식으로 압전 빔(40)을 진동시키도록 구성된 주기적으로 변하는 전압이다. 주기적으로 변하는 전압은 압전 빔(40)을 진동시키는데 적합한 임의의 주기적으로 변하는 전압일 수 있다. 일 실시예에서, 주기적으로 변하는 전압은 사인 파형으로 변한다. 일 실시예에서, 주기적으로 변하는 전압은 구형파(square wave)이다.
일 실시예에서, 애플리케이터(80)는 레버(60)에 분리 가능하게 결합되도록 구성되며, 그래서 다른 애플리케이터(80)로 교체될 수 있다. 이와 관련하여, 도 3a와 도 3b에 주목하면, 복수의 애플리케이터(80a-d)를 포함하는 시스템(20)의 대표적인 실시예들이 도시되어 있다. 도시된 바와 같이, 애플리케이터(80a)는 레버(60)에 분리 가능하게 결합된다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)는 커플러(64)를 통해 시스템(20)에 분리 가능하게 결합된다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)는 예를 들면, 커플러(64)에 구비된 나사부(threads)와 협동적으로 결합하도록 구성된 나사부(88)를 포함한다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)와 커플러 중 하나 이상은 접착제(도시되지 않음)를 포함한다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)와 커플러(64)는 후크 및 루프 클로저(hook and loop closures)(미도시)를 포함한다.
이와 관련하여, 애플리케이터(80a)는 예를 들면, 애플리케이터(80a)가 더러워지거나, 메이크업으로 포화되거나, 또는 달리 신체의 안와 주위 영역을 클리닝하는데 부적합할 때 시스템(20)으로부터 분리되어 교체되도록 구성된다.
일 실시예에서, 복수의 애플리케이터(80a-80d) 중 하나 이상은 패키징(86) 내에 개별적으로 구비된다. 이와 관련하여, 사용자는 복수의 애플리케이터(80b-80d) 중 하나 이상을 개별적으로 구비한 패키징(86)의 부분을 선택적으로 개방하고는, 사용을 위해 복수의 애플리케이터(80b-80d) 중 하나 이상을 빼낼 수 있다. 도시된 바와 같이, 일 실시예에서, 복수의 애플리케이터(80a-80d) 각각은 나사부(88a-88d) 및 신체의 안와 주위 영역과 접촉하도록 구성된 애플리케이션 부분(81a-81d)을 포함한다.
본 명세서의 다른 곳에 기재된 바와 같이, 애플리케이터(80)는 눈의 안와 주위 영역을 클리닝하는데 적합하다. 이와 관련하여, 일 실시예에서, 애플리케이터(80)는 눈의 각막을 긁지 않도록 구성된다. 따라서, 일 실시예에서, 애플리케이터는 눈의 각막보다 낮은 듀로미터(durometer)를 갖는다.
일 실시예에서, 애플리케이터(80)는 안와 주위 영역을 클리닝하는데 적합한 재료를 포함하는 애플리케이션 부분(81)을 포함한다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)는 클렌징 유체(106)를 흡수하도록 구성된 스펀지와 같은, 다공성 재료를 포함한다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)는 신체의 안와 주위 영역를 클리닝하는데 적합한 직포 재료, 부직포 재료, 천연 섬유, 합성 섬유 등으로부터 선택된 재료를 포함한다.
몇몇 실시예에서 애플리케이터(80)는 다양한 밀도 및 상이한 듀로미터를 갖는 다수의 부분을 포함한다. 이와 관련하여, 도 7a와 도 7b에 주목하면, 본 양태에 따른 애플리케이터(80)의 대표적인 실시예들이 도시되어 있다. 본 명세서의 특정 실시예들에 따라 도시된 바와 같이, 애플리케이터(80)는 상대적으로 낮은 제1 듀로미터를 가지며 눈꺼풀을 포함하는 신체의 안와 주위 영역의 일부와 접촉하도록 구성된 제1 부분(92)을 포함하는 애플리케이션 부분(81)을 포함한다. 일 실시예에서, 제1 부분(92)은 각막의 듀로미터보다 낮은 듀로미터를 갖는다. 또한, 일 실시예에서, 애플리케이터(80)는 제1 영역(92)을 동심으로 둘러싸는 제2 부분(90)을 포함하고, 제2 부분은 제1 듀로미터보다 높은 제2 듀로미터를 갖는다. 이와 관련하여, 애플리케이터(80)는 각막을 긁거나 달리 손상시키지 않으면서 메이크업으로 덮일 수 있는 안와 주위 영역의 부분을 클리닝하도록 구성된다.
일 실시예에서, 애플리케이터(80)는 예를 들면, 신체의 안와 주위 영역를 클렌징하는데 적합한 클렌징 용액(84) 내에 구비된다. 일 실시예에서, 애플리케이터(80)는 멸균 패키지(sterile package)(86) 내에 구비된다. 이와 관련하여, 패키징을 포함하는 시스템(20)은 눈의 감염의 위험을 회피하거나 제한하는 방식으로 안와 주위 영역을 클리닝하는데 적합하다.
다른 양태에서, 본 발명은 신체의 안와 주위 영역을 클리닝하는 방법을 제공한다. 일 실시예에서, 상기 방법은 애플리케이터를 안와 주위 영역과 접촉시키는 단계; 및 애플리케이터와 결합된 압전 빔에 진동 전압을 인가함으로써 애플리케이터를 진동시키는 단계를 포함한다. 일 실시예에서, 상기 방법은 본 명세서의 다른 곳에 기재된 애플리케이터(80)를 포함하는 시스템(20)과 안와 주위 영역을 접촉시키는 단계를 포함한다. 상기와 같이, 압전 빔(40)과 같은 압전 빔에 진동 전압을 인가함으로써, 압전 빔과 애플리케이터는 인가된 진동 전압에 따라 진동한다.
일 실시예에서, 본 방법은 제1 단부 영역에서 압전 빔에 회전 가능하게 결합되고 제2 단부 영역에서 애플리케이터와 분리 가능하게 결합된 레버(60)에 의해, 압전 빔, 예를 들면 압전 빔(40)의 진동에 대해 애플리케이터의 진동을 증폭시키는 단계를 포함한다. 본 명세서의 다른 곳에 기재된 바와 같이, 압전 빔의 진동에 대해 애플리케이터, 예를 들면 애플리케이터(80)의 진동을 증폭시킴으로써, 압전 빔에 가해지는 응력은 보다 낮은 압전 빔 변위에 의해 감소될 수 있다.
일 실시예에서, 본 방법은 압전 빔에 결합된 저장조로부터 클렌징 용액을 배출하는 단계를 포함한다. 일 실시예에서, 클렌징 용액은 저장조로부터 애플리케이터의 적어도 일부로 배출된다. 일 실시예에서, 클렌징 용액은 저장조로부터 안와 주위 영역의 적어도 일부로 배출된다. 상기와 같이, 일 실시예에서, 저장조, 예를 들면 저장조(106)는 커플러(108)와 같은 커플러를 통해 압전 빔, 예를 들면 압전 빔(40)의 진동에 의해 압축되며, 그에 의해 클렌징 유체(106)를 배출한다.
본 명세서에 개시된 특정 실시예는 처리 프로토콜을 구현하고, 2개 이상의 컴포넌트를 작동 가능하게 결합하며, 정보를 생성하고, 작동 조건들을 결정하며, 기기 또는 방법을 제어하는 등을 위해 회로를 이용한다. 임의의 유형의 회로가 사용될 수 있다. 일 실시예에서, 회로는 특히, 프로세서(예컨대, 마이크로프로세서), 중앙 처리 장치(central processing unit: CPU), 디지털 신호 프로세서(digital signal processor: DSP), 애플리케이션 특정 집적 회로(application-specific integrated circuit; ASIC), 필드 프로그래머블 게이트 어레이(field-programmable gate array: FPGA) 등 또는 이들의 임의의 조합과 같은, 하나 이상의 컴퓨팅 장치를 포함하고, 이산 디지털 또는 아날로그 회로 요소 또는 전자장치, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있다. 일 실시예에서, 회로는 사전 정의된 복수의 로직 컴포넌트를 갖는 하나 이상의 ASIC을 포함한다. 일 실시예에서, 회로는 복수의 프로그래머블 로직 컴포넌트를 갖는 하나 이상의 FPGA를 포함한다.
일 실시예에서, 회로는 하드웨어 회로 구현(예컨대, 아날로그 회로에서의 구현, 디지털 회로에서의 구현 등, 및 이들의 조합)을 포함한다. 일 실시예에서, 회로는 장치가 본 명세서에 기재된 하나 이상의 방법 또는 기술을 수행하게 하도록 협력하는 하나 이상의 컴퓨터 가독 메모리에 저장된 소프트웨어 또는 펌웨어 명령들을 갖는 컴퓨터 프로그램 제품들 및 회로들의 조합을 포함한다. 일 실시예에서, 회로는 작동을 위해 소프트웨어, 펌웨어 등을 필요로 하는 예를 들면, 마이크로프로세서들 또는 마이크로프로세서의 일부와 같은 회로들을 포함한다. 일 실시예에서, 회로는 하나 이상의 프로세서 또는 그 일부 및 부수적인 소프트웨어, 펌웨어, 하드웨어 등을 포함하는 구현을 포함한다. 일 실시예에서, 회로는 서버, 셀룰러 네트워크 장치, 다른 네트워크 장치 또는 다른 컴퓨팅 장치의 베이스밴드 집적 회로 또는 애플리케이션 프로세서 집적 회로 또는 유사한 집적 회로를 포함한다. 일 실시예에서, 회로는 하나 이상의 원격 배치된 컴포넌트를 포함한다. 일 실시예에서, 원격 배치된 컴포넌트들은 무선 통신을 통해 작동 가능하게 결합된다. 일 실시예에서, 원격 배치된 컴포넌트들은 하나 이상의 수신기, 송신기, 트랜시버 등을 통해 작동 가능하게 결합된다.
일 실시예에서, 회로는 예를 들면, 명령들 또는 데이터를 저장하는 하나 이상의 메모리 장치를 포함한다. 하나 이상의 메모리 장치의 비한정적인 예들로는 휘발성 메모리(예컨대, RAM(Random Access Memory), DRAM(Dynamic Random Access Memory) 등), 비휘발성 메모리(예컨대, ROM(Read-Only Memory), EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory), CD-ROM(Compact Disc Read-Only Memory) 등), 영구 메모리 등이 포함된다. 하나 이상의 메모리 장치의 추가적인 비한정적인 예들로는 EPROM(Erasable Programmable Read-Only Memory), 플래시 메모리 등이 포함된다. 하나 이상의 메모리 장치는 예를 들면, 하나 이상의 명령, 데이터, 또는 파워 버스(power buses)에 의해 하나 이상의 컴퓨팅 장치에 결합될 수 있다.
일 실시예에서, 시스템(20)의 회로는 하나 이상의 컴퓨터 가독 매체 드라이브, 인터페이스 소켓, USB(Universal Serial Bus) 포트, 메모리 카드 슬롯 등, 및 예를 들면, 그래픽 사용자 인터페이스(GUI), 디스플레이, 키보드, 키패드, 트랙볼, 조이스틱, 터치스크린, 마우스, 스위치, 다이얼 등과 같은 하나 이상의 입출력 컴포넌트, 및 기타 주변 장치를 포함한다. 일 실시예에서, 회로는 시스템(20)에 의한 주기적 운동의 적용과 관련된 적어도 하나의 파라미터 예를 들면, 시스템(20)의 엔드 이펙터의 지속 시간 및 피크 주기 또는 진동수를 제어하기(전기식, 전자기계식, 소프트웨어 구현, 펌웨어 구현, 또는 다른 제어, 또는 이들의 조합) 위해 적어도 하나의 컴퓨팅 장치에 작동 가능하게 결합된 하나 이상의 사용자 입출력 컴포넌트를 포함한다.
일 실시예에서, 시스템(20)의 회로는 신호 보유 매체(signal-bearing medium)(예컨대, 컴퓨터 가독 메모리 매체, 컴퓨터 가독 기록 매체 등)를 수용하도록 구성된 컴퓨터 가독 매체 드라이브 또는 메모리 슬롯을 포함한다. 일 실시예에서, 시스템이 개시된 방법들 중 임의의 것을 실행하게 하는 프로그램이 예를 들면, 컴퓨터 가독 기록 매체(CRMM), 신호 보유 매체 등에 저장될 수 있다. 신호 보유 매체의 비한정적인 예들로는 임의의 형태의 플래시 메모리, 자기 테이프, 플로피 디스크, 하드 디스크 드라이브, CD(Compact Disc), DVD(Digital Video Disk), 블루레이 디스크(Blu-Ray Disc), 디지털 테이프, 컴퓨터 메모리 등과 같은 기록 가능한 유형의 매체뿐만 아니라, 디지털 및/또는 아날로그 통신 매체(예컨대, 광섬유 케이블, 도파관, 유선 통신 링크, 무선 통신 링크(예컨대, 송신기, 수신기, 송수신기, 송신 로직, 수신 로직 등))와 같은 전송 유형의 매체가 포함된다. 신호 보유 매체의 추가적인 비한정적인 예들로는 DVD-ROM, DVD-RAM, DVD+RW, DVD-RW, DVD-R, DVD+R, CD-ROM, 슈퍼 오디오 CD, CD-R, CD+R, CD+RW, CD-RW, 비디오 컴팩트 디스크, 슈퍼 비디오 디스크, 플래시 메모리, 자기 테이프, 광-자기 디스크, MINIDISC, 비휘발성 메모리 카드, EEPROM, 광 디스크, 광 저장장치, RAM, ROM, 시스템 메모리, 웹 서버 등이 포함되나 이에 국한되지 않는다.
본 발명의 목적을 위해, "상부", "하부", "수직", "수평", "내부로", "외부로", "내측", "외측", "전방", "후방" 등과 같은 용어는 서술적인 것으로 해석되어야 하며 청구된 주제의 범위를 한정하지 않음에 유의해야 한다. 또한, 본 명세서에서 "포함하는", "구비한" 또는 "갖는" 및 그 변형 표현들의 사용은 그 이전에 열거된 항목들 및 그 등가물뿐만 아니라 추가 항목들도 포함하는 것을 의미한다. 달리 한정되지 않는 한, 본 명세서에서 용어 "연결된", "결합된" 및 "장착된" 및 그 변형 표현들은 폭넓게 사용되며, 직접 및 간접 연결, 결합, 및 장착을 포함한다. 용어 "약"은 언급된 값의 ±5 %를 의미한다.
본 발명의 원리, 대표적인 실시예, 및 작동 모드가 전술한 상세한 설명에 기재되었다. 하지만, 보호받고자 하는 본 발명의 양태들은 개시된 특정 실시예들로 국한되는 것으로 해석되지 않아야 한다. 또한, 본 명세서에 기재된 실시예들은 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 간주되어야 한다. 본 발명의 사상으로부터 일탈함이 없이 다른 변형들 및 채용된 등가물에 의해 변형 및 변경이 이루어질 수 있음이 이해될 것이다. 따라서, 이러한 모든 변형, 변경 및 등가물은 청구된 바와 같은 본 발명의 사상 및 범위 내에 속하는 것으로 명시적으로 의도된다.
배타적 소유 또는 특권이 청구되는 본 발명의 실시예들이 다음과 같이 정의된다.

Claims (20)

  1. 레버에 분리 가능하게 결합된 애플리케이터(applicator);
    상기 애플리케이터의 반대편에서 상기 레버에 회전 가능하게 결합되고, 상기 레버의 반대편 단부에서 고정되며, 전원에 작동 가능하게 결합된 압전 빔(piezoelectric beam); 및
    상기 압전 빔의 일부와 상기 애플리케이터를 진동시키도록 구성된 회로:
    를 포함하는 시스템.
  2. 제1 항에 있어서,
    상기 레버는 상기 압전 빔의 일부의 진동에 대해 상기 애플리케이터의 진동을 증폭시키도록 구성되는,
    시스템.
  3. 제1 항에 있어서,
    상기 압전 빔의 일부의 진동을 제한하도록 구성된 쉬드(sheath):
    를 더 포함하는, 시스템.
  4. 제1 항에 있어서,
    상기 회로는 안와(ocular cavity)의 공진 진동수를 포함하지 않는 진동수로 상기 압전 빔의 일부 및 상기 애플리케이터를 진동시키도록 또한 구성되는,
    시스템.
  5. 제1 항에 있어서,
    상기 회로는 처리 시간(treatment period) 후에 햅틱 피드백을 제공하도록 또한 구성되는,
    시스템.
  6. 제1 항에 있어서,
    상기 회로는 상기 애플리케이터가 한계를 초과하여 하중을 받을 때 햅틱 피드백을 제공하도록 또한 구성되는,
    시스템.
  7. 제1 항에 있어서,
    상기 시스템은 클렌징 유체를 구비한 저장조(reservoir)를 더 포함하고,
    상기 저장조는 상기 압전 빔에 결합되며 상기 압전 빔의 일부의 진동으로 상기 클렌징 유체를 배출하도록 구성되는
    시스템.
  8. 제1 항에 있어서,
    상기 애플리케이터는 생물학적 내오염성인,
    시스템.
  9. 제1 항에 있어서,
    상기 애플리케이터는 각막을 긁는 것을 회피하는 속도 및 지속 시간 동안 진동하도록 구성되는,
    시스템.
  10. 제1 항에 있어서,
    상기 애플리케이터는 클렌징 용액을 구비하도록 구성되는,
    시스템.
  11. 제1 항에 있어서,
    상기 압전 빔은 바이모프(bimorph) 압전 빔인,
    시스템.
  12. 제1 단부 영역에서 고정되고 전원에 작동 가능하게 결합된 압전 빔;
    상기 제1 단부 영역 반대편의 상기 압전 빔의 제2 단부 영역에 회전 가능하게 결합된 레버;
    상기 압전 빔의 제2 단부 영역의 반대편에서 상기 레버에 분리 가능하게 결합되도록 구성된 애플리케이터; 및,
    상기 압전 빔의 일부와 상기 애플리케이터를 진동시키도록 구성된 회로:
    를 포함하는 시스템.
  13. 제12 항에 있어서,
    상기 애플리케이터는 상기 압전 빔의 제2 단부 영역의 반대편에서 상기 레버에 분리 가능하게 결합되도록 구성된 복수의 애플리케이터 중 하나인,
    시스템.
  14. 제13 항에 있어서,
    상기 복수의 애플리케이터는 패키징 내에 개별적으로 구비되는,
    시스템.
  15. 제12 항에 있어서,
    상기 애플리케이터는 클렌징 용액 내에 구비되는,
    시스템.
  16. 제12 항에 있어서,
    상기 애플리케이터는 멸균 패키지 내에 구비되는,
    시스템.
  17. 제12 항에 있어서,
    상기 시스템은 상기 압전 빔에 분리 가능하게 결합하도록 구성된 저장조를 더 포함하고,
    상기 저장조는 클렌징 용액을 구비한,
    시스템.
  18. 안와 주위 영역(periorbital region)을 클리닝하는 방법으로서,
    애플리케이터를 상기 안와 주위 영역과 접촉시키는 단계; 및,
    상기 애플리케이터에 결합된 압전 빔에 진동 전압을 인가함으로써 상기 애플리케이터를 진동시키는 단계:
    를 포함하는, 방법.
  19. 제18 항에 있어서,
    제1 단부 영역에서 상기 압전 빔에 회전 가능하게 결합되고 제2 단부 영역에서 상기 애플리케이터에 분리 가능하게 결합된 레버에 의해, 상기 압전 빔의 진동에 대해 상기 애플리케이터의 진동을 증폭시키는 단계:
    를 더 포함하는, 방법.
  20. 제18 항에 있어서,
    상기 방법은 상기 압전 빔에 결합된 저장조로부터 클렌징 용액을 배출하는 단계를 더 포함하고,
    상기 저장조는 상기 압전 빔의 진동에 의해 압축되는,
    방법.
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